CN100425955C - 用于物质流检测设备校准的系统和方法 - Google Patents
用于物质流检测设备校准的系统和方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN100425955C CN100425955C CNB038149001A CN03814900A CN100425955C CN 100425955 C CN100425955 C CN 100425955C CN B038149001 A CNB038149001 A CN B038149001A CN 03814900 A CN03814900 A CN 03814900A CN 100425955 C CN100425955 C CN 100425955C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- dependent
- factor
- sensor
- fluid stream
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
- G01F1/6842—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow with means for influencing the fluid flow
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/696—Circuits therefor, e.g. constant-current flow meters
- G01F1/6965—Circuits therefor, e.g. constant-current flow meters comprising means to store calibration data for flow signal calculation or correction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F5/00—Measuring a proportion of the volume flow
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7761—Electrically actuated valve
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
用来检测流体流速的一个系统和方法,其中,流过导管(310)的流体会流过检测电路(330、320和340),所述检测电路在传感器电子控制装置(350)中产生表示了流体流的信号。
Description
技术领域
本发明一般涉及测量设备,更确切的,涉及用来提高物质流测量准确度并实现对流体控制的系统和方法,所述系统和方法是通过纠正相似测量设备之间的物理差异来实现的。
背景技术
热物质流控制器(“MFC”)通过探测气体流过的毛细管加热部分的上游与下游之间的温度差来测量气体流。上游与下游传感器之间的温度差直接与气体的比热、或热容量以及气体流成正比(到第一阶)。
热MFC通常用一种气体校准,然后用于另一种不同的气体。校准气体与使用气体不同的原因在于,半导体工业中所使用的气体有大约200种纯气体以及300种混合气体。由于多种原因使得用所有这些气体来对MFC进行校准是不切实际的。一方面,气体的数量非常庞大。而一个制造商又会生产许多不同类型MFC,每个MFC都要用每一种气体来校准,这又使得该问题更加复杂。另一个问题在于,有些气体是腐蚀性的,因而最好不要用它们来校准MFC。所以,MFC一般是用与处理气体相似的气体(最好是惰性的)来校准的。例如,对于像HCl3这样的重处理气体,就可以用SF6这样的重校准气体来校准。
需要注意的是,这些气体的属性可能是不同的,所以上游与下游探测器之间相同的温度差也可能对应了气体的不同流速。不同气体之间流差是用气体纠正因子来估计的。对所述气体纠正因子的计算一般是忽略流体动力学效应的,并且依赖于设备的基本线性。这样,所述气体纠正因子一般就是处理气体与校准气体之间热容量的比值。在传统技术中,单一的气体纠正因子(单一、恒定值)被用于所有MFC型号以及用于某一特定处理气体的所有流速范围。某制造商使用同样的气体纠正因子已有二十多年,其额定准确度为+/-5%。
多年来,某些气体纠正因子的准确度时常会受到挑战。这促使了对这些纠正因子的适当数值的重新确定。尽管气体纠正因子的准确度会不断得到重新确认,但所述测量设备总的准确度还是会受到线性假设的限制。
随着半导体工业的成熟以及对处理控制需求的增加,包括物质流控制器在内的控制设备的准确度正受到越来越多的重视。尽管基于气体热容量的气体纠正因子的简单模型对多数半导体气体是适用的,但一些被测试的气体的非线性(相对于氮气)还是超过了5%。最好将非线性控制在5%以内。
例如,一种工具可能使用满量程为200sccm(标准立方厘米每分钟)的BCl3MFC。该200sccm的BCl3流速具有489sccm的等价氮气流。也就是说,200sccm的BCl3气流与489sccm的氮气流会产生相同的传感器输出。200sccm BCl3设备的非线性示于图1。,该图示出了在使用相对氮气的恒定气体纠正因子的情况下,流测量误差与流之间的函数关系。所示误差是气体纠正因子的非线性。
对于几乎所有的处理气体,如果经过传感器的流小于2sccm(氮气等价量),那么非线性就会小于5%。如果流过传感器的流大于2sccm,那么就会存在相当的非线性。例如图1中所示,200sccm处的传感误差为3.9sccm(氮气等价量)。
所述非线性的起因在于代用气体与处理气体之间假设关系的失效。非线性变得显著的点是两个参数的函数:1)经过传感器的气体流;以及2)气体属性(尤其指热导率与热容量的比值)。所述非线性是由于气体在MFC传感器中没有得到充分的热发展所导致的。基本理论假设了气流是充分“热发展”的。气体能够充分热发展的能力是气体属性以及经过传感器的气体流的函数。经过传感器的流是可调的,但气体属性却是固定的。如果经过传感器的流是固定的,那么就可以通过检验气体属性来识别出具有较大的非线性的气体。这样的评价方法已经在几乎所有的刻蚀和化学气相沉积气体中取得了成功。表现出所述问题的一些气体已经被识别出并被示于表1。
表1.具有较大非线性的气体
气体 | K/Cp(相对单位下的比值) |
WF6 | 1.97E-01 |
