CN101738855B - 二自由度柔性微定位工作台 - Google Patents

Abstract

本发明公开了二自由度柔性微定位工作台，包括二自由度柔性微定位工作台柔性机构及整体结构的设计，结构中采用两个压电陶瓷驱动器，每个驱动器尾部通过螺栓与基座相连，顶端通过螺纹连接球形接头，实现赫兹接触。定位工作台的柔性机构主要包括基座、两个结构完全一致的柔性支链及其支撑的动平台三部分。两个位移传感器用来测量动平台的实际输出，分别通过L型支架和Z型支架固定于基座和动平台之间。此柔性微定位工作台具有分辨率高、动态响应速度快的特点，可作为纳米压印光刻定位系统的辅助定位平台，实现微量进给和精密定位。

Description

二自由度柔性微定位工作台

技术领域

本发明涉及一种微操作系统，具体涉及一种可应用于压印光刻系统的具有两个平动自由度的柔性并联微定位工作台。

背景技术

纳米器件包括纳米电子器件和纳米光电器件，可广泛应用于电子学、光学、微机械装置、新型计算机等，是当今新材料与新器件研究领域中最富有活力的研究领域，也是元器件小型化、智能化、高集成化等的主流发展方向。纳米器件由于具有潜在的巨大市场和国防价值，使得其设计和制造的方法、途径、工艺等成为众多科学家、政府和大型企业研究和投资的热点。目前，纳米器件的设计与制造正处于一个飞速发展时期，方法多种多样，图形化技术就是其中之一。

纳米压印光刻技术是人们在探索更方便、价廉的设计和制备纳米器件的过程中开发出来的图形化技术，用于纳米图形复制并可用来制作三维纳米结构。与其它光刻技术相比，纳米压印技术具有分辨率高、制作成本低、生产效率高的优点，已成为下一代32纳米工艺的关键技术。具有极大潜在的竞争力和广阔的应用前景。在国内外纳米压印技术发展过程中，已逐渐形成了三大主流技术：软压印技术、热压印技术、紫外压印技术。热压印技术可以弥补软压印工艺中弹性模板材料容易变形的不足，且加工效率比较高，但热压印过程中，光刻胶经过高温、高压、冷却的变化过程，脱模后产生的压印图形常会出现变形现象，不易进行多次或三维结构的压印。与前两者相比，紫外压印技术对环境要求较低，仅在室温和低压力下就可以进行，提高了压印精度。同时由于模板材料采用透明石英玻璃，易于实现模板与基片之间的对准，这使得紫外压印技术更适合于多次压印。除此以外，模板使用周期长以及适于批量生产也是紫外压印技术的主要优点。这些特点都使得紫外压印技术在IC制造领域具有不可替代的优越性。

压印过程看似简单，但要得到较高的压印精度，则需要从多个方面综合考虑。压印过程中要做到尽可能保证模板与基片的平行，使得模板与基片能够均匀的接触。若模板和基片不平行，将得到锲形的留模，甚至模板的一端直接接触基片。如果锲形留模的厚度超过压印特征的高度，那么在后续的干法等厚刻蚀时就会将特征刻蚀掉。同时模板与基片的不平行也将会导致下压时模板与基片的相对滑移，发生侧向扩张，影响压印精度。另外，在起模时也会对压印特征造成破坏。因此压印过程中必须保证模板与基片的平行度，即模板与基片的均匀接触。压印光刻系统结构一般包括以下主要部件：①下压机构；②承载台；③精密定位工作台；④用于固化光刻胶的紫外光光源等，其中精密定位工作台是压印光刻系统的关键部分，由它保证模板与基片平行且能够均匀接触，使相对滑动尽可能的小，这样才能保证两者之间的定位精度，保证压印精度和压印质量。

