CN102068763B - 放射处理的验证方法和放射处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种放射处理的验证方法和放射处理装置，该方法包括：对以满足预定要求的能量进行放射处理的位置处的由放射产生的元素进行显影，确定元素所在的位置；通过将确定的元素所在的位置与预先指定的放射位置进行对比，对进行放射处理的位置进行验证。通过本发明，能够借助放射后产生的元素的正电子发射核进行显影处理，从而能够精确地确定实际放射的位置，达到放射位置验证的目的；由于显像的信息可以提供组织和细胞的代谢、增殖、乏氧状态等信息，所以可根据显像的位置和强度同时推断确定肿瘤照射的生物学位置和相对生物学剂量，有助于使治疗与活体生物学验证能同时进行，从而真正意义上实现精确的三维生物适形放疗。

Description

放射处理的验证方法和放射处理装置

技术领域

本发明涉及医学领域，尤其涉及一种放射处理的验证方法和放射处理装置。

背景技术

目前，肿瘤的放射治疗技术正在不断精益求精，为了达到更好的治疗效果，对照射位置和剂量给予的精准度要求也越来越高，其目的就是对肿瘤区给予很大的剂量，而对周围正常组织或器官则给予尽可能少的照射剂量。

在进行放射治疗时，如果射线的照射位置不准确，不但不能达到治疗的效果，反而可能会产生严重的负面影响，甚至会使病人致死，因此，照射位置是放射治疗的关键因素之一，其准确度将直接影响治疗的效果。

为了保证治疗质量和治疗的准确，必须在治疗之前对治疗计划进行细致的验证，以确保照射位置准确。通常情况下，放射治疗的一个疗程会持续20-40次。但是，在每次进行放射治疗时，病人的摆位误差、肿瘤的大小变化、病人身体器官的运动等因素都会导致理想照射位置出现偏移，因此，对照射进行准确验证是非常关键的。

目前，在进行验证时，所采用的主要方式是采用模拟人的假体膜在加速器上模拟照射，测量其位置和剂量分布。但是，由于真人与假体模必然存在差别，验证结果难免会出现误差，并且在对真人进行照射后不能够确定实际的生物学照射位置，所以放射治疗的透明度较差，不便于实时或后续进行改进和调节，影响照射位置的准确度；此外，由于每次照射前都需要进行假体膜验证，会增加治疗过程的工作量和成本。

针对相关技术中放射治疗的验证过程工作量大、成本高、并且无法对照射的生物学位置进行准确验证的问题，目前尚未提出理想的解决方案。

发明内容

针对相关技术中放射治疗的验证过程工作量大、成本高、并且无法对照射的生物学位置进行准确验证的问题，本发明提出一种放射处理的验证方法和放射处理装置，能够准确、容易地确定放射处理的生物学照射位置，从而有助于实时或后续对放射处理进行准确校正和调整。

本发明的技术方案是这样实现的：

根据本发明的一个方面，提供了一种放射处理的验证方法，该方法用于在放射治疗过程中对放射处理进行生物学验证。

根据本发明的放射处理的验证方法包括：对以满足预定要求的能量进行放射处理的位置处的由放射产生的元素进行显影，确定元素所在的位置；通过将确定的元素所在的位置与预先指定的放射位置进行对比，对进行放射处理的位置进行生物学验证。

其中，由放射产生的元素包括第一同位素和第二同位素，并且对由放射产生的元素进行显影是指对第一同位素和/或第二同位素进行显影，其中，第一同位素为氧的同位素，第二同位素为碳的同位素。

并且，对由放射产生的元素进行显影包括：在进行放射处理后、且第一同位素衰落消失前，对第一同位素和第二同位素进行第一显影处理，确定放射处理后第一同位素和第二同位素的共同所在位置，作为元素所在的位置。