HBr | 2.10E-01 |
BCl3 | 2.26E-01 |
Cl2 | 2.66E-01 |
表1中的信息已经被实验所验证。热导率与热容量的比值较低的气体比较难以达到充分的热发展。表1中非线性最大的气体是WF6,其次是HBr。这与实验数据是一致的。
由于一些半导体工艺中的处理气体表现出较大的非线性,所以人们就在MFC的电路中作了一些努力来补偿所述非线性。现有的MFC设计实现这一点的方法在于使用了作为所用气体的流速的函数的一个纠正因子。该气体纠正因子(校准气体与处理气体之间的关系)一般被表示成函数
CF=CF0(1+aF+bF2+cF3)
其中CF0是与流无关的气体纠正因子(通常被称为“气体纠正因子”),F是气体流速,a、b和c是通过经验或者通过理论得到的气体相关的系数。由于所有的项都是由气体所确定的,所以这种方程适用于不同的气体。此外,可以给不同的TMFC结构绘制一族曲线,从而这种函数就可以适用于不同的设计。利用所述的流相关气体纠正因子一般能够获得+/-1%的处理准确度。
尽管在使用流相关的气体纠正因子时,1%是典型可以得到的准确度,但制造的容差会使得不同的MFC之间的准确度发生差别,并且所述准确度的范围一般是围绕理想值的一个钟形分布。这样,尽管1%是典型值,但仍然有很多MFC的误差会超过1%。一些设备还会大大超过该典型值。至今,工业界还没有能够解决该问题,处理气体所能达到的准确度还被限制在读数的1%以上。
图2表示了具有相同设计的多个MFC之间的测量差别。其中的每一条曲线都代表了一个MFC的测量结果。这些曲线互不相同的原因在于这些MFC具有不同的物理参数,而这些参数都是处于MFC设计的制造容差之内的。从该图可以看出,大多数MFC的测量结果是彼此非常接近的。然而,有一个MFC却与其它的测量结果偏离甚远,它产生了高得多的读数。
发明内容
能够得到对处理气体优于1%准确度的能力对于优化许多工业过程的处理能力是非常重要的。前文技术允许所用的模型(经验的或理论的)将流速计对一种流体(例如校准流体)的表现与对另一种流体(例如处理流体)的表现关联起来。尽管这种技术可以补偿流体属性中的基本差别,从而实现比更简单的模型(例如对不同热容量的简单纠正)稍好的准确度,但它并不能够解决大多数流速仪表所面临的基本限制之一:怎样纠正与产品容差或者制造过程相关的设备-设备之间的差别,从而得到“最终产品”的一致特性。
上述的这一个或多个问题可以用本发明的多个实施例来解决。泛泛而言,本发明所包括的系统和方法利用设备相关的信息对流体流测量进行纠正,从而补偿具有相同设计的各个设备之间的差异。现有技术的装置不能够对设备设计以及设计容差内的变化作补偿。事实上,由于现有技术一般都是模拟的,所以它们所提供的装置不能够存储设备信息,或者将该信息转化成纠正因子来补偿测量差异。
在一个实施例中,用来纠正各个流速计之间流体流测量的方法包括,提供设备相关的校准数据,探测流体流,基于探测的流来计算测量的流体流,以及基于设备相关的校准数据纠正测量的流体流。更确切的,所述流体流测量是利用多个纠正因子来纠正的。所述纠正因子中的一个对使用与校准气体不同的气体进行补偿,一个对传感器灵敏度上的设备差异进行补偿,一个对流过流速计流体的分流差异进行补偿。所述气体纠正因子依赖于流体的流速,其形式为CF0(1+aF+bF2+cF3)。所述传感器纠正因子的形式为1+αΔR。所述分流纠正因子形式为1-βΔADC(Sp/100)2。在一些实施例中,传感器纠正因子与分流纠正因子可以是彼此独立的。
在一个实施例中,纠正了各个流速计之间差异的流体流测量系统包括,一个流体流传感器,用来记录设备相关校准数据的存储器,以及耦合到所述流体流传感器和所述存储器的控制电路,其中所述控制电路基于传感器所探测到的流体流以及设备相关的校准数据计算测量流体流。所述校准数据定义了纠正因子,用于校准和处理流体之间的差别、不同设备的传感器灵敏度之间的差别以及不同设备分流比之间的差别。在一个实施例中,控制电路利用形式(CF0(1+aF+bF2+cF3)(1+αΔR)(1-βΔADC(Sp/100)2)包括了所有三种纠正因子,其中第一、第二和第三项分别对应气体、传感器和分流纠正因子。
本发明的另一实施例包括一个软件应用。所述软件应用被实施在计算机可读的媒质中,例如软盘、硬盘驱动器、CD-ROM、DVD-ROM、RAM、DASD阵列、磁带、光学存储设备以及类似设备。所述计算机可读媒质所包括的指令被用来让计算机执行上文所述的方法。需要注意的是,所述计算机可读媒质可以包括一个RAM或者其它作为计算机系统组成部分的存储器。从而,所述计算机系统就能够实施对应本发明的方法,这被认为属于所附权利要求界定的范围。
还可以有多种其它的实施例。
与现有技术相比,本发明的多种实施例提供了很多优点。例如,一个实施例可以在纠正流体与处理流体之间的关系中引入“与个体或仪器序列号相关”的纠正。此外,一个实施例可以补偿序列号相关的属性,从而就可以让流速计或者控制器能够更加准确的测量实际处理气体。此外,采用设备或序列号相关的纠正可以让制造容差具有更大的可接受范围,从而就可以实现低成本和高产量。此外,这里所公开的技术可以应用于很多类型的流速仪器,这包括了从多种类型的液体流速计到气体流速计(基于压强的以及基于热效应的)的流速仪器。
附图说明
通过阅读下面的详细描述并参考附图,本发明其它的目标和优点将会变得清楚。
图1表示了在使用相对于氮气的恒定气体纠正因子的情况下,流速测量的误差与流速之间的函数关系。
图2表示了具有相同设计的多个MFC的测量差别。
图3中的框图表示了一个实施例中MFC的基本结构。
图4表示了根据一个实施例的层流限流器的结构。
图5表示了一个实施例中的热MFC的传感器部分。
图6中的功能框图表示了一个实施例中MFC电路的基本结构。
图7中的流程图表示了一个实施例中MFC操作所根据的简单方法。
尽管本发明可以有多种修改和可替换的形式,但其具体实施例还是通过附图和具体的描述来给出的。然而,需要理解的是,所述附图和具体描述并不是用来将本发明限制在所述的某一具体实施例上的。本公开旨在包括所有处于权利要求书所界定的本发明范围之内的修改、等价和可替换内容。
具体实施方式
下面将要描述本发明的优选实施例。需要注意的是,下文中所描述的这些那些实施例仅仅是示例性的,它们是被用来解释而不是限制本发明的。
