CN101833396A - 以单点触控面板进行多点触控的系统与方法 - Google Patents
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Abstract
一种以单点触控面板进行多点触控的系统与方法,该触控系统包含:单点触控面板,当该单点触控面板受到接触操作时输出讯号;以及处理器,处理该讯号以判断该单点触控面板上受到该接触操作的位置。该触控方法包含:在该处理器内设有判断标准,于预定时段内侦测该位置的变化,并根据该判断标准判断该接触操作为单点接触或多点接触。从而实现利用单点触控面板进行多点触控操作的功能,减少了多点触控面板的成本。
Description
技术领域
本发明有关于一种包含触控面板的触控系统与方法,尤其有关于以单点触控面板进行多点触控的系统与方法。
背景技术
触控面板(touch panel)装置近年来可说是一个应用领域非常广泛的输入装置。不管是手机、数位相机、银行提款机(ATM)、公用电脑站(kiosk)、汽车电子的操控面板等等都是时下最热门的应用。
目前现有技术,触控面板装置若以触控点为分类时,可分为单点式、两(或多)点式。触控面板装置若以侦测方式为分类时,最常见的有电阻式、电容式、或光学式。
一般而言,成本最低的应为四线(xi,xo,yi,yo)电阻式的单点式触控面板装置,其中(xi,xo)代表量测x方向座标的两个电极,(yi,yo)代表代表量测y方向座标的两个电极。而多点式或两点式触控面板装置的目前成本则高出单点式触控面板装置甚多。
目前,单点式触控面板装置由于基本先天硬体的限制,只能做简单的应用,所以多无法侦测出操控者多样化的多点式触控行为。
因此,市场上确实有需要一种以单点触控面板进行多点触控侦测的系统与方法,以便使单点式触控面板装置,能侦测出操控者多样化的多点式触控行为。
发明内容
本发明的主要目的,乃提供一种触控系统与方法,以单点式触控面板,供使用者选择性进行单点或多(或两)点触控。
根据本发明的目的提供的触控系统,包含单点触控面板,当该单点触控面板受到接触操作时输出讯号;以及处理器,处理该讯号以判断该单点触控面板上受到该接触操作的位置;其中,该处理器设有判断标准,于预定时段内侦测该位置的变化,并根据该判断标准判断该接触操作为单点接触或多点接触。
根据本发明的目的提供的触控系统,该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置未改变时,该处理器判断该接触操作为单点接触;或者当该处理器于该预定时段内侦测到该位置在一个区域内变动时,该处理器判断该接触操作为多点接触。
根据本发明的目的提供的触控系统,该判断标准包含:当该区域成线形时,该处理器判断该多点接触为二点接触;或者当该区域为多边形时,该处理器判断该多点接触为至少三点接触。
根据本发明的目的提供的触控系统,该判断标准包含:该处理器还通过该讯号以计算参数,并通过该参数以判断该接触操作为单点接触或多点接触,该参数对应该单点触控面板因受到接触而受影响的面积。
根据本发明的目的提供的触控系统,该判断标准包含:设置预定准位,当该参数落在该预定准位范围内时,该处理器判断该接触操作为多点接触;否则,该处理器判断该接触操作为单点接触。
根据本发明的目的提供的触控系统,该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置成线形变动,且该参数持续落在该预定准位范围内且呈现出受影响的该面积持续增加时,该处理器判断该多点接触系二点接触,且该二点持续逐渐地远离;或者当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动,该参数持续落在该预定准位范围内且呈现出受影响的该面积持续减少时,该处理器判断该多点接触为二点接触,且该二点持续逐渐地接近。
根据本发明的目的提供的触控系统,该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动且该参数落在该预定准位范围内,而于该预定时段后该位置位于该线性区域的一个端点且该参数落在该预定准位范围外时,该处理器判断于该预定时段内该接触操作为二点接触且该二点中的一点位于该线性区域的该端点,该二点的另外一点位于该线性区域的另一端点或该线性区域的延伸线上,以及判断于该预定时段后该二点仅有其中一点继续接触该单点触控面板。
