CH696829A5 - Beschickungseinrichtung für Waferverarbeitungsprozesse. - Google Patents

Beschickungseinrichtung für Waferverarbeitungsprozesse. Download PDF

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Description


  [0001] Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beschickungseinrichtung für Waferbe- und/oder Verarbeitungsprozesse. Speziell betrifft die Erfindung eine Einrichtung, mit der Waferscheibe enthaltende Aufbewahrungs- und Transportbehälter einerseits einem Wafereingang (Loadport) einer Verarbeitungsstation zugeführt und von dieser wieder abgeführt werden können und mit andererseits solche Transportbehälter von einer Transporteinrichtung, vorzugsweise von einer hochgelagerten Transporteinrichtung (Overheadtransport), abgenommen werden und diese wieder zur Verfügung gestellt werden.

   Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Beschicken einer solchen Verarbeitungsstation für Waferscheiben mit Waferscheiben gefüllten Transportboxen nach deren Abnahme aus einem Transportsystem, z.B. einem Overheadtransportsystem.

[0002] Zur Beschickung von Waferscheiben, die in einer Transportbox einem Verarbeitungsprozess angeliefert werden, wobei die Transportbox dann im räumlichen Bereich des Verarbeitungsprozesses oder eines Vorbereiches - zumeist unter Reinraumbedingungen - geöffnet und einzelne Waferscheiben entnommen und verarbeitet werden, sind Einrichtungen bekannt, mit denen die aus einer Overheadtransporteinrichtung zugeführten Transportboxen für Waferscheiben vertikal auf die Höhe eines Loadports einer Waferverarbeitungsstation gebracht und in den Waferverarbeitungsprozess eingebracht werden.

   Nach der Verarbeitung, die mit einer Entnahme der Waferscheiben aus der Transportbox, einer beliebigen Behandlung der einzelnen Waferscheiben und einem Wiederbeladen der Transportbox - zumeist unter Reinraumbedingungen - verbunden ist, wird die Transportbox dann über denselben Loadport wieder herausgeführt, vertikal nach oben gehoben, bis sie an dem Overheadtransportsystem angekoppelt ist und dann von diesem in einem Speicher, einem weiteren Verarbeitungsprozess oder zu einem anderen Zweck abtransportiert wird.

[0003] Eine Einrichtung entsprechend dem hier zitierten Stand der Technik ist in Fig.

   6 dargestellt, bei der eine Transportbox (90) von oben auf eine Eingangsfläche eines Loadports beschickt wird, nachdem sie aus einem Overheadtransportsystem abgesenkt wurde oder von einem bodengeführten Transportsystem 92 horizontal zur Verfügung gestellt wurde.

[0004] Bei diesem Vorgang sind aber einige Probleme aufgetaucht, die von der vorliegenden Erfindung gelöst werden sollen.

[0005] Einerseits erscheint es in besonderem Masse unvorteilhaft, dass die Beschickung am Loadport sowie der Abtransport in hohem Masse von den logistischen Randbedingungen des Overheadtransportsystems abhängen soll. Solche logistischen Randprobleme sind unter anderem die notwendigen Fahrwege im Licht der begrenzten Geschwindigkeiten eines solchen Overheadtransportsystems.

   Des Weiteren sind die Transportmöglichkeiten auch dadurch begrenzt, dass diese Transportmöglichkeiten nicht nur wirtschaftlich Grenzen (Kosten) bedeuten, sondern auch erhebliche Platzerfordernisse beinhalten, die nicht beliebig befriedigt werden können. Es sollte in diesem Zusammenhang betont werden, dass selbstverständlich auch andere Transport- und Logistiksysteme für den Boxentransport der Waferscheiben möglich und von der vorliegenden Erfindung grundsätzlich erfasst werden sollen und auch erfasst werden. Ein Overheadtransportsystem ist dabei zwar typisch, in diesem Zusammenhang aber nur beispielhaft genannt.

[0006] Vorteilhaft erscheint daher eine Beschickungseinrichtung, die ein Puffern von Transportbehältern ermöglicht, ohne dass die beim Puffern ansonsten hinzunehmenden Nachteile in Kauf genommen werden müssten.