广义来讲,本发明包括用于提高物质流控制器(MFC)准确度的系统和方法,所述的物质流控制器使用了设备相关的信息。在一个实施例中,第一(校准)气体被用来校准热物质流控制器,该热物质流控制器被用于第二(处理)气体。考虑了校准气体与处理气体之间差异的气体纠正因子被用来纠正MFC所探测到的处理气体流。被探测到的流还会通过使用一个或多个设备相关的纠正因子来纠正。其中一个设备相关的因子基于流传感器的电阻,另一个因子基于MFC的分流比。对应纠正因子的数据被存储在MFC内的存储器中,并被MFC的电子电路用来调整流测量。使用设备相关纠正因子来纠正探测到的流的装置就可以减小由于制造差别所引起的MFC之间的测量差别。
图3中的框图示出了在一个实施例中的MFC的基本结构。MFC100被置于从气源到处理室之间的处理气体流中。处理气体从气源流过传感器110,然后流过阀门120,然后到达处理室。控制电路130被耦合到传感器110和阀门120。当处理气体流经传感器110时,其流速就会探测到。代表了探测到的流速的信号被提供到控制电路130。控制电路130对接收到的信号进行处理以确定流速的测量值。然后,该流速测量值会与一个流速设定点相比较,所述流速设定点代表了到处理室的处理气体的理想流速,并且产生一个发送到阀门120的控制信号。控制信号会调整阀门120来增加、减小或维持现有的流速,只要能够使所测量的流速趋向所述流速设定点。
本发明的一个实施例是在热MFC中实施的。所述热MFC测量处理气体流的原理在于,将气体的一部分分流到传感管道中,然后加热所述气体,并测量气体下游的温度变化。一般来说,所述的温度变化依赖于气体的热容量(已知)以及它流过传感管道的速率。所以,就可以计算出气体流过传感管道的流速。然后,由于流过传感管道的流与整体流之比是已知的,所以就可以计算出总的流。
正如上文通过参考图1所解释的,由于在低流速时,气体纠正因子对几乎所有的处理气体都是线性的,所以对总的流的计算是直接的。从而,当MFC已经用被一种不同的校准气体所校准之后,就可以用一个恒定的纠正因子来计算处理气体的总的流。为了对高流速下的不同气体进行纠正,就必须使用作为流速的函数的一个纠正因子。如上所述,在此情况下常用的纠正因子的形式为
CF=CF0(1+aF+bF2+cF3)
其中CF0是与流无关的气体纠正因子,F是气体的流速,a、b和c是气体相关的系数(它们可以通过经验或者通过理论来得到)。
尽管所述依赖流的气体纠正因子对高、低流速下的不同校准和处理气体提供了一种纠正手段,但还存在一些没有被解决的误差。例如,如上所述,由于在制造过程中的微小差异,采用同样设计(也就是说本希望这些MFC是相同的)的不同MFC还是有可能给出不同的流速测量结果。在热MFC中,这些制造上的差异一般会通过两种途径而产生:传感器电阻的不同会导致传感器所产生的信号(对应于测得的流)的变化;以及,经过传感管道的流占经过传感器的总流的比值的变化会导致总流计算的误差。这些误差源将在下文中得到更详细的描述。
图4中的框图表示了一个实施例中的层流限流器的结构。层流限流器200具有一个让气体进入装置的输入端口210,以及一个让气体流出的输出端口220。输入端口210通过导管240耦合到输出端口220。限流塞230被置于导管240中以限制流过导管的气体流。位于层流限流器200侧面的两个开口250、260提供了到导管240的外部入口。传感管道(未示出)被耦合到这些开口以形成与导管240平行的另一路径。这样,流过层流限流器200的气体的一部分就会流过导管240(更确切的,是流过导管240的管壁与限流塞230之间的部分),而所述气体的另一部分则会流过所述传感管道。流过传感管道的流与总流的比值就是分流比。
在这个具体的设计中,限流塞230是可调的。导管240的壁以及限流塞230的侧面是轻微的锥形。通过在导管240中移动限流塞230,就可以改变两者之间的缝隙,从而也就改变了分流比。(将限流塞230从右向左移入导管240将减小缝隙,从而增大分流比,而相反方向的移动将增大缝隙,从而减小分流比。)
分流比的流体力学依赖于气体属性(例如雷诺数),还依赖于层流限流器的具体几何形状。为了达到期望流速所需的导管管壁与限流塞之间的间距通常是以百分之一英寸的精度来测量的。为了获得所需的可复制性,这些间距的容差将要再小100倍(在+/-0.00001英寸的量级)。这样的容差对制造低成本的产品来说是不实际的。这样,制造的容差会高于最优值,从而就产生了不同MFC之间性能的差异(这些MFC的设计是相同的)。
如上所述,限制现有技术MFC所能达到的准确度的原因在于设备制造容差中的这些物理差异。本发明的实施例通过采用设备相关的气体纠正因子来考虑这些制造上的变化,从而解决了这一问题。这些纠正因子是基于各个MFC的物理特性的,它们可以通过经验或者通过理论得到。
在一个实施例中,纠正因子包括与流无关的气体纠正因子、一个非线性纠正因子以及一个传感器纠正因子。所述非线性纠正因子以及传感器纠正因子就补偿了设备相关的特性。换句话说,它们补偿了具有相同设计的不同设备之间的制造差异。所有这些因子被相乘在一起,从而形成一个复合纠正因子。
需要注意的是,尽管下面所述的实施例同时采用了非线性纠正因子和传感纠正因子,但其它实施例不一定要把这两个纠正因子都包含进来。例如,如果某种设计的传感器差异不是很明显,那么就不需要使用传感器纠正因子。还需要注意的是,其它一些实施例所使用的纠正因子的形式可以与下述的具体形式不同。此外,在采用不同操作方式(例如,非热效应MFC)的实施例中,为了补偿制造差异的纠正因子还可以采用完全不同的形式。例如,在非热效应MFC的情况下,传感器纠正因子就不太会包括电阻项,而会包括一个依赖于另一不同参数的项。所有这些可替换实施例都属于本公开的范围之内。
在一个实施例中,用于层流限流器的纠正因子所基于的事实是,分流比不是恒定值,而是与流和气体相关的非线性的。在这样的情况下,用于层流限流器差异的纠正因子,也就是补偿了MFC分流比以及分流比的流相关性的流的纠正因子就是
1-βΔADC(Sp/100)2
其中,β是一个与气体相关、与设备无关的系数,ΔADC是设备相对校正气体(氮气)的非线性,Sp是对于某个MFC而言所述流占最大允许值的百分比。系数β可以通过经验或者通过理论来获得。它是气体相关,但与设备无关。ΔADC项是通过代用气体校准所确定的,它对于每个MFC都可以不同。一个MFC的ADC是在最大流的两个预定的百分比处的传感器输出之比。例如,所述传感器输出可以是在最大流的50%以及100%处测得的。相同的百分比被用于每个MFC。ΔADC是某个具体MFC的ADC与具有相同设计的多个MFC的平均ADC之间的差别。
