CH413543A - Verfahren zum Erzeugen von Chromdiffusionszonen mit extrem niedriger Oberflächenrauhigkeit - Google Patents

Verfahren zum Erzeugen von Chromdiffusionszonen mit extrem niedriger Oberflächenrauhigkeit

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CH413543A
CH413543A CH399062A CH399062A CH413543A CH 413543 A CH413543 A CH 413543A CH 399062 A CH399062 A CH 399062A CH 399062 A CH399062 A CH 399062A CH 413543 A CH413543 A CH 413543A
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CH
Switzerland
Prior art keywords
creating
surface roughness
extremely low
low surface
diffusion zones
Prior art date
Application number
CH399062A
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German (de)
English (en)
Inventor
Bungardt Karl Prof Ing Dr
Gottfried Dr Phil Becker
Original Assignee
Deutsche Edelstahlwerke Ag
Howe Sound Co
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
    • C23C10/28—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using solids, e.g. powders, pastes
    • C23C10/34—Embedding in a powder mixture, i.e. pack cementation
    • C23C10/36—Embedding in a powder mixture, i.e. pack cementation only one element being diffused
    • C23C10/38—Chromising
    • C23C10/40—Chromising of ferrous surfaces
    • C23C10/42—Chromising of ferrous surfaces in the presence of volatile transport additives, e.g. halogenated substances

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CH399062A 1961-05-12 1962-04-03 Verfahren zum Erzeugen von Chromdiffusionszonen mit extrem niedriger Oberflächenrauhigkeit CH413543A (de)

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