CN102465323A - 一种电解铜箔生产中溶铜的新方法 - Google Patents
一种电解铜箔生产中溶铜的新方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102465323A CN102465323A CN2010105322179A CN201010532217A CN102465323A CN 102465323 A CN102465323 A CN 102465323A CN 2010105322179 A CN2010105322179 A CN 2010105322179A CN 201010532217 A CN201010532217 A CN 201010532217A CN 102465323 A CN102465323 A CN 102465323A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- copper
- oxygen
- jar
- dissolving tank
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
本发明涉及一种电解铜箔生产中溶铜的新方法。在电解沉积槽上设置一个气体收集罩，电解沉积槽内产生的气体(主要成分是氧气)经收集罩收集，通过输送管道，泵送至如铜罐底部，与溶铜液混合，本发明中的溶铜罐密封，罐顶部设置喷头，罐内溶铜液经泵送至喷头，向下喷淋，使罐内上方气体进入罐内溶铜液中。本发明有效地降低原料及动力消耗，降低环境污染及生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种电解铜箔生产中溶铜的新方法。
背景技术
电解铜箔广泛用于各种线路板的制造以及锂离子电池负极集流体。随着电子电器产品的普及及新型电子产品的不断推出，其基本构件—线路板的用量越来越大。此外，锂离子电池尤其是锂离子动力电池的发展方兴未艾，未来新能源汽车的主体将是锂离子电池汽车，这将带来对电解铜箔的巨大需求。
电解铜箔的制造过程一般包含溶铜、电解沉积、钝化等工序。其中溶铜工序也称电解液制备，目的是将原料金属铜在酸性溶液中溶解成硫酸铜溶液，供给原箔生产工序。溶铜过程中，金属铜与溶液中的氧发生反应，金属铜变成铜离子进入溶液。可见，氧气是溶铜过程的反应物之一会不断消耗，因而溶铜过程需不断补充氧。
现有技术的加氧方法是用通风喷淋阀或鼓风搅拌法。这种方法存在的问题是一方面空气中的氧气含量只有20％左右，通入的空气中只有1/5为有效成分，其余的部分为无效成分，需排放。排放的气体会夹带电解液和大量的热量，从而导致原料、动力的浪费，并带来环境的污染；另一方面，这种方法中，气体在电解液中很快通过，使得氧气的利用率很低，需要更大的空气通量，更加剧了浪费及环境污染。
为了解决环境污染及原料浪费，现行的措施有冷凝回收法，这很大的设备投资和能源动力的消耗；还有就是采用较低温(65℃以下)溶铜，减少酸雾。加入纯氧气是减少酸雾、提高溶铜速度的办法，但加入的氧气大多数没有被利用而排放掉，浪费很大，因而没有得到实用。
申请号02135073.6的发明提出了一种新的溶铜方法，即将溶铜罐密封，用氧气罐向溶铜罐供氧，同时将溶铜罐上部的气体再泵送至底部。这种方法没有气体的排放，且气体中氧的分压大，还可以在较高温度下操作，可以大大提高溶铜的速度，有效降低环境污染和原料动力的浪费。但这一方法会消耗大量的氧气，带来成本方面的问题。
发明内容
本发明旨在提出一种不同于以往技术的电解铜箔生产中溶铜的新方法，以有效降低原料动力浪费及环境污染，降低生产成本。
本发明的技术方案是，在电解沉积槽上设置一个气体收集罩，电解沉积槽内产生的气体(主要成分是氧气)经收集罩收集，通过输送管道，泵送至溶铜罐底部，与溶铜液混合。
本发明所述的气体收集罩侧面有一条带橡胶刮板的缝隙，既允许生成的铜箔通过，又部分阻止空气进入收集罩内。
本发明中的溶铜罐密封，罐顶部设置喷头，罐内溶铜液经泵送至喷头，向下喷淋，使罐内上方气体进入罐内溶铜液中。
本发明中，溶铜罐顶部设置氢浓度检测仪、氧浓度检测仪、排气阀、截止阀，当罐内氢气浓度上升至规定值或氧气浓度下降至规定值时，排气阀打开。
本发明中溶铜罐顶部设置压力表、安全阀、截止阀。
本发明中，包含一个辅助氧气供给系统，包含氧气钢瓶、输送泵，在电解沉积槽没有氧气产生或所产生的氧气不足时，由辅助氧气供给系统给溶铜罐提供氧气。
本发明的另一个技术方案是溶铜罐密封，罐顶部设置喷头，罐内溶铜液经泵送至喷头，向下喷淋，使罐内上方气体与溶铜液混合，进入罐内溶铜液中；并向罐内加入氧气。
上述技术方案所述的向罐内加入氧气的方式为：在电解沉积槽上设置一个气体收集罩，电解沉积槽内产生的气体(主要成分是氧气)经收集罩收集，通过输送管道，泵送至如铜罐底部，与溶铜液混合。所述的气体收集罩侧面有一条带橡胶刮板的缝隙，既允许生成的铜箔通过，又部分阻止空气进入收集罩内。
该方案中，还需要设置一个辅助氧气供给系统，包含氧气钢瓶、输送泵，在电解沉积槽没有氧气产生或所产生的氧气不足时，由辅助氧气供给系统给溶铜罐提供氧气。
本发明有效地降低原料及动力的消耗，基本无排放，大大减轻了环境的污染。由于使用电解沉积槽产生的氧气，有助于降低生产成本。
具体实施方式
下面举例说明本发明的实施方式。
实施例一
在电解沉积槽上设置一个高度1m的气体收集罩，收集罩的下边沿与电解沉积槽的上边沿之间密合，气体收集槽的侧面有一个带橡胶刮板的缝隙，允许产生的生箔通过，进入后工序。气体收集槽的顶端与输送管道连接，输送管道的另一端与一个气体输送泵相连接，输送泵将管内的气体输送至溶铜罐的底部，并进入罐内。溶铜罐密封，罐顶部设置一个喷头，用一个管道将罐内溶铜液抽送至喷头向下喷淋。溶铜罐顶部分别设有安全阀、排气阀、压力表、氢气和氧气含量测试仪，当压力及氢含量超过规定值，以及氧含量低于规定值时，将罐内气体排出。还设置一个辅助氧气供给系统，包含氧气钢瓶、输送泵，在电解沉积槽没有氧气产生或所产生的氧气不足时，由辅助氧气供给系统给溶铜罐提供氧气。
