BRPI0707830A2 - composiÇÕes retardantes de chama de sulfonato aromÁtico - Google Patents

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BRPI0707830A2
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Christine Breiner
Thoams Ehlis
Robert Hochberg
Simon Kniesel
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Abstract

COMPOSIÇÕES RETARDANTES DE CHAMA DE SULFONATO AROMÁTICO A presente invenção refere-se à composições retardantes de chama, em que os sais de ácidos sulfônicos aromáticos selecionados estão presentes em um substrato de policarbonato. As composições atingem a avaliação desejável de V-O, de acordo com o UL-94 (Underwriter's Laboratories Subject 94) e outras excelentes avaliações em métodos de testagem relacionados, preservando as excelentes propriedades mecânicas, químicas e térmicas dos policarbonatos, tais como a clara transparência.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "COMPOSI-ÇÕES RETARDANTES DE CHAMA DE SULFONATO AROMÁTICO".
A presente invenção refere-se a composições retardantes dechama compreendendo sais de ácidos sulfônicos aromáticos e policarbona-tos selecionados e a um processo para fornecer o retardamento de chama aum substrato polimérico compreendendo os policarbonatos e sais de ácidossulfônicos aromáticos selecionados.
Os policarbonatos são polímeros termoplásticos de alta dureza,transparência realçada, compatibilidade excelente com vários polímeros, ealta resistência à distorção causada pelo calor. Os policarbonatos corres-pondem à fórmula geral:
<formula>formula see original document page 2</formula>
O policarbonato economicamente mais importante é o policarbo-nato de 2,2-bis(4-hidroxifenil)propano (1), também denominado policarbona-to de bisfenol A [24936-68-3] (BPA-PC):
<formula>formula see original document page 2</formula>
cf. Ullmann Enciclopédia of Industrial Chemistry, Edição Online, WiIey-VCH,DOI: 10.1002/14356007.a21_207, e a entrada Polycarbonate, Roempp Onli-ne, www.roempp. com.
São conhecidos vários aditivos para melhorar as propriedadesmecânicas, químicas e térmicas dos policarbonatos. Os policarbonatos ter-minados em fluorcarbono são úteis para várias aplicações técnicas, tais co-mo redutores de energia superficial, "modificadores de superfície", para ma-teriais orgânicos, preferivelmente policarbonatos, poliésteres, poliacrilatos oupolimetacrilatos ou suas misturas, combinações ou ligas. Os polímeros comuma energia superficial assim reduzida possuem propriedades desejáveis,tais como superfícies de "fácil limpeza", com "autolimpeza", com "anti-sujeira", com "liberação de sujeira", "antienxertia", "resistentes a óleos","resistentes a solventes", com "resistência química", "autolubrificantes","resistentes a arranhões", com "baixa absorção de umidade" e "hidrofóbi-cas". A preparação dos policarbonatos com terminação em fluorcarbono par-ticularmente úteis é descrita no Pedido Internacional de Patente N-PCT/EP2004/053331.
Os retardantes de chamas são acrescentados a materiais poli-méricos (sintéticos ou naturais) para melhorar as propriedades de retarda-mento de chama do polímero. Dependendo da sua composição, os retardan-tes de chamas podem atuar na fase sólida, líquida ou gasosa, quer sejaquimicamente, por exemplo, como um espumante pela liberação do nitrogê-nio, e/ou fisicamente, por exemplo, produzindo uma cobertura de espuma.Os retardantes de chamas interferem durante uma determinada etapa doprocesso de combustão, por exemplo, durante o aquecimento, ou durante adecomposição, ou durante a ignição ou a extensão da chama.
É conhecida a adição dos retardantes de chamas a policarbona-tos, cf. J. Troitzsch, Plastics Flammability Handbook, 3a edição, Hanser Pu-blishers, Munique 2004, páginas 158-172 (ISBN 3-446-21308-2).
Os retardantes de chama à base de sais de metais alcalinos, al-calino-terrosos ou de amônio são particularmente convenientes em baixasconcentrações. Entre estes sais, os sulfonatos de pefluoroalcano pertencemaos mais eficientes. Os seus usos como retardantes de chama em policar-bonatos é conhecido; cf. T. Ishikawa et ai, Journal of Macromolecular Scien-ce, PartA-Pure and Applied Chemistry, Voi A41, Ng 5, pp. 523-535, 2004.
Em aplicações onde uma espessura de amostra é menor ou i-gual a 1,6 mm é necessária, um retardamento de chama de V-O, de acordocom a UL-94 (Underwriter1S Laboratories Subject 94), é obtido pela adiçãode um denominado agente de antigotejamento, tal como o politetrafluoretile-no. Foram propostos outros co-aditivos dos retardantes de chamas tais co-mo os haloarilfosfatos, cf. Especificação de Patente US Ns 5.478.874 ou saisde guanidina; cf. Especificação de Patente US Ng 6.518.340. A adição depolissiloxanos de diferentes estruturas foi proposta em várias referências; cf.Especificação de Patente US Ng 6.660.787, US 6.727.302 ou US 6.730.720.Um problema destes aditivos é encontrado no fato de que a concentração doretardante de chama deve ser aumentada para chegar à classificação V-0, oque é prejudicial para as propriedades mecânicas, químicas e térmicas dospolicarbonatos.
Conseqüentemente, a presente invenção refere-se a encontro deaditivos adequados, que são aplicáveis em baixas concentrações como re-tardantes de chama em policarbonatos. Encontrou-se surpreendentementeque os sais de ácidos sulfônicos aromáticos selecionados são aditivos parti-cularmente convenientes mesmo em baixas concentrações. Do mesmo mo-do que os retardantes de chamas da primeira escolha, tal como os retardan-tes de chama à base de sais de metais alcalinos, alcalino-terrosos ou deamônio, os sais de ácidos sulfônicos aromáticos selecionados estão presen-tes em pequenas quantidades nos policarbonatos e, devido aos baixos ní-veis de dosagem, não possuem nenhum efeito negativo significante sobre amecânica e outras propriedades do polímero.
A presente invenção refere-se a uma composição, particular-mente uma composição retardante de chamas, compreendendo:
a) pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecio-nado do grupo consistindo em:
a1) sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico da fórmula:
<formula>formula see original document page 4</formula>
em que:
R1 e R2 independentemente um do outro representam -NH2,-NH-alquil(C1-C4), -N(alquil(C1-C4))2, -NH-hidróxi-alquil(C2-C4), -N(hidróxi-.alquil(C2-C4))2, -N(alquil(C1-C4))(hidróxi-alquil(C2-C4)), fenilamina, difenilami-na, fenilamina substituída ou difenilamina substituída por 1 a 3 substituintesselecionados do grupo consistindo em -S(=0)2-0" M+, alquil(C1-C4) e alcó-Xi(CrC4)1 de uma N-heterocíclica saturada de 5 a 6 membros;
FV e Ffe' são definidos tal como Ri e R2; e
M+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma amina;
a2) Sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico dafórmula:
em que:
R1 representa o hidrogênio, alquil(Ci-C4) ou o grupo -S(=0)2-0" M+;
R2 representa o hidrogênio ou hidróxi;
R3 representa o hidrogênio, alquil(CrC4), alcóxi(CrC4) ou benzila; e
M+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma amina;
a3) Derivados substituídos do sulfofenil bisestilbeno da fórmula:
<formula>formula see original document page 5</formula>
em que:
R1 e R2 independentementes um do outro representam o hidro-gênio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0" M+,alquil(CrC4), fenil-alquil(Ci -C4), hidróxi e alcóxi(CrC4);
R11, R2, e R3' independentemente um do outro representam o hi-drogênio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0"M+, alquil(Ci-C4), fenil-alquil(Ci-C4), hidróxi e alcóxi(Ci-C4); e
M+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma amina; e
a4) Derivados substituídos do sulfo 2,5-bis-(benzoxazolil)-tiofenoda fórmula:<formula>formula see original document page 6</formula>
em que:
Ri e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0" M+,alquil(Ci-C4), fenil-alquil(Ci-C4), hidróxi e alcóxi(CrC4);
Ri', R2' e R3' independentemente um do outro representam o hi-drogênio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0'M+, alquil(CrC4), fenil-alquil(Ci-C4), hidróxi e alcóxi(CrC4); e
M+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma amina;
a5) Derivados de fenol substituído por sulfo da fórmula:
<formula>formula see original document page 6</formula>
em que:
Ri e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em alquil(C1-C4),CiCloalquil(C5-C6), cicloalquil(C5-C6)-alquil(C1-C4), arila e aril-alquil(C1-C4);
R3 representa o hidrogênio ou alquil(CrC4);
X representa alquileno(C2-C6);
Ar representa fenila, fenila substituída por 1 ou 2 substituintesselecionados do grupo consistindo em alquil(CrC4), CiCloalquil(C5-C6), ciclo-alquil(C5-C6)-alquil(C1-C4), arila e aril-alquil(C1-C4), naftila ou naftila substituí-da por 1 a 4 alquil(C1-C4); e
b) M+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cá-tion formado de uma amina; e um substrato polimérico compreendendo opolicarbonato ou misturas de policarbonato.
Uma modalidade preferida de acordo com a presente invençãorefere-se a uma composição, particularmente uma composição retardante dechama, compreendendo:
a) Pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecio-nado do grupo consistindo em:
a1) Sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico (I), em que:
R1 e R2 independentemente um do outro representam -NH2,-N(alquil(C1-C4))2, fenilamina substituída por 1 a 3 substituintes selecionadosdo grupo consistindo em -S(=0)2-0" M+, alquil(C1-C4) e alcóxi(C1-C4), umheterocíclico de 5 a 6 membros com heteroátomo de N;
R-T e R21 são definidos tal como R1 e R2; e
M+representa um átomo de metal alcalino;
a2) Sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico(ll),em que
R1 representa o hidrogênio;
R2 representa o hidrogênio;
R3 representa o hidrogênio ou alquil(C1-C4); e
M+ representa um átomo de metal alcalino;
a3) Derivados de bisestilbeno substituído por sulfofenila (III), emque
R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(Ci-C4);
Um dos R1', R2' e R3' representa S(=0)2-0" M+ e os outros repre-sentam o hidrogênio ou alquil(CrC4); e
M+ representa um átomo de metal alcalino;
a4) Derivados de 2,5-bis-(benzoxazolil)-tiofeno substituído porsulfo (IV), em que:
R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(C1-C4);
R1', R2' e R3' independentemente um do outro representam o hi-drogênio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0" M+e alquil(C1-C4); e
M+ representa um átomo de metal alcalino; e
a5) Derivados de fenol substituído por sulfo (V), em queR1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(CrC4);
R3 representa o hidrogênio ou alquil(CrC4);X representa alquileno(C2-C6);
Ar representa fenila ou fenila substituída por 1 ou 2 alquil(Ci-C4);
e
M+ representa um átomo de metal alcalino; eb) Um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarbonato.
Uma modalidade particularmente preferida refere-se a umacomposição, particularmente uma composição retardante de chamas, com-preendendo:
a) Pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecio-nado do grupo consistindo em:
ai) Sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico (I), em que:
R1 e R2 independentemente um do outro representam -N (al-quil(Ci-C4))2, fenilamina substituída por 1 ou 2 S(=0)2-0" M+, ou morfolinila;
R-T e R2' são definidos tal como Ri e R2; e
M+ representa um átomo de metal alcalino;
a2) Sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico(ll),em que:
R1 representa o hidrogênio ou alquil(C-i-C4);R2 representa o hidrogênio ou hidróxi;R3 representa o hidrogênio ou alquil(CrC4); e
M+ representa um átomo de metal alcalino; e
a3) Derivados substituídos do sulfofenil bisestilbeno (III), em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(Ci-C4);
Um dos Ri11 R21 e R31 representam S(=0)2-0" M+ e os outros re-presentam o hidrogênio ou alquil(CrC4); e
M+ representa um átomo de metal alcalino; e
a5) Derivados de fenol substituído por sulfo (V), em que:Um dos R1 e R2 representa metila e outro representa terc-butilaou ambos os Ri e R2 representam terc-butila;
R3 representa o hidrogênio ou metila;X representa alquileno(C2-C4);
Ar representa fenila substituída por 1 metila e 1 terc-butila ou por2 terc-butila; e
M+ representa um átomo de metal alcalino; eb) Um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarbonato.
Uma modalidade altamente preferida refere-se a uma composi-ção, particularmente uma composição retardante de chama, compreendendo:
a) Pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecio-nado do grupo consistindo em:
a) Sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico (I), em que:
Um dos R1 e R2 representa -N(alquil(CrC4))2 e outro representafenilamina substituída por 2S(=0)2-0" M+;
R11 e R2' são definidos tal como Ri e R2; eM+ representa um átomo de metal alcalino;
a2) Sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico(ll),
em que:
Ri e R2 representam o hidrogênio; eR3 representa o hidrogênio ou alquil(CrC4); eM+ representa um átomo de metal alcalino; e
a3) Derivados de bisestilbeno substituído por sulfofenila (III), emque:
R1 e R2 representam o hidrogênio;
Um dos R11, R2' e R3' representam S(=0)2-0" M+ e os outros re-presentam o hidrogênio; e
M+ representa um átomo de metal alcalino;
as) Derivados de fenol substituído por sulfo (V), em que:
R1 e R2 representam terc-butila;R3 representa o hidrogênio;
X representa o etileno;
Ar representa fenila substituída por 2 terc-butila; e
M+ representa um átomo de metal alcalino; e
b) Um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarbonato.