优选地，在第一同位素衰落消失前具体是指：从放射处理完成，到第一同位素的4个半衰期到达之前。

进一步地，在对第一同位素和第二同位素进行显影之后，该方法可进一步包括：在第一同位素几乎完全衰落消失后，对第二同位素进行第二显影处理，确定共同所在位置处第二同位素的分布状况；根据共同所在位置处第二同位素的分布状况确定第一同位素的分布状况；根据确定的第一同位素的分布状况和第二同位素的分布状况对放射处理的强度进行验证。

具体地，根据确定的第一同位素的分布状况和第二同位素的分布状况对放射处理的强度进行验证包括：根据第一同位素的分布状况和第二同位素的分布状况确定第一同位素和第二同位素各自的放射性活度，并确定第一同位素和第二同位素的实际数量；通过将第一同位素和第二同位素的实际数量与第一同位素和第二同位素的预定数量进行对比，对放射处理的强度进行验证。

优选地，在第一同位素几乎完全衰落消失后是指：第一同位素产生并且经过第一同位素的8个半衰期之后。

并且，第一同位素可以为¹⁵O，第二同位素可以为¹¹C。

优选地，上述预定要求是指：能量大小在放射产生的元素的最大截面的能量区间内。其中，能量区间可以为15MeV至35MeV。

根据本发明的另一方面，提供了一种放射处理装置，该装置可应用于放射治疗过程。

根据本发明的放射处理装置包括：放射处理模块，用于以满足预定要求的能量进行放射处理；显影模块，用于对放射处理模块放射而产生的元素进行显影，确定元素所在的位置；验证模块，用于将确定的元素所在的位置与预先指定的放射位置进行对比，从而对放射处理的执行位置进行验证。

其中，由放射产生的元素包括第一同位素和第二同位素，其中，第一同位素为氧的同位素，第二同位素为碳的同位素。该装置可进一步包括：控制模块，用于控制显影模块对放射处理模块放射而产生的元素进行显影；其中，控制模块具体用于在进行放射处理后、且第一同位素衰落消失前，控制显影模块对第一同位素和第二同位素进行第一显影处理；以及用于在第一同位素几乎完全衰落消失后，控制显影模块对第二同位素进行第二显影处理。

并且，显影模块具体用于根据第一显影处理的结果确定放射处理后第一同位素和第二同位素的共同所在位置，作为元素所在的位置；用于根据第二显影处理的结果确定共同所在位置处第二同位素的分布状况；以及用于根据共同所在位置处第二同位素的分布状况确定第一同位素的分布状况。

其中，验证模块进一步用于根据显影模块确定的第一同位素的分布状况和第二同位素的分布状况对放射处理的强度进行验证。

优选地，预定要求是指：能量大小在放射产生的元素的最大截面的能量区间内，其中，能量区间为15MeV至35MeV。

本发明通过借助放射后产生的元素的正电子发射核进行显影处理，从而能够精确地确定实际放射的位置，达到放射位置验证的目的；由于显像的信息可以提供组织和细胞的代谢、增殖、乏氧状态等信息，所以可根据显像的位置和强度同时推断确定肿瘤照射的生物学位置和相对生物学剂量，有助于使治疗与活体生物学验证能同时进行。

附图说明

图1是根据本发明实施例的放射处理的验证方法的流程图；

图2是根据本发明实施例的放射处理装置的框图。

具体实施方式

针对相关技术中放射治疗的验证过程工作量大、成本高、并且无法对照射位置进行准确验证的问题。本发明提出，利用显影技术，对以满足一定要求的射线进行放射后产生的同位素(正电子发射核)进行显影，从而能够准确地确定放射治疗过程中放射处理的作用位置，有助于实时或后续进行校准，能够有效提高放射治疗的效率和准确度，减少成本。

