CN100457642C - 一种用于提纯和杀菌的装置 - Google Patents
一种用于提纯和杀菌的装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN100457642C CN100457642C CNB2004800247460A CN200480024746A CN100457642C CN 100457642 C CN100457642 C CN 100457642C CN B2004800247460 A CNB2004800247460 A CN B2004800247460A CN 200480024746 A CN200480024746 A CN 200480024746A CN 100457642 C CN100457642 C CN 100457642C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pipe
- pipe body
- introduction pipe
- discharger
- ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 title claims abstract description 44
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims abstract description 47
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 21
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 claims description 32
- 241001672694 Citrus reticulata Species 0.000 claims description 18
- 230000008676 import Effects 0.000 claims description 13
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims description 13
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 11
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 5
- 239000008213 purified water Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 4
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- BOFLDKIFLIFLJA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-1-en-3-yne Chemical group CC(=C)C#C BOFLDKIFLIFLJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHLKXBJTJHRTTE-UHFFFAOYSA-N Chlorobenside Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1CSC1=CC=C(Cl)C=C1 ZHLKXBJTJHRTTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000000968 intestinal effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000003612 virological effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/4606—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods for producing oligodynamic substances to disinfect the water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/722—Oxidation by peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3222—Units using UV-light emitting diodes [LED]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3226—Units using UV-light emitting lasers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