A modalidade mais preferida refere-se a uma composição, parti-cularmente uma composição retardante de chama, compreendendo:
a) Pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecio-nado do grupo consistindo em:
a1) Um sal do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico da fór-mula:
a2) Um sal do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônicoda fórmula:
<formula>formula see original document page 10</formula>
a3) Um derivado de bisestilbeno substituído por sulfofenila, dafórmula:
<formula>formula see original document page 10</formula>a5) Um derivado de fenol substituído por sulfo da fórmula:
<formula>formula see original document page 11</formula>
e um sal do mesmo;
e
b) Um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarbonato.
As composições de acordo com a presente invenção alcançam aavaliação de V-O desejável, de acordo com o UL-94 (Underwriter1S Laborato-ries Subject 94) e outras avaliações excelentes em métodos de testagemrelacionados preservando as excelentes propriedades mecânicas, químicase térmicas dos policarbonatos, tais como a clara transparência.
A composição, tal como definida acima, compreende os seguin-tes componentes:
Componente a)
O termo sal de um ácido sulfônico aromático compreende dentrodo seu alcance preferivelmente os sais metálicos, por exemplo, um sal demetal alcalino ou sal de metal alcalino-terroso, por exemplo, o sal de sódio,potássio, cálcio.
De acordo com uma modalidade alternativa, o termo sais com-preendendo sais não metálicos, por exemplo, o amônio, (alquil(Ci-C22))i-4amônio ou (2-hidroxietil)1.4amônio, por exemplo, tetrametil amônio, tetaetilamônio ou o sal 2-hidroxietil trimetil amônio.
Por isso, a definição do cátion M+ na fórmula acima compreendedentro do seu alcance um átomo de metal alcalino, por exemplo, o íon sódioou íon potássio, o íon amônio ou um cátion formado de uma amina, por e-xemplo, (alquil(Ci-C22))i-4amônio ou (2-hidroxietil)i_4amônio, por exemplo, otetrametil amônio, tetraetil amônio ou os íons 2-hidroxietil trimetilamônio.
Em um sal do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico (I), o al-quil(Ci-C4) presente em R1 e R2 e, de modo correspondente em R1' e R2', émetila, etila, n-propila, isopropila, n-butila, isobutila ou terc-butila.
O hidróxi-alquil(C2-C4) é preferivelmente 2-hidroxietila.
A fenilamina ou difenilamina substituída por 1 a 3 substituintesselecionados dó grupo composto de -S(=0)2-0" M+, alquil(Ci-C4) e alcóxi(CrC4) é, por exemplo, fenilamina ou difenilamina, em que o fenila é substituídopor um ou dois grupos -S(=0)2-0"Na+ ou por um ou dois metila ou gruposmetóxi.
O alcóxi(C-i-C4·) é metóxi, etóxi, n-propóxi, isopropóxi, n-butóxi,isobutóxi ou terc-butóxi.
O heterocíclico saturado de 5 ou 6 membros com heteroátomode N é, por exemplo, pirrolidinila, piperidinila ou, preferivelmente, morfolinila.
O Tinopal® SFP (Ciba Specialty Chemicals) é particularmentepreferido: Sódio 4,4,-bis(2-amino-4-monoetanolamina-6-S-triazinil)-diamino-estilbeno-2,2'-dissulfonato:
<formula>formula see original document page 12</formula>
Os Sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico (I) sãocompostos conhecidos. A sua aplicação técnica como agentes fluorescentesde branqueamento e a sua preparação são descritas na WO 2005/068597.
Em um sal do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfôni-co (II) as definições do M+, alquil(Ci-C4) e de alcóxi(Ci-C4) presentes em R1,R2 e R3 correspondem às definições em compostos (I).
Particularmente preferido é o Tinogard® HS (Ciba SpecialtyChemicals): 3-(2H-benzotriazol-2-il)-4-hidróxi-5-(1 -metilpropil) benzenossul-fonato de sódio:<formula>formula see original document page 13</formula>
Os sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico (II)são compostos conhecidos. A sua aplicação técnica como agentes fluores-centes de branqueamento e a preparação destes compostos é descrita naWO 84/02365.
Em um derivado de sulfofenil substituído por bisestilbeno (III) asdefinições do M+, alquil(C1-C4) e alcóxi(C1-C4) presentes em R1 e R2 e emR1', R2' e R3' correspondem às definições dos compostos (I).
O fenil-alquil(C1-C4) é, por exemplo, benzila ou 1-fenetila ou 2-fenetila.
Particularmente preferido é o TINOPAL CBS: 2,2,-(4,4,-bifenildiil-di-2,1-etenodiil)-dibenzenossulfonato dissódico:
<formula>formula see original document page 13</formula>
Os derivados de sulfofenil substituído por bisestilbeno são com-postos conhecidos. A sua aplicação técnica como branqueadores óticos e asua preparação são descritas na Especificação de Patente US Ng 3.984.399.
Em um derivado de fenol substituído por sulfo (V) R1 e R2 inde-pendentemente um do outro representam o hidrogênio ou um substituinteselecionado do grupo consistindo em alquil(C1-C4), cicloalquil(C5-C6), ciclo-alquil(C5-C6)-alquil(C1-C4), arila e aril-alquil(C1-C4).
O alquil(C1-C4) é metila, etila, ou n-isopropila ou n-, iso ou terc-butila.
O cicloalquil(C5-C6) é ciclopentila ou cicloexila.
O Cicloalquil(C5-C6)alquil(C1-C4) é por exemplo, ciclopentil metilaou cicloexil metila.
O arila é preferivelmente fenila.
O aril-alquil(C1-C4) é preferivelmente benzila ou 2-fenil etila.R3 é preferivelmente o hidrogênio ou metila.
X é definido como alquileno(C2-C6) e tem uma cadeia preferivel-mente reta, por exemplo, etileno, n-propileno ou n-butileno.
Ar é definido como fenila substituída por 1 ou 2 substituintes se-lecionados do grupo consistindo em alquil(Ci-C4), cicloalquil(C5-C6), cicloal-quil(C5-C6)-alquil(Ci-C4), é por exemplo, fenila substituída por 1 metila e 1terc-butila ou fenila substituída por 2 terc-butila, fenila substituída por ciclo-pentila ou cicloexila, fenila substituída por benzila, ou fenila substituída porciclopentil metila ou cicloexil metila.
Naftila substituída por 1 a 4 alquil(CrC4) é por exemplo, naftilasubstituída por 1 a 4 metila, naftila substituída por 1 metila ou 1-terc-butila ounaftila substituída por 2 terc-butila.
Os derivados de fenol substituído por sulfo (V) são compostosconhecidos e podem ser preparados por métodos conhecidos, tais comoaqueles descritos na Especificação de Patente US N33.665.031.
De acordo com uma modalidade preferida um derivado de fenolsubstituído por sulfo (V) é representado pela seguinte fórmula estrutural:
<formula>formula see original document page 14</formula>
em que um dos Ri e R2 representa metila e outro representa terc-butila ouambos os Ri e R2 representam terc-butila e M+ representa um íon de metalalcalino.
De acordo com uma modalidade particularmente preferida umderivado de fenol substituído por sulfo (V) é representado pela seguinte fór-mula estrutural:
<formula>formula see original document page 14</formula>
que está comercialmente disponível pela Ciba Specialty Chemicals HoldingInc (Tinogard® AO 6).
Componente b)
O substrato polimérico compreendendo o policarbonato ou mis-turas de policarbonatos pode ser de qualquer grau e preparado por qualquermétodo conhecido. O termo substrato polimérico compreende dentro do seualcance quaisquer homopolímeros do policarbonato ou copolímeros dosmesmos, tal como os copolímeros com o poliéster.
Os policarbonatos são polímeros termoplásticos que correspon-dem à fórmula geral:
<formula>formula see original document page 15</formula>
Os policarbonatos são obteníveis por processos interfaciais oupor processos fundidos (transesterificação catalítica). O policarbonato podeter a estrutura ramificada ou linear e pode incluir quaisquer substituintes fun-cionais. Os copolímeros do policarbonato e as misturas de policarbonatoestão também dentro dos limites de acordo com a presente invenção. O ter-mo policarbonato deve ser interpretado como inclusivo de copolímeros emisturas com outras substâncias termoplásticas. Os métodos para produçãodos policarbonatos são conhecidos, por exemplo, da Especificação das Pa-tentes US NeS 3.030.331; 3.169.121; 4.130.458; 4.263.201; 4.286.083;4.552.704; 5.210.268; e 5.606.007. Uma combinação de dois ou mais poli-carbonatos de pesos moleculares diferentes pode estar usada.
São preferidos os policarbonatos obteníveis pela reação de umdifenol, tais como bisfenol A, com uma fonte de carbonato. Os exemplos dedifenols conveniente são:
Bisfenol A:
<formula>formula see original document page 15</formula><formula>formula see original document page 16</formula>
4,4,-(2-norbomilideno)-bis(2,6-diclorofenol);
ou fluoreno-9-bisfenol: Η0 0Η .
A fonte de carbonato pode ser um haleto de carbonila, um ésterde carbonato ou um haloformato. Os haletos de carbonato adequados sãofosgênio ou o brometo de carbonila. Os ésteres de carbonato adequadossão os dialquilcarbonatos, tal como dimetila ou dietilcarbonato, carbonato dedifenila, fenil-alquilfenilcarbonato, tal como fenil-tolilcarbonato, dialquilcarbo-natos, tal como dimetila ou dietilcarbonato, di(halofenil)carbonatos, tais comodi(clorofenil)carbonato, di(bromofenil)carbonato, di(triclorofenil)carbonato oudi(triclorofenil)carbonato, di(alquilfenil)carbonatos, tais como di-tolilcarbona-to, naftilcarbonato, di(cloronaftil)carbonato e outros.
Outros detalhes de processo, tais como a adição de reguladoresde peso molecular, receptores ácidos, e catalisadores são descritos nas re-ferências acima mencionadas.
De acordo com uma modalidade adicional, o substrato poliméri-co compreendendo policarbonatos ou as misturas de policarbonatos é umcopolímero de policarbonato, em que estão presentes os segmentos de isof-talato/tereftalato-resorcinol. Tais policarbonatos estão comercialmente dis-poníveis, por exemplo, Lexan®SLX (General Electrics Co. EUA). Outrosubstrato polimérico do componente b) pode adicionalmente conter na formade misturas adicionadas ou como copolímeros uma ampla variedade de po-límeros sintéticos incluindo poliolefinas, poliestirenos, poliésteres, poliéteres,poliamidas, poli(meta)acrilatos, poliuretanos termoplásticos, polissulfanos,poliacetais e PVC, incluindo agentes de compatibilização convenientes. Porexemplo, o substrato polimérico pode conter adicionalmente os polímerostermoplásticos selecionados do grupo de resinas consistindo em poliolefinas,poliuretanos termoplásticos, polímeros do estireno e copolímeros dos mes-mos. As modalidades específicas incluem o polipropileno (PP, polietileno(PE), poliamida (PA), polibutileno tereftalato (PBT), polietileno tereftalato(PET), tereftalato de policicloexilenemetileno modificado pelo glicol (PCTG),polissulfona (PSU), poli (metacrilato de metila) (PMMA), poliuretano termo-plástico (TPU), acrilonitrila-butadieno-estireno (ABS), éster acrilonitrila-estireno-acrílico (ASA), acrilonitrila-etileno-propileno-estireno (AES), estire-no-anidrido maléico (SMA) ou poliestireno de alto impacto (HIPS).
Uma lista de polímeros sintéticos adequados é dada abaixo:1. Os polímeros de monoolefinas e diolefinas, por exemplo, poli-propileno, poliisobutileno, polibuteno-1, poli-4-metilpenteno-1, polivinilcicloe-xano, poliisopreno ou polibutadieno, bem como polímeros de cicloolefinas,por exemplo, de ciclopenteno ou norborneno, polietileno (que opcionalmentepode ser reticulado), por exemplo, o polietileno de alta densidade (HDPE), eo polietileno de alta densidade e alto peso molecular (HDPE-HMW), polieti-leno de alta densidade e de ultra elevado peso molecuilar (HDPE-UHMW), opolietileno de média densidade (MDPE)1 o polietileno de baixa densidade(LDPE), o polietileno linear de baixa densidade (LLDPE), (VLDPE) e(ULDPE).
Pofiolefinas, isto é, polímeros de monoolefinas exemplificadosnos parágrafos precedentes, preferivelmente o polietileno e o polipropileno,podem ser preparados por diferentes e especialmente pelos seguintes mé-todos:
a) Polimerização radical (normalmente sob alta pressão e emtemperatura elevada).
b) Polimerização catalítica usando um catalisador que normal-mente contém um ou mais do que um dos metais dos grupos IVb, Vb, Vlb ouVlll da Tabela Periódica. Estes metais normalmente possuem um ou mais doque um ligante, tipicamente óxidos, haletos, alcoolatos, ésteres, éteres, ami-nes, alquilas, alquenilas e/ou arilas que podem ser π- ou σ-coordenadas.Estes complexos metálicos podem estar na forma livre ou de substratosconcentrados, tipicamente como cloreto de magnésio ativado, cloreto de ti-tânio (III) ativado, alumina ou oxido de silício. Estes catalisadores podem sersolúveis ou insolúveis no meio de polimerização. Os catalisadores podemser usados por eles durante a polimerização ou também os ativadores po-dem ser usados, tipicamente alquilas metálicas, hidretos metálicos, haletosde alquilas metálicas, óxidos de alquilas metálicas ou alquiloxanos metáli-cos, os ditos metais sendo os elementos dos grupos Ia, Ila e/ou Illa da Tabe-la Periódica. Os ativadores podem ser adequadamente modificados comésteres, éteres, e aminas ou grupos de silil éter. Estes sistemas de catalisa-dor são normalmente denominados Phillips, Standard Oil Indiana, Ziegler-Natta, TNZ (DuPont), metaloceno ou catalisadores de sítio único (SSC).
