CN102135731A - 接近接触式光刻机对准工作台找平机构 - Google Patents

接近接触式光刻机对准工作台找平机构 Download PDF

Info

Publication number
CN102135731A
CN102135731A CN2011100015446A CN201110001544A CN102135731A CN 102135731 A CN102135731 A CN 102135731A CN 2011100015446 A CN2011100015446 A CN 2011100015446A CN 201110001544 A CN201110001544 A CN 201110001544A CN 102135731 A CN102135731 A CN 102135731A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cylinder body
levelling
fore
web joint
elastic bag
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2011100015446A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102135731B (zh
Inventor
周占福
刘玄博
甄万财
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Semiconductor Equipment Institute
Original Assignee
Beijing Semiconductor Equipment Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Semiconductor Equipment Institute filed Critical Beijing Semiconductor Equipment Institute
Priority to CN201110001544.6A priority Critical patent/CN102135731B/zh
Priority claimed from CN201110001544.6A external-priority patent/CN102135731B/zh
Publication of CN102135731A publication Critical patent/CN102135731A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102135731B publication Critical patent/CN102135731B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Supply, Installation And Extraction Of Printed Sheets Or Plates (AREA)

Abstract

本发明提供了接近接触式光刻机对准工作台找平机构,涉及接近接触式光刻机设备技术领域。在连接板上圆周上设有三个孔,有3个上调平螺钉通过上述的三个孔和缸体上的螺纹孔连接,连接板和缸体具有间隙;连接板由三个顶柱接触支撑,三个顶柱圆周均布并装在缸体上与顶柱滑动配合的孔中;在三个顶柱的下面设有弹性气囊,弹性气囊设置在与上述孔相联通的环形孔道中,用压盖固定在缸体上;缸体内设置三个汽缸,为联通式,有三个锁紧活塞可同时锁定三个顶柱;三个汽缸和弹性气囊均与空压装置联通。本发明效果显著,容易找平,且找平力小,而且找平时不损坏掩模版和基片涂胶面,同时,结构简单,性能稳定可靠,使用方便。应用范围广。