实施例二
将溶铜罐密封，氧气由溶铜罐底部经泵送进入，溶铜罐顶部设置一个喷头，用一个管道将罐内溶铜液抽送至喷头向下喷淋。溶铜罐顶部分别设有安全阀、排气阀、压力表、氢气和氧气含量测试仪，当压力及氢含量超过规定值，以及氧含量低于规定值时，将罐内气体排出。送入溶铜罐的氧气来自氧气钢瓶或管道。
Claims (10)
1.一种电解铜箔生产中溶铜的新方法，其特征在于在电解沉积槽上设置一个气体收集罩，电解沉积槽内产生的气体(主要成分是氧气)经收集罩收集，通过输送管道，泵送至溶铜罐底部，与溶铜液混合。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述的气体收集罩侧面有一条带橡胶刮板的缝隙，既允许生成的铜箔通过，又部分阻止空气进入收集罩内。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于溶铜罐密封，罐顶部设置喷头，罐内溶铜液经泵送至喷头，向下喷淋，使罐内上方气体进入罐内溶铜液中。
4.如权利要求1和3所述的方法，其特征在于溶铜罐顶部设置氢浓度检测仪、氧浓度检测仪、排气阀、截止阀，当罐内氢气浓度上升至规定值或氧气浓度下降至规定值时，排气阀打开。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于溶铜罐顶部设置压力表、安全阀、截止阀。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于设置一个辅助氧气供给系统，包含氧气钢瓶、输送泵，在电解沉积槽没有氧气产生或所产生的氧气不足时，由辅助氧气供给系统给溶铜罐提供氧气。
7.一种电解铜箔生产中溶铜的新方法，其特征在于溶铜罐密封，罐顶部设置喷头，罐内溶铜液经泵送至喷头，向下喷淋，使罐内上方气体与溶铜液混合，进入罐内溶铜液中；并向罐内加入氧气。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于所述的向罐内加入氧气的方式为：在电解沉积槽上设置一个气体收集罩，电解沉积槽内产生的气体(主要成分是氧气)经收集罩收集，通过输送管道，泵送至溶铜罐底部，与溶铜液混合。
9.如权利要求7和8所述的方法，其特征在于所述的气体收集罩侧面有一条带橡胶刮板的缝隙，既允许生成的铜箔通过，又部分阻止空气进入收集罩内。
10.如权利要求7和8所述的方法，其特征在于设置一个辅助氧气供给系统，包含氧气钢瓶、输送泵，在电解沉积槽没有氧气产生或所产生的氧气不足时，由辅助氧气供给系统给溶铜罐提供氧气。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2010105322179A CN102465323A (zh) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | 一种电解铜箔生产中溶铜的新方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2010105322179A CN102465323A (zh) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | 一种电解铜箔生产中溶铜的新方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102465323A true CN102465323A (zh) | 2012-05-23 |
Family
ID=46069424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2010105322179A Pending CN102465323A (zh) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | 一种电解铜箔生产中溶铜的新方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102465323A (zh) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104047045A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-09-17 | 中色奥博特铜铝业有限公司 | 一种用于压延铜箔镀铜工序的循环溶铜造液装置及方法 |
| CN104611551A (zh) * | 2015-01-29 | 2015-05-13 | 德清县立荣金属粉末有限公司 | 一种溶解金属块料的酸溶装置 |
| CN111349949A (zh) * | 2020-04-03 | 2020-06-30 | 广东嘉元科技股份有限公司 | 一种生产电解铜箔用造液装置 |
| CN113293414A (zh) * | 2021-07-26 | 2021-08-24 | 深圳市高尔夫飞煌科技有限公司 | 一种电解铜箔溶铜加工设备 |
| CN114540887A (zh) * | 2022-02-16 | 2022-05-27 | 云南惠铜新材料科技有限公司 | 一种高效节能溶铜系统及工艺浓度控制装备 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4324623A (en) * | 1980-01-12 | 1982-04-13 | Koito Seisakusho Co. Ltd. | Method and apparatus for replenishing an electroplating bath with metal to be deposited |