现有的纳米压印设备中末端执行件(模板和基片承载台)平行度的调整大多采用被动方式，即通过基片(或模板)承载台柔性环节变形来保证两者之间的平行度。例如B.J.Choi等，步进闪光压印光刻定位平台的设计，Precision Engineering，2001年25卷3期，192-199(B.J.Choi，S.V.Sreenivasan，S.Johnson，M.Colburn，C.G.Wilson，Design of orientationstage for step and flash imprint lithography，Precision Engineering，2001，25(3)：192-199.)、Jae-Jong Lee等，用于制备100nm线宽特征的纳米压印光刻设备的设计与分析，CurrentApplied Physics，2006年第6期，1007-1011(Jae-Jong Lee，Kee-Bong Choi，Gee-Hong Kim，Design and analysis of the single-step nanoimprinting lithography equipment for sub-100nmlinewidth，Current Applied Physics 2006，6：1007-1011.)、Jae-Jong Lee等，用于制备50nm半倾斜特征的紫外压印光刻多头纳米压印单元，SICEICASE International Joint Conference，2006年，4902-4904(Jae-Jong Lee，Kee-Bong Choi，Gee-Hong Kim et al，The UV-NanoimprintLithography with Multi-head nanoimprinting Unit for Sub-50nm Half-pitch Patterns，SICEI-CASE International Joint Conference 2006，4902-4904.)中就报道了此种类型的设备及相关技术；也有些研究者采用被动适应、主动找平及手工调整相结合的方式，如：范细秋等，宽范围高对准精度纳米压印样机的研制，中国机械工程，2005年，16卷增刊，64-67、严乐等，冷压印光刻工艺精密定位工作台的研制，中国机械工程，2004年，15卷1期，75-78.中报道的此类精密定位工作台设计；而另一些研究者则另辟新径，比如，董晓文等，气囊气缸式紫外纳米压印系统的设计，半导体光电，2007年，28卷5期，676-684.中介绍的技术。这些已有的技术中，自适应调整精密定位系统虽然结构简单、结构紧凑、成本低廉，但它的定位精度，尤其平行度的调整精度较低，从而限制了加工精度和质量的提高。虽然通过主动找平和手工调整机构，在一定程度上可以提高压印模板和基片的平行度，但不能补偿压印过程中由于压印力不均匀而导致的模板和基片的平行度误差。气囊气缸式压印系统克服了压印过程中硅胶易伸张变形，压印力分布不均匀，模板易破裂等不足但其真空室的设计使用费用昂贵且压印时间过长。基于上述精密定位系统的不足，具有新型机构形式和控制方法的主动调整型精密定位系统的研制，对促进IC加工技术的发展具有重要的理论意义和工程实用价值。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种末端执行件具有在水平面内两个平动自由度主动调整能力，可以完成压印光刻过程中的微量进给和精密定位的二自由度柔性微定位工作台。

本发明解决现有技术问题的技术方案是：

本发明的二自由度柔性微定位工作台，它包括基座和设置在所述的基座内的正方体动平台，在动平台第一组垂直相邻的两个侧壁上各自连接有一个柔性支链并且在其第二组垂直相邻的两个侧壁上分别连接有第一、二支架，在基座的两个侧壁端面上分别连接有第三、四支架，所述的基座的两个侧壁与所述的动平台第二组垂直相邻的两个侧壁分别平行，所述的第一支架的一端与第三支架的一端彼此相对设置，所述的第二支架的一端与第四支架的一端彼此相对设置，在所述的第一支架与第三支架彼此相对的面上各自安装有第一电容式位移传感器的一个导电片，在所述的第二支架与第四支架彼此相对的面上各自安装有第二电容式位移传感器的一个导电片，每一所述的柔性支链包括第一、二、三并联柔性单元、刚性移动块和形驱动环节，所述的第一、二、三并联柔性单元为由第一、二两个串联柔性单元并联后组成的柔性平行四边形结构，所述的刚性移动块的左右两端分别与第一、二并联柔性单元的一端彼此垂直相连，所述的第一、二并联柔性单元的另一端分别与基座的内壁彼此垂直相连，所述的第三并联柔性单元的一端与所述的动平台第一组垂直相邻的两个侧壁中的一个侧壁彼此垂直相连并且其另一端与所述的刚性移动块的上端侧壁彼此垂直相连，所述的