根据本发明的目的提供的触控系统,:该位置以X轴座标值与Y轴座标值表示,其中该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该X轴座标值与该Y轴座标值至少其中之一持续增加或减少,该参数未改变且落在该预定准位范围内时,该处理器判断该接触操作为二点接触,该二点相对距离未改变且该二点同时朝一个方向移动。
根据本发明的另一目的提出的一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,当该单点触控面板受到接触操作时输出讯号,该方法包含:处理该讯号以判断该触控面板上受到该接触操作的位置;以及根据判断标准,于预定时段内侦测该位置的变化,以判断该接触操作为单点接触或多点接触。
根据本发明的另一目的提出的一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,该判断标准包含:当于该预定时段内侦测到该位置未改变时,判断该接触操作为单点接触;或者当于该预定时段内侦测到该位置于该触控面板上的区域内变动时,判断该接触操作为多点接触。
根据本发明的另一目的提出的一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,该判断标准包含:当该区域成线性时,判断该多点接触为二点接触;或者当该区域为多边形时,判断该多点接触为至少三点接触。
根据本发明的另一目的提出的一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,该判断标准包含:进一步通过该讯号以计算参数,并通过该参数以判断该接触操作为单点接触或多点接触,该参数对应该触控面板因受到接触而受影响的面积。
根据本发明的另一目的提出的一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,该判断标准包含:设置预定标准方位,当该参数落在该预定准位范围内时,判断该接触操作为该多点接触;否则,判断该接触操作为该单点接触。
根据本发明的另一目的提出的一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动,且该参数持续落在该预定准位范围内且呈现出受影响的该面积持续增加时,该处理器判断该多点接触为二点接触,且该二点持续逐渐地远离;或者当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动,该参数持续落在该预定准位范围内且呈现出受影响的该面积持续减少时,该处理器判断该多点接触为二点接触,且该二点持续逐渐地接近。
根据本发明的另一目的提出的一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动且该参数落在该预定准位范围内,而于该预定时段后该位置位于该线性区域的一个端点且该参数落在该预定准位范围外时,该处理器判断于该预定时段内该接触操作为二点接触且该二点中的一点位于该线性区域的该端点,该二点的另外一点位于该线性区域的另一端点或该线性区域的延伸线上,以及判断于该预定时段后该二点中仅有一点继续接触该单点触控面板。
根据本发明的另一目的提出的一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,该位置以X轴座标值与Y轴座标值表示,其中该判断标准包含:当于该预定时段内侦测到该X轴座标值与该Y轴座标值至少其中一个持续增加或减少,该参数未改变且落在该预定准位范围内时,判断该接触操作二点接触,该二点相对距离未改变且该二点同时朝一个方向移动。
通过上述的触控系统与方法,实现在单点式触控面板上进行多点触控的操作,大大降低了现有的多点触控面板的成本。
下面将结合附图对本发明作详细说明。
附图说明
图1是本发明的触控装置示意图;
图2a、2b是本发明的第一实施方式中单点触控面板的触控点变化、以及处理器的判断结果;
图3a、3b是本发明的第二实施方式中单点触控面板的触控点变化、以及处理器的判断结果;
