CN101251671A - 用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统 - Google Patents

Abstract

一种用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统。该曝光装置包括一座台以及一光源。该至少一光源是位于该座台上方。该座台包括：一下板、一上板以及至少一加热件。上板位于该下板上并与该下板接合。该上板具有：至少一主动区(active area)；至少一虚构区(dummy area)大体环绕该主动区；以及复数第一吸附结构位于该至少一虚构区内。以解决在制造聚合物稳定配向式液晶显示面板时，聚合物稳定配向式像素结构的液晶分子排列不符合理想的问题。

Description

用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统

技术领域

本发明是有关于一种用于聚合配向工艺的曝光装置及曝光系统，且特别是有关于一种避免聚合物稳定配向式液晶显示面板产生显像不均或亮暗区块的问题的曝光装置及曝光系统。

背景技术

市场对于液晶显示面板的性能要求是朝向高对比(high contrast ratio)、无灰阶反转(no gray scale inversion)、色偏小(little color shift)、亮度高(highluminance)、高色彩丰富度、高色彩饱和度、快速反应与广视角等特性。目前，能够达成广视角要求的技术有扭转向列型(twist nematic，TN)液晶加上广视角膜(wide viewing film)、共平面切换型(in-plane switching，IPS)液晶显示面板、边际场切换型(fringe field switching)液晶显示面板、多域垂直配向型(multi-domain vertically alignment，MVA)液晶显示面板等方式。

已知的多域垂直配向式液晶显示面板是利用配向结构(alignment structure)的配置以令不同区域内的液晶分子以不同角度倾倒，而达到广视角的功效。配向结构包括有配向凸块(alignment protrusion)以及设置于电极上的配向狭缝(alignment slit)。然而，配向凸块与配向狭缝周边液晶分子的倾倒方向往往不明确(disclination)，而造成漏光的情形，进一步使得液晶显示面板的显示对比降低。若为了遮蔽漏光的情形而配置对应于配向凸块或配向狭缝的遮光层，又会使显示开口率受到限制。因此，一种聚合物稳定配向(Polymer StabilityAlignment)以形成多领域配向的配向方式被提出，以改善多域垂直配向式液晶显示面板显示对比不佳的问题。

聚合物稳定配向工艺须先将反应性单体掺杂于液晶层中，并施与液晶层特定的电压。在此电压下以一光线或热源照射液晶层，则反应性单体会聚合并固化，以于液晶层两侧的基板上同时形成稳定层(stabilizing layer)。其中，稳定层的分子会呈现特定的排列方式，有助于使液晶分子以不同的方向倾倒与排列，而达到广视角显示效果。由于，稳定层的配置不会使液晶显示面板发生漏光的现象，因而有助于提高液晶显示面板的显示对比。可惜的是，聚合物稳定配向的工艺过程中往往会因该曝光机台的机构设计不良而产生一些缺陷，而使部分液晶分子的倒向不符合理想，因此仍有进一步改善的需要。

发明内容

本发明提供一种用于聚合配向工艺的曝光装置以及具有该曝光装置的曝光系统，以解决在制造聚合物稳定配向式液晶显示面板时，聚合物稳定配向式像素结构的液晶分子排列不符合理想的问题。

本发明提供一种用于聚合配向工艺的曝光装置以及具有该曝光装置的曝光系统，避免聚合物稳定配向式液晶显示面板产生显像不均或亮暗区块的问题。

本发明提出一种用于聚合配向工艺的曝光装置，包括一座台以及一光源。该至少一光源是位于该座台上方。该座台包括：一下板、一上板以及至少一加热件。上板位于该下板上并与该下板接合。该上板具有：至少一主动区(activearea)；至少一虚构区(dummy area)大体环绕该主动区；以及复数第一吸附结构位于该至少一虚构区内。

本发明提出一种用于聚合配向工艺的曝光系统，包括上述曝光装置；以及一液晶显示面板，设置于该座台上。

在本发明的一实施例中，上述的上板更具有复数第二吸附结构位于该至少一主动区内。

本发明的一实施例中，上述的第二吸附结构是为复数真空孔，该些真空孔的孔径是小于或等于1.2毫米，或者是上述的第二吸附结构是为复数真空沟槽，该些真空沟槽的宽度是小于或等于1.2毫米。

在本发明的一实施例中，上述的上板包括一底板，其中该底板是为一实心板材；以及一抗反射层，形成于该底板的一上表面。

在本发明的一实施例中，上述的下板更包括一第一平板；以及一第二平板，位于该第一平板上并与该第一平板接合，其中该加热件是大体位于该第一平板内，以及与该第二平板之间。

在本发明的一实施例中，上述的液晶显示面板包括一第一基板、一第二基板，相对于该第一基板设置以及一液晶层，设置于该第一基板以及该第二基板之间。该液晶层包括复数液晶分子以及复数单体与该些液晶分子混合。

本发明是利用具有至少一加热件以及/或吸附结构的曝光装置以及/或具有此曝光装置的曝光系统，在制造聚合物稳定配向式液晶显示面板时，藉由加热件为热源，提供热能给聚合物稳定配向式液晶显示面板内的单体，加速及稳定该单体的聚合行为而成为理想中的聚合物，使得液晶分子藉由该些聚合物，具有适当的预倾角，而避免聚合物稳定配向式液晶显示面板产生显像不均或亮暗区块的问题，并且可加速聚合物稳定配向式液晶显示面板的生产速度。此外藉由吸附结构的设置，可避免聚合物稳定配向式液晶显示面板在制造过程中发生因空气残存于液晶显示面板与座台间，造成面板弯曲的现象。因此，本发明的曝光装置及曝光系统应用于制造聚合物稳定配向式液晶显示面板时，有助于改善液晶分子倾倒方向不明确的情形以及加速聚合物稳定配向式液晶显示面板的生产速度以及避免聚合物稳定配向式液晶显示面板在制造过程中发生弯曲的现象。

为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

附图说明

图1为本发明的曝光装置及具有该曝光装置的曝光系统的示意图；

图2A为本发明的第一实施例的液晶显示面板、座台、定位件以及电压提供装置的相对位置配置上视图；

图2B为图2A沿剖面线I-I’所绘制的剖面图；

图2C为图2A的座台的剖面图；

图2D为利用图2A的座台承载液晶显示面板进行曝光作业的示意图；

图3是为本发明的第二实施例的液晶显示面板、座台、定位件以及电压提供装置的相对位置配置上视图；

图4是为本发明的第三实施例的液晶显示面板、座台、定位件以及电压提供装置的相对位置配置上视图；

图5是为本发明的第四实施例的液晶显示面板、座台、定位件以及电压提供装置的相对位置配置上视图；

图6是为本发明的第五实施例的液晶显示面板、座台、定位件以及电压提供装置的相对位置配置上视图；

图7是为本发明的第六实施例的液晶显示面板、座台、定位件以及电压提供装置的相对位置配置上视图；

图8是为本发明的第七实施例的液晶显示面板、座台、定位件以及电压提供装置的相对位置配置上视图；

图9A为本发明实验例的座台、液晶显示面板以及光源的相对位置图；

图9B为图9A中的座台沿剖面线II-II’的剖面图；

图9C为图9A中的液晶显示面板的部分区域剖面图。

附图标号

1：曝光系统

10：曝光装置

100、200、300、400、500、600、700：座台

1001：上板

1001a：底板

1001b：抗反射层

1002：下板

1002a：第一平板

1002b：第二平板

1002c：加热件

1002d：锁固件

101：光源

102、202、302、402、502、602、702：定位件

103：抬举件

11、21、31、41、51、61、71：电压提供装置

12、22、32、42、52、62、72：液晶显示面板

120：第二基板

121：第一基板

122：液晶层

122a：单体

122a’：聚合物

122b：液晶分子

13：腔体

A：主动区

D：虚构区

D1、D2、D3：区域

H0：抬举件容置孔

H1：真空孔

H2：辅助吸附结构

H3：真空孔

T1、T2：沟槽

L：光线

具体实施方式

在制造聚合物稳定配向式液晶显示面板时，在进行单体聚合工艺时，是利用电压提供装置对封合有液晶分子以及单体的液晶显示面板施与特定的电压并将液晶显示面板设置于一曝光装置下，以光线照射液晶层，则反应性单体会聚合并固化，以于液晶层两侧的基板上同时形成稳定层(stabilizing layer)，此时，此曝光装置、电压提供以及液晶显示面板便构成一曝光系统。

待曝光作业完成后，便可利用机械手臂，将完成单体聚合的聚合物稳定配向式液晶显示面板夹持至下一个工站而进行下一个工艺，该下一个工艺譬如为另一曝光作业、切裂作业或磨边导角作业。

图1为本发明的曝光装置及具有该曝光装置的曝光系统的示意图。

曝光系统1包括曝光装置10、电压提供装置11以及液晶显示面板12。选择性地，曝光系统1可更包括腔体13，曝光装置10、电压提供装置11以及液晶显示面板12均位于腔体13内，可避免曝光工艺中，光线对操作人员或是其他非进行曝光工艺的其他作业造成不良影响，此外，也可确保曝光工艺的完整性及成功性。

电压提供装置11是对封合有液晶分子以及单体的液晶显示面板12施与特定的电压，使液晶层内的液晶分子旋转或移动，进而带动液晶层内的单体全面性且均匀地以特定角度在特定位置产生光聚合反应。

曝光装置10包括座台100、位于座台100上方的光源101以及定位件102。光源101以及定位件102视设计而定，可为单个或是复数个。光源101举例而言是为紫外光灯管。

本发明的各实施例中的主要部件及运作原理是在下述说明中佐以图示详细解释，但所述内容并不局限而用以限制本发明的范围。

第一实施例：

请参考图2A至图2C。图2A为本发明的第一实施例的液晶显示面板12、座台100、定位件102以及电压提供装置11的相对位置配置上视图。图2B为图2A沿剖面线I-I’所绘制的剖面图。图2C为座台100的剖面图。

请先参考图2A及图2C，座台100包括上板1001以及下板1002，上板1001的厚度为等于或小于2毫米，以方便维护以及修缮时的置换作业，上板1001位于下板1002上，下板1002上的上表面可具有复数辅助吸附结构H2，用以真空吸附上板1001。辅助吸附结构H2举例是为真空孔或是真空沟槽，若为真空孔，其孔径约等于或小于5毫米，若为真空沟槽，其宽度约等于或小于5毫米，辅助吸附结构H2的形状、位置或尺寸大小并不局限，以达到稳固地真空吸附上板1001且不致使上板1001弯曲变形的目的即可。

上板1001包括底板1001a以及形成于底板1001a上表面的抗反射层1001b。举例而言，底板1001a是为一实心板材，材质是包括铝、不锈钢、铝镁合金或其他高强度的材质。抗反射层1001b的材质是包括黑色的聚四氟乙烯、黑色的铝阳极处理材或黑色的铝无电镀材，而抗反射层1001b的厚度约为30微米至50微米。

当座台100具有抗反射层1001b于其上表面时，液晶显示面板12与座台100之间的磨擦阻力是可降低，使得曝光装置10对液晶显示面板12进行对位移动或是工站移转时，能够顺利移动液晶显示面板12，不致使液晶显示面板12与座台100之间的对位动作失效或失误，亦可避免液晶显示面板12边缘破裂或定位件102受损。而因为抗反射层1001b若使用聚四氟乙烯，因聚四氟乙烯的特殊材料特性，不容易与另一导电物质产生静电效应，故在液晶显示面板12升举的过程中，对液晶显示面板12产生静电击伤的可能性大大降低。此外，若使用黑色的聚四氟乙烯制作抗反射层1001b，在曝光装置10对液晶显示面板12执行曝光作业时，如图2D所示，图2D为利用图2A的座台100承载液晶显示面板12进行曝光作业的示意图，光源101提供光线L给位于上板1001上的液晶显示面板12，光线L举例为紫外光，使得液晶显示面板12的液晶层122中的单体122a可进行聚合固化反应，因为抗反射层1001b为黑色的聚四氟乙烯材质，故光线L发射至抗反射层1001b的表面时，不易/不会产生反射，是故便没有反射的光线会再次进入液晶层122而造成液晶显示面板12的曝光能量不均，液晶层122内各处的单体聚合反应速度不一，进而影响液晶显示面板12的对比值或穿透率，使得液晶显示面板12的生产良率降低。

为了避免座台100的上表面平坦度不足而影响到曝光作业时的液晶层122内电场以及温度的均匀性，使得液晶分子122b形成不均一的预倾角，而产生显像不均(mura)、液晶分子122b反应速度、液晶显示面板12的对比值或穿透率等等问题，座台100的上表面或是抗反射层1001b的上表面的粗糙度高度的差异为小于或等于±100微米/100平方毫米，且整个座台100的上表面或是抗反射层1001b的上表面的粗糙度高度的差异应小于或等于500微米。

上板1001具有至少一主动区(active area)A以及至少一虚构区(dummyarea)D大体环绕该主动区。如图2A所示，是以两个主动区A为例，而四周被虚构区D环绕，可视工艺或生产需求，改变主动区A的数目，譬如为单个或是大于两个。虚构区D对应液晶显示面板12的非显示区或所谓的周边区，主动区A对应液晶显示面板12的显示区。

复数第一吸附结构是位于虚构区D内，在本实施例中，第一吸附结构举例是为真空孔H1，真空孔H1的孔径边缘须距离液晶显示面板12的显示区达1.0毫米以上，换句话说，真空孔H1的孔径边缘须距离主动区A达1.0毫米以上。真空孔H1可为均匀排列或是散乱排列。此外，举例而言，真空孔H1为贯穿抗反射层1001b且底板1001a的孔洞，并且可具有与辅助吸附结构H2相同的深度。

复数抬举件容置孔H0是位于虚构区D内，抬举件103是位于抬举件容置孔H0内。

液晶显示面板12包括第一基板121、第二基板120以及设置于该第一基板121以及该第二基板120之间的液晶层122，液晶层122包括复数液晶分子以及复数单体与该些液晶分子混合。第一基板121举例而言为彩色滤光片基板且第二基板120举例而言为薄膜电晶体基板。第一基板121上具有电极1201。

在液晶显示面板12准备放置于曝光装置10的座台100上时，真空孔H1可先吹气，也就是由下往上提供微小气流于座台100以及液晶显示面板12的间，暂时让液晶显示面板12大体呈现气浮状态而不被座台100完全接触性支持，此时，可调整或移动复数定位件102，让液晶显示面板12准确地定位于适当位置，以进行后续的曝光作业。

待液晶显示面板12定位后，利用真空孔H1来真空吸附液晶显示面板12。须特别注意的是，真空孔H1是位在虚构区D内，虚构区D是对应液晶显示面板12的非显示区。

座台100的下板1002包括至少一加热件1002c、第一平板1002a以及第二平板1002b。第二平板1002b位于该第一平板1002a上并与该第一平板1002a接合，其中该加热件1002c是大体位于该第一平板1002a内，以及与该第二平板1002b之间。该第一平板1002a以及该第二平板1002b的材质举例是包括铝、不锈钢、铝镁合金或其他高强度的材质。加热件1002c举例是包括至少一含液体管线或至少一电阻加热器。含液体管线举例是为容纳有水的管线，加热管线内的水后，便可提供所需的热能。

举例而言，复数加热件1002c可对座台100在水平方向的不同区块表面独立进行温度控制，在进行曝光作业时，可使得液晶层122内对应上述各区块的单体122a所处的温度一致，而得到相同的反应速率，是故在施加相同的曝光能量时，单体122a在各个区域能均匀且一致的聚合，而使得各区的液晶分子122b具有均匀的预倾角，避免液晶显示面板12产生显像不均或是亮暗不均区块的现象发生，而座台100水平方向各区的温度差异举例而言须小于5度C。

此外，可利用锁固件1002d用以接合该第一平板1002a以及该第二平板1002b，锁固件1002d举例为螺丝，当然，可以用粘贴胶或是铆钉来替代锁固件1002d，以达到接合该第一平板1002a以及该第二平板1002b的目的即可。

待液晶显示面板12是吸附固定于座台100上之后。便开始进行对液晶显示面板12曝光、施加电压以及/或加热的步骤。光源101举例是提供紫外光给液晶显示面板12中液晶层内的单体进行聚合；电压提供装置11举例是提供电压给液晶显示面板12，特别是液晶显示面板12的电极1201，电压提供装置11的数目及对应座台100的位置并不局限，本实施例以一个电压提供装置11为例，但可视工艺需求，在座台100周边设置复数电压提供装置11；加热件1002c是对液晶显示面板12提供热能，以加速单体聚合的速度。

举例而言，该紫外光的波长约为200纳米至400纳米，该电压约为10Vpp至100Vpp，该热能约为0度C至90度C，曝光时间约为10秒至500秒，上述参数并不局限，视工艺需求及单体种类而定，可适度调整，以达到成功聚合单体且液晶分子具有期望中的预倾角为目的即可。

待曝光步骤成功完成后，便准备利用机械手臂将液晶显示面板12移动至下一个工站而进行下一个工艺。将液晶显示面板12与座台100分离的方式举例是为利用真空孔H1破真空使液晶显示面板12与座台100吸附现象消失，之后利用位于虚构区D内的抬举件容置孔H0的抬举件103将液晶显示面板12向上抬举。抬举件容置孔H0的孔径边缘须距离液晶显示面板12的显示区达1.0毫米以上，换句话说，抬举件容置孔H0的孔径边缘须距离主动区A达1.0毫米以上。抬举件容置孔H0举例是贯穿座台100，抬举件容置孔H0举例是为常压孔或是真空孔。在本实施例中，抬举件容置孔H0的结构、形状、大小或位置并不局限，以达到顺利利用抬举件103将液晶显示面板12向上抬举并不致使液晶显示面板12破裂为目的即可。

是故，在此便完成聚合物稳定配向式液晶显示面板的曝光工艺。

第二实施例：

第二实施例与第一实施例不同处仅在于座台的吸附结构的设计，其余部分是相同，在此不赘述。

图3是为本发明的第二实施例的液晶显示面板22、座台200、定位件202以及电压提供装置21的相对位置配置上视图。

与第一实施例不同，本实施例在虚构区D内，除了具有复数真空孔H1外，更具有复数沟槽T1，复数沟槽T1的功能及目的与复数真空孔H1相同，沟槽T1的宽度边缘须距离液晶显示面板22的显示区达1.0毫米以上，换句话说，沟槽T1的宽度边缘须距离主动区A达1.0毫米以上。直条状的沟槽T1可提供较大的吹气/抽真空面积或范围。复数沟槽T1以及真空孔H1的排列方式可为均匀排列或是散乱排列，并不局限。

第三实施例：

第三实施例与第一实施例不同处仅在于座台的吸附结构的设计，其余部分是相同，在此不赘述。

图4是为本发明的第三实施例的液晶显示面板32、座台300、定位件302以及电压提供装置31的相对位置配置上视图。

与第一实施例不同，本实施例在虚构区D内，复数沟槽T1是完全取代第一实施例中的真空孔H1，复数沟槽T1的功能及目的与复数真空孔H1相同，沟槽T1的宽度边缘须距离液晶显示面板32的显示区达1.0毫米以上，换句话说，沟槽T1的宽度边缘须距离主动区A达1.0毫米以上。直条状的沟槽T1可提供较大的吹气/抽真空面积或范围。复数沟槽T1的排列方式可为均匀排列或是散乱排列，并不局限。

第四实施例：

第四实施例与第一实施例不同处仅在于座台的主动区A上的设计，其余部分是相同，在此不赘述。

图5是为本发明的第四实施例的液晶显示面板42、座台400、定位件402以及电压提供装置41的相对位置配置上视图。

需特别注意的是，除了虚构区D内具有第一吸附结构(真空孔H1)，主动区A内是具有复数第二吸附结构，在本实施例中，第二吸附结构举例为真空孔H3。

因为座台400是全面性地具有吸附结构，故可全面性地承载液晶显示面板42。

在液晶显示面板42准备放置于曝光装置的座台400上时，真空孔H1以及真空孔H3可先吹气，也就是由下往上提供微小气流于座台400以及液晶显示面板42之间，暂时让液晶显示面板42大体呈现气浮状态而不被座台400完全接触性支持，此时，可调整或移动复数定位件402，让液晶显示面板42准确地定位于适当位置，以进行后续的曝光作业。因为吸附结构(真空孔H1以及真空孔H3)是全面性地形成于座台400表面，故可均匀地且足够地对液晶显示面板42进行吹气或吸附液晶显示面板42作用，避免液晶显示面板42产生不适当的倾斜、弯曲或是凹陷，而影响工艺操作。

待液晶显示面板42定位后，利用真空孔H1以及真空孔H3来真空吸附液晶显示面板42。须特别注意的是，真空孔H1是位在虚构区D内，虚构区D是对应液晶显示面板42的非显示区，且真空孔H3是位在主动区A内，主动区A是对应液晶显示面板42的显示区。

待曝光步骤成功完成后，便准备利用机械手臂将液晶显示面板42移动至下一个工站而进行下一个工艺。将液晶显示面板42与座台400分离的方式举例是为利用真空孔H1、H3破真空使液晶显示面板42与座台400吸附现象消失，之后利用位于虚构区D内的抬举件容置孔H0的抬举件将液晶显示面板42向上抬举。

是故，在此便完成聚合物稳定配向式液晶显示面板的曝光工艺。

第五实施例：

第五实施例与第四实施例不同处仅在于座台的吸附结构的设计，其余部分是相同，在此不赘述。

图6是为本发明的第五实施例的液晶显示面板52、座台500、定位件502以及电压提供装置51的相对位置配置上视图。

与第四实施例不同，本实施例在虚构区D内，除了具有复数真空孔H1外，更具有复数沟槽T1，复数沟槽T1的功能及目的与复数真空孔H1相同，沟槽T1的宽度边缘须距离液晶显示面板52的显示区达1.0毫米以上，换句话说，沟槽T1的宽度边缘须距离主动区A达1.0毫米以上。直条状的沟槽T1可提供较大的吹气/抽真空面积或范围。复数沟槽T1以及真空孔H1的排列方式可为均匀排列或是散乱排列，并不局限。

第六实施例：

第六实施例与第四实施例不同处仅在于座台的吸附结构的设计，其余部分是相同，在此不赘述。

图7是为本发明的第六实施例的液晶显示面板62、座台600、定位件602以及电压提供装置61的相对位置配置上视图。

与第四实施例不同，本实施例在虚构区D内，复数沟槽T1是完全取代第一实施例中的真空孔H1，复数沟槽T1的功能及目的与复数真空孔H1相同，沟槽T1的宽度边缘须距离液晶显示面板52的显示区达1.0毫米以上，换句话说，沟槽T1的宽度边缘须距离主动区A达1.0毫米以上。直条状的沟槽T1可提供较大的吹气/抽真空面积或范围。复数沟槽T1的排列方式可为均匀排列或是散乱排列，并不局限。

第七实施例：

第七实施例与第五实施例不同处仅在于座台的吸附结构的设计，其余部分是相同，在此不赘述。

图8是为本发明的第七实施例的液晶显示面板72、座台700、定位件702以及电压提供装置71的相对位置配置上视图。

与第五实施例不同，在本实施例中，复数沟槽T2是完全取代第五实施例真空孔H3，换句话说，主动区A内仅有复数沟槽T2作为吸附结构。

然而，虽然本实施例是以主动区A内仅有复数沟槽T2作为吸附结构为例，但可视使用者或工艺需求，将复数沟槽T2以及真空孔H3同时设置于主动区A内，也就是说，可同时利用具有较大作用面积的复数沟槽T2以及具有较小作用面积的真空孔H3来对液晶显示面板72进行吹气及/或真空吸附的动作。此外，举例而言，若控制真空孔H3以及沟槽T2的气体来源处，使真空孔H3以及沟槽T2独立运作，曝光装置的调配性以及弹性更大，更易于曝光作业的弹控。

实验例：

请参考图9A至图9C，图9A至图9C为本发明的实验例，用以说明座台与液晶显示面板之间的各区域温度不同对曝光作业时的液晶显示面板造成的影响。图9A为本发明实验例的座台、液晶显示面板以及光源的相对位置图。图9B为图9A中的座台沿剖面线II-II’的剖面图。图9C为图9A中的液晶显示面板的部分区域剖面图。

图9A为本发明实验例的座台、液晶显示面板以及光源的相对位置图。座台100划分成区域D1-D3，区域D2位于区域D1及区域D3之间，区域D2为凹陷处，而区域D1及区域D3的表面大体为平坦。液晶显示面板12设置于座台100上，光源101设于座台100上方而对液晶显示面板12进行曝光作业。图9B为图9A中的座台100沿剖面线II-II’的剖面图，如图9B所示，区域D2为凹陷处，故对应区域D2的座台100平均厚度小于对应区域D1及D3的座台100平均厚度。因为区域D2为凹陷处，故当液晶显示面板12设置于座台100上时，对应区域D2的部分为液晶显示面板12与座台100的非接触区域，而另外的部分即为接触区域。

表1

表1为利用7个液晶显示面板12作为实验，在座台100温度分别为18度C以及室温下，对应液晶显示面板12与座台100接触区域(对应区域D1、D3)以及对应液晶显示面板12与座台100非接触区域(对应区域D2)于曝光作业下的温度差异平均的记录。在对应区域D1及区域D3处的液晶显示面板12与座台100接触区域量测10个点的温度后，计算其彼此间差值之后平均，而在对应区域D2的液晶显示面板12与座台100非接触区域量测5个点的温度后，计算其彼此间差值之后平均。

请同时参照图9A、图9B及表1。进行曝光作业时，由表1可知：在座台100温度为18度C时，液晶显示面板12编号1-3对应的接触区域差异平均值依序为2.3、3以及4.5度C，而对应的非接触区域差异平均值依序为7.1、6.3以及7.9度C，由此可知，对应于凹陷处的区域D2，各点温度的差值较大，温度较不平均，是故对曝光作用的单体聚合反应的均匀度较小，易造成液晶显示面板12显像不均。在座台100温度为室温时，液晶显示面板12编号4-7对应的接触区域差异平均值依序为3.3、2.8、1.6以及2.5度C，而对应的非接触区域差异平均值依序为7.7、7.7、7.7以及7.5度C，由此可知，对应于凹陷处的区域D2，各点温度的差值仍旧较大。

所以当座台100的表面为不平坦且具有凹陷部时，对应于凹陷部处的温度差异较大，对液晶显示面板12中单体聚合反应影响较大。

表2

液晶显示面板编号	最大温度差异值(度C)	最小温度差异值(度C)
			1	13.9	7.4
2	12.8	6.7
			3	13.5	5.5
4	12.5	4.8
			5	11.8	4.7
6	12.5	5.8
			7	12.5	5.9
平均	12.8	5.8

表2为接续表1，本实验例量测对应区域D1、区域D2及区域D3处的液晶显示面板12与座台100区域量测15个点的温度后，计算其彼此间差值的最大值及最小值。由表2可知，最大温度差异值约涵盖11.8-13.9度C(对应液晶显示面板编号5及1估计得出)，也就是说对应座台100的平坦处以及凹陷处去量测，其温度差异最大约涵盖11.8-13.9度C，平均值为12.8度C。而最小温度差异值约涵盖4.7-7.4度C(对应液晶显示面板编号5及1估计得出)，平均值为5.8度C。是故，因为对应区域D2有热累积的现象，而导致对应区域D1(或D3)与区域D2有极大的温度差异。

所以座台100的上表面若是不平坦，则会大大的影响曝光作业的结果。请参照图9C，图9C为图9A中的液晶显示面板12的部分区域剖面图。在本实验例中，液晶显示面板12对应区域D2及D3处可知，区域D2因为为凹陷处，有热累积的现象，故温度较高，单体聚合成为较密集的聚合物122a’后，会使得液晶分子122b在对应区域D2的区域有较大的预倾角α，然而，区域D3因为为平坦处，故其温度会比对应区域D2处较低，单体聚合成为较稀疏的聚合物122a’后，会使得液晶分子122b在对应区域D3的区域有较小的预倾角β，是故，因为对应区域D2及D3的液晶分子122b的预倾角不一致，亮暗区块的不良现象便产生而导致液晶显示面板12有显像不均的问题。

表3

座台100温度(度C)	单体反应率(％)
		25	45.35
40	53.89

表3为利用本发明的各实施例的具有平坦上表面的座台100来进行曝光作业的座台100温度与单体反应率的记录，在相同曝光时间下，针对座台100为25度C以及40度C作比较。如表3可知，利用本发明的各实施例的加热件，均匀且全面提高座台100温度，可使得单体反应率较高，也就是说，单体有相当大的比例可成功聚合，利用加热件将座台100温度控制在40度C时，单体反应率为53.89％会比利用加热件将座台100温度控制在25度C时的单体反应率(45.35％)大。是故，利用本发明的各实施例的加热件可有效增进曝光装置的效率。

综上所述，本发明的曝光装置及具有此曝光装置的曝光系统可在曝光作业时，有效避免聚合物稳定配向式液晶显示面板产生显像不均或亮暗区块的问题。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视前附的权利要求所界定者为准。

Claims (18)

1. 一种用于聚合配向工艺的曝光装置，其特征在于，该装置包括：

一座台，该座台包括：

一下板，包括至少一加热件；以及

一上板，位于该下板上并与该下板接合，该上板具有：

至少一主动区；

至少一虚构区大体环绕该主动区；以及

复数第一吸附结构位于所述的至少一虚构区内；以及

至少一光源，位于所述的座台上方。

2. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的上板更具有复数第二吸附结构位于所述的至少一主动区内。

3. 如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述的这些第二吸附结构是为复数真空孔，所述的这些真空孔的孔径是小于或等于1.2毫米。

4. 如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述的这些第二吸附结构是为复数真空沟槽，所述的这些真空沟槽的宽度是小于或等于1.2毫米。

5. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，该曝光装置更包括复数定位件，大体环绕所述的座台。

6. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的上板包括：

一底板，其中该底板是为一实心板材；以及

一抗反射层，形成于所述的底板的一上表面，其中所述的底板的材质是包括铝、不锈钢或铝镁合金，其中所述的抗反射层的材质是包括黑色的聚四氟乙烯、黑色的铝阳极处理材或黑色的铝无电镀材，其中所述的抗反射层的厚度为30微米至50微米。

7. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的下板更包括：

一第一平板；以及

一第二平板，位于所述的第一平板上并与所述的第一平板接合，其中所述的加热件是大体位于所述的第一平板以及所述的第二平板之间，其中所述的第一平板以及所述的第二平板的材质是包括铝、不锈钢或铝镁合金，所述的曝光装置更包括一锁固件用以接合所述的第一平板以及所述的第二平板。

8. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的至少一加热件是包括至少一含液体管线或至少一电阻加热器。

9. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的下板具有复数辅助吸附结构形成于所述的上表面，用以真空吸附所述的上板。

10. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的这些第一吸附结构是为复数真空孔，所述的这些真空孔的孔径的边缘与所述的主动区的最小距离为大于1毫米。

11. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的座台具有复数抬举件容置孔，大体设置于所述的虚构区内，所述的曝光装置更包括复数抬举件对应设置于所述的这些抬举件容置孔内，其中所述的这些抬举件容置孔的孔径的边缘与所述的主动区的最小距离为大于1毫米，其中所述的这些抬举件容置孔是贯穿所述的座台。

12. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的至少一光源是包括至少一紫外光灯管。

13. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的座台的一上表面的粗糙度高度的差异为小于或等于±100微米/100平方毫米，且整个座台的上表面或是所述的抗反射层的上表面的粗糙度高度的差异为小于或等于500微米。

14. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述的这些第一吸附结构是为复数真空沟槽，所述的这些真空沟槽的宽度的边缘的边缘与所述的主动区的最小距离为大于1毫米。

15. 一种曝光系统，其特征在于，该曝光系统包括：

一种用于聚合配向工艺的曝光装置，该装置包括：

一座台，该座台包括：

一下板，该下板包括至少一加热件；以及

一上板，位于该下板上并与该下板接合，该上板具有：

至少一主动区；

至少一虚构区大体环绕该主动区；以及

复数第一吸附结构位于该至少一虚构区内；以及

至少一光源，位于所述的座台上方；以及

一液晶显示面板，设置于所述的座台上，其中所述的液晶显示面板包括：

一第一基板；

一第二基板，相对于该第一基板设置；以及

一液晶层，设置于所述的第一基板以及所述的第二基板之间，所述的液晶层包括复数液晶分子以及复数单体与所述的这些液晶分子混合。

16. 如权利要求15所述的曝光系统，其特征在于，该曝光系统更包括一电压提供装置，用以提供一电压于所述的液晶显示面板。

17. 如权利要求15所述的曝光系统，其特征在于，该曝光系统更包括一腔体，其中所述的曝光装置以及所述的液晶显示面板是位于所述的腔体内。

18. 如权利要求15所述的曝光系统，其特征在于，所述的第一基板是为一彩色滤光片基板，且直接设置于所述的座台的一上表面。

Images