形驱动环节的两个末端分别与第三、四串联柔性单元的一端侧壁垂直相连，所述的第三、四串联柔性单元的另一端侧壁分别与第一、二并联柔性单元中与其相邻设置的第一串联柔性单元的中部垂直相连，所述的第一至第四串联柔性单元结构一致并且均为在其两个相对端的每端分别对称的设置有两个半圆形凹槽的矩形块结构，两个压电陶瓷驱动器尾部均由螺栓固联于基座上并且其前端通过螺纹连接有球形接头，所述的球形接头顶在所述的形驱动环节中部侧壁上。

与现有技术相比，本发明具有如下显著优点：

本发明设计的微定位工作台，其柔性机构可利用线切割一体化加工技术整体加工而成，免于装配、无间隙、无摩擦、不需润滑，利于实现微纳米级高精度定位。

本发明设计的微定位工作台，采用柔性并联结构，具有高刚度、高精度、低惯量、结构紧凑、无误差积累等优点。

本发明设计的微定位工作台，采用单自由度柔性铰链作为传动机构，具有无机械摩擦、无间隙的优点。另外，本发明基于材料的弹性变形，柔性铰链所产生的转角以及执行器末端工作空间均很微小，可以有效消除并联机构固有的非线性等缺点。

本发明设计的微定位工作台采用压电陶瓷驱动器推动驱动环节实现压印光刻过程中模板和基片间水平面内相对位置的主动调整。可作为纳米压印光刻定位系统的辅助定位平台，实现微量进给和精密定位。

附图说明

图1是本发明的二自由度柔性微定位工作台柔性机构示意图

图2是本发明的二自由度柔性微定位工作台整体结构示意图

其中：1、单自由度半圆凹槽柔性铰链 2、基座 3、

形驱动环节 4、串联柔性单元 5、刚性移动块 6、动平台 7、并联柔性单元 8、球形接头 9、压电陶瓷驱动器 10、L型支架 11、位移传感器 12、Z型支架

具体实施方式

以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提供的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下。

参见图1-2所示的本发明的二自由度柔性微定位工作台，它包括基座2和设置在所述的基座内的正方体动平台6，在所述的动平台6的第一组相邻的两个垂直侧壁上分别连接有一个柔性支链并且在其第二组垂直相邻的两个侧壁上各自分别连接有第一、二支架12，在基座的两个侧壁端面上分别连接有第三、四支架10，所述的基座的两个侧壁与所述的动平台6第二组垂直相邻的两个侧壁分别平行，所述的第一支架12的一端与第三支架10的一端彼此相对设置，所述的第二支架12的一端与第四支架10的一端彼此相对设置，在所述的第一支架12与第三支架10彼此相对的端面上各自分别安装有第一电容式位移传感器11的一个导电片，在所述的第二支架12与第四支架10彼此相对的面上各自分别安装有第二电容式位移传感器11的一个导电片。位移传感器11用于检测动平台6的两个运动输出。每一所述的柔性支链包括第一、二、三并联柔性单元7、刚性移动块5和形驱动环节3，所述的第一、二、三并联柔性单元为由第一、二两个串联柔性单元4并联后组成的柔性平行四边形结构，所述的刚性移动块5的左右两端分别与第一、二并联柔性单元7的一端彼此垂直相连，所述的第一、二并联柔性单元的另一端分别与基座的内壁彼此垂直相连。所述的第三并联柔性单元的一端与所述的动平台6第一组垂直相邻的两个侧壁中的一个侧壁彼此垂直相连并且其另一端与所述的刚性移动块5的上端侧壁彼此垂直相连。刚性移动块5通过所述的第一、第二和第三并联柔性单元7支撑，其中第一、二两个并联柔性单元7分布于刚性移动块5的左右两侧并且其末端与基座1相连，而第一、二两个并联柔性单元7中部与第三、四串联柔行单元4垂直相连，起到驱动及支撑刚性移动块5的作用；第三并联柔性单元7连接于动平台6和刚性移动块5之间，实现运动的传递。所述