Description

接近接触式光刻机对准工作台找平机构
技术领域
本发明涉及接近接触式光刻机设备技术领域,特别是一种应用于接近接触式光刻机中对准工作台的找平机构。
背景技术
基片涂胶面与掩模版图形面找平机构是光刻机的核心部件对准工作台中的关键机构,该机构直接体现光刻机的研制、生产、制造、装配等技术水平,是光刻机的核心技术。国外光刻机的找平机构都是自行研制的,在世界范围内没有单独生产制造商销售,无从购买。国内光刻机目前配置的找平机构,都采用传统的半球碗找平技术,由于凸凹两个半球碗相对运动摩擦力大,磨损快,不能保证找平的一致性。另外,因为找平时两个半球碗相对运动摩擦力大,要实现找平,基片涂胶面与掩模版图形面接触力就要很大,容易造成胶面损伤、薄基片碎裂、掩模版变形大、损伤掩模版等问题,严重影响曝光质量。基片涂胶面与掩模版图形面的找平成为国产光刻机的技术瓶颈,研制开发易于找平,找平力小的,在找平过程中不损伤胶面的找平机构是非常必要的。
发明内容
本发明的目的是提供一种接近接触式光刻机对准工作台找平机构,容易找平,且找平力小,而且找平时不损坏掩模版和基片涂胶面,同时,结构简单,性能稳定可靠,使用方便,应用范围广。
本发明装置的主要技术方案是:一种接近接触式光刻机对准工作台找平机构,其特征在于采用连接板作为力的传递件,在连接板上圆周上设有三个孔,有3个上调平螺钉通过上述的三个孔和缸体上的螺纹孔连接,连接板和缸体具有间隙;在连接板下表面设置三个点,由三个顶柱接触支撑,三个顶柱在圆周上均布,并装在缸体上与顶柱滑动配合的孔中;在三个顶柱的下面设有、弹性气囊,弹性气囊设置在与上述孔相联通的环形孔道中,用压盖把弹性气囊固定在缸体上;在缸体内相对于三个顶柱方向,设置三个汽缸,三个汽缸为联通式,三个汽缸中有三个锁紧活塞可同时锁定三个顶柱;三个汽缸和弹性气囊均可与空压装置联通。
所述的弹性气囊呈环形为佳,设有环形孔道与顶柱滑动配合的孔相连通,弹性气囊设于该环形孔道中,实现找平力的传递和调整。
所述的接近接触式光刻机对准工作台找平机构,其特征在于设有连接板(7)的上下导向机构较好,以使其更加精确。
所述的导向机构的结构可为:缸体的外面设有支承环,支承环上安装有三组均布的导向滚动轴承,滚动轴承靠紧连接板的两个垂直平面和一个90°V形槽,滚动轴承与连接板为点或线接触。
所述的导向机构也可为其他结构。
所述的缸体的外侧,缸体上的螺纹孔相对,设有3个横向螺纹孔,有三个紧定螺钉可锁定上调平螺钉。以便更加可靠锁紧,确保精度。
本发明的积极效果是显著的:利用该装置可以有效解决现有技术中存在的问题,该接近接触式光刻机对准工作台找平机构,容易找平,且找平力小,而且找平时不损坏掩模版和基片涂胶面,同时,结构简单,性能稳定可靠,使用方便,应用范围广。
以下结合一个较好的实施例及其附图作详述,但本实施例不能作为对本发明的限定。
附图说明
图1是该实施例的主视图(或图2的A-A剖视图)。
图2是图1的俯视图。
图3是图2的B-B剖视图。
图中标号说明:1-缸体,2-压盖,3-弹性气囊,4-顶柱,5-锁紧活塞,6-活塞环,7-连接板,8-上调平螺钉,9-锁定螺钉,10-轴,11-支座,12-滚动轴承,13-隔圈,14-支承环。
具体实施方式
参见图1~图3,该接近接触式光刻机对准工作台找平机构,采用连接板7作为力的传递件,在连接板7上圆周上设有三个孔,有3个上调平螺钉8通过上述的三个孔和缸体1上的螺纹孔连接,连接板7和缸体1具有间隙;在连接板7下表面设置三个点,由三个顶柱4接触支撑,三个顶柱4在圆周上均布,并装在缸体1上与顶柱4滑动配合的孔中;在三个顶柱4的下面设有弹性气囊3,所述的弹性气囊3呈环形,设有环形孔道与顶柱4滑动配合的孔相连通,弹性气囊3设于该环形孔道中。用压盖2把弹性气囊3固定在缸体1上;在缸体1内相对于三个顶柱4方向,设置三个汽缸,三个汽缸为联通式,三个汽缸中有三个锁紧活塞5可同时锁定三个顶柱4;三个汽缸和弹性气囊3均可与空压装置联通。设有连接板7的上下导向机构。导向机构的结构为:缸体1的外面设有支承环14,支承环14上安装有三组均布的导向滚动轴承12,滚动轴承12靠紧连接板7的两个垂直平面和一个90°V形槽,滚动轴承12与连接板7为点或线接触。缸体1的外侧,缸体1上的螺纹孔相对,设有3个横向螺纹孔,有三个紧定螺钉9可锁定上调平螺钉8。