下面将详细描述本发明的实施例。

方法实施例

在本实施例中，提供了一种放射处理的验证方法，该方法用于在放射治疗过程中对放射处理进行验证。

如图1所示，根据本实施例的放射处理的验证方法包括：

步骤S101，对以满足预定要求的能量进行放射处理的位置处的由放射产生的元素进行显影，确定元素所在的位置；

步骤S103，通过将确定的元素所在的位置与预先指定的放射位置进行对比，对进行放射处理的位置进行验证。

当通过高能光子线进行放射处理时，射线在杀死、损伤各种组织和细胞(包括正常细胞和肿瘤细胞)的同时，还会与人体的肿瘤的组成元素碳C、氧O、氮N等进行光核反应，在肿瘤靶区(放射治疗时射线照射的位置)会产生可发射正电子的¹¹C、¹⁵O、¹³N等正电子发射核素，用正电子发射断层扫描仪PET/CT立即扫描治疗后的病人，¹¹C、¹⁵O、¹³N等核素发射的正电子即可在PET/CT上显像。

因此，通过上述处理，能够借助放射后产生的元素的正电子发射核进行正电子发射断层扫瞄仪(PET)显影处理，从而能够精确地确定实际放射的位置，达到放射位置验证的目的；由于PET显影的信息可以提供组织和细胞的代谢、增殖、乏氧状态等生物学信息，所以可根据显像的位置和强度同时推断确定肿瘤照射的生物学位置和相对生物学剂量，有助于使治疗与活体生物学验证能同时进行，从而真正意义上实现精确的三维生物适形放疗。

在实现根据本发明的方法前，首先需要用高能X射线按治疗计划要求的指定位置和剂量等参数进行照射，使得射线与人体组织产生光核反应。光核反应的种类为：(γ，n)(γ，2n)，(γ，np)，(γ，p)(γ，α)，最主要的光核反应如下：

¹⁶O(γ，n)¹⁵O  (⁺β，T_1/2＝122.2秒)；

¹²C(γ，n)¹¹C  (⁺β，T_1/2＝20.4分)；

¹⁴N(γ，n)¹³N  (⁺β，T_1/2＝10.5分)。

根据美国布鲁海文国家实验室核数据中心(National Nuclear Data Center，Brookhaven National Laboratory)的数据结果，X射线与人体的主要组成元素碳C、氧O、氮N等进行(γ，n)，(γ，2n)光核反应的截面曲线显示，其反应阈能在12-18MeV之间，最大截面的能量区间为15-35MeV。

为了保证照射后能够出现数量足够多的碳C、氧O、氮N同位素，本发明考虑到加速器发出的X射线是连续的轫致辐射谱，最可几能量区间位于加速器最大加速电位的三分之二附近，因此，在实施过程中可以采用医用电子回旋加速器(MM50)，该电子回旋加速器发生光核发应最大截面的能量区间的标称加速电位范围为25-50MV，最有效标称加速电位为35-40MV。此外，还可以采用其他规格的电子回旋加速器或直线加速器，只要其照射时的射线能量区间在15-35MeV范围内即可，也就是说，照射时射线能量的预定要求是在15-35MeV范围内。

照射后得到元素包括氧O的同位素¹⁵O(本文中将¹⁵O称为第一同位素)、碳C的同位素¹¹C(本文中将¹¹C称为第二同位素)，氮N的同位素¹³N，由于氮N的数量较少，因此可以不予考虑。

在进行显影时，可以对¹⁵O(上述的第一同位素)和¹¹C(上述的第二同位素)中的任意一个或两者进行显影，即可确定实际进行放射处理的具体位置，

在进行放射处理后、且¹⁵O衰落消失前，对¹⁵O和¹¹C进行第一显影处理，确定放射处理后¹⁵O和¹¹C的共同所在位置，该位置即可作为放射产生的元素所在的位置。

之后再将确定的位置与预先设定的位置进行对比，就能够确定实际放射的位置是否准确，从而进行调整。

除了照射位置之外，照射剂量同样是放射治疗的关键因素之一，如果照射剂量不合适，不仅会使治疗达不到理想的效果，导致肿瘤复发，而且会使周围正常组织或器官可能受到严重损伤，导致其它并发症、甚至危及生命。为了保证治疗质量和治疗的准确，必须在治疗之前对治疗计划进行良好、细致的验证，确保照射位置准确，并且还需要肿瘤即靶区和周围组织接受的剂量满足治疗计划要求。