本发明是关于一种杀菌和提纯装置。这种装置包括一对用复数个支撑杆(63)分离设置的固定元件(61、62)；设置有一个具有向其中导入处理水的入流部(11)的引导管体(10)，和一个具有从其中纯净水被排出的排气部(21)的排气部体(20)，其中，引导管体(10)和排气部体(20)被分别固定在元件(61、62上)；向其中输入各种处理化学品的复数个处理化学输入阀门(31、32、33)和(34)；和一个设置在引导管体(10)和排气部体(20)之间的紫外线产生装置(40)；连通引导管体(10)和排气部体(20)的管(50)，其中，管被设置成缠绕紫外线产生装置(40)。
Description
技术领域
本发明关于一种提纯和杀菌的装置，用于将污水、废水等有效提纯和杀菌。
背景技术
一般来说，在现有的污水处置设备中的氯消毒方法中存在问题，就是在江河中留有氯流的时候，水生物生态系统被极大地影响了。尤其是，由于这种方法一种消毒方法而不是一种杀菌方法，所以对去除病毒微生物是没有效果的。
由于这些问题，这种消毒方法逐渐被利用臭氧和紫外线的杀菌方法所取代。特别可以期待的是，由于不会残留化学制品，这种利用紫外线的杀菌方法在将来将会被广泛地应用。这种利用紫外线的杀菌方法的一个基本理论在于大量的紫外线光被设置在废水容器中用来容纳废水。
但是，在上述的紫外线杀菌方法中，由于混浊程度紫外线的传播迅速降低，所以它的杀菌能力降低了。并且，如果废水中的外来物质粘附到紫外光的表面，那么紫外线就不能被传送到废水里面，所以杀菌效果就被进一步降低了。不但如此，大量的紫外光必须被设置在废水容器里面。这就导致维护成本的增加。
发明内容
因此，本发明在制作的时候考虑了上述的问题，本发明的一个目的就是提供一种杀菌和提纯的装置，在其中，具有严重混浊物和含有大量有机/无机物质的污水、废水等被有效地杀菌和提纯。
为了达到上述目的，根据本发明的特征，这里提供一种杀菌和提纯的装置，包括：一对用复数个支撑杆63分离设置的固定元件61、62；设置有一个具有向其中导入处理水的入流部11的引导管体10，和一个具有从其中纯净水被排出的排出部21的排出装置20，其中，引导管体10和排出装置20被分别固定在元件61、62上；向其中输入各种处理化学品的复数个处理化学输入阀门31、32、33和34，其中输入阀门被设置在引导管体10上；和一个设置在引导管体10和排出装置20之间的紫外线产生装置40；连通引导管体10和排出装置20的管50，其中，管被设置成缠绕紫外线产生装置40；和分别设置在引导管体10和排出装置20上的清洗阀门35，用来供给用于去除管50中的飘浮物质和渣滓的清洗水。
在本发明中，一个用于沿着处理水被导入的方向照射激光的激光二极管模块70被设置在引导管体10中。
在本发明中，管50有一个平面形状，以便紫外线可以被有效地传播。
在本发明中，管50包括：一端连接到引导管体10的既定端而另一端连接到排出装置20的既定端的第一管51，其中，第一管51具有预定的直径并以螺旋方向缠绕；一端连接到引导管体10的既定端而另一端连接到排气部体20的既定端的第二管53，其中，第二管具有向对于第一管51的圆周的第二直径并以螺旋方向缠绕；和
紫外线产生装置40包括：设置在这对固定元件61、62之间的一组第一紫外线照射灯，其中，第一紫外线照射灯由用于向第一管51照射紫外线的复数个第一紫外线照射灯43组成，和设置在这对固定元件61、62之间的一组第二紫外线照射灯，其中，第二紫外线照射灯由用于向第二管53照射紫外线的复数个第二紫外线照射灯44组成。
根据本发明的另一个特征，这里提供一种杀菌和提纯装置，包括：一对用复数个支撑杆163分离设置的固定元件161、162；设置有一个具有向其中导入处理水的入流部111的引导管体110，和一个具有从其中纯净水被排出的排出部121的排出装置120，其中，引导管体110和排出装置120被分别固定在元件161、162上；向其中输入各种处理化学品的复数个处理化学输入阀门131、132、133和134，其中输入阀门被设置在引导管体110上；和一个设置在引导管体110和排出装置120之间的紫外线产生装置140，其中，引导管体110贯穿这对固定元件161、162的中心并且具有复数个设置在其外周围上的第一连接管112a、112b、112c……，排出装置120贯穿这对固定元件161、162的外周围并且具有复数个第二连接管122a、122b、122c……，管150包括复数个子管150a、150b、150c……，这些子管被连接到第一连接管112a、112b、112c……上以便将其缠绕几圈然后被连接到第二连接管上，和紫外线产生装置140包括几组紫外线照射灯，这些灯被设置在这对固定元件161、162中间并用于向子管150a、150b、150c照射紫外线。
在本发明中，该杀菌和提纯装置还包括一个连接在引导管体110上用来产生电离子的金属电解装置170。
在本发明中，金属电解装置170包括：一个圆柱形的壳体171，等距离设置在壳体171中的第一和第二电极板172、173，和一个设置在第一和第二电极板172、173之间的用来测量第一电极板172和第二电极板173之间的距离的传感器174。
在本发明中，该杀菌和提纯装置还包括一个设置在引导管体110和排出装置120之间的，用于清洗管150的杂质去除装置180，其中，杂质去除装置180包括：一个设置在入流部111上的第一阀门181，一个设置在入流部111中的第二阀门182，其中，第二阀门182移向相对于第一阀门181的对应位置，和一个连接在第二阀门182上的用来供给高压清洁溶液的压力泵。
