BR112021005177A2

BR112021005177A2 - método e sistema de imageamento de resistividade

Info

Publication number: BR112021005177A2
Application number: BR112021005177-5A
Authority: BR
Inventors: Baris Guner; Luis Emilio San Martin
Original assignee: Halliburton Energy Services Inc.
Priority date: 2018-11-15
Filing date: 2018-11-15
Publication date: 2021-06-08
Also published as: US11754741B2; US11249217B2; BR112021005177B1; US20220107441A1; NO20210261A1; WO2020101692A1; US20210048554A1; BR112021005177B8

Abstract

MÉTODO E SISTEMA DE IMAGEAMENTO DE RESISTIVIDADE. Método e sistema para imageamento de resistividade. Um método pode compreender dispor uma ferramenta de fundo de poço em um poço, aplicar uma diferença de voltagem entre o arranjo de eletrodos injetores, construir um primeiro conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências, aplicar um algoritmo de remoção de efeito de lama para produzir um segundo conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências, aplicar um algoritmo de correção dielétrica a cada uma da pluralidade de frequências para produzir um terceiro conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências e combinar o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para obter uma imagem misturada. Um sistema para imageamento de resistividade pode compreender uma ferramenta de fundo de poço. A ferramenta de fundo de poço pode compreender uma almofada, uma matriz de eletrodos injetores e um ou mais eletrodos de retorno.

Description

MÉTODO E SISTEMA DE IMAGEAMENTO DE RESISTIVIDADE FUNDAMENTOS

[001] Poços perfurados para formações subterrâneas podem permitir recuperação de fluidos desejáveis (por exemplo, hidrocarbonetos) usando uma série de técnicas diferentes. Uma ferramenta de fundo de poço pode ser empregada em operações subterrâneas para determinar propriedades de poço e/ou formação.

[002] Tradicionalmente, ferramentas de imageador de poço podem ser usadas na obtenção de uma caracterização detalhada de reservatórios. Estas ferramentas de imageador de poço podem fornecer uma imagem de resistividade da formação imediatamente circundando o poço. Ferramentas de imageador de furo de poço podem ser usadas para determinar estratigrafia de formação, mergulhos das camadas de formação, bem como, estresse de furo de poço e formação. Durante as operações de perfuração, as ferramentas de imageador de poço podem ser particularmente importantes no aprendizado sobre leitos finos e locais de fratura. Lamas à base de óleo podem proporcionar um desempenho mais elevado do que as lamas à base de água e podem ser preferíveis em ambientes de águas profundas onde alta temperatura e pressão causam perda de água e em zonas de xisto onde a água pode causar intumescimento. No entanto, a lama à base de óleo pode ser altamente resistiva. Em baixas frequências, esta resistência pode reduzir a sensibilidade das ferramentas de imageador de poço para a formação externa.

[003] Para superar este efeito, as ferramentas podem operar em altas frequências. Nessas altas frequências, as almofadas nas ferramentas de imageador de poço podem se tornar capacitivamente acopladas à formação, reduzindo o efeito da lama à base de óleo. Além disso, quando a resistividade da formação é alta, os imageadores de lama à base de óleo podem exibir um efeito de roll-off dielétrico que pode fazer com que a impedância medida diminua à medida que a resistividade da formação aumenta. Este efeito pode ser mais pronunciado em frequências de operação mais altas, o que pode distorcer as medições da ferramenta de imageador de poço.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS

[004] Para uma descrição detalhada dos exemplos preferidos da invenção, será agora feita referência aos desenhos anexos nos quais: A Figura 1 ilustra um exemplo de um sistema de medição de POÇço; A Figura 2 ilustra outro exemplo de um sistema de medição de POÇço; A Figura 3 ilustra um exemplo de uma almofada; A Figura 4 ilustra um exemplo de um modelo de circuito de uma ferramenta de fundo de poço; A Figura 5 ilustra um gráfico da parte real da impedância medida versus a resistividade da formação; A Figura 6 ilustra um exemplo de um algoritmo de processamento 290; A Figura 7 ilustra um exemplo de um gráfico após a aplicação do processamento 290; A Figura 8 ilustra um exemplo de um gráfico após a correção para um efeito dielétrico; A Figura 9 ilustra um exemplo de um fluxograma; A Figura 10 ilustra um exemplo de um gráfico do processamento misturado; A Figura 11 ilustra um exemplo de um gráfico do processamento misturado; A Figura 12 ilustra um exemplo de um fluxograma; A Figura 13 ilustra um exemplo de um fluxograma; A Figura 14 ilustra um exemplo de uma função de mistura; A Figura 15A-C ilustra um exemplo de imagens de formação de resistividade aparente; e

A Figura 16 ilustra um exemplo de uma imagem final de formação misturada de resistividade aparente.

DESCRIÇÃO DETALHADA

[005] A presente divulgação refere-se geralmente a um sistema e método para combinar os resultados de um algoritmo de remoção de efeito de lama, juntamente com os resultados de um algoritmo de correção dielétrica, para obter uma imagem de formação mais precisa da formação circundando o poço ao longo de uma ampla faixa de parâmetros de formação de um dispositivo de fundo de poço. O sistema e o método propostos podem aumentar a qualidade das imagens de formação obtidas com imageadores de lama à base de óleo através do processamento. Em particular, uma imagem de formação pode ser fornecida com contraste melhorado em formações de baixa e alta resistividade onde os imageadores de lama à base de óleo tradicionais tiveram um desempenho ruim. Em regiões onde um efeito de lama pode ser prevalente, os resultados obtidos após a remoção do efeito de lama em diferentes frequências de operação podem ser semelhantes. Além disso, nas regiões onde a correção dielétrica pode ser precisa, os resultados processados em diferentes frequências devem coincidir. Assim, pode ser benéfico combinar os resultados de dois desses algoritmos com base em suas variações de frequência.

[006] A Figura 1 ilustra uma vista em corte transversal de um sistema de medição de poço 100. Como ilustrado, o sistema de medição de poço 100 pode compreender a ferramenta de fundo de poço 102 fixada a um veículo 104. Nos exemplos, deve-se notar que a ferramenta de fundo de poço 102 pode não ser fixada a um veículo 104. A ferramenta de fundo de poço 102 pode ser suportada pela sonda 106 na superfície 108. A ferramenta de fundo de poço 102 pode ser amarrada ao veículo 104 através do transporte 110. O transporte 110 pode ser disposto em torno de uma ou mais rodas de roldana 112 para o veículo

104. O transporte 110 pode incluir qualquer meio adequado para fornecer transporte mecânico para a ferramenta de fundo de poço 102, incluindo, mas não limitado a, cabo de aço, cabo liso, tubulação espiralada, tubo, tubo de perfuração, coluna de perfuração, trator de fundo de poço ou semelhantes. Em alguns exemplos, o transporte 110 pode fornecer suspensão mecânica, bem como conectividade elétrica, para a ferramenta de fundo de poço 102.

[007] O transporte 110 pode compreender, em alguns casos, uma pluralidade de condutores elétricos que se estendem do veículo 104. O transporte 110 pode compreender um testemunho interno de sete condutores elétricos cobertos por um invólucro isolante. Uma bainha de armadura de aço interna e externa pode ser enrolada em uma hélice em direções opostas em torno dos condutores. Os condutores elétricos podem ser usados para comunicar energia e telemetria entre o veículo 104 e a ferramenta de fundo de poço 102.

[008] O transporte 110 pode abaixar a ferramenta de fundo de poço 102 no poço 124. Geralmente, o poço 124 pode incluir geometrias e orientações horizontais, verticais, inclinadas, curvas e outros tipos de poços. Ferramentas de imageamento podem ser usadas em seções não revestidas do poço. As medições podem ser feitas pela ferramenta de fundo de poço 102 em seções revestidas para fins tais como calibração.

