CH207351A - Process for producing firmly adhering metal coatings on metallic objects. - Google Patents

Process for producing firmly adhering metal coatings on metallic objects.

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CH207351A
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Description

  

  Verfahren zur Erzeugung festhaftender Metallüberzüge auf metallischen Gegenständen.    Das     Überziehen    von     metalliis:chen    Gegen  ständen mit Metallen, zum Beispiel durch       thermische        Aufdampfung    oder     durch        Katho-          denzerstäubun,g    des als Überzug aufzubrin  genden     Metalles,    ist bekannt.

   Die Haftfestig  keit der     hergestellten    Überzüge     auf,den        Me-          tallgegenst5,nden    ist jedoch einer mecha  nischen oder thermischen     Beanspruchung     nicht gewachsen, da die Basis der aufge  brachten     Metallschicht        mit    dem Grundmate  rial keine     ausreichende    Verbindung     besitzt.     Das aufgedampfte oder aufgestäubte Metall,  das sehr fein     kristallin    ist,     zeigt    im Schliff  bild an     Ader    Basis eine     sehr    scharfe Tren  nungslinie.

   Das     aufgebrachte    Metall haftet.  wie bei galvanischen     Überzügen,    nur durch       Adhäsion    und lässt sich bei einer     Plattie-          rungs@stärke,    die bereits     in    sich eine     mecha-          nisühe    Festigkeit besitzt, vom Grundmate  rial abziehen.

   Diese ungenügende Haftfestig  keit     ist    bei den     nach    dem Verfahren gemäss  vorliegender Erfindung     hergestellten    Über  zügen vermieden,         Dass        erfindungsgemässe    Verfahren zeich  net sich dadurch aus, dass dem Gegenstand  z. B. vor, während oder nach der Aufbrin  gung der Metallschicht eine solche Tempe  ratur erteilt wird, dass     siech    die     Basis    der  aufgebrachten     Metallschicht    mit :dem Grund  material durch     Diffusion    oder     Legierungs-          bildung    verbindet.

   Die     Aufbringung        des        Me-          tolles    erfolgt dabei vorzugsweise im Va  kuum. Der     Füllgasdruck    in der Apparatur  kann dabei     10-6        bis    3 mm betragen.

   Die Er  wärmung :des Gegenstandes kann auf ver  schiedene Art erfolgen. .So lassen sich     zum          Beispiel        Widerstands-,    Hochfrequenz- und       Strahlungs-Erhitzung        anwenden.    Als beson  ders vorteilhafte und     leicht    anwendbare Er  hitzung,des Gegenstandes hat     sich    .die Auf  heizung durch eine Gasentladung     erwiesen.     Der     Gegenstand    wird hierbei als Kathode  einer     Gasentladungsstrecke        verwendet,    wo  bei die auf ihn     auftreffenden    Ionen, je nach  der Stärke der Entladung, :

  die     @durch    Regu  lierung     des    Stromes     oder,der        Spannung    sehr      einfach verändert werden kann, ihm die ge  wünschte Temperatur erteilen.     Bei    der     Ka-          thodenzerstäubung    kann die Erhitzung     des     Gegenstandes auch durch die Elektronen  emission der zu     zerstäubenden    Kathode er  folgen.  



  Die     Anordnung    es zu     überziehenden        Ge-          genstandes    erfolgt dabei     zweckmässig    so,     dass     er dem Elektronenstrom ausgesetzt wird, wo  bei er neutral oder     als    Anode der Gasentla  dung     geschaltet    sein kann.

   Je nach der  Stärke der Entladungsleistung an der zu zer  stäubenden Kathode     ändert;    sich der den Ge  genstand     aufheizende    Elektronenstrom, so       dass    man es     mittels    der     Regulierung    ,der Ent  ladungsleistung sehr leicht in der Hand hat,  den Gegenstand auf die     gewünschte        Terripe-          ratur    zu bringen.

       Bei    der     Kathoden7erstäu-          bung    kann das zu     zerstäubende    Metall in       fester    Form oder im     Schmelzfluss        vorliegen.     Die Kathode kann auch durch. Kühlung auf  eine solche Temperatur gebracht werden, dass  nur die Stärke der Elektronenemission ein  Mass für die einzustellende und aufrecht zu  erhaltende Temperatur ist.

   Die Bildung einer  Legierung kann leicht erzielt werden, wenn  beide Metalle, Grundmaterial und     Überzugs-          Metall,    zusammen einen tieferen     Schmelz-          punkt    ergeben als eines der Metalle. Je     nach     der Stärke der     Diffusions-    oder Legierungs  zone kann die erforderliche     Temperatur    län  gere oder kürzere Zeit aufrecht erhalten wer  den.

   Um auf dieser Zone eine Schicht aus  dem     Überzugsmaterial    zu erhalten,     wird     zweckmässig die Temperatur     anschliessend     tiefer gewählt, so dass eine     weitere        Legie-          rungsbildung    unmöglich     bezw.    die     Diffu-          sionsgeschwindigkeit    sehr stark herabgemin  dert wird. Nach dem beschriebenen Verfah  ren wurden zum Beispiel     Überzüge    erzielt.  deren Stärke von     '/1.o    bis einige     Millimeter     betrug.