   Insbesondere bedeutete im Zusammenhang mit dieser Erfindung ein herkömmliches Puffersystem für die Transportboxen keine angemessene Lösung, da damit die logistischen Probleme der Transporteinrichtung (z.B. Overheadtransportsystem) nicht gelöst wären. Allerdings sollte betont werden, dass die vorzuschlagende Beschickungseinrichtung mit einem herkömmlichen Puffersystem ohne weiteres kombiniert werden können soll und auch in jedem Fall kombiniert werden kann.

[0007] Wenn aber ein solches Puffern in der Beschickungseinrichtung vorgesehen werden soll, so wäre es besonders vorteilhaft, wenn die Beschickung durch das Puffern nicht zusätzliche Nachteile hinnehmen müsste.

   Das Puffern bewirkt nämlich - wenn es als sequentielles Puffern ausgebildet ist - eine recht starre Reihenfolge der Beschickung, bei der nachträglich notwendig gewordene Änderungen des Prozessablaufes zumindest schwierig erscheinen. Es wäre für die Erfindung somit vorteilhaft, wenn diese Nachteile nicht in Kauf genommen werden müssten.

[0008] Wichtig für die Aufgabe der Erfindung ist es, dass mit der erfindungsgemässen Einrichtung vorhandene Prozessstationen - möglichst an den Schnittstellen Transportsystem (z.B. Overheadtransportsystem) und Loadport der Verarbeitungsstation nachgerüstet werden können. Dabei wird zu berücksichtigen sein, dass die Loadports im Allgemeinen an der tiefsten Stelle der vertikalen Zuführung der Transportboxen angeordnet sind.

   Damit scheiden - zumindest für besonders vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung - die Lösungen aus, die die Puffer- und Zuführungsprobleme mittels einer vertikalen Beschickung von oben und unten versuchen.

[0009] Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es also, eine Einrichtung vorzuschlagen, mit der die vorstehend genannten Probleme teilweise - oder vorzugsweise auch sämtlich - überwunden werden können.

[0010] Die Erfindung löst die Aufgabe durch eine Beschickungseinrichtung nach Anspruch 1. Dabei haben die Massnahmen der Erfindung zunächst einmal zur Folge, dass eine solche Beschickungseinrichtung für die mit Waferscheiben gefüllten Transportboxen an den Loadports bestehender Verarbeitungsstationen im Zuge einer Nachrüstung angeordnet werden kann, wobei das allenfalls bereits vorhandene Transportsystem (z.B.

   Overheadtransportsystem) für die Transportboxen ebenfalls weiterverwendet werden kann. Mit der Beschickungseinrichtung gemäss der vorliegenden Erfindung ist es problemlos möglich, einen Beschickungspuffer einzurichten, der z.B. die vertikale Zuführung der Transportboxen aus dem Transportsystem als internen Zwischenspeicher verwenden kann. In einem solchen Fall ist es - gemäss den abhängigen Patentansprüchen - besonders vorteilhaft, wenn einerseits eine den Zwischenspeicher umgehende Expressbeschickung (Expressload) möglich gemacht wird und andererseits innerhalb des Zwischenspeichers eine Neuordnung der Beschickungsreihenfolge vorgesehen ist, wobei vorteilhafte Ausgestaltungen auch schon darin zu sehen sind, dass eine dieser beiden Möglichkeiten vorgesehen wird.

   Eine vorteilhafte - aber nicht notwendige - Ausgestaltung der den Zwischenspeicher umgehenden Expressbeschickung ist die Ausbildung des vertikalen Abtransportkanals zur Expressbeschickung.

[0011] Besonders vorteilhaft ist ein Verfahren zum Beschicken der Loadports mit Transportboxen entsprechend der vorstehend beschriebenen Beschickungseinrichtung.