[009] Como ilustrado, o poço 124 pode se estender através da formação

132. Como ilustrado na Figura 2, o poço 124 pode se estender geralmente verticalmente para a formação 132, no entanto, o poço 124 pode se estender em um ângulo através da formação 132, tal como poços horizontais e inclinados. Por exemplo, embora a Figura 2 ilustre um poço de ângulo de inclinação vertical ou baixo, o ângulo de inclinação elevado ou a colocação horizontal do poço e do equipamento podem ser possíveis. Deve-se notar ainda que, embora a Figura 2 represente geralmente uma operação terrestre, aqueles versados na técnica podem reconhecer que os princípios descritos neste documento são igualmente aplicáveis a operações submarinas que empregam plataformas e sondas flutuantes ou marítimas, sem se afastar do escopo da divulgação.

[0010] As informações da ferramenta de fundo de poço 102 podem ser coletadas e/ou processadas pelo sistema de manipulação de informações 114. Por exemplo, os sinais registrados pela ferramenta de fundo de poço 102 podem ser armazenados na memória e depois processados pela ferramenta de fundo de poço

102. O processamento pode ser realizado em tempo real durante a aquisição de dados ou após a recuperação da ferramenta de fundo de poço 102. O processamento pode alternativamente ocorrer no fundo do poço ou pode ocorrer tanto no fundo do poço quanto na superfície. Em alguns exemplos, os sinais registrados pela ferramenta de fundo de poço 102 podem ser conduzidos ao sistema de manipulação de informações 114 por meio do transporte 110. O sistema de manipulação de informações 114 pode processar os sinais e as informações nele contidas podem ser exibidas para um operador observar e armazenadas para processamento e referência futuros. O sistema de manipulação de informações 114 também pode conter um aparelho para fornecer sinais de controle e energia para a ferramenta de fundo de poço 102.

[0011] Sistemas e métodos da presente divulgação podem ser implementados, pelo menos em parte, com o sistema de manipulação de informações 114. Embora mostrado na superfície 108, o sistema de manipulação de informações 114 também pode estar localizado em outro local, tal como remoto do poço 124. O sistema de manipulação de informações 114 pode incluir qualquer instrumentalidade ou agregado de instrumentalidades operáveis para computar, estimar, classificar, processar, transmitir, receber, recuperar, originar, alternar, armazenar, exibir, manifestar, detectar, registrar, reproduzir, manipular ou utilizar qualquer forma de informação, inteligência ou dados para fins comerciais, científicos, de controle ou outros. Por exemplo, um sistema de manipulação de informações 114 pode ser uma unidade de processamento 116, um dispositivo de armazenamento de rede ou qualquer outro dispositivo adequado e pode variar em tamanho, forma, desempenho, funcionalidade e preço. O sistema de manipulação de informações 114 pode incluir memória de acesso aleatório (RAM), um ou mais recursos de processamento, tal como uma unidade de processamento central (CPU) ou lógica de controle de hardware ou software, ROM e/ou outros tipos de memória não volátil. Componentes adicionais do sistema de manipulação de informações 114 podem incluir uma ou mais unidades de disco, uma ou mais portas de rede para comunicação com dispositivos externos, bem como um dispositivo de entrada 118 (por exemplo, teclado, mouse, etc.) e visor de vídeo 120. O sistema de manipulação de informações 114 também pode incluir um ou mais barramentos operáveis para transmitir comunicações entre os vários componentes de hardware.

[0012] Alternativamente, os sistemas e métodos da presente divulgação podem ser implementados, pelo menos em parte, com meios legíveis por computador não transitórios 122. Os meios legíveis por computador não transitórios 122 podem incluir qualquer instrumentalidade ou agregação de instrumentalidades que possam reter dados e/ou instruções por um período de tempo. Os meios legíveis por computador não transitórios 122 podem incluir, por exemplo, meios de armazenamento, tais como um dispositivo de armazenamento de acesso direto (por exemplo, uma unidade de disco rígido ou unidade de disquete), um dispositivo de armazenamento de acesso sequencial (por exemplo, uma unidade de disco de fita), disco compacto, CD-ROM, DVD, RAM, ROM, memória somente de leitura programável apagável eletricamente (EEPROM) e/ou memória flash; bem como meios de comunicação, tais como fios, fibras ópticas, micro-ondas, ondas de rádio e outros transportadores eletromagnéticos e/ou ópticos; e/ou qualquer combinação dos anteriores.