根据本发明还具有的一个特征，这里提供一个杀菌和提纯装置，包括：一个具有向其中导入废水的入流部211的引导管体210；和一个具有从其中纯净水被排出的排出部221的排出装置220；从引导管体210径向设置的复数个第一连接管212；从排出装置220径向设置的复述个第二连接管222；以螺旋形状缠绕在第一连接管212和第二连接管222之间的管250；和由设置在管250中的紫外线照射灯构成的紫外线产生装置240。
在本发明中，该杀菌和提纯装置还包括一个连接在引导管体210上的用来产生金属离子的金属电解装置270。
在本发明中，该金属电解装置270包括：一个圆柱形状的壳体271，等距离设置在壳体271中的第一和第二电极板272、273，和设置在第一和第二电极板272、273之间的用来测量第一电极板272和第二电极板273之间的距离的传感器274。
附图主要说明
从下面参考附图的更详细的说明中，可以更完整地理解本发明的进一步的目的和优点，其中：
附图1显示的是依据本发明的第一实施例的杀菌和提纯装置的结构；
附图2显示的是如图1所示的支撑杆的分离示意图；
附图3显示的是如图1所示的沿线III-III’的截面示意图；
附图4显示的是被应用在图1中的引导管体中的激光二极管模块的立体图；
附图5显示的是依据本发明的第二实施例的杀菌和提纯装置的结构；
附图6显示的是图5所示的杀菌和提纯装置的侧视图；
附图7显示的是如图5所示的沿线VII-VII’的截面示意图；
附图8显示的是依据本发明的第三实施例的杀菌和提纯装置的结构的侧视图；
附图9显示的是如图8所示的沿线IX-IX’的截面示意图。
执行本发明的最佳实施例
下面参考附图，结合最佳实施例，对本发明做更加详细的说明。
第一实施例
附图1显示的是依据本发明的第一实施例的杀菌和提纯装置的结构。附图2显示的是如图1所示的支撑杆的分离示意图。附图3显示的是如图1所示的沿线III-III’的截面示意图。附图4显示的是被应用在图1中的引导管体中的激光二极管模块的立体图。
参考附图1-4，依据本发明的第一实施例的杀菌和提纯装置包括：一个具有向其中导入处理水(比如废水)的入流部11的引导管体10，和一个具有从其中纯净水被排出的排出部21的排出装置20，向其中输入各种处理化学品的复数个处理化学输入阀门31、32、33和34，其中输入阀门被设置在引导管体10上，一个设置在引导管体10和排出装置20之间的紫外线产生装置40，连通引导管体10和排出装置20的管50被设置成缠绕紫外线产生装置40，和分别设置在引导管体10和排出装置20上的清洗阀门35，用来供给用于去除管50中的飘浮物质和渣滓的清洗水。
上述装置被固定在一对由复数个支撑杆63分离设置的固定元件61、62上。就是说，如附图2所示，这对固定元件61、62中的固定元件61的中心被固定在引导管体10上，而固定元件62的中心被固定在排出装置20上。稍后将会被详细描述的管以螺旋方向缠绕在连接在固定元件61、62上的复数个支撑杆63、64和65上。例如生活污水、工业废水和耐火染料废水等处理水被导入引导管体10的入流部11。
处理化学品输入阀门31、32、33和34被输入各种处理化学品用来分解细菌/臭味和被导入到入流部11中的处理水的重金属。处理化学品的入流被处理化学品输入阀门31、32、33和34控制。在这个时候，最佳选择是，被导入到阀门31的处理化学品是过氧化氢，被导入到阀门32的处理化学品是异戊烯炔，被导入到阀门33的处理化学品是光催化剂(比如Tio 2)，被导入到阀门34的处理化学品是液体氧/臭氧。
并且，清洗阀门35被设置在引导管体10和排气部体20上用来供给用于去除各种粘附在聚四氟乙烯卷管50上的漂浮物质和渣滓的清洗剂。
紫外线产生装置40和管50构成一个紫外线消毒处理元件。
管50可以由聚四氟乙烯构成且可以是平面形状的，以便紫外线能够更有效地传播。聚四氟乙烯具有非粘附特性、摩擦系数低的特性、非油性特性、化学稳定性特性和抗热特征(最高290℃-550℉)。因此，管50由聚四氟乙烯材料形成并具有卷曲形状。这样通过增加或者减少缠绕的数量，就可以延长通过管50的处理水的驻留时间。
管50包括：一端连接到引导管体10的即定端而另一端连接到排出装置20的即定端的第一管53，其中，第一管53有一个预定直径并以螺旋方向缠绕，一端连接到引导管体10的即定端而另一端连接到排出装置20的即定端的第二管54，其中，第二管54有一个在第一管53外周围上的第二直径并以螺旋方向缠绕，一端连接到引导管体10的即定端而另一端连接到排出装置20的即定端的第三管55，其中，第三管55有一个在第二管54外周围上的第三直径并以螺旋方向缠绕。
在上述中，第一管53被缠绕在设置在固定元件61里面的第一支撑杆63上，第二管54被缠绕在设置在第一支撑杆63外周围上的第二支撑杆64上，第三管55被缠绕在设置在第二支撑杆64外周围上的第三支撑杆65上。
紫外线产生装置40包括：由复数个第一紫外线照射灯43组成的用于向第一管51照射紫外线的一组第一紫外线照射灯，由复数个第二紫外线照射灯44组成的用于向第二管53照射紫外线的一组第二紫外线照射灯，由复数个第三紫外线照射灯45组成的用于向第三管55照射紫外线的一组第三紫外线照射灯。