[0012] Mit der vorgeschlagenen Beschickungseinrichtung gemäss der vorliegenden Erfindung ist eine mehrstufige Erweiterung des herkömmlichen Funktionsumfanges gemäss dem Stand der Technik möglich, nämlich
(1) ein automatischer Austausch der Transportboxen auf dem Loadport der Bearbeitungsmaschine - mit einem unbearbeiteten Waferstapel in Wartestellung, einem Waferstapel in Bearbeitung auf dem Loadport und einem Platz für den fertig bearbeiteten Waferstapel.

   Damit wird ein Austausch (so genannter Swap) ermöglicht, d.h. die Transporteinrichtung (z.B. Overheadtransport) bringt eine unbearbeitete Box und nimmt gleichzeitig eine bearbeitete Box mit;
(2) Erweiterung mittels Puffer im Eingangskanal, in diesem Fall kann der Ausgangskanal für Expressbeschickung verwendet werden;
(3) Erweiterung mittels Puffer im Ausgangskanal, in diesem Fall kann der Eingangskanal für Expressbeschickung verwendet werden;
(4) Erweiterung mittels je einem Puffer im Eingangs- und im Ausgangskanal, in diesem Fall ist eine Expressbeschickung nur möglich, wenn ein Puffer leer ist.

[0013] In der Grundausführung (1) besteht auch die Möglichkeit einer vereinfachten, kostengünstigen Austauscheinrichtung, wobei dann eine Erweiterung mittels Puffer nicht möglich ist.

   In diesem Fall besteht die Austauscheinrichtung lediglich aus zwei Aufnahmeplatten, welche je in einer einfachen Bewegung aus zwei nebeneinanderliegenden Übergabepositionen den gleichen Loadport bedienen, z.B. eine Aufnahmeplatte transportiert die Box senkrecht vom Loadport in die Übergabeposition und zurück, während die andere Aufnahme mittels kreisförmiger Bewegung vom Loadport in die danebenliegende und tiefer angeordnete Übergabeposition gebracht wird. Dabei wird die Aufnahmeplatte mechanisch synchronisiert, so dass diese immer horizontal stehen bleibt. In diesem Fall werden also lediglich zwei einfache Bewegungen und eine mechanische Synchronisierung (z.B.

   Parallelogramm) benötigt.

[0014] Weitere vorteilhafte Einzelheiten der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen dargelegt.

[0015] Die vorgenannten sowie die beanspruchten und in den nachfolgenden Ausführungsbeispielen beschriebenen, erfindungsgemäss zu verwendenden Elemente unterliegen in ihrer Grösse, Formgestaltung, Materialverwendung und technischen Konzeption keinen besonderen Ausnahmebedingungen, so dass die in dem jeweiligen Anwendungsgebiet bekannten Auswahlkriterien uneingeschränkt Anwendung finden können.

[0016] Weitere Einzelheiten, Merkmale und Vorteile des Gegenstandes der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung der dazugehörigen Zeichnungen, in denen - beispielhaft - eine Vorrichtung und ein dazugehöriger Verfahrensablauf zur vorliegenden Erfindung erläutert wird.

[0017] In den Zeichnungen zeigen:

  
<tb>Fig. 1<sep>eine Frontansicht einer Grundversion der Beschickungseinrichtung gemäss der vorliegenden Erfindung;


  <tb>Fig. 2<sep>eine Seitenansicht nach Fig. 1;


  <tb>Fig. 3<sep>eine Frontansicht einer erweiterten Version der Beschickungseinrichtung gemäss der vorliegenden Erfindung;


  <tb>Fig. 4<sep>eine Seitenansicht nach Fig. 1;


  <tb>Fig. 5<sep>eine Frontansicht der erweiterten Version der Beschickungseinrichtung gemäss der vorliegenden Erfindung, bei der eine Boxenanordnungseinrichtung implementiert ist;


  <tb>Fig. 6<sep>eine durch die Beschickungseinrichtung der Erfindung vorteilhafterweise zu ersetzende Beschickungsanordnung gemäss dem Stand der Technik.