[0013] Como discutido abaixo, os métodos podem utilizar um sistema de manipulação de informações 114 para determinar e exibir uma imagem de resistividade de alta resolução da formação 132 imediatamente circundando o poço 124. Esta imagem de resistividade de alta resolução pode representar limites de estruturas de subsuperfície, tal como uma pluralidade de camadas dispostas na formação 132. Estas imagens de formação podem ser usadas na caracterização do reservatório. Imagens de formação com alta resolução podem permitir a identificação precisa de leitos finos e outras características finas, como fraturas, clastos e vugs. Estas imagens de formação podem fornecer informações sobre a sedimentologia, litologia, porosidade e permeabilidade da formação 132. As imagens de formação podem complementar, ou em alguns casos substituir, o processo de testemunhagem.

[0014] Nos exemplos, a sonda 106 inclui uma célula de carga (não mostrada) que pode determinar a quantidade de tração no transporte 110 na superfície do poço 124. O sistema de manipulação de informações 114 pode compreender uma válvula de segurança que controla a pressão hidráulica que aciona o tambor 126 no veículo 104 que pode enrolar e/ou liberar o transporte 110 que pode mover a ferramenta de fundo de poço 102 para cima e/ou para baixo do poço 124. O transporte 110 pode fornecer um meio de dispor a ferramenta de fundo de poço 102 no poço 124. A válvula de segurança pode ser ajustada a uma pressão de modo que o tambor 126 só possa conferir uma pequena quantidade de tensão ao transporte 110 além e acima da tensão necessária para recuperar o transporte 110 e/ou a ferramenta de fundo de poço 102 do poço 124. A válvula de segurança é tipicamente ajustada algumas centenas de libras acima da quantidade de tração segura desejada no transporte 110 de tal modo que uma vez que o limite é excedido; a tração adicional no transporte 110 pode ser evitada.

[0015] A ferramenta de fundo de poço 102 pode compreender uma pluralidade de eletrodos, tal como o arranjo de botões 128. A ferramenta de fundo de poço 102 também pode compreender um eletrodo de retorno 130. Deve-se notar que a pluralidade de eletrodos do arranjo de botões 128 pode ser qualquer eletrodo adequado e deve-se notar ainda que o eletrodo de retorno 130 pode ser qualquer eletrodo adequado. O arranho de botões 128 e/ou o eletrodo de retorno 130 podem ser dispostos em pelo menos uma almofada 134 em qualquer ordem adequada. Por exemplo, uma almofada 134 pode incluir apenas arranjos de botões 128 e/ou eletrodos de retorno 130. Além disso, uma almofada 134 pode compreender tanto o arranjo de botões 128 quanto os eletrodos de retorno 130. As almofadas 134 podem ser fixadas a pelo menos um braço 136 que pode se estender a partir da ferramenta de fundo de poço 102. O braço 136 pode estender a almofada 134 para longe da ferramenta de fundo de poço 102. Nos exemplos, o braço 136 pode colocar a almofada 134 em contato com o poço

124. Deve ser notado que pode haver uma pluralidade de braços 136. Um ou mais braços 136 podem colocar um arranjo de arranjos de botões 128 e/ou eletrodo de retorno 130 em estreita proximidade com a parede do poço 124.