2. Misturas do polímero mencionados no item 1), por exemplo,misturas de polipropileno com poliisobutileno, polipropileno com polietileno(por exemplo, PP/HDPE, PP/LDPE) e misturas de tipos diferentes de polieti-leno (por exemplo, LDPE/HDPE).
3. Copolímeros de monoolefinas e diolefinas um com outro oucom outros monômeros de vinila, por exemplo, copolímeros de etileno/ propi-leno, polietileno linear de baixa densidade (LLDPE) e misturas do mesmocom o polietileno de baixa densidade (LDPE), copolímeros de propileno/ bu-teno-1, copolímeros de propileno/isobutileno, copolímeros de etileno/buteno-1, copolímeros de etileno/hexeno, copolímeros de etileno/metilpenteno, co-polímeros de etileno/hepteno, copolímeros de etileno/octeno, copolímeros deetileno/vinilcicloexano, copolímeros de etileno/cicloolefina (por exemplo, eti-leno/norborneno, como o COC), copolímeros de etileno/1-olefinas, onde a 1-olefina é gerada in situ; copolímeros de propileno/butadieno, copolímeros deisobutileno/isopreno, copolímeros de etileno/vinilcicloexeno, copolímeros deetileno/acrilato de alquila, copolímeros de etileno/metacrilato de alquila, co-polímeros de acetato de etileno/vinila ou copolímeros de etileno/ácido acríli-co e os seus sais (ionômeros) bem como terpolímeros de etileno com propi-leno e um dieno, tais como hexadieno, diciclopentadieno ou etilideno-norbor-neno; e misturas de tais copolímeros um com o outro e com polímeros men-cionados em (1) acima, por exemplo, polipropileno/copolímeros de etileno-propileno, copolímeros de LDPE/etileno-acetato de vinila (EVA), copolímerosde LDPE/etileno-ácido acrílico (EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA e copolíme-ros alternados ou aleatórios de polialquileno/monóxido de carbono e mistu-ras dos mesmos com outro polímero, por exemplo, as poliamidas.
4. Resinas de hidrocarboneto (por exemplo, C5-C9) incluindomodificações hidrogenadas das mesmas (por exemplo, ligantes) e misturasde polialquilenos e amido;
Os homopolímeros e copolímeros acima mencionados podem teruma estrutura estérea incluindo sindiotática, isotática, hemiisotática e atática;onde o polímero atático é o preferido. Os polímeros em bloco estéreos tam-bém estão incluídos.
5. Poliestireno, poli (p-metilestireno), poli (a-metilestireno).
6. Homopolímeros aromáticos e copolímeros derivados de mo-nômeros aromáticos de vinila incluindo estireno, α-metilestireno, todos osisômeros do vinil tolueno, particularmente p-vinil tolueno, todos os isômerosde etil estireno, propil estireno, vinil bifenila, vinil naftaleno, e vinil antraceno,e misturas dos mesmos. Os homopolímeros e copolímeros podem ter umaestrutura estérea incluindo sindiotática, isotática, hemiisotática ou atática;onde o polímero âtático é o preferido. Os polímeros em bloco estéreos tam-bém estão incluídos;
a) Copolímeros incluindo os monômeros aromáticos de vinila a-cima mencionados e os comonômeros selecionados de etileno, propileno,dienos, nitrilas, ácidos, anidridos maléicos, maleimidas, acetato de vinila ecloreto de vinila ou derivados acrílicos e misturas dos mesmos, por exemplo,estireno/butadieno, estireno/acrilonitrila, estireno/etileno (interpolímero), esti-reno/metacrilato de alquila, estireno/butadieno/acrilato de alquila, estireno/butadieno/metacrilato de alquila, estireno/anidrido maléico, estireno/ acriloni-trila/acrilato de metila; misturas de alta força de impacto de copolímeros doestireno e outros polímeros, por exemplo, um poliacrilato, um polímero dienoou um terpolímero etileno/propileno/dieno; e copolímeros em bloco de esti-reno, tal como estireno/butadieno/estireno, estireno/isopreno/estireno, esti-reno/etileno/butileno/estireno, ou estireno/etileno/propileno/estireno.
b) Polímeros aromáticos hidrogenados derivados da hidrogena-ção dos polímeros mencionados no item (6), particularmente incluindo o po-licicloexiletileno (PCHE) preparado por hidrogenação atática do poliestireno,freqüentemente mencionado como polivinil cicloexano (PVCH).
c) Polímero aromático hidrogenado derivado da hidrogenação dopolímero mencionado no item 6a). Os homopolímeros e copolímeros podemter uma estrutura estérea incluindo sindiotática, isotática, hemiisotática ouatática; onde o polímero atático é o preferido. Os polímeros em bloco esté-reos também estão incluídos.
7. Copolímeros de enxerto de monômeros aromáticos de vinila,tal como estireno ou α-metilestireno, por exemplo, copolímeros de estirenoem polibutadieno, de estireno em polibutadieno-estireno ou em polibutadie-no-acrilonitrila; estireno e acrilonitrila (ou metacrilonitrila) em polibutadieno;estireno, acrilonitrila e metacrilato de metila em polibutadieno; estireno e ani-drido maléico em polibutadieno; estireno, acrilonitrila e anidrido maléico oumaleimida em polibutadieno; estireno e maleimida em polibutadieno; estirenoe acrilatos de alquila ou metacrilatos de alquila em polibutadieno; estireno eacrilonitrila em terpolímeros de etileno/propileno/dieno; estireno e acrilonitrilaem poli(acrilatos de alquila) ou poli(metacrilatos de alquila), estireno e acrilo-nitrila em copolímeros de acrilato/butadieno, bem como misturas dos mes-mos com os copolímeros listados no item (6), por exemplo, misturas de co-polímeros conhecidas como polímeros ABS, MB, ASA ou AES.
8. Polímeros contendo halogênio, tal como policloropreno, borra-cha clorada, copolímero de isobutileno-isopreno clorada e bromada (borra-cha halobutílica), polietileno clorado ou sulfoclorado, copolímeros de etilenoe etileno clorado, homopolímeros e copolímeros da epicloridrina, especial-mente polímero de compostos de vinila contendo halogênio, por exemplo,poli(cloreto de vinila), poli(cloreto de vinilideno), poli(fluoreto de vinila), po-li(fluoreto de vinilideno), bem como copolímeros dos mesmos, tal como co-polímeros de cloreto de vinila/cloreto de vinilideno, cloreto de vinila/ acetatode vinila ou cloreto de vinilideno/acetato de vinila.
9. Polímeros derivados de ácidos α,β-insaturados e derivadosdos mesmos, tais como poliacrilatos e polimetacrilatos; poli(metacrilato demetila), poliacrilamidas e poliacrilonitrilas, acrilato de butila modificado porimpacto.
10. Copolímeros dos monômeros mencionados no item (9) comcada um ou com outros monômeros insaturados, por exemplo, copolímerosacrilonitrila/butadieno, copolímeros de acrilonitrila/acrilato de alquila, copolí-meros de acrilonitrila/alcoxiacrilato de alquila ou copolímeros de acrilonitri-la/haleto de vinila, ou terpolímeros de acrilonitrila/metacrilato de alqui-la/butadieno.
11. Os polímeros derivados de álcoois e aminas insaturados ouderivados acila ou acetais dos memsos, por exemplo, poli(álcool vinílico),poli(acetato de vinila), poli(estearato de vinila), poli(benzoato de vinila), po-li(maleato de vinila), poli(butirato de vinila), poli(ftalato de alila) ou polialil me-lamina; bem como seus copolímeros com as olefinas mencionado no item(1), acima.
12. Homopolímeros e copolímeros de éteres cíclicos, tais comopolialquileno glicol, óxido de polietileno, óxido de polipropileno ou copolíme-ros dos mesmos com éteres de bisgJicidila.
13. Poliacetais, tal como o polioximetileno e aqueles polioximeti-Ienos contendo o oxido de etileno como um co-monômero; poliacetais modi-ficados com pòliuretano termoplástico, acrilatos ou MBS.
14. Óxidos e sulfetos de polifenileno, e misturas de oxido polife-nileno com polímeros de estireno ou poliamidas.
15. Poliuretanos derivados de poliéteres, poliéster ou polibutadi-enos com terminação hidroxila de um lado e poiisocianatos alifáticos ou a-romático de outro, bem como os precursores dos mesmos.
16. A poliamida e copoliamidas derivadas de diaminas e ácidosdicarboxílicos e/ou de ácidos aminocarboxílicos ou as Iactamas correspon-dentes, por exemplo, poliamida 4, poliamida 6, poliamida 6/6, 6/10, 6/9, 6/12,4/6, 12/12, poliamida 11, poliamida 12, poliamida aromática começando apartir de m-xileno diamina e ácido adípico; as poliamidas preparadas a partirda hexametilenodiamina e do ácido isoftálico ou/e ácido tereftálico e com ousem um elastômero como modificador, por exemplo, poli-2,4,4,-trimetil he-xametileno tereftalamida ou poli-m-fenileno isoftalamida; e também copolí-meros em bloco da poliamida acima mencionada com poliolefinas, copolíme-ros de olefinas, ionômeros ou elastômeros quimicamente ligados ou enxer-tados; ou com poliéteres, por exemplo, com polietileno glicol, polipropilenoglicol ou poli-tetrametileno glicol; bem como as poliamidas ou copoliamidasmodificadas com EPDM ou ABS; e a poliamida condensada durante o pro-cessamento (sistemas RIM de poliamida).
17. Poliuréia, poliimidas, poliamida imidas, poliéter imidas, poli-éster imidas, poliidantoínas e polibenzimidazóis.
18. Poliéster derivado de ácidos dicarboxílicos e dióis e/ou de á-cidos hidroxicarboxílicos ou Iactonas correspondentes, por exemplo, terefta-lato de polietileno, tereftalato de polibutileno, tereftalato de poli-1,4-dimetil-cicloexano, polialquileno naftalato (PAN) e poliidroxibenzoatos, bem comoésteres de copoliéteres em bloco derivados de poliéteres com terminaçõeshidroxilas; e também poliésteres modificados com policarbonatos ou MBS.
19. Policetonas.
20. Polissulfanos, poliéter sulfonas e poliéter cetonas.
21. Misturas dos polímeros acima mencionados (polimisturas),por exemplo, PP/EPDM, Poliamida/EPDM ou ABS1 PVC/EVA, PVC/ABS,PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/ acrila-tos, POM/PUR termoplástico, PC/ PUR termoplástico, POM/acrilatos, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 e copolímeros, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO,PBT/PC/ABS ou PBT/PET/PC.
O componente (a) é acrescentado ao substrato do componen-te (b) em uma quantidade de aproximadamente 0,001% a 5,0% em peso,preferivelmente 0,01% a 2,0% em peso e o mais preferivelmente 0,04% a-0,5% em peso.
Uma modalidade adicional de acordo com a presente invençãorefere-se a um processo para fornecer o retardamento de chama a um subs-trato polimérico compreendendo o policarbonato ou misturas de policarbona-tos, cujo processo compreende a adição ao substrato polimérico o sal de umácido sulfônico aromático selecionado como definido acima.Componentes Adicionais.
A presente invenção imediata, além disso, pertence a uma com-posição, compreendendo, além dos componentes (a) e (b), tal como definidoacima, novos aditivos selecionados do grupo consistindo nos assim chama-dos agentes antidispersão, estabilizadores de polímero e retardantes dechama adicionais, tais como retardantes de chama contendo fósforo, retar-dantes de chama contendo nitrogênio, retardantes de chama halogenados eretardantes de chama inorgânicos.
De acordo com uma modalidade preferida, a presente invençãorefere-se a uma composição que adicionalmente compreende os componen-tes adicionais assim chamados agentes antidispersante.
Estes agentes antidispersante reduzem o fluxo fundido da com-posição do policarbonato e inibem a formação de quedas em altas tempera-turas. Várias referências, tais como a Especificação de Patente US Ng-4.263.201, descrevem a adição de agentes antidispersante para policarbo-natar a composições de retardantes de chama.Os aditivos adequados que inibem a formação de baixas em al-tas temperaturas incluem fibras de vidro, politetrafluoretileno (PTFE), elas-tômeros de alta temperatura, fibras de carbono, esferas de vidro e similares.
A ádição de polissiloxanos de diferentes estruturas foi propostaem várias referências; cf. A Especificação de Patente US Ng 6.660.787,6.727.302 ou 6.730.720.