图4a、4b是本发明的第三实施方式中单点触控面板的触控点变化、以及处理器的判断结果;
图5a、5b是本发明的第四实施方式中单点触控面板的触控点变化、以及处理器的判断结果;
图6a、6b是本发明的第五实施方式中单点触控面板的触控点变化、以及处理器的判断结果;
图7a、7b、7c是本发明的第六实施方式中单点触控面板的触控点变化、以及处理器的判断结果;
图8a、8b是本发明的第七实施方式中单点触控面板的触控点变化、以及处理器的判断结果。
具体实施方式
下方将结合附图对本发明的各具体实施方式进一步说明。虽然本发明结合了具体实施方式进行说明,但是应当理解本发明可以有多种方式实施,而不仅限于这里所揭露的具体实施方式;本发明提供的具体实施方式使得本发明公开更加充分和完整,且使得本领域技术人员能够完全掌握本发明的范围。
就单点式触控面板装置而言,当使用者对其进行两点(含)以上触控时,触控面板上因为两指触控导致两指触控位置之间面板表面的凹陷区域面积与单点触控所导致的面板表面的凹陷面积不同,故触控面板在受到两点(含)以上触控时会有不同于单点式触控的电性表现。根据此特征结合触控位置的量测,可以进行更多的使用者行为辨识,而达成本发明的创作目的。
如图1所示,图1是本发明的触控装置示意图。除了其他习知的元件或未来可能生产的附加元件,本发明实施方式的一种以单点触控面板进行两点(含)以上触控的系统10,包含:处理器13,输出扫描信号119;单点触控面板11,包含两个薄膜受接触操作111而接触,对应该扫描信号119,供输出信号113以对应该接触操作111;其中,处理器13处理该讯号113,以判断该单点触控面板上受到该接触操作的位置(x,y),且依据判断标准15,于一预定时段内侦测该位置(x,y)的变化,以判断该接触操作为单点接触或多点接触。于本实施方式中,判断标准15通过信号115传送至处理器13,但在不同实施方式中,判断标准15可直接存在于处理器13中。换言之,该以单点触控面板进行两点(含)以上触控的系统10,得根据操作者的两点(含)以上触控动作111,该系统10可由单点触控模式进入两点(含)以上触控模式,且启动该触控动作111所对应的预定功能。信号117为处理器13指示显示器进行特定显示功能的信号。于本实施方式中,显示器与单点触控面板11整合成一体,但本发明不以此为限。
于图1实施方式的架构下,于某些实施方式中,该对单点触控面板11为电容式触控面板。
于图1实施方式之下,于某些实施方式中,该单点触控面板11为四线(4-wired)式电阻式触控面板。
于图1实施方式之下,于某些实施方式中,该处理器13可侦测出操作者的两点(含)以上之静态触控动作以及动态触控动作。“动态”为相对于时间的变化。
于图1实施方式之下,于某些实施方式中,该处理器13可对该对单点触控面板11进行交叉扫描(例如,扫描(xi,yi),量测(xo,yo)),以侦测出面积参数,该面积参数对应该单点触控面板11因受到接触而受影响的面积。当单点触控面板11为电阻式触控面板时,面积参数可以电阻值或无单位的数值呈现;当单点触控面板11为电容式触控面板时,面积参数可以电容值或无单位的数值呈现。因此,该处理器13可对应该面积参数的动态变化值,进行特定判断或启动所对应的预定功能。对各种单点触控面板而言,如何计算前述面积参数为习知技术,故不在此赘述。
处理器13于输出扫描信号119至单点触控面板11后,接收来自单点触控面板11的讯号113以计算面积参数,并通过该面积参数以判断该接触操作111为单点接触或多点接触。以电阻式触控面板为例,一般而言,面积参数与触控面板因受到接触而受影响的面积成反比关系,但不以此为限。
根据实施方式,当该面积参数落在预定准位范围内时,该处理器13判断该接触操作111为多点接触;否则,该处理器13判断该接触操作111为单点接触。在本实施方式中,面积参数的范围为0-1000,而对应多点接触之面积参数预定准位范围的实施方式为0-200之间。若该面积参数值为约200-1000间,该处理器13判断该接触操作111为单点接触。
ti | t1 | t2 | t3 | t... | t.... | tn-1 | tn |
Xti | 50 | 52 | .. | .. | .. | 49 | 48 |
Yti | 50 | 51 | .. | .. | .. | 51 | 52 |