| CN1405365A (zh) * | 2002-10-29 | 2003-03-26 | 广东梅县梅雁电解铜箔有限公司 | 电解铜箔生产中溶铜的生产方法 |
| CN201543388U (zh) * | 2009-10-28 | 2010-08-11 | 合肥铜冠国轩铜材有限公司 | 喷淋式快速高效溶铜系统 |
-
2010
- 2010-11-05 CN CN2010105322179A patent/CN102465323A/zh active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4324623A (en) * | 1980-01-12 | 1982-04-13 | Koito Seisakusho Co. Ltd. | Method and apparatus for replenishing an electroplating bath with metal to be deposited |
| CN1405365A (zh) * | 2002-10-29 | 2003-03-26 | 广东梅县梅雁电解铜箔有限公司 | 电解铜箔生产中溶铜的生产方法 |
| CN201543388U (zh) * | 2009-10-28 | 2010-08-11 | 合肥铜冠国轩铜材有限公司 | 喷淋式快速高效溶铜系统 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104047045A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-09-17 | 中色奥博特铜铝业有限公司 | 一种用于压延铜箔镀铜工序的循环溶铜造液装置及方法 |
| CN104611551A (zh) * | 2015-01-29 | 2015-05-13 | 德清县立荣金属粉末有限公司 | 一种溶解金属块料的酸溶装置 |
| CN111349949A (zh) * | 2020-04-03 | 2020-06-30 | 广东嘉元科技股份有限公司 | 一种生产电解铜箔用造液装置 |
| CN113293414A (zh) * | 2021-07-26 | 2021-08-24 | 深圳市高尔夫飞煌科技有限公司 | 一种电解铜箔溶铜加工设备 |
| CN113293414B (zh) * | 2021-07-26 | 2021-09-17 | 深圳市高尔夫飞煌科技有限公司 | 一种电解铜箔溶铜加工设备 |
| CN114540887A (zh) * | 2022-02-16 | 2022-05-27 | 云南惠铜新材料科技有限公司 | 一种高效节能溶铜系统及工艺浓度控制装备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102465323A (zh) | 一种电解铜箔生产中溶铜的新方法 | |
| CN107017444A (zh) | 一种废旧磷酸铁锂电池中金属回收的方法 | |
| CN104828995A (zh) | 一种含铁废盐酸的处理方法 | |
| CN102240497A (zh) | 一种从烟气中回收二氧化碳利用夜间电力制甲酸的方法和装置 | |
| CN102689923A (zh) | 铅酸蓄电池PbO纳米粉体的制备方法 | |
| CN104630469B (zh) | 一种联合脱除硫酸锌溶液中有机物和镁离子的方法及其装置 | |
| CN203625505U (zh) | 一种节能环保电解铜箔生液溶铜装置 | |
| CN109795984B (zh) | 可循环式综合利用电能电解铝的铝水制氢系统及方法 | |
| CN209098183U (zh) | 自动可连续氢发装置 | |
| CN218665444U (zh) | 一种废旧锂电池湿法回收制备三元前驱体的系统 | |
| CN204865499U (zh) | 一种亚硝酸甲酯的废气处理系统 | |
| CN114432855B (zh) | 一种用于合成高纯碳酸稀土沉淀剂的装备系统 | |
| CN109794147A (zh) | 一种排压氯气安全回收处理装置 | |
| CN202844833U (zh) | 聚合氯化铝反应釜的酸雾回收利用装置 | |
| CN102602977B (zh) | 一种溶解铜制备氧化铜的方法 | |
| CN209685326U (zh) | 一种用于处理蒸氨尾气的回收装置 | |
| CN103205770A (zh) | 一种含二氧化碳废气吸收与浓缩的装置及其方法 | |
| CN102234824A (zh) | 利用电解铜箔的富氧废酸气提高溶铜效率的方法 | |
| CN108103526B (zh) | 一种利用电解铝铝灰净化电解铝烟气及回收铝资源的方法 | |
| CN206940997U (zh) | 一种周边端面密封式水封槽体盖板 | |
| CN203017976U (zh) | 浓硝酸酸雾的回收设备 | |
| CN207130081U (zh) | 一种铝材加工废水处理装置 | |
| CN206173455U (zh) | 一种pcb微蚀液回收铜装置 | |
| CN110093627A (zh) | 一种从棕化液中回收铜的方法及装置和添加剂 | |
| CN204981131U (zh) | 全自动低能耗氧化剂生产线 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20120523 |