CN101237727A - 电子束轰击炉电子光路系统电源控制方法及电源装置 - Google Patents
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Abstract
本发明为电子束轰击炉电子光路系统电源的控制方法及电源装置,本方法以电子束发生系统电源的加速电压取样信号开方值为聚焦和偏转扫描电源的控制信号,聚焦和偏转扫描的电流幅值按此控制信号线性变化,使电子光路系统运行参数不受加速电压波动的影响。本电源装置将加速电压取样信号接开方器后分别接入聚焦和偏转扫描电源控制电路,采用电流滞环跟踪脉冲调制控制器,工作电流在希望值上下小幅振荡。以加速电压取样信号开方值信号控制聚焦电流,以偏转扫描综合信号与加速电压取样信号开方值的乘积为总控制信号控制偏转扫描电流,使电子束的焦距和偏转扫描区域不受加速电压变化影响,故障时电子束焦距和偏转扫描区域的变化被抑制在允许范围内。
Description
(一)技术领域
本发明涉及电子束电热设备,具体为电子束轰击炉电子光路系统电源控制方法及电源装置。
(二)背景技术
电子束轰击炉是利用高速电子轰击炉料时所产生的热能来进行熔炼和加热的一种电热设备,是一种综合了真空物理、材料科学、电子技术、电子光学、高电压技术、计算机和控制技术等多种技术的高科技产品,与其它真空熔炼炉相比,功率密度高,可用于贵重、稀有、难熔金属的熔炼和精炼,炉内真空度高,容易制备各种高纯材料或特殊合金以及用于熔炼优质特殊钢和钛废屑回收等,此外还具有无耐火材料对炉料污染的优点。
电子束轰击炉的关键技术是电子束发生器(电子枪)及其电源。电子束轰击炉多采用间热式阴极轴向电子枪,其中电子光路系统的任务是将电子枪中形成的束流参数变换为作用点所需要的电子束流参数。电子光路系统由两级磁透镜和偏转扫描器组成,其工作电源包括两套聚焦电源和两路偏转扫描电源,它们工作于低压端。
目前电子束轰击炉电子光路系统电源控制方法及其电源装置是基于电子束加速电压为稳定值的前提下工作的,聚焦电源和偏转扫描电源各为独立控制的电源系统,与加速电压无关联。在运行过程,如果某种原因引发加速电压波动,电子束焦点的位置、偏转的角度和扫描的区域将发生变化。
电子束轰击炉主电源(加速电源)采用开环控制及三相市电全波供电可实现绿色电源和节能的运行效果,但运行过程加速电压会产生随机波动,这种情况下,独立控制的电子光路电源系统将不能满足熔炼工艺要求。
电子束轰击炉如果发生故障(如产生高压放电现象)加速电压大幅度变化时,电子束焦点位置和偏转角度的变化将有可能超出允许范围,造成电子束脱靶的不良后果。
因此需要分析加速电压对电子光路的影响机理,结合电子束轰击炉熔炼工艺对电子光路的实际要求,设计一种在电子束轰击炉的加速电压波动时,能够自动稳定电子束焦点位置和偏转扫描区域的新的电子光路系统电源控制方法及电源装置。
(三)发明内容
本发明的目的是设计一种电子束轰击炉电子光路系统电源控制方法,电子光路系统的运行参数以电子束发生系统电源的加速电压为参量,按特殊的规律控制聚焦电流的幅值和偏转扫描电流的幅值伺服加速电压变化,消除加速电压波动对电子光路系统运行参数的干扰。
本发明的另一目的是根据上述控制方法设计一种电子束轰击炉电子光路系统的电源装置,以电子束发生系统电源的加速电压取样信号作为聚焦电源和偏转扫描电源的控制信号,电子束的焦点及偏转扫描区域不受加速电压变化影响,为电子束轰击炉稳定可靠工作奠定基础。
电子光路系统的任务是将电子枪中形成的束流参数变换为作用点所需要的束流参数。其工作电源包括聚焦电源和偏转扫描电源。
本发明电子束轰击炉电子光路系统电源的控制方法包括对两级聚焦电源的控制方法和对X、Y轴两组偏转扫描电源的控制方法。本方法以电子束发生系统电源的加速电压线性取样信号的开方值作为聚焦电源和偏转扫描电源的控制信号,聚焦电流的幅值和偏转扫描电流的幅值按此信号线性变化,使电子光路系统运行参数在加速电压波动时不受影响保持恒定,为电子束轰击炉提供便于调节而且稳定的电子光路系统电源。
由于电子束因斥力和空间电荷作用而具有径向分量速度使束发散,所以使电子束聚焦是导向和维持电子束外形的一种措施。电子束轰击炉电子光路系统采用磁聚焦方法。在电子枪结构确定后,聚焦线圈构成的磁透镜的焦距f正比于电子束的加速电压UA与励磁电流IF平方的比值,即f∝UA/(IF)2。在加速电压UA变化时,为了保持磁透镜焦距f不变,本发明设计的聚焦电源励磁电流控制系统按即采用电流负反馈控制聚焦线圈电流,加速电压取样信号Ua经开方运算后作为给定信号提供给聚焦电源调节器,控制聚焦电流IF。从而控制聚焦线圈构成的磁透镜的焦距f恒定,确保运行过程中电子束焦点固定于希望位置。
偏转和扫描的作用是保证电子束流在靶上的位置合理,功率分布均匀,在电子束轰击炉电子光学系统中采用磁偏转方法。在电子枪结构确定后,经过偏转扫描线圈磁场区的电子束偏转角α与加速电源电压UA、偏转线圈的电流IDS间的关系为 在加速电压UA变化时,要获得同样的偏转角α,本发明设计的偏转扫描电源按 即采用电流负反馈控制偏转扫描线圈电流,偏转和扫描参考信号综合后,乘以一个正比于加速电压取样信号Ua开方值的因子,作为偏转线圈电流的总设定信号,使得加速电压UA变化时电子束仍按偏转信号偏转,按扫描信号的波形扫描,电子束的偏转角α及扫描的区域不受加速电压变化影响。
本发明按上述控制方法设计的电子束轰击炉电子光路系统电源装置包括分别接至第一、第二磁透镜线圈的两组聚焦电源以及分别接至X、Y轴方向偏转扫描线圈的两组偏转扫描电源。
从电子束发生系统的电源装置引出加速电压线性取样信号接入开方器,开方器的输出端分别接入两组聚焦电源和两组偏转扫描电源的控制电路。
两组聚焦电源的结构相同,均包括聚焦整流滤波电路,聚焦电流取样电阻,续流二极管,高速开关功率管,聚焦电流设定电位器,聚焦电流控制器。聚焦整流滤波电路为双极性整流电路结构,两个幅值相等相位相反的交流电源以三线制形式接入聚焦整流滤波电路,交流电转换成平直的双极性直流电;聚焦整流滤波电路输出的正端接入高速开关功率管的输入端,输出的负端与续流二极管的阳极相接,输出的参考端与聚焦线圈的一端相连;高速开关功率管的输出端与续流二极管的阴极相接,并经聚焦电流取样电阻接入聚焦线圈的另一端;聚焦电流取样电阻两端输出正比于聚焦电流大小的电压信号作为聚焦电流负反馈信号接入聚焦电流控制器;聚焦电流设定电位器的输入端与开方器的输出端相连,其输出端接入聚焦电流控制器,送入聚焦电流的设定值信号。聚焦电流控制器的输出端接入高速开关功率管的控制端。聚焦电流控制器为电流滞环跟踪脉冲调制控制器,当聚焦电流反馈信号小于设定值信号某一数值时,聚焦电流控制器控制高速开关功率管导通,聚焦整流滤波电路输出的正电源向聚焦线圈充电使得聚焦电流升高,当聚焦电流反馈信号大于设定值信号某一数值时,聚焦电流控制器控制高速开关功率管关断,聚焦线圈经续流二极管向聚焦整流滤波电路输出的负电源放电使得聚焦电流降低,此过程反复进行,控制聚焦电流在以希望值为中心线上下小范围内高频振荡。聚焦电源采用双极性直流供电和电流滞环跟踪脉冲调制控制方式,聚焦电流相对希望值被限制在很小范围内变化能够满足熔炼工艺对电子束焦点位置稳定度的要求,而当加速电压变化时聚焦电流希望值跟随变化,聚焦电流伺服响应时间极短。调节聚焦电流设定电位器,电子束焦点位置将随之发生变化。在某加速电压值下,调节电子束焦点到合适位置,固定好该设定电位器,当工作过程加速电压发生变化,聚焦电源控制电路自动调节聚焦电流,聚焦电流有规律地跟随加速电压变化,电子束焦点位置基本不变。
两组偏转扫描电源的结构相同,包括偏转扫描整流滤波电路,偏转扫描电流取样电阻,高速开关推挽电路,扫描信号发生器,偏转电流设定电位器,乘法器,偏转扫描电流控制器。偏转扫描整流滤波电路为双极性整流电路结构,两个幅值相等相位相反的交流电源以三线制形式接入偏转扫描整流滤波电路,交流电转换成平直的双极性直流电;偏转扫描整流滤波电路输出的正、负端分别接入高速开关推挽电路的正、负输入端,参考端与偏转扫描线圈的一端相连;高速开关推挽电路的输出端经偏转扫描电流取样电阻接入偏转扫描线圈的另一端;偏转扫描电流取样电阻两端输出正比于偏转扫描电流大小的电压信号作为偏转扫描电流负反馈信号接入偏转扫描电流控制器;偏转电流设定电位器输出偏转电流的设定值信号,扫描信号发生器输出扫描电流波形及幅值设定信号,此两信号叠加综合后接入乘法器的一输入端,加速电压取样信号经开方器后接入乘法器另一输入端,乘法器输出作为偏转扫描电流的总设定值信号接到偏转扫描电流控制器的输入端;偏转扫描电流控制器的输出端接入高速开关推挽电路的控制端。偏转扫描电流控制器为电流滞环跟踪脉冲调制控制器,当偏转扫描线圈需要通入正向电流时,如果反馈信号小于设定值信号某一数值,偏转扫描电流控制器控制高速开关推挽电路中的与偏转扫描整流滤波电路输出正端相接的上桥臂功率开关管开通,与偏转扫描整流滤波电路输出负端相接的下桥臂功率开关管关断,偏转扫描整流滤波电路输出的正电源向偏转扫描线圈充电使得偏转扫描电流升高,直到偏转扫描电流反馈信号大于设定值信号值,偏转扫描电流控制器控制推挽电路中的上桥臂功率开关管关断,下桥臂功率开关管开通,由于偏转扫描线圈中的电流不能突变,下桥臂功率开关管承受反压并无电流通过,偏转扫描线圈中的电流需经下桥臂续流二极管向偏转扫描整流滤波电路输出的负电源放电使得偏转扫描电流降低,此过程反复进行,控制偏转扫描电流在以希望值为中心线的上下小范围内高频振荡;当偏转扫描线圈需要通入反向电流时,工作情况与上述相反,偏转扫描电流仍被控制在以希望值为中心线的上下小范围内高频振荡;当偏转扫描线圈中的电流需要转向时,上、下桥臂功率开关管换流先经续流二极管续流缓冲阶段,此阶段偏转扫描线圈中的电流向反向电源放电衰减至零,然后由反向电源反方向充电才完成换流。偏转扫描电源采用双极性直流供电和电流滞环跟踪脉冲调制控制方式,偏转扫描电流相对希望值被限制在很小范围内变化能够满足熔炼工艺对电子束偏转角度和扫描区域稳定度的要求,而当加速电压变化时偏转扫描电流希望值跟随变化,偏转扫描电流伺服响应时间极小。在某加速电压值下,调节偏转设定电位器,让电子束按工艺要求向某个方位偏转合适的角度,同时在扫描信号发生器中选定扫描波形及幅值。当工作过程加速电压发生变化,偏转扫描电流总设定值信号有规律地跟随加速电压变化,电子束偏转的角度和扫描的区域的变化被抑制在很小的范围内。
本发明电子束轰击炉电子光路系统电源控制方法及电源装置的优点为:聚焦电流和偏转扫描电流自动跟踪加速电压变化,加速电压正常波动时,电子束焦点位置和偏转扫描的区域基本保持不变;如果发生故障(如产生高压放电现象)加速电压大幅度变化时,电子束焦点位置和偏转扫描区域的变化被及时抑制在允许范围之内,避免电子束脱靶,打到坩锅或炉体上造成损坏。电源装置采用双极性直流供电和电流滞环跟踪脉冲调制控制方式,电源工作电流在满足稳态偏差性能指标的前提下,具有更快的动态跟随性能指标。
(四)附图说明
图1为本发明电子束轰击炉电子光路系统电源装置实施例结构示意图,1-电子束发生系统,2-第一聚焦线圈,3-第二聚焦线圈,4-偏转扫描线圈,5-电子束,6-靶(熔池),7-电子束发生系统电源,8-聚焦电源,9-偏转扫描电源,10-开方器。
图2为图1中聚焦电源8结构示意图,8-1-聚焦整流滤波电路,8-2-聚焦线圈,8-3-聚焦电流取样电阻,8-4-续流二极管,8-5-高速开关功率管,8-6-聚焦电流设定电位器,8-7-聚焦电流控制器。
图3为图1中偏转扫描电源9结构示意图,9-1-偏转扫描整流滤波电路,9-2-偏转扫描线圈,9-3-偏转扫描电流取样电阻,9-4-高速开关推挽电路,9-5-扫描信号发生器,9-6-偏转电流设定电位器,9-7-乘法器,9-8-偏转扫描电流控制器。
(五)具体实施方式
本发明电子束轰击炉电子光路系统电源的控制方法实施例如下:以电子束发生系统电源的加速电压线性取样信号的开方值作为聚焦电源和偏转扫描电源的控制信号。
本例的聚焦电源的励磁电流控制系统以加速电压取样信号Ua的开方值作为设定信号提供给聚焦电源调节器,采用电流负反馈控制聚焦线圈电流,从而控制聚焦线圈构成的磁透镜的焦距f在加速电压变化时保持恒定。本例的偏转扫描电源以加速电压取样信号Ua的开方值作为设定信号提供给偏转扫描电源调节器,采用电流负反馈控制偏转扫描线圈电流,偏转和扫描参考信号综合后,乘以一个正比于加速电压取样信号Ua开方值的因子,作为偏转线圈电流总设定值信号,控制偏转扫描线圈电流,使得加速电压UA变化时电子束仍按偏转信号偏转,按扫描信号的波形扫描,电子束的偏转角α及扫描的区域不受加速电压变化影响。
本发明电子束轰击炉电子光路系统电源装置实施例如图1所示,电子束发生系统1产生的电子束经过电子束轰击炉的电子光学系统对其聚焦和对其偏转扫描调整后,电子束合理分布于靶6上进行加热熔炼。电子束光学系统有作为聚焦磁透镜的第一聚焦线圈2和第二聚焦线圈3,还有偏转扫描线圈4。二聚焦线圈2、3的聚焦电源8的结构和聚焦电流的控制规律相同。偏转扫描线圈4有两对磁极的线圈,在电子枪中对称安装,一对磁极磁场使得电子束沿径向平面的X轴偏转,另一对磁极磁场使得电子束沿径向平面的Y轴偏转。两对磁极磁场的共同作用,使得电子束沿径向平面任意偏转。磁场强度通过偏转扫描线圈的励磁电流来控制,两对磁极的励磁电源9和励磁电流控制规律相同。从电子束发生系统的电源装置7引出加速电压线性取样信号Ua接入开方器10,开方器10输出信号分别接入两组聚焦电源8和两组偏转扫描电源9的控制电路。
图2所示为图1中聚焦电源8的电路结构示意图。包括聚焦整流滤波电路8-1,聚焦电流取样电阻8-3,续流二极管8-4,高速开关功率管8-5,聚焦电流设定电位器8-6,聚焦电流控制器8-7。聚焦整流滤波电路8-1为双极性整流电路结构,两个幅值相等相位相反的交流电源UAC1、UAC2以三线制形式接入聚焦整流滤波电路8-1,构成双极性直流供电装置;聚焦整流滤波电路8-1输出的正端接入高速开关功率管8-5的输入端,其输出的负端与续流二极管8-4的阳极相接,其输出的参考端与聚焦线圈8-2的一端相连;高速开关功率管8-5的输出端与续流二极管8-4的阴极相接,并经聚焦电流取样电阻8-3接入聚焦线圈8-2的另一端;聚焦电流取样电阻8-3两端输出正比于聚焦电流IF大小的电压信号If作为聚焦电流负反馈信号接入聚焦电流控制器8-7;聚焦电流设定电位器8-6的输入端与开方器10的输出端相连,聚焦电流设定电位器8-6的输出端接入聚焦电流控制器8-7,送入聚焦电流的设定值信号If *。聚焦电流控制器8-7的输出端接入高速开关功率管8-5的控制端。聚焦电流控制器8-7为电流滞环跟踪脉冲调制控制器,聚焦电流设定值信号If *与反馈信号If比较产生偏差信号ΔIf,即 当ΔIf为负且幅值大于某一设定值时,聚焦电流控制器8-7控制高速开关功率管8-5导通,聚焦整流滤波电路8-1输出的正电源向聚焦线圈8-2充电使得聚焦电流IF升高,直到ΔIf为正且幅值大于某一设定值时,聚焦电流控制器8-7控制高速开关功率管8-5关断,聚焦线圈8-2中电流IF经续流二极管8-4向聚焦整流滤波电路8-1输出的负电源放电使得聚焦电流IF降低,此过程反复进行,控制聚焦电流IF以希望值为中心线上下小范围内高频振荡。
图3所示为本发明实施例中偏转扫描电源电路结构。包括偏转扫描整流滤波电路9-1,偏转扫描电流取样电阻9-3,高速开关推挽电路9-4,扫描信号发生器9-5,偏转电流设定电位器9-6,乘法器9-7,偏转扫描电流控制器9-8。偏转扫描整流滤波电路9-1为双极性整流电路结构,两个幅值相等相位相反的交流电源UAC3、UAC4以三线制形式接入偏转扫描整流滤波电路9-1;偏转扫描整流滤波电路9-1输出的正、负端分别接入高速开关推挽电路9-4的正、负输入端,其输出的参考端与偏转扫描线圈9-2的一端相连;高速开关推挽电路9-4的输出端经偏转扫描电流取样电阻9-3接入偏转扫描线圈9-2的另一端;偏转扫描电流取样电阻9-3两端输出正比于偏转扫描电流IDS大小的电压信号Ids作为偏转扫描电流负反馈信号接入偏转扫描电流控制器9-8;偏转电流设定电位器9-6输出偏转电流的设定值信号Id *,扫描信号发生器9-5输出扫描电流波形及幅值设定信号Is *,此两信号叠加综合后接入乘法器9-7的一输入端,加速电压取样信号Ua经开方器10后的信号接入乘法器9-7另一输入端,乘法器9-7输出信号作为偏转扫描电流IDS总设定信号Ids *接到偏转扫描电流控制器9-8的输入端;偏转扫描电流控制器9-8的输出端接入高速开关推挽电路9-4的控制端。偏转扫描电流控制器9-8为电流滞环跟踪脉冲调制控制器,偏转扫描电流IDS总设定信号Ids *与反馈信号Ids比较产生偏转扫描电流IDS的偏差信号ΔIds,即 如果偏转扫描线圈9-2需要通入正向电流,当ΔIds为负且幅值大于某设定值时,偏转扫描电流控制器9-8控制高速开关推挽电路9-4中的上桥臂功率开关管开通,下桥臂功率开关管关断,偏转扫描整流滤波电路9-1输出的正电源向偏转扫描线圈9-2充电使得偏转扫描电流IDS升高,直到ΔIds为正且幅值大于某设定值时,偏转扫描电流控制器9-8控制推挽电路中的上桥臂功率开关管关断,下桥臂功率开关管开通,由于偏转扫描线圈中的电流不能突变,下桥臂功率开关管承受反压并无电流通过,偏转扫描线圈9-2中的电流IDS需经下桥臂续流二极管向偏转扫描整流滤波电路9-1输出的负电源放电使得偏转扫描电流IDS降低,此过程反复进行,控制偏转扫描电流IDS以希望值为中心线上下小范围内高频振荡;当偏转扫描线圈9-2需要通入反向电流时,工作情况与上述相反,偏转扫描电流IDS亦被控制在以希望值为中心线上下小范围内高频振荡;当偏转扫描线圈9-2中的电流需要转向时,上、下桥臂功率开关管换流先经续流二极管续流缓冲阶段,此阶段偏转扫描线圈9-2中的电流IDS向反向电源放电衰减至零,然后由反向电源反方向充电才完成换流。
本发明实施例电源装置聚焦电流和偏转扫描电流自动跟踪加速电压变化,聚焦线圈和偏转扫描线圈的励磁电源采用双极性直流供电和电流滞环跟踪脉冲调制技术,两者工作电流在满足稳态偏差性能指标的前提下,具有更快的动态跟随性能指标。
Claims (5)
1、一种电子束轰击炉电子光路系统电源的控制方法,包括对聚焦电源的和对偏转扫描电源的控制方法,其特征在于:
以电子束发生系统电源的加速电压的线性取样信号的开方值作为聚焦电源和偏转扫描电源的控制信号,聚焦电流的幅值和偏转扫描电流的幅值按此控制信号线性变化,使得电子光路系统运行参数在加速电压波动时保持恒定。
2、根据权利要求1所述的电子束轰击炉电子光路系统电源的控制方法,其特征在于:
聚焦线圈的聚焦电流控制系统以加速电压取样信号的开方值作为设定信号提供给聚焦电源调节器,采用电流负反馈控制聚焦线圈电流,控制聚焦线圈构成的磁透镜的焦距f在加速电压变化时保持恒定。
3、根据权利要求1所述的电子束轰击炉电子光路系统电源的控制方法,其特征在于:
偏转扫描电源以加速电压取样信号的开方值作为控制信号提供给偏转扫描电源调节器,采用电流负反馈控制偏转扫描线圈电流。偏转和扫描电流参考信号综合后,乘以一个正比于加速电压取样信号开方值的因子,作为偏转线圈电流的总设定信号,控制偏转扫描线圈电流,使得加速电压变化时电子束仍按偏转信号偏转,按扫描信号的波形扫描,且电子束的偏转角α及扫描的区域不受加速电压变化影响。
4、根据权利要求1至3中任一项所述的电子束轰击炉电子光路系统电源的控制方法设计的电子束轰击炉电子光路系统电源装置,电子束发生系统(1)产生的电子束经过电子束轰击炉的电子光学系统对其聚焦和对其偏转扫描调整后,电子束合理分布于靶(6)上进行加热熔炼;电子束光学系统有作为聚焦磁透镜的第一聚焦线圈(2)和第二聚焦线圈(3),还有偏转扫描线圈(4);二聚焦线圈(2、3)的聚焦电源(8)的结构和聚焦电流的控制规律相同,偏转扫描线圈(4)有两对磁极的线圈,在电子枪中对称安装,一对磁极磁场使得电子束沿径向平面的X轴偏转,另一对磁极磁场使得电子束沿径向平面的Y轴偏转,磁场强度通过偏转线圈的励磁电流来控制,两对磁极的偏转扫描电源(9)和励磁电流控制规律相同;其特征在于:
从电子束发生系统(1)的电源装置(7)引出加速电压线性取样信号接入开方器(10),开方器(10)的输出端分别接入两组聚焦电源(8)和两组偏转扫描电源(9)的控制电路;
聚焦电源(8)包括聚焦整流滤波电路(8-1),聚焦电流取样电阻(8-3),续流二极管(8-4),高速开关功率管(8-5),聚焦电流设定电位器(8-6),聚焦电流控制器(8-7);聚焦整流滤波电路(8-1)为双极性整流电路结构,两个幅值相等相位相反的交流电源(UAC1、UAC2)以三线制形式接入聚焦整流滤波电路(8-1);聚焦整流滤波电路(8-1)输出的正端接入高速开关功率管(8-5)的输入端,其输出的负端与续流二极管(8-4)的阳极相接,其输出的参考端与聚焦线圈(8-2)的一端相连;高速开关功率管(8-5)的输出端与续流二极管(8-4)的阴极相接,并经聚焦电流取样电阻(8-3)接入聚焦线圈(8-2)的另一端;聚焦电流取样电阻(8-3)两端输出的电压信号作为聚焦电流负反馈信号接入聚焦电流控制器(8-7);聚焦电流设定电位器(8-6)的输入端与开方器(10)的输出端相连,聚焦电流设定电位器(8-6)的输出端接入聚焦电流控制器(8-7),送入聚焦电流的设定值信号,聚焦电流控制器(8-7)的输出端接入高速开关功率管(8-5)的控制端;
偏转扫描电源(9)包括偏转扫描整流滤波电路(9-1),偏转扫描电流取样电阻(9-3),高速开关推挽电路(9-4),扫描信号发生器(9-5),偏转电流设定电位器(9-6),乘法器(9-7),偏转扫描电流控制器(9-8);偏转扫描整流滤波电路(9-1)为双极性整流电路结构,两个幅值相等相位相反的交流电源(UAC3、UAC4)以三线制形式接入偏转扫描整流滤波电路(9-1);偏转扫描整流滤波电路(9-1)输出的正、负端分别接入高速开关推挽电路(9-4)的正、负输入端,其输出的参考端与偏转扫描线圈(9-2)的一端相连;高速开关推挽电路(9-4)的输出端经偏转扫描电流取样电阻(9-3)接入偏转扫描线圈(9-2)的另一端;偏转扫描电流取样电阻(9-3)两端输出的电压信号作为偏转扫描电流负反馈信号接入偏转扫描电流控制器(9-8);偏转电流设定电位器(9-6)输出偏转电流的设定值信号,扫描信号发生器(9-5)输出扫描电流波形及幅值设定信号,此两信号叠加综合后接入乘法器(9-7)的一输入端,加速电压取样信号经开方器(10)后接入乘法器(9-7)另一输入端,乘法器(9-7)输出接到偏转扫描电流控制器(9-8)的输入端;偏转扫描电流控制器(9-8)的输出端接入高速开关推挽电路(9-4)的控制端。
5、根据权利要求4所述的电子束轰击炉电子光路系统电源装置,其特征在于:
所述聚焦电流控制器(8-7)为电流滞环跟踪脉冲调制控制器;所述偏转扫描电流控制器(9-8)为电流滞环跟踪脉冲调制控制器。
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- 2008-01-09 CN CN200810073413A patent/CN100584132C/zh not_active Expired - Fee Related
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