下面将详细描述在本发明的实施处理中对照射剂量(强度)进行验证的过程。

由于¹⁵O的半衰期为2分钟左右，因此，需要在放射处理完成后立即就进行第一显影处理，第一显影处理的持续时间为2-4分钟。

在执行了第一显影处理之后，需要在¹⁵O几乎完全衰落消失后，对¹¹C进行第二显影处理，确定共同所在位置处¹¹C的分布状况；这样，根据¹⁵O和¹¹C共同所在位置处¹¹C的分布状况，就能够确定¹⁵O的分布状况；之后，就能够根据确定的¹⁵O的分布状况和¹¹C的分布状况对放射处理的强度进行验证。其中，在第一显影处理后，可以在¹⁵O经过10至20分钟之后进行第二显影处理，优选地，可以在经过¹⁵O的8-9个半衰期后开始第二显影处理。由于¹¹C的存在时间较长，因此，第二显影处理可以持续20-30分钟，从而能够获得更加准确的¹¹C的分布情况。

根据确定的¹⁵O的分布状况和¹¹C的分布状况对放射处理的强度进行验证时，可以首先确定¹⁵O和¹¹C的各自的放射性活度，并确定¹⁵O和¹¹C的实际数量；

通过将¹⁵O和¹¹C的实际数量与¹⁵O和¹¹C的预定数量进行对比，就能够对放射处理的强度进行验证。

优选地，在不考虑毛细血管血流对肿瘤区正电子发射核¹⁵O和¹¹C等分布影响的情况下，可以通过以下公式求解照射后t时刻正电子发射核的放射性活度A(t)：

其中：χ代表某正电子发射核，例如，在本实施例中，可以代表¹⁵O或¹¹C，χ_NT表示MM50加速器X射线靶单位体积内的原子数，

表示加速器发射的轫致辐射谱的平均光子通量率，σ(E)为光核反应的截面，χ_λ是正电子发射核χ的半衰期，t为时间，从照射开始计时，t_irr为照射治疗时间。

由于不同组织和靶区内不同地点活度A(t)是不同的，PET扫描仪探测到r处的正电子发射核χ计数率(即，¹⁵O和¹¹C正电子发射核的数量)由下式获得：

^χS(t，r)＝ε(r)∫∫_V′∫^χA(t，r′)^χP(r，r′)d³r′，

其中：ε(r)是PET对正电子发射核χ总的探测效率，^χP(r，r′)是点扩散函数，V和V`分别照射的靶体积和小体积积分单元，r`为V`内的积分变量。

因此，所有正电子发射核的计数率为：

$S_V^{\mathrm{Tot}}\left(t\right)=\underset{\mathrm{\χ}}{\mathrm{\Σ}}S_V^{\mathrm{\χ}}\left(t\right).$

不同测量时间段j的计数为：

其中，^TotS_V(t)表示所有正电子发射核在体积V的计数率，^TotS_j，V表示在某显影处理时间段(例如，执行第一显影处理的时间段或执行第二显影处理的时间段)内所有正电子发射核在体积V的计数，对于之前获得的相对生物学剂量分布进行归一化处理就能够计算出生物学等剂量分布。

通过将获得的照射的生物学位置和相对生物学等剂量分布与计划设计的靶区的物理位置和物理剂量要求分别进行比较和分析，就能够达到进行强度验证和调整的目的。

在实际应用中，可以在PET/CT扫描仪上利用CT对肿瘤进行X射线断层扫描定位，扫描层厚一般为5mm，扫描范围以肿瘤所在的大致部位为中心，前后各保留10-15cm富余的扫描区间，获得一系列肿瘤所在部位的X射线断层影像图像(通常可以得到超过40层的断层图像)，同时在体表和固定病人的位置处进行标记。