[0018] Die in Fig. 1 mit 100 bezeichnete Beschickungseinrichtung für Transportboxen 90 für Waferscheiben ist einerseits an einen Loadport 20 einer Waferverarbeitungseinrichtung 60 und andererseits an ein Overheadtransportsystem 30 angeschlossen. Die Beschickungseinrichtung umfasst dabei zwei vertikale Zu- bzw. Abführungskanäle 40 und 42, wobei die Schnittstelle zur Transporteinrichtung 32 des Transportsystems 30 jeweils oben am vertikalen Kanal angeordnet ist. Die Schnittstelle zum Loadport 20 ist als Einrichtung zum seitlichen Verschieben und Einführen der Transportboxen 90 in die Verarbeitungseinrichtung 60 ausgebildet.

   Im einfachsten Betrieb wird eine Transportbox 90 aus dem Transportsystem 30 in den vertikalen Kanal 40 eingeführt, darin durch eine Bewegungseinheit abgesenkt, bis sie sich auf der Ebene des Loadports 20 befindet und dann horizontal zunächst zum Loadport 20 hin und dann in den Loadport 20 hineingeführt wird. Nach dem Verarbeitungsprozess, der wegen der modularen Ausführung der Beschickungseinrichtung beliebig sein kann, aber in praktisch allen Fällen herkömmlich ein Entladen der Waferscheiben aus der Transportbox 90 unter Reinraumbedingungen, eine Bearbeitung der einzelnen Waferscheiben und eine Rückführung der Waferscheiben in die Transportbox umfasst, wird die Transportbox 90 aus dem Loadport 20 herausgeführt und in den zweiten Kanal 42, der im dargestellten Ausführungsbeispiel zunächst einmal als Abführungskanal dient, eingefügt.

   Dieser Kanal 42 ist - wie der Kanal 40 auch - im Ausführungsbeispiel so ausgebildet, dass die Transportboxen 90 sowohl aufwärts als auch abwärts transportiert werden können. In der hier beschriebenen Ausführung des entsprechenden Beschickungsverfahren wird der Kanal 42 aber - ohne Beschränkung der Allgemeinheit der Einrichtung - als Abführungskanal beschrieben. Aus den Fig. 1 und 2 ist schon ersichtlich, dass der Kanal 40 - wie übrigens auch der Kanal 42 - und auch die ihnen zugeordneten vertikalen Bewegungseinheiten so ausgebildet sind, dass in ihnen mehrere Transportboxen aufgenommen werden können, sie also als Zwischenspeicher (Puffer) für Transportboxen 90 dienen können.

   Durch dieses Merkmal wird insbesondere das Transportsystem 30 logistisch weiter von der Verarbeitungseinrichtung 60 und dem Loadport 20 entkoppelt, wobei die weiteren Vorteile der Erfindung schon dann vollumfänglich nützlich wirken, wenn der Puffer nur zuführungsseitig, nicht aber abführungsseitig betrieben wird.

[0019] In diesem Zusammenhang wird der Fachmann das modulare Konzept erkennen, durch das die vorgeschlagene Beschickungseinrichtung gemäss der vorliegenden Erfindung eine mehrstufige Erweiterung des herkömmlichen Funktionsumfanges gemäss dem Stand der Technik ermöglicht, nämlich
(1) ein automatischer Austausch der Transportboxen 90 auf dem Loadport 20 der Bearbeitungsmaschine - mit einem unbearbeiteten Waferstapel in Wartestellung, einem Waferstapel in Bearbeitung auf dem Loadport und einem Platz für den fertig bearbeiteten Waferstapel.

   Damit wird ein Austausch (so genannter Swap) ermöglicht, d.h. die Transporteinrichtung (z.B. Overheadtransport 32) bringt eine unbearbeitete Transportbox 90 und nimmt gleichzeitig eine bearbeitete Transportbox 90 mit;
(2) Erweiterung mittels Puffer im Eingangskanal 40, in diesem Fall kann der Ausgangskanal 42 für Expressbeschickung verwendet werden;
(3) Erweiterung mittels Puffer im Ausgangskanal 42, in diesem Fall kann der Eingangskanal 40 für Expressbeschickung verwendet werden;
(4) Erweiterung mittels je einem Puffer im Eingangs- und im Ausgangskanal 40 und 42, in diesem Fall ist eine Expressbeschickung nur möglich, wenn ein Puffer leer ist.