[0016] Durante as operações, um operador pode energizar um eletrodo individual, ou qualquer número de eletrodos, do arranjo de botões 128. Uma voltagem pode ser aplicada entre o eletrodo e o eletrodo de retorno 130. O nível da voltagem pode ser controlado pelo sistema de manipulação de informações

114. Isto pode fazer com que as correntes sejam transmitidas através do eletrodo do arranjo de botões 128. Deve ser notado que pode haver qualquer número de correntes transmitidas para a formação 132. Estas correntes podem viajar através da lama disposta no poço 124 e na formação 132 e podem alcançar de volta o eletrodo de retorno 130. A quantidade de corrente emitida por cada eletrodo pode ser inversamente proporcional à impedância vista pelo eletrodo. Esta impedância pode ser afetada pelas propriedades da formação 132 e da lama diretamente na frente de cada eletrodo do arranjo de botões 124. Portanto, a corrente emitida por cada eletrodo pode ser medida e registrada a fim de obter uma imagem de formação da resistividade da formação 132.

[0017] Para produzir uma imagem de resistividade da formação 132, uma corrente pode ser transmitida de pelo menos um eletrodo do arranjo de botões 128 e retornar ao eletrodo de retorno 130. Estes dois eletrodos podem ser referidos como os eletrodos de corrente. Em seguida, a queda de voltagem através do eletrodo do arranjo de botões 128 pode ser medida e usada para estimar a impedância da formação 132. Nestas implementações alternativas, os eletrodos podem ser referidos como eletrodos de voltagem ou eletrodos de monitoramento. O método proposto pode operar em qualquer um dos dois projetos acima ou qualquer outra ferramenta de imageador de resistividade de lama à base de óleo semelhante sem quaisquer limitações.

[0018] Nos exemplos, a ferramenta de fundo de poço 102 pode operar com equipamento adicional (não ilustrado) na superfície 108 e/ou disposta em um sistema de medição de poço separado (não ilustrado) para registrar medições e/ou valores da formação 132 para renderizar uma imagem de resistividade da formação 132. Sem limitação, a ferramenta de fundo de poço 102 pode ser conectada e/ou controlada pelo sistema de manipulação de informações 114, que pode ser disposto na superfície 108. Sem limitação, o sistema de manipulação de informações 114 pode ser disposto furo abaixo na ferramenta de fundo de poço

102. O processamento de informações registradas pode ocorrer no fundo do poço e/ou na superfície 108. Além de, ou no lugar do processamento na superfície 108, o processamento pode ocorrer no fundo do poço. O processamento que ocorre no fundo do poço pode ser transmitido para a superfície 108 para ser registrado, observado e/ou analisado adicionalmente. Além disso, as informações registradas no sistema de manipulação de informações 114 que podem ser dispostas no fundo do poço podem ser armazenadas até que a ferramenta de fundo de poço 102 possa ser trazida para a superfície 108. Nos exemplos, o sistema de manipulação de informações 114 pode se comunicar com a ferramenta de fundo de poço 102 através de um cabo de fibra óptica (não ilustrado) disposto no (ou ligado) transporte 110. Nos exemplos, a comunicação sem fio pode ser usada para transmitir informações para frente e para trás entre o sistema de manipulação de informações 114 e a ferramenta de fundo de poço

102. O sistema de manipulação de informações 114 pode transmitir informações para a ferramenta de fundo de poço 102 e pode receber, bem como processar, informações registradas pela ferramenta de fundo de poço 102. Nos exemplos, um sistema de manipulação de informações de fundo de poço (não ilustrado) pode incluir, sem limitação, um microprocessador ou outro circuito adequado, para estimar, receber e processar sinais da ferramenta de fundo de poço 102. O sistema de manipulação de informações de fundo de poço (não ilustrado) pode ainda incluir componentes adicionais, tals como memória, dispositivos de entrada/saída, interfaces e semelhantes. Nos exemplos, embora não ilustrados, a ferramenta de fundo de poço 102 pode incluir um ou mais componentes adicionais, tais como conversor analógico-digital, filtro e amplificador, entre outros, que podem ser usados para processar as medições da ferramenta de fundo de poço 102 antes que possam ser transmitidas para a superfície 108. Alternativamente, as medições brutas da ferramenta de fundo de poço 102 podem ser transmitidas para a superfície 108.