表一(判断实例一)
上表为实例一,揭示于预定时段内所侦测的(x,y)值,而对应图2a、2b,分别为单点触控面板11上的触控点变化、以及处理器13依照判断标准15运作时的判断结果。细言之,当于预定时段t1-tn内(实施方式为约40-50毫秒),处理器13侦测到上表的值时,因该预定时段内侦测到该位置(x,y)值大致未改变,则判断其为单点静态的触控,如图2b所示。
ti | t1 | t2 | t3 | ... | ... | tn-1 | tn |
Xti | 20 | 90 | 26 | .. | .. | 65 | 50 |
Yti | 20 | 90 | 25 | .. | .. | 63 | 50 |
表二(判断实例二)
上表为实例二,揭示于预定时段内所侦测的(x,y)值,而对应图3a、3b,分别为单点触控面板11的触控点变化、以及处理器13依照判断标准15运作时的判断结果。细言之,当于预定时段内(约40-50毫秒),处理器13侦测到如上表的值时,亦即当该处理器13于该预定时段内侦测到该位置系于一区域内变动时(图3a),该处理器13判断该接触操作系多点接触,如图3b所示。
而当该区域大致成线性时(如图3a中线条),该处理器13判断该多点接触系二点接触。是否成线性区域的判断,是计算于预定时段内所量测各点连线所形成的斜率是否约略相等。
ti | t1 | t2 | t3 | t4 | t5 | .... | tn |
Xti | 52 | 30 | 50 | 75 | 46 | 30≤Xti≤75 | 30≤Xti≤75 |
Yti | 90 | 29 | 61 | 27 | 43 | 27≤Yti≤90 | 27≤Yti≤90 |
表三(判断实例三)
上表为实例三,揭露于预定时段内所侦测的(x,y)值,而对应图4a、4b,分别为单点触控面板11的触控点变化、以及处理器13依照判断标准15运作时的判断结果。细言之,当于预定时段内(约40-50毫秒),处理器13侦测到如上表的值时,亦即当该处理器13于该预定时段内侦测到该位置于区域内变动时(图4a),则判断其为多点的触控,如图4b所示。
而当该区域大致为一多边形时,该处理器13判断该多点接触为至少三点接触。至于为何种多边形的判断,是观察预定时段内的(Xti,Yti)的变化范围。例如,上表中的(Xti,Yti,1≤i≤n时)值,有30≤Xti≤75且27≤Yti≤90现象,且所有(Xti,Yti)之位置皆在由(Xt1,Yt1)、(Xt2,Yt2)与(Xt4,Yt4)所形成的三角形范围内,故处理器13即判断为三点的触控操作。
ti | t1 | t2 | t3 | t4 | t5 | t6 | tn |
Xti | 40 | 60 | 75 | 20 | 94 | 18 | .. |
Yti | 25 | 25 | 27 | 25 | 23 | 25 | .. |
Ati | 420 | 185 | 170 | 158 | 143 | 116 | .. |
表四(判断实例四)
上表为实例四,揭露于预定时段内所侦测的(x,y,A)值,A为前述对应接触面积的面积参数。同前所述,在本实施方式中,面积参数的范围为0-1000,而对应多点接触的面积参数预定准位范围的实施方式为0-200之间。若该面积参数值为约200-1000之间,则该处理器13判断该接触操作111为单点接触。而对应图5a、5b,分别为单点触控面板11的触控点变化、以及处理器13依照判断标准15运作时的判断结果。细言之,当于预定时段内(约40-50毫秒),处理器13侦测到上述表的值时,则判断其为多点接触,且为接触点逐渐地远离,如图5b所示。此乃因该处理器13于该预定时段内侦测到该位置大致于线性区域内变动,且该面积参数A持续落在该预定准位范围内(如约小于200)且面积参数A值渐减,因该位置大致于线性区域内变动代表接触操作为二点接触,面积参数A持续落在该预定准位范围内也确认二点接触的判断,而面积参数A渐减代表单点触控面板11受触控影响的面积持续增加,也就是二接触点逐渐地远离,故该处理器13判断该多点接触为二点接触,且该二点持续逐渐地远离。
ti | t1 | t2 | t3 | t4 | t5 | .. | tn |
