CN101818810A - 用在除尘器管道中的双层密封提升阀 - Google Patents

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CN101818810A CN201010100438.9A CN201010100438A CN101818810A CN 101818810 A CN101818810 A CN 101818810A CN 201010100438 A CN201010100438 A CN 201010100438A CN 101818810 A CN101818810 A CN 101818810A
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陈松
陈志伟
李东
黄小林
陆永兵
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Abstract

本发明公开了一种密封效果好的用在除尘器管道中的双层密封提升阀,包括:提升阀座,设置在提升阀座内的阀杆,阀杆的下端穿过上阀盖中的安装孔伸入到阀体内,在阀杆的下端设置有下阀盖,下阀盖与设置在阀体内的下挡圈相互配合,上阀盖与设置在阀体上端的上挡圈相互配合,在上阀盖与下阀盖之间设置有弹簧,弹簧的上端与上阀盖相连接,弹簧的下端与下阀盖相连接。其优点是:上述结构的用在除尘器管道中的双层密封提升阀,结构简单,实用可靠,阀盖与阀体之间可以形成两道密封,密封效果好,气体不容易发生泄露。

Description

用在除尘器管道中的双层密封提升阀
技术领域
本发明涉及一种除尘器,尤其涉及一种用在除尘器管道中的双层密封提升阀。
背景技术
目前用在除尘器管道中的提升阀使用时,阀盖与阀体通过阀杆行程限位达到单层密封,密封效果难以保证,容易出现漏气现象。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种密封效果好的用在除尘器管道中的双层密封提升阀。
为了解决上述技术问题,本发明的技术方案为:用在除尘器管道中的双层密封提升阀,包括:提升阀座,设置在提升阀座内的阀杆,阀杆的下端穿过上阀盖中的安装孔伸入到阀体内,在阀杆的下端设置有下阀盖,下阀盖与设置在阀体内的下挡圈相互配合,上阀盖与设置在阀体上端的上挡圈相互配合,在上阀盖与下阀盖之间设置有弹簧,弹簧的上端与上阀盖相连接,弹簧的下端与下阀盖相连接。
为了更好地解决上述技术问题,本发明的进一步技术方案为:在所述的上阀盖与上挡圈之间设置上密封圈,在所述的下阀盖下挡圈之间设置有下密封圈。
本发明的优点是:上述结构的用在除尘器管道中的双层密封提升阀,结构简单,实用可靠,阀盖与阀体之间可以形成两道密封,密封效果好,气体不容易发生泄露。
附图说明
图1为本发明用在除尘器管道中的双层密封提升阀的结构示意图。
图中:1、提升阀座,2、阀杆,3、上阀盖,4、安装孔,5、阀体,6、下阀盖,7、下挡圈,8、上挡圈,9、弹簧,10、上密封圈,11、下密封圈。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例详细描述一下本发明的具体内容。
如图1所示,用在除尘器管道中的双层密封提升阀,包括:提升阀座1,设置在提升阀座1内的阀杆2,阀杆2的下端穿过上阀盖3中的安装孔4伸入到阀体5内,在阀杆2的下端设置有下阀盖6,下阀盖6与设置在阀体5内的下挡圈7相互配合,上阀盖3与设置在阀体5上端的上挡圈8相互配合,在上阀盖3与下阀盖6之间设置有弹簧9,弹簧9的上端与上阀盖3相连接,弹簧9的下端与下阀盖6相连接。在所述的上阀盖3与上挡圈8之间设置上密封圈10,在所述的下阀盖6与下挡圈7之间设置有下密封圈11。
如图1所示,当需要关闭双层密封提升阀时,阀杆2带动下阀盖6、弹簧9和上阀盖3一起向下运动,上阀盖3先与上挡圈8相互配合形成一道密封圈,阀杆2带动下阀盖6拉伸弹簧9继续向下运动,使下阀盖6与下挡圈7相互配合形成第二道密封圈,然后阀杆2停止运动,就可以对A向通过的气体进行阻隔,密封效果好,气体不容易发生泄露。当需要打开密封提升阀时,阀杆2带动下阀盖6、弹簧9和上阀盖3一起向上运动,使下阀盖6与下挡圈7相互分离,上阀盖3与上挡圈8相互分离,使气体顺利通过阀体5。

Claims (2)

1.用在除尘器管道中的双层密封提升阀,其特征在于:包括:提升阀座(1),设置在提升阀座(1)内的阀杆(2),阀杆(2)的下端穿过上阀盖(3)中的安装孔(4)伸入到阀体(5)内,在阀杆(2)的下端设置有下阀盖(6),下阀盖(6)与设置在阀体(5)内的下挡圈(7)相互配合,上阀盖(3)与设置在阀体(5)上端的上挡圈(8)相互配合,在上阀盖(3)与下阀盖(6)之间设置有弹簧(9),弹簧(9)的上端与上阀盖(3)相连接,弹簧(9)的下端与下阀盖(6)相连接。
2.按照权利要求1所述的用在除尘器管道中的双层密封提升阀,其特征在于:在所述的上阀盖(3)与上挡圈(8)之间设置上密封圈(10),在所述的下阀盖(6)与下挡圈(7)之间设置有下密封圈(11)。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20100901