CN102541378A - Ito的布线结构 - Google Patents

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wiring structure
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Inventor
张开立
雷奥纳﹒波特曼
卓龙材
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Suzhou Pixcir Microelectronics Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种 ITO 的布线结构, 涉及两层 ITO ,且两层 ITO 之间是 绝缘层,均布设在基底上, 所述基底上设置桥接点,若在一个方向上所述电极块相互连接,那么在另一个方向上所述电极块就通过桥接的方式相互连接, 所述电极块的内部被挖空 形成空隙。本发明所述的 ITO 布线结构,不但简单,而且将传统电极块的内部挖空了一部分,所以增强了电容耦合,若在挖空的内部塞有填充物也一样可以增加电容耦合,增强所述整个 ITO 层的抗干扰能力。

Description

ITO的布线结构
 
技术领域
本发明涉及一种ITO的布线结构,尤其是指应用在电容式触摸屏上ITO的布线结构。
 
背景技术
随着科学技术的发展,触控技术已经日趋完善,触摸屏已经逐渐取代机械式按钮面板成为手机、笔记本等电子设备新的操作界面。现有触摸屏包括电阻式触摸屏、红外线触摸屏、电容式触摸屏等,根据它们自身的性质就可以通过不同的方式获得触碰点的坐标,而电容式触摸屏由于其透光率、清晰度和可靠性更好,而被应用于越来越多的产品中。
电容式触摸屏的一个重要组成部分是感应基板,现有的感应基板大都包括基底和两层ITO感应层,其中一种方式是将ITO铺设在基板的两侧,一侧ITO为X轴检测层,另一侧ITO为Y轴检测层;另一种为两层感应层均铺设在基板的同一侧,为了避免电极之间的相互导通,在所述基底上设置桥接点,从而有效的避免了电极之间的短路。无论哪种方式,现有ITO的布线结构一般为菱形,其虽然可以很好的减少寄生电容(所谓寄生电容是在驱动和感应单元之间形成的边缘电容),增大感应电容等优点,但是其抗干扰能力有限,如在环境温度、湿度改变的条件下,环境电场比较容易发生改变,极易引起漂移,造成不必要的误操作。
因此需要为广大用户提供一种全新的ITO布线结构来解决以上问题。
 
发明内容
本发明实际所要解决的技术问题是如何提供一种抗干扰能力更强的ITO布线结构。
为了实现本发明的上述目的,本发明提供了一种ITO的布线结构,涉及两层ITO,且两层ITO之间是绝缘层,均布设在基底上,所述基底上设置桥接点,若在一个方向上所述电极块相互连接,那么在另一个方向上所述电极块就通过桥接的方式相互连接,所述电极块的内部被挖空形成空隙。
本发明所述的ITO布线结构,不但简单,而且将传统电极块的内部挖空了一部分,所以增强了电容耦合,若在挖空的内部塞有填充物也一样可以增加电容耦合,增强所述整个ITO层的抗干扰能力。
 
附图说明
图1是本发明所述ITO布线结构的第一种实施例;
图2是本发明所述ITO布线结构的第二种实施例;
图3是本发明所述ITO布线结构的第三种实施例。
 
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
本发明所述的ITO布线结构中,涉及两层ITO,所述两层ITO之间是绝缘层,均布设在基底上。为了避免电极块之间的相互导通,在所述基底上设置桥接点,若在一个方向上所述电极块相互连接,那么在另一个方向上所述电极块就通过桥接的方式相互连接。
请参考图1所示是本发明涉及的第一种ITO布线结构,所述ITO层1无论在X轴方向上还是Y轴方向上均由回字形的电极块10组成。所述回字形的电极块10的外形呈菱形,内部被挖空形成空隙,如此以来可以增加电容耦合,增强所述ITO层的抗干扰能力。
由于所述电极块10的内部被挖空形成空隙,所以电容耦合增加很多,因为无论电极块10的外形如何,只要内部被挖空都可达到相同的效果,因此对于图2所示意的第二种实施例的结构也一样能增强所述ITO层的抗干扰能力,只是此时所述电极块10的外形呈花形,其四个边由相同的曲线组成,且所述曲线中间宽两头窄。
为了到达抗干扰性能,本发明还提供了一种新的电容耦合方式,请参考图3所示的第三中实施例,所述电极块10呈六边形,其中六边形的两个对角边较其它边长。所述相邻电极块10之间形成空隙,且在空隙处塞有填充物11,且所述填充物11也是ITO,如此以来也可以增加电容耦合,增强所述整个ITO层的抗干扰能力。
本发明所述的ITO布线结构,将传统电极块的内部挖空了一部分,所以增强了电容耦合,若在挖空的内部塞有填充物也一样可以增加电容耦合,增强所述整个ITO层的抗干扰能力。

Claims (8)

1.  一种ITO的布线结构,涉及两层ITO,且两层ITO之间是绝缘层,均布设在基底上,所述基底上设置桥接点,若在一个方向上所述电极块相互连接,那么在另一个方向上所述电极块就通过桥接的方式相互连接,其特征在于:所述电极块的内部被挖空形成空隙。
2. 如权利要求1所述的ITO的布线结构,其特征在于:所述电极块呈回字形。
3. 如权利要求2所述的ITO的布线结构,其特征在于:所述电极块的外形呈菱形。
4. 如权利要求1所述的ITO的布线结构,其特征在于:所述电极块的外形呈花形,其四个边由相同的曲线组成。
5. 如权利要求4所述的ITO的布线结构,其特征在于:所述曲线中间宽两头窄。
6. 如权利要求1所述的ITO的布线结构,其特征在于:所述电极块呈六边形,其中六边形的两个对角边较其它边长。
7. 如权利要求6所述的ITO的布线结构,其特征在于:所述相邻电极块之间形成空隙,且在空隙处塞有填充物。
8. 如权利要求7所述的ITO的布线结构,其特征在于:所述填充物也是ITO。
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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