Xti | 80 | 40 | 70 | 52 | 60 | .. | .. |
Yti | 80 | 40 | 69 | 50 | 60 | .. | .. |
Ati | 136 | 142 | 147 | 151 | 176 | .. | .. |
表五(判断实例五)
上表为实例五,揭露于预定时段内所侦测的(x,y,A)值,而对应图6a、6b,分别为单点触控面板11的触控点变化、以及处理器13依照判断标准15运作时的判断结果。细言之,当于预定时段内(约40-50毫秒),处理器13侦测到如上表的值时,则判断其为多点接触,且为接触点逐渐地接近,如图6b所示。此乃因该处理器13于该预定时段内侦测到该位置大致于线性区域内变动,该面积参数A持续落在该预定准位范围内(如约小于200)且面积参数A值渐增,因该位置大致于线性区域内变动代表接触操作为二点接触,面积参数A持续落在该预定准位范围内也确认二点接触的判断,而面积参数A渐增代表单点触控面板11受触控影响的面积持续减少,也就是二接触点逐渐地接近,故该处理器判断该多点接触为二点接触,且该二点持续逐渐地接近。
ti | t1 | t2 | t3 | t4 | t5 | t6 | t7 |
Xti | 13 | 13 | 12 | 13 | 15 | 13 | 13 |
Yti | 31 | 74 | 39 | 68 | 50 | 45 | 82 |
Ati | 84 | 98 | 112 | 145 | 167 | 192 | 768 |
表六(判断实例六)
上表为实例六,揭露于预定时段内(t1至t6,t6至t7)所侦测的(x,y,A)值,而对应图7a以及7b、7c分别为单点触控面板11的触控点变化以及处理器13依照判断标准15运作时的判断结果。细言之,当于预定时段内(约40-50毫秒),处理器13侦测到如上表的值时,则判断于t1至t6间,其为二点接触且该二点位于该线性区域的端点或该线性区域的延伸线上,如图7b所示,以及判断于该预定时段后(t7之后)该二点仅其中之一继续接触该单点触控面板,如图7c所示。此乃因该处理器于该预定时段内侦测到该位置大致于线性区域内变动且该面积参数落在该预定准位范围内(如约小于200),此代表于该预定时段内该接触操作为二点接触,而于该预定时段后该位置位于该线性区域的一端点且该面积参数落在该预定准位范围外(如约大于200),此代表于该预定时段后该接触操作仅为单点接触,且该单点接触的位置即在(Xt7,Yt7),故该处理器判断于该预定时段内该接触操作为二点接触且该二点其中之一位于该线性区域的该端点(Xt7,Yt7),该二点的另外一点位于该线性区域的另一端点(Xt1,Yt1)上或位于由(Xt1,Yt1)往该线性区域外延伸的延伸线上,以及判断于该预定时段后该二点仅其中之一,即(Xt7,Yt7),继续接触该单点触控面板。
在二点接触的情况下,因为单点触控面板11所侦测到的位置乃二个实际接触点之间的一个平衡位置,至于该平衡位置离该二个实际接触点的远近,则视该二个实际接触点于单点触控面板11上所施加的力量大小而定。当二个实际接触点于单点触控面板11上所施加的力量越接近,平衡位置也就越接近二个实际接触点之间的中间位置。当二个实际接触点于单点触控面板11上所施加的力量相差越大,平衡位置也就相对越接近施力较大的实际接触点,而相对越远离施力较小的另一实际接触点。另外,当二个实际接触点先后接触单点触控面板11时,第一个实际接触点先接触到单点触控面板11时,单点触控面板11所侦测到的位置即为第一个实际接触点的实际位置,而后第二个实际接触点再接触到单点触控面板11时,单点触控面板11所侦测到的位置则为第一个实际接触点与第二个实际接触点共同造成之平衡位置。只要第一个实际接触点与第二个实际接触点施加在单点触控面板11上的力量不同,单点触控面板11所侦测到的平衡位置即会在二个实际接触点的实际位置之间移动。在此情形下,第一个实际接触点的实际位置即形成前述线性区域的其中一个端点,而第二个实际接触点的实际位置则会位于该线性区域的另一个端点往外延伸的延伸线上,此乃因该线性区域的另一个端点为第一个实际接触点(即线性区域的其中一个端点)与第二个实际接触点共同造成的平衡位置,故该线性区域的另一个端点位于第一个实际接触点(即线性区域的其中一个端点)与第二个实际接触点之间,即第二个实际接触点并不在前述线性区域内。若二个实际接触点乃同时接触到单点触控面板11,则单点触控面板11所侦测到的所有位置则都为二个实际接触点共同造成的平衡位置,而各该平衡位置必在二个实际接触点的实际位置之间,故二个实际接触点的实际位置分别在所有平衡位置所形成的线性区域范围往外延伸的延伸线上。在实例六中,由前述说明可判断出,而于t7之后,第一个实际接触点(Xt1,Yt1)离开单点触控面板11,仅剩第二个实际接触点(Xt7,Yt7)继续接触单点触控面板11。