[0020] In der Grundausführung (1) besteht auch die Möglichkeit einer vereinfachten, kostengünstigen Austauscheinrichtung, wobei dann eine Erweiterung mittels Puffer nicht möglich ist.

   In diesem Fall besteht die Austauscheinrichtung lediglich aus zwei Aufnahmeplatten, welche je in einer einfachen Bewegung aus zwei nebeneinanderliegenden Übergabepositionen den gleichen Loadport bedienen, z.B. eine Aufnahmeplatte transportiert die Box senkrecht vom Loadport in die Übergabeposition und zurück, während die andere Aufnahme mittels kreisförmiger Bewegung vom Loadport 20 in die danebenliegende und tiefer angeordnete Übergabeposition gebracht wird. Dabei wird die Aufnahmeplatte mechanisch synchronisiert, so dass diese immer horizontal stehen bleibt. In diesem Fall werden also lediglich zwei einfache Bewegungen und eine mechanische Synchronisierung (z.B. Parallelogramm) benötigt.

[0021] In einer erweiterten Ausführung gemäss den Fig. 3 und 4 sind 4 Kanäle 40 ¾, 42 ¾, 44 ¾ und 46 ¾ vorgesehen, wobei beidseitig des Loadports 20 jeweils zwei vertikale Kanäle sind.

   Im dargestellten Ausführungsbeispiel ist das linke Kanalpaar 40 ¾ und 42 ¾ als Arbeitskanalpaar mit Puffermöglichkeit vorgesehen, während das rechte Kanalpaar 44 ¾ und 46 ¾ als Prioritätskanal dient. Die Zuführungskanäle 40 ¾ und 46 ¾ sind jeweils aussen angeordnet und haben auf der Ebene des Loadports 20 eine horizontale Transfereinrichtung, die auch zur Beschickung des Loadports 20 dient - wie bereits vorstehend beschrieben.

[0022] In diesem Ausführungsbeispiel ist der vertikale Transport der Transportboxen 90 in jedem Kanal - wiederum ohne Beschränkung der Allgemeinheit - nur in eine Richtung vorgesehen, nämlich abwärts in den Zuführungskanälen 40 ¾ und 46 ¾ und aufwärts in den Abführungskanälen 42 ¾ und 44 ¾.

[0023] In der nochmals erweiterten Ausführung nach Fig.

   5 ist im linken Kanalpaar 40 ¾ ¾ und 42 ¾ ¾ vorgesehen, dass ein horizontaler Transfer (Austausch) der Transportboxen auch oberhalb der Ebene des Loadports 20 durchgeführt werden kann, wodurch eine Einrichtung geschaffen wird, mit der die Anordnung der Transportboxen 90 innerhalb des im linken Zuführungskanals 40 ¾ ¾ ausgebildeten Zwischenspeichers möglich ist. Der rechte Zuführungskanal 46 ¾ ¾ weist dieses Merkmal im vorliegenden Ausführungsbeispiel nicht auf, kann aber selbstverständlich auch dementsprechend eingerichtet werden.

   Der rechte Abführungskanal 44 ¾ ¾ ist in diesem Ausführungsbeispiel gleichzeitig als Expresskanal ausgebildet, über den - unabhängig von den speichernden Kanälen 40 ¾ ¾ und 46 ¾ ¾ eine prioritäre Beschickung jederzeit möglich ist.

[0024] Es sollte in diesem Zusammenhang darauf hingewiesen werden, dass die linke und die rechte Kanaleinheit im Prinzip unabhängig voneinander betrieben werden können, dass also als rechte Kanaleinheit eine solche mit zwei Kanälen und als linke Kanaleinheit eine mit einem Kanal betrieben werden kann.

[0025] Die Steuerung der Beschickungseinrichtung gemäss der vorliegenden Erfindung und der hier aufgezeigten Ausführungsbeispiele geschieht mit einem Computer, der über eine Schnittstelle (z.B.

