CH417549A - Procédé d'obtention de composés siliciés expansés de faible densité - Google Patents

Procédé d'obtention de composés siliciés expansés de faible densité

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/20—Silicates
    • C01B33/32—Alkali metal silicates
    • C01B33/325—After-treatment, e.g. purification or stabilisation of solutions, granulation; Dissolution; Obtaining solid silicate, e.g. from a solution by spray-drying, flashing off water or adding a coagulant

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US3932140A (en) * 1973-04-30 1976-01-13 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Forming highly absorbent, low bulk density sodium silicate by contacting with H2 O2 and heating to about 45° to 60°C

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