图5表示了一个实施例中的热MFC的传感器部分。传感器300具有一个按照前述方式耦合到层流限流器的传感管道310。由于在连接传感管道310与层流限流器的两个开口之间存在压降,所以气体会从传感器管道中被抽出。当气体经过加热元件320时,气体就会被加热。被加热的量不仅仅依赖于热容量和气体的流速,而且还依赖于加热元件320所产生的热量(依赖于加热元件的电阻R)。在经过加热元件320之前的气体温度被温度传感器330所测量,而经过了加热元件320之后的气体温度将被温度传感器340所测量。这两个温度传感器之间的温度差别可以被用来计算流过传感管道310的气体流速。
尽管对于某一种设计来说,每个MFC的加热元件320的电阻R都希望是一样的,但由于制造的容差,所以一般都会存在一些变化。所以,就可以采用一个纠正因子来纠正不同设备的传感器电阻之间的差别。在这样的情况下,就可以采用下面的纠正因子:
1+αΔR
其中ΔR是某个特定MFC的电阻与具有相同设计的多个MFC的平均电阻(实际上是通过对采样MFC的电阻进行平均来得到)之间的差别。电阻自身或者ΔR可以被存在MFC诊断中和/或从MFC诊断中读取出来。
α项是一个可以通过经验或者理论来得到的气体相关的值。例如,α的值可以通过对经验数据进行最小二乘拟和来得到(忽略分流线性纠正因子)。该α项还可以通过理论来确定。作为温度函数的气体的热容量(Cp)是线性的,所以Cp=Cp0(1+α1ΔT),其中Cp0是参考温度下的热容量,α1表示了热容量对温度的依赖,对于气体,该值可以通过查表来得到。上述的CF0是参考气体(氮气)的热容量除以处理气体的热容量(Cp0(reference)/Cp0(process))。这样,α=(1+α1ΔT)/(1+α2ΔT)。如果参考气体是氮气,那么它的温度依赖就是零,从而α=1/α2(=1/处理气体热容量的温度常数)。
对测得的流的计算以及利用纠正因子对计算值所作的调整是通过MFC的控制电路来实现的。图6中的功能框图表示了一个实施例中的MFC电路的基本结构。如图所示,控制电路400被构建在数据处理器410外围。在本实施例中,来自传感器的模拟信号被模数转换器420所处理,所述模数转换器将数字化的传感器信号送到处理器410。处理器410被耦合到存有多种纠正因子的存储器430。处理器410从存储器430中取出数据并使用它们,处理器还会同时使用数字化的传感器信号来计算测得的流速。然后,处理器410将测得的流速与一个设定点相比较,从而产生一个表示了测得流速与所述设定点之间关系的信号。该信号被送到阀门驱动电路440,所述阀门驱动电路就会产生相应的模拟信号来驱动控制着处理气体流的阀门。
如上所述,一个实施例采用了上文所讨论的全部三种纠正因子(气体纠正因子、传感器纠正因子以及分流或线性纠正因子)。这样,对测得的处理气体流的计算就是用校准气体流(对应于测量流)乘以作为三种纠正因子的乘积的总纠正因子:
CF=CF0(1+aF+bF2+cF3)(1+αΔR)(1-βΔADC(Sp/100)2)
如图7中的流程图所示,MFC的操作可以被表示成一个简单的方法。如该图所示,首先,流过传感管道的处理气体流速被测量,接着该流速被被乘以总处理气体流与测量气体流的比值,接着该结果被乘以气体纠正因子、传感器纠正因子以及线性纠正因子。
需要注意的是,本发明的其它实施例可以只采用两个设备相关的纠正因子(传感器纠正因子以及线性纠正因子)中的一个。这一般是对许多现有设备中所使用的气体纠正因子的补充。所述的这些其它实施例还可以使用不同形式的传感器纠正因子和/或线性纠正因子。
根据具体的实施方式,纠正因子的数据可以按多种形式存储在存储器430中。纠正因子的设备相关的部分可以被确定,然后记录在存储器中以用于稍后对纠正因子的计算,或者,纠正因子可以被计算出来(根据所使用的形式,全部的或部分的),然后被存储以备稍后的使用。然后,处理器410可以在需要进行测量纠正的时候访问所述数据。
需要注意的是,尽管前文着重描述的是本发明在热MFC中的应用,但它还可以被实施在其它实施例中的其它类型的流速计中。还需要注意的是,这里所公开的方法可以用软件(包括程序包)和硬件的多种组合来实施。所以,本申请是要覆盖软件应用的,这里的软件应用包括让数据处理器实现这里所公开的方法的指令。这些软件应用可以被实施在数据处理器可读的任何媒质上,这包括RAM、ROM、软盘、CD-ROM、DVD-ROM以及类似的媒质。同样,用于执行这些软件应用,或者是被编程来实施这里所公开方法的数据处理器也是属于本申请的。
上文已经通过具体实施例描述了本发明所能提供的好处和优点。这些好处和优点,以及会让它们变得更加明显的任何元件或限制都不该被理解成任何或所有权利要求决定性的、必须的或者本质的特征。正如这里所用的,术语“包括”以及它的任何变形都应理解成非排它性的包括跟在这些术语后的元件或限制。相应的,包括一系列元件的一个过程、方法、物品或装置并不仅包括这些元件,而是包括其它没有被明显列出的元件,或者没有包含在所宣称的过程、方法、物品或装置中的元件。
尽管本发明是通过参考具体实施例来描述的,但需要注意的是,这些实施例仅仅是示例性的,本发明的范围并不由这些实施例所限定。可以对上述的实施例作多种变化、修改、添加或者改进。应该理解,这些变化、修改、添加和改进是属于下面权利要求书所限定的本发明的范围之内的。
Claims (14)
1、一种用于纠正测量流体流的方法,包括:
提供与设备相关的校准数据;
探测一个流体流;
基于探测到的流体流计算一个测量流体流;以及
基于与设备相关的所述校准数据纠正所述测量流体流,其中基于与设备相关的所述校准数据对测量流体流进行纠正包括如下至少之一,
利用与设备相关的一个传感器纠正因子调整所述测量流的值,所述传感器纠正因子是传感器电阻的函数;以及
利用与设备相关的一个线性纠正因子调整测量流的值,所述线性纠正因子是传感器分流比的函数。
2、权利要求1中的方法,还包括基于一个气体纠正因子纠正所述测量流体流。
3、权利要求1中的方法,其中与设备相关的所述传感器纠正因子具有形式(1+αΔR),其中ΔR是所述设备相关的传感器电阻与具有相同设计的多个传感器电阻的平均值之差,α是通过经验或者通过理论来确定的一个常数。
4、权利要求1中的方法,其中与设备相关的所述线性纠正因子具有形式(1-βΔADC(Sp/100)2),其中ΔADC是所述设备相关的分流比非线性度与具有相同设计的多个分流比非线性度的平均值之差,Sp是表示为占最大允许值的百分比的测量流体流,β是通过经验或者通过理论来确定的一个常数。
5、权利要求1中的方法,其中,基于与设备相关的所述校准数据而对测量流体流进行的纠正包括,利用与设备相关的一个传感器纠正因子以及与设备相关的一个线性纠正因子调整测量流体流,所述传感器纠正因子是传感器电阻的函数,所述线性纠正因子是传感器分流比的函数。
