CN101980083B - 激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法 - Google Patents
激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101980083B CN101980083B CN 201010279175 CN201010279175A CN101980083B CN 101980083 B CN101980083 B CN 101980083B CN 201010279175 CN201010279175 CN 201010279175 CN 201010279175 A CN201010279175 A CN 201010279175A CN 101980083 B CN101980083 B CN 101980083B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mesh
- interference
- laser
- structured
- filter membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
Description
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 201010279175 CN101980083B (zh) | 2010-09-13 | 2010-09-13 | 激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 201010279175 CN101980083B (zh) | 2010-09-13 | 2010-09-13 | 激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101980083A CN101980083A (zh) | 2011-02-23 |
CN101980083B true CN101980083B (zh) | 2013-02-20 |
Family
ID=43600596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 201010279175 Active CN101980083B (zh) | 2010-09-13 | 2010-09-13 | 激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN101980083B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103320825B (zh) * | 2013-06-06 | 2015-07-08 | 宁波微极电子科技有限公司 | 制造高密度大型微纳结构阵列的方法 |
CN104345571B (zh) * | 2013-07-24 | 2016-08-10 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 对准标记的成像和测量装置、光刻装置 |
CN106624354B (zh) * | 2017-02-21 | 2018-09-21 | 长春理工大学 | 基于达曼光栅和反射镜的多光束激光干涉微纳加工装置及方法 |
CN106944751A (zh) * | 2017-05-11 | 2017-07-14 | 英诺激光科技股份有限公司 | 一种利用激光加工的过滤膜及激光加工系统 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2432001Y (zh) * | 2000-06-21 | 2001-05-30 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种激光干涉光刻系统 |
CN1690857A (zh) * | 2004-04-26 | 2005-11-02 | 中国科学院光电技术研究所 | 采用全息光学元件的激光干涉光刻方法及其光刻系统 |
CN1862353A (zh) * | 2006-06-12 | 2006-11-15 | 江苏大学 | 一种制作表面周期微细结构的方法及其装置 |
CN101727010A (zh) * | 2009-12-03 | 2010-06-09 | 吉林大学 | 利用多光束干涉光刻技术制备仿生彩色超疏水涂层的方法 |
CN101844272A (zh) * | 2010-01-27 | 2010-09-29 | 长春理工大学 | 采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法和系统 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060274295A1 (en) * | 2005-05-04 | 2006-12-07 | Brueck Steven R J | Nanotool processes and applications |
-
2010
- 2010-09-13 CN CN 201010279175 patent/CN101980083B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2432001Y (zh) * | 2000-06-21 | 2001-05-30 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种激光干涉光刻系统 |
CN1690857A (zh) * | 2004-04-26 | 2005-11-02 | 中国科学院光电技术研究所 | 采用全息光学元件的激光干涉光刻方法及其光刻系统 |
CN1862353A (zh) * | 2006-06-12 | 2006-11-15 | 江苏大学 | 一种制作表面周期微细结构的方法及其装置 |
CN101727010A (zh) * | 2009-12-03 | 2010-06-09 | 吉林大学 | 利用多光束干涉光刻技术制备仿生彩色超疏水涂层的方法 |
CN101844272A (zh) * | 2010-01-27 | 2010-09-29 | 长春理工大学 | 采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法和系统 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
张锦等.用于大面积周期性图形制造的激光干涉光刻.《光电工程》.2001,第28卷(第6期), * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101980083A (zh) | 2011-02-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2020019575A1 (zh) | 基于介质超表面结构的窄带滤光片及其制作方法 | |
CN109061780B (zh) | 一种双波长同轴独立聚焦的超表面透镜 | |
CN110352378B (zh) | 用于形成用于激光加工的辐射的方法和设备 | |
CN112034628B (zh) | 一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置 | |
van Rijn et al. | Nanosieves with microsystem technology for microfiltration applications | |
CN101980083B (zh) | 激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法 | |
JP4483793B2 (ja) | 微細構造体の製造方法及び製造装置 | |
CN101844272A (zh) | 采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法和系统 | |
JP2007057622A (ja) | 光学素子及びその製造方法、光学素子用形状転写型の製造方法及び光学素子用転写型 | |
CN111290147B (zh) | 光束偏振态的调控装置和方法 | |
Zheng et al. | Advances in fabrication of micro-optical components by femtosecond laser with etching technology | |
CN111999901A (zh) | 一种产生多波段消色差贝塞尔光束的超表面轴锥器件 | |
CN100483257C (zh) | 一种采用白激光的成像干涉光刻方法和系统 | |
CN102651534A (zh) | 基于激光干涉光刻的分布反馈式有机半导体激光器制作方法 | |
CN103197366A (zh) | 基于异质结光栅的偏振滤波器及制备方法 | |
Yeo et al. | Realization of multi-paired photonic crystals by the multiple-exposure nanosphere lithography process | |
JP6547283B2 (ja) | 基板上構造体の製造方法 | |
CN110967945A (zh) | 一种激光干涉光刻制作无调制阵列结构的系统及方法 | |
CN111077734A (zh) | 采用激光干涉光刻技术制作无调制阵列结构的方法及系统 | |
CN110119071A (zh) | 干涉光刻系统、打印装置和干涉光刻方法 | |
Beresna et al. | Femtosecond laser assisted fabrication of visible wavelength all-dielectric nano-membrane metasurfaces | |
CN112034626B (zh) | 一种高通量3d暗斑生成装置 | |
Liu et al. | Fabrication of two-dimensional photonic crystals with embedded defects using blue-laser-writer and optical holography | |
Wang et al. | Dielectric geometric phase optical elements from femtosecond direct laser writing | |
CN100373204C (zh) | 可调节位相型光瞳滤波器及其制作方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C53 | Correction of patent for invention or patent application | ||
CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Wang Zuobin Inventor after: Liu Yang Inventor after: Zhao Le Inventor after: Liu Lanjiao Inventor after: Xu Jia Inventor after: Hou Yu Inventor after: Weng Zhankun Inventor after: Song Zhengxun Inventor after: Hu Zhen Inventor before: Liu Yang Inventor before: Wang Zuobin Inventor before: Zhao Le Inventor before: Liu Lanjiao Inventor before: Xu Jia Inventor before: Hou Yu Inventor before: Weng Zhankun Inventor before: Song Zhengxun Inventor before: Hu Zhen |
|
COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: LIU YANG WANG ZUOBIN ZHAO LE LIU LANJIAO XU JIA HOU YU WENG ZHANKUN SONG ZHENGXUN HU ZHEN TO: WANG ZUOBIN LIU YANG ZHAO LE LIU LANJIAO XU JIA HOU YU WENG ZHANKUN SONG ZHENGXUN HU ZHEN |