CN102524038A - 立体组合式温控光控育种床 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种立体组合式温控光控育种床,包括支撑调节立柱、多层培育床和内循环水养供给及冷水串灌系统;培育床包括底槽,底槽与水养供给及冷水串灌系统相连,其内盛有营养水,营养水上方设置一层网目基膜,底槽上盖有一隔菌盖板,该隔菌盖板设置有定向播种孔,网目基膜贴于隔菌盖板下方;培育床内设有温湿度传感器等装置,各装置与一控制中心形成点对点的无线连接。该育种床利用地下水水冷串灌调控水温并循环利用,具有更好的降温与保温效果,而且节约用水又减少污水排放;采用温控光控装置自动调节温湿度等环境条件,为水稻原种的培育提供相对稳定的恒温环境;采用多层组合式育种床,结构紧凑,节省空间,操作简便,利于大批量生产使用。

Description

立体组合式温控光控育种床
技术领域
本发明涉及农业培育设施领域,尤其涉及一种立体组合式温控光控育种床。 
背景技术
“民以食为天,农以种为先”,稻米作为最主要的食物之一,其生产对民生有着至关重要的影响。在现代水稻育种史上,20世纪50年代末至60年代初的水稻品种矮秆化和70年代的杂交水稻三系配套是两个重要里程碑。为了达到增产的目的,利用水稻亚种间杂交优势培育超高产品种是现阶段主攻方向。然而杂交获得的种子数量有限,无法大面积推广,需要再次进行种子培育以获得大量的水稻原种。但是,种子的培育过程中,其优良的基因品性容易受地理环境、气候及病虫害等因素影响,从而很难繁衍出大量的优良纯种。特别是在种子性状形成的关键时期,要求具有相对稳定的恒温环境,而现有的育苗箱等培育系统很难达到其要求。 
发明内容
为克服上述问题,本发明提出一种立体组合式温控光控育种床,结构紧凑、操作简便、可根据培育种子所需的温湿度、水分养分及光照进行自动化调节,为水稻原种的培育提供优良的环境。
为达到上述目的,本发明所提出的技术方案为:立体组合式温控光控育种床,包括支撑调节立柱、设置于立柱上的多层培育床,其特征在于:还包括一内循环水养供给及冷水串灌系统;所述培育床包括底槽,底槽前后端分别设置进水口和出水口,与水养供给及冷水串灌系统相连;底槽内盛有营养水,营养水上方设置一层网目基膜,底槽上盖有一隔菌盖板,该隔菌盖板设置有定向播种孔,所述网目基膜贴于隔菌盖板下方;所述培育床内设置有水位传感器、融氧传感器、光强光谱传感器和温湿度传感器。
进一步的,所述隔菌盖板为珍珠岩板,所述定向播种孔为圆形、方形或者椭圆形等各种几何形状的PVC管;该隔菌盖板可移动的盖于底槽上,与底槽密闭结合,隔离各种病菌,并可移开隔菌盖板定期进行杀菌清洗等。
进一步的,所述支撑调节立柱上设置有三层培育床,便于操作;培育床高度为200~350mm,各层培育床之间的空隙距离为500~600mm,为种子发芽成长提供足够的空间。
进一步的,所述培育床底槽的进水口设有一过滤膜,用于过滤冷水串灌中可能带有的泥土等杂质。
进一步的,所述网目基膜的网目为150~250目。
进一步的,所述支撑调节立柱可调高至使培育床呈前高后低倾斜角为15°,利于冷水串灌时形成水流,提高培育床中营养水的水分子活性,增加营养水的融氧量,促进植物吸收营养,减少病菌的滋生。
进一步的,所述水养供给及冷水串灌系统包括深水井、水养供给池、回水池、废水处理池和冷水帘窗。
进一步的,还包括光谱照射装置和控制中心,光谱照射装置优选的采用LED灯阵列,设置于培育床上面,所述水位传感器、融氧传感器、光强光谱传感器和温湿度传感器分别与控制中心形成点对点的无线网络连接,分别采集水位、融氧量、温湿度、及光谱光强等参数,并发送至控制中心,由控制中心控制自动开闭光谱照射系统或是水养供给及冷水串灌系统。
本发明的有益效果:本发明的立体组合式温控光控育种床,采用水培育种,并利用内循环水养供给及冷水串灌系统,循环利用地下水,既节约用水又减少污水排放,而且利用地下水冬暖夏凉的特性,水冷串灌调控水温,具有更好的降温与保温效果;采用温控光控装置自动调节育种床内的水位、光谱光强、温湿度、水养及融氧量等,为水稻原种的培育提供相对稳定的恒温环境;采用多层组合式培育床,结构紧凑,节省空间,而且操作简便,利于大批量生产使用。
附图说明
图1为本发明的立体组合式温控光控育种床结构示意图;
图2为本发明的培育床结构示意图及其俯视图。
附图标记:101深水井;102水养供给池;103回水池;104废水处理池;105冷水帘窗;2支撑调节立柱;3培育床;301底槽;302网目基膜;303隔菌盖板;304定向播种孔;305营养水;4水位传感器;5融氧传感器;6光强光谱传感器;7温湿度传感器。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式,对本发明做进一步说明。
如图1和2所示,本发明的立体组合式温控光控育种床,包括支撑调节立柱2、设置于立柱上的多层培育床3,还包括一内循环水养供给及冷水串灌系统;培育床3包括底槽301,底槽301前后端分别设置进水口和出水口,与水养供给及冷水串灌系统相连;底槽301内盛有营养水305,营养水305上方设置一层网目基膜302,底槽301上盖有一隔菌盖板303,该隔菌盖板303设置有定向播种孔304,所述网目基膜302贴于隔菌盖板303下方;所述培育床3内设置有水位传感器4、融氧传感器5、光强光谱传感器6和温湿度传感器7。其中,水养供给及冷水串灌系统包括深水井101、水养供给池102、回水池103、废水处理池104以及冷水帘窗105等。
优选的,该隔菌板303可以为珍珠岩板,种子播种于各个定向播种孔304中,由网目基膜302承接,网目基膜302的网目为150~250目,种子发芽后其根穿过网目基膜302深入到营养水305中,其芽由定向播种孔304长出。为方便加工,定向播种孔304可优先选用圆形的PVC管,也可选用方形或椭圆形等其他几何形状的PVC管。采用多层组合式培育床,结构紧凑,节省空间,而且操作简便。培育床3高度为200~350mm,各层培育床3之间的空隙距离为500~600mm,为种子发芽成长提供足够的空间。隔菌盖板303可移动的盖于底槽301上,与底槽301密闭结合,隔离各种病菌,并可移开隔菌盖板303定期进行杀菌清洗等。支撑调节立柱2上培育床3以三层最为适宜,高度适合,便于进行上述操作。
内循环水养供给及冷水串灌系统与培育床3底槽301的进水口和出水口连接,利用地下水冬暖夏凉的特性,水冷串灌调控水温,具有更好的降温与保温效果。进水口处设有一过滤膜,用于过滤冷水串灌中可能带有的泥土等杂质。支撑调节立柱2可调高至使培育床3呈前高后低倾斜角为15°,平时培育床3处于水平状态,启动水养供给及冷水串灌系统时,调节支撑调节立柱2的高度,使培育床3处于前高后低的状态,其斜角大概在10°~15°之间,利于冷水串灌时形成水流,提高培育床3中营养水的水分子活性,增加营养水的融氧量,促进植物吸收营养,减少病菌的滋生。
该育种床还包括光谱、光强照射装置和控制中心,光谱光强照射装置优选的采用LED灯阵列,设置于培育床3上面,可根据植物生长需要供给适合的光谱及光照强度。水位传感器4、融氧传感器5、光强光谱传感器6和温湿度传感器7分别与控制中心形成点对点的无线网络连接,分别采集水位、融氧量、温湿度、及光谱光强等参数,并发送至控制中心,由控制中心控制自动开闭光谱照射系统或是水养供给及冷水串灌系统,自动调节环境条件,使其始终处于植物生长所需的相对稳定的恒温条件,并及时增加养分、融氧量等,根据晴天或阴雨天等天气变化,自动开闭光谱照射系统,使其始终保有植物生长所需的充足的光谱及光强量。
尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本发明,但所属领域的技术人员应该明白,在不脱离所附权利要求书所限定的本发明的精神和范围内,在形式上和细节上对本发明做出的各种变化,均为本发明的保护范围。 