6、权利要求5中的方法,其中与设备相关的所述传感器纠正因子具有形式(1+αΔR),其中ΔR是所述设备相关的传感器电阻与具有相同设计的多个传感器电阻的平均值之差,而与设备相关的所述线性纠正因子具有形式(1-βΔADC(Sp/100)2),其中ΔADC是所述设备相关的分流比非线性度与具有相同设计的多个分流比非线性度的平均值之差,Sp是表示为占最大允许值的百分比的测量流体流,α和β是通过经验或者通过理论来确定的一个常数。
7、权利要求1中的方法,其中基于与设备相关的所述校准数据对测量流体流进行纠正补偿了相同设计的各个装置之间的差异。
8、一种纠正测量流体流的系统,包括:
一个流体流传感器;
一个用来记录与设备相关的校准数据的存储器;以及
控制电路,所述控制电路被耦合到所述流体流传感器以及所述存储器,其中,控制电路基于所述流体流传感器所探测的流体流计算一个测量流体流以及基于所述与设备相关的校准数据纠正所述测量流体流,其中所述控制电路进行如下操作至少之一,
利用与设备相关的一个传感器纠正因子对所述测量流体流进行纠正,所述传感器纠正因子是所述流体流传感器电阻的函数;以及
利用与设备相关的一个线性纠正因子对测量流体流进行纠正,所述线性纠正因子是所述流体流传感器分流比的函数。
9、权利要求8中的系统,其中控制电路利用一个气体纠正因子对所述测量流体流进行纠正。
10、权利要求8中的系统,其中与设备相关的所述传感器纠正因子具有形式(1+αΔR),其中ΔR是所述设备相关的传感器电阻与具有相同设计的多个传感器电阻的平均值之差,α是通过经验或者通过理论来确定的一个常数。
11、权利要求8中的系统,其中与设备相关的所述线性纠正因子具有形式(1-βΔADC(Sp/100)2),其中ΔADC是所述设备相关的分流比非线性度与具有相同设计的多个分流比非线性度的平均值之差,Sp是表示为占最大允许值的百分比的测量流体流,β是通过经验或者通过理论来确定的一个常数。
12、权利要求8中的系统,其中控制电路通过利用与设备相关的所述传感器纠正因子对测量流体流进行纠正以及利用与设备相关的所述线性纠正因子对测量流体流进行纠正,所述传感器纠正因子是所述流体流传感器电阻的函数,所述线性纠正因子是所述流体流传感器分流比的函数,来基于所述与设备相关的校准数据纠正所述测量流体流。
13、权利要求12中的系统,其中与设备相关的所述传感器纠正因子具有形式(1+αΔR),其中ΔR是所述设备相关的传感器电阻与具有相同设计的多个传感器电阻的平均值之差,而与设备相关的所述线性纠正因子具有形式(1-βΔADC(Sp/100)2),其中ΔADC是所述设备相关的分流比非线性度与具有相同设计的多个分流比非线性度的平均值之差,Sp是表示为占最大允许值的百分比的测量流体流,α和β是通过经验或者通过理论来确定的一个常数。
14、权利要求8中的系统,其中所述控制电路被配置为基于与设备相关的所述校准数据对测量流体流进行纠正,以及补偿相同设计的各个装置之间的差异。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US38302402P | 2002-05-24 | 2002-05-24 | |
US60/383,024 | 2002-05-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1662805A CN1662805A (zh) | 2005-08-31 |
CN100425955C true CN100425955C (zh) | 2008-10-15 |
Family
ID=29584495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB038149001A Expired - Fee Related CN100425955C (zh) | 2002-05-24 | 2003-05-23 | 用于物质流检测设备校准的系统和方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7243035B2 (zh) |
EP (1) | EP1523664A4 (zh) |
JP (1) | JP2005527819A (zh) |
CN (1) | CN100425955C (zh) |
AU (1) | AU2003239621A1 (zh) |
TW (1) | TWI274143B (zh) |
WO (1) | WO2003100391A1 (zh) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1411355A1 (en) * | 2002-10-18 | 2004-04-21 | Emerson Electric Co. | Method and device for determining a characteristic value that is representative of the condition of a gas |
US7000463B1 (en) * | 2004-11-12 | 2006-02-21 | Mks Instruments, Inc. | Reynolds number correction function for mass flow rate sensor |
US7127366B2 (en) * | 2005-01-12 | 2006-10-24 | Honeywell International Inc. | Automatic thermal conductivity compensation for fluid flow sensing using chemometrics |
US7603186B2 (en) | 2006-04-28 | 2009-10-13 | Advanced Energy Industries, Inc. | Adaptive response time closed loop control algorithm |
US7640078B2 (en) | 2006-07-05 | 2009-12-29 | Advanced Energy Industries, Inc. | Multi-mode control algorithm |
JP2008039513A (ja) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Hitachi Metals Ltd | 質量流量制御装置の流量制御補正方法 |