[0019] Qualquer técnica adequada pode ser usada para transmitir sinais da ferramenta de fundo de poço 102 para a superfície 108. Como ilustrado, um link de comunicação (que pode ser com fio ou sem fio e pode ser disposto no transporte 110, por exemplo) pode ser fornecido que pode transmitir dados da ferramenta de fundo de poço 102 para um sistema de manipulação de informações 114 na superfície 108.

[0020] A Figura 2 ilustra um exemplo em que a ferramenta de fundo de poço 102 (Referindo-se à Figura 1) pode ser disposta em um sistema de perfuração 200. Como ilustrado, o poço 124 pode se estender de uma cabeça de poço 202 para a formação 132 a partir da superfície 108. Como ilustrado, uma plataforma de perfuração 206 pode suportar uma torre 208 tendo uma catarina 210 para elevar e abaixar a coluna de perfuração 212. A coluna de perfuração 212 pode incluir, mas não está limitada a, tubo de perfuração e tubulação espiralada, como geralmente conhecido por aqueles versados na técnica. Um kelly 214 pode suportar a coluna de perfuração 212, uma vez que pode ser abaixada através de uma mesa rotativa 216. Uma broca de perfuração 218 pode ser fixada à extremidade distal da coluna de perfuração 212 e pode ser acionada por um motor de fundo de poço e/ou através da rotação da coluna de perfuração 212 da superfície 108. Sem limitação, a broca de perfuração 218 pode incluir brocas de rolos cônicos, brocas PDC, brocas de diamante natural, quaisquer abridores de furo, alargadores, brocas de testemunhagem e semelhantes. À medida que a broca de perfuração 218 gira, ela pode criar e estender o poço 124 que penetra várias formações 132. Uma bomba 220 pode circular fluido de perfuração através de um tubo de alimentação 222 para o kelly 214, furo abaixo através do interior da coluna de perfuração 212, através de orifícios na broca de perfuração 218, de volta à superfície 108 através do anular 224 circundando a coluna de perfuração 212 e para um tanque de retenção 226.

[0021] Com referência continuada à Figura 2, a coluna de perfuração 212 pode começar na cabeça de poço 202 e pode atravessar o poço 124. A broca de perfuração 218 pode ser fixada a uma extremidade distal da coluna de perfuração 212 e pode ser acionada, por exemplo, por um motor de fundo de poço e/ou através da rotação da coluna de perfuração 212 da superfície 108 (Referindo-se à Figura 1). A broca de perfuração 218 pode ser uma parte da composição de fundo 228 na extremidade distal da coluna de perfuração 212. À composição de fundo 228 pode ainda compreender a ferramenta de fundo de poço 102 (Referindo-se à Figura 1). A ferramenta de fundo de poço 102 pode ser disposta no exterior e/ou dentro da composição de fundo 228. A ferramenta de fundo de poço 102 pode compreender a célula de teste 234. Como será apreciado por aqueles versados na técnica, a composição de fundo 228 pode ser um sistema de medição durante a perfuração (MWD) ou perfilagem durante a perfuração (LWD).