   Die     Legierungs-        oder    Diffusions  zone kann hierbei stärker oder     schwächer    als  eine weitere reine Metallschicht sein,     es    kann  aber auch nur eine     Diffusions-    oder Legie  rungszone erzeugt werden.  



  Man kann das -Verfahren aber auch so  durchführen, dass dem zu     überziehenden    Ge-         genstand    vor, während oder nach dem Auf  bringen der Metallschicht eine solche Tem  peratur erteilt wird, dass das Material der  Schicht auf dem     Gegenstand        schmelzflüssig     wird. Die     Aufheizung    des     Gegenstandes    wird  vorzugsweise. durch     Gliminstromerhitzung     vorgenommen. Vorteilhaft werden solche Me  talle aufgebracht, die sich mit dem     Grund-          metall    legieren.

   Es ist: hierbei nicht immer  erforderlich, dass die Temperatur des     Gegen-          standes    der     Schmelztemperatur    des     Über-          zugsmetalle@s        entspricht,    vielmehr genügt es  schon, um eine     Anlegieiung        züi    erzielen, wenn  mindestens die Temperatur des     Eutekti-          kums    der     Legierung    auf den Gegenstand  eingestellt wird.

   Der     @Sehmelzpunkt    des     Über-          zugsmeta.lles    kann somit auch höher liegen  als der des     Grundmeta.llm,    sofern dieses     zu-          aammen    mit dem Grundmaterial eine     niedrig-          schnielzende,

      und zwar unterhalb des       Schmelzpunktes    des     Grundmaterials    schmel  zende     Legierung        ergibt.    Mit     besonderem        Vor-          teil    können     Legierungen        aufgebracht    wer  den, die einesteils einen     niedrigeren    Schmelz  punkt zeigen als die reinen Metalle und die  sich anderseits als     Oberflächenschutz    eignen.

    Die     Legierungen    können     dabei    als Kathode  direkt     zerstäubt        bezw.    verdampft werden,  oder die einzelnen     Komponenten    können  durch     gesonderte        Elektroden    gleichzeitig  oder in     beliebiger        Reihenfolge    im Verhältnis  der     gewünschten    Legierung zerstäubt     bezw.          verdampft        werden.    Die Erhitzung des Ge  genstandes erfolgt dabei zweckmässig durch       Glimmstromheizung,

      kann aber auch auf  anderem Wege erfolgen, z. B.     durch    Hoch  frequenzheizung,     Widerstandsheizung    oder  Strahlungserhitzung. Die Erhitzung des Ge  genstandes in der Gasentladung kann durch  Anlegen von Gleich- oder Wechselspannung  oder durch     Überlagerung    von Gleich- und  Wechselspannung erfolgen. Die Frequenz der       Wechselspannung    kann eine beliebige sein.  Auch Frequenzen, wie sie durch Röhren  generatoren     erzeugt    werden, also     Hochfre-          quenzen,    sind anwendbar.

   Der     zii    metallisie  rende     Gegenstand    wird hierzu vorteilhaft vor  und während der     Metalli.sierung    dauernd      oder zeitweise als Kathode gegen die Anode  der Entladung     .geschaltet.    Durch     Regelmittel,     wie     Widerstände,    Drosseln usw. lässt sieh ,die       elektrische        Belastung    auf dem Gegenstande  entsprechend der     gewünschten        Temperatur     einstellen.

   Die Erhitzung -des     Gegenstandes     kann dauernd oder     zeitweise    erfolgen, das       heisst,die        elektrisch    zugeführte Energie kann  somit     ununterbrochen    oder in Zwischen  pausen zur Wirkung gebracht werden.

   Die       Zwischenpausen    können ,gegen die     Heizpau-          sen    gross     sein,    so dass der Wirkungsgrad .der       Aufstäubung        bezw.        Aufdampfung    ein mög  lichsthoher     ist.    Als     einfachste        Art    der zeit  weisen     Aufheizung    des     Gegenstandes    hat sieb  die Anwendung von     Wechselstrom        erwiesen.     wobei eine oder mehrere Halbwellen     .durch          Gleichrichter    

  oder Ventilröhren     unterdrüokt     werden. Die Unterbrechung von     'Gleichstrom          mittels    Relais     gestattet,    die Heizimpulse  gegen die Heizpausen     in    beliebigem Verhält  nis einzustellen.

   Als vorteilhaft hat     es,    sich       erwiesen,    wenn das Verhältnis zwischen<B>Auf</B>     -          heizu        ng    und     Heizpause    so gross gewählt  wird,     @dass    die Temperatur     des    Gegenstandes       zwischen    ,der     höchsteinzustellenden    'Tempera  tur und einer weit     tieferen        Temperatur     schwankt.

   Bei dem Erreichen der     maximalen     Temperatur erfolgt die     Legierungsbildung     des in der     Zwischenzeit    auf den     kühleren    Ge  genstand aufgebrachten Materials, so dass  es während des     Aufbringens    periodisch zur       Legierungsbildung    kommt, wodurch     vermie-          den    wird,

   dass die     flüssige        Legierungsschicht     auf der     Oberfläcbe        des    Gegenstandes     zusam-          menläuft.    In den meisten Fällen genügt  schon eineinmaliges     kurzzeitiges        Einstellen     ,der zur Legierung erforderlichen Tempera  tur, um     eine        Anlegierung    des     Materials    zu  erzielen, auf dem weiterhin bei     tieferer    Tem  peratur das reine Metall aufgebracht     werden     kann.