下面再对其作进一步说明:其工作原理:初始状态时本机构处于静止状态,采用质壁均匀的弹性气囊3作为弹性元件,弹性气囊3内充有0.2MPa的压缩空气作为动力源,由压盖2把弹性气囊3固定在缸体1的环形槽里,使弹性气囊3成环形弹性气囊;缸体1设计时为了实现三点找平及找平记忆,在缸体1的轴向加工出三个安装顶柱4的孔,三个孔在圆周上成120°均布,并与安装弹性气囊的环形槽贯通,使三个孔的中心在X-Y平面内垂直弹性气囊3的轴线,三个孔的中心在Z向平面内与弹性气囊3的轴线重合,这样将三个顶柱4安装在缸体1里,顶柱4的下端面与弹性气囊3接触,压入钢珠的上端与连接板7的下表面接触,三个顶柱4在缸体1里成120°均布,并在同一个圆周上,作用于同一个弹性气囊3上。由于顶柱4与缸体1采用H7/g6小间隙配合,顶柱4受力后能够在缸体1内沿Z向垂直运动灵活,确保力的准确传递。三个顶柱4与连接板7成点接触,符合三点确定一个平面的数理知识,实现了三点支持。找平原理;因为连接板7上表面承载吸盘和基片,基片的涂胶面以掩模版的图形面为找平基准,所以三点确定的平面要与对准工作台的设计找平基准(掩模版下表面)平行,使基片上表面与掩模版下表面的随机楔形角角度变得比较小,找平力也变得比较小,易于找平。为了保证连接板7上表面与设计找平基准的平行精度要求,在三个顶柱4与连接板7接触点的圆周上均布三个上调平8,每个上调平螺钉8与顶柱4圆周夹角成30°;上调平螺钉8与缸体1螺纹连接,与连接板7只在上下端面上有接触,在圆周上无任何接触点,以免影响找平,通过旋转上调平螺钉8使连接板7与找平基准平行,平行度误差控制在0.005-0.01mm范围内,由于平行度误差调整,使连接板7在Z向下降一个设定高度值,连接板7通过顶柱4对弹性气囊3有一个向下的作用力,因弹性气囊内有0.2MPa的压缩空气,所以弹性气囊3通过顶柱4对连接板7有一个向上的反作用力,大小相等方向相反,作用线与Z向平行。由于对准工作台制造、安装误差的存在,连接板7的上表面与设计找平基准达平行度误差要求时,三个上调平螺钉8垂直向下的位移是不相等的,三个顶柱4对弹性气囊3的作用力在调节过程中不相等,调节过程完成后,由于弹性气囊3是一个整体,内有压缩空气,弹性气囊3在与顶柱4接触部位周边发生弹性变形,根据帕斯卡定律弹性气囊3对三个顶柱4的反作用力是相等的,因此,连接板7受三个顶柱4的反作用力也是相等的,处于力的平衡状态,具有三个独立弹簧无法比拟的优点。弹簧弹力F=kx,k为弹性系数,x为位移量,当k弹性系数不变时,三个顶柱4的x位移量在连接板7与设计找平基准平行时一定不相等,三个顶柱4对连接板7的反作用力不相等,在找平过程中对掩模版的找平力随基片与掩模版的下表面的楔形误差变化而变化,不利于找平,找平力大,找平效果差,找平后掩模版受力不均匀,并且对弹簧的制造、检测精度要求都很高。当连接板7调平后,为防止反复压缩连接板7上下运动,使三个上调平螺钉8出现不同程度松动,改变调平状态,不能满足三点确定的平面与对准工作台的找平基准(掩模版图形面)平行度误差要求,在缸体1的径向相对于三个上调平螺钉8的部位安装平端锁定螺钉9,对上调平螺钉8施加一个锁紧力,既不损坏上调平螺钉8的螺纹,又防止上调平螺钉8的松动,有效保证了调平状态,提高了机构稳定性,经100万次压缩弹性试验连接板7的调平状态无变化,满足三点确定的平面与对准工作台的找平基准(掩模版图形面)平行度误差要求。在工作状态时本机构随对准工作台Z向抬升机构作向上垂直运动,进行基片的涂胶面以掩模版的图形面找半过程,由于基片的涂胶面与掩模版的图形面之间存在一个楔形角,这个楔形角角度很小,并且形成的楔形角是随机的,当基片上的高点与掩模版接触时,连接板7局部受力,使其中一个或两个顶柱4受力向下运动,将力传递到弹性气囊3上,弹性气囊3吸收力发生弹性变形实现基片与掩模版软接触,薄基片此时不会损坏,随着接触找平运动的继续,当基片的涂胶面与掩模版的图形面完全接触找平的瞬间,三个顶柱4在Z向都有不同程度的下降,由于顶柱4的底部都作用在同一个环形弹性气囊3上,弹性气囊3在受力部位周边发生弹性变形,根据帕斯卡定理和牛顿定理,弹性气囊3内的压力重新平衡,对三个顶柱4的反作用力使基片的涂胶面与掩模版的图形面紧密接触,Z向抬升机构停止向上的垂直运动,楔形角被消除,三个顶柱受到力相等,掩模版受力均匀。由于弹性气囊3发生的弹性变形,使找平力变小,掩模版的变形也变小,延长掩模版的使用寿命,弹性气囊3的反作用力使基片的涂胶面与掩模版的图形面紧密接触找平达到接近接触式光刻机找平要求。为了保持记忆找平状态,缸体1内0.5MPa的压缩空气推动三个径向均布与顶柱4相对应的锁紧活塞5压紧顶柱4,每个锁紧活塞5上都带有O型密封圈,此锁紧活塞5与缸体1配合,完全按照气缸式活塞结构原理设计,满足使用要求。本机构经反复找平试验,弹性气囊3内压力为0.2MPa时对4″、3″基片找平比较理想,弹性气囊3内的压力为0.3MPa时对2″基片找平比较理想;弹性气囊3内的压力设置过高,使找平力变得过大,找平后掩模版变形比较大,缩短了掩模版的使用寿命,更容易挤碎薄基片,严重影响细线条曝光质量,造成基片的废品。弹性气囊3内的压力设置过低,使找平力变得过小,基片的上表面与掩模版的下表面不能完全接触找平;如要基片的涂胶面与掩模版的图形面完全接触找平,使对三个顶柱4在Z向下降位移要求比较大,容易压伤弹性气囊3,缩短了弹性气囊3的使用寿命,同样严重影响细线条曝光质量,更容易造成基片的废品。