ti | t1 | t2 | t3 | t4 | t5 | .. | tn |
Xti | 73 | 62 | 50 | 39 | 26 | .. | .. |
Yti | 26 | 38 | 50 | 62 | 74 | .. | .. |
Ati | 160 | 158 | 159 | 163 | 162 | .. | .. |
表七(判断实例七)
上表为实例七,揭露于预定时段内所侦测的(x,y,A)值,而对应图8a、8b,分别为单点触控面板11的触控点变化、以及处理器13依照判断标准15运作时的判断结果。细言之,当于预定时段内(约40-50毫秒),处理器13侦测到如上表的值时,则判断其为该接触操作为二点接触,该二点相对距离大致未改变且该二点大致同时朝一个方向移动,如图8b所示。此乃因该处理器13于该预定时段内侦测到该接触点X轴座标值与该Y轴座标值至少其中之一持续增加或减少,于本实例中乃X轴座标值持续减少而Y轴座标值持续增加,此代表于该预定时段内触控点大致朝某方向移动,侦测该面积参数A大致未改变且落在该预定准位范围(约小于200)内,此代表于该预定时段内该接触操作为二点接触而该二点的相对距离大致未改变,故该处理器13判断该接触操作为二点接触,该二点相对距离大致未改变且该二点大致同时朝一个方向移动。
由于上述关于实施方式的揭露,得以达成本发明前述的发明目的。所得到的每一判断结果可以对应启动一对应功能。
综合以上对系统10的说明,本发明的方法可重新归纳如下。即一种以单点触控面板11侦测多点接触的方法,该单点触控面板11输出一讯号113以对应一接触操作111,该方法包含:
处理该讯号113以判断该触控面板11上受到该接触操作的位置(x,y);以及依据判断标准15,于预定时段内侦测该位置的变化,以判断该接触操作111为单点接触或多点接触。并由判断的结果,启动对应的功能。
而详细的实例或操作可参考上述对系统10的说明,于此不再赘述。
由以上较佳具体实施方式的详述,希望能更加清楚描述本发明的特征与精神,而并非以上述所揭露的较佳具体实施方式来对本发明的权利要求范围加以限制。相反地,其目的是希望能涵盖各种改变及具相等性的安排于本发明所欲申请的权利要求的范围内。
Claims (16)
1.一种触控系统,包含:
单点触控面板,当该单点触控面板受到接触操作时输出讯号;以及
处理器,处理该讯号以判断该单点触控面板上受到该接触操作的位置;
其中,该处理器设有判断标准,于预定时段内侦测该位置的变化,并根据该判断标准判断该接触操作为单点接触或多点接触。
2.如权利要求1所述的触控系统,其特征在于:该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置未改变时,该处理器判断该接触操作为单点接触;或者当该处理器于该预定时段内侦测到该位置在一个区域内变动时,该处理器判断该接触操作为多点接触。
3.如权利要求2所述的触控系统,其特征在于:该判断标准包含:当该区域成线形时,该处理器判断该多点接触为二点接触;或者当该区域为多边形时,该处理器判断该多点接触为至少三点接触。
4.如权利要求1所述的触控系统,其特征在于:该判断标准包含:该处理器还通过该讯号以计算参数,并通过该参数以判断该接触操作为单点接触或多点接触,该参数对应该单点触控面板因受到接触而受影响的面积。
5.如权利要求4所述的触控系统,其特征在于:该判断标准包含:设置预定准位,当该参数落在该预定准位范围内时,该处理器判断该接触操作为多点接触;否则,该处理器判断该接触操作为单点接触。