在这个实施例中，第一紫外线照射灯的这组被固定在第一支撑杆63的里面，第二紫外线照射灯的这组被固定在第二支撑杆64的里面，第三紫外线照射灯的这组被固定在第三支撑杆65的里面。在这个时候，第一、第二和第三紫外线照射灯43、44和45最好被用石英管构造。并且，第一到第三紫外线照射灯43到45可以是波长分别为253.7nm和184.9nm。
同时，一个用于沿着处理水被导入的方向照射激光的激光二极管模块70被设置在引导管体10中。在这个时候，如附图4所示，激光二极管模块70在底层71上设置有复数个紫外线激光二极管72和/或复数个红外线激光二极管。在这个时候，紫外线激光二极管72产生波长为253.7nm的紫外线。
从激光二极管模块上产生的激光光束具有很高的向外密度并且是笔直的。因此，激光光束在向处理水传输产生的能量的时候，在能量普上是没有变化的并且有很好的杀菌能力。在这个时候，可以应用凹透镜以便将激光光束扩散到更大的区域。
第二实施例
现在要描述的是依据本发明的第二实施例的杀菌和提纯装置。
附图5显示的是依据本发明的第二实施例的杀菌和提纯装置的结构。附图6显示的是图5所示的杀菌和提纯装置的侧视图。附图7显示的是如图5所示的沿线VII-VII’的截面示意图。
参考附图5-7，依据本发明的第二实施例的杀菌和提纯装置包括：一个具有向其中导入处理水的入流部111的引导管体110，和一个具有从其中纯净水被排出的排出部121的排出装置120，向其中输入各种处理化学品的复数个处理化学输入阀门131、132、133，其中阀门被设置在引导管体110上，一个设置在引导管体110和排出装置120之间的紫外线产生装置140，连通引导管体110和排出装置120的管150被设置成缠绕紫外线产生装置140。前述装置被固定在利用复数个支撑杆分离设置的一对固定元件161、162上。并且，用于产生金属离子的金属电解装置170被设置在引导管体110上。
在上述中，引导管体110贯穿这对固定元件161、162的中心并被固定在此。引导管体110有设置在其外周围的复数个第一连接管112a、112b、112c……。
排出装置120贯穿这对固定元件161、162的外周围并被固定在此。排出装置120有设置在其外周围的复数个第二连接管122a、122b、122c……。
管150包括复数个子管150a、150b、150c……，这些子管被连接到第一连接管112a、112b、112c……上以便将其缠绕几圈然后被连接到第二连接管122a、122b、122c……上。在这个时候，管150象在第一实施例中的一样也是由聚四氟乙烯材料形成的。更好的是管150具有水平形状以便紫外线能够被更有效地传输。
紫外线产生装置140包括几组紫外线照射灯，这些灯被设置在这对固定元件161、162中间并用于向子管150a、150b、150c照射紫外线。
如附图7所示，上述装置的中心和边缘部被固定在引导管体110和排出装置120上。管150被缠绕在引导管体110上几圈然后被连接在排出装置120上。管150以螺旋方向被缠绕在设置在固定元件161、162之间的复数个支撑杆163上的外周围上，紫外光照射灯被沿着支撑杆163设置。
金属电解装置170包括：一个圆柱形的壳体171，等距离设置在壳体171中的第一和第二电极板172、173，和一个设置在第一和第二电极板172、173之间的用来测量第一电极板172和第二电极板173之间的距离的传感器174。
第一电极板172和第二电极板173是利用由铜(CU+)和银(Ag+)的合金形成的。如果在第一和第二电极板172、173之间使用直流电源，那么通过电解的手段就产生了金属离子。
产生金属离子造成的磨损导致第一电极板172和第二电极板173之间的距离加大了。传感器174通过测量第一电极板172和第二电极板173之间的距离来测定第一电极板172和第二电极板173是否被损坏了。从传感器174上产生的信号被传输到控制器(没有显示出来)中。控制器通过增加电流以便补偿磨损距离来控制产生的离子量的恒定。传感器174可以应用红外线传感器、紫外线传感器或者类似的传感器。
同时，测量距离以便测定第一和第二电极板172、173的磨损度的传感器也在本实施例中被应用。但是，应该注意的是这是说明性质的，第一和第二电极板的磨损可以通过测量产生的金属离子量来获知。在这种情况下，用于测量金属离子量的传感器可以被用于感应距离的传感器代替使用。
用于清洗管150的杂质去除装置180被设置在引导管体110和排出装置120之间。杂质去除装置180包括：设置在入流部111上的第一阀门181，设置在入流部111中的第二阀门182，其中，第二阀门182移向第一阀门181的对应位置，和一个连接在第二阀门182上用于供给高压清洁液体的压力泵183。
并且，即使在这个实施例中，第一实施例中描述的的激光二极管模块可以被设置在引导管体110中。
第三实施例
现在要描述的是依据本发明的第三实施例的杀菌和提纯装置。
附图8显示的是依据本发明的第三实施例的杀菌和提纯装置的结构的侧视图。附图9显示的是如图8所示的沿线IX-IX’的截面示意图。
