CH390024A - Bain électrolytique pour dépôt épais et brillant d'alliage or-cuivre - Google Patents

Bain électrolytique pour dépôt épais et brillant d'alliage or-cuivre

Info

Publication number
CH390024A
CH390024A CH246461A CH246461A CH390024A CH 390024 A CH390024 A CH 390024A CH 246461 A CH246461 A CH 246461A CH 246461 A CH246461 A CH 246461A CH 390024 A CH390024 A CH 390024A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
thick
copper alloy
electrolytic bath
alloy deposit
shiny gold
Prior art date
Application number
CH246461A
Other languages
English (en)
Inventor
Kleine Jean
Original Assignee
Maison Murat Sa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Maison Murat Sa filed Critical Maison Murat Sa
Publication of CH390024A publication Critical patent/CH390024A/fr

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/62Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
CH246461A 1960-03-10 1961-03-01 Bain électrolytique pour dépôt épais et brillant d'alliage or-cuivre CH390024A (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR820914A FR1259407A (fr) 1960-03-10 1960-03-10 Bain électrolytique pour dépôt épais d'alliage or-cuivre

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH390024A true CH390024A (fr) 1965-03-31

Family

ID=8726782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH246461A CH390024A (fr) 1960-03-10 1961-03-01 Bain électrolytique pour dépôt épais et brillant d'alliage or-cuivre

Country Status (2)

Country Link
CH (1) CH390024A (fr)
FR (1) FR1259407A (fr)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9567684B2 (en) 2009-10-15 2017-02-14 The Swatch Group Research And Development Ltd Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic materials
US9683303B2 (en) 2007-09-21 2017-06-20 The Swatch Group Research And Development Ltd Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic metals or metalloids

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9683303B2 (en) 2007-09-21 2017-06-20 The Swatch Group Research And Development Ltd Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic metals or metalloids
US10233555B2 (en) 2007-09-21 2019-03-19 The Swatch Group Research And Development Ltd. Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic metals or metalloids
US10619260B2 (en) 2007-09-21 2020-04-14 The Swatch Group Research And Development Ltd. Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic metals or metalloids
US9567684B2 (en) 2009-10-15 2017-02-14 The Swatch Group Research And Development Ltd Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic materials

Also Published As

Publication number Publication date
FR1259407A (fr) 1961-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE804544A (fr) Bain pour le depot galvanique d'or et d'alliages d'or
FR2285474A1 (fr) Bain pour l'electrodeposition d'alliages de metaux precieux
FR1222231A (fr) Agent mouillant pour bains d'électrolyse
CH534215A (fr) Bain électrolytique pour l'électrodéposition d'alliages d'or et une utilisation de celui-ci
BE838335A (fr) Bain pour le depot galvanique d'alliages de palladium-nickel
FR1210750A (fr) Procédé de dépôt électrolytique de cuivre et d'alliages de cuivre
CH529843A (fr) Bain pour le dépôt électrolytique d'alliages d'or et son utilisation en galvanoplastie
CH390024A (fr) Bain électrolytique pour dépôt épais et brillant d'alliage or-cuivre
CH525963A (fr) Bain galvanique pour l'électrodéposition de l'or et son utilisation en galvanoplastie
FR1468084A (fr) Bain acide pour l'étamage électrolytique
CH338073A (de) Bad zur galvanischen Abscheidung von Metallen, insbesondere Edelmetallen, in glänzender Form
FR1479037A (fr) Bain galvanique acide pour le dépôt d'étain
FR1095142A (fr) Bain et procédé pour le dépôt galvanoplastique d'alliages fer-zinc
CH412512A (fr) Composition pour le dépôt de l'or ou d'alliages d'or
BE605099A (fr) Electrolyte pour le dépôt d'étain-nickel brillant, agent brillanteur pour cet électrolyte et leurs applications
FR1381290A (fr) Procédé et électrolyte pour le dépôt électrolytique d'un alliage d'or-argent brillant
CH523968A (fr) Bain électrolytique pour l'électrodéposition des métaux
CH496811A (fr) Procédé et solution pour le dépôt électrolytique d'argent brillant
BE593451A (fr) Bain galvanique pour le dépôt d'or par voie électrolytique.
FR1123482A (fr) Perfectionnements à l'électrolyse de métaux actifs en bain fondu
FR1405752A (fr) Bain galvanique pour le dépôt électrolytique de couches d'étain d'éclat vif à brillant
FR1197229A (fr) Bain pour le dépôt galvanique de l'argent et objets traités par ce bain
FR1217284A (fr) Bain de placage métallique
FR1292200A (fr) Electrolyte pour le dépôt d'étain-nickel brillant, agent brillanteur pour cet électrolyte et leurs applications
BE537822A (fr) Perfectionnements a l'electrolyse de metaux actifs en bain fondu.