[0022] Sem limitação, a composição de fundo 228 pode ser conectada e/ou controlada pelo sistema de manipulação de informações 114 (Referindo-se à Figura 1), que pode ser disposto na superfície 108. Sem limitação, o sistema de manipulação de informações 114 pode ser disposto no fundo do poço na composição de fundo 228. O processamento de informações registradas pode ocorrer no fundo do poço e/ou na superfície 108. O processamento que ocorre no fundo do poço pode ser transmitido para a superfície 108 para ser registrado, observado e/ou analisado adicionalmente. Além disso, as informações registradas no sistema de manipulação de informações 114 que podem ser dispostas no fundo do poço podem ser armazenadas até que a composição de fundo 228 possa ser trazida para a superfície 108. Nos exemplos, o sistema de manipulação de informações 114 pode se comunicar com a composição de fundo 228 através de um cabo de fibra óptica (não ilustrado) disposto na (ou ligado) coluna de perfuração 212. Nos exemplos, a comunicação sem fio pode ser usada para transmitir informações para frente e para trás entre o sistema de manipulação de informações 114 e a composição de fundo 228. O sistema de manipulação de informações 114 pode transmitir informações para a composição de fundo 228 e pode receber, bem como processar, informações registradas pela composição de fundo 228. Nos exemplos, um sistema de manipulação de informações de fundo de poço (não ilustrado) pode incluir, sem limitação, um microprocessador ou outro circuito adequado, para estimar, receber e processar sinais da composição de fundo 228. O sistema de manipulação de informações de fundo de poço (não ilustrado) pode ainda incluir componentes adicionais, tais como memória, dispositivos de entrada/saída, interfaces e semelhantes. Nos exemplos, embora não ilustrados, a composição de fundo 228 pode incluir um ou mais componentes adicionais, tais como conversor analógico-digital, filtro e amplificador, entre outros, que podem ser usados para processar as medições da composição de fundo 228 antes que possam ser transmitidas para a superfície

108. Alternativamente, as medições brutas da composição de fundo 228 podem ser transmitidas para a superfície 108.

[0023] Qualquer técnica adequada pode ser usada para transmitir sinais da composição de fundo 228 para a superfície 108, incluindo, mas não se limitando a, telemetria de tubo com fio, telemetria de pulso de lama, telemetria acústica e telemetria eletromagnética. Embora não ilustrado, a composição de fundo 228 pode incluir um subconjunto de telemetria que pode transmitir dados de telemetria para a superfície 108. Sem limitação, uma fonte eletromagnética no subconjunto de telemetria pode ser operável para gerar pulsos de pressão no fluido de perfuração que se propagam ao longo da corrente de fluido para a superfície 108. Na superfície 108, os transdutores de pressão (não mostrados) podem converter o sinal de pressão em sinais elétricos para um digitalizador (não ilustrado). O digitalizador pode fornecer uma forma digital dos sinais de telemetria ao sistema de manipulação de informações 114 através de um link de comunicação 230, que pode ser um link com fio ou sem fio. Os dados de telemetria podem ser analisados e processados pelo sistema de manipulação de informações 114.

[0024] Como ilustrado, o link de comunicação 230 (que pode ser com fio ou sem fio, por exemplo) pode ser fornecido que pode transmitir dados da composição de fundo 228 para um sistema de manipulação de informações 114 na superfície 108. O sistema de manipulação de informações 114 pode incluir uma unidade de processamento 116 (Referindo-se à Figura 1), um visor de vídeo 120 (Referindo-se à Figura 1), um dispositivo de entrada 118 (por exemplo, teclado, mouse, etc.) (Referindo-se à Figura 1) e/ou meios legíveis por computador não transitórios 122 (por exemplo, discos ópticos, discos magnéticos) (Referindo-se à Figura 1) que podem armazenar código representativo dos métodos aqui descritos. Além de, ou no lugar do processamento na superfície 108, o processamento pode ocorrer no fundo do poço.

[0025] A Figura 3 ilustra um exemplo de almofada 134. Deve-se notar que a almofada 134 pode ser conectada à ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, referindo-se às Figuras 1 e 2). A almofada 134 pode servir para colocar a matriz de botões 128 e/ou o eletrodo de retorno 130 em contato com ou em estreita proximidade com o poço 124. A almofada 134 pode compreender um arranjo de botões 128, um eletrodo de retorno 130, uma proteção 300 e um alojamento 302. Nos exemplos, pode haver uma pluralidade de arranjos de botões 128. Nos exemplos, o eletrodo de retorno 130 e o arranjo de botões 128 podem ser dispostos diretamente na ferramenta de fundo de poço

102. O arranjo de botões 128 pode compreender um eletrodo injetor 304, em que o