每组导向装置用轴10和隔圈将两对滚动轴承12固定在支座11上,两对滚动轴承12无轴向位移,两对滚动轴承12的公共中心相对于支座11底面平行,垂直距离精度要求高,保证三组导向装置中两对滚动轴承12的公共中心相对于支座11底面中心高相等。三组导向装置均布在支承环14的同一个水平面,每组导向装置与邻近的顶柱4相对于对准工作台中心夹角为30°,与邻近的上调平螺钉8相对于对准工作台中心夹角为60°,使连接板7受力对称。其中两组导向装置的滚动轴承12靠紧连接板的两个垂直平面,另一组导向装置的滚动轴承12靠紧连接板的90°V型面,限制连接板7作Z向的旋转运动和X-Y的平面运动,各个接触点在同一个截面上,虽然滚动轴承12靠紧连接板7的两个垂直平面和一个90°V型面,但滚动轴承12与连接板7的接触都是点或线接触,又是滚动摩擦,摩擦系数0.002,产生的摩擦力相对于找平力来说可以忽略不计,不会对找平产生影响。由于三组导向装置在同一个水平截面内同时对连接板7施加径向力,使连接板7无论在静止状态,还是运动状态,特别是在找平过程中,基片与掩模版之间存在一个随机楔形角,当基片上的高点与掩模版接触时和继续进行接触找平的过程中,使基片涂胶面对掩模版的图形面无绕Z向的旋转和X-Y的平面运动,始终保持Z向移动,起到保护基片涂胶面、掩模版的图形面的作用,使本机构工作稳定性更加得到提高。
接近接触式光刻机主要工作是将掩模版的图形复印到基片的涂胶面上,图形复印时要求基片涂胶面与掩模版图形面完全紧密接触,才能在基片涂胶面上获得满意的掩模版上的图形,否则,复印到基片上的图形与掩模版上的图形偏移值比较大,造成废品。由于对准工作台零件的制造误差和装配误差,以及基片的平面度误差,使基片涂胶面与掩模版图形面存在一个楔形角,为了消除这个楔形角,对准工作台中设计了找平机构,要求基片的涂胶面以掩模版的图形面为找平基准,进行接触、找平,在接触、找平过程中要求基片的涂胶面只能有Z向垂直位移,不能有Z向旋转和X-Y平面运动,否则就会损坏基片的涂胶面和掩模版图形面。
在接触、找平过程中,基片涂胶面上的高点与掩模版图形面接触,会将局部的找平力传递到连接板7上,缸体1上均布的三个顶柱4,此时其中一个或两个顶柱4将找平力传递到缸体1里支撑顶柱4的弹性气囊3上,弹性气囊3受力发生弹性变形,使受力的顶柱4发生Z向向下的垂直位移,实现基片与掩模版的软接触,保护薄基片不被挤碎;随着接触找平过程的继续,掩模版图形面与基片涂胶面的楔形角越来越小,直到楔形角为0。在此过程中,连接板7不断地将变化的找平力通过三个顶柱4传递到弹性气囊3上,根据帕斯卡、牛顿定理,弹性气囊3内的压力随着三个顶柱4受力变化,弹性气囊3与顶柱4接触面也不断地发生弹性变形吸收力,同时弹性气囊3不断地调整对三个顶柱4的反作用力,实现力的重新平衡,使找平机构容易找平,找平力小,找平时不损坏掩模版,掩模版变形量小;掩模版的图形面与基片的涂胶面完全紧密接触完成找平。缸体1内采用气缸式活塞结构设计锁紧活塞5,锁紧找平后的顶柱4,保持了找平状态。为了防止在找平过程中连接板7有Z向旋转和X-Y平面运动,破坏基片涂胶面,在支承环14上安装三组均布的导向装置,用滚动轴承12靠紧连接板7的两个垂直平面和90°V形槽,滚动轴承12与连接板7是点或线接触,又是滚动摩擦,摩擦系数0.002,产生的摩擦力相对于找平力来说可以忽略不计,不会对找平产生影响。该三点找平机构结构简单,稳定可靠,维修方便。
本发明的三点找平机构采用弹性气囊3作为弹性体,安装在缸体1里;采用安装在缸体1里三个顶柱4支撑连接板7实现三点找平结构,由于弹性气囊3弹性作用通过三个顶柱4对连接板7施加力,用三个上调平螺钉8钉调平连接板7与找平基准平行,用三个紧定螺钉9锁紧上调平螺钉8,保证连接板7的初始状态不变。为了保持记忆找平状态,在缸体1内相对于三个顶柱4方向,内置三个锁紧活塞5锁紧三个顶柱4,在支承环14上相对于三个顶柱4、三个上调平螺钉8有位置要求的三个均布导向装置,只允许连接板7Z向运动,限制连接板7Z向旋转运动和X-Y向平面运动。
经试用,效果很好。