在进行肿瘤定位后，可以将定位得到的图像传输到治疗计划系统(TPS)中，选择MM50的X射线，其能量为40MV，按照有关放射治疗规范设计治疗计划。

将治疗计划移植到MM50加速器，按照在PET/CT扫描定位时的同等固定条件在MM50加速器上对病人进行复位摆位，确定无误后，对病人按照在TPS上所设计治疗计划和要求实施放射治疗。

在治疗结束后，可以立即将病人送到PET/CT按时间段进行扫描显像(即，执行上述第一显影处理和第二显影处理)，得到¹⁵O或¹¹C的分布情况。将之前获得的总剂量分布、各核素的剂量分布对最大点剂量进行归一，即可得到照射靶区的等剂量分布曲线，与治疗计划设计的剂量分布曲线比较，就可以确认是否满足要求并做必要的修改完善，从而实现对肿瘤的照射位置和剂量分布的活体生物学验证。

尽管之前以结合使用回旋加速器MM50进行照射(照射能量在15-35MeV)并得到¹⁵O和¹¹C为例进行了说明，但是本发明并不限于此，采用其他规格的加速器并以其他能量进行照射得到其他正电子发射核并用PET显影进行位置验证的方案同样在本发明的保护范围内，本文不再一一列举。

通过上述处理，相比于现有技术中对于放疗位置和剂量的验证都是物理位置和物理剂量的验证，并不能反映其生物性，本发明的上述验证过程是通过功能影像或生物学影像设备PET/CT显像技术及显像信息(该信息可以提供组织和细胞的代谢、增殖、乏氧状态等)进行验证，所以是肿瘤照射的生物学位置和相对生物学剂量的验证，其验证结果的可靠性和准确度更高；上述验证过程可以在治疗的同时实现，即是活体(in-vivo)实时模式，避免了目前采用模拟人的假体模验证中位置验证和剂量验证必须独立执行的问题，而且能够进一步减小验证的误差，减小了处理量和成本；此外，上述验证过程能够准确得到肿瘤的氧分布，确定组织细胞的代谢和增殖等状态，进而可确定其乏氧细胞、富氧细胞分布，为提高治疗效果提供可靠的依据。

装置实施例

在本实施例中，提供了一种放射处理装置，应用于放射治疗过程

如图2所示，根据本实施例的放射处理装置包括：

放射处理模块1，用于以满足预定要求的射线能量进行放射处理；

显影模块2，用于对放射处理模块1放射而产生的元素进行显影，确定元素所在的位置；

验证模块3，用于将确定的元素所在的位置与预先指定的放射位置进行对比，从而对放射处理的执行位置进行验证。

因此，通过上述装置，能够借助放射后产生的元素的正电子发射核进行显影处理，从而能够精确地确定实际放射的位置，达到放射位置验证的目的；由于显像的信息可以提供组织和细胞的代谢、增殖、乏氧状态等信息，所以可根据显像的位置和强度同时推断确定肿瘤照射的生物学位置和相对生物学剂量，有助于使治疗与活体生物学验证能同时进行，从而真正意义上实现精确的三维生物适形放疗。

其中，由放射产生的元素包括第一同位素(¹⁵O)和第二同位素(¹¹C)，其中，第一同位素为氧的同位素，第二同位素为碳的同位素。

该装置可以进一步包括：控制模块4，用于在进行放射处理后、且第一同位素衰落消失前，控制显影模块2对第一同位素和第二同位素进行第一显影处理；以及用于在第一同位素几乎完全衰落消失后，控制显影模块2对第二同位素进行第二显影处理。