参考附图8-9，依据本发明的第三实施例的杀菌和提纯装置包括：一个具有向其中导入废水的入流部211的引导管体210，和一个具有从其中纯净水被排出的排出部221的排出装置220，从引导管体210径向设置的复数个第一连接管212，从排出装置220径向设置的复述个第二连接管222，以螺旋形状缠绕在第一连接管212和第二连接管222之间的管250，和由设置在管250中的紫外线照射灯构成的紫外线产生装置240。并且，从其中各种处理化学品被输出的处理化学品输入阀门230被设置在引导管体210上。而且，用于产生金属离子的金属电解装置270被设置在引导管体210上。在这个时候，管250也是又如第一实施例中的聚四氟乙烯材料形成的。更好的是，管250具有水平的形状以便紫外线能够被更有效地传输。
金属电解装置270包括：一个圆柱形状的壳体271，等距离设置在壳体271中的第一和第二电极板272、273，和设置在第一和第二电极板272、273之间的用来测量第一电极板272和第二电极板273之间的距离的传感器274。
并且，即使在这个第三实施例中，第一实施例中描述的激光二极管模块可以被设置在引导管体210中。
如在第二实施例中，用于清洗管250的杂质去除装置可以被设置在引导管体210和排出装置220之间。
如附图9所示，杀菌和提纯装置被安装成围绕引导管体210和排出装置220在外周方向复数个等距离形式。这个杀菌和提纯装置包括紫外线产生装置240，用于保护紫外线产生装置240的石英管242，和螺旋型环绕石英管242并被支撑杆241支撑的聚四氟乙烯管250。
工业应用
如上所述，依据本发明，使用的是防腐蚀的并利用在其上不粘附污染物的聚四氟乙烯材料制成的管，采用了向管照射紫外线的紫外线产生装置。因此与废水需要被接触的传统的杀菌和提纯装置相比，在紫外线的传输中没有缩减并降低了维持成本。
并且，可以彻底去除大肠杆菌和原生生物还有病毒，而这些通过传统的氯杀菌方法是不可能被除去的。
另外，可以沿着管设置紫外线产生装置。这样，相对与在先的技术，用于构成紫外线产生装置的紫外线灯的数量就被减少了。
而且，在装配面积小和管理方便上都有效果。
尽管本发明是参考决体的演示实施例被描述的，但是并不被限制有具体的实施例而仅被权利要求所限制。应该感激的是本领域的技术人员能够在不背离本发明的范围和精神实质的前提下，对本发明做修改和变更。
Claims (11)
1.一种杀菌和提纯装置，包括：
一对利用复数个支撑杆(63)分离设置的固定元件(61)、(62)；
设置有一个具有向其中导入处理水的入流部(11)的引导管体(10)，和一个具有从其中纯净水被排出的排出部(21)的排出装置(20)，其中，引导管体(10)和排出装置(20)被分别固定在元件(61)、(62)上；
向其中输入各种处理化学品的复数个处理化学输入阀门(31)、(32)、(33)和(34)，其中输入阀门被设置在引导管体(10)上；
一个设置在引导管体(10)和排出装置(20)之间的紫外线产生装置(40)；
连通引导管体(10)和排出装置(20)的管(50)，其中，管被设置成缠绕紫外线产生装置(40)；和
分别设置在引导管体(10)和排出装置(20)上的清洗阀门(35)，用来供给用于去除管(50)中的飘浮物质和渣滓的清洗水。
2.根据权利要求1所述的杀菌和提纯装置，其中，一个用于沿着处理水被导入的方向照射激光的激光二极管模块(70)被设置在引导管体(10)中。
3.根据权利要求1所述的杀菌和提纯装置，其中，管(50)具有水平形状以便紫外线能够被有效地传输。
4.根据权利要求1所述的杀菌和提纯装置，其中管(50)包括：一端连接到引导管体(10)的既定端而另一端连接到排出装置(20)的既定端的第一管(53)，其中，第一管(53)具有预定的直径并以螺旋方向缠绕；一端连接到引导管体(10)的既定端而另一端连接到排出装置(20)的既定端的第二管(54)，其中，第二管具有相对于第一管(53)的圆周的第二直径并以螺旋方向缠绕；和
紫外线产生装置(40)包括：
设置在这对固定元件(61)、(62)之间的一组第一紫外线照射灯，其中，第一紫外线照射灯由用于向第一管(53)照射紫外线的复数个第一紫外线照射灯(43)组成，和
设置在这对固定元件(61)、(62)之间的一组第二紫外线照射灯，其中，第二紫外线照射灯由用于向第二管(54)照射紫外线的复数个第二紫外线照射灯(44)组成。
5.一种杀菌和提纯装置，包括：
一对用复数个支撑杆(163)分离设置的固定元件(161)、(162)；
设置有一个具有向其中导入处理水的入流部(111)的引导管体(110)，和一个具有从其中纯净水被排出的排出部(121)的排出装置(120)，其中，引导管体(110)和排出装置(120)被分别固定在元件(161)、(162)上；
向其中输入各种处理化学品的复数个处理化学输入阀门(131)、(132)、(133)和(134)，其中输入阀门被设置在引导管体(110)上；和
一个设置在引导管体(110)和排出装置(120)之间的紫外线产生装置(140)，
其中，引导管体(110)贯穿这对固定元件(161)、(162)的中心并且具有复数个设置在其外周围上的第一连接管(112a)、(112b)、(112c)，
排出装置(120)贯穿这对固定元件(161)、(162)的外周围并且具有复数个第二连管(122a)、(122b)、(122c)，
管(150)包括复数个子管(150a)、(150b)、(150c)，这些子管被连接到第一连接管(112a)、(112b)、(112c)上以便将其缠绕几圈然后被连接到第二连接管上，和