De acordo com uma modalidade específica da presente inven-ção um composto de (poli)carbonato da fórmula:
<formula>formula see original document page 24</formula>
em que:
Ri e R2 independentemente um do outro representam um grupoalifático substituído pelo flúor;
X1 e X2 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou alquileno(CrCi2);
o m representa um numerai de 1 a 1000;
R5, R6, R7 e R8 independentemente um do outro representam ohidrogênio, alquil(CrCi2) ou alquenil(C3-Ci2); e
O Y representa uma ligação reta ou um grupo bivalente selecio-nado do grupo consistindo em -O-, -S-, -SO-, -SO2-, <formula>formula see original document page 24</formula>
em que:
Tanto o Ra como Rb representam o hidrogênio ou o halogênio;ou
Um do Ra e Rb representa o hidrogênio e outro representa o ha-logênio;
R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qual elessão ligados, formam um grupo C5-C8-CiCloaIquiIidene com 1 a 3 grupos al-quil(C1-C4) como substituintes opcional; ou
R3 e R4 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio, um grupo alifático substituído pelo flúor, alquil(C1-C12), alquil(C1-C12)substituído por carbóxi, alquenil(C2-C12), arila, ou o grupo da fórmula parcial
<formula>formula see original document page 25</formula> em que
n representa um numerai de 0 a 10.000; eX2, Y, R2, R5» Re> R7 e R8 são tal como definidos acima.No composto de (poli)carbonato (1), tal como definido acima, ossubstituintes são definidos como se segue:
R1 e R2 independentemente um do outro representam um grupoalifático substituído pelo flúor;
X1 e X2 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou alquileno(C1-C12);
m representa um numerai de 1 a 1000;
R5, R6, R7 e R8 independentemente um do outro representam ohidrogênio, alquil(C1-C12) ou alquenil(C3-C12); e
O Y representa uma ligação reta ou um grupo bivalente selecio-nado do grupo consistindo em:
<formula>formula see original document page 25</formula>
Tanto o Ra como Rb representam o hidrogênio ou halogênio; ouUm dos Ra e Rb representa o hidrogênio e o outro representa ohalogênio;
R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qual elessão ligados, formam um grupo cicloalquilideno(C5-C8) com 1 para 3 gruposalquil(C1-C4) como substituintes opcionais; ouR3 e R4 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio, um grupo alifático substituído pelo flúor, alquil(CrCi2), alquil(CrCi2)substituído por carbóxi, alquenil(C2-Ci2), arila, ou o grupo (A), tal como defi-nido acima, erri que η representa um numerai de 0 a 10.000 e X2, Y, R2, R5,R6, R7 e R8 são tal como definidos acima.
R1 e R2 definidos como um grupo alifático substituído pelo flúorsão preferivelmente uma cadeia reta ou ramificada ou grupo de hidrocarbo-neto, contendo pelo menos um átomo de flúor e pelo menos um átomo dehidrogênio, por exemplo, flúor-alquil(Ci-C25), ou é um grupo perfluoroalquilada fórmula parcial
-(CF2)pF(B),
Na qual ρ é um numerai de 1 a 100.
O flúor-alquil(Ci-C25) é por exemplo, mono- ou difluorometila, 2-fluoroetila, 3-fluoropropila, 4-fluorobutila, 5-fluoropentila, 6-fluoroexila, 7-fluoroeptila, ou pentafluorobutila.
Perfluoroalquila é um grupo (B) derivados do álcool perfluoroF(CF2)p-OH em que ρ varia de 1 a 50, por exemplo, trifluorometila (p = 1) oupentafluoroetila (p = 2). Os grupos perfluoroalquila preferidas são formasderivadas de perfluoro álcoois em que ρ é 5, 8, 9 ou 11.
X1 e X2 definidos como alquileno(C1-C12) são um grupo bivalenteramificado ou não ramificado, por exemplo, metileno, etileno, propileno, tri-metileno, tetrametileno, pentametileno, hexametileno, heptametileno, octa-metileno, decametileno ou dodecametileno. Uma das definições preferidasde X1 e X2 é alquileno(C1-C8), por exemplo, alquileno(C2-C8). Uma definiçãoespecialmente preferida de Xi e X2 é alquileno(C2-C4), por exemplo, etileno.
R5, R6, R7 e R8 definidos como alquil(C1-C12) são uma cadeia re-ta ou, onde possível, um radical ramificado, por exemplo, metila, etila, propi-la, isopropila, n-butila, sec-butila, isobutila, terc-butila, 2-etilbutila, n-pentila,isopentila, 1-metilpentila, 1,3-dimetilbutila, n-hexila, 1-metilexila, n-heptila,isoheptila, 1,1,3,3-tetrametilbutila, 1-metileptila, 3-metileptila, n-octila, 2-etil-exila, 1,1,3-trimetilexila, 1,1,3,3-tetrametilpentila, n-nonila, n-decila, n-unde-cila, 1-metilundecila ou n-dodecila. Uma das definições preferidos é, por e-xemplo, alquil(Ci-C8), por exemplo, alquil(Ci-C4), tal como metila.
Rs, R6. R7 e Re definidos como alquenil(C3-Ci2) são uma cadeiareta ou, onde possível, um radical ramificado, por exemplo, alila, 2-butenila,3-butenila, isobutenila, n-2,4-pentadienila, 3-metil-2-butenila, n-2-octenila, n-2-dodecenila ou isododecenila.
Y é definido como um grupo bivalente da fórmula parcial
—c— é preferivelmente metileno (CH2 =, Ra e Rb = H). Segundo as moda-lidades alternativas, tanto o Ra como Rb representam o hidrogênio ou o ha-logênio, por exemplo, cloro ou bromo, ou um dos Ra e Rb representa o hi-drogênio e outro representa o halogênio.
R3 e R4 definidos como um grupo (C5-C8)-cicloalquilideno com 1a 3 grupos alquil(CrC4) como substituintes opcional são, por exemplo, ciclopentilideno, metilciclo pentilideno, dimetilciclo pentilideno, cicloexilideno, me-tilcicloexilideno, dimetil cicloexilideno, trimetil cicloexilideno, terc-butil cicloe-xilideno, cicloeptilideno ou ciclooctilideno. A preferência é dada a cicloexili-deno.
R3 e R4 definidos como um grupo alifático substituído pelo flúorestão, por exemplo, flúor-alquil(CrC25). tal como definida acima, ou são ogrupo perfluoroalquil supracitado (B), em que ρ é de 1 a 50.
R3 e R4 definidos como alquil(CrCi2) são como definidos acimaquanto a R5, R6, R7 e R8.
R3 e R4 definidos como alquil(CrC12) substituído por carbóxi são,por exemplo, carboximetila ou 1 -carboxietila ou 2-carboxietila.
R3 e R4 definidos como arila são preferivelmente fenila ou 1-naftila ou 2-naftila.
No grupo (A) o índice o η representa um numerai de 0 a 10.000e X2, Y, R2, R5, R6, R7 e R8 são tal como definidos acima.
De interesse particular estão os compostos de (poli)carbonato(1), em que
R1 e R2 independentemente um do outro representam um grupoalifático substituído pelo flúor;X1 e X2 independentemente um do outro representam alquile-no(CrCi2);
m representa um numerai de 1 a 1000;
R5 R6 R7 e R8 representam o hidrogênio;
Y representa o grupo bivalente <formula>formula see original document page 28</formula>, em que independente-mente um do outro R3 e R4 representam o hidrogênio, -CF3, alquil(CrCi2),fenila ou o grupo (A), em que η representa um numerai de 0 a 10.000 e X2,Y, R2, R5, Re, R7 e R8 são como definidos acima ou R3 e R4, em conjuntocom o átomo de carbono ao qual eles são ligados, formam o grupo cicloexili-deno com 1 a 3 grupos alquil(CrC4) como substituintes opcionais.
De interesse particular são também os compostos de (po-li)carbonato (1), em que Ri e R2 independentemente um do outro represen-tam grupos (B), em que ρ é um numerai de 1 a 50.
De interesse especial são compostos de (poli)carbonato (1), emque ρ é um numerai de 4 a 15.
De interesse muito especial são compostos de (poli) carbona-to (1), em que:
R1 e R2 independentemente um do outro representam grupos(B), em que ρ é um numerai de 1 a 50;
X1 e X2 independentementes um do outro representam alquile-no(C2-C8);
m representa um numerai de 1 a 1.000;
R5, R6, R7 e R8 representam hidrogênio; e
Y representa o grupo bivalente <formula>formula see original document page 28</formula>, em queR3 representa o hidrogênio, -CF3, alquil(Ci-Ci2), fenila ou o gru-po (A), em que o numerai η representa um numerai de 0 a 10.000 e X2, Y,R2, Rs, R6, R7 e R8 são tal como definidos acima ou R3 e R4, em conjuntocom o átomo de carbono ao qual eles são ligados, formam o grupo cicloexili-deno com de 1 a 3 grupos alquil(Ci-C4) como substituintes opcionais.De alto interesse são os compostos de (poli)carbonato (1), emque R3 e R4 independentemente um do outro representam o hidrogênio oualquil(Ci-C4); ou R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qualeles são ligados, formam o grupo cicloexilideno.
Particularmente preferido são também compostos de (po-li)carbonato (1), em que o m é um numerai de 1 a 50, e η é um numerai de 0a 50.
Os compostos de (poli)carbonato (1) estão preparados por mé-todos conhecidos. Um flúor álcool é tratado com o bis-(2,4-dinitrofenil) car-bonato (DNPC) para fornecer o carbonato de 2,4-dinitrofenila do fluoroálcoolin situ. Este derivado pode ser isolado e tratado separadamente, por exem-plo, por oligômeros de bisfenol A terminados por hidróxi de vários pesos mo-leculares.
Brunelle et ai, Macromolecules 1991, 24, 3035-3044, descrevemo uso do bis(2,4-dinitrofenil)carbonato da preparação de dímeros e oligôme-ros cíclico de bisfenol A. As reações de união também podem ser realizdaspor reagentes de formação de ligação carbonato, tais como fosgênio ou car-bonil diimidazol (CD-I).
Flúor álcoois preferidos são, por exemplo, os assim chamadosálcoois fluorotelomeros. Estes estão, por exemplo, comercialmente disponí-veis pela DuPont ou Aldrich como Zonil® BA-L.
Bisfenois preferidos como materiais de partida são, por exemplo,o bisfenol A e os compostos das fórmulas:
<formula>formula see original document page 29</formula><formula>formula see original document page 30</formula>
De acordo com uma modalidade alternativa um composto de(poli)carbonato da fórmula:
<formula>formula see original document page 30</formula>
é acrescentado, em que:
R0 representa uma ligação reta ou um grupo bivalente selecio-nado do grupo selecionado de, <formula>formula see original document page 30</formula>-O-, -S-, -SO-, -SO2- e <formula>formula see original document page 30</formula>;
Ri e R2 independentemente um do outro representam um grupocontendo silício;
R3 e R4 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio, um grupo alifático substituído pelo flúor, um grupo contendo silício, al-quil(Ci-Ci2), alquil(CrCi2) substituído por carbóxi, alquenil(C2-Ci2), arila, ouum grupo da fórmula parcial:
<formula>formula see original document page 30</formula>
ou R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qual eles são liga-dos representam cicloalquilideno(C5-C8) ou cicloalquilideno(C5-C8) que ésubstituído por 1 a 3 grupos alquil(C1-C4);
R5, Re· R7 e R8 independentemente um do outro representam ohidrogênio, alquil(CrCi2) ou alquenil(C3-Ci2);
Xi e X2 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta, alquileno(CrCi2) ou alquileno(C4-C25) interompido por -O-;Yi e Y2 independentemente um do outro representam uma ligação reta ouum grupo bivalente selecionado do grupo consistindo em: -O-,
<formula>formula see original document page 31</formula>
R9 e R10 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou alquileno(C1-C4);
R11, Ri2 e Ri3 independentemente um do outro representam ohidrogênio, alquil(C1-Ci2) ou alquenil(C3-C12);
R14 representa o hidrogênio, alquil(CrCi2) ou um grupo conten-do silício,
m representa um numerai de O a 10.000; e
η representa um numerai de 0 a 10.000.
No composto de (poli)carbonato (2), tal como definido acima, ossubstituintes são definidos como se segue:
Ro representa uma ligação reta ou um grupo bivalente selecio-nado do grupo consistindo em <formula>formula see original document page 31</formula> , -O-, -S-, -SO-, -SO2- e <formula>formula see original document page 31</formula>;
Ri e R2 independentemente um do outro representam um grupocontendo silício;
R3 e R4 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio, um grupo alifático substituído pelo flúor, um grupo contendo silício, al-quil(Ci-Ci2), alquil(Ci-Ci2)' substituído por carbóxi, alquenil(C2-Ci2), arila, ouum grupo da fórmula parcial:
<formula>formula see original document page 31</formula>
ou R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qual e-les são ligados representam cicloalquilideno(C5-C8) ou cicloalquilideno(C5-C8) que é substituído por 1 a 3 grupos alquil(Ci-C4);
R5, R6, R7 e R8 independentemente um do outro representam ohidrogênio, alqüil(CrCi2) ou alquenil(C3-Ci2);
X1 e X2 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta, alquileno(Ci-Ci2) ou C4-C25alquileno interrompido por -O-;
Y1 e Y2 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou um grupo bivalente selecionado do grupo consistindo em: -O-,
<formula>formula see original document page 32</formula>
R9 e R10 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou alquileno(CrC4);
R11, R12 e R13 independentemente um do outro representam ohidrogênio, alquil(C-i-Ci2) ou alquenil(C3-Ci2);
R14 representa o hidrogênio, alquil(CrCi2) ou um grupo conten-do silício;
m representa um numerai de O a 10.000; e
η representa um numerai de 0 a 10.000.