并且，显影模块2具体用于根据第一显影处理的结果确定放射处理后第一同位素和第二同位素的共同所在位置，作为元素所在的位置；以及，用于根据第二显影处理的结果确定共同所在位置处第二同位素的分布状况；以及用于根据共同所在位置处第二同位素的分布状况确定第一同位素的分布状况。

验证模块3可进一步用于根据显影模块2确定的第一同位素的分布状况和第二同位素的分布状况对放射处理的强度进行验证。

上述预定要求是指：能量大小在放射产生的元素的最大截面的能量区间内，其中，能量区间为15MeV至35MeV。

优选地，显影模块2可以利用PET/CT进行扫描显影，并且，第一显影处理、第二显影处理、剂量验证处理等过程的具体执行方式可以参照方法实施例中的相应部分，这里不再重复。

同样，放射处理模块可以结合使用回旋加速器MM50进行照射(照射能量在15-35MeV)，但是本发明并不限于此，采用其他规格的加速器并以其他能量进行照射得到其他正电子发射核并进行PET显影的方案同样在本发明的保护范围内，本文不再一一列举。

综上所述，借助于本发明的上述技术方案，相比于现有技术中对于放疗位置和剂量的验证都是物理位置和物理剂量的验证，并不能反映其生物性，本发明的上述验证过程是通过功能影像或生物学影像设备PET/CT显像技术及显像信息(该信息可以提供组织和细胞的代谢、增殖、乏氧状态等)进行验证，所以是肿瘤照射的生物学位置和相对生物学剂量的验证，其验证结果的可靠性和准确度更高；上述验证过程可以在治疗的同时实现，即是活体(in-vivo)实时模式，避免了目前采用模拟人的假体模进行验证是位置验证和剂量验证必须独立执行的问题，而且能够进一步减小验证的误差，减小了处理量和成本；此外，上述验证过程能够准确得到肿瘤的氧分布，确定组织细胞的代谢和增殖等状态，进而可确定其乏氧细胞、富氧细胞分布，为提高治疗效果提供可靠的依据。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (16)

1.一种放射处理的验证方法，用于在放射治疗过程中对放射处理进行验证，其特征在于，所述方法包括：

当通过高能光子线进行放射处理时，射线在杀死、损伤各种组织和细胞的同时，还会与人体的肿瘤的组成元素C、O、N进行光核反应，在肿瘤靶区会产生可发生正电子的¹¹C、¹⁵O、¹³N正电子发射核素，用正电子发射断层扫描仪扫描治疗后的病人，¹¹C、¹⁵O、¹³N核素发射的正电子即可在发射断层扫描仪上显像；

对以满足预定要求能量的放射处理的位置处的由放射产生的元素进行显影，确定所述元素所在的位置；

通过将确定的所述元素所在的位置与预先指定的放射位置进行对比，对进行放射处理的位置进行验证。

2.根据权利要求1所述的验证方法，其特征在于，由满足预定要求能量的放射产生的所述元素包括第一同位素和第二同位素，并且对由放射产生的元素进行显影是指对所述第一同位素和/或所述第二同位素进行显影，其中，所述第一同位素为氧的同位素，所述第二同位素为碳的同位素。

3.根据权利要求2所述的验证方法，其特征在于，对由满足预定要求能量的放射处理产生的所述元素进行显影包括：

在进行所述放射处理后、且所述第一同位素衰落消失前，对所述第一同位素和所述第二同位素进行第一显影处理，确定所述放射处理后所述第一同位素和所述第二同位素的共同所在位置，作为所述元素所在的位置。