紫外线产生装置(140)包括几组紫外线照射灯，这些灯被设置在这对固定元件(161)、(162)中间并用于向子管(150a)、(150b)、(150c)照射紫外线。
6.根据权利要求5所述的杀菌和提纯装置，还包括一个连接在引导管体(110)上用来产生金属离子的金属电解装置(170)。
7.根据权利要求6所述的杀菌和提纯装置，其中，金属电解装置(170)包括一个圆柱形的壳体(171)，等距离设置在壳体(171)中的第一和第二电极板(172)、(173)，和一个设置在第一和第二电极板(172)、(173)之间的用来测量第一电极板(172)和第二电极板(173)之间的距离的传感器(174)。
8.根据权利要求5所述的杀菌和提纯装置，还包括一个设置在引导管体(110)和排出装置(120)之间用来清洗管(150)的杂质去除装置(180)，
其中杂质去除装置(180)包括设置在入流部(111)上的第一阀门(181)，设置在入流部(111)中的第二阀门(182)，其中，第二阀门(182)移向第一阀门(181)的对应位置，和一个连接在第二阀门(182)上用于供给高压清洁液体的压力泵(183)。
9.一种杀菌和提纯装置，包括：
一个具有向其中导入废水的入流部(211)的引导管体(210)；
一个具有从其中纯净水被排出的排出部(221)的排出装置(220)；
从引导管体(210)径向设置的复数个第一连接管(212)；
从排出装置(220)径向设置的复数个第二连接管(222)；
以螺旋形状缠绕在第一连接管(212)和第二连接管(222)之间的管(250)；和由设置在管(250)中的紫外线照射灯构成的紫外线产生装置(240)。
10.根据权利要求9所述的杀菌和提纯装置，还包括一个连接在引导管体(210)上的用来产生金属离子的金属电解装置(70)。
11.根据权利要求10所述的杀菌和提纯装置，其中金属电解装置(270)包括一个圆柱形状的壳体(271)，等距离设置在壳体(271)中的第一和第二电极板(272)、(273)，和设置在第一和第二电极板(272)、(273)之间的用来测量第一电极板(272)和第二电极板(273)之间的距离的传感器(274)。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020030059940 | 2003-08-28 | ||
| KR10-2003-0059940A KR100520982B1 (ko) | 2003-08-28 | 2003-08-28 | 테프론튜브를 이용한 살균정화장치 |
| KR1020040015232 | 2004-03-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1842494A CN1842494A (zh) | 2006-10-04 |
| CN100457642C true CN100457642C (zh) | 2009-02-04 |
Family
ID=37031102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2004800247460A Expired - Fee Related CN100457642C (zh) | 2003-08-28 | 2004-08-28 | 一种用于提纯和杀菌的装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100520982B1 (zh) |
| CN (1) | CN100457642C (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100753427B1 (ko) * | 2006-04-24 | 2007-09-03 | 김태형 | 살균정화가 가능한 비상급수장치 |
| US7586104B2 (en) | 2007-01-04 | 2009-09-08 | Tae-Hyoung Kim | Non-heating type fluid sterilizing apparatus |
| US10329170B2 (en) | 2013-01-22 | 2019-06-25 | Nestec S. A. | Liquid purification apparatus and method |
| CN109437367B (zh) * | 2018-12-10 | 2020-01-17 | 广东智环创新环境科技有限公司 | 一种基于流化床光催化反应器的高级氧化设备 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4816145A (en) * | 1984-01-16 | 1989-03-28 | Autotrol Corporation | Laser disinfection of fluids |
| US5230792A (en) * | 1990-01-24 | 1993-07-27 | Christian Sauska | Ultraviolet water purification system with variable intensity control |