Claims (10)

1.立体组合式温控光控育种床,包括支撑调节立柱、设置于立柱上的多层培育床,其特征在于:还包括一内循环水养供给及冷水串灌系统;所述培育床包括底槽,底槽前后端分别设置进水口和出水口,与水养供给及冷水串灌系统相连;底槽内盛有营养水,营养水上方设置一层网目基膜,底槽上盖有一隔菌盖板,该隔菌盖板设置有定向播种孔,所述网目基膜贴于隔菌盖板下方;所述培育床内设置有水位传感器、融氧传感器、光强光谱传感器和温湿度传感器。
2.如权利要求1所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:所述隔菌盖板为珍珠岩板,所述定向播种孔为圆形、方形或者椭圆形的PVC管。
3.如权利要求1-2所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:所述隔菌盖板可移动的盖于底槽上,与底槽密闭结合。
4.如权利要求1所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:所述支撑调节立柱上设置有三层培育床,培育床高度为200~350mm,各层培育床之间的空隙距离为500~600mm。
5.如权利要求1所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:所述培育床底槽的进水口设有一过滤膜。
6.如权利要求1所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:所述网目基膜的网目为150~250目。
7.如权利要求1所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:所述支撑调节立柱可调高至使培育床呈前高后低倾斜角为15°。
8.如权利要求1所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:所述水养供给及冷水串灌系统包括深水井、水养供给池、回水池、废水处理池和冷水帘窗。
9.如权利要求1所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:还包括光谱照射装置,设置于培育床上面。
10.如权利要求1所述的立体组合式温控光控育种床,其特征在于:还包括一控制中心,所述水位传感器、融氧传感器、光强光谱传感器和温湿度传感器分别与控制中心形成点对点的无线网络连接,分别采集水位、融氧量、温湿度、及光谱光强等参数,并发送至控制中心。
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