CN102407468A - 真空集热管罩玻璃管水磨砂设备 - Google Patents

真空集热管罩玻璃管水磨砂设备 Download PDF

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施国樑
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Abstract

真空集热管罩玻璃管水磨砂设备,由工件输送设施组成,其特征在于含有一组多付罩玻璃管旋转夹具,所述旋转夹具的轴心线与罩玻璃管的轴心线重合;并含有一组多个外置式水磨器,或者含有一组多个伸入式水磨器。本发明的有益效果:利用罩玻璃管磨砂设备,在罩玻璃管内壁或者外壁形成一块粗糙表面,就可以在此粗糙表面制作漫反射镜面。利用此镜面的漫反射,使原来穿过罩玻璃管与内玻璃管之间到达罩玻璃管内壁光滑镜面的阳光,因为全反射而从罩玻璃管另一侧溢出的现象发生改变;并使这些阳光大部分投射到内玻璃管的吸收膜上,实现罩玻璃管镜面集光而不用偏心的内玻璃管或者不用内置放气严重的金属反光板。

Description

真空集热管罩玻璃管水磨砂设备
技术领域
 本发明涉及真空集热管罩玻璃管水磨砂设备。
背景技术
真空集热管热能输出的方式最好采用与内玻璃管一体制造的热管。现有一种防爆真空热管集热管,为了防炸,将工质充装量从占内部容积10~20%减少为0.5%以下,使内部两相流换热远远达不到理想状态。现有一种利用罩玻璃管内壁镜面反光板聚光的内玻璃管偏心真空集热管,它具有接收太阳光范围大、内玻璃管细散热面积和热沉小的优点,但内玻璃管偏心封接难度较高。
发明内容
本发明的目的是要提供真空集热管罩玻璃管水磨砂设备。
本发明解决其技术问题所采取的技术方案之一:用工件输送设施、一组多付罩玻璃管旋转夹具和一组多个外置式水磨器;或者一组多个伸入式水磨器,组成一台真空集热管罩玻璃管水磨砂设备。所述旋转夹具的轴心线与罩玻璃管的轴心线重合。采用一组多个外置式水磨器的磨砂装置称作外壁水磨砂设备。采用一组多个伸入式水磨器的磨砂装置称作内壁水磨砂设备。
本发明的有益效果:利用罩玻璃管内壁或者外壁磨砂设备,在罩玻璃管内壁或者外壁形成一块粗糙表面,就可以在此粗糙表面制作漫反射镜面。利用此镜面的漫反射,使原来穿过罩玻璃管与内玻璃管之间到达罩玻璃管内壁光滑镜面的阳光,因为全反射而从罩玻璃管另一侧溢出的现象发生改变;并使这些阳光大部分投射到内玻璃管的吸收膜上,实现罩玻璃管镜面集光而不用偏心的内玻璃管或者不用内置放气严重的金属反光板。对于在罩玻璃管外壁蒙砂酸洗制作的镜面,需要设置一个保护层。
 
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是一台罩玻璃管内壁水磨砂设备结构示意图。
图中1.输送设施;2.夹具;3.水磨器;4.罩玻璃管。
 
具体实施方式
图1给出本发明的一个实施例。
图1中,用工件输送设施1、一组多付罩玻璃管旋转夹具2和一组多个伸入式水磨器3组成一台罩玻璃管内壁水磨砂设备。
图1实施例的工作原理:用工件输送设施1将罩玻璃管4驳到位,一组多个伸入式水磨器3同时伸入多支罩玻璃管4对罩玻璃管4内壁实施磨砂作业。边磨边通过旋转夹具2使罩玻璃管4绕自身轴心线转动,调节罩玻璃管4的磨砂表面范围。磨砂结束水磨器3退出,罩玻璃管4被送入下道工序。
同理,只要将伸入式水磨器改为外置式水磨器,就可以制造罩玻璃管外壁水磨砂设备。

Claims (1)

1. 真空集热管罩玻璃管水磨砂设备,由工件输送设施组成,其特征在于含有一组多付罩玻璃管旋转夹具,所述旋转夹具的轴心线与罩玻璃管的轴心线重合;并含有一组多个外置式水磨器;或者含有一组多个伸入式水磨器。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C53 Correction of patent of invention or patent application
CB02 Change of applicant information

Address after: 314416, Zhejiang Province, Jiaxing City, Haining province Zhen Yuan Town East Village home No. 35

Applicant after: Haining IEMYC Solar Energy Technology Co., Ltd.

Address before: 200335, No. 100, Lane 30, Gan Gan Road, Shanghai, Changning District 502

Applicant before: Haining IEMYC Solar Energy Technology Co., Ltd.

C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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