US7874208B2 (en) * | 2007-10-10 | 2011-01-25 | Brooks Instrument, Llc | System for and method of providing a wide-range flow controller |
JP4809401B2 (ja) | 2008-07-18 | 2011-11-09 | 信越化学工業株式会社 | 石英ガラスの製造方法及び装置 |
JP4750866B2 (ja) * | 2009-02-18 | 2011-08-17 | 信越化学工業株式会社 | 石英ガラスの製造方法及び装置 |
US8682149B2 (en) * | 2009-11-19 | 2014-03-25 | Gaumer Company, Inc. | Flow measurement with electric heaters |
WO2011078242A1 (ja) * | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 株式会社堀場エステック | マスフローコントローラシステム |
US9644796B2 (en) * | 2011-09-29 | 2017-05-09 | Applied Materials, Inc. | Methods for in-situ calibration of a flow controller |
DE102012001060A1 (de) * | 2011-10-24 | 2013-04-25 | Hydrometer Gmbh | Verfahren zur Korrektur von Offset-Drift-Effekten einer thermischen Messeinrichtung, thermische Messeinrichtung und Gasdurchflussmessgerät |
CN103196479B (zh) * | 2012-01-05 | 2016-08-03 | 中国石油化工股份有限公司 | 光纤流量、含水率传感器的实流标定装置及标定方法 |
US8820177B2 (en) | 2012-02-29 | 2014-09-02 | Caterpillar Inc. | Flow measurement unit |
JP6027395B2 (ja) * | 2012-10-29 | 2016-11-16 | 株式会社堀場エステック | 流体制御装置 |
US10108205B2 (en) | 2013-06-28 | 2018-10-23 | Applied Materials, Inc. | Method and system for controlling a flow ratio controller using feed-forward adjustment |
US10114389B2 (en) * | 2013-06-28 | 2018-10-30 | Applied Materials, Inc. | Method and system for controlling a flow ratio controller using feedback |
US10024700B2 (en) | 2013-08-28 | 2018-07-17 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Fluid analysis device |
US11686168B2 (en) | 2015-11-12 | 2023-06-27 | Baker Hughes, A Ge Company, Llc | Apparatus and methods for determining in real-time efficiency of extracting gas from drilling fluid at surface |
US10781649B2 (en) | 2015-11-12 | 2020-09-22 | Baker Hughes, A Ge Company, Llc | Apparatus and methods for determining in real-time efficiency extracting gas from drilling fluid at surface |
WO2018067128A1 (en) | 2016-10-04 | 2018-04-12 | Micro Motion, Inc. | Flowmeter calibration method and related apparatus |
FR3065068B1 (fr) * | 2017-04-07 | 2019-08-02 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede pour mesurer la quantite de gaz introduite dans un reservoir et station de remplissage |
CN109276976B (zh) * | 2018-12-05 | 2023-07-04 | 国家电网有限公司 | 一种六氟化硫与氮气混合气体的回收装置及方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0834723A1 (en) * | 1996-10-04 | 1998-04-08 | Emerson Electric Co. | Thermal mass flowmeter and mass flow controller, flowmetering system and method |
US5975126A (en) * | 1996-10-04 | 1999-11-02 | Emerson Electric Co. | Method and apparatus for detecting and controlling mass flow |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3876307A (en) * | 1969-08-05 | 1975-04-08 | Environmental Technology | Optical fluid contamination and change monitor |
US3945253A (en) * | 1974-03-28 | 1976-03-23 | Liu Frederick F | Apparatus and method for measuring fluid flow over a wide range of fluid flow conditions and viscosities |
FI73315C (fi) * | 1984-06-15 | 1987-09-10 | Nokia Oy Ab | Kalibreringssystem foer kalibrering av massastroemreglerare. |
US5012667A (en) * | 1988-03-18 | 1991-05-07 | Great Plains Industries, Inc. | Apparatus and method for calibrating a measuring device |
US4965756A (en) * | 1988-10-11 | 1990-10-23 | Gas Research Institute | Method and apparatus for calibration of electronic gas meters |
US5237523A (en) * | 1990-07-25 | 1993-08-17 | Honeywell Inc. | Flowmeter fluid composition and temperature correction |
US5062446A (en) * | 1991-01-07 | 1991-11-05 | Sematech, Inc. | Intelligent mass flow controller |
GB2263776B (en) * | 1992-01-28 | 1995-05-17 | Endress & Hauser Ltd | Fluid mass flowmeter |
US5305638A (en) * | 1992-03-20 | 1994-04-26 | Dxl International, Inc. | Mass flowmeter having non-adjustable flow splitter |
US5606513A (en) * | 1993-09-20 | 1997-02-25 | Rosemount Inc. | Transmitter having input for receiving a process variable from a remote sensor |
US5792966A (en) * | 1997-04-07 | 1998-08-11 | Weitz; Mark A. | Thermally stable, fluid flow measurement device |
US5824894A (en) * | 1997-05-07 | 1998-10-20 | Mks Instruments, Inc. | Mass flowmeter and laminar flow elements for use therein |
US6474132B1 (en) * | 1997-08-07 | 2002-11-05 | Tuthill Corporation | Precalibrated flow meter |
US6230694B1 (en) * | 1998-05-26 | 2001-05-15 | Siemens Canada, Ltd. | Calibration and testing of an automotive emission control module |
DE59904728D1 (de) * | 1998-12-11 | 2003-04-30 | Flowtec Ag | Coriolis-massedurchfluss-/dichtemesser |
KR20020020747A (ko) * | 1999-06-24 | 2002-03-15 | 고마츠 츠자부로 | 유량센서유닛과 이를 이용한 유량계 및 유량센서 |
US6343617B1 (en) * | 1999-07-09 | 2002-02-05 | Millipore Corporation | System and method of operation of a digital mass flow controller |
US6332348B1 (en) * | 2000-01-05 | 2001-12-25 | Advanced Micro Devices, Inc. | Gas flow calibration of mass flow controllers |
US6450024B1 (en) * | 2001-03-07 | 2002-09-17 | Delta M Corporation | Flow sensing device |
US6564824B2 (en) * | 2001-04-13 | 2003-05-20 | Flowmatrix, Inc. | Mass flow meter systems and methods |
KR20040024854A (ko) * | 2001-04-24 | 2004-03-22 | 셀레리티 그룹 아이엔씨 | 질량유량 제어장치를 위한 시스템 및 방법 |
US6640626B2 (en) * | 2002-01-18 | 2003-11-04 | Hitachi, Ltd. | Method and system for identifying a type of gas |
US6948508B2 (en) * | 2002-06-24 | 2005-09-27 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus and method for self-calibration of mass flow controller |
-
2003
- 2003-05-23 TW TW92113996A patent/TWI274143B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-05-23 JP JP2004507802A patent/JP2005527819A/ja active Pending
- 2003-05-23 AU AU2003239621A patent/AU2003239621A1/en not_active Abandoned
- 2003-05-23 EP EP03734166A patent/EP1523664A4/en not_active Withdrawn
- 2003-05-23 US US10/444,249 patent/US7243035B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-05-23 CN CNB038149001A patent/CN100425955C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-05-23 WO PCT/US2003/016440 patent/WO2003100391A1/en active Application Filing
-
2005
- 2005-05-13 US US11/129,166 patent/US7363182B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0834723A1 (en) * | 1996-10-04 | 1998-04-08 | Emerson Electric Co. | Thermal mass flowmeter and mass flow controller, flowmetering system and method |
US5975126A (en) * | 1996-10-04 | 1999-11-02 | Emerson Electric Co. | Method and apparatus for detecting and controlling mass flow |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005527819A (ja) | 2005-09-15 |
EP1523664A1 (en) | 2005-04-20 |
WO2003100391A1 (en) | 2003-12-04 |
TWI274143B (en) | 2007-02-21 |
US20050205774A1 (en) | 2005-09-22 |
US20040030522A1 (en) | 2004-02-12 |
TW200407532A (en) | 2004-05-16 |
US7243035B2 (en) | 2007-07-10 |
US7363182B2 (en) | 2008-04-22 |
AU2003239621A1 (en) | 2003-12-12 |
CN1662805A (zh) | 2005-08-31 |
EP1523664A4 (en) | 2006-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100425955C (zh) | 用于物质流检测设备校准的系统和方法 | |
CN101839737B (zh) | 质量流量计及控制器以及质量流量计及控制器系统 | |
US7272512B2 (en) | Flow sensor signal conversion | |
CN101652591B (zh) | 用于测量质量流控制器中的气体的温度的方法和装置 | |
JP3000352B2 (ja) | 質量流量測定装置及び方法 | |
US8504311B2 (en) | Method and mass flow controller for enhanced operating range | |
KR20100075740A (ko) | 질량 유량계 및 매스 플로우 컨트롤러 | |
US7054767B2 (en) | Thermal mass flowmeter apparatus and method with temperature correction | |
CN105264341B (zh) | 热式流量计、温度测量装置和热式流量计算方法 | |
US5321992A (en) | Measurement of gas flows with enhanced accuracy | |
WO2022004001A1 (ja) | 熱式流量計、流量制御装置、熱式流量測定方法、及び、熱式流量計用プログラム | |
KR20050026393A (ko) | 질량 유량 검출 장치를 보정하기 위한 시스템 및 방법 | |
JP2004093178A (ja) | 流量計 | |
JP2003090751A (ja) | フローセンサ式流量計及びその校正方法 | |
WO2024085891A1 (en) | Determining and using a mass flow rate error correction relationship in a vibratory type flow meter | |
KR20020080137A (ko) | 유량 계측용 센서 및 이를 이용한 질량유량제어장치 및 방법 | |
CA2240484C (en) | Method and apparatus for detecting and controlling mass flow | |
JPH0443918A (ja) | 流量計 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: CELERITY INC. Free format text: FORMER OWNER: ENTEGRIS INC Effective date: 20070525 |
|
C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20070525 Address after: Texas in the United States Applicant after: Entegris Inc. Address before: Massachusetts USA Applicant before: Entegris Inc. |
|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20081015 |