CN101708351A - 手术切口表面冲洗引流管 - Google Patents

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王书军
李桂兰
冯虎
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Abstract

本发明为手术切口表面冲洗引流管,属于医用器械,主要包括引流管和透明贴膜,特点是引流管上开有通孔,外部包覆有医用海绵,引流管的两端部加装带有塞堵的外接口,引流管的管腔内壁上纵向设置有棱嵴。手术后不必更换,即能清理切口渗血、渗液,又能完成局部消毒,还可以保持切口负压,避免了患者术后换药痛苦,减少医生换药工作量。具有结构简单、使用方便的效果,可根据切口表面形状任意弯曲,同时便于切口观察。

Description

手术切口表面冲洗引流管
技术领域
本发明涉及医用器械,特别是一种外科手术切口表面覆盖材料
背景技术
目前无菌脱脂纱布是外科最常用覆盖手术切口的敷料。手术切口的渗血渗液十分常见,纱布敷料容易被血液或组织液渗透,渗透后必须及时更换,以减少感染机会。频繁换药无疑给外科医生增加了很大工作量,换药也增添了患者痛苦,加重了患者经济负担,同时产生较多的医疗废弃物,另外,纱布敷料遮盖伤口周围皮肤不便于切口周围血运和局部积液、积血的的观察。
发明内容
本发明的目的在于提供一种手术后不必更换,即能清理切口渗血、渗液,又能完成局部消毒的手术切口表面冲洗引流管。
本发明是这样实现的:
手术切口表面冲洗引流管,主要包括由医用硅胶管制作的引流管和透明贴膜,其特征在于:所述引流管外部包覆有医用海绵,该医用海绵包覆的引流管处开有通孔;所述引流管的两端部加装有外接口,外接口处设置有塞堵;所述引流管的管腔内壁上纵向设置有棱嵴。
本发明采用上述结构后,手术结束切口缝合后,放置于手术切口表面,可方便清理、冲洗切口渗液,材质柔软,吸水性高,即能清理切口渗液,清洁消毒手术切口,避免增加患者换药痛苦,还可以保持切口负压,具有结构简单、使用方便的效果,可根据切口表面形状任意弯曲,避免了不断不必揭开、更换敷料,减轻了外科医生工作量,减少了患者换药时痛苦和经济负担,同时便于切口观察。
附图说明
图1为本发明的结构示意图,图2为为本发明中间段横截面结构示意图,图3为使用状态参考图。
附图中,1为引流管、2为透明贴膜、3为医用海绵、4为通孔、5为塞堵、6为棱嵴。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的实施例作详细说明。
如图1所示,本发明为一种新型的手术切口表面清理、冲洗装置,主要包括引流管1和医用透明贴膜2,透明贴膜2由聚氨酯制作而成,可有效贴附皮肤15天以上,防止细菌透过。引流管1由医用硅胶管制作而成,两端部设有可与注射器、输液器或负压引流球相接的外接口,外接口处设置有封闭用塞堵5。如图2所示,引流管1的管腔内壁上纵向设置有多条隆起的棱嵴6,棱嵴6一般设置为3-6条,沿引流管1横截面均匀分布,防止引流管1弯曲时管腔发生闭塞。如图1所示,所述引流管1的中部外侧包覆有医用海绵3,医用海绵3包覆的引流管1处开有通孔4,通孔4沿引流管1管壁均匀分布。医用海绵3包覆的引流管1,柔软可任意弯曲,并按长度分多种型号。所述透明贴膜2贴附在医用海绵3外侧。
临床研究已表明:负压引流技术有利于创面愈合。使用时,如图3所示,所以临床需要一种不用揭开更换敷料,即能清理切口渗液,清洁消毒手术切口,避免增加患者换药痛苦,并方便切口观察,还可以保持切口负压的一种新的手术切口覆盖方法。
如图3所示,将长度合适的引流管1按照切口形状放置于表面,医用透明贴膜2覆盖表面密封。当切口有渗血或组织液渗出时,医用海绵3被浸透。使用时,打开引流管1两端塞堵5,一端用注射器将无菌生理盐水注入,另一端用注射器抽吸,可以将切口表面的渗出物冲洗引流干净;冲洗洁净后可推入新洁尔灭或酒精等消毒液,进行切口表面消毒,最后关闭引流管1一端,另一端通过通过抽吸抽出多余消毒液,维持负压情况下关闭引流管1,完成切口表面渗液的冲洗引流和表面消毒。医用透明贴膜2可以方便及时地观察皮肤血运状况和是否有切口积液的发生,可一直保留到切口愈合拆线。

Claims (4)

1.手术切口表面冲洗引流管,主要包括由医用硅胶管制作的引流管(1)和透明贴膜(2),其特征在于:所述引流管(1)外部包覆有医用海绵(3),该医用海绵(3)包覆的引流管(1)处开有通孔(4);所述引流管(1)的两端部加装有外接口,外接口处设置有塞堵(5);所述引流管(1)的管腔内壁上纵向设置有棱嵴(6)。
2.根据权利要求1所述的手术切口表面冲洗引流管,其特征在于:所述医用海绵(3)包覆在引流管(1)的中部。
3.根据权利要求1或2所述的手术切口表面冲洗引流管,其特征在于:所述棱嵴(6)设置为3-6条,沿引流管(1)横截面均匀分布。
4.根据权利要求3所述的手术切口表面冲洗引流管,其特征在于:所述透明贴膜(2)贴附在医用海绵(3)外侧。
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C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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