Claims (4)

1.一种接近接触式光刻机对准工作台找平机构,其特征在于采用连接板(7)作为力的传递件,在连接板(7)上圆周上设有三个孔,有3个上调平螺钉(8)通过上述的三个孔和缸体(1)上的螺纹孔连接,连接板(7)和缸体(1)具有间隙;在连接板(7)下表面设置三个点,由三个顶柱(4)接触支撑,三个顶柱(4)在圆周上均布,并装在缸体(1)上与顶柱(4)滑动配合的孔中;在三个顶柱(4)的下面设有弹性气囊(3),弹性气囊(3)设置在与上述孔相联通的孔道中,用压盖(2)把弹性气囊(3)固定在缸体(1)上;在缸体(1)内相对于三个顶柱(4)方向,设置三个汽缸,三个汽缸为联通式,三个汽缸中有三个锁紧活塞(5)可同时锁定三个顶柱(4);三个汽缸和弹性气囊(3)均可与空压装置联通。
2.根据权利要求1所述的接近接触式光刻机对准工作台找平机构,其特征在于所述的弹性气囊(3)呈环形,设有环形孔道与顶柱(4)滑动配合的孔相连通,弹性气囊(3)设于该环形孔道中。
3.根据权利要求2所述的接近接触式光刻机对准工作台找平机构,其特征在于所述的导向机构的结构为:缸体(1)的外面设有支承环(14),支承环(14)上安装有三组均布的导向滚动轴承(12),滚动轴承(12)靠紧连接板(7)的两个垂直平面和一个90°V形槽,滚动轴承(12)与连接板(7)为点或线接触。
4.根据权利要求1所述的接近接触式光刻机对准工作台找平机构,其特征在于所述的缸体(1)的外侧,缸体(1)上的螺纹孔相对,设有3个横向螺纹孔,有三个紧定螺钉(9)可锁定上调平螺钉(8)。
CN201110001544.6A 2011-01-06 接近接触式光刻机对准工作台找平机构 Expired - Fee Related CN102135731B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110001544.6A CN102135731B (zh) 2011-01-06 接近接触式光刻机对准工作台找平机构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110001544.6A CN102135731B (zh) 2011-01-06 接近接触式光刻机对准工作台找平机构