   Durch     kathodische    Schaltung des Ge  genstandes vor     Beginn    des     Aufbringens    der       ,Schicht    kann eine     weitgehende        Reinigung    des  zu überziehenden Gegenstandes gewähr  leistet werden.

   Vor allem werden     Ogydreste,     die auf der Oberfläche noch haften,     abge-          stäubt        bezw.    durch     entsprechende        Füllgase            reduziert.    Wird die Schicht durch     Kathoden-          zerstäubung        bezw.    thermische Auf     dampfung     aufgebracht, so wird dies     vorteilhaft    in  einem     reduzierenden        Gase    oder Gasgemisch,

         wie    Wasserstoff oder einem     Stickstoff-          Wasserstoffgemisch    vorgenommen,     wodurch          besonders        reine    und     festhaftende        Überzüge     erreicht werden.

      Mit Hilfe der     beschriebenen        Arbeitswei-          sen    kann     man,    Metallüberzüge auf     metallische          Körper    beliebiger Art bringen.

       @So    kann man  zum     Beispiel        Gegenständs    aus     Eisen,    Stahl,  Kupfer oder     Messing,    und     besonders    auch       aus        Leichtmetallen,        wie        Aluminium    und       Aluminiumlegierungen    oder     Magnesium    und       Magnesiumlegierungen,    vorteilhaft mit ausser  ordentlich     widerstandsfähigen,

          chemischen     und     technischen        Beanspruchungen    :gewachse  nen Metall- oder     Metallegierungsschichten          überziehen.    Als     Überzugsmaterialien    kön  nen     zum        Beispiel    Metalle der Eisengruppe       wie    Eisen,     Kobalt,    Nickel,     Mangan;    der     -          Kupfergruppe,    wie     Kupfer"Silber,    Gold;

   ,der       Zinkgruppe,    wie Cadmium und     Zink;    der  Chromgruppe; der     Arsengruppe        wie    Anti  mop, Wismut, ferner Aluminium,     Lithium,     Beryllium,     Magnesium    oder deren Legierun  gen     verwendet    werden.

      Die Erfindung betrifft     ferner    eine Vor  richtung zur Ausübung des     beschriebenen          Verfahrens,        welche    sich     auszeichnet        durch     eine     evakuierbare        Kathodenzerstäubungs-          kammer        bezw.        Metallaufdampfungskammer,     ,

  die von     einer    Gleichstrom- oder     Wechsel-          otromquelle    gespeist wird und durch     eine          Anordnung    zum Aufheizendes Gegenstandes       mittels        Glimmentladung        unter        Verwendung     von     .Schaltmitteln,    um den     Gegenstand,    z. B.

    vor oder     während    der Metallinierung, in die       Gasentladungsstrecke    zu     schalten,        sowie     durch eine Gleich-     bezw.        Wechselstromquelle          mit        regelbarem    Widerstand zum Einstellen  des     Glimmstromheizstromes    für den Gegen  stand.

   Die     Kathodenzerstäubungskammer          bezw.        Metallaufdampfungekammer        kann     ferner mit     regelbaxer        Zuleitung    für     ein    redu  zierendes     Gas    oder     Gasgemisch,    sowie mit      regelbaren     Erhitzungsvorrichtungen    für     den          Gegenstand    versehen sein.  



  In der     Zeichnung    ist ein Ausführungs  beispiel der Vorrichtung schematisch darge  stellt.  



  In der Zeichnung, die einen 'Schnitt durch  eine Anlage zum     Überziehen    von metal  lischen Gegenständen mit     l11etallen    oder Le  gierungen mittels     Kathodenzerstäubung          bezw.    thermischer     Aufdampfung    mit einer  Gleichstromquelle 12 oder     Wechselstrom-          quelle    22 als     Zerstäubungsspannungsquelle          bezw.        Aufdampfungsspannungsquelle    dar  stellt, ist 1 die     Kathodenzerstäubung@skainmer          bezw.        Aufdampfungskammer    mit der zu zer  stäubenden,

       bezw.    das zu     zerstäubende        Mate-          ria-1    enthaltenden,     tiegelförmigen    Kathode 2  und dem zu     bestäubenden,        bezw.    zu metalli  sierenden metallischen     Gegenstand    3. Die       Ka.thodenzerstäubungs-        bezw.        Aufdamp-          fungSka.mmer    besteht aus einem     Unterteil    4  und einem abnehmbaren Oberteil 5.

   In dem       Unterteil    4 ist der     Katbodenhalter    6 isoliert  angeordnet und von einer Abschirmung 7 in  geringem Abstand umgeben. In dem Ober  teil 5 ist der metallene Gegenstandshalter 8  isoliert angeordnet und von einer Abschir  mung 9 in geringem     Abstande    umgeben, die       über        einen        Schalter        10        und        einen     11 und einen Schalter 27 mit dem       positiven    Pol einer     Glei:

  chspannungsquelle    12  oder auch einer Quelle für     gleichgerichteten     Wechselstrom in Verbindung     steht.    Der ne  gative Pol der     Gleiehspannunbguquelle    kann  einerseits über Schalter 28 und 13 mit. dein  Kathodenhalter 6 und anderseits über den       Schalter    29 und 14 und einen Regulierwider  stand 15 mit dem Gegenstandshalter 8 in ge  wünschter Reihenfolge in Verbindung ge  bracht werden.