| KR200293997Y1 (ko) * | 2002-08-12 | 2002-11-04 | 주식회사 비.엠 텔레콤 | 정수기물 살균 유니트 |
-
2003
- 2003-08-28 KR KR10-2003-0059940A patent/KR100520982B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-08-28 CN CNB2004800247460A patent/CN100457642C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4816145A (en) * | 1984-01-16 | 1989-03-28 | Autotrol Corporation | Laser disinfection of fluids |
| US5230792A (en) * | 1990-01-24 | 1993-07-27 | Christian Sauska | Ultraviolet water purification system with variable intensity control |
| KR200293997Y1 (ko) * | 2002-08-12 | 2002-11-04 | 주식회사 비.엠 텔레콤 | 정수기물 살균 유니트 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1842494A (zh) | 2006-10-04 |
| KR100520982B1 (ko) | 2005-10-12 |
| KR20050023596A (ko) | 2005-03-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6447720B1 (en) | Ultraviolet fluid disinfection system and method | |
| EP1654006B1 (en) | In-line treatment of liquids and gases by light iradiation | |
| KR20020005723A (ko) | 액체 및 기체를 소독하고 정제하는 방법 | |
| CN101883738B (zh) | 压载水处理的装置和方法 | |
| EP1365814A2 (en) | Ultraviolet wastewater disinfection system and method | |
| KR102315904B1 (ko) | 스크린 및 소독 산화장치를 구비한 병원폐수 처리 시스템 | |
| JP2013066894A (ja) | 光透過性導管を使用した液体消毒のための方法および装置 | |
| CA2760191C (en) | Fluid treatment system | |
| KR100998664B1 (ko) | 수위 감응형 살균장치 | |
| CN100457642C (zh) | 一种用于提纯和杀菌的装置 | |
| RU2472712C2 (ru) | Устройство для обеззараживания воды | |
| CA2458969A1 (en) | Fluid treatment system | |
| KR102256064B1 (ko) | 오존가스를 병용한 자외선 수질 정화장치 | |
| KR100636292B1 (ko) | 테프론튜브를 이용한 살균정화장치 | |
| JP2008142593A (ja) | 紫外線光による不活化処理方法 | |
| CZ200492A3 (cs) | Zařízení pro zpracování vody | |
| Whitby et al. | The history of UV and wastewater | |
| Chen et al. | Ultraviolet radiation for disinfection | |
| WO2011016744A1 (ru) | Устройство для обработки водных сред в протоке | |
| CN219603312U (zh) | 一种利用紫外线杀菌消毒的节能装置 | |
| WO2018147769A1 (ru) | Устройство для обработки водных сред в протоке | |
| RU90432U1 (ru) | Устройство для обработки водных сред в протоке | |
| KR101493962B1 (ko) | 오존 및 초음파를 이용한 수처리장치 | |
| JP4094453B2 (ja) | 洗浄排水の消毒方法及び装置 | |
| CN101085680B (zh) | 一种用于污水处理的紫外线臭氧双重杀菌净化装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20090204 Termination date: 20120828 |