形驱动环节3的两个末端分别与第三、四串联柔性单元4的一端侧壁相连，所述的第三、四串联柔性单元4的另一端侧壁分别与第一、二并联柔性单元中与其相邻设置的第一串联柔性单元的中部垂直相连，所述的第一至第四串联柔性单元结构一致，均为在其两个相对端的每端分别对称的设置有两个半圆形凹槽的矩形块结构。其中每端的两个半圆形凹槽的两个半圆弧面之间形成的区域构成单自由度半圆凹槽柔性铰链1，对于一个矩形块结构具有两个单自由度半圆凹槽柔性铰链1。为了避免两个压电陶瓷驱动器9与柔性机构

形驱动环节3在工作过程中脱离，压电陶瓷驱动器9尾部通过连接在孔21内的螺栓与基座2相连，以过盈装配方式安装在柔性机构

形驱动环节3和基座2之间，实现预紧；压电陶瓷驱动器9顶端通过螺纹安装球形接头8，所述的球形接头8顶在与所述的

形驱动环节3中部侧面上，使驱动器与驱动点之间形成小面积的赫兹接触。

所述的第一支架为与动平台6相连的Z型支架12、所述的第二支架为与基座2刚性连接的L型支架10，所述的Z型支架12和L型支架10的一端彼此相对设置。如图1，L型支架10通过两组孔22分别与基座2的两端螺纹连接，Z型支架12通过两组孔61分别螺纹连接于动平台6的两个相互垂直的侧面上，这两个侧面分别与连接柔性支链的动平台6的另两个面相对。

为了提高本工作台的控制精度，本工作台还可以包括一个计算机，所述的计算机用于输出电压信号给两个压电陶瓷驱动器9，读取所述的第一、二位移传感器11输出的位移信号并与计算机中的设定值比较后输出位移补偿电压控制信号给所述的第一、二压电陶瓷驱动器9。

位移传感器11可以选用2个PI公司研制的D-050型号超高分辨率电容式位移传感器，用来检测动平台6的实际输出。

此柔性微定位工作台中除了两对L形支架10和Z形支架12以及压电陶瓷驱动器9和球形接头8之外的其他结构可以由整块材料利用线切割(WEDM)整体加工技术一体化加工而成。

本装置的工作过程如下：

请参见图1～2，计算机控制两通道的放大器提供压电陶瓷驱动器9伸缩所需的电流。压电陶瓷驱动器发生伸长(或缩短)推动

形驱动环节3，进而使得柔性支链上的各个单自由度柔性铰链1产生相应的弯曲弹性变形，从而使得动平台6根据所提供的控制信号发生运动。

此二自由度精密定位工作台具有两个平动自由度(即水平面内沿x方向，y方向的移动)，这里假设在工作台水平面内沿动平台6左右边缘中线为x轴，而上下边缘中线为y轴，那么微定位工作台的两个平动自由度的实现方式分别为：(1)沿x方向的平动：计算机控制二通道的放大器提供正(反)向驱动电流给位于动平台6右侧柔性驱动支链中的压电陶瓷驱动器9，(为了方便，这里称为右压电陶瓷驱动器)，位于动平台下侧的压电陶瓷驱动器9(为了方便，这里称为下压电陶瓷驱动器)不驱动，那么所述的右压电陶瓷驱动器9发生伸长(或缩短)，推动其前端的驱动环节3发生沿x方向的移动，经后续的由多个单自由度柔性铰链1构成的柔性支链的传递，将此平动动作传递给动平台6，使其发生沿x轴方向的平动。(2)沿y方向的平动：计算机控制二通道的放大器提供正(反)向驱动电流给下压电陶瓷驱动器9，而右压电陶瓷驱动器9不驱动，那么所述的下压电陶瓷驱动器9发生伸长(或缩短)，推动其前端的驱动环节3发生沿y方向的移动，经后续的由多个单自由度柔性铰链1构成的柔性支链的传递，将此平动动作传递给动平台6，使其发生沿y轴方向的平动。

