CA2763869A1 - Systemes et procedes d'application de plasma - Google Patents
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Abstract
L'invention concerne un système à plasma qui comprend un dispositif à plasma, une source de milieu ionisable et une source d'alimentation. Le dispositif à plasma comprend une électrode intérieure et une électrode extérieure, placée coaxialement autour de l'électrode intérieure. L'électrode intérieure comprend une partie distale et une couche isolante qui couvre au moins une partie de l'électrode intérieure. La source de milieu ionisable, couplée au dispositif à plasma, est conçue pour fournir à celui-ci le milieu ionisable. La source d'alimentation, couplée aux électrodes intérieure et extérieure, est conçue pour enflammer le milieu ionisable dans le dispositif à plasma pour former un effluent de plasma comportant une couche de gaine d'électrons autour de la partie distale exposée.
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