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102135731A true CN102135731A (zh) 2011-07-27
CN102135731B CN102135731B (zh) 2016-12-14

Family

ID=

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102289154A (zh) * 2011-08-02 2011-12-21 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于光刻投影物镜安装的调平定位装置
CN103048886A (zh) * 2012-11-22 2013-04-17 中国电子科技集团公司第四十五研究所 球形气动找平机构
CN103792794A (zh) * 2012-11-02 2014-05-14 上海微电子装备有限公司 一种接近式光刻机
CN104570622A (zh) * 2015-02-10 2015-04-29 中国科学院光电技术研究所 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台
CN104932208A (zh) * 2015-07-07 2015-09-23 仓和精密制造(苏州)有限公司 曝光治具及其工作过程
CN105093848A (zh) * 2015-08-06 2015-11-25 武汉华星光电技术有限公司 一种曝光设备
CN108649004A (zh) * 2018-05-21 2018-10-12 王青 一种光刻机用晶圆片涂胶系统
CN108762002A (zh) * 2018-05-21 2018-11-06 王青 一种晶圆片光刻方法
CN113311671A (zh) * 2021-06-04 2021-08-27 中国科学院光电技术研究所 一种近场移动曝光装置和方法及其承载模块
CN114353648A (zh) * 2021-10-29 2022-04-15 中国航发西安动力控制科技有限公司 平面度测量的快速调节找平装置及找平方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5150391A (en) * 1990-03-02 1992-09-22 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
CN2338859Y (zh) * 1998-09-24 1999-09-15 中国科学院光电技术研究所 高精度快速自动调平机构
CN1775546A (zh) * 2005-12-02 2006-05-24 华中科技大学 纳米压印机
CN101303532A (zh) * 2008-06-10 2008-11-12 上海微电子装备有限公司 可切换工位的六自由度精密定位台
CN101609263A (zh) * 2009-07-22 2009-12-23 上海微电子装备有限公司 光刻机硅片台移动装置及采用该移动装置的光刻机
KR100953214B1 (ko) * 2009-09-24 2010-04-16 (주)루멘시스 웨이퍼 레벨 본딩 장치

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5150391A (en) * 1990-03-02 1992-09-22 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
CN2338859Y (zh) * 1998-09-24 1999-09-15 中国科学院光电技术研究所 高精度快速自动调平机构
CN1775546A (zh) * 2005-12-02 2006-05-24 华中科技大学 纳米压印机
CN101303532A (zh) * 2008-06-10 2008-11-12 上海微电子装备有限公司 可切换工位的六自由度精密定位台
CN101609263A (zh) * 2009-07-22 2009-12-23 上海微电子装备有限公司 光刻机硅片台移动装置及采用该移动装置的光刻机
KR100953214B1 (ko) * 2009-09-24 2010-04-16 (주)루멘시스 웨이퍼 레벨 본딩 장치