Um grupo contendo silício preferivelmente representa um grupoda fórmula parcial:
<formula>formula see original document page 32</formula>em que:
R17, R18, R19 e R20 independentemente um do outro representamalquil(Ci-Ci2), aiquil(CrCi2) substituído com hidróxi ou amino; hidroxial-quil(C4-Ci2) interrompido com -O-; ou representa um grupo da fórmula parci-al:
<formula>formula see original document page 33</formula>
em que:
R21 representa alquil(CrCi2) ou um grupo da fórmula parcial:
<formula>formula see original document page 33</formula>
R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28 e R2g independentemente um dooutro representam alquil(CrCi2) ou alquil(Ci-Ci2) substituído por hidróxi ouamino;
ρ representa O a 200; eq representam 0 a 200.
De interesse especial como um grupo contendo silício é um gru-po da fórmula parcial (D), em que:
R17, Rie, R19 e R20 independentemente um do outro representammetila ou um grupo da fórmula parcial:
<formula>formula see original document page 33</formula>
R21 representa metila ou um grupo da fórmula parcial:
<formula>formula see original document page 33</formula>
R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28 e R29 são metila; eρ e q independentemente um do outro representam de 0 a 100.
De interesse particular são compostos de (poli)carbonato (2), emque:
R0 representa o grupo bivalente <formula>formula see original document page 34</formula>;
R1 e R2 independentemente um do outro representam um grupocontendo silício;
R3 e R4 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio, trifluorometila, um grupo contendo silício, alquil(CrC12), fenila ou o gru-po (C); ou
R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qual elessão ligados representam cicloalquilideno(C5-C8) ou cicloalquilideno(C5-C8)que é substituído por 1 a 3 grupos alquil(C1-C4);
R5, R6. R7 e Re são hidrogênio;
Xi e X2 independentemente um do outro representam alquile-no(Ci-Ci2) ou C4-C2SaIquiIene inter roto por -O-;
Yi e Y2 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou um grupo bivalente selecionado do grupo consistindo em: -O-,
<formula>formula see original document page 34</formula>
R9 e R10 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou metileno;
R-11, Ri2 e Ri3 independentemente um do outro representam ohidrogênio, alquil(C1-C4) ou alquenil(C3-C4);
R14 representa o hidrogênio ou alquil(C1-C12);
m representa O a 10.000; e
η representa 0 a 10.000.
De interesse muito especial são os compostos de (poli) carbona-to (2), em que:
R0 representa o grupo bivalente
<formula>formula see original document page 35</formula>
R3 representa o hidrogênio, -CF3, alquil(CrCi2), fenila ou o grupo (C);
R4 representa -CF3, alquil(CrCi2) ou fenila; ou
R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qual elessão ligados, formam um grupo cicloalquilideno(C5-C8) ou cicloalquilideno(C5-C8) que é substituído por 1 para 3 grupos alquil(CrC4);
Rs, R6, R7 e R8 representam o hidrogênio;
X1 e X2 são cada um independentemente de um ou outro repre-sentam alquileno(Ci-C12) ou alquileno(C4-C25) interrompido por -O-;
Y1 e Y2 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou um grupo bivalente selecionado do grupo consistindo em -O-,
<formula>formula see original document page 35</formula>
R9 e R10 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou metileno;
R14 representa o hidrogênio ou alquil(C1-C12);
m representa O a 10000; e
η representa O a 10000.
De interesse são também compostos de (poli)carbonato (2), emque:
R3 e R4 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(CrC4); ou
R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qual elessão ligados, formam o grupo cicloexilideno.
Preferidos são os compostos de (poli)carbonato (2), em que Xi eX2 independentemente um do outro representam alquileno(C2-C8) ou alquile-no(C4-C25) interrompido com -O-.
Também preferido são compostos de (poli)carbonato (2), em queo m representa de 0 a 100, e η representa de 0 a 100.De interesse muito especial são compostos de (poli) carbona-to (2), em que:
R0 representa o grupo bivalente <formula>formula see original document page 36</formula>;
R3 e R4 independentemente um do outro representam alquil(Ci-C4); ou
R3 e R4, em conjunto com o átomo de carbono com o qual elessão ligados, formam o grupo cicloexilideno;
Rs, R6, R7 e Rs representam o hidrogênio;
Xi e X2 independentemente um do outro representam alquile-no(C2-C4) ou álquileno(C4-C25) interrompido com -O-;
Yi e Y2 independentemente um do outro representam uma liga-ção reta ou um grupo bivalente selecionado do grupo consistindo em -O-,
<formula>formula see original document page 36</formula>
R9 e R10 independentemente um do outro representam uma Iiga-ção reta ou metileno;
m representa de O a 100, e
η representa de 0 a 100.
Em um composto de (poli)carbonato (2) o alquil(CrCi2) é umacadeia reta ou, onde possível, grupo alquila ramificado, que é o mesmo talcomo definido acima quanto aos compostos de (poli)carbonato (1).
R3 e R4 definidos como alquil(CrCi2) substituído por carbóxi sãopreferivelmente carboximetila ou 1 - ou 2-carboxietila.
R3 e R4 definidos como arila preferivelmente representam fenilaou fenila substituída por 1 a 3 grupos alquil(CrC4), por exemplo, metila.
R3, R4, R5, R6, R7 e R8 definidos como alquenil(C2-Ci2) represen-tam uma cadeia reta ou, onde possível, grupo alquenila ramificado, que é omesmo tal como definido acima quanto a compostos de (poli)carbonato (1).
R3 e R4 definidos como CicIoaIquiIideno(C5-Ce) ou cicloalquilide-no(C5-C8) que é substituído por 1 para 3 grupos alquil(C-i-C4) são como defi-nidos acima quanto a compostos de (poli)carbonato (1).Χι, e X2, definidos como alquileno(CrCi2) e Rg e Ri0 definidoscomo alquileno(Ci-C4) representam a cadeia reta ou, onde possível, gruposaiquilenos ramificados tal como definido acima quanto a compostos de (po-li)carbonato (1).
Xi, e X2, definidos como alquileno(C4-C25) interrompido com -O-são a cadeia reta ou, onde possível, ramificada, por exemplo -CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2CH2-0-CH2CH2CH2- ou-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-.
Alquil(C1-C12) substituiu com hidróxi ou amino é, por exemplo,hidroximetila, 1-ou 2-hidroxietila, aminometila ou 1-ou 2-aminoetila.
Hidroxialquil(C4-Ci2) interrompido com -O- é por exemplo-CH2CH2-O-CH2CH2OH ou -CH2CH2-0-CH2CH2-0-CH2CH20H.
Um grupo contendo flúor é um radical ramificado ou não ramifi-cado, contendo pelo menos um átomo flúor, por exemplo, flúor-alquil(CrC25); ou é o grupo (B), em que ρ é de 1 a 50.
Flúor-alquil(Ci-C25) é por exemplo, perfluoroalquila, fluorometila,2-fluoroetila, 3-fluoropropila, 4-fluorobutila, 5-fluoropentila, 6-fluorohexila, 7-fluoroheptila, difluorometila, trifluorometila, pentafluoroetila, pentafluorobutila.
Os compostos de (poli)carbonato (2) são obteníveis por métodosconhecidos. Um álcool de silício é tratado com o bis(2,4-dinitrofenil) carbona-to (DNPC) para dar o carbonato 2,4-dinitrofenil do álcool de silício in situ.Este derivado pode ser isolado e tratado separadamente, por exemplo, poroligômeros de bisfenol A terminados por hidróxi de vários pesos molecula-res. Brunelle et ai, Macromolecules 1991, 24, 3035-3044, descrevem o usodo carbonato de bis(2,4-dinitro fenil) para preparação de dímeros e oligome-ros cíclicos de bisfenol A. As reações de união também podem ser executa-das por reagentes de formação de ligação carbonato, tais como fosgênio oucarbonil diimidazol (CDI).
Os grupos contendo silício particularmente preferidos são deri-vados de monoidróxi polissiloxanos, em que p=10; polissiloxanos, em quep=64; o oxido de polialquilene modificado heptametil trisiloxanos; ou 3-(polioxietileno) propileptametiltrisiloxano. As fórmulas estruturais representa-tivas são mostradas abaixo:
<formula>formula see original document page 38</formula>
Materiais de partida de bisfenol preferido são o mesmo que a-queles acima mencionados quanto à preparação dos compostos de (po-li)carbonato (1).
Os compostos de (poli)carbonato (1) ou (2) são acrescentadosao substrato do componente (b) em uma quantidade de aproximadamente0,01 a 5,0% em peso e preferivelmente de 0,25 a 1,0% em peso. A adiçãode misturas de compostos de (poli)carbonato (1) ou (2) é sugerida.
De acordo com outra modalidade a presente invenção refere-sea uma composição que adicionalmente compreende também aditivos emselecionado do grupo consistindo em estabilizadores de polímero e retardan-tes de chama adicional.
Os estabilizadores são preferivelmente sem halogênio e selecio-nados de estabilizadores de nitroxila, estabilizadores nitrona, amina estabili-zadores de oxido, estabilizadores benzofuranona, fosfito e estabilizadoresfosfonito, estabilizadores de metídeo quinona e estabilizadores monoacrila-tos ésteres de 2,2'-alquilidenobisfenol.
Retardantes de chama adicionais são componentes conhecidoscomo produtos comerciais ou podem ser obtidos por métodos conhecidos.
Os representantes retardantes de chama contendo fósforo, alémdaqueles definidos acima quanto ao componente b) são por exemplo:
Difosfito tetrafenil resorcinol (FYROLFLEX® RDP, Akzo Nobel),sulfeto de tetraquis (hidróxi metil)fosfônio, fosfato de trifenila, fosfonato dedietil-N,N-bis-aminometil (2-hidroxietila), hidroxialquil ésteres de ácidos fosfó-ricos, polifosfato de amônio (APP) ou (HOSTAFLAM® AP750), oligômero dedifosfato de resorcinol (RDP), retardantes de chama fosfazenos e difosfatode etilenodiamina (EDAP).
Os retardantes de chama contendo nitrogênio são, por exemplo,retardantes de chama com isocianurato, tal como poliisocianurato, ésteresdo ácido isocianúrico ou isocianuratos. Os exemplos representativos sãoisocianuratos de hidroxialquila, tal como tris-(2-hidroxietil)isocianurato, tris(hidroximetil) isocianurato, tris (3-hidróxi-n-proil) isocianurato ou triglicidil iso-cianurato.
Os retardantes de chama contendo nitrogênio incluem os retar-dantes de chama baseados na melamina. Os exemplos representativos são:cianurato de melamina, borato de melamina, fosfatos de melamina, polifosfa-to de melamina, pirofosfato de melamina, polifosfato de amônio melaminapirofosfato de amônio melamina.
Os exemplos adicionais são: benzoguanamina, tris (hidroxietil)isocianurato, alantoína, glicolurila, cianurato de melamina, fosfato de mela-mina, fosfato de dimelamina, pirofosfato de melamina, cianurato de uréia,polifosfato de melamina, borato de melamina, polifosfato de amônio, polifos-fato de amônio melamina ou pirofosfato de amônio melamina, um produto decondensação de melamina da série melem, melam, melom e/ou um compos-to condensado mais elevado ou um produto de reação de melamina comácido fosfórico e/ou um produto de reação de produtos de condensação demelamina com ácido fosfórico ou uma mistura disso.
A ênfase especial deve ser dada a: pirofosfato de dimelamina,polifosfato de melamina, melem polifosfato, melam polifosfato, e/ou um poli-sal variado de tal tipo, mais particularmente polifosfato de melamina.
Os retardantes de chama organoalogenios representativos são,por exemplo:Oxido polibromado de difenila (DE-60F, Great Lakes Corp.), oxi-do de decabromodifenila (DBDPO; SAYTEX® 102E), tris [3-bromo-2,2-bis(bromometil)propil]fosfato (PB 370®, FMC Corp). Tris (2,3-dibromopropil) fos-fato, tris (2,3-dicloropropil)fosfato, ácido clorêndrico, ácido tetracloroftálico,ácido tetrabromoftálico, mistura de trifosfonato poli-a-cloroetila, tetrabromo-bisfenol bis(2,3-dibromopropiléter) (PE68), resina de epóxi brominada, etile-no bis(tetrabromoftalimida) (SAYTEX® BT-93), bis(hexacloro ciclopentadie-no)ciclooctano (DECLORANE PLUS®), parafinas cloradas, octabromodifeniléter, derivados de hexaclorociclopentadieno, 1,2-bis(tribromofenóxi)etano(FF680), tetrabromo-bisfenol A (SAYTEX® RB100), etileno bis-(dibromo-norbornano dicarboximida) (SAYTEX® BN-451), bis-(hexaclorocicloenta-deno)ciclooctano, PTFE, tris-(2,3-dibromopropil)isocianurato, e etileno-bis-tetrabromoftalimida.
O retardante de chama acima mencionado costumeiramentecombinado com um oxido inorgânico sinergisticamente. O mais comum paraeste uso são o zinco ou o óxido de antimônio, por exemplo, Sb203 ou Sb2O5.Os compostos de boro são convenientes, também.
As classes adicionais de retardante de chama supracitadas sãovantajosamente contidas na composição de acordo com a presente invençãoem uma quantidade de aproximadamente 0,5% a aproximadamente 45,0%em peso do substrato de polímero orgânico; por exemplo, de aproximada-mente 1,0% a aproximadamente 40,0%; por exemplo, de aproximadamente5,0% a aproximadamente 35,0% em peso do polímero.
Como acima mencionado, a composição de acordo com a pre-sente invenção pode conter adicionalmente um ou vários aditivos conven-cionais, por exemplo, selecionados de pigmentos, tinturas, plastificantes,antioxidantes, agentes tixotrópicos, assistentes de nivelamento, co-estabili-zadores básicos, passivadores metálicos, óxido metálico, compostos organo-fosforados, novos estabilizadores leves e misturas dos mesmos, particular-mente pigmentos, fenólicos antioxidantes, estearato de cálcio, estearato dezinco, absorventes de UV do 2-hidróxi-benzofenona, 2-(2'-hidroxifenil) ben-zotriazol e/ou grupos 2-(2-hidroxifenil)-1,3,5-triazina. Os exemplos mais es-pecíficos são os seguintes componentes:
1. Antioxidantes:
1.1 Monofenóis alouilados. por exemplo, 2,6-di-terc-butil-4-metil-fenol, 2-terc-butil-4,6-dimetilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-etilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-n-butilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-isobutilfenol, 2,6-diciclopentil-4-metilfenol, 2-(a-metilcicloexil)-4,6-dimetilfenol, 2,6-dioctadecil-4-metilfenol, 2,4,6-triciclo-exilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-metoximetilfenol, nonilfenóis que são lineares ouramificados nas cadeias laterais, por exemplo, 2,6-dinonil-4-metilfenol, 2,4-dimetil-6-(1 '-metil undecil-11) fenol, 2,4-dimetil-6-(1'-metileptadecil-1,)fenol)2,4-dimetil-6-(1'-metiltridecil-1,)fenol e misturas dos mesmos.
1.2 Alguiltiometilfenóis. por exemplo, 2,4-dioctiltiometil-6-terc-butilfenol, 2,4-dioctil tiometil-6-metilfenol, 2,4-dioctiltiometil-6-etilfenol, 2,6-didodeciltiometil-4-nonilfenol.
1.3 Hidroquinonas e hidroquinonas alquiladas. por exemplo, 2,6-di-terc-butil-4-metóxi fenol, 2,5-di-terc-butilidroquinona, 2,5-di-terc-amilidro-quinona, 2,6-difenil-4-octadeciloxifenol, 2,6-di-terc-butilidroquinone, 2,5-di-terc-butil-4-hidroxianisol, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxianisol, estearato de 3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenila, adipato de bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenila).
1.4 Tocoferóis. por exemplo, α-β-γ-δ-tocoferol e misturas dosmesmos (vitamina E).
1.5 Tiodifenil éteres hidroxilados. por exemplo, 2,2'-tio-bis(6-terc-butil-4-metilfenol), 2,2'-tio-bis(4-octilfenol), 4,4'-tio-bis(6-terc-butil-3-metilfe-nol), 4,4'-tio-bis(6-terc-butil-2-metilfenol), 4,4'-tio-bis(3,6-di-sec-amilfenol),dissulfeto de 4,4'-bis(2,6-dimetil-4-hidroxifenila).
1.6 Alquilidenobisfenóis. por exemplo, 2,2'-metileno-bis(6-terc-butil-4-metilfenol), 2,2'-metileno-bis(6-terc-butil-4-etilfenol), 2,2'-metileno-bis[4-metil-6-(a-metil cicloexil)fenol], 2,2'-metileno-bis(4-metil-6-cicloexilfenol),2,2'-metileno-bis(6-nonil-4-metilfenol), 2,2'-metileno-bis(4,6-di-terc-butilfenol),2,2'-etilideno-bis(4,6-di-terc-butilfenol), 2,2'-etilideno-bis(6-terc-butil-4-isobu-tilfenol), 2,2'-metileno-bis[6-(a-metilbenzil)-4-nonilfenol], 2,2'-metileno-bis[6-(a,a-dimetilbenzil)-4-nonilfenol], 4,4'-metileno-bis(2,6-di-terc-butilfenol), 4,4'-metilenebis(6-terc-butil-2-metilfenol), 1,1 -bis(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)butano, 2,6-bis(3-terc-butil-5-metil-2-hidroxibenzil)-butano 4-metilfenol, 1,1,3-tris (5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil), 1,1-bis(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metil-fenil)-3-n-dodecil mercaptobutano, etileno glicol bis[3,3-bis(3'-terc-butil-4'-hidroxifenil)butirato], bis(3-terc-butil-4-hidróxi-5-metil-fenil)diciclopentadieno,tereftalato de bis^-ÍS^terc-butil^^hidróxi-S^metilbenziO-e-terc-butil^-metilfenila], 1,1-bis-(3,5-dimetil-2-hidroxifenil) butano, 2,2-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)propano, 2,2-bis-(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)-4-n-dodecil-mercaptobutano, 1,1,5,5-tetra (5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil) pentano.
1.7 Compostos de O-. N- e S-benzila. por exemplo, 3,5,3',5'-tetra-terc-butil-4,4'-dihidróxi dibenzil éter, octadecil-4-hidróxi-3,5-dimetilben-zilmercaptoacetato, tridecil-4-hidróxi-3,5-di-terc-butilbenzilmercaptoacetato,tris (3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil) amina, bis(4-terc-butil-3-hidróxi-2,6-dimetilbenzil) ditiotereftalato, bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil) sulfeto, iso-octil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil mercaptoacetato.
1.8 Malonatos hidroxibenzilados. por exemplo, dioctadecil-2,2-bis(3,5-di-terc-butil-2-hidroxibenzil)malonato, di-octadecil-2-(3-terc-butil-4-hidróxi-5-metilbenzil) malonato, di-dodecilmercaptoetil-2,2-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil) malonato, bis[4-(1,1,3,3-tetrametilbutil) fenil]-2,2-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil) malonato.
1.9 Compostos de hidroxibenzil aromáticos. por exemplo, 1,3,5-tris (3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)-2,4,6-trimetilbenzeno, 1,4-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)-2,3,5,6-tetrametilbenzeno, 2,4,6-tris (3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil) fenol.
1.10 Compostos de triazina, por exemplo, 2,4-bis(octilmercapto)-6-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxianilino)-1,3,5-triazina, 2-octilmercapto-4,6-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxianilino)-1,3,5-triazina, 2-octilmercapto-4,6-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenóxi)-1,3,5-triazina, 2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxife-nóxi)-1,2,3-triazina, 1,3,5-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil) isocianurato,1,3,5-tris(4-terc-butil-3-hidróxi-2,6-dimetilbenzil)isocianurato, 2,4,6-tris (3,5-di-terc-butil-4-hidroxifeniletil)-1,3,5-triazina, 1,3,5-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidro-xifenilpropionil)-hexahidro-1,3,5-triazina, 1,3,5-tris(3,5-dicicloexil-4-hidroxi-benzil)isocianurato.1.11 Benzilfosfonatos, por exemplo, dimetil-2,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfonato, dietil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfonato, diocta-decil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfonato, dioctadecil-5-terc-butil-4-hidró-xi-3-metilbenzilfosfonato, o sal de cálcio do monoetil ésteres do ácido 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfônico.
1.12 Acilaminofenóis, por exemplo, 4-hidróxi lauranilida, 4-hidroxiestearanilida, N-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)carbamato de octila.
1.13 Ésteres do ácido B-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil) propiôni-ço com álcoois mono- ou poli-ídricos, por exemplo, com metanol, etanol, n-octanol, i-octanól, octadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno glicol,1,2-propanodiol, neopentil glicol,·tiodietile.no glicol, dietileno glicol, trietilenoglicol, pentaeritritol, tris(hidroxietil)isocianurato, N,N'-bis(hidrooxietil)oxamida,3-tioundecanol, 3-tiopentadecanol, trimetilexanodiol, trimetilpropane, 4-hidroximetil-1-fosfa-2,6,7-trioxa-biciclo[2.2.2]octano, tal como produtos co-mercialmente disponíveis como Irganox® 1076.
1.14 Ésteres do ácido B-(5-terc-butil-4-hidróxi-3-metilfenil) propi-ônico como álcoois mono- ou poliídricos, por exemplo, com metanol, etanol,n-octanol, i-octanol, octadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno gli-col, 1,2-propanodiol, neopentil glicol, tio dietileno glicol, dietileno glicol, trieti-leno glicol, pentaeritritol, tris (hidroxietil) isocianurato, N,N'-bis(hidroxietil) o-xamida, 3-tioundecanol, 3-tiopenta decanol, trimetiexanodiol, trimetilpropano,4-hidroximetil-1-fosfa-2,6,7-trioxa-biciclo[2.2.2]octana; 3,9-bis[2-{3-(3-terc-butil-4-hidróxi-5-metilfenil)propionilóxi}-1,1-dimetiletil]-2,4,8,10-tetraoxaespiro[5.5] undecano.
1.15 Ésteres do ácido p-(3,5-dicicloexil-4-hidroxifenil) propiônicocomo álcoois mono- ou poliídricos, por exemplo, com metanol, etanol, octa-nol, octadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno glicol, 1,2-propa-nodiol, neopentil glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, pen-taeritritol, tris (hidroxietil)isocianurato, N,N'-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tioun-decanol, 3-tiopentadecanol, trimetilexano diol, trimetilpropano, 4-hidroximetil-1-fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano.
1.16 Ésteres de ácido 3.5-di-terc-butil-4-hidroxifenil acético comoálcoois mono- ou poliídricos, por exemplo, com metanol, etanol, octanol, oc-tadecanol, 1,6-héxanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno glicol, 1,2-propanodiol,neopentil glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, pentaeritri-tol, tris (hidroxietil)isocianurato, N,N'-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tioundecanol,3-tiopentadecanol, trimetilexanodiol, trimetilpropane, 4-hidroximetil-1 -fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octana.
1.17 Amidas do ácido p-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil) propiônicopor exemplo, N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil propionil) hexametilenodiamida, N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)trimetilenodiamida,N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)hidrazida, N,N'-bis[2-(3-[3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil]propionilóxi)etil]oxamida (Naugard®XL-1, fornecidopor Uniroyal).
1.18 Ácido ascórbico (vitamina C).
2. Estabilizadores à luz.
2.1 2-(2'-hidroxifenil)benzotriazóis. por exemplo, 2-(2'-hidróxi-5'-metilfenil)benzotriazol, 2-(3,,5'-di-terc-butil-2,-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(5'-terc-butil^-hidroxifeniObenzotriazol, 2-(2'-hidróxi-5'-fenil (1,1,3,3-tetrametil-butil))benzotriazol, 2-(3',5'-di-terc-butil-2,-hidroxifenil)-5-clorobenzotriazol, 2-(S^terc-butil^^hidróxi-õ^metilfeniO-õ-clorobenzotriazol, 2-(3'-sec-butil-5,-terc-butil-2'-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(2'-hidróxi-4'-octiloxifenil)benzotriazol, 2-(3,,5'-di-terc-amil-2,-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(3',5'-bis(a,a-dimetilbenzil)-2l-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2,-hidróxi-5'-fenil-(2-octiloxicarbonil-etil))-5-clorobenzotriazol, 2-(3'-terc-butil-5'-[2-(2-etilexilóxi) carboniletil]-2'-hidroxifenil)-5-clorobenzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2,-hidróxi-5'-fenil-(2-metoxi-carboniletil))-5-clorobenzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2'-hidróxi-5'-fenil (2-metoxi-carboniletil))benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2,-hidróxi-5,-fenil (2-octilóxi carboni-letil))benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-5'-[2-(2-etilexilóxi)carboniletil]-2'-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(3'-dodecil-2'-hidróxi-5l-metilfenil)benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2'-hidróxi-5'-fenilbenzotriazol (2-isooctiloxicarboniletil), 2,2'-metilenobis[4-(1,1,3,3-tetrametilbutil)-6-benzotriazolil-2-fenol]; o produto da transesteresi-ficcação de 2-[3'-terc-butil-5'-2 (2-metoxicarboniletil)-hidroxifenil]-2H-benzo-triazol com polietileno glicol 300; [r—ch2ch2-coo-ch2ch2]2 , onde R =3'-terc-butil-4'-hidróxi-5,-2H-benzotriazol-2-ilfenila, 2-[2'-hidróxi-3,-(a,a-dime-tilbenzil)-5'-fenil (1,1,3,3-tetrametilbutil)]benzotriazol; 2-[2'-hidróxi-3'-(1,1,3,3-tetrametilbutil)-5'-(a,a-dimetilbenzil)fenil]benzotriazol, tais como estabilizado-res à luz comercialmente disponíveis da série Tinuvin®, tais como TINUVIN234, 326, 329, 350, 360 ou TINUVIN 1577.
2-Hidroxibenzofenonas, por exemplo, o 4-hidróxi, 4-metóxi, 4-octilóxi, 4-decilóxi, 4-dodecilóxi, 4-benzilóxi, 4,2',4,-triidróxi e 2,-hidróxi-4,4l-dimetóxi derivados.
2.3 Esteres de ácidos benzóicos substituídos e não substituídos,por exemplo, salicilato de 4-terc-butilfenila, salicilato de fenila, salicilato deoctilfenila, dibenzoil resorcinol, bis(4-terc-butilbenzoil)resorcinol, benzoil re-sorcinol, 2,4-di-terc-butilfenil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato de hexadecila, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato deoctadecila, 2-metil-4,6-di-terc-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato de butilfeni-la.
2.4 Acrilatos. por exemplo, etil a-ciano-p,p-difenilacrilatos, a-ciano-p,p-difenilacrilato de isooctila, α-carbometoxicinamato de metila, oc-ciano-p-metil-p-metoxicinamato de metil, a-ciano-p-metil-p-metoxicinamatode butila, α-carbometóxi-p-metoxicinamato de metila e N-(P-carbometóxi^-cianovinil)-2-metilindolina.
2.5 Compostos de níquel, por exemplo, complexos de níquel de2,2'-tio-bis[4-(1,1,3,3-tetrametilbutil)fenol], tal como o complexo 1:1 ou 1:2,com ou sem Iigantes adicional, tais como n-butilamina, trietanolamina ou N-cicloexildietanolamina, dibutilditiocarbamato de níquel, sais de níquel do mo·noalquil ésteres, por exemplo, metila ou etil ésteres, de ácido 4-hidróxi-3,5-di-terc-butilbenzilfosfônico, complexos de níquel de cetoximas, por exemplo,de 2-hidróxi-4-metilfenilundecilcetoxima, complexos de níquel de 1 -fenil-4-lauroil-5-hidroxipirazol, com ou sem Iigantes adicionais.
2.6 Oxamidas. por exemplo, 4,4'-dioctiloxioxanilida, 2,2'-dietoxi-oxanilida, 2,2'-dioctilóxi-5,5'-di-terc-butoxanilida, 2,2'-didodecilóxi-5,5'-di-terc-butoxanilida, 2-etóxi-2'-etiloxanilida, Ν,Ν'-bisoxamida (3-dimetil aminopropil),2-etóxi-5-terc-butil-2'-etoxanilida e a sua mistura com 2-etóxi-2'-etil-5,4'-di-terc-butoxanilida, misturas de o- e p-metóxi-oxanilidas dissubstituídas e mis-turas de o- e p-etóxi-oxanilidas dissubstituídas.
2.7 2-(2-hidroxifenil)-1.3,5-triazinas. por exemplo, 2,4,6-tris (2-hidróxi-4-octiloxifenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-octiloxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2,4-dihidroxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2,4-bis(2-hidróxi-4-propiloxifenil)-6-(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-octiloxifenil)-4,6-bis(4-metilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-dodeciloxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-tridecilo-xifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-[2-hidróxi-4-(2-hidróxi-3-bu-tiloxipropóxi) fenil]-4,6-bis(2,4-dimetil)-1,3,5-triazina, 2-[2-hidróxi-4-(2-hidróxi-3-octiloxipropilóxi) fenil]-4,6-bis(2,4-dimetil)-1,3,5-triazina, 2-[4-(dodeciloxi/tridecilóxi-2-hidroxipropóxi)-2-hidroxifenil]-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5^na, 2-[2-hidróxi-4-(2-hidróxi-3-dodeciloxipropóxi) fenil]-4,6-bis(2,4-dimetil fe-nil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-hexilóxi) fenil-4,6-difenil-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-metoxifenil)-4,6-difenil-1,3,5-triazina, 2,4,6-tris [2-hidróxi-4-(3-butó-xi-2-hidroxipropóxi)fenil]-1,3,5-triazina, 2-4-6-fenil-1,3,5-triazina (2-hidroxife-nil) (4-metoxifenil), 2-{2-hidróxi-4-[3-(2-etilexilóxi-1)-2-hidroxipropilóxi] fenil}-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina.
3. Desativadores metálicos, por exemplo, Ν,Ν'-difeniloxamida, N-salicilal-N'-saliciloilidrazina, N,N'-bis(saliciloil)hidrazina, N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)hidrazina, 3-saliciloilamino-1,2,4-triazol, bis(bem-zilidano)oxalil diidrazida, oxanilida, isoftaloil diidrazida, sebacoil bisfenilhdra-zida, Ν,Ν'-diacetiladipoil diidrazida, N,N'-bis(saliciloil)oxalil diidrazida, N,N'-bis(saliciloil) tiopropionil diidrazida.
4. Fosfitos e fosfonitos adicionais, por exemplo, fosfito de trifeni-la, fosfitos de difenilalquila, fosfitos de fenildialquila, tris fosfito (nonilfenila),fosfito de trilaurila, fosfito de trioctadecila, difosfito de distearilpentaeritritol,fosfito de tris(2,4-di-terc-butilfenil), difosfito de diisodecil pentaeritritol, difosfi-to de bis(2,4-di-terc-butilfenil)pentaeritritol, difosfito de bis(2,4-di-cumilfenil)pentaeritritol, difosfito de bis(2,6-di-terc-butil-4-metilfenil)pentaeritritol, difosfi-to de diisodecilóxi pentaeritritol, difosfito de bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)pentaeritritol, difosfito de bis(2,4,6-tris (terc-butil fenil)pentaeritritol, trifosfitode tri-estearil sorbitol, tetraquis (2,4-di-terc-butilfenil)4,4'-bifenileno difosfoni-ta, 6-isooctilóxi-2,4,8,10-tetra-terc-butil-12H-dibenzil[d,g]-1,3,2-dioxafosfoci-na, fosfito de bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)metila, fosfito de bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)etila, 6-flúor-2,4,8,10-tetra-terc-butil-12-metil-dibenz[d,g]-1,3,2-dioxafosfocina, 2,2,,2"-nitrila [trietiltris(3,3\5,5'-tetra-terc-butil-1,1 '-bife-nil-2,2'-diil) fosfito], 2-etilexil (3,3',5,5,-tetra-terc-butil-1 ,r-bífenil^-diil) fosfi-to, 5-butil-5-etil-2-(2,4,6-tri-terc-butilfenóxi)-1,3,2-dioxafosfirano.
Os seguintes fosfitos são particularmente preferidos:
Tris (2,4-di-terc-butilfenil) fosfito (lrgafos®168, Ciba SpecialtyChemicals), tris (nonilfenil) fosfito,
<formula>formula see original document page 47</formula><formula>formula see original document page 48</formula>
5. Nitronas adicionais, por exemplo, N-benzil-alfa-fenilnitrona, N-etil-alfa-metilnitrona, N-octil-alfa-heptilnitrona, N-lauril-alfa-undecilnitrona, N-tetradecil-alfa-tridecilnitrona, N-hexadecil-alfa-pentadecilnitrona, N-octadecil-alfa-heptadecilnitrona, N-hexadecil-alfa-heptadecilnitrona, N-ocatadecil-alfa-pentadecilnitrona, N-heptadecil-alfa-heptadecilnitrona, N-octadecil-alfa-hexa-decilnitrona, nitrona derivada de Ν,Ν-dialquilidroxil amina derivada de aminahidrogenada de sebo.
6. Tiossinerqísticos. por exemplo, tiodipropionato de dilaurila outiodipropionato de distearila.
7. Seqüestrantes de peróxido. por exemplo, ésteres ácido a-tio-dipropiônico, por exemplo, os ésteres de laurila, estearila, miristila ou trideci-la, mercaptobenzimidazol ou o sal de zinco dos 2-mercapto benzimidazol,zinco dibutil ditiocarbamato de pentaeritritol, dissulfeto de dioctadecila, tetra-quis(a-dodecilmercapto)propionato.
8. Estabilizadores de poliamida, sais, por exemplo, de cobre emcombinação com iodetos e/ou compostos de fósforo e sais de manganêsdivalente.
9. Co-estabilizadores básicos, por exemplo, melamina, polivinil-pirrolidona, dicianodiamida, cianurato de trialila, derivados de uréia, poliami-da, poliuretano, sais de metal alcalino e sais de metal alcalino-terrosos deácidos graxos superiores, por exemplo, estearato de cálcio, estearato dezinco, behenato de magnésio, estearato de magnésio, ricinoleato de sódio epalmitato de potássio, pirocatecholato de antimônio ou pirocatecholato dezinco.
10. Agentes de nucleacão, por exemplo, substâncias inorgâni-cas, tais como talco, oxido metálico, tal como dióxido de titânio ou óxido demagnésio, fosfatos, carbonatos ou sulfato de, preferivelmente, metais alcali-no-terrosos; compostos orgânicos, tal como ácidos mono ou policarboxílicose os sais dos mesmos, por exemplo, ácido 4-terc-butilbenzoico, ácido adípi-co, ácido difenilacetico, succinato de sódio ou benzoato de sódio; compostospoliméricos, tais como copolímeros iônico (ionômeros). Particularmente pre-ferido são 1,3:2,4-bis(3',4'-dimetil benzilidano)sorbitol, 1,3:2,4-di(parametildibenzilideno) sorbitol, e 1,3:2,4-di (benzilidano) sorbitol.
11. Agentes de carga e agentes reforço adicionais, por exemplo,carbonato de cálcio, silicato, fibras de vidro, bulbos de vidro, fibras de açoinoxidável, fibras de aramida, asbesto, talco, caulim, mica, sulfato de bário,óxido metálico e hidróxido, negro-de-fumo, grafite, serragem e pós ou fibrasde outros produtos naturais, fibras sintéticas.
12. Outros aditivos, por exemplo, misturas de reagentes de com-patibilização, plastificantes, lubrificantes, emulsificantes, pigmentos, aditivosde reologia, catalisadores, agentes de controle do fluxo, branqueadores óti-cos, agentes de proteção contra chama, agentes antiestáticos e agentes desopro.
13. Benzofuranonas e indolinonas adicionais, por exemplo, osdescritos nas Especificações de Patente US N- 4.325.863; 4.338.244;5.175.312; 5.216.052; ou 5.252.643; DE 4316611; DE 4316622; DE4316876; EP-A-0589839 ou EP-A-0591102 ou 3-[4-(2-ace toxietóxi)fenil]-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona-5,7-di-terc-butil-3-[4-(2-estearoiloxietóxi)fenil]benzofuranona-2,3,3'-bis[5,7-di-terc-butil-3-(4-[2-hidroxietóxi]fenil) benzofu-ran-2-ona], 5,7-di-terc-butil-3-benzofuran-2-ona-(4-etoxifenil), 3-(4-acetóxi-3,5-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butil benzofuran-2ona-3-(3,5-dimetil-4-pivaloiloxi-fenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona-3-(3,4-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butil-benzofuran-2-ona-3-(2,3-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona.
Os aditivos adicionais preferidos das composições definidas a-cima são estabilizadores de processamento, tais como os fosfitos supracita-dos e antioxidantes fenólicos, e estabilizadores de branqueamento, tais co-mo benzotriazóis. Os antioxidantes específicos preferidos incluem propiona-to de octadecil 3-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)- (IRGANOX 1076). Os esta-bilizadores de processamento específicos incluem tris(2,4-di-terc-butilfenil)fosfito (IRGAFOS 168) e tetraquis(2,4-di-terc-butilfenil)-4,4-[1>1-bifenil]'-diil-bisfosfonita (IRGAFOS P-EPQ). Os estabilizadores à luz específicos incluem2-(2H-benzotriazolil-2)-4,6-bis(1 -metil-1 -feniletil)fenol (TINUVIN 234), 2-(5-cloro (2H)-benzotriazolil-2)-4-(metil)-6-(terc-butil)fenol (TINUVIN 326), 2-(2H-benzotriazolil-2)-4-(1,1,3,3-tetrametilbutil) fenol (TINUVIN 329), 2-(2H-benzo-triazolil-2)-4-(terc-butil)-6-(sec-butil) fenol (TINUVIN 350), 2,2'-metilenobis(6-(2H-benzotriazolil-2)-4-(1,1,3,3-tetrametilbutil) fenol) (TINUVIN 360), e 2-(4,6-1 difenil-1,3,5-triazinil-2)-5-[(hexil)óxi]-fenol (TINUVIN 1577).
Os aditivos acima mencionados são preferivelmente contidos emuma quantidade de 0,01% a 10,0%, especialmente 0,05% a 5,0%, quanto aopeso do componente de polímero b).
A incorporação do componente adicional a) e outros componen-tes opcionais no componente de polímero b) é executada por métodos co-nhecidos, tais como mistura seca na forma de um pó, ou mistura molhada naforma de soluções, dispersões ou suspensão por exemplo, em um solventeinerte, água ou óleo. Os componentes adicionais a) e outros aditivos opcio-nais podem ser incorporados, por exemplo, antes ou depois da moldagemou também aplicando o dispersante dissolvido na mistura adicional ou adi-cional ao material de polímero, com ou sem a evaporação subseqüente dosolvente ou o agente de suspensão/dispersão. Eles podem ser acrescenta-dos diretamente no aparelho de processamento (por exemplo, extrusoras,misturadores internos, etc.), por exemplo, como uma mistura seca ou pó, oucomo uma solução ou dispersão ou suspensão ou fusão.
A adição dos componentes adicionais ao substrato polimérico b)pode ser executada em todas as máquinas de mistura usuais nas quais opolímero é derretido e misturado com os aditivos. As máquinas convenientessão conhecidas aos versados na técnica. Elas são predominantemente mis-turadores, moinhos e extrusoras.
O processo é preferivelmente executado em uma extrusora in-troduzindo o aditivo durante o processamento.
As máquinas de processamento particularmente preferidas sãoextrusoras de parafuso único, extrusoras de parafusos gêmeos contra rotató-rios, extrusoras de engrenagem planetária, extrusoras de anel ou co-moinhos. É também possível usar máquinas de processamento providas depelo menos um compartimento de remoção de gás ao qual o vácuo pode seraplicado.
Extrusoras e moinhos adequados são descritos, por exemplo, noHandbuch der Kunststoffextrusion, Voi 1 Grundlagen, Editors F. Hensen, W.Knappe, H. Potente, 1989, pp. 3-7, ISBN:3-446-14339-4 (Vol. 2 Extrusion-sanlagen 1986, ISBN 3-446-14329-7).
Por exemplo, o comprimento de parafuso é de 1 a 60 diâmetrosdo parafuso, preferivelmente de 35 a 48 diâmetros do parafuso. A velocidaderotativa do parafuso é preferivelmente de 10 a 600 rotações por minuto(rpm), preferivelmente de 25 a 300 rpm.
A máxima quantidade tratada é dependente do diâmetro de pa-rafuso, da velocidade de rotação e da força motriz. O processo da presenteinvenção também pode ser executado a um nível mais baixo do que a quan-tidade tratada máxima variando os parâmetros mencionados ou empregandomáquinas de pesagem liberando quantidades dosadas.
Se diversos componentes forem acrescentados, estes podemser pré-misturados ou serem acrescentados individualmente.O componente de aditivos a) e aditivos adicionais opcionaistambém podem ser borrifados no substrato polimérico b). A mistura adicionaldiluem outros aditivos, por exemplo, os aditivos convencionais indicados a-cima, ou a suà mistura para que eles possam ser borrifados também emconjunto com estes aditivos para o substrato polimérico. A adição borrifadadurante a desativação dos catalisadores de polimerização é particularmentevantajosa; neste caso, o vapor desenvolvido pode estar usado para a desati-vação do catalisador. No caso de poliolefinas esfericamente polimerizadas,por exemplo, pode ser vantajoso aplicar os aditivos de acordo com a presen-te invenção, opcionalmente em conjunto com outros aditivos, por borrifamen-to.
O componente adicional (a) e aditivos adicionais opcionais tam-bém pode ser acrescentados ao polímero na forma de uma batelada master("concentrado") contendo os componentes em uma concentração de, porexemplo, aproximadamente 1,0% a aproximadamente 40,0% e preferivel-mente 2,0% a aproximadamente 20,0% em peso incorporado em um políme-ro. O polímero é não necessariamente de estrutura idêntica do polímero on-de os aditivos são finalmente acrescentados. Em tais operações, o polímeropode estar usado na forma de pó, grânulos, soluções, e suspensão ou naforma de treliças.
A incorporação pode ocorrer antes ou durante a operação daformação. Os materiais contendo aditivos de acordo com a presente inven-ção aqui descrita preferivelmente são usados para a produção de artigosmoldados, artigos por exemplo, rotomoldados, artigos de moldagem por inje-ção, perfis e similares e particularmente uma fibra, um tecido tramado portorção, filme ou espuma.
Assim, a presente invenção também pertence a um artigo mol-dado ou extrudado, uma fibra, um tecido não tecido tramado por torção ouuma espuma compreendendo a composição de acordo com a presente in-venção.
Os seguintes exemplos ilustram a presente invenção:Exemplos
Materiais e Métodos
A Resina PC 145 (GE Plásticos) é seca a vácuo por 8 h a 120°Ce estabilizada com IRGAFOS® P-EPQ (Ciba Specialty Chemicals). O Dyne-on PA5931 (=PTFE) é usado como um agente antidispersante.
As composições do policarbonato mostradas na Tabela 1 sãoextrudadas em uma Haake TW-100 a 280°C e granulada pela granulação defibra. Depois de secar a 120°C por 12 h, as composições granuladas sãomoldadas por injeção a 290°C em placas de moldagem com espessura de1,6 mm ou de 3,2 mm de acordo com o padrão de retardo de chama do Un-derwriter's Laboratories UL-94.
O retardo de chama é testado de acordo com o UL-94 no modovertical.
<table>table see original document page 53</column></row><table>
Retardantes de chamas (FR) presentes na composição:
(1) TINOPAL SFP: 4,4,-bis(2-amino-4-monoetanolamino-6-S-triazinil)-diaminoestilbeno-2,2'-dissulfonato de sódio (fórmula estrutural aci-ma, cf. definições do componente a)).
(2) TINOGARD HS: 3-(2H-benzotriazolil-2)-4-hidróxi-5-benzeno(l-metilpropil)sulfonato de sódio (fórmula estrutural acima, cf. definições docomponente a)).
(3) TINOPAL CBS: 2,2,-(4,4'-bifenildiildi-2,1-etenodiil)-dibenze-nossulfonato dissódico (fórmula estrutural acima, cf. definições do compo-nente a)).
(4) TINOGARD AO 6 (fórmula estrutural acima, cf. definições decomponente (a)).
(5) TINOGARD AO 6 K (sal de potássio do TINOGARD AO 6, cf.definições de componente a).

Claims (8)

1. Composição compreendendo:a) pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecio-nado do grupo consistindo em:a1) sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico da fórmula:<formula>formula see original document page 55</formula>em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam -NH2,-NH-alquil(C1-C4), -N(alquil(CrC4))2> -NH-hidróxi-alquil(C2-C4), -N(hidróxi-alquil(C2-C4))2l -N(alquil(C1-C4))(hidróxi-alquil(C2-C4)), fenilamina, difenilami-na, fenilamina ou difenilamina substituída por 1 a 3 substituintes seleciona-dos do grupo consistindo em -S(=0)2-C)· M+, alquil(CrC4) e alcóxi(C1-C4), ouheterocíclico saturado de 5 ou 6 membros com heteroátomo de N;R1' e R2' são definidos tal como R1 e R2; eM+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma amina;a2) sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico dafórmula:<formula>formula see original document page 55</formula>em que:R1 representa o hidrogênio, alquil(C1-C4) ou o grupo S(=0)2-0· M+;R2 representa o hidrogênio ou hidróxi;R3 representa o hidrogênio, alquil(C1-C4), alcóxi(C1-C4) ou benzi-la; eM+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma àmina;ae) derivados substituídos do sulfofenil bisestilbeno da fórmula:<formula>formula see original document page 56</formula>em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou um substituinte se lecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0" M+,alquil(C1-C4), fenil-alquil(C1-C4), hidróxi e alcóxi(C1-C4);R1' R2' e R3' independentemente um do outro representam o hi-drogênio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0"M+, alquil(C1-C4), fenil-alquil(C1-C4), hidróxi e alcóxi(C1-C4); eM+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma amina; ea4) derivados de 2,5-bis-(benzoxazolil)-tiofeno substituído porsulfo da fórmula:<formula>formula see original document page 56</formula> em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0" M+,alquil(C1-C4), fenil-alquil(C1-C4), hidróxi e alcóxi(C1-C4);R11, R21 e R3' R1 e R2 independentemente um do outro represen-tam o hidrogênio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo emS(=0)2-0" M+, alquil(C1-C4), fenil-alquil(C1-C4), hidróxi e alcóxi(C1-C4); eM+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma amina;a5) derivados de fenol substituído por sulfo da fórmula:<formula>formula see original document page 57</formula>em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em alquil(C1-C4),cicloalquil(C5-C6), cicloalquil(C5-C6)-alquil(C1-C4), arila e aril-alquil(C1-C4);R3 representa o hidrogênio ou alquil(C1-C4);X representa alquileno(C2-C6);Ar representa fenila, fenila substituída por 1 ou 2 substituintesselecionados do grupo consistindo em alquil(CrC4), cicloalquil(C5-C6), ciclo-alquil(C5-C6)-alquil(Ci-C4), arila e aril-alquil(CrC4), naftila ou naftila substituí-da por 1 a 4 alquil(CrC4); eM+ representa um átomo de metal alcalino, amônio ou um cátionformado de uma amina; e como um componente adicional um agente anti-dispersante; eb) um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarbonato.
2. Composição de acordo com a reivindicação 1, compreenden-do:a) pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecio-nado do grupo consistindo em:a1) sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico (I), em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam -NH2, -N(alquil(Ci-C4))2l fenil amino substituído por 1 a 3 substituintes selecionadosdo grupo consistindo em -S(=0)2-0" M+, alquil(CrC4) e alcóxi(Ci-C4), ou N-heterocíclica saturada de 5 ou 6 membros;R1' e R2' são definidos tal como Ri e R2; eM+ representa um átomo de metal alcalino;a2) sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico(ll),em queR1 representa o hidrogênio;R2 representa o hidrogênio; eR3 representa o hidrogênio ou alquil(Ci-C4); eM+ representa um átomo de metal alcalino;a3) derivados substituídos do sulfofenil bisestilbeno (III), em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(C1-C4);um dos R1', R21 e R3' representam S(=0)2-0" M+ e os outros re-presentam o hidrogênio ou alquil(C1-C4); eM+ representa um átomo de metal alcalino; ea4) derivados de 2,5-bis-(benzoxazolil)-tiofeno substituído porsulfo (IV), em queR1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(C1-C4);R1', R2' e R3' independentemente um do outro representam o hi-drogênio ou um substituinte selecionado do grupo consistindo em S(=0)2-0'M+ e alquil(C1-C4); eM+ representa um átomo de metal alcalino; ea5) derivados de fenol substituído por sulfo (V), em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(C1-C4);R3 representa o hidrogênio ou alquil(C1-C4);X representa alquileno(C2-C6);Ar representa fenila ou fenila substituída por 1 ou 2 alquil(C1-C4);M+ representa um átomo de metal alcalino;eb) um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarboanato.
3. Compasicao de acordo com a reivindicacao 1, compreendendo:a) pelo menus um sal de um acido sulfonico aromatico selecionado do grupo consistindo em:a1) sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico (I), em que:R1 e R2 independentemente um do outro representam -N (al-quil(Ci-C4))2, fenilamina substituída por 1 ou 2 -S(=0)2-0" M+, ou morfolinila;M+ representa um átomo de metal alcalino; eR1' e R2' são definidos tal como R1 e R2;a2) sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico(ll),em que:R1 representa o hidrogênio ou alquil(C1-C4);R2 representa o hidrogênio ou hidróxi; eR3 representa o hidrogênio ou alquil(Ci-C4); eM+ representa um átomo de metal alcalino; ea3) derivados de bisestilbeno substituído por sulfofenil (III), emque:R1 e R2 independentemente um do outro representam o hidrogê-nio ou alquil(C1-C4);um dos R1', R2' e R3' representam -S(=0)2-O- M+ e os outros re-presentam o hidrogênio ou alquil(C1-C4); ea5) derivados de fenol substituído por sulfo (V), em que:um dos R1 e R2 representa metila e outro representa terc-butilaou ambos de R1 e R2 representam terc-butila;R3 representa o hidrogênio ou metila;X representa alquileno(C2-C4);Ar representa fenila substituída por 1 metila e 1 terc-butila ou por-2 terc-butila; eM+ representa um átomo de metal alcalino; eb) um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarbonato.
4. Composição de acordo com a reivindicação 1, compreenden-do:a) pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecio-nado do grupo consistindo em:a1) sais do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico (I), em que:um dos Ri e Ffe representa -N(alquil(CrC4))2 e outro representafenilamina substituída por 2 -S(=0)2-0' M+;R1' e R2' são definidos tal como Ri e R2; eM+ representa um átomo de metal alcalino;a2) sais do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônico(ll),em que:Ri e R2 representam o hidrogênio; eR3 representa o hidrogênio ou alquil(C1-C4); eM+ representa um átomo de metal alcalino; ea3) derivados substituídos do sulfofenil bisestilbeno (III), em que:R1 e R2 representam o hidrogênio;um dos R1', R2' e R3' representam S(=0)2-0" M+ e os outros re-presentam o hidrogênio; eM+ representa um átomo de metal alcalino; ea5) derivados de fenol substituído por sulfo (V), em que:Ri e R2 representam terc-butila;R3 representa o hidrogênio;X representa o etileno;Ar representa fenila substituída por 2 terc-butila; eM+ representa um átomo de metal alcalino; eb) um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarbonato.
5. Composição de acordo com a reivindicação 1, compreenden-do:pelo menos um sal de um ácido sulfônico aromático selecionadodo grupo consistindo em:ai) um sal do ácido triazinilamino estilbeno dissulfônico da fórmu-la:<formula>formula see original document page 61</formula> a2) um sal do ácido 2-(2-hidroxifenil)-2H-benzotriazolil sulfônicoda fórmula:<formula>formula see original document page 61</formula>a3) um derivado substituído do sulfofenil bisestilbeno da fórmula:<formula>formula see original document page 61</formula>a5) um derivado de fenol substituído por sulfo da fórmula:<formula>formula see original document page 61</formula>b) um substrato polimérico compreendendo o policarbonato oumisturas de policarbonato.
6. Composição de acordo com a reivindicação 1, que adicional-mente compreende como um componente adicional um agente antidisper-sante.
7. Composição de acordo com a reivindicação 1, que adicional-mente compreende aditivos adicionais selecionados do grupo consistindoem estabilizadores de polímero e retardantes de chama adicionais.
8. Processo para fornecer o retardamento de chama a um subs-trato polimérico compreendendo os policarbonatos ou misturas de policarbo-nato, cujo processo compreende a adição ao dito substrato polimérico do salde um ácido sulfônico aromático como definido na reivindicação 1.
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