   HSMS oder RS-232) die Beschickung steuert.

[0026] Weiterhin sollte darauf hingewiesen werden, dass die Verarbeitungsstation für die in den Transportboxen 90 befindlichen Wafer durchaus auch so eingerichtet sein können, dass dort mehrere Transportboxen 90 gleichzeitig anwesend sind. Die hier vorgeschlagene Einrichtung und das hier vorgeschlagene Verfahren können also auch mit anderen Vorrichtungen und Verfahren kombiniert werden, die bereits ein Transportboxhandling aufweisen oder die vorgängig einen Transportboxspeicher vorsehen.

Claims (13)

1. Beschickungseinrichtung zur Beschickung und Versorgung von Waferscheiben enthaltenden Aufbewahrungs- und Transportbehälter (90) an einem Wafereingang einer Be- oder Verarbeitungseinrichtung (60) und zum Abnehmen und Bereitstellen solcher Transportbehälter (90) von einer Transporteinrichtung (32), vorzugsweise von einer hochgelagerten Transporteinrichtung, gekennzeichnet durch - zumindest zwei vertikale Zu- bzw.
Abführungskanäle (40, 42; 40 ¾, 42 ¾, 44 ¾, 46 ¾; 40 ¾ ¾, 42 ¾ ¾, 44 ¾ ¾, 46 ¾ ¾), wobei eine Schnittstelle zur Transporteinrichtung, (32) jeweils am vertikalen Kanal angeordnet ist, - eine Einrichtung zum seitlichen Verschieben und Einführen der Transportbehälter (90) in die Be- oder Verarbeitungseinrichtung (60), wobei jeder der Kanäle eine Bewegungseinheit zum Absenken und/oder Anheben der Transportbehälter (90) im Kanal (40, 42; 40 ¾, 42 ¾, 44 ¾, 46 ¾; 40 ¾ ¾, 42 ¾ ¾, 44 ¾ ¾, 46 ¾ ¾) aufweist.
2. Beschickungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schnittstelle zur Transporteinrichtung (32) jeweils oben am vertikalen Kanal angeordnet ist.
3. Beschickungseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass jede der genannten Bewegungseinheiten sowohl zum Absenken als auch zum Anheben der Transportbehälter (90) im Kanal (40, 42; 40 ¾, 42 ¾, 44 ¾, 46 ¾; 40 ¾ ¾, 42 ¾ ¾, 44 ¾ ¾, 46 ¾ ¾) ausgebildet sind.
4. Beschickungseinrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Kanal als Zwischenspeicher für Transportbehälter (90) ausgebildet ist.
5. Beschickungseinrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch zumindest vier Kanäle (40 ¾, 42 ¾, 44 ¾, 46 ¾; 40 ¾ ¾, 42 ¾ ¾, 44 ¾ ¾, 46 ¾ ¾), wobei beidseitig eines Loadports (20) jeweils zwei vertikale Kanäle vorgesehen sind.
6. Beschickungseinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass eines der von den Kanälen gebildeten Kanalpaare (40 ¾, 42 ¾) als Arbeitskanalpaar mit Puffermöglichkeit vorgesehen ist, während ein anderes der Kanalpaare (44 ¾, 46 ¾) als Prioritätskanal ausgebildet ist.
7. Beschickungseinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass nur zwei Kanalpaare vorgesehen sind, deren voneinander abewandten Kanäle als Zuführkanäle vorgesehen sind.
8. Beschickungseinrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in zumindest einem Kanalpaar (40 ¾ ¾, 42 ¾ ¾) ein horizontaler Transfer der Transportbehälter (90) auch oberhalb der Ebene eines Loadports 20 vorgesehen ist und dadurch eine Einrichtung geschaffen wird, mit der eine Änderung der Anordnung der Transportbehälter (90) in einem innerhalb von zumindest einem Kanal (40 ¾ ¾) ausgebildeten Zwischenspeicher möglich ist.
9. Beschickungseinrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Kanal (44 ¾ ¾) als Expresskanal ausgebildet ist, über den unabhängig von den anderen Kanälen eine prioritäre Beschickung jederzeit möglich ist.
10. Verfahren zum Beschicken und Versorgen von Waferscheiben enthaltenden Aufbewahrungs- und Transportbehältern (90) an einem Wafereingang einer Be- oder Verarbeitungseinrichtung (60) und zum Abnehmen und Bereitstellen solcher Transportbehälter (90) von einer Transporteinrichtung (32), vorzugsweise von einer hochgelagerten Transporteinrichtung, durch eine Beschickungseinrichtung, vorzugsweise nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei - die Transportbehälter in zumindest einem vertikalen Zuführungskanal von der Transporteinrichtung abgenommen und einem Loadport zunächst vertikal zugeführt werden, danach durch seitliches Verschieben und Einführen der Transportbehälter (90) in die Be- oder Verarbeitungseinrichtung (60) geladen werden, wobei die Vertikalbewegung in dem zumindest einen Kanal durch eine Bewegungseinheit zum Absenken und/oder Anheben der Transportboxen (90)
im Kanal (40, 42; 40 ¾, 42 ¾, 44 ¾, 46 ¾; 40 ¾ ¾, 42 ¾ ¾, 44 ¾ ¾, 46 ¾ ¾) ausgeführt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Kanal als Zwischenspeicher für Transportbehälter (90) dient.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest vier Kanäle (40 ¾, 42 ¾, 44 ¾, 46 ¾; 40 ¾ ¾, 42 ¾ ¾, 44 ¾ ¾, 46 ¾ ¾) vorgesehen sind, wobei beidseitig des Loadports (20) jeweils ein Kanalpaar mit jeweils zwei vertikalen Kanälen vorgesehen ist und hierbei eines der Kanalpaare (40 ¾, 42 ¾) als Arbeitskanalpaar mit Puffermöglichkeit dient, während das andere Kanalpaar (44 ¾, 46 ¾) als Prioritätskanal dient.
13. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass in zumindest einem Kanalpaar (40 ¾ ¾, 42 ¾ ¾) ein horizontaler Transfer der Transportbehälter (90) auch oberhalb der Ebene des Loadports 20 stattfindet und dadurch eine Änderung der Anordnung der Transportbehälter (90) in einem innerhalb von zumindest einem Kanal (40 ¾ ¾) ausgebildeten Zwischenspeicher durchgeführt wird.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7778721B2 (en) 2003-01-27 2010-08-17 Applied Materials, Inc. Small lot size lithography bays
US7221993B2 (en) 2003-01-27 2007-05-22 Applied Materials, Inc. Systems and methods for transferring small lot size substrate carriers between processing tools
US7720557B2 (en) 2003-11-06 2010-05-18 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for enhanced operation of substrate carrier handlers
US7218983B2 (en) 2003-11-06 2007-05-15 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for integrating large and small lot electronic device fabrication facilities
WO2006081519A2 (en) * 2005-01-28 2006-08-03 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for operation of substrate carrier handlers
DE102013106790A1 (de) 2013-06-28 2014-12-31 Oxea Gmbh Verfahren zur Herstellung von 1,3-Butandiol
DE102018113786A1 (de) * 2018-06-08 2019-12-12 Vat Holding Ag Waferübergabeeinheit und Waferübergabesystem

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6579052B1 (en) * 1997-07-11 2003-06-17 Asyst Technologies, Inc. SMIF pod storage, delivery and retrieval system
US6079927A (en) * 1998-04-22 2000-06-27 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Automated wafer buffer for use with wafer processing equipment
US6506009B1 (en) * 2000-03-16 2003-01-14 Applied Materials, Inc. Apparatus for storing and moving a cassette
FR2844258B1 (fr) * 2002-09-06 2005-06-03 Recif Sa Systeme de transport et stockage de conteneurs de plaques de semi-conducteur, et mecanisme de transfert

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Publication number Publication date
WO2005006408A1 (de) 2005-01-20

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