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102289154A (zh) * 2011-08-02 2011-12-21 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于光刻投影物镜安装的调平定位装置
CN103792794B (zh) * 2012-11-02 2016-02-03 上海微电子装备有限公司 一种接近式光刻机
CN103792794A (zh) * 2012-11-02 2014-05-14 上海微电子装备有限公司 一种接近式光刻机
CN103048886A (zh) * 2012-11-22 2013-04-17 中国电子科技集团公司第四十五研究所 球形气动找平机构
CN103048886B (zh) * 2012-11-22 2015-10-28 中国电子科技集团公司第四十五研究所 球形气动找平机构
CN104570622A (zh) * 2015-02-10 2015-04-29 中国科学院光电技术研究所 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台
CN104932208A (zh) * 2015-07-07 2015-09-23 仓和精密制造(苏州)有限公司 曝光治具及其工作过程
CN105093848B (zh) * 2015-08-06 2018-01-16 武汉华星光电技术有限公司 一种曝光设备
CN105093848A (zh) * 2015-08-06 2015-11-25 武汉华星光电技术有限公司 一种曝光设备
CN108649004A (zh) * 2018-05-21 2018-10-12 王青 一种光刻机用晶圆片涂胶系统
CN108762002A (zh) * 2018-05-21 2018-11-06 王青 一种晶圆片光刻方法
CN108649004B (zh) * 2018-05-21 2020-12-01 博斯特机械制造新沂有限公司 一种光刻机用晶圆片涂胶系统
CN108762002B (zh) * 2018-05-21 2021-06-15 郑君雄 一种晶圆片光刻方法
CN113311671A (zh) * 2021-06-04 2021-08-27 中国科学院光电技术研究所 一种近场移动曝光装置和方法及其承载模块
CN114353648A (zh) * 2021-10-29 2022-04-15 中国航发西安动力控制科技有限公司 平面度测量的快速调节找平装置及找平方法
CN114353648B (zh) * 2021-10-29 2024-03-26 中国航发西安动力控制科技有限公司 平面度测量的快速调节找平装置及找平方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104568575B (zh) 一种施力推杆装置和多轴载荷加载机
CN103963032B (zh) 一种大型空间光学遥感器四维调整装置
CN104297058B (zh) 一种微动疲劳试验用试件装夹及加载装置
CN210037118U (zh) 一种桥梁挠度检测装置
CN102607375A (zh) 轴承径向游隙测量装置
CN107271307A (zh) 一种带切向加速度的小载荷冲击磨损试验台
CN103175454B (zh) 一种固定百分表的便携式找中表架
CN108426712B (zh) 全圆周向滑动径向测试及加载装置
CN103573979A (zh) 一种基于压电陶瓷执行器的轴承预紧力自调节装置
CN209868363U (zh) 一种浮动压紧机构
CN106441898B (zh) 一种滚动轴承回转精度的测试装置
CN106958590A (zh) 多自由度解耦驱动的气/固复合式高精度直线运动基准装置
CN102135731A (zh) 接近接触式光刻机对准工作台找平机构
CN114310360A (zh) 一种转台夹紧机构、组装方法及制动片检测方法
CN102135731B (zh) 接近接触式光刻机对准工作台找平机构
CN202210213U (zh) 一种用于整片晶圆纳米压印自适应承片台
WO2024007737A1 (zh) 一种音圈电机直驱式主动隔振调平一体化平台
CN206831094U (zh) 一种用于气浮支承平台旋转定位的摩擦轮驱动装置
CN102269930B (zh) 一种用于整片晶圆纳米压印自适应承片台
CN208075715U (zh) 一种成套等截面薄壁轴承内圈跳动测量装置
CN103573815B (zh) 微动台及气浮轴承
CN103000231B (zh) 一种Z-θx-θy三自由度抗弯矩高精度工作台
CN104401028A (zh) 一种液压式高精度物料压料装置
CN205781742U (zh) 一种基板吸盘安装调平机构和一种激光封装设备
CN108572076A (zh) 一种静压气浮主轴性能检测装置及其使用方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20161214

Termination date: 20180106

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee