CN100549835C - 曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置，其使由具有多个光学单元L1～L13的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置，其对由多个光学单元L1～L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元L1～L13的变动。

Description

曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法

技术领域

本发明涉及一种经由投影光学系统所投影的图样(pattern)的像曝光转印至感光基板等的物体上所用的曝光装置和曝光方法以及使用此曝光装置的微元件的制造方法。

背景技术

液晶显示装置等平板显示元件是通过使光罩上所形成的图样转印至感光性基板上所用的所谓微影(photolithography)方法来制造。此种微影过程中所用的曝光装置具有：支持光罩用的光罩台(stage)以及支持基板用的基板台。曝光装置一方面使光罩台和基板台逐次移动，且另一方面通过投影光学系统使光罩的图样转印至基板上。在扫描型曝光装置中，在制造液晶显示装置时，使用大型的玻璃基板(plate)作为基板，由于显示区域的大型化的要求而一方面同步地对光罩台和基板台进行扫描，且另一方面使光罩的图样连续地转印至基板上，此种扫描型曝光装置具有多个并列的投影光学单元以作为投影光学系统，主要是使用所谓多透镜扫描型曝光装置(例如，请参阅日本国特开平7-57986号公报)。

多个投影光学单元是以自动聚焦检出系统分别配置在扫描方向的二侧的包夹方式而构成。然后，扫描方向前方侧所配置的投影光学单元以及后方侧所配置的投影光学单元通过不同的支持体以支持在圆柱(曝光装置的本体)上，但在光罩台和基板台移动时，只要在圆柱(column)中发生一点点歪斜变形时，则投影光学单元的光学特性(成像特性)即会变化而发生”不能进行高精度的曝光处理”的问题。特别是，多个投影光学单元各别地互相以不同的支持体来支持而构成时，多个投影光学单元互相之间的相对位置会发生变化而不能进行高精度的曝光处理。又，液晶显示装置制造用的扫描型曝光装置的投影光学系统一般是正立等倍系统，在扫描曝光时，由于光罩台和基板台是在同方向中移动，则对该圆柱(column)的偏负载会变大，上述问题会明显地显示出。而且，随着基板的大型化的要求，装置全体(圆柱全体)也大型化，此时圆柱不能得到足够的刚性，上述问题会更加明显。因此，已提出一种曝光装置(请参阅日本国特开2004-177468号公报)，其中扫描方向前方侧中所配置的投影光学单元和后方侧所配置的投影光学单元通过1个平台(支持体)而支持在圆柱上。

上述的日本国特开2004-177468号公报中已揭示的曝光装置中，载置着扫描方向前方侧上所配置的投影光学单元和后方侧上所配置的投影光学单元所用的平台通过支持部所具有的球状构件而支持在圆柱上。此处，平台上设有使投影像形成在基板上所用的开口部，且通过支持部所具有的球状构件上所作用的摩擦力和投影光学单元自体的重量而在平台上产生扭曲成份，这样可能会在扫描方向前方侧上已配置的投影光学单元和后方侧上已配置的投影光学单元之间在投影位置上产生偏移(扫描方向中的偏移、与扫描方向交叉的方向中的偏移以及以投影光学系统的光轴方向作为轴时的旋转方向中的偏移)。

然而，平板伴随着液晶显示元件的大型化而大型化，现在也使用1m(米)四角形以上的平板(玻璃基板)，同时光罩也大型化。曝光装置中所要求的装置的图样规则若一定，则大型的光罩中也要求一种与小型的光罩同样的平面度。于是，为了使大型的光罩的弯曲与小型光罩的弯曲受到同程度的抑制，则大型光罩的厚度需较小型光罩的厚度大辐地增加。又，一般而言TFT(Thin Film Transistor)型的液晶显示器(面板)的制造中所使用的光罩由于成本高的石英玻璃而使大型化时制造成本增大。而且，维持光罩的平面度所需的成本、光罩图样的检查时间的增大等所造成的成本等也会增大。

因此，使用DMD(Digital Micro-mirror Device或Deformable Micro-mirrorDevice)以取代光罩，建议一种无光罩的曝光装置以将图样曝光转印至基板上。在此种无光罩的曝光装置中，与使用先前的光罩的投影曝光装置同样地，载置着扫描方向前方侧上所配置的投影光学单元和后方侧上所配置的投影光学单元所用的平台由于以圆柱支持着，则会产生一种与使用上述通常的光罩的投影曝光装置同样的问题。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种可对多个光学单元间所产生的光学性能的变化(例如，投影位置的偏移等)进行补正的曝光装置和曝光方法以及使用此曝光装置的微元件的制造方法。

依据本发明的第1观点而提供一种曝光装置，其使通过具有多个光学单元的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体上，此曝光装置具备一种补正装置，其对由多个光学单元投影至物体上的多个像之中的至少1个像的位置进行补正，使多个光学单元的变动获得补偿。

依据本发明的第2观点而提供一种曝光方法，其使通过具有多个光学单元的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体上，一方面对由此多个光学单元投影至该物体上的多个像之中的至少1个像的位置进行补正，且另一方面进行曝光，使多个光学单元的变动获得补偿。

本发明的第1观点所述的曝光装置和本发明的第2观点所述的曝光方法中，由于多个光学单元所形成的多个像之中的至少1个像的位置可获得补正，则可对相邻的光学单元所形成的像的位置偏移进行补正，使多个光学单元的变动获得补偿。因此，即使由于支持多个光学单元所用的构件的变形而产生像的位置偏移时，相邻的光学单元的接续部仍可正确地成为一致，使所定的图样精度良好地转印至物体上。

依据本发明的第3观点而提供一种微元件的制造方法，其包括：曝光过程，其使用本发明的第1观点所述的曝光装置，使图样的像曝光转印至感光基板等的物体上；以及显像过程，其使曝光过程中已曝光转印在该物体上的图样予以显像。

在本发明的第3观点所述的微元件的制造方法中，由于使用本发明的第1观点所述的曝光装置以进行曝光处理，则可使所定的图样精度良好地转印至物体上以得到高性能、高品质、高可靠性的微元件。

又，本发明当然是一种”通过具有多个光学单元的光学系统使光罩上所形成的图样曝光转印至物体上所用的曝光装置”。本发明也可适用在曝光装置等之中，使产生任意的图样所用的可变成形光罩(例如，含有上述的DMD等的非发光型图像显示元件(空间光变调器)等)所产生的图样通过具有多个光学单元的光学系统而曝光转印至物体上。

为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1是本发明的第1实施形式所述的扫描型曝光装置的概略构成的斜视图。

图2是本发明的第1实施形式的曝光光学系统的构成。

图3是本发明的第1实施形式的DMD的构成。

图4是由本发明的第1实施形式的DMD至点像视野光圈为止的构成。

图5是本发明的第1实施形式的微透镜阵列及点像视野光圈的一部份的构成。

图6是本发明的第1实施形式的投影光学组件的构成。

图7是本发明的第1实施形式的平板上之各投影光学组件所形成的投影区域的平面图。

图8是本发明的第1实施形式的扫描型曝光装置的概略构成。

图9是本发明的第1实施形式的扫描型曝光装置的概略构成。

图10是本发明的第1实施形式的支持部的构成。

图11是本发明的第1实施形式的曝光光学系统和平台的上面图。

图12是本发明的第1实施形式的传感器的构成的上面图。

图13是本发明的第1实施形式的传感器的构成的正面图。

图14是本发明的第1实施形式的传感器的构成的侧面图。

图15是本发明的第1实施形式的扫描型曝光装置的系统构成的方块图。

图16是本发明的第1实施形式中对通过点像视野光圈的各开口部的光束到达平板上的位置作说明时用的图。

图17是本发明的第1实施形式中对通过点像视野光圈的各开口部的光束到达平板上的位置作说明时用的图。

图18是本发明的第1实施形式的楔形棱镜的构成。

图19是本发明的第1实施形式的楔形棱镜以X轴方向作为轴而旋转时的状态说明用的图解。

图20是本发明的第1实施形式的楔形棱镜以X轴方向作为轴而旋转时的状态说明用的图解。

图21是本发明的第1实施形式的楔形棱镜以X轴方向作为轴而旋转时的状态说明用的图解。

图22是本发明的第1实施形式的楔形棱镜以X轴方向作为轴而旋转时的状态说明用的图解。

图23是本发明的第1实施形式的楔形棱镜以X轴方向作为轴而旋转时的投影区域说明用的图解。

图24是本发明的第1实施形式的平台的变形例的图解。

图25是本发明的第1实施形式的平台变形时曝光光学系统的状态图。

图26是本发明的第1实施形式的平台的变形例。

图27是本发明的第1实施形式的另一投影光学组件的构成。

图28是本发明的第1实施形式的另一投影光学组件的构成。

图29是本发明的第1实施形式的另一曝光光学系统的构成。

图30a是本发明的第1实施形式的另一曝光光学系统的构成。

图30b是本发明的第1实施形式的另一曝光光学系统的构成。

图31是本发明的第2实施形式所属的曝光装置的概略构成图。

图32是本发明的第2实施形式所属的曝光装置的概略斜视图。

图33是支持本发明的第2实施形式的投影光学组件用的平台的斜视图。

图34是支持本发明的第2实施形式的投影光学组件用的平台的平面图。

图35a是本发明的第2实施形式的支持部的扩大图。

第35b是本发明的第2实施形式的支持部的扩大图。

图36是本发明的第2实施形式的传感器的配置状态图。

图37a是本发明的第2实施形式的传感器中测定相对的距离用的第1投影光学单元和第2投影光学单元中的位置说明用的图。

图37b是本发明的第2实施形式的传感器中测定相对的距离用的第1投影光学单元和第2投影光学单元中的位置说明用的图。

图37c是本发明的第2实施形式的传感器中测定相对的距离用的第1投影光学单元和第2投影光学单元中的位置说明用的图。

图38a是本发明的第2实施形式的平台的变形例。

图38b是本发明的第2实施形式的平台的变形例。

图39是本发明的第2实施形式的投影光学组件的构成图。

图40是本发明的第2实施形式的光罩支件的位置计测用的激光干涉系统的构成图。

图41是本发明的第2实施形式的基板支件的位置计测用的激光干涉系统的构成图。

图42是本发明的第2实施形式的另一传感器的配置状态的图解。

图43是本发明的实施形式中作为微元件用的半导体装置的制造方法说明用的流程图。

图44是本发明的实施形式中作为微元件用的液晶显示元件的制造方法说明用的流程图。

具体实施方式

[第1实施形式]

以下将参照附图来说明本发明的第1实施形式。图1是本发明的第1实施形式所述的扫描型曝光装置的概略构成的斜视图。本实施形式中，使作为已涂布感光性材料(光阻)的感光基板用的平板P对多个(本例中是13个)曝光光学系统L1～L13作相对的移动，且另一方面举例来说明一种步进和扫描(step and scan)方式的扫描型投影曝光装置，其使液晶显示元件等的图样转印至平板P上。

又，在以下的说明中，设定图1中所示的直交座标系统，一方面参照该XYZ直交座标系统，且另一方说明各构件的位置关系。XYZ直交座标系统中X轴和Y轴对平板P设定成平行，Z轴对平板P设定成直交的方向。图中的XYZ座标系统中实际上XY平面设定成与水平面相平行，Z轴设定成铅直方向。又，本实施形式中，使平板P移动的方向(扫描方向)设定在X方向中。

上述的扫描型曝光装置具备：平板台(基板台)PST，其支扰着外径较500毫米还大的平板P；多个曝光光学系统L1～L13，其用来使任意的图样在该平板P上曝光；圆柱1，其通过平台9(参阅图8)来支持着曝光光学系统L1～L13；以及控制装置CONT1(参阅图15)，其整体上控制着各种与曝光处理有关的动作。多个曝光光学系统L1～L13各别地容纳在筐体中且搭载在圆柱1中。曝光光学系统L1、L3、L5、L7、L9、L11、L13位于扫描方向的后方侧(-X方向测)且与Y方向(非扫描方向)并行而配置着。曝光光学系统L2、L4、L6、L8、L10、L12位于扫描方向的前方侧(+X方向侧)且与Y方向并行而配置着。

由图中未显示的LD光源部所射出的光束入射至光纤中。本实施形式中，对应于各曝光光学系统L1～L13而设有多个LD光源部和光纤。又，也可设有1个LD光源部和1个光纤，光纤具有对应于各曝光光学系统L1～L13的多个光纤射出端。

图2是曝光光学系统(第1曝光单元)L1的概略构成图。由图中未显示的LD光源部所射出-且入射至光纤2中的光束由光纤2的射出端射出。由光纤2的射出端射出的光束经由准直器(collimator)光学系统4和镜面6以均一地照射至构成此曝光光学系统L1的数字微镜面装置DMD(Digital Micro-mirror Device或Deformable Micro-mirror Device)8。又，DMD 8亦可与曝光光学系统L1分别地设置着。

图3是DMD(补正装置)8的构成的图解。如图3所示，DMD 8具有作为已划分成微小区域的装置用的多个微镜面(反射构件)8a。各微镜面8a在构成上可独立地变更其角度，DMD 8在功能上用作可变成形光罩(第1可变成形光罩)，其通过使各微镜面8a的角度发生变化以对应于所定的图象数据来对光束进行调变。即，在平板P的扫描的同时，使一部份的微镜面8a的角度发生变化，以便使反射光导入至后述的中继(relay)光学系统10中，且通过使另一部份的微镜面8a的角度发生变化，使反射光在与中继光学系统10不同的方向中进行，以便在相对应的曝光区域上依序产生已投影的任意图样。

由DMD 8(一部份的微镜面8a)所反射的光束入射至中继光学系统10中。图4显示此中继光学系统10的构成。中继光学系统10具备中继透镜群12a、光圈14、中继透镜群12b以及中继透镜群12c。光束经由中继透镜群12a、光圈14、中继透镜群12b以及中继透镜群12c而扩大，以入射至微透镜阵列16中。

图5显示微透镜阵列16及后述的点像视野光圈18的一部份的构成。如图5所示，微透镜阵列16具有多个成份透镜16a，其分别对应于构成DMD 8的微镜面8a，且微透镜阵列16配置在光学上是与该平板P成共轭(conjugate)的位置上或其近旁。又，微透镜阵列16在构成上可在与XY平面相平行的方向中及Z方向中移动且也可对XY平面倾斜。

微透镜阵列16的各成份透镜16a中所通过的光束通过点像视野光圈18。如图5所示，点像视野光圈18具有多个开口部18a，其分别对应于构成微透镜阵列16的成份透镜16a而设置着。通过通过点像视野光圈18的各开口部18a，则可防止此曝光光学系统L1内所发生的鬼影(ghost)、以及DMD 8的开/关(on/off)时产生的“像流动”所造成的对曝光的不良影响。又，点像视野光圈18在构成上可使多个开口部18a的大小变更，通过开口部18a的大小的变更，则可调整此曝光光学系统L1的解像度。

又，点像视野光圈18也可具有多个光透过部，其分别对应于微透镜阵列16的成份透镜16a而设置着以取代多个开口部18a。又，其它的曝光光学系统(第2～第13曝光单元)L2～L13也可分别具备DMD(可变成形光罩)、中继光学系统、微透镜阵列以及点像视野光圈。这些DMD、中继光学系统、微透镜阵列以及点像视野光圈所具有的构成是与DMD 8、中继光学系统10、微透镜阵列16以及点像视野光圈18相同。

如图2所示，点像视野光圈18的各开口部18a中所通过的光束入射至投影光学组件PL1。图6是构成此曝光光学系统L1所用的投影光学组件PL1以及构成此曝光光学系统L2所用的投影光学组件PL2的构成的图解。如图6所示，入射至投影光学组件PL1中的光束入射至构成此投影光学组件PL1所用的焦点调整机构(补正光学系统)20。焦点调整机构20具备第1光学构件20a和第2光学构件20b。第1光学构件20a和第2光学构件20b是一种可透过光束的楔形状的玻璃板且构成一对楔型光学构件。又，第1光学构件20a和第2光学构件20b在构成上可相对移动。通过使第1光学构件20a在X方向中对第2光学构件20b滑动(移动)，使投影光学组件PL1的像面位置在Z方向中移动。

通过此焦点调整机构20的光束入射至移位调整机构(补正光学系统)22。移位调整机构22具备平行平面玻璃板22a，其在构成上可对Y轴旋转；以及平行平面玻璃板22b，其在构成上可对X轴旋转。通过平行平面玻璃板22a对Y轴的旋转，则可使平板P上的图样的像在X轴方向中偏移。通过平行平面玻璃板22b对X轴的旋转，则可使平板P上的图样的像在Y轴方向中偏移。

通过此移位调整机构22的光束入射至一种作为旋转调整机构用的直角棱镜(补正光学系统)24。直角棱镜24在构成上可对Z轴旋转。通过直角棱镜24对Z轴的旋转，则可使平板P上的图样的像相对于Z轴而旋转。由直角棱镜24所反射的光束经由透镜群26而由镜面28所反射。由镜面28所反射的光束再经由透镜群26和直角棱镜24而入射至倍率调整机构(补正光学系统)30中。

倍率调整机构30具有3个透镜30a、30b、30c。此3个透镜30a、30b、30c例如由凹透镜30a、凸透镜30b、凹透镜30c所构成。通过使凸透镜30b在Z方向中移动，则可对平板P上已形成的图样的像进行倍率的调整。通过此倍率调整机构30的光束会在外径的一边较500毫米还大(即，一边或对角线较500毫米还大)的液晶显示元件等的平板显示器用的平板(大型的矩形基板)P上的所定的曝光区域上形成所定的图样的像。又，构成其它曝光光学系统L2～L13所用的投影光学组件(以下称为投影光学组件PL2～PL13)所具有的构成是与投影光学组件PL1者相同。

图7是平板P上的各投影光学组件PL1～PL13各别所形成的投影区域(对应于前述的曝光区域)48a～48m的平面图。各投影区域48a～48m对应于投影光学组件PL1～PL13的视野区域而设定成所定的形状(六角形、菱形、平行四边形或圆弧状等)，此实施形式中具有台形形状。投影区域48a、48c、48e、48g、48i、48k、48m和投影区域48b、48d、48f、48h、48j、48l在X方向中只以所定间隔分开而配置着。又，各别的投影区域48a～48m与相邻的投影区域的端部(边界部)一起在Y方向中重叠地并列而配置着。即，通过曝光光学系统L1～L13，使平板P上相邻接而形成的各别的像互相以像的一部份相重复而形成。

如图1所示，载置着平板P所用的平板台PST设置在一种支持在防振台32a、32b和防振台32c、32d(请参阅图8和图9)上的基座34上。防振台32a～32d不会使由外部而来的振动传送至曝光装置，通常设置3个以上(本实施例中4个)的防振台。平板台PST在构成上可通过线性马达36而在扫描方向(X方向)中移动，平板台PST具有所谓空气台的构成，此空气台能在一种气隙下对导向器37上浮。又，平板台PST具有一种图中未显示的微动台，其在构成上可在非扫描方向(Y方向)中作微量的移动。

又，圆柱1中设有以下将详述的激光干涉计，参照镜(图中未显示)设在收容各别的曝光光学系统L1～L13所用的筐体的所定位置上，平板台PST上设有X移动镜40a、40b以及Y移动镜42。图8和图9是本实施形式中扫描型曝光装置的概略构成的图解。如图8和图9所示，支持各曝光光学系统L1～L13用的平台9通过支持部19而动态地支持在圆柱1上。支持部19分别设在平台9的3个(参阅图10)所定位置处。又，圆柱1虽然也可设在一种与防振台32a～32d(其支持着基座34)相同的设置面(地板(floor)或底板等)上，但较佳是将圆柱1设在基座34上，或通过与防振台32a～32d不同的防振台而将圆柱1设在防振台的设置面上，使成为一种对经由圆柱1(及平台9)而朝向曝光光学系统L1～L13而来的振动的传送具有抑制作用的物体构造。

如图1所示，多个曝光光学系统L1～L13之中的曝光光学系统L1、L3、L5、L7、L9、L11、L13并设在Y方向(与扫描方向交叉的方向)中且配置在X方向(扫描方向)的后方侧(以下称为第1曝光单元群)。第1曝光单元群容纳在筐体U1(参阅图11)内。又，曝光光学系统L2、L4、L6、L8、L10、L12并设在Y方向中且配置在X方向的前方侧(以下称为第2曝光单元群)。第2曝光单元群容纳在筐体U2(参阅图11)内。又，第1曝光单元群和第2曝光单元群配置成在X方向中成对向。构成第1曝光单元群所用的各曝光光学系统L1、L3、L5、L7、L9、L11、L13和构成第2曝光单元群所用的各曝光光学系统L2、L4、L6、L8、L10、L12配置成千鸟状。即，配置成千鸟状的各别的曝光光学系统L1～L13中相邻的光学系统(例如，曝光光学系统L1和L2、L3和L4等)在Y方向中达成所定量的变位而配置着。因此，曝光光学系统L1～L13(投影光学组件PL1～PL13)的投影区域48a～48m在平板P上配置成套匣状(请参阅图7)。

图10是支持部19的扩大图。如图10所示，支持部19设在圆柱1的上部且具备：构件80，其具有球面状凹部80a；以及球状构件82，其具有一种接续至球面状凹部80a的球面82A。构件80固定在圆柱1的上部。又，平台9的下面形成一种可配置球状构件82的V状凹部84，平台9的V状凹部84的内面和球状构件82的球面82A相接续。球状构件82处于一种载置在构件80的球面状凹部80a内的状态中。球状构件82的表面82A对球面状凹部80a的内面而言是可折动(slide)的。而且，平台9经由V状凹部84而处于载置在球状构件82中的状态中，V状凹部84的内面和球状构件82的表面82A成为可折动。由于这些面同时可折动，则例如圆柱1只稍微变形时，这些面可同时折动而使圆柱1对变形的平台9的影响受到抑制。

图11是收容在筐体U1和筐体U2中的曝光光学系统L1～L13和平台9的上面图。如图11所示，支持部19分别设置在平台9的二方向(XY方向)中的3个所定的位置上。如图11中的点线所示，配置着各别的支持部19，使结合3个支持部19所形成的三角形的中心部以及平台9的中心部几乎位于同一位置。因此，即使圆柱1发生变形，整个构成中此中心部仍不会发生大的移动。然后，通过各支持部19以构成所谓动态的支持构造。因此，即使圆柱1变形，收容各曝光光学系统L1～L13所用的筐体UI、U2或平台9亦不会发生大的移动，这样可使多个曝光光学系统L1～L13互相之间的相对位置的变化受到抑制而变小。

又，如图8和图9(图1中未显示)所示，上述的扫描型曝光装置中，在曝光光学系统L12和L13侧(-Y方向侧)上在筐体UI和筐体U2侧面设有传感器(计测装置)C，以对第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对位置关系进行计测。传感器C可对不能由构成动态支持构造所用的支持部19等所抑制的第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对位置的变动量进行测定。即，可对第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对的并进量(X方向中的相对的偏移量)以及姿势差(Y方向中的相对的偏移量)进行测定。例如，可使用静电容量传感器、变位传感器、干涉计等以作为传感器C。如图12所示，传感器C对第1曝光单元群和第2曝光单元群的X方向(扫描方向)中的相对的第1距离X1进行测定。又，如图13所示，对第1曝光单元群和第2曝光单元群的X方向中的相对的第2距离X2进行测定。由传感器C所测定的距离X1和X2对一控制装置CONT1输出。

如图12和图14所示，传感器C对第1曝光单元群和第2曝光单元群的Y方向(与扫描方向交叉的方向)中的相对的第1距离Y1进行测定。又，如图14所示，对第1曝光单元群和第2曝光单元群的Y方向中的相对的第2距离Y2进行测定。由传感器C所测定的距离Y1和Y2对一控制装置CONT1输出。

又，如图1所示，此扫描型曝光装置具有激光干涉计系统以对该平板台PST的位置进行计测。此平板台PST的-X侧的端缘中设有可在Y轴方向中延伸的X移动镜40a、40b。此平板台PST的-Y侧的端缘中设有可在X轴方向中延伸的Y移动镜42。X移动镜40a、40b的对向的位置中一种X激光干涉计38设在基座34上。

曝光光学系统L1～L13的筐体中分别安装着X参照镜(图中未显示)和Y参照镜(图中未显示)。X激光干涉计38以一种测长光束照射至X移动镜40a、40b，同时也将一参照光束分别照射至相对应的X参照镜。依据已照射的测长光束和参照光束而分别由X移动镜40a、40b和X参照镜而来的反射光在X激光干涉计38的受光部中被接收。X激光干涉计38检出干涉光，且使检出结果对该控制装置CONT1输出。此控制装置CONT1依据X激光干涉计38而来的检出结果而对以该参照光束的光路长为基准的测长光束的光路长的变化量进行计测，进而对以X参照镜为基准的X移动镜40a、40b的位置(座标)进行计测。此控制装置CONT1依据此计测结果来求出平板台PST的X轴方向的位置。

又，Y激光干涉计以一种测长光束照射至Y移动镜42，同时也将一参照光束分别照射至Y参照镜。依据已照射的测长光束和参照光束而分别由Y移动镜42和Y参照镜而来的反射光在Y激光干涉计的受光部中被接收。Y激光干涉计检出干涉光，且使检出结果对该控制装置CONT1输出。此控制装置CONT1对以该参照光束的光路长为基准的测长光束的光路长的变化量进行计测，进而对以Y参照镜为基准的Y移动镜42的位置(座标)进行计测。此控制装置CONT1依据此计测结果来求出平板台PST的Y轴方向的位置。

此控制装置CONT1依据平台9的姿势计测结果来控制平板台PST的姿势，以调整此平台9上所支持的曝光光学系统L1～L13和平板台PST(平板P)的相对位置。

又，如图1所示，此扫描型曝光装置在曝光光学系统L1～L13的扫描方向的后方侧(-X方向侧)具有：多个对准系统AL1～AL6，其用来检出平板P上所设置的对准标记；以及自动聚焦系统AF1～AF6，其用来检出平板P的Z方向的位置。又，平板台PST的-X方向的端部中设有基准构件44，其在Y方向中具有多个并列的计测用标记(以下也称为AIS标记)。又，基准构件44的下方设有未图示的空间像计测传感器(AIS)，此空间像计测传感器埋设在平板台PST中。

空间像计测传感器是用来求出各DMD的位置、以及经由各DMD所形成的转印图样的像在平板P上的投影位置之间的关系。

即，移动此平板台PST，使DMD所形成的基准标记和AIS标记成为一致，以空间像计测传感器来检出基准标记的像和AIS标记，依据此检出结果以求出DMD的位置、以及经由DMD所形成的转印图样的像在平板P上的投影位置之间的关系。又，此种情况下，由DMD所形成的基准标记存储在后述的图样存储部74(参阅图15)中，平板台PST的位置通过X激光干涉计38和Y激光干涉计来检出。

又，空间像计测传感器用来求出对准系统AL1～AL6的位置和平板台PST的位置的关系(各对准系统的计测中心的XY座标系统上的位置)。即，移动此平板台PST，使对准系统AL1～AL6的计测区域中心(具体而言各对准系统中所设置的指标标记)处AIS标记成为一致，此时的平板台PST的位置是以X激光干涉计38和Y激光干涉计来检出。依据此检出结果以求出各对准系统AL1～AL6的位置和平板台PST的位置的关系。

又，平板台PST的近旁设有至少1个强度传感器(光束强度计测系统，图中未显示)，其用来对经由各曝光光学系统L1～L13的光束的强度进行计测，特别是对由第1曝光群和第2曝光群来进行重叠曝光的区域中的光束强度进行计测。强度传感器以可移动的方式而在XY平面上构成，由各曝光光学系统L1～L13所射出的光束移动至可计测的位置上，以对由曝光光学系统L1～L13所射出的光束的强度进行计测。由强度传感器所得到的计测结果对该控制装置CONT1输出。又，此强度传感器也可设在平板台PST中或亦可对此平板台PST独立地以可移动的方式来构成。

图15是本实施形式的扫描型曝光装置的系统构成的方块图。如图15所示，此扫描型曝光装置具备一种控制装置CONT1以对与曝光处理有关的动作进行整体控制。此控制装置CONT1中连接着DMD驱动部60，其用来各别地对曝光光学系统L1的DMD 8的各微镜面8a进行驱动。DMD驱动部60依据由控制装置CONT1而来的控制信号来变更DMD 8的各微镜面8a的角度。同样地，此控制装置CONT1中连接着DMD驱动部(图中未显示)，其用来各别地对构成各曝光光学系统L2～L13所用的DMD的各微镜面进行驱动，DMD驱动部依据由控制装置CONT1而来的控制信号来变更DMD的各微镜面的角度。

又，此控制装置CONT1中连接着透镜阵列驱动部62，其用来驱动此曝光光学系统L1的微透镜阵列16。透镜阵列驱动部62依据由控制装置CONT1而来的控制信号，使微透镜阵列16在XY平面内或Z方向中移动或对XY平面形成倾斜。同样，此控制装置CONT1中连接着透镜阵列驱动部(图中未显示)，其用来对构成各曝光光学系统L2～L13所用的微透镜阵列进行驱动，透镜阵列驱动部依据由控制装置CONT1而来的控制信号，使微透镜阵列在XY平面内或Z方向中移动或对XY平面形成倾斜。

又，此控制装置CONT1中连接着：焦点调整机构驱动部64，其用来驱动此投影光学组件PL1的焦点调整机构20；移位调整机构驱动部66，其用来驱动一种移位调整机构22；直角棱镜驱动部68，其用来驱动直角棱镜24；以及倍率调整机构驱动部70，其用来驱动倍率调整机构30。焦点调整机构驱动部64、移位调整机构驱动部66、直角棱镜驱动部68以及倍率调整机构驱动部70依据由控制装置CONT1而来的控制信号以对此焦点调整机构20、移位调整机构22、直角棱镜24以及倍率调整机构30进行驱动。同样，构成各投影光学组件PL2～PL13所用的焦点调整机构驱动用的焦点调整机构驱动部(图中未显示)、移位调整机构驱动用的移位调整机构驱动部(图中未显示)、直角棱镜驱动用的直角棱镜驱动部(图中未显示)以及倍率调整机构驱动用的倍率调整机构驱动部(图中未显示)相连接着。焦点调整机构驱动部、移位调整机构驱动部、直角棱镜驱动部以及倍率调整机构驱动部依据由控制装置CONT1而来的控制信号来对焦点调整机构、移位调整机构、直角棱镜以及倍率调整机构进行驱动。

又，控制装置CONT1中使平板台PST沿着扫描方向所在的X方向而移动，且在Y方向中连接着已受到微小移动的平板台驱动部72。又，控制装置CONT1中连接着对准系统AL1～AL6、自动聚焦系统AF1～AF6、空间像计测传感器，强度传感器、X激光干涉计38以及Y激光干涉计。又，控制装置CONT1中连接着DMD 8中已形成的转印图样、对准或空间像计测用的基准标记存储用的图样存储部74。又，控制装置CONT1中连接着一种存储着曝光数据用的曝光数据存储部76。

本实施形式的扫描型曝光装置中，DMD 8的微镜面8a、微透镜阵列16的各成份透镜16a以及点像视野光圈18的各开口部18a在XY平面内X方向和Y方向中以二维的方式配列在平行方向中。通过此点像视野光圈18的各开口部18a的各别光束在X方向和Y方向中到达平行的位置时的状态下进行扫描曝光时，虽然X方向中可形成平行线状的图样，但Y方向中则不能形成平行线状的图样。因此，例如，点像视野光圈18对Z轴旋转所定的角度α而设置着，使Y方向中亦可形成平行线状的图样，如图16所示，通过已旋转的点像视野光圈18的各开口部18a的光束即可到达平板P上。又，随着点像视野光圈18的旋转，则微透镜阵列16亦对Z轴旋转所定的角度α而设置着。

即，控制装置CONT1对透镜阵列驱动部62输出一种控制信号，通过透镜阵列驱动部62以Z轴为轴来对微透镜阵列16进行旋转驱动。又，控制装置CONT1与微透镜阵列16同样地通过图中未显示的驱动部而以Z轴为轴来对点像视野光圈18进行旋转驱动。又，控制装置CONT1对DMD驱动部60输出一种控制信号，且对应于微透镜阵列16的各成份透镜16和点像视野光圈18的各开口部18a以通过DMD驱动部60来调整DMD 8的各微镜面8a。通过使微透镜阵列16和点像视野光圈18旋转，则通过点像视野光圈18的各开口部18a的光束即可对Z轴旋转所定的角度α而到达平板P上。此种状态下进行扫描曝光时，可在X方向和Y方向中形成平行的线状图样。

又，通过直角棱镜驱动部68使直角棱镜24围绕Z轴而受到旋转驱动，则通过点像视野光圈18的各开口部18a的光束也可对Z轴旋转所定的角度而到达平板P上。又，本实施形式中虽然具备一种在XY平面内X方向和Y方向中以二维的方式配列在平行方向中的点像视野光圈18的开口部18a，但也可具备一种在XY平面内在对X方向和Y方向倾斜成45度的方向中以二维方式配列的点像视野光圈的开口部，即使在此种情况下，通过点像视野光圈的各开口部的光束如图17所示也可对Z轴旋转所定的角度α而到达平板P上。

又，控制装置CONT1使其它各别的曝光光学系统L2～L13所具备的微透镜阵列和点像视野光圈围绕Z轴而受到旋转驱动以调整DMD的各微镜面的角度，或使直角棱镜围绕Z轴而受到旋转驱动。藉此使通过点像视野光圈的各开口部的光束就像通过点像视野光圈18的开口部18a的光束一样也可对Z轴旋转所定的角度α而到达平板P上。

又，也可使曝光光学系统L1所形成的投影区域48a的形状变形，以取代”通过点像视野光圈18的开口部18a的光束相对于Z轴旋转所定的角度α”。即，即使在投影区域48a变形之前只可在X方向中形成平行的线状图样而不能在Y方向中形成平行的线状图样，但投影区域48a变形之后X方向和Y方向中都可形成平行的线状图样。其次，就投影区域48a的变形方法来说明。此处，本实施形式中由曝光光学系统L1所形成的投影区域48a的形状虽然是台形形状，但为了使此说明容易了解，此处假设此投影区域48a的形状是矩形来进行说明。

图18是使投影区域48a的形状变形用的楔形棱镜(补正光学系统)90，92的构成。楔形棱镜90，92配置在点像视野光圈18和投影光学组件PL1之间的光路中或配置在投影光学组件PL1和平板P之间的光路中。如图18所示，楔形棱镜90的入射面90a和射出面90b具有平面，入射面90a和射出面90b之间具有所定的楔角(以下称为第1楔角)。楔形棱镜90配置成使入射面90a的平面和射出面90b的平面的交线的方向成为Y方向。又，楔形棱镜90在构成上可对X轴和Y轴进行旋转。

楔形棱镜92的入射面92a和射出面92b具有平面，入射面92a和射出面92b之间具有一种与第一楔角相同的楔角(以下称为第2楔角)。楔形棱镜92配置成使入射面92a的平面和射出面92b的平面的交线的方向成为Y方向。第1楔角和第2楔角配置成大约朝向相反方向。又，楔形棱镜92在构成上可对X轴和Y轴进行旋转。

通过使楔形棱镜90，92中的至少1个对Y轴进行旋转，则可对X方向中的投影倍率进行调整。通过使楔形棱镜90，92中的至少1个对X轴进行旋转，则可使投影光学组件PL1的X方向和Y方向中的投影位置偏移。图19是楔形棱镜90以X轴方向作为轴而反时针旋转时由微量的旋转时的-Y方向侧来观看时的楔形棱镜90，92的位置的图解。图20是由+Y方向侧来观看时的楔形棱镜90，92的位置的图解。如图19所示，通过最-Y方向侧的光束在X方向中偏移t1。如图20所示，通过最+Y方向侧的光束在X方向中偏移t2。

又，通过以X轴方向作为轴来进行旋转，则亦可使楔形棱镜90在曝光光学系统L1的X方向的投影位置偏移。图21是楔形棱镜90以X轴方向作为轴而反时针旋转时由微量的旋转时的-X方向侧来观看时的楔形棱镜90，92的位置的图解。图22是由+X方向侧来观看时的楔形棱镜90，92的位置的图解。如图21所示，通过最-X方向侧的曝光光束在Y方向中偏移s1。如图22所示，通过最+X方向侧的曝光光束在X方向中偏移s2。

即，楔形棱镜90未旋转时，通过曝光光学系统L1而形成在平板P上的投影区域48a的形状成为如图23中以点线所示的矩形状(长方形状)的情况下，楔形棱镜90以X轴方向作为轴而反时针旋转以完成微量的旋转时，则通过曝光光学系统L1而形成在平板P上的投影区域48a成为如图23中以实线所示的平行四边形。因此，可使投影区域48a的形状变形，投影区域48a变形之前即使只可在X方向中形成平行的线状图样而不能在Y方向中形成平行的线状图样，但投影区域48a变形之后X方向和Y方向中都可形成平行的线状图样。又，即使在其它的投影区域48b～48m中，各别的曝光光学系统L2～L13中也可通过设有一种在构成上与楔形棱镜90，92的构成相同的楔形棱镜，使投影区域的形状变形。

又，也可具备3个楔形棱镜，此3个楔形棱镜以X轴方向或Y轴方向作为轴而受到旋转驱动，则可调整各像的焦点位置、旋转、倍率。

又，使用楔形棱镜90，92，以X轴方向或Y轴方向作为轴而受到旋转驱动，则可对到达点像视野光圈18的开口部18a的光束的位置进行微调整。此时，楔形棱镜90，92配置在DMD 8和中继透镜群12a之间的光路中或配置在中继透镜群12c和微透镜阵列16之间的光路中。

此种情况下，通过对DMD 8的曝光数据的调整，使到达点像视野光圈18中的光束的位置来与以数字方式来调整时的位置作比较，则能以类比方式来进行调整而有效地形成更微细的图样。

其次，就第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对的位置偏移的补正方法来说明。例如，如图24所示，平台9由点线所示的形状变形成以实线所示的形状时，如图25所示，第1曝光单元群和第2曝光单元群由实线所示的位置成为点线所示的位置。即，第1曝光单元群和第2曝光单元群的X方向中会发生相对的位置偏移。由第1曝光单元群投影在平板P上的像与由第2曝光单元群投影在平板P上的像在X方向中会发生偏移。控制装置CONT1依据传感器C所测定的距离X1、X2以检出第1曝光单元群和第2曝光单元群的X方向中相对的变位量。即，检出第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对的并进量(X方向中相对的偏移量)。

又，如图26所示，平台9由点线所示的形状变形成以实线所示的形状时，第1曝光单元群和第2曝光单元群的Y方向中会发生相对的偏移。即，由第1曝光单元群投影在平板P上的像与由第2曝光单元群投影在平板P上的像在Y方向中会发生偏移。控制装置CONT1依据传感器C所测定的距离Y1、Y2以检出第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对的变位量。即，检出第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对的姿势差(Y方向中相对的偏移量)。

此处，分别构成上述投影光学组件PL1～PL13所用的焦点调整机构、移位调整机构、作为旋转调整机构用的直角棱镜、以及倍率调整机构在功能上用作补正机构，其用来对第1曝光单元群的投影位置和第2曝光单元群的投影位置中的至少一个投影位置进行补正。又，可通过分别构成上述曝光光学系统L1～L13所用的DMD的曝光数据的变更，以对第1曝光单元群和第2曝光单元群所形成的像的位置(投影位置)的至少1个位置进行补正。即，此补正装置依据控制装置CONT1而来的控制信号来对曝光光学系统L1～L13所形成的像的旋转、移位、倍率以及焦点位置中的至少1种进行补正。

即，控制装置CONT1由传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2为准所检出的第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对的变位量(相互的变动)，以算出此构成各曝光光学系统L1～L13所用的DMD的曝光数据的调整量(补正量)，或算出此构成各投影光学组件PL1～PL13所用的焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构的调整量(驱动量)。控制装置CONT1将控制信号(其含有已算出的调整量(补正量或驱动量)的信息)输出至：构成各曝光光学系统L1～L13所用的DMD驱动部、构成各投影光学组件PL1～PL13所用的焦点调整机构驱动部、移位调整机构驱动部、直角棱镜驱动部以及倍率调整机构驱动部。构成各曝光光学系统L1～L13所用的DMD驱动部、构成各投影光学组件PL1～PL13所用的焦点调整机构驱动部、移位调整机构驱动部、直角棱镜驱动部以及倍率调整机构驱动部依据含有由控制装置CONT1而来的调整量(补正量或驱动量)的信息的控制信号来对构成各曝光光学系统L1～L13所用的DMD微镜面、构成各投影光学组件PL1～PL13所用的焦点调整机构、移位调整机构、直角棱镜(旋转调整机构)以及倍率调整机构进行驱动。因此，可对第1曝光单元群或第2曝光单元群所造成的转印图样在平板P上的投影位置48a～48m进行补正。

又，控制装置CONT1算出此构成各曝光光学系统L1～L13所用的DMD、构成各投影光学组件PL1～PL13所用的焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构中的至少一种的调整量(驱动量)，以对第1曝光单元群或第2曝光单元群的投影位置48a～48m的偏差进行补正。

此处，由传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2由于是第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对的变位量，则第1曝光单元群的投影位置的偏移量以及第2曝光单元群的投影位置的偏移量不能个别地检出。因此，控制装置CONT1例如也可依据激光干涉计系统所计测的平板台PST的位置以及传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2来分别算出第1曝光单元群的投影位置的偏移量以及第2曝光单元群的投影位置的偏移量。即，控制装置CONT1依据激光干涉计系统所计测的平板台PST的位置来检出第2曝光单元群的投影位置。其次，依据已检出的第2曝光单元群的投影位置以及由传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2来检出第1曝光单元群的投影位置。

又，控制装置CONT1可依据激光干涉计系统所计测的平板台PST的位置来检出各曝光光学系统L1～L13的全体的变动。又，控制装置CONT1可依据由传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2来检出各曝光光学系统L1～L13的相互的变动。

控制装置CONT1依据已检出的第1曝光单元群的投影位置来算出此构成第1曝光单元群的曝光光学系统L1、L3、L5、L7、L9、L11、L13的至少1个之中的DMD、焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构的至少一个的调整量(驱动量)。又，依据已检出的第2曝光单元群的投影位置来算出此构成第2曝光单元群的曝光光学系统L2、L4、L6、L8、L10、L12的至少1个之中的DMD、焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构的至少一个的调整量(驱动量)。然后，依据已算出的第1曝光单元群的投影位置补正用的调整量以及第2曝光单元群的投影位置补正用的调整量，且通过对各投影光学组件PL1～PL13的焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构进行驱动以进行补正。

又，控制装置CONT1能以第1曝光单元群(或第2曝光单元群)的投影位置为基准(固定)以进行第2曝光单元群(或第1曝光单元群)的投影位置的补正。此种情况下，虽然第1曝光单元群的投影位置的偏移量和第2曝光单元群的投影位置的偏移量不必各别地算出，但由于可对第1曝光单元群的投影位置与第2曝光单元群的投影位置的相对的偏移量进行补正，则第1曝光单元群的投影位置和第2曝光单元群的投影位置的连接部可正确地成为一致。

又，控制装置CONT1也可依据以传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2为基准所检出的第1曝光单元群与第2曝光单元群的相对的变位量来算出第1曝光单元群的投影位置补正用的调整量以及算出一种与第1曝光单元群的投影位置补正用的调整量同量的第2曝光单元群的投影位置补正用的调整量。即，依据第1曝光单元群与第2曝光单元群的相对的变位量所算出的调整量的2分之1(半分)分别作为第1曝光单元群与第2曝光单元群的调整量。在此种情况下，虽然第1曝光单元群的投影位置的偏移量和第2曝光单元群的投影位置的偏移量不必各别地算出，但由于可对第1曝光单元群的投影位置与第2曝光单元群的投影位置的相对的偏移量进行补正，则第1曝光单元群的投影位置和第2曝光单元群的投影位置的连接部可正确地成为一致。

就像以上所说明的一样，多个并列的曝光光学系统L1～L13通过以1个平台9来支持着，则即使圆柱1产生歪斜变形，此圆柱1的歪斜变形对曝光光学系统L1～L13的影响可抑制成较小。然后，由于多个曝光光学系统L1～L13通过1个平台9来支持着，则即使圆柱1产生歪斜变形，曝光光学系统L1～L13之间的相对位置的变化可抑制成较小。因此，曝光光学系统L1～L13的成像特性(光学性能)的变动可抑制成较小。

又，通过传感器以测定第1曝光单元群与第2曝光单元群的相对的4个距离，依据此测定结果可检出第1曝光单元群与第2曝光单元群的相对变位量，即，不能通过构成一动态支持构造所用的支持部等来抑制的第1曝光单元群与第2曝光单元群的相对位置的变化量可被检出。又，依据此检出结果通过可变成形光罩所产生的图样的板上的投影位置由于可通过上述的补正装置来补正，则可对第1曝光单元群的投影位置与第2曝光单元群的投影位置的偏移进行补正。因此，即使由于载置着第1曝光单元群与第2曝光单元群的平台9或圆柱的变形而使投影位置发生偏移时，由于仍可对此投影位置的偏移进行补正，则第1曝光单元群与第2曝光单元群的相对的连接部可正确地成为一致，以高精度地进行曝光。

又，本实施形式中，虽然传感器C配置在投影光学组件PL12及PL13侧(-Y方向侧)，但也可配置在投影光学组件PL1及PL2侧(+Y方向侧)。又，传感器C虽然配置在平台9的下侧(-Z方向侧)，但也可配置在平台9的上侧(+Z方向侧)。

又，本实施形式中，虽然可构成此传感器C以测定X方向中的2种距离X1、X2以及Y方向中的2种距离Y1、Y2，则此传感器在构成上也可对X方向和Y方向的任一方向中的1种以上的距离进行测定。

又，本实施形式中，虽然可通过上述的补正装置(DMD、焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构的至少一个)来对第1曝光单元群的投影位置与第2曝光单元群的投影位置的偏移进行补正，但就补正装置而言也可通过载置着平板P的平板台PST的姿势受到控制，以对第1曝光单元群的投影位置与第2曝光单元群的投影位置的偏移进行补正。即，通过平板台PST的位置的调整，则可对第1曝光单元群与第2曝光单元群的投影位置的偏移进行补正。

又，虽然可依据传感器C的计测结果来对第1曝光单元群与第2曝光单元群的投影位置的偏移进行补正，但在未设置此传感器C时也可对第1曝光单元群与第2曝光单元群的投影位置的偏移进行补正。例如，依据所定的气温(曝光装置内的温度等)或所经过的时间而可使平台9的变形预先再出现时，则可使第1曝光单元群与第2曝光单元群依据平台9的变形所得到的投影位置的偏移的调整量存储在曝光数据存储部76中。然后，成为所定的气温时或经过所定的时间时，此控制装置CONT1依据曝光数据存储部76中所存储的调整量来对第1曝光单元群与第2曝光单元群的投影位置的偏移进行调整。又，第1曝光装置中由于平板台PST的移动而在平台9中产生歪斜时，即，若存在着由第1和第2曝光单元群的相对位置的偏移所产生的本体(body)构造时，在上述气温或”经过时间”相组合或与此二者相独立的情况下，例如可对应于与平板台PST的移动有关的信息(作为一例，其含有位置及加速度的至少一种)，使与平台9的变形(歪斜等)有关的信息、与第1和第2曝光单元群的投影位置的偏移有关的信息或其位置偏移量的调整量都可事先求出以存储在曝光数据存储部76中。然后，也可依据平板的曝光动作中例如由激光干涉计系统等所得到的与平板台PST的移动有关的计测信息(或，与平板台PST的驱动有关的指令值)等所对应的曝光数据存储部76的存储信息，通过上述的补正装置来对第1和第2曝光单元群的投影所造成的投影像的相对位置偏移进行补正。

又，以作为补正装置用的DMD作为粗(rough)补正装置，以作为补正装置用的焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构作为细(fine)补正装置，则也可使二者连动以进行上述补正。又，以作为补正装置用的焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构作为粗(rough)补正装置，以作为补正装置用的DMD作为细(fine)补正装置，则也可使二者连动以进行上述补正。

又，作为补正装置用的DMD、焦点调整机构、移位调整机构、旋转调整机构以及倍率调整机构在造成第1曝光单元群的投影位置与第2曝光单元群的投影位置发生偏移时的补正是在曝光光学系统校准时、曝光时或平时进行。

本实施形式中，对透过各曝光光学系统L1～L13的光束的强度(曝光量)进行计测，特别是对到达相邻接的曝光光学系统的连接部的光束的强度进行计测，依据此计测结果可对到达此连接部的光束的强度(曝光量)进行调整。即，例如，到达此曝光光学系统L1所形成的投影区域48a以及曝光光学系统L2所形成的投影区域48b的连接部的光束中，通过强度传感器来对曝光光学系统L1所透过的光束和曝光光学系统L2所透过的光束的各别强度进行计测。具体而言，控制装置CONT1使强度传感器移动至可对透过此曝光光学系统L1而到达投影区域48a以及投影区域48b的连接部的光束的强度进行计测的位置上。强度传感器对此控制装置CONT1输出此计测结果。

又，控制装置CONT1使强度传感器移动至可对透过此曝光光学系统L2而到达投影区域48a以及投影区域48b的连接部的光束的强度进行计测的位置上。强度传感器对此控制装置CONT1输出此计测结果。控制装置CONT1对通过强度传感器所计测的透过此曝光光学系统L1的光束的强度以及透过此曝光光学系统L2的光束的强度进行比较。透过此曝光光学系统L1的光束的强度和透过此曝光光学系统L2的光束的强度的差变大时，则对投影区域48a以及投影区域48b的连接部的曝光量的线宽精度会下降。因此，控制装置CONT1通过对图中未显示的光源的电压等进行调整，使透过此曝光光学系统L1的光束的强度和透过此曝光光学系统L2的光束的强度几乎成为相同。

又，控制装置CONT1通过强度传感器来对到达其它连接部的光束的强度进行计测，依据此计测结果来对光束的强度进行调整。又，上述光束的强度(曝光量)的调整以多个曝光光学系统L1～L13的至少1个来对其图样的像的位置作补正时进行较佳。又，本实施形式中，虽然具备1个在构成上可在XY平面内移动的强度传感器，但也可具备多个强度传感器。又，本实施形式中的强度传感器虽然可对光束的单一的光束点(spot)的强度进行计测，但也可对分割成所定的单位的光束强度(例如，到达1个或多个投影区域内的光束的强度，到达已分割成1个投影区域的区域内的光束的强度)进行计测。

又，由曝光光学系统L1～L13所形成的投影区域48a～48m的连接部和无连接部的部份的失真(distortion)的影响较佳是作成相同。具体而言，由DMD来进行图样的形成，使第1曝光单元群侧的连接部的转印图样与第2曝光单元群侧的连接部的转印图样不会偏重而大约分散成均一的形式。此时，就转印图样的扫描方向的长度而言，各连接部之间所积算的长度成为与未具备连接部的部份的长度相同。

又，由可变成形光罩所形成的图样在平板上形成时，通过使载置着此平板的平板台移动，则平板台会发生走动误差、支持此曝光光学系统用的圆柱会发生变形，结果会使第1曝光单元与第2曝光单元发生相对的位置误差，平板上的图样即会有发生位置误差的可能。在此种情况下，例如通过进行一种测试式曝光，以对平板台的走动误差等所造成的图样的配列误差进行计测。也可使用此种已计测的计测值，以作成各投影像的位置直接补正用的补正表，通过保持着此平板的各位置中的补正表，以逐次进行像的位置的补正。又，也可保持着扫描方向的补正值。又，本实施形式中，虽然可在一次的扫描中使平板的曝光完成，但也可使用一种步进和扫描(step and scan)方式，以便在多次的扫描曝光的空隙时间中使平板台进行步进动作。又，虽然可对曝光光学系统进行平板台的扫描，但不用说也可针对该平板使曝光光学系统受到扫描。即使在此时，也可考虑此曝光光学系统的移动所造成的装置的变形，以设定此平板的各曝光位置中的像的位置补正值。

依据本实施形式的扫描型投影曝光装置，由于可与平板台的扫描同步地使DMD所形成的转印图样发生变化，则可容易地产生所期望的图样。又，转印图样已形成的光罩在使用时所需要的光罩台此时已不需要，于是可使曝光装置的成本下降且小型化。又，依据此扫描型投影曝光装置，曝光光学系统由于可进行此转印图样的像的位置的补正，则可对DMD所形成的转印图样的像正确地进行投影曝光。

又，依据本实施形式的扫描型投影曝光装置，由于可对多个曝光光学系统L1～L13所形成的多个像中的至少1个像的位置进行补正，以对多个曝光光学系统L1～L13的变动进行补偿，则可对相邻接的曝光光学系统所形成的像的位置偏移进行补正。因此，即使由支持多个曝光光学系统L1～L13所用的构件的变形而发生像的位置偏移时，相邻接的曝光光学系统的连接部仍可正确地成为一致。平板P上由DMD8所形成的所定的图样可进行精度良好的曝光。

又，依据本实施形式的扫描型曝光装置，通过强度传感器来测定各曝光光学系统L1～L13中所透过的光束的强度，此时由于可依据此测定结果来调整各曝光光学系统L1～L13的至少1个之中所透过的光束的强度，则可对相邻接的曝光光学系统的光束的强度的差值进行补正。因此，即使相邻接的曝光光学系统中所透过的光束的强度中发生差值时，由于可对此光束的强度的差值进行补正，则可良好地对相邻接的曝光光学系统的连接部进行曝光，平板P上由DMD 8所形成的所定的图样也可受到精度良好的曝光。

又，本实施形式中，虽然已显示出第1曝光单元群和第2曝光单元群的相对关系上的变化，但也可通过构成各单元群所用的各别的曝光光学系统中设有位置检出用的传感器，以对各曝光光学系统的位置.姿势进行计测，且对应于此计测结果来控制上述的补正装置以使像的位置获得补正。

又，在本实施形式的扫描型曝光装置中，虽然具备图6中所示的投影光学组件，但也可具备一种具有图27或图28中所示的构成的投影光学组件。图27所示的投影光学组件由棱镜24a、透镜群26a以及镜面28a所构成。图28中所示的投影光学组件由分光器24b、1/4波长板25、透镜群26b以及镜面28b所构成。

又，在本实施形式的扫描型曝光装置中，虽然以经由图2中所示的点像视野光圈18和投影光学组件PL1～PL13的光束使图样的像形成在平板P上，然而，如图29所示，也可通过微透镜阵列16中所通过的光束使图样的像形成在平板P上。即，此种构成也可未具备点像视野光圈和投影光学组件。此种情况下，可使装置本体紧密化(compact)且低成本化。

又，本实施形式中，由光纤的射出端所射出的具有大约是正方形的光束断面形状的光束入射至DMD中，但也可将如图30a、30b所示的棱镜5a、5b插入至准直器光学系统4和镜面6(或DMD 8)之间的光路中，使光束断面形状整形成与DMD 8(微镜面)同样的矩形以入射至DMD 8中。在此种情况下，与图3中所示的正方形光束入射至矩形状的DMD 8中的情况相比较时，可有效地使用光束。

又，上述的实施形式中，其全部的光学构件(构成要素)中虽然可将保持在一体中的曝光光学系统设置在平台9上，但曝光光学系统的一部份(例如至少包含该投影光学组件)也可设置在平台9上，其余的部份则设置在与平台9不同的架台(圆柱、框架等)上。又，上述实施形式中，虽然可通过DMD 8与点像视野光圈18而使任意的图样形成在平板P上，但例如也可未设置此点像视野光圈而只以DMD来形成图样。又，上述实施形式中，就可变成形光罩(电子光罩)而言，虽然可依据基板上应形成的图样的电子数据(曝光数据)来使用一种微镜面的角度已受控制的DMD，但例如也可具备一种在空间中可对光的振幅、相位或偏光的状态进行调变的元件、且也可使用DMD以外的非发光型图像显示元件(也称为空间光调变器(Spatial LightModulator))。又，上述实施形式中的曝光光学系统不限于图2中所示的构成等的任意元件时也可。例如，也可使用自发光型图像显示元件以取代DMD，此种情况下由于此投影光学组件的自发光型图像显示元件相对于此投影光学组件而言只可配置成与基板(平板)实质上成共轭的形式，则曝光光学系统成为只具有自发光型图像显示元件以及投影光学组件。又，自发光型图像显示元件中例如可包含：具有多个发光点的固体光源晶片、固体光源晶片阵列(其晶片配列成多个阵列状)或多个发光点作在1个基板中的固体光源阵列(例如，LED显示器、OLED(Organic LightEmitting Diode)显示器、LD(Laser Diode)显示器等)。

依据上述第1实施形式中的扫描型曝光装置，由于可对多个光学单元所形成的多个像之中的至少1个像的位置进行补正，使并列配置的多个光学单元(曝光光学系统L1～L13的全部(2、4、6、8、10、16、18、PL1～PL13等)或一部份(例如，投影光学组件PL1～PL13))变动获得补偿，则相邻的光学单元所形成的像的位置偏移也可获得补正。因此，支持着多个光学单元所用的构件的变形等所造成的像即使发生位置偏移，则相邻的光学单元的连接部仍可正确地成为一致、也可对感光基板(例如，玻璃基板、晶圆)等的物体上由可变成形光罩所形成的所定的图样进行精度良好的曝光转印。

又，依据第1实施形式的扫描型曝光装置，通过光束强度计测系统来测定第1曝光单元和第2曝光单元的光束强度，由于可依据此测定结果来对第1曝光单元和第2曝光单元中的至少一个单元的光束强度进行调整，则可对第1曝光单元的光束强度和第2曝光单元的光束强度的差进行补正。因此，即使在第1曝光单元和第2曝光单元的光束强度发生差异的情况下，由于仍可对此光束强度的差进行补正，则亦可对第1曝光单元和第2曝光单元的连接部良好地进行曝光，以便对感光基板上由可变成形光罩所形成的所定的图样进行精度良好的曝光转印。

[第2实施形式]

其次，参照图面来说明本发明的第2实施形式。图31是本发明的第2实施形式所属的曝光装置的概略构成图。图32是其概略斜视图。图31和图32中，曝光装置EX具备：光罩台MST，其支持着图样已形成的光罩M；基板台PST，其支持着外径较500毫米还大的感光基板P；照明光学系统IL，其以曝光光束EL来对光罩台MST上所支持的光罩M进行照明；投影光学系统PL，其使由曝光光束EL所照明的光罩M的图样的像投影至支持在基板台PST上的感光基板P上；圆柱100，其经由平台101而支持着投影光学系统PL；以及控制装置CONT2，其整体控制着各种与曝光装置有关的动作。圆柱100具有：上部平板部100A；以及脚部100B，其延伸至较上部平板部100A的各别的4角隅更下方处。此圆柱100设置在一种在水平方向中载置在地板(floor)面上的底板110上。本实施形式中，投影光学系统PL具有多个(本例中是7个)并列的投影光学组件PLa～PLg，且照明光学系统IL对应于投影光学组件的数目和配置而也具有多个(7个)照明光学组件。就感光基板P而言，须对玻璃基板等的前板显示器中所用的基板涂布一种感光剂(光阻)。

此处，本实施形式所属的曝光装置EX是一种扫描型曝光装置，即，所谓多透镜扫描型曝光装置，其对投影光学系统PL而言是与光罩M和感光基板P同步移动以进行扫描曝光。在以下的说明中，以光罩M和感光基板P同步移动方向作为X轴方向(扫描方向)、以水平面内与X轴方向直交的方向作为Y轴方向(非扫描方向)、以X轴方向和Y轴方向直交的方向作为Z轴方向。又，X轴、Y轴和Z轴各别的旋转方向作为θx、θY和θZ方向，

照明光学系统IL(未图示)具备：多个光源；光导，其具有多个射出部，以便将由多个光源所射出的光束一旦合成后均等地分配且射出；光学整合器，其使由光导的各射出部而来的光束变换成具有均一的照度分布的光束(曝光光束)；遮蔽(blind)部，其具有开口，以便将由光学整合器而来的曝光光束整形成狭缝(slit)状；以及聚光透镜，其使通过遮蔽部的曝光光束成像在光罩M上。通过聚光透镜而来的曝光光束的照射，使光罩M在多个狭缝状的照明区域上受到照明。本实施形式的光源中使用水银灯，通过未图示的波长选择滤波器而使用此曝光时必要的波长的g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)以作为曝光光束。

光罩台MST设在圆柱100的上部平板部100A上。光罩台MST具备：光罩支件(holder)120，其保持着光罩M；一对线性马达121，其在上部平板部100A上可使光罩支件120在X轴方向中以所定的冲击(stroke)来移动；以及一对光导部122，其设在上部平板部100A上且可对在X轴方向中移动的光罩支件120进行导引。又，图32中-Y侧的线性马达121及光导部122未显示在图中。光罩支件120通过真空卡盘(chuck)来保持着光罩M。光罩支件120的中央部中形成一种可使由光罩M而来的曝光光束通过的开口部120A。一对线性马达121分别具有：固定子121A，其以支持构件123而支持在上部平板部100A上且设置成在X轴方向中延伸；可动子121B，其对应于固定子121A而设置着且固定在光罩支件120的Y轴方向二侧。线性马达121可以是一种以线圈单元(电机子单元)来构成此固定子121A、以磁铁单元来构成此可动子121B的所谓移动磁铁型线性马达，但也可以是一种以磁铁单元来构成此固定子121A、以线圈单元来构成此可动子121B的所谓移动线圈型线性马达。然后，可动子121B通过与固定子121A之间的电磁气的相互作用而受到驱动，使光罩支件120在X轴方向中移动。

一对光导部122的各别的光导部可导引此光罩支件120使在X轴方向中移动，光导部设置成可在X轴方向中延伸且固定在圆柱100的上部平板部100A上。光罩支件120的下部固定着一对被导引构件124，其具有一与光导部122相接合的凹部。被导引构件124和光导部122之间设有一种属非接触轴承(bearing)的未图示之空气轴承。光罩支件120对光导部122一方面以非接触方式而支持着且另一方面可在X轴方向中移动。又，光罩台MST(未图示)也具有一种移动机构，其可使光罩M保持用的光罩支件120在Y轴方向和θZ方向中移动。然后，通过上述的线性马达和移动机构可调整此光罩支件120(光罩台MST)的姿势。以下的说明中，可对光罩支件120(光罩台MST)的姿势进行调整的线性马达和移动机构适合总称为”光罩台驱动装置MSTD”。

又，圆柱100中设有以后将详述的激光干涉计，平台101上设有参照镜，光罩支件120上设有移动镜。又，如图31所示，由激光干涉计174照射至参照镜177上的激光光束的光路须确保成如符号125所示者。

基板台PST设在底板110上。基板台PST具备：基板支件130，其保持着该感光基板P；光导台135，其一方面在Y轴方向中对基板支件130进行导引且另一方面可移动自在地支持着基板支件130；线性马达36，其设在光导台135中且可使基板支件130在Y轴方向中移动；一对线性马达131，其在底板110上可使基板支件130在光导台135上且同时在X轴方向中以所定的冲击而移动；以及一对光导部132，其设在底板110上且可对X轴方向中移动的光导台135(及基板支件130)进行导引。基板支件130通过真空卡盘而保持着感光基板P。一对线性马达131的每一个都具备：固定子131A，其以支持构件133而支持在底板110上且设置成在X轴方向中延伸；以及可动子131B，其对应于固定子131A而设置着且固定在光导台135的纵长方向二端部。线性马达131可以是一种以线圈单元(电机子单元)来构成此固定子131A、以磁铁单元来构成此可动子131B的所谓移动磁铁型线性马达，但也可以是一种以磁铁单元来构成此固定子131A、以线圈单元来构成此可动子131B的所谓移动线圈型线性马达。然后，可动子131B通过与固定子131A之间的电磁气的相互作用而受到驱动，使基板支件130在光导台135上且同时在X轴方向中移动。一对光导部132的每一光导部都可对X轴方向中移动的光导台135和基板支件130进行导引且设置成可在X轴方向中延伸而固定在底板110上。

光导台135的下部固定着一被导引构件134，其具有一与光导部132相接合的凹部。被导引构件134和光导部132之间设有一种属非接触轴承(bearing)的未图示的空气轴承。光导台135对光导部132一方面以非接触方式而支持着且另一方面可在X轴方向中移动。同样，线性马达136也具有固定子136A，其设在光导台135上；以及可动子136B，其设在基板支件130上。基板支件130通过线性马达136的驱动以便一方面在光导台135内受到导引且另一方面在Y轴方向中移动。又，通过对一对线性马达131作各别的驱动以进行调整，则光导台135亦可在θZ方向中旋转。因此，通过这一对线性马达131，则基板支件130即可与光导台135几乎成一体地在X方向及θZ方向中移动。又，基板台PST也具有一种移动机构，其可使基板支件130移动至Z轴方向、θx及θY方向中。然后，可通过上述线性马达和移动机构来调整此基板支件130(基板台PST)的姿势。以下的说明中，可对基板支件130(基板台PST)的姿势进行调整的线性马达和移动机构适合称为”基板台驱动装置PSTD”。

圆柱100中设有以后将详述的激光干涉计，参照镜设在投影光学组件PLa～PLg的镜筒的所定位置上，移动镜设在基板支件130中。投影光学系统PL具有多个(7个)并列的投影光学组件PLa～PLg，这些投影光学组件PLa～PLg支持在1个平台101上。然后，如图31所示，支持着投影光学组件PLa～PLg所用的平台101对圆柱100的上部平板部100A而言是通过支持部102而支持着。此处，上部平板部100A的中央部设有开口部100C。平台101在上部平板部100A中是支持在开口部100C的周缘部上。然后，投影光学组件PLa～PLg的下部配置在开口部100C中。又，图31中在开口部100C的周缘部中形成段部，此段部中虽然设有支持部102，但上部平板部100A也可以是一种平坦面。

图33是支持着本发明的投影光学组件PLa～PLg的平台101的概略斜视图，图34是其平面图。如图33和图34所示，投影光学系统PL是以多个投影光学组件PLa～PLg构成。这些投影光学组件PLa～PLg支持在平台101上。平台101经由支持部102而动态地支持在圆柱(支持构造体)100的上部平板部100A上。支持部102分别设在平台101的3个所定位置上。多个投影光学组件PLa～PLg中的投影光学组件PLa、PLc、PLe、PLg并列在Y方向(与扫描方向相交叉的方向)中且配置在X方向(扫描方向)的前方侧(以下称为第1投影光学单元)。又，投影光学组件PLb、PLd、PLf并列在Y方向中且配置在X方向的后方侧(以下称为第2投影光学单元)。又，第1投影光学单元和第2投影光学单元在X方向中只以所定间隔相隔开而配置着。构成第1投影光学单元所用的各投影光学组件PLa、PLc、PLe、PLg和构成第2投影光学单元所用的各投影光学组件PLb、PLd、PLf配置成千鸟状。即，配置成千鸟状的投影光学组件PLa～PLg各别地在Y方向中对相邻的投影光学组件(例如，投影光学组件PLa和PLb、PLb和PLc)形成所定量的变位而配置着。

平台101例如以金属基质复合材料(MMC：Metal Matrix Composites)来形成。金属基质复合材料是以金属作为基质材料时其中再以陶瓷强化材料来进行复合后的一种复合材料。此处是使用含有铝的材料作为金属。平台101的中央部中形成开口部101A，通过此开口部101A以确保投影光学组件PLa～PLg各别的曝光光束EL的光路。此处，平台101在平面中观看时形成左右对称的六角形状(棒球本叠(homebase)状)。第1投影光学单元以平台101的宽度的较宽部份来支持着，第2投影光学单元以平台101的宽度的较窄部份来支持着。即，对应于多个并列的投影光学组件的数目来设定此平台101的形状。在支持各投影光学组件PLa～PLg以得到足够的强度时的范围内，所使用的材料可抑制在最小限度内。

各别的投影光学组件PLa～PLg分别具有：镜筒PK、配置在镜筒PK内部中的多个光学元件(透镜)。然后，各别的投影光学组件PLa～PLg对此平台101互相独立地连接着且又可分离。因此，可以组件为单位使此投影光学组件增减，在此种情况下，对投影光学组件的平台101的安装及拆除作业可容易地进行。又，由于各别的投影光学组件PLa～PLg对此平台101可互相独立地连接着且又可分离，则可对平台101的所定的基准位置(例如，开口部101A的中心位置)各别独立地决定位置，于是可任意地设定各投影光学组件PLa～PLg互相之间的相对位置。

图35a是支持部102的扩大图。如图35a所示，支持部102设在圆柱100的上部平板部100A上且具备：V沟构件104，其具有V状内面103；以及球状构件105，其具有连接至V沟构件104的V状内面103中的球面105A。V沟构件104固定至圆柱100的上部平板部100A上。又，平台101的下面形成一种可配置球状构件105的球面状凹部106。平台101的球面状凹部106的内面106A和球状构件105的球面105A相连接。球状构件105处于一种载置在V沟构件104的V状内面103上的状态中。对V状内面103而言，球状构件105的表面105A可折动至V字棱线方向(请参阅图34中的箭头y)中。又，平台101处于一种经由球面状凹部106而载置在球状构件105上的状态中。球面状凹部106的内面106A和球状构件105的球面105A成为可折动。由于这些面之间可折动，则例如圆柱100只稍微变形时通过这些面之间的折动，使圆柱100的变形对平台101的影响受到抑制。

V沟构件104的V状内面103和球状构件105的表面105A上分别通过涂层而设有作为低摩擦部用的低摩擦材料膜。举例而言，似钻石的碳可用作低摩擦材料膜。因此，V沟构件104的V状内面103和球状构件105的表面105A的摩擦力可减低。同样，球面状凹部106的内面106A上也可设有低摩擦材料膜。因此，球面状凹部106的内面106A和球状构件105的表面105A的摩擦力也可减低。然后，通过对这些面进行低摩擦处理以抑制其静止摩擦系数。例如，圆柱100只稍微变形时，则上述各面之间在折动时所产生的应力会受到抑制，使圆柱100的变形对平台101的影响可良好地受到抑制。

又，此处，V状内面103和球状构件105的表面105A在构成上虽然分别设有低摩擦材料膜，但V状内面103或球状构件105的表面105A中的任何一个面上设有低摩擦材料膜时也可。同样，球面状凹部106的内面106A和球状构件105的表面105A在构成上除了分别设有低摩擦材料膜之外，球面状凹部106的内面106A或球状构件105的表面105A中的任一面上设有低摩擦材料膜时也可。又，如图35b所示，圆柱100上也可设有一种具有球面状凹部106的构件，同时，平台101的下面设有V状内面103，它们之间配置着球状构件105。

回到图34，支持部102分别设在平台101的面方向(XY方向)中的3个所定的位置上。然后，各别的V沟构件104的V字棱线L的延长线在多个并列的投影光学组件PLa～PLg的XY方向中大约中央部O处相交，以各别地配置着V沟构件104。因此，在构成上即使圆柱100变形，中央部O也不会发生大的移动。然后，通过此支持部102以构成所谓动态支持构造。因此，即使圆柱100变形，投影光学系统PL和平台101也不会发生大的移动，多个投影光学组件PLa～PLg互相之间的相对位置的变化可抑制成较小。

又，如图36所示，投影光学系统PL中存在着投影光学组件PLa及PLb侧(-Y方向侧)，在平台101的下侧(-Z方向侧)上设有传感器(变位量测定装置、计测装置)C，以测定第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的变位量。传感器C对不能由构成动态支持构造所用的支持部102等来抑制的第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对位置的变位量进行测定。例如，可使用静电容量传感器、变位传感器、干涉计等以作为传感器C。如图37a所示，传感器C对第1投影光学单元和第2投影光学单元的X方向(扫描方向)中相对的第1距离X1进行测定。又，如图37b所示，对第1投影光学单元和第2投影光学单元的X方向中相对的第2距离X2进行测定。通过传感器C所测定的距离X1和X2输出至控制装置CONT2。

例如，如图38a所示，平台101由点线所示的形状变形为实线所示的形状时，第1投影光学单元和第2投影光学单元的X方向中会产生相对的偏移。即，由第1投影光学单元投影在感光基板P上的像和由第2投影光学单元投影在感光基板P上的像的X方向中会产生偏移。控制装置CONT2依据此传感器C所测定的距离X1和X2来对第1投影光学单元和第2投影光学单元的X方向中相对的变位量进行检出。即，对第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的并进量(X方向中相对的偏移量)进行检出。

又，如图37a所示，对第1投影光学单元和第2投影光学单元的Y方向(与扫描方向交叉的方向)中相对的第1距离Y1进行测定。又，如图37c所示，对第1投影光学单元和第2投影光学单元的Y方向中相对的第2距离Y2进行测定。通过传感器C所测定的距离Y1和Y2输出至控制装置CONT2。

例如，如图38b所示，平台101由点线所示的形状变形为实线所示的形状时，第1投影光学单元和第2投影光学单元的Y方向中会产生相对的偏移。即，由第1投影光学单元投影在感光基板P上的像和由第2投影光学单元投影在感光基板P上的像的Y方向中会产生偏移。控制装置CONT2依据此传感器C所测定的距离Y1和Y2来对第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的变位量进行检出。即，对第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的姿势差(Y方向中相对的偏移量)进行检出。

图39是投影光学系统(投影光学组件)的构成。各别的投影光学组件PLa～PLg通过照明光学组件使以曝光光束EL来照明的光罩M的照明区域中所存在的图样的像投影至感光基板P上，各投影光学组件分别具备：移位调整机构150、二组反射折射型光学系统151、152、像面调整机构153、未图示的视野光圈以及缩放(scaling)调整机构154。以下虽然就投影光学组件PLf来说明，但其它的投影光学组件PLa、PLb、PLc、PLd、PLe、PLg在构成上亦与投影光学组件PLf相同。

透过此光罩M的光束入射至移位调整机构150中。移位调整机构150具有：平行平面导光板150A，其设置成可对Y轴旋转；以及平行平面导光板150B，其设置成可对X轴旋转。平行平面导光板150A通过马达等的驱动装置150Ad而可对Y轴旋转，平行平面导光板150B通过马达等的驱动装置150Bd而可对X轴旋转。通过平行平面导光板150A对Y轴旋转，则感光基板P上的光罩M的图样的像会偏移至X轴方向中，通过平行平面导光板150B对X轴旋转，则感光基板P上的光罩M的图样的像会偏移至Y轴方向中。驱动装置150Ad，150Bd的驱动速度和驱动量于是可通过控制装置CONT2而各别独立地受到控制。各别的驱动装置150Ad，150Bd依据此控制装置CONT2的控制而以所定的速度使各别的平行平面导光板150A，150B旋转所定的量(所定角度)。透过此移位调整机构150的光束入射至第1组的反射折射型光学系统151中。

反射折射型光学系统151形成光罩M的图样的中间像且具备：直角棱镜(补正机构)155、透镜156和凹面镜157。直角棱镜155设置成可对Z轴旋转，其通过马达等的驱动装置155d而可对Z轴旋转。通过直角棱镜155可对Z轴旋转，则感光基板P上的光罩M的图样的像也可对Z轴旋转。即，直角棱镜155具有旋转调整机构的功能。驱动装置155d的驱动速度及驱动量于是可通过控制装置CONT2来控制。驱动装置155d依据此控制装置CONT2的控制而以所定的速度使直角棱镜155旋转所定的量(所定角度)。由反射折射型光学系统151所形成的图样的中间像位置上配置着未显示的视野光圈。视野光圈可设定此感光基板P上的投影区域。例如，感光基板P上的投影区域可设定成台形状。透过此视野光圈的光束入射至第2组的反射折射型光学系统152。

反射折射型光学系统152和反射折射型光学系统151一样具备：作为旋转调整机构用的直角棱镜(补正机构)158、透镜159和凹面镜160。直角棱镜158亦设置成通过马达等的驱动装置158d的驱动而可对Z轴旋转。通过直角棱镜158可对Z轴旋转，则感光基板P上的光罩M的图样的像也可对Z轴旋转。驱动装置158d的驱动速度及驱动量于是可通过控制装置CONT2来控制。驱动装置158d依据此控制装置CONT2的控制而以所定的速度使直角棱镜158旋转所定的量(所定角度)。

由反射折射型光学系统152所射出的光束通过上述的缩放调整机构(补正机构)154，使光罩M的图样的像以正立等倍的方式成像在感光基板P上。缩放调整机构154如图39所示一方面使透镜在Z轴方向中移动，或另一方面以3个透镜构成，例如，由凹透镜、凸透镜、凹透镜构成，位于凹透镜和凹透镜之间的凸透镜由于可在Z轴方向中移动，则可对光罩M的图样的像的倍率(缩放因素)进行调整。图39的情况下，凸透镜通过驱动装置154d来移动，驱动装置154d则通过控制装置CONT2来控制。驱动装置154d依据此控制装置CONT2的控制，使凸透镜以所定的速度移动所定的量。又，凸透镜也可为两凸透镜或平凸透镜。

二组反射折射型光学系统151，152之间的光路上设有投影光学组件PLf的成像位置及像面的倾斜调整用的像面调整机构153。像面调整机构153设置在反射折射型光学系统151所造成的中间像形成时的位置近旁。即，像面调整机构153设置在一种对光罩M和感光基板P而言大体上成共轭的位置上。像面调整机构153具备：第1光学构件153A、第2光学构件153B、以非接触状态支持着第1光学构件153A和第2光学构件153B所用的未图示的空气轴承、以及驱动装置153Ad、153Bd(其使第1光学构件153A对第2光学构件153B移动)。个别的第1光学构件153A和第2光学构件153B是一种可透过此曝光光束EL的楔形状的玻璃板，以构成一对楔型光学构件。曝光光束EL可分别通过第1光学构件153A和第2光学构件153B。驱动装置153Ad、153Bd的驱动量和驱动速度(即，第1光学构件153A和第2光学构件153B的相对的移动量和移动速度)是通过控制装置CONT2来控制。通过第1光学构件153A对第2光学构件153B在X轴方向中的滑动(移动)，使投影光学组件PLf的像面位置在Z轴方向中移动，通过第1光学构件153A对第2光学构件153B在θZ轴方向中的转动，使投影光学组件PLf的像面倾斜。

上述的移位调整机构150、旋转调整机构155、158、缩放调整机构154以及像面调整机构153在功能上是用作调整装置以对投影光学组件PLf的光学特性(成像特性)进行调整。又，光学特性的调整机构也可使一部份的光学元件(透镜)之间密封以调整内部压力。又，构成各投影光学组件PLa～PLg所用的移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构以及像面调整机构在功能上也可用作补正装置(光学特性调整装置)，以对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的偏移进行补正。即，此补正装置(光学特性调整装置)依据由控制装置CONT2而来的控制信号，以对第1投影光学单元或第2投影光学单元所造成的光罩M的图样在感光基板P上的投影位置进行补正。

即，此控制装置CONT2依据此传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2而由已检出的第1投影光学单元或第2投影光学单元的相对的变位量以算出此构成各投影光学组件PLa～PLg所用的移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构以及像面调整机构的调整量(驱动量)。此控制装置CONT2使含有”已算出的调整量(驱动量)的信息”的控制信号输出至构成各投影光学组件PLa～PLg所用的移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构以及像面调整机构中。构成各投影光学组件PLa～PLg所用的移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构以及像面调整机构依据含有”由控制装置CONT2而来的调整量(驱动量)的信息”的控制信号，以对第1投影光学单元或第2投影光学单元所造成的光罩M的图样在感光基板P上的投影位置进行补正。此处，所谓投影位置是指以下各种位置中的至少一种位置：X方向(扫描方向)中的位置、Y方向(与扫描方向直交的方向)中的位置以及投影光学系统PL的光轴方向作为轴时的旋转方向中的位置。

又，此控制装置CONT2算出此构成各投影光学组件PLa～PLg所用的移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构以及像面调整机构中至少1个机构的调整量(驱动量)，以对第1投影光学单元或第2投影光学单元的投影位置的偏移进行补正。

此处，传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2由于是第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的变位量，则不能各别地检出第1投影光学单元的投影位置的偏移量和第2投影光学单元的投影位置的偏移量。因此，此控制装置CONT2例如也可依据后述的激光干涉计系统所计测的光罩支件120(光罩台MST)或基板支件130(基板台PST)的位置以及传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2，以各别地算出第1投影光学单元的投影位置的偏移量和第2投影光学单元的投影位置的偏移量。

即，此控制装置CONT2可依据激光干涉计系统所计测的光罩支件120或基板支件130的位置，以检出第2投影光学单元的投影位置。其次，依据已检出的第2投影光学单元的投影位置以及传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2，以检出第1投影光学单元的投影位置。其次，依据已检出的第1投影光学单元的投影位置，以算出此构成第1投影光学单元所用的投影光学组件PLa、PLc、PLe、PLg的至少1个之中、移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构以及像面调整机构中至少1个机构的调整量(驱动量)。又，依据已检出的第2投影光学单元的投影位置，以算出此构成第2投影光学单元所用的投影光学组件PLb、PLd、PLf的至少1个之中、移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构以及像面调整机构中至少1个机构的调整量(驱动量)。依据已算出的第1投影光学单元的投影位置补正用的调整量以及第2投影光学单元的投影位置补正用的调整量，以通过对各投影光学组件PLa～PLg的移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构以及像面调整机构的驱动来进行补正。

又，此控制装置CONT2也可以第1投影光学单元的投影位置为基准(固定)，以对第2投影光学单元的投影位置进行补正。此种情况下，虽然不能分别算出第1投影光学单元的投影位置的偏移量和第2投影光学单元的投影位置的偏移量，但由于可对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的相对的偏移量进行补正，则第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的连接部可正确地成为一致。又，也可以第2投影光学单元的投影位置作为基准(固定)以对第1投影光学单元的投影位置进行补正。

又，此控制装置CONT2也可依据此传感器C所测定的4个距离X1、X2、Y1、Y2而由已检出的第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的变位量，以算出第1投影光学单元的投影位置补正用的调整量以及第2投影光学单元的投影位置补正用的调整量(其与第1投影光学单元的投影位置补正用的调整量相同)。即，依据第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对变位量所算出的调整量的2分之1(即，半分)分别作为第1投影光学单元和第2投影光学单元的调整量。此种情况下，第1投影光学单元的投影位置的偏移量和第2投影光学单元的投影位置的偏移量虽然不能各别地算出，但由于可对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的相对偏移量进行补正，则第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的连接部可正确地成为一致。

又，-X侧的投影光学组件PLa、PLc、PLe、PLg和+X侧的投影光学组件PLb、PLd、PLf之间设有自动聚焦检出系统200，以检出光罩M的图样形成面和感光基板P的被曝光面的Z轴方向中的位置。构成此自动聚焦检出系统200所用的光学元件配置在外壳内部。通过此光学元件和外壳以形成一自动聚焦单元(AF单元)U。

图40是光罩支件120(光罩台MST)的位置计测用的激光干涉计系统的概略构成图。图40中，光罩支件120的-X侧的端缘上设有一种在Y轴方向中延伸的X移动镜170，光罩支件120的-Y侧的端缘上设有一种在X轴方向中延伸的Y移动镜171。在X移动镜170的对向位置上2个激光干涉计172、173在Y轴方向中并列地设置着。又，Y移动镜171的对向位置上设有激光干涉计174。激光干涉计172、173、174设置在圆柱100的上部平板部100A上(参阅图32)。又，平台101上安装着多个参照镜175、176、177。参照镜175设置在激光干涉计172的对向的位置上。参照镜176设置在激光干涉计173的对向的位置上。参照镜177设置在激光干涉计174的对向的位置上。2个激光干涉计172、173中设置在+Y侧的激光干涉计172使测长光束(激光光束)170a照射至X移动镜170，同时使参照光束(激光光束)175a、175b照射至参照镜175。同样，设置在-Y侧的激光干涉计173使测长光束170b照射至X移动镜170，同时使参照光束176a、176b照射至参照镜176。由已照射的测长光束和参照光束为基准的X移动镜170和参照镜175、176各别而来的反射光在激光干涉计172、173的受光部中被接收。激光干涉计172、173对这些反射光进行干涉，以对此参照光束的光路长为基准的测长光束的光路长的变化量进行计测，进而对以参照镜175、176为基准的X移动镜170的位置(座标)进行计测。激光干涉计172、173的计测结果输出至控制装置CONT2。此控制装置CONT2依据激光干涉计172、173的计测结果以求出光罩支件120(光罩台MST)的X轴方向中的位置。

又，激光干涉计174使测长光束171a、171b照射至Y移动镜171，同时使参照光束177a、177b照射至参照镜177。由已照射的测长光束和参照光束为基准的Y移动镜171和参照镜177各别而来的反射光在激光干涉计174的受光部中被接收。激光干涉计174对这些反射光进行干涉，以对此参照光束的光路长为基准的测长光束的光路长的变化量进行计测，进而对以参照镜177为基准的Y移动镜171的位置(座标)进行计测。激光干涉计174的计测结果输出至控制装置CONT2。此控制装置CONT2依据激光干涉计174的计测结果以求出光罩支件120(光罩台MST)的Y轴方向的位置。

又，此控制装置CONT2依据已照射至此移动镜170上的在Y方向中并列的测长光束170a、170b的计测结果，可求出光罩支件120的θZ方向中的姿势。此处，设在光罩支件120的-X侧上的激光干涉计172使并列的2个参照光束175a、175b在Z轴方向中对着参照镜175而照射。同样，设在光罩支件120的-X侧上的激光干涉计173使并列的2个参照光束176a、176b在Z轴方向中对着参照镜176而照射。激光干涉计172、173的计测结果输出至控制装置CONT2。此控制装置CONT2例如依据Z轴方向中并列的参照光束175a和175b的各别的光路长测定结果(或各参照光束176a和176b的各别的光路长测定结果)，以求出此支持着投影光学组件PLa～PLg所用的平台101的θY方向中的姿势。又，此控制装置CONT2例如依据Y轴方向中并列的参照光束175a和176a的各别的光路长测定结果(或各参照光束175b和176b各别的光路长测定结果)，以求出此平台101的θZ方向中的姿势。

又，设在光罩支件120的-Y侧上的激光干涉计174使并列的2个参照光束177a、177b在Z轴方向中对着参照镜177而照射。激光干涉计174的计测结果输出至控制装置CONT2。此控制装置CONT2依据Z轴方向中并列的参照光束177a和177b的各别的光路长测定结果，以求出此平台101的θX方向中的姿势。

因此，控制装置CONT2可通过激光干涉计172、173、174以依据照射至参照镜175、176、177上的参照光束所达成的计测结果来求出此支持着投影光学组件PLa～PLg所用的平台101的姿势，即，求出X轴、Y轴、θx、θY及θZ方向中的位置。此控制装置CONT2依据平台101的姿势计测结果以经由光罩台驱动装置MSTD来控制此光罩支件120的姿势。例如，此控制装置CONT2以平台101的θy方向的倾斜量作为补正量以对光罩支件120的姿势进行补正。因此，即使平台101的姿势发生变化，支持在平台101上的投影光学组件PLa～PLg和光罩支件120(及此光罩支件120上所保持的光罩M)的相对位置仍可维持着。

图41是基板支件130(基板台PST)的位置计测用的激光干涉系统的概略构成图。图41中，基板支件130的-X侧的端缘上设有一种在Y轴方向中延伸的X移动镜180，基板支件130的-Y侧的端缘上设有一种在X轴方向中延伸的Y移动镜181。X移动镜180对向的位置上3个激光干涉计182、183、184在Y轴方向中并列地设置着。又，Y移动镜181对向的位置上3个激光干涉计185、186、187在X轴方向中并列地设置着。激光干涉计182、183、184设置在底板110上(参阅图32)。又，激光干涉计185、186、187设置成由圆柱100的上部平板部100A垂下。

投影光学组件的镜筒PK上安装着参照镜188、189、190、191、192、193。参照镜188设置在Y轴方向中3个并列的激光干涉计182、183、184之中+Y侧的激光干涉计182的对向的位置上，参照镜189设置在中央的激光干涉计183的对向的位置上。参照镜190设置在-Y侧的激光干涉计184的对向的位置上。参照镜191设置在X轴方向中3个并列的激光干涉计185、186、187之中-X侧的激光干涉计185的对向的位置上，参照镜192设置在中央的激光干涉计186的对向的位置上。参照镜193设置在+X侧的激光干涉计187的对向的位置上。

激光干涉计182使测长光束(激光光束)180a照射至X移动镜180，同时使参照光束(激光光束)188a照射至参照镜188。激光干涉计183使参照光束189a、189b照射至参照镜189，激光干涉计184使测长光束180b、180c照射至X移动镜180，同时使参照光束190a、190b照射至参照镜190。由已照射的测长光束和参照光束为基准的X移动镜180和参照镜188、190各别而来的反射光在激光干涉计182、184的受光部中被接收。激光干涉计182、184对这些反射光进行干涉，以对此参照光束的光路长为基准的测长光束的光路长的变化量进行计测，进而对以参照镜188、190为基准的X移动镜180的位置(座标)进行计测。激光干涉计182、184的计测结果输出至控制装置CONT2。此控制装置CONT2依据激光干涉计182、184的计测结果以求出基板支件130(基板台PST)的X轴方向中的位置。

又，激光干涉计185使测长光束181a照射至Y移动镜181，同时使参照光束191a照射至参照镜191。激光干涉计186使测长光束181b、181c照射至Y移动镜181，同时使参照光束192a、192b照射至参照镜192。激光干涉计187使测长光束181d照射至Y移动镜181，同时使参照光束193a照射至参照镜193。由已照射的测长光束和参照光束为基准的Y移动镜181和参照镜191、192、193各别而来的反射光在激光干涉计185、186、187的受光部中被接收。激光干涉计185、186、187对这些反射光进行干涉，以对此参照光束的光路长为基准的测长光束的光路长的变化量进行计测，进而对以参照镜191、192、193为基准的Y移动镜181的位置(座标)进行计测。激光干涉计185、186、187的计测结果输出至控制装置CONT2。此控制装置CONT2依据激光干涉计185、186、187的计测结果以求出基板支件130(基板台PST)的Y轴方向中的位置。

又，此控制装置CONT2依据已照射至此移动镜180上的在Y方向中并列的测长光束180a、180b(180c)的计测结果，可求出基板支件130的θZ方向中的姿势。又，通过X轴方向中并列着3个激光干涉计185、186、187，则在对基板支件130的Y轴方向中的位置进行计测时，亦可更换此对应于扫描移动用的基板支件130的X轴方向中的位置而使用的激光干涉计以检出位置。

此处，激光干涉计183使并列的2个参照光束189a、189b在Z轴方向中对着参照镜189而照射。激光干涉计183的计测结果输出至控制装置CONT2。此控制装置CONT2依据各参照光束189a和189b的各别的光路长测定结果，可求出此支持在平台101上的投影光学组件PLa～PLg的θY方向中的姿势。又，此控制装置CONT2例如依据Y轴方向中并列的参照光束188a和190a(190b)的各别的光路长测定结果，以求出此支持在平台101上的投影光学组件PLa～PLg的θZ方向中的姿势。

与光罩支件120受控制时一样，此控制装置CONT2依据平台101的姿势计测结果，以经由基板台驱动装置PSTD来控制基板支件130的姿势。以维持着此支持在平台101上的投影光学组件PLa～PLg和基板支件130(及保持在基板支件130上的感光基板P)的相对位置。

具有上述构成的曝光装置EX在组装时，投影光学组件PLa～PLg在安装至平台101上之前，通过上述调整装置150、153、154、155、158来对投影光学组件PLa～PLg各别的光学特性进行调整。然后，投影光学组件PLa～PLg的光学特性若已调整完成，则各别的投影光学组件PLa～PLg即一方面对平台101的基准位置来决定位置且另一方面安装在平台101上。

进行曝光处理时，光罩M载入(loaded)至光罩支件120上，且感光基板P载入至基板支件130上。此控制装置CONT2使保持着光罩M的光罩支件120和保持着感光基板P的基板件130同步地在X轴方向中移动且通过照明光学系统IL以曝光光束EL来对光罩M进行照明。

通过光罩支件120和基板支件130的移动，则圆柱100中会有歪斜变形的情况发生。然而，投影光学组件PLa～PLg由于通过1个平台101而支持着，则圆柱100的变形对于投影光学组件PLa～PLg的影响可通过以动态方式支持在圆柱100上的平台101而抑制成较小。又，各别的投影光学组件PLa～PLg由于通过1个平台101而支持着，则互相的相对位置的变化可抑制成较小。

又，平台101由于是通过支持部102以动态地对圆柱100而支持着，则圆柱100或平台101本身即使暂时地发生热变形，由于动态支持构造几乎可吸收此变形成份，则对此投影光学系统PL的成像特性的影响可被抑制成较小。

如以上的说明所述，通过1个平台101以支持着多个投影光学组件PLa～PLg，则即使由于光罩支件120或基板支件130的移动等而使圆柱100发生歪斜变形时，圆柱100的歪斜变形对投影光学组件PLa～PLg的影响仍可通过平台101而被抑制成较小。然后，多个投影光学组件PLa～PLg由于通过1个平台101而支持着，则圆柱100中即使发生歪斜变形，各投影光学组件PLa～PLg之间的相对位置的变化仍可被抑制成较小。因此，投影光学组件PLa～PLg的成像特性的变动亦可抑制成较小。

又，由传感器C来测定第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的4个距离，依据此测定结果以检出第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的变位量，即，对不能由构成该动态支持构造所用的支持部来抑制的第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对位置的变位量进行检出。又，由于依据此检出结果可通过补正装置来对光罩的图样的感光基板上的投影位置进行补正，则可对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的偏移进行补正。因此，即使通过载置着第1投影光学单元和第2投影光学单元的平台或圆柱的变形等而使投影位置发生偏移时，由于仍可对此投影位置的偏移进行补正，则第1投影光学单元和第2投影光学单元的连接部仍可正确地成为一致，以进行高精度的曝光。

又，本实施形式中，传感器C虽然配置在投影光学组件PLa和PLb侧(-Y方向侧)，但也可配置在投影光学组件PLf和PLg侧(+Y方向侧)。又，传感器C虽然配置在平台101的下侧(-Z方向侧)，但也可配置在平台101的上侧(+Z方向侧)。又，如图41所示，传感器C1也可配置在载置着第1投影光学单元和第2投影光学单元的平台101上，例如，可配置在平台101的开口部101A的近旁。在此种情况下，控制装置CONT2依据传感器C1的测定结果以检出第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的变位量。

又，本实施形式中，虽然须构成此传感器C，以测定X方向中的2个距离X1，X2以及Y方向中的2个距离Y1，Y2，但亦可对X方向和Y方向的任一方向中的1个以上的距离进行测定。

又，本实施形式中，控制装置CONT2虽然可依据X方向中的2个距离X1，X2以检出第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的并进量，且可依据Y方向中的2个距离Y1，Y2以检出第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的姿势差，但亦可依据X方向中的距离X1，X2以及Y方向中的距离Y1，Y2以检出第1投影光学单元和第2投影光学单元的倾斜量的差。此种情况下，就像本实施形式所属的投影光学系统一样，由于须具备正立正像形成时所需的投影光学系统，则通过曝光时光罩台和基板台在同一方向中进行扫描，即使在第1投影光学单元和第2投影光学单元倾斜的情况下，由于仍可对第1投影光学单元和第2投影光学单元的倾斜量的差进行测定，则可依据此测定结果来对第1投影光学单元和第2投影光学单元的投影位置的偏差进行补正。

又，本实施形式中，虽然可对第1投影光学单元和第2投影光学单元的倾斜量直接测定，但也可使第1投影光学单元和第2投影光学单元中的各光学元件群成为一体，以测定光学平台本身的变形量。例如，也可对Y方向中偏离的2个位置的Z方向的变位进行测定，且依据此测定结果以求出Y方向中的倾斜量。

又，本实施形式中，虽然可通过传感器C以测定第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对的距离，但也可对构成第1投影光学单元的投影光学组件PLa、PLc、PLe、PLg和成对向而设置的构成第2投影光学单元的投影光学组件PLb、PLd、PLf的相对距离进行测定。即，此种构成可对投影光学组件PLa和PLb、PLb和PLc、PLc和PLd、PLd和PLe、PLe和PLf、PLf和PLg的相对的距离进行测定。在此种情况下，控制装置CONT2可依据传感器的测定结果以检出各别的投影光学组件PLa～PLg的投影位置的偏移。由于可通过各别的投影光学组件PLa～PLg所具备的作为补正装置(光学特性调整装置)用的光学调整机构(即，移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构、像面调整机构的至少1个调整机构)来对各别的投影位置的偏移进行补正，则能以更高的精度来对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的偏移进行补正。

又，也可构成一种传感器以对投影光学组件PLa和PLb、PLb和PLc、PLc和PLd、PLd和PLe、PLe和PLf、PLf和PLg的连接部的相对距离进行测定。在此种情况下，由于控制装置CONT2可依据传感器的测定结果以直接检出各投影光学组件PLa～PLg的投影位置的各别的连接部的偏移，则可通过各别的投影光学组件PLa～PLg所具备的上述光学调整机构以确实地对各别的投影位置的连接部的偏移进行补正，于是能以更高的精度来对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的偏移进行补正。

又，本实施形式中，控制装置CONT2虽然可依据传感器C所计测的4个距离X1、X2、Y1、Y2来检出第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对变位量，但也可在未具备此传感器C的情况下例如依据一种由图40中所示的光罩台120的-X侧上所设置的激光干涉计(2个变形量测定装置或计测装置)172、173照射至设置在平台101上的参照镜175、176上的参照光束175a、175b、176a、176b的光路长测定结果，以对此平台101的变形量进行测定，依据已测定的变形量，则此控制装置(算出装置)CONT2即可算出第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对变位量。

例如，如图38a所示，平台101由点线所示的形状变形成以实线所示的形状时，此参照光束175a的光路长成为较参照光束175b的光路长还长，此参照光束176a的光路长成为较参照光束176b的光路长还长，又，如图38b所示，平台101由点线所示的形状变形成以实线所示的形状时，此参照光束175a的光路长成为较参照光束175b的光路长还短，此参照光束176a的光路长成为较参照光束176b的光路长还长。因此，依据各参照光束175a、175b、176a、176b的光路长测定结果，可检出此平台101的X方向和Y方向中的变形量，以算出以此变形量为基准的情况下第1投影光学单元所造成的投影像和第2投影光学单元所造成的投影像的位置偏移量，即，算出X方向和Y方向中相对的变位量。

具体而言，依据各参照光束175a、175b、176a、176b的光路长测定结果为基准之情况下X方向和Y方向中相对的变位量，可通过以下的(数式1)来算出第1投影光学单元所造成的投影像和第2投影光学单元所造成的投影像的X方向中的位置偏移量(补正量)X1以及第1投影光学单元所造成的投影像和第2投影光学单元所造成的投影像的Y方向中的位置偏移量(补正量)Y1，

(数式1)

X1＝k1{(IMXTR2-IMXTR1)-(IMXTL2-IMXTL1)}

+k2{(IMXTR2-IMXTR1)+(IMXTL2-IMXTL1)}

Y1＝k3{(IMXTR2-IMXTR1)-(IMXTL2-IMXTL1)}

+k4{(IMXTR2-IMXTR1)+(IMXTL2-IMXTL1)}

此处，k1和k2是一种由各参照光束175a、175b、176a、176b的光路长测定结果以算出由第1投影光学单元形成在感光基板P上的投影像的位置以及由第2投影光学单元形成在感光基板P上的投影像的位置的X方向中的位置偏移量(补正量)X1所用的系数。又，k3和k4是一种由各参照光束175a、175b、176a、176b的光路长测定结果以算出由第1投影光学单元形成在感光基板P上的投影像的位置以及由第2投影光学单元形成在感光基板P上的投影像的位置的Y方向中的位置偏移量(补正量)Y1所用的系数。又，IMXTR2表示此参照光束176a的光路长、IMXTR1表示此参照光束176b的光路长、IMXTL2表示此参照光束175a的光路长、IMXTL1表示此参照光束175b的光路长。

依据数式1所算出的补正量，通过各投影光学组件PLa～PLg所具备的上述光学调整机构，以对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置进行补正，或对由第1投影光学单元所投影的第1投影位置以及由第2投影光学单元所投影的第2投影位置的至少一位置进行补正。此处，所谓投影位置是指：X方向(扫描方向)中的位置、Y方向(与扫描方向直交的方向)中的位置以及以投影光学系统PL的光轴方向作为轴时的旋转方向中的位置的至少1个位置。

此种情况下，由于依据激光干涉计172、173的计测结果以算出第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对变位量，则不需搭载着高价的传感器即可容易地检出第1投影光学单元和第2投影光学单元的变位量。又，由于通过激光干涉计172、173可检出的平台101(投影光学系统PL)和圆柱100之间的相对变形量以及由于圆柱100变形时所造成的变形的平台101的变形量之间存在着相似关系，则通过正确地对激光干涉计172、173所造成的在平台101(投影光学系统PL)和圆柱100之间的相对变形量，即可正确地对平台101(投影光学系统PL)的变形量进行计测，以进行高精度的补正。

又，本实施形式中，通过上述的补正装置(移位调整机构、旋转调整机构、缩放调整机构、像面调整机构的至少1个调整机构)虽然可对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的偏移进行补正，但也可通过作为补正装置用的载置着光罩M的光罩台MST和载置着感光基板P的基板台PST的至少其中一台的姿势受到控制，以使用此台的控制装置来对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的偏移进行补正。即，通过对光罩台MST或基板台PST的位置的调整，则可对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的偏移进行补正。

又，第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对位置发生变化时，例如，第2投影光学单元的光轴相对于第1投影光学单元的光轴而倾斜时，感光基板上已投影的投影区域会发生一种与倾斜量相对应的位置偏移，此时须通过移位调整机构等来补正。然而，也可同时预测该投影用的光罩的图样区域也会偏移。此时，以第1投影光学单元作为基准时，通过与第2投影光学单元的光罩及感光基板成共轭的位置所在的中间成像位置上所设置的未图示的视野光圈的位置受到调整，也可使投影用的光罩的图样区域受到调整。又，此时，不只可加入此传感器C的输出值而且已调整的视野光圈的位置信息也可加入，通过第2投影光学单元的上述光学调整机构以进行补正时，也可对感光基板上的光罩的图样的像位置进行调整。

又，本实施形式中，虽然可使用此传感器C和激光干涉计172、173以作为变形量测定装置，但也可不必使用此变位量测定装置。即，例如，在对应于光罩台MST和基板台PST此二者或其中任一个之与移动有关的信息(例如，含有位置和加速度中的至少一种)的情况下，可事先求出一种与平台101的变形(歪斜等)有关的信息、一种与第1和第2投影光学单元的相对的位置关系(位置偏移)有关的信息或其位置偏移的补正量。感光基板P的曝光动作中，例如亦可依据激光干涉计系统所造成的与光罩台MST或基板台PST的移动有关的计测信息(或其与驱动有关的指令值)，以通过上述补正装置来对第1和第2投影光学单元所造成的投影像的相对位置偏移进行补正。

又，投影位置的补正方法中，也可通过使平台101的变形回复原形所用的驱动机构，或通过使第1投影光学单元或第2投影光学单元变形所用的驱动机构以相对的方式来进行补正。

依据第2实施形式的曝光装置，通过变位量测定装置以对第1投影光学单元和第2投影光学单元的相对变位量进行测定，依据此测定结果通过补正装置来对光罩图样的感光基板上的投影位置进行补正，则可对第1投影光学单元的投影位置和第2投影光学单元的投影位置的偏移(扫描方向中的偏移、与扫描方向交叉的方向中的偏移、以及以投影光学系统的光轴方向作为轴时的旋转方向中的偏移)进行补正。因此，即使由载置着第1投影光学单元和第2投影光学单元的构件的变形等所造成的投影位置发生偏移时，由于可对此投影位置的偏移进行补正，则第1投影光学单元和第2投影光学单元的连接部可正确地成为一致，以高精度地进行曝光。

使用上述各实施形式中的曝光装置，通过曝光过程的进行使光罩或标线(reticule)上所形成的转印用的图样或由可变成形光罩所产生的转印用的图样曝光转印至感光性基板(半导体晶圆等)上，则可制造微元件(半导体元件、摄像元件(CCD等)、薄膜磁气头、液晶显示元件等)。

以下，使用上述各实施形式中的曝光装置，通过半导体晶圆上形成所定的电路图样，以作为微元件用的半导体元件得到时的手段之一例且参照图43的流程图来说明。首先，图43的步骤S301中，在1批晶圆上对金属膜进行蒸镀。其次的步骤S302中，在此1批晶圆的金属膜上涂布光阻。然后，步骤S303中使用上述第1或第2实施形式的曝光装置，光罩上的图样或可变成形光罩所生成的图样的像经由投影光学系统以依序曝光转印至此1批晶圆上的各短路区域上。

然后，在步骤步骤S304中，此1批晶圆上的光阻进行显像之后，在步骤S305中通过此1批晶圆上以光阻图样作为光罩以进行蚀刻，以便在各晶圆上的各短路区域上形成一与光罩上的图样相对应的电路图样。然后，通过进行更上方的层之电路图样的形成等，以制造半导体元件等的元件。依据上述半导体元件的制造方法，投影光学系统的投影位置的偏移由于可正确地获得补正，则可进行高精度的曝光处理，以制造高精度的半导体元件。

又，上述的各实施形式的曝光装置中，通过平板(玻璃基板)上形成所定的图样(电路图样、电极图样等)，则也可得到作为微元件用的液晶显示装置。以下，参照图44的流程图，以此时的手段的一例来说明。图44的图样形成过程S401中，使用上述第1或第2实施形式的曝光装置，使光罩上的图样或由可变成形光罩所生成的图样的像转印曝光至感光性基板(涂布着光阻的玻璃基板)上，以进行所谓光微影(Lithography)过程。通过此种光微影过程，则感光性基板上会形成含有多个电极的所定图样。然后，已曝光的基板通过经过显像过程、蚀刻过程、光阻剥离过程等各过程，使所定的图样形成在基板上，然后转移至下一步骤的彩色滤光器形成过程S402。

其次，在彩色滤光器形成过程S402中，对应于红(R)、绿(G)、蓝(B)的3个点的组以多个的形式配列成矩阵状，或R、G、B的3个条形的滤光器的组配列在多条水平扫描线方向中以形成彩色滤光器。然后，在彩色滤光器形成过程S402之后，进行单元组立过程S403。在单元组立过程S403中，例如，在具有由图样形成过程S401所得到的所定图样的基板和由彩色滤光器形成过程S402所得到的彩色滤光器之间注入液晶，以制造液晶面板(液晶单元)。然后，在组件组立过程S404中，对已组立的液晶面板(液晶单元)的显示动作已进行完成后的电路、背光等的各构件进行安装以制成液晶显示元件。依据上述液晶显示元件的制造方法，由于可正确地对投影光学系统的投影位置的偏移进行补正，则可进行高精度的曝光处理，以制造高精度的液晶显示元件。

[其它]

然而，感光基板的大型化继续进行，随着此种大型化也使基板台的大型化、基板台的重量有增加的倾向。因此，基板台移动时，载重移动也会变大，为了与基板台的移动所伴随的载重移动相对应，则装置本体需要高的刚性，装置本体也会大型化及重量化。然而，即使试图达成装置本体的高刚性化，伴随着基板台的移动所造成的曝光装置的振动(或偏载重)完全地受到抑制是困难的。对此而言，本发明所适用的曝光装置中即使由于装置振动而使光学单元振动时，由于光学单元的振动所造成的光学性能的变动可有效地补正，则可使曝光精度向上提高。又，由于对装置振动的容许值变大，装置本体的刚性却不必作相同程度的提高，则可使曝光装置达成小型化、轻量化。本发明对外径较500毫米还大的感光基板(即，一边或对角线较500毫米还大之感光基板)进行曝光用的曝光装置特别有效。

又，本发明的曝光装置在对高精细的图样进行曝光时也有效。又，本发明的曝光装置可作为更广的装置图样制造用的曝光装置，即使投影光学系统的数目增大时的连接部增大、以及各投影光学系统的图角变大，使各投影光学系统的投影区域扩大时由投影光学系统的中心分离的周边部中的像歪斜、倍率变动的增大而需要更高的连接精度时，本发明的曝光装置也有效。

又，以上所说明的实施形式是为了容易地了解本发明而记载者，其不是为了限定本发明而记载者。因此，上述的实施形式中已揭示的各成份在意义上也包含本发明的技术范围所属的全部的设计变更或均等物。

例如，上述各实施形式中，多个光学单元(第1实施形式中的曝光光学系统，第2实施形式中的投影光学组件)虽然以1个平台(9或101)来支持着，但对于多个光学单元划分成不同的组(group)而分别以平台来支持的本体(body)构造的曝光装置而言，本发明也可适用。又，上述的各实施例中，虽然可使用各别非扫描方向(Y方向)中投影区域已配列完成的多个光学单元所构成的2组曝光单元群或投影光学单元，但此数目不限于2组，1组或3组以上也可。又，上述各实施形式中的投影光学组件以及第2实施形式中的照明光学系统都不限于上述已揭示的构成，其它任意的构成也可。

又，上述各实施形式中，就与多个光学单元所造成的投影像(图样的像)的相对的位置关系的变化有关的信息而言，须对多个组的曝光单元群或投影光学单元的相对的位置关系(位置偏移)进行计测，依据此计测信息来对至少1个图样的像的位置进行补正。然而，此计测信息不限于多个组的曝光单元群或投影光学单元的相对的位置偏移，而是可使用曝光单元群或投影光学单元的位置、光学单元的位置以及多个光学单元的相对的位置关系的至少1种以作为计测信息，以取代上述的位置偏移所形成的计测信息、或与此位置偏移所形成的计测信息相组合。又，例如也可使用以下的信息以作为计测信息：与设有多个光学单元的支持部(平台等)的变形有关的信息、以及与各种台(第1实施形式中的基板台、第2实施形式中的光罩台和基板台的至少一种台)的移动有关的信息的至少一种信息。此时，较佳是准备一种例如与变形信息和移动信息的至少一种信息、多个光学单元所造成的图样的像的补正信息(图样的像的位置应补正用的光学单元及其补正量等)相对应的补正表。然后，曝光时依据计测装置而来的计测信息和此补正表，以对至少1个图样的像的位置进行补正。又，上述变形信息包含各支持构件的歪斜信息，上述移动信息包含各台的位置和加速度的至少一种。

又，上述各实施形式中，虽然各台、平台、镜筒等的构件上可设有一种使由激光干涉计而来的光束反射用的移动镜或参照镜，但也可对这些构件的一部份进行镜面加工以形成光束的反射面。又，上述的各实施例中，虽然使用激光干涉计以进行各台的位置计测，但也可使用其它的计测传感器(例如，编码器等)，以取代激光干涉计或与激光干涉计相组合。

又，上述各实施形式中所用的光源只是举例而已，也可使用KrF准分子激光(波长248nm)、ArF准分子激光(波长193nm)或F2激光(波长157nm)及其它的光源。又，也可使用激光等离子光源、或由SOR所产生的软X线区域、例如，波长13.4nm或11.5nm的EUV(Extreme Ultra Violet)光。又，也可使用电子线或离子束等的带电粒子线。另外，也可使用由DFB半导体激光或光纤激光所发出的红外线区域、或可见区域的单一波长激光，例如，可使用以鍜(erbium)(或鍜和镱(ytterbium)的二者)来掺杂的光纤放大器所放大、且使用非线形光学结晶使波长已变换成紫外光的高调波。

又，本发明可适用的曝光装置不限于半导体元件、摄像元件、薄膜磁头、液晶显示元件制造时所用的曝光装置，本发明的曝光装置也可广泛地适用于微机械、DNA晶片、光罩或标线(reticule)等制造用的曝光装置中。

投影光学系统(投影光学组件)的倍率不只是等倍系统，也可为缩小系统和扩大系统的任一种，同时也可使用反射光学系统、折射光学系统以及反射折射光学系统中的任一种。

基板台或光罩台(stage)上使用线性马达时，使用空气浮上型(其使用空气轴承)-和磁气浮上型(其使用劳伦斯(Lawrence)力或电抗(reactance)力)线性马达中的任一种都可以。又，上述的台(stage)也可为沿着光导而移动的型式，且也可为未设有光导的无光导的型式。

使用平面马达作为台的驱动装置时，若磁铁单元和电机子单元的任一个连接至此台，磁铁单元和电机子单元的另一个设在此台的移动面侧(底面)上，则这样也可行。

也可使用框构件，使通过基板台的移动所产生的反力以机械方式导引至大地中，如特开平8-166475号公报(及其对应的美国专利公报5528118号)中所记载者。又，也可使用框构件，使通过光罩台的移动所产生的反力以机械方式导引至大地中，如特开平8-330224号公报(及其对应的美国专利公报6188195号)中所记载者。又，也可采用反质量方式，以利用运动量保存法则使台的移动时所产生的反力相消，如美国专利公报6969966号中所记载者。又，在本国际申请时所指定的指定国或所选择的选择国的国内法令所许可的限制下，引用上述公报和美国专利的揭示而成为本说明书的记载的一部份。

上述各实施形式所属的曝光装置可在组装时制造各种次(sub)系统，以保持所定的机械的精度、电气的精度、光学的精度。为了确保上述各种精度，曝光装置的组装前后须对各种光学系统进行：光学的精度达成时所需的调整、各种机械系统中机械的精度达成时所需的调整、各种电气系统中电气的精度达成时所需的调整。由各种次系统组合成曝光装置时的组装过程包含：各种次系统相互的、机械的连接、电路的配线连接、气压回路的配管连接等。由各种次系统组合成曝光装置时的组装过程之前，不用说各种次系统需要进行各别的组装过程。若各种次系统组合成曝光装置的过程已结束，则须进行总合调整，以确保作为曝光装置时的各种精度。又，曝光装置的制造较佳是在温度和洁净度等已受到管理的无尘室(clean room)中进行。

以上已揭示的内容是与2005年1月25日提出的日本国专利申请第2005-16843号、2005年2月18日提出的日本国专利申请第2005-43103号号、以及2005年8月17日提出的日本国专利申请第2005-23694号中所含有的主题相关联，其已揭示的全部内容明白地编入此处以作为参照事项。

虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习此技艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许更动与润饰，因此本发明的保护范围当以权利要求所界定的为准。

Claims (15)

1.一种曝光装置，将通过具有多个光学单元的光学系统而投影在物体上的图样的像，利用上述光学系统与上述物体的相对移动，以便使上述图样的像曝光转写至上述物体上，上述曝光装置的特征在于：

具有上述多个光学单元的一部份的第1光学单元以及具有与上述第1光学单元不同的上述光学单元的第2光学单元，在与上述相对移动的扫描方向相关的情况下配置成使上述光学单元所造成的像的位置不相同；以及

上述曝光装置还具备：

变位量测定装置，其对上述第1和第2光学单元的相对变位量进行测定，

补正装置，补偿上述多个光学单元的变动，所述补正装置依据上述已测定的相对变位量来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述变位量测定装置对上述第1和第2光学单元的相对并进量以及姿势差的至少其中之一进行测定。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述变位量测定装置对上述第1和第2光学单元的与上述扫描方向、以及与上述扫描方向垂直交叉的方向的至少一方向有关的相对变位量进行测定。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述光学系统是一种形成正立正像的光学系统，上述变位量测定装置对上述第1和第2光学单元的倾斜量的差进行测定。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于还包括：

支持构件，其上设置着上述第1光学单元和上述第2光学单元，使得在与上述相对移动的扫描方向相关的情况下，由上述光学单元所造成的像的位置不相同；以及

计测装置，其对与上述支持构件的变形有关的信息进行计测；

上述补正装置依据上述与已计测的变形有关的信息及上述已测定的相对变位量，来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

6.如权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，上述计测装置对与上述扫描方向、以及与上述扫描方向垂直交叉的方向的至少一方向有关、且与上述支持构件的变形有关的信息进行计测。

7.如权利要求1或5所述的曝光装置，其特征在于，上述补正装置通过上述物体的姿势控制，来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的像的位置进行补正。

8.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于还包括：

含有空间光调变器的可变成形光罩，其中上述空间光调变器使用于上述图样的像的形成，

上述可变成形光罩是对应于上述光学系统与上述物体的相对移动来控制上述空间光调变器，

上述补正装置通过对上述空间光调变器的控制，来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

9.如权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，上述空间光调变器分别对应于上述多个光学单元而设置着，上述补正装置通过对上述多个空间光调变器的控制来对多个上述像的位置各别地进行补正。

10.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述多个光学单元中的至少1个具有一补正光学系统，其对投影至上述物体上的像的位置进行补正，

上述补正装置利用上述补正光学系统来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

11.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述物体是一种外径较500毫米还大的感光基板。

12.一种微元件的制造方法，包括：

曝光过程，其使用如权利要求1～11中任一项所述的曝光装置，以使上述图样的像在上述物体上曝光；以及

显像过程，其对由上述曝光过程所曝光转印的上述物体上的图样进行显像。

13.一种曝光方法，将通过具有多个光学单元的光学系统而投影在物体上的图样的像，利用上述光学系统与上述物体的相对移动，以便使上述图样的像曝光转写至上述物体上，上述曝光方法的特征在于其包括：

利用具有上述多个光学单元的一部份的第1光学单元、以及具有与上述第1光学单元不同的上述光学单元的第2光学单元，在与上述相对移动的扫描方向相关的情况下，于不同位置使多个上述像进行投影；

测定上述第1和第2光学单元的相对变位量；以及

补偿上述多个光学单元的变动，依据上述已测定的相对变位量来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

14.如权利要求13所述的曝光方法，其特征在于还包括：

上述第1光学单元和上述第2光学单元是，在与上述相对移动的扫描方向相关的情况下，对于由上述光学单元所造成的像的位置不相同而设置的支持构件的变形有关的信息进行计测；

上述补正是依据上述与已计测的变形有关的信息与上述已测定的相对变位量，来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

15.如权利要求13所述的曝光方法，其特征在于还包括：

利用含有空间光调变器的可变成形光罩生成经由上述光学系统而投影到上述物体上的图样的像；以及

对应于上述光学系统与上述物体的相对移动来控制上述空间光调变器；

上述补正是通过对上述空间光调变器的控制，来对于上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

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