6.如权利要求5所述的触控系统,其特征在于:该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动,且该参数持续落在该预定准位范围内且呈现出受影响的该面积持续增加时,该处理器判断该多点接触系二点接触,且该二点持续逐渐地远离;或者当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动,该参数持续落在该预定准位范围内且呈现出受影响的该面积持续减少时,该处理器判断该多点接触为二点接触,且该二点持续逐渐地接近。
7.如权利要求5所述的触控系统,其特征在于:该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动且该参数落在该预定准位范围内,而于该预定时段后该位置位于该线性区域的一个端点且该参数落在该预定准位范围外时,该处理器判断于该预定时段内该接触操作为二点接触且该二点中的一点位于该线性区域的该端点,该二点的另外一点位于该线性区域的另一端点或该线性区域的延伸线上,以及判断于该预定时段后该二点仅有其中一点继续接触该单点触控面板。
8.如权利要求5所述的触控系统,其特征在于:该位置以X轴座标值与Y轴座标值表示,其中该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该X轴座标值与该Y轴座标值至少其中之一持续增加或减少,该参数未改变且落在该预定准位范围内时,该处理器判断该接触操作为二点接触,该二点相对距离未改变且该二点同时朝一个方向移动。
9.一种以单点触控面板侦测多点接触的方法,当该单点触控面板受到接触操作时输出讯号,该方法包含:
处理该讯号以判断该触控面板上受到该接触操作的位置;以及
根据判断标准,于预定时段内侦测该位置的变化,以判断该接触操作为单点接触或多点接触。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于:该判断标准包含:当于该预定时段内侦测到该位置未改变时,判断该接触操作为单点接触;或者当于该预定时段内侦测到该位置于该触控面板上的区域内变动时,判断该接触操作为多点接触。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于:该判断标准包含:当该区域成线性时,判断该多点接触为二点接触;或者当该区域为多边形时,判断该多点接触为至少三点接触。
12.如权利要求9所述的方法,其特征在于:该判断标准包含:进一步通过该讯号以计算参数,并通过该参数以判断该接触操作为单点接触或多点接触,该参数对应该触控面板因受到接触而受影响的面积。
13.如权利要求12所述的方法,其特征在于:该判断标准包含:设置预定标准方位,当该参数落在该预定准位范围内时,判断该接触操作为该多点接触;否则,判断该接触操作为该单点接触。
14.如权利要求13所述的方法,其特征在于:该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动,且该参数持续落在该预定准位范围内且呈现出受影响的该面积持续增加时,该处理器判断该多点接触为二点接触,且该二点持续逐渐地远离;或者当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动,该参数持续落在该预定准位范围内且呈现出受影响的该面积持续减少时,该处理器判断该多点接触为二点接触,且该二点持续逐渐地接近。
15.如权利要求13所述的方法,其特征在于:该判断标准包含:当该处理器于该预定时段内侦测到该位置于线性区域内变动且该参数落在该预定准位范围内,而于该预定时段后该位置位于该线性区域的一个端点且该参数落在该预定准位范围外时,该处理器判断于该预定时段内该接触操作为二点接触且该二点中的一点位于该线性区域的该端点,该二点的另外一点位于该线性区域的另一端点或该线性区域的延伸线上,以及判断于该预定时段后该二点中仅有一点继续接触该单点触控面板。
16.如权利要求13所述的方法,其特征在于:该位置以X轴座标值与Y轴座标值表示,其中该判断标准包含:当于该预定时段内侦测到该X轴座标值与该Y轴座标值至少其中一个持续增加或减少,该参数未改变且落在该预定准位范围内时,判断该接触操作二点接触,该二点相对距离未改变且该二点同时朝一个方向移动。
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