CN101303424B - 三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 33
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 title claims description 17
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 claims description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 claims description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010437 gem Substances 0.000 description 1
- 229910001751 gemstone Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N germanium monoxide Inorganic materials [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明公开了一种三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片,包括:本发明的光谱阶跃式集成滤光片通过改变间隔层中微区光学厚度的办法,采用三腔结构,结合真空镀膜技术和半导体离子束刻蚀工艺,实现多通道带通滤光片于同一基片的集成。该集成滤光片能广泛用于航空航天遥感仪器的多(高)光谱密集获取。本发明的多通道微型阶跃集成滤光片具有的优点是:通道光谱矩形度好,分光效率高;采用组合刻蚀的方法,成品率较传统的逐一集成的滤光片有很大提高;可以在微小区域形成多个光谱通道,能够实现空间位置和光谱位置的准确定位,易于实现高光谱。
Description
技术领域
本发明涉及光学薄膜技术,具体是指一种三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片。
背景技术
高光谱遥感作为当前遥感技术发展的一个前沿领域,越来越显现出其巨大的应用潜力,该技术已在航空、航天领域得到了广泛的应用。精细分光技术是高光谱遥感技术的一个重要环节,它直接决定了遥感仪器的信息获取量以及光谱分辨率。
目前国内外普遍采用的分光方式主要有棱镜分光、光栅分光、傅立叶分光和滤光片分光等。采用前三种分光方式,相应的设备要占据较大空间,难以满足航空航天仪器轻量化、小型化的要求。集成滤光片阵列是二十世纪末兴起的一种微型轻量化的空间分光器件,可以将滤光片阵列放在成像焦面上进行分光,也可以将它和探测器阵列结合,直接与探测器的像元对应。国内外对采用单腔结构的微型集成滤光片也有一些报道,但采用单腔结构的滤光片由于能量效率低、光谱交叠严重等原因而难以应用到工程中。多腔微型集成滤光片的出现简化了分光元件,提高了系统的光学效率,增强了系统的可靠性,为航空航天仪器的小型化、轻量化提供了强力支持。
发明内容
本发明的目的是提供一种多腔微型集成滤光片,解决航空航天仪器轻量化、小型化的技术问题。
本发明基于高光谱遥感技术的需要,提出一种采用真空镀膜结合离子束刻蚀技术制备光谱阶跃式集成滤光片的方法。
本发明采用L H L H L(L H L H L H L H L H L)^2L H L H膜系的三半波结构在传统的光学镀膜工艺基础上,逐层镀制滤光片至间隔层(即谐振腔层);在基片薄膜表面上应用一套巧妙设计的掩模板,利用离子束刻蚀方法对滤光片的间隔层进行刻蚀;经过n次的组合刻蚀,可以获得2n个刻蚀深度不同的线阵台阶;严格控制刻蚀的时间与刻蚀厚度,保证光谱通道峰值位置的线性度;然后镀制滤光片的后续膜系,到下一个间隔层是,再如法构造相同的线性台阶,且相同光谱通道的台阶位置对准,如此反复直到完成集成滤光片的所有膜层制备。光谱阶跃式集成滤光片的结构设计如下:
基底|(L H)^2(2-Xi)L(H L)^4H(2-Xi)L(H L)^4H(2-Xi)L H L H|入射介质
其中:入射介质的折射率为1.0-1.2之间,一般为空气;基底材料为人工合成蓝宝石或者熔融石英。
H和L分别代表光学厚度为四分之一中心波长的高、低折射率膜层;高低折射率材料可选择可见到红外波段的多种组合,如锗和一氧化硅,硅和二氧化硅,二氧化钛和二氧化硅等。Xi为第i个通道所处位置的间隔层的刻蚀系数,该系数可根据通道的中心波长以及膜系结构按常规方法来计算确定。
本发明的微型阶跃集成滤光片具有以下几个方面的优点:
1、通道光谱矩形度好,分光效率高,混色少;
2、采用组合刻蚀的方法,成品率较传统的集成滤光片有很大提高;可以在微小区域形成多个光谱通道,能够实现空间位置和光谱位置的准确定位,易于实现高光谱。
附图说明
图1微型阶跃集成滤光片的剖面图;图中1为基底,2为间隔层,3为刻蚀区,4为反射堆。
图2掩模板的结构示意图。
图3通道数为16的三半波阶跃式集成滤光片透射率曲线。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的说明:根据强度需要,选择尺寸为20mm×10mm的宝石片作为基底。在1.1-1.4μm以硅(Si)和二氧化硅(SiO2)分别作为高折射率材料(nH)和低折射率材料(nL),取n=4则形成的通道数N=2n=16,每个通道的几何尺寸为1mm×6mm,采用的掩模板如图2所示。
取中心波长λ0=1.25μm,工艺过程如下:(1)在基底上制备膜系(L H)^22.37L;(2)用离子束刻蚀机对第一谐振腔进行刻蚀;(3)继续在刻蚀的样品上制备(H L)^4H 2.37L膜系;(4)刻蚀第二谐振腔;(5)继续制备(H L)^4H2.37L膜系;(6)刻蚀第三谐振腔;(7)制备HLH膜系完成集成滤光片。
硅和二氧化硅材料都采用电子枪蒸发,速率分别为1.2nm/s和0.8nm/s;离子束刻蚀的速率为0.3nm/s。
表1是通道中心波长位置以及各通道谐振腔的刻蚀厚度。
图3是波长分布在1.1-1.4μm的16通道阶跃集成滤光片的透过率光谱曲线,各个通道的半宽度在6nm左右,相对带宽仅为5‰,具有较好的矩形度,通带能量较高,光谱基本无交叠情况,而且带外抑制也比较完美。本专利适用于多光谱航空航天遥感仪器的多(高)光谱的密集获得。
表1
通道中心波长位置(nm) | 谐振腔刻蚀厚度(nm) |
1380 | 0 |
1364 | 15.6 |
1346 | 31.2 |
1328 | 46.9 |
1311 | 62.5 |
1293 | 78.1 |
1275 | 93.8 |
1257 | 109.4 |
1239 | 125 |
1211 | 140.6 |
1203 | 156.2 |
1186 | 171.9 |
1168 | 187.5 |
1150 | 203.1 |
1134 | 218.8 |
1117 | 234.4 |
Claims (1)
1.一种三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片,其特征在于:它具有以下膜系结构:
基底|(LH)2(2-Xi)L(HL)4H(2-Xi)L(HL)4H(2-Xi)LHLH|入射介质其中,基底(1)材料采用人工合成蓝宝石或者熔融石英;入射介质的折射率在1.0-1.2之间,一般为空气;H和L分别代表光学厚度为四分之一中心波长的高、低折射率膜层,高、低折射率材料组合根据膜系从可见到红外波段的工作波长选择;Xi为第i个通道所处位置的间隔层(2)的刻蚀系数,该系数根据通道的中心波长以及膜系结构参数按常规方法来计算确定。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2008100388242A CN101303424B (zh) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | 三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片 |
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CN2008100388242A CN101303424B (zh) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | 三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片 |
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---|---|
CN101303424A CN101303424A (zh) | 2008-11-12 |
CN101303424B true CN101303424B (zh) | 2011-02-16 |
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ID=40113418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2008100388242A Active CN101303424B (zh) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | 三腔多通道光谱阶跃式集成滤光片 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN101303424B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102798914A (zh) * | 2012-08-03 | 2012-11-28 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种关于多腔结构带通滤光片带外截止宽度的调整方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103376490B (zh) * | 2012-04-27 | 2016-12-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 红外截止滤光片及镜头模组 |
CN102819058B (zh) * | 2012-08-30 | 2016-01-06 | 广州中国科学院先进技术研究所 | 一种多通道集成滤光片的制作方法 |
CN102914503A (zh) * | 2012-09-26 | 2013-02-06 | 华侨大学 | 光谱分析仪及其g-t谐振腔阵列的制作方法 |
CN105093376A (zh) * | 2015-09-07 | 2015-11-25 | 西安工业大学 | 中心波长渐变的带通滤光片制备方法 |
CN105511005A (zh) * | 2015-12-01 | 2016-04-20 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种用于超光谱成像系统的阶越滤光片 |
CN107907935A (zh) * | 2017-12-26 | 2018-04-13 | 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司 | 一种多通道集成滤光片的光隔离结构及其制造方法 |
CN117991431A (zh) * | 2024-04-03 | 2024-05-07 | 南京九川科学技术有限公司 | 滤波器件、成像系统及其滤波器件的制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2363290Y (zh) * | 1998-04-16 | 2000-02-09 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 4.65微米四半波滤光片 |
CN1588137A (zh) * | 2004-08-17 | 2005-03-02 | 同济大学 | 通道相对位置可调整的双通道滤光片及其调整方法 |
CN1737613A (zh) * | 2005-09-02 | 2006-02-22 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 具有多腔结构的窄带滤光片列阵 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2363290Y (zh) * | 1998-04-16 | 2000-02-09 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 4.65微米四半波滤光片 |
CN1588137A (zh) * | 2004-08-17 | 2005-03-02 | 同济大学 | 通道相对位置可调整的双通道滤光片及其调整方法 |
CN1737613A (zh) * | 2005-09-02 | 2006-02-22 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 具有多腔结构的窄带滤光片列阵 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
马孜.上反射法三腔窄带滤波片的研制.《红外与激光工程》.2006,第35卷88-91. * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102798914A (zh) * | 2012-08-03 | 2012-11-28 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种关于多腔结构带通滤光片带外截止宽度的调整方法 |
CN102798914B (zh) * | 2012-08-03 | 2014-11-26 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种关于多腔结构带通滤光片带外截止宽度的调整方法 |
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