   Durch den     Regulier,#wider-          stand    15 kann der     Glimmstromheizstrom          einreguliert    und der Gegenstand auf jede     ge-          wünschte    Temperatur, die das     .Sclimelzeri    und  gegebenenfalls     Anle    gieren des     aufgestäubten          bezw.    aufgedampften Materials bewirkt, ein  gestellt werden.

   Die Abschirmung 9 des     Ge-          genstandsha.lters    kann ferner über die     Lei-          tung    16 und Schalter 17 mit der Kammer-    Wandung, oder über die Leitung 18 und       Sehalter    19 mit der Abschirmung 7 :des Ka  thodenhalters im Bedarfsfalle in Verbindung  gebracht werden. Der Schalter 30 ist bei der  Anwendung von Gleichstrom geöffnet. Bei  der Anwendung einer     Weehselstromquelle,     z.

   B. eines     Transformators    als     Zerstä.ubun.gs-          spannungsquelle        bezw.        Verdampfungsspan-          nungsquelle,    werden dies Schalter 27, 28, 29  geöffnet und die     Schalter    14 und 3,0 geschlos  sen. Die Abschirmung 9     steht    in diesem Fälle  über dem Schalter 111 und ein     Absperrventil    20  für den negativen Wechsel über einen- Um  schalter 21 mit dein einen Pol eines     Hoch-          spannunb        wechselstromtransformators    22 in  Verbindung.

   Der Transformator kann mit  seinem andern Pol über einen Umschalter 23  und einem     Re-ulie.rwideiutand    15 und ein  diesem     parallelgeschaltetes    Sperrventil 2:5 für  den negativen Wechsel mit dem Gegenstands  halter 8 und damit dem Gegenstand 3, oder  anderseits mit einer     Leitung    26 in Verbin  dung gebracht werden, die zur Abschirmung  9     des    Gegenstandshalters über das Sperrven  til 20 für den negativen Wechsel führt.

    Durch den Umschalter 21 kann der eine Pol  des     Transformators    ferner mit dem Katho  denhalter 6 und damit mit :der zu zerstäuben  den     bezw.    der das zu verdampfende Material       enthaltenden,        tzegelförmigen        Kathode    2 in  Verbindung gebracht werden. Die einzel  nen     Schalter    können in jeder gewünschten  Reihenfolge betätigt werden. 31     isst    eine Lei  tung, die zu einer Vakuumpumpe führt und  32     ist    eine Zuleitung für ein reduzierendes  Gas, wie Wasserstoff, oder ein reduzierendes  Gasgemisch, z.

   B. ein     Wasserstoffsticktstoff-          gemiscli,    dessen Zustrom durch     das    Regel  ventil 33 eingestellt wird.  



  Es     wurde    zum     Beispiel        wie    folgt verfah  ren:  Eine Platte aus Kupfer von den Abmes  sungen 120     > <     120 X 0,75 mm wurde in d en  Gegenstandshalter 8 eingesetzt und alsdann  ein reduzierendes     Cras,    wie Wasserstoff.  durch die Leitung 32 über Ventil 33 in sol  cher Menge zugeleitet,     da.ss    ein Druck von  0,7 mm     H-    dauernd     erhalten        ])lieb.    Zuerst      wurde der Gegenstand bei<B>1300</B> Volt     Ent-          ladungsspannung    als Kathode     geschaltet,     10 Minuten lang gereinigt.

   Alsdann wurde  die     Platte    mit 2,5     Watt/cm'        Entladungslei-          stung    belastet, wobei sich eine Temperatur  von etwa 850 bis<B>900'</B> C     einstellte,    und als  dann Silber bei einer     Zerstäubungsbelastung     von 3-3     Waatt/em'    zerstäubt     bezw.    aufge  dampft.

   Das auf die Platte     gelangende        Sil-          be@r        legierte    sich mit dem Kupfer zu einer  ausserordentlich     festhaftenden        Metallschicht.     Der     Druck    bei :dem Verfahren betrug .etwa  0,7 mm     FI@g;    die     Zerstäubungssp@annung     43,00 Volt; die     Heizspannung    1700 Volt;

   und  das     Zerstäubungs-        bezw.    Füllgas war     Was-          serstoff.    Nach Beendigung der     Schmelzauf-          stäubung        kann;    der Gegenstand im Bedarfs  falle     in,der    Kammer noch einer     Nachtempe-          rung,    auch bei einer     gleichzeitigen        reinen          Metallaufstäubung        bezw.        Metall:aufdampfung     unterworfen werden.

   Nach Beendigung der  Behandlung wird der     Gegenstand    im Va  kuum abgekühlt und :dann aus der Kammer  entfernt.  



  Die     Aufheizung    :des     Gegenstandes    zum  Zwecke des Schmelzens des     ;aufgebrachten     Materials kann auch nach der     Aufstäubung          bezw.        Aufd@ampfung    in einem     besonderen     Ofen vorgenommen werden.



  Process for producing firmly adhering metal coatings on metallic objects. The coating of metallic objects with metals, for example by thermal vapor deposition or by cathode sputtering, of the metal to be applied as a coating, is known.

   However, the adhesive strength of the coatings produced on the metal objects cannot cope with mechanical or thermal stress, since the base of the applied metal layer does not have a sufficient bond with the base material. The vapor-deposited or sputtered metal, which is very finely crystalline, shows a very sharp dividing line at the base of the cross-section.

   The applied metal adheres. as with galvanic coatings, only through adhesion and can be removed from the base material with a cladding thickness that already has mechanical strength.

   This inadequate Haftfestig speed is avoided in the coatings produced by the method according to the present invention. The method according to the invention is characterized in that the object z. B. before, during or after the application of the metal layer, such a temperature is given that it connects the base of the applied metal layer with: the base material by diffusion or alloying.

   The application of the meter is preferably carried out in a vacuum. The filling gas pressure in the apparatus can be 10-6 to 3 mm.

   The heating of the object can take place in different ways. For example, resistance, high-frequency and radiation heating can be used. A particularly advantageous and easy-to-use heating of the object has proven itself to be heated by a gas discharge. The object is used here as the cathode of a gas discharge path, where the ions that hit it, depending on the strength of the discharge:

  the @ by regulating the current or, the voltage can be changed very easily, give it the desired temperature. With cathode sputtering, the object can also be heated by the emission of electrons from the cathode to be sputtered.



  The object to be coated is expediently arranged in such a way that it is exposed to the electron flow, where it can be switched to neutral or as an anode of the gas discharge.

   Depending on the strength of the discharge power at the cathode to be atomized changes; The electron stream heating the object is reduced, so that it is very easy to control the discharge power to bring the object to the desired terrestrial temperature.

       With cathode sputtering, the metal to be sputtered can be in solid form or in the melt flow. The cathode can also through. Cooling can be brought to a temperature such that only the strength of the electron emission is a measure of the temperature to be set and maintained.

   The formation of an alloy can easily be achieved if both metals, base material and coating metal, together give a lower melting point than either of the metals. Depending on the strength of the diffusion or alloy zone, the required temperature can be maintained for a longer or shorter period of time.

   In order to obtain a layer of the coating material in this zone, the temperature is then expediently chosen to be lower, so that further alloy formation is impossible or impossible. the diffusion rate is reduced very sharply. For example, coatings were obtained using the method described. whose thickness was from 1/1 to a few millimeters.

   The alloy or diffusion zone can be stronger or weaker than another pure metal layer, but only one diffusion or alloy zone can be generated.



  However, the process can also be carried out in such a way that the object to be coated is given such a temperature before, during or after the application of the metal layer that the material of the layer becomes molten on the object. The heating of the object is preferred. made by heating the glimine stream. It is advantageous to apply those metals that alloy with the base metal.

   It is not always necessary here for the temperature of the object to correspond to the melting temperature of the coating metal, rather it is sufficient to achieve an application if at least the temperature of the eutectic of the alloy is set on the object becomes.

   The @Sehmelzpunkt of the coating metal can therefore also be higher than that of the base metal, provided that this together with the base material has a low-cut,

      namely below the melting point of the base material melting alloy results. Alloys can be applied with particular advantage, which on the one hand have a lower melting point than the pure metals and on the other hand are suitable as surface protection.

    The alloys can be sputtered directly as a cathode. be evaporated, or the individual components can be respectively atomized by separate electrodes simultaneously or in any order in the ratio of the desired alloy. be evaporated. The object is advantageously heated by glow current heating,

      but can also be done in other ways, e.g. B. by high frequency heating, resistance heating or radiant heating. The heating of the object in the gas discharge can be done by applying direct or alternating voltage or by superimposing direct and alternating voltages. The frequency of the alternating voltage can be any. Frequencies such as those generated by tube generators, that is to say high frequencies, can also be used.

   For this purpose, the object to be metallized is advantageously connected permanently or temporarily as a cathode to the anode of the discharge before and during the metallization. Control means such as resistors, chokes, etc. can be used to set the electrical load on the object according to the desired temperature.

   The heating of the object can take place continuously or temporarily, that is, the electrically supplied energy can thus be brought into effect continuously or in between pauses.

   The intermediate pauses can be large compared to the heating pauses, so that the degree of efficiency. Evaporation is as high as possible. The use of alternating current has proven to be the simplest type of temporary heating of the object. with one or more half waves .by rectifiers

  or valve tubes are suppressed. The interruption of 'direct current by means of relays allows the heating impulses to be set against the heating breaks in any ratio.

   It has proven to be advantageous if the ratio between <B> up </B> - heating and heating pause is chosen so large that the temperature of the object fluctuates between 'the highest' temperature and a far lower temperature.

   When the maximum temperature is reached, the alloying of the material that has been applied to the cooler object in the meantime takes place, so that alloying occurs periodically during the application, which prevents

   that the liquid alloy layer converges on the surface of the object. In most cases, a single brief setting of the temperature required for the alloy is sufficient in order to achieve an alloying of the material on which the pure metal can continue to be applied at a lower temperature.

   By cathodic connection of the object before the beginning of the application of the layer, extensive cleaning of the object to be coated can be guaranteed.

   Above all, ogyd residues that are still adhering to the surface are dusted off or removed. reduced by appropriate filling gases. If the layer is resp. thermal vaporization applied, this is advantageous in a reducing gases or gas mixture,

         such as hydrogen or a nitrogen-hydrogen mixture, whereby particularly pure and firmly adhering coatings are achieved.

      With the help of the working methods described, metal coatings can be applied to any type of metal body.

       @So, for example, objects made of iron, steel, copper or brass, and especially light metals such as aluminum and aluminum alloys or magnesium and magnesium alloys, advantageously with extremely resistant,

          chemical and technical stresses: cover waxed metal or metal alloy layers. As coating materials, for example, iron group metals such as iron, cobalt, nickel, manganese; the - copper group, such as copper "silver, gold;

   , the zinc group such as cadmium and zinc; the chromium group; the arsenic group such as anti-mop, bismuth, also aluminum, lithium, beryllium, magnesium or their alloys can be used.

      The invention also relates to a device for performing the method described, which is characterized by an evacuable cathode sputtering chamber BEZW. Metal vapor deposition chamber,,

  which is fed by a direct current or alternating current source and by an arrangement for heating the object by means of glow discharge using .Schaltmittel to switch the object, e.g. B.

    to switch into the gas discharge path before or during metallination, as well as by an equal or AC power source with adjustable resistance for setting the glow current heating current for the object.

   The cathode sputtering chamber respectively. Metal vapor deposition chamber can also be provided with a regular supply line for a reducing gas or gas mixture, as well as with controllable heating devices for the object.



  In the drawing, an embodiment example of the device is schematically Darge provides.



  In the drawing, which is a 'section through a system for coating metallic objects with l11etallen or alloys using cathode sputtering BEZW. thermal vapor deposition with a direct current source 12 or alternating current source 22 as a sputtering voltage source respectively. Vapor deposition voltage source represents, 1 is the cathode sputtering @ skainmer respectively. Vapor deposition chamber with the atomized,

       respectively the crucible-shaped cathode 2 containing the material to be atomized and the one to be atomized, respectively. metallic object to be metallized 3. The Ka.thodenzerstäubungs- respectively. Aufdamp- tungSka.mmer consists of a lower part 4 and a removable upper part 5.

   In the lower part 4, the Katbodenhalter 6 is arranged insulated and surrounded by a shield 7 at a small distance. In the upper part 5, the metal object holder 8 is arranged isolated and surrounded by a shield 9 at a small distance, which has a switch 10 and an 11 and a switch 27 with the positive pole of a glide:

  chspannungsquelle 12 or a source for rectified alternating current is connected. The negative pole of the Gleiehspannunbguquelle can on the one hand via switches 28 and 13 with. your cathode holder 6 and on the other hand via the switch 29 and 14 and a regulating resistor was 15 with the object holder 8 in ge desired order in connection ge.

   With the regulating resistor 15, the glow current heating current can be regulated and the object can be adjusted to any desired temperature, the climelzeri and possibly the application of the dusted or. vapor-deposited material causes a be made.

   The shield 9 of the object holder can also be connected to the chamber wall via the line 16 and switch 17 or, if necessary, to the shield 7 of the cathode holder via the line 18 and holder 19. The switch 30 is open when direct current is applied. When using a alternating current source, e.g.

   B. a transformer as atomizer or voltage source. Evaporation voltage source, switches 27, 28, 29 are opened and switches 14 and 3.0 are closed. In this case, the shielding 9 is connected via the switch 111 and a shut-off valve 20 for the negative change via a switch 21 with a pole of a high-voltage AC transformer 22.

   The transformer can with its other pole via a changeover switch 23 and a Re-ulie.rwideiutand 15 and a parallel-connected shut-off valve 2: 5 for the negative change with the object holder 8 and thus the object 3, or on the other hand with a line 26 in connection application are brought, which leads to the shield 9 of the object holder via the Sperrven valve 20 for the negative change.

    Through the switch 21, one pole of the transformer can also denhalter 6 with the cathode and thus with: the to atomize the BEZW. the tapered cathode 2 containing the material to be evaporated. The individual switches can be operated in any desired order. 31 is a line leading to a vacuum pump and 32 is a feed line for a reducing gas, such as hydrogen, or a reducing gas mixture, e.g.

   B. Gemiscli a hydrogen nitrogen, the flow of which is adjusted by the control valve 33.



  The procedure was, for example, as follows: A plate made of copper with the dimensions 120 × 120 × 0.75 mm was inserted into the object holder 8 and then a reducing crash, such as hydrogen. fed through line 32 via valve 33 in such an amount that a pressure of 0.7 mm H- is continuously maintained]) dear. First, the object was switched to a discharge voltage of <B> 1300 </B> volts as cathode and cleaned for 10 minutes.

   The plate was then loaded with 2.5 watts / cm 'discharge power, with a temperature of about 850 to <B> 900' </B> C, and when silver was then subjected to an atomization load of 3-3 Waatt / em 'atomized resp. steamed up.

   The syllable @ r that got onto the plate was alloyed with the copper to form an extraordinarily firmly adhering metal layer. The pressure in: the process was about 0.7 mm FI @ g; the atomizing voltage is 43.00 volts; the heating voltage 1700 volts;

   and the atomization or The filling gas was hydrogen. After the melt sputtering has ended, If necessary, the object falls into, the chamber still a night-time storage, even with a simultaneous pure metal sputtering resp. Metal: to be subjected to vapor deposition.

   When the treatment is complete, the object is cooled in vacuo and: then removed from the chamber.



  The heating: of the object for the purpose of melting the; applied material can be or after the sputtering. Damping can be done in a special oven.

 

Claims (1)

PATENTANSPRUCH I: Verfahren zur Erzeugung festhaftender Metallüberzüge auf metallischen Gegenstän- den,dadurch gekennzeichnet, dass dem IGe- genstandeine solche Temperatur erteilt wird, dass sich die Basis der aufgebrachten Me tallschicht mit dem Grundmaterial durch Diffusion oder verbindet. UNTERANSPRüCHE 1. PATENT CLAIM I: A method for producing firmly adhering metal coatings on metallic objects, characterized in that the object is given a temperature such that the base of the applied metal layer bonds to or diffuses into the base material. SUBCLAIMS 1. Verfahren nach Patentaaispruch I, :da- :durch gekennzeichnet, dass die genannte Temperatur dem Gegenstand vor der Aufbringung der Metallschicht erteilt wird. 2. Method according to claim 1,: characterized in that said temperature is given to the object before the metal layer is applied. 2. Verfahren nach Patentanspruch I, @da- durch gekennzeichnet, @dass die genannte Temperatur dem Gegenstand während .der Aufbringung der Metallschicht er teilt wird. B. Verfahren nach Patentanspruch I, da- .durch gekennzeichnet, dass die genannte Temperatur dem Gegenstand nach der Aufbringung :der Metallschicht erteilt wird. Method according to claim 1, characterized in that the said temperature is shared with the object during the application of the metal layer. B. The method according to claim I, characterized in that said temperature is applied to the object after the application of: the metal layer. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, d:ass die Aufbrin gung :des Metallüberzuges durch ther mische Verdampfung im Vakuum vorge- nommen_ wird. 5. Method according to patent claim I, characterized in that the application of the metal coating is carried out by thermal evaporation in a vacuum. 5. Verfahren nach Patentanspruch I, da- .durch gekennzeichnet, dass die Aufbrin- gung :des Metallüberzuges. durch KaIho- denzers:täubung im Vakuum vorgenom men wird. 6. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass .das Aufbrin gen des Überzuges bei einem Füllgas druck in der Apparatur von 10-b bis 3 mm erfolgt. 7. Method according to patent claim I, characterized in that the application of: the metal coating. by means of KaIhodenzer: deafness is carried out in a vacuum. 6. The method according to claim I, characterized in that .das the application of the coating takes place at a filling gas pressure in the apparatus of 10-b to 3 mm. 7th Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch <B>6,</B> dadurch gekennzeich net, :dass der Gegenstand durch eine Gars- entla@dung aufgeheizt wird. B. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch 6, dadurch gekennzeieh- net, dass dem Gegenstand eine solche Temperatur erteilt wird, .dass das aufge stäubte Material auf dem Gegenstand schmelzflüssig wird. 9. Method according to patent claim I and dependent claim 6, characterized in that: the object is heated by a cooking discharge. B. The method according to claim 1 and dependent claim 6, characterized in that the object is given a temperature such that the dusted material on the object becomes molten. 9. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteransprüchen 6 und 8, @dadurch ge- kennzeiehnet, dass :die Aufheizung des Gegenstandes durch Glimmstromer- hitzung vorgenommen wird. 10. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteransprüchen 6 und 8, :dadurch ge kennzeichnet, dass solche Metalle aufge bracht werden, -die sich mit dem Grund- metall legieren. 11. Method according to patent claim 1 and dependent claims 6 and 8, characterized in that: the object is heated by glow current heating. 10. The method according to claim I and subclaims 6 and 8, characterized in that such metals are brought up, -which alloy with the base metal. 11. Verfahren mach Patentanspruch I und Unteranspruch 6, dadurch gekennzeich net, :dass die Temperatur des 'Gegenstan- des mindestens so hoch gewählt wird, :d@ass sie der Temperatur des Eutekti- kums aus aufgebrachtem Metall und dem Grundmaterial entspricht. 12. Method according to claim 1 and dependent claim 6, characterized in that: the temperature of the object is selected to be at least as high as: that it corresponds to the temperature of the eutectic made of applied metal and the base material. 12. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch 6, dadurch gekennzeich net, -dass Legierungen aufgebracht wer den. 18. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch 6, dadurch gekennzeich net, dass der zu metallisierende Gegen stand vor der Metallisierung minde stens zeitweise als Kathode geschaltet wird. 14. Method according to claim 1 and dependent claim 6, characterized in that alloys are applied. 18. The method according to claim I and dependent claim 6, characterized in that the object to be metallized was at least temporarily connected as a cathode before the metallization. 14th Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch 6, dadurch gekennzeich net, dass der zu metallisierende Gegen stand während der Metallisierung min destens zeitweise als Kathode ,geschaltet wird. 15. Verfahren nach Patentanspruch I, bei dem der Gegenstand durch Glimmstrom erhitzung soweit erhitzt wird, dass das aufgebrachte Metall schmelzflüssig wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Auf bringen des Metallüberzuges in einer re duzierenden Gasatmosphäre bei Unter druck vorgenommen wird. 16. Method according to claim 1 and dependent claim 6, characterized in that the object to be metallized is at least temporarily connected as a cathode during the metallization. 15. The method according to claim I, in which the object is heated by glow current heating to such an extent that the applied metal becomes molten, characterized in that the metal coating is applied in a reducing gas atmosphere under negative pressure. 16. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch 15, dadurch gekennzeich net, dass das Aufbringen des Metallüber zuges in einer Wa;s@serstoffatmosphäre erfolgt. 17. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch 15, dadurch gekennzeich net, dass das Aufbringen des Metallüber zuges in einer Wasserstoff-Stickstoff- atmosphäre erfolgt. 18. Method according to claim 1 and dependent claim 15, characterized in that the metal coating is applied in a hydrogen atmosphere. 17. The method according to claim I and dependent claim 15, characterized in that the application of the metal over train takes place in a hydrogen-nitrogen atmosphere. 18th Verfahren nach Patentanspruch I und den Unteransprüchen 6 und 8, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Auf schmelzen des ersten Metallüberzuges ein Aufbringen von reinem Metall bei nie drigerer Temperatur vorgenommen wird. 19. Verfahren nach Patentanspruch I und den Unteransprüchen 6, 8 und 18, da durch gekennzeichnet, dass der metalli sierte Gegenstand einer Nachtemperung in einer Kathodenzerstäubungs- bezw. Aufdampfungakammer unterworfen wird. 20. A method according to claim 1 and the dependent claims 6 and 8, characterized in that after the first metal coating has melted, pure metal is applied at a lower temperature. 19. The method according to claim I and the subclaims 6, 8 and 18, characterized in that the metallized object is post-tempered in a cathode sputtering BEZW. Is subjected to vapor deposition chamber. 20th Verfahren nach Patentanspruch I und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeich net, dass die Aufheizung des Gegenstan- des in einem andern Raum erfolgt als das Aufbringen des Metallüberzuges. PATENTANSPRUCH II: Method according to claim 1 and dependent claim 3, characterized in that the object is heated in a different space than the application of the metal coating. PATENT CLAIM II: Vorrichtung zur Durchführung des Ver fahrens nach Patentanspruch I, gekennzeich net durch eine evakuierbare Kathodenzer- stäubungs- bezw. Au.fdampfungskammer, die von einer Gleichstrom- oder Wechselstrom- quelle gespeist wird und durch eine Anord nung zum Aufheizen des Gegenstandes mit tels Glimmentladung unter Verwendung von Schaltmitteln, Device for carrying out the method according to claim I, marked by an evacuable cathode sputtering respectively. A vapor deposition chamber that is fed by a direct current or alternating current source and is provided with an arrangement for heating the object by means of glow discharge using switching means, um den Gegenstand minde stens zeitweise als Kathode in die Gasent- ladungsstrecke zu schalten, sowie durch eine Gleichstrom- bezw. Wechselstromquelle mit regelbarem Widerstand zum Einstellen des Crllmmstrom-Heizstromes für den Gegen stand. to switch the object at least temporarily as a cathode in the gas discharge path, as well as by a direct current or. AC power source with adjustable resistance for setting the Crllmmstrom-Heizstromes for the object. UNTERANSPRUCH: 1. Vorrichtung nach Patentanspruch II, gekennzeichnet durch eine evakuierba.re Kathodenrxrstäubungs- bezw. Aufdamp- fungskammer mit regelbarer Zuleitung für reduzierendes Gas, sowie mit regel baren Erhitzungsvorriclitungen für den Gegenstand. SUBClaim: 1. Device according to claim II, characterized by an evakuierba.re Kathodenrxrxrstäubungs- respectively. Vapor deposition chamber with adjustable supply line for reducing gas, as well as adjustable heating devices for the object.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1211890B (en) * 1960-09-30 1966-03-03 Siemens Ag Process for the production of magnetic layers by vapor deposition of metals or alloys in a high vacuum
DE1225016B (en) * 1963-03-04 1966-09-15 Wmf Wuerttemberg Metallwaren Process for the production of a corrosion-resistant, porous material consisting of metal fibers by vacuum vapor deposition
EP0002996A1 (en) * 1977-12-19 1979-07-11 International Business Machines Corporation Solid-state means carrier, its manufacture and its use in a fluid cooling system of such means

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2874077A (en) * 1957-10-23 1959-02-17 Rauland Corp Thermionic cathodes
GB1336559A (en) * 1970-05-20 1973-11-07 Triplex Safety Glass Co Metal oxide coatings
US4094763A (en) * 1970-07-31 1978-06-13 Ppg Industries, Inc. Sputter coating of glass with an oxide of a metal having an atomic number between 48 and 51 and mixtures thereof
DE3637447A1 (en) * 1985-11-05 1987-05-07 Nippon Telegraph & Telephone SURFACE TREATED MAGNESIUM OR MAGNESIUM ALLOY AND METHOD FOR SURFACE TREATING MAGNESIUM OR MAGNESIUM ALLOY

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1211890B (en) * 1960-09-30 1966-03-03 Siemens Ag Process for the production of magnetic layers by vapor deposition of metals or alloys in a high vacuum
DE1225016B (en) * 1963-03-04 1966-09-15 Wmf Wuerttemberg Metallwaren Process for the production of a corrosion-resistant, porous material consisting of metal fibers by vacuum vapor deposition
EP0002996A1 (en) * 1977-12-19 1979-07-11 International Business Machines Corporation Solid-state means carrier, its manufacture and its use in a fluid cooling system of such means

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