4.根据权利要求3所述的验证方法，其特征在于，在所述第一同位素衰落消失前具体是指：从所述放射处理完成，到所述第一同位素的4个半衰期到达之前。

5.根据权利要求3所述的验证方法，其特征在于，在对所述第一同位素和所述第二同位素进行显影之后，进一步包括：

在所述第一同位素几乎完全衰落消失后，对所述第二同位素进行第二显影处理，确定所述共同所在位置处所述第二同位素的分布状况；

根据所述共同所在位置处所述第二同位素的分布状况确定所述第一同位素的分布状况；

根据确定的所述第一同位素的分布状况和所述第二同位素的分布状况对所述放射处理的强度进行验证。

6.根据权利要求5所述的验证方法，其特征在于，根据确定的所述第一同位素的分布状况和所述第二同位素的分布状况对所述放射处理的强度进行验证包括：

根据所述第一同位素的分布状况和所述第二同位素的分布状况确定所述第一同位素和所述第二同位素各自的放射性活度，并确定所述第一同位素和所述第二同位素的实际数量；

通过将所述第一同位素和所述第二同位素的实际数量与所述第一同位素和所述第二同位素的预定数量进行对比，对所述放射处理的强度进行验证。

7.根据权利要求6所述的验证方法，其特征在于，在所述第一同位素几乎完全衰落消失后是指：所述第一同位素产生并且经过所述第一同位素的8个半衰期之后。

8.根据权利要求2至7中任一项所述的验证方法，其特征在于，所述第一同位素为¹⁵O，所述第二同位素为¹¹C。

9.根据权利要求1至7中任一项所述的验证方法，其特征在于，所述预定要求是指：能量大小在放射产生的所述元素的最大截面的能量区间内。

10.根据权利要求9所述的验证方法，其特征在于，所述能量区间为15MeV至35MeV。

11.一种放射处理装置，应用于放射治疗过程，其特征在于，所述装置包括：

放射处理模块，用于以满足预定要求的能量进行放射处理；以满足预定要求的能量进行放射处理具体为：当通过高能光子线进行放射处理时，射线在杀死、损伤各种组织和细胞的同时，还会与人体的肿瘤的组成元素C、O、N进行光核反应，在肿瘤靶区会产生可发生正电子的¹¹C、¹⁵O、¹³N正电子发射核素，用正电子发射断层扫描仪扫描治疗后的病人，¹¹C、¹⁵O、¹³N核素发射的正电子即可在发射断层扫描仪上显像；

显影模块，用于对所述放射处理模块以满足预定要求能量的放射处理的位置处放射而产生的元素进行显影，确定所述元素所在的位置；

验证模块，用于将确定的所述元素所在的位置与预先指定的放射位置进行对比，从而对放射处理的执行位置进行验证。

12.根据权利要求11所述的放射处理装置，其特征在于，由放射产生的所述元素包括第一同位素和第二同位素，其中，所述第一同位素为氧的同位素，所述第二同位素为碳的同位素。

13.根据权利要求12所述的放射处理装置，其特征在于，进一步包括：

控制模块，用于控制所述显影模块对所述放射处理模块放射而产生的元素进行显影；

其中，所述控制模块具体用于在进行所述放射处理后、且所述第一同位素衰落消失前，控制所述显影模块对所述第一同位素和所述第二同位素进行第一显影处理；以及用于在所述第一同位素几乎完全衰落消失后，控制所述显影模块对所述第二同位素进行第二显影处理。

14.根据权利要求13所述的放射处理装置，其特征在于，所述显影模块具体用于根据所述第一显影处理的结果确定所述放射处理后所述第一同位素和所述第二同位素的共同所在位置，作为所述元素所在的位置；用于根据所述第二显影处理的结果确定所述共同所在位置处所述第二同位素的分布状况；以及用于根据所述共同所在位置处所述第二同位素的分布状况确定所述第一同位素的分布状况。

15.根据权利要求14所述的放射处理装置，其特征在于，所述验证模块进一步用于根据所述显影模块确定的所述第一同位素的分布状况和所述第二同位素的分布状况对所述放射处理的强度进行验证。

16.根据权利要求11至15中任一项所述的放射处理装置，其特征在于，所述预定要求是指：能量大小在放射产生的所述元素的最大截面的能量区间内，其中，所述能量区间为15MeV至35MeV。

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