为了克服压电陶瓷驱动器9的迟滞现象的影响，二个高精度的电容式位移传感器11在动平台6运动过程中，实时的检测动平台6的实际输出，并形成闭环控制系统。利用建立的模型在线计算动平台6的定位误差，并把补差电压实时施加到压电陶瓷驱动器9上。一个快速16位的多通道D/A和A/D转换器分别用来实现模拟信号和数字信号之间的转换。

所发明的二自由度微定位工作台可作为纳米压印光刻定位系统的辅助定位平台，实现快速微量进给和精密定位。

Claims (3)

1.二自由度柔性微定位工作台，它包括基座和设置在所述的基座内的正方体动平台，在动平台第一组垂直相邻的两个侧壁上各自连接有一个柔性支链并且在其第二组垂直相邻的两个侧壁上分别连接有第一、二支架，在基座的两个侧壁端面上分别连接有第三、四支架，所述的基座的两个侧壁与所述的动平台第二组垂直相邻的两个侧壁分别平行，所述的第一支架的一端与第三支架的一端彼此相对设置，所述的第二支架的一端与第四支架的一端彼此相对设置，在第一支架与第三支架彼此相对的面上各自安装有第一电容式位移传感器的一个导电片，在第二支架与第四支架彼此相对的面上各自安装有第二电容式位移传感器的一个导电片，每一所述的柔性支链包括第一、二、三并联柔性单元、刚性移动块和

形驱动环节，所述的第一、二、三并联柔性单元各自为由第一、二两个串联柔性单元并联后组成的柔性平行四边形结构，所述的刚性移动块的左右两端分别与第一、二并联柔性单元的一端彼此垂直相连，所述的第一、二并联柔性单元的另一端分别与基座的内壁彼此垂直相连，所述的第三并联柔性单元的一端与所述的动平台第一组垂直相邻的两个侧壁中的一个侧壁彼此垂直相连并且其另一端与所述的刚性移动块的上端侧壁彼此垂直相连，所述的形驱动环节的两个末端分别与第三、四串联柔性单元的一端侧壁垂直相连，所述的第三、四串联柔性单元的另一端侧壁分别与第一、二并联柔性单元中与其相邻设置的第一串联柔性单元的中部垂直相连，所述的第一至第四串联柔性单元结构一致并且均为在其两个相对端的每端分别对称的设置有两个半圆形凹槽的矩形块结构，其中每端的两个半圆形凹槽的两个半圆弧面之间形成的区域构成单自由度半圆凹槽柔性铰链，对于一个矩形块结构具有两个单自由度半圆凹槽柔性铰链，两个压电陶瓷驱动器尾部均由螺栓固联于基座上并且其前端通过螺纹连接有球形接头，所述的球形接头顶在所述的

形驱动环节中部侧壁上以使驱动器与驱动点之间形成小面积的赫兹接触。

2.根据权利要求1所述的二自由度柔性微定位工作台，其特征在于：所述的第一，二支架为与动平台相连的Z型支架、所述的第三，四支架为与基座刚性连接的L型支架，所述的Z型支架和L型支架的一端彼此相对设置。

3.根据权利要求1所述的二自由度柔性微定位工作台，其特征在于：它还包括一个计算机，所述的计算机用于输出电压信号给两个压电陶瓷驱动器，读取所述的第一、二电容式位移传感器输出的位移信号并与计算机中的设定值比较后输出位移补偿电压控制信号给所述的第一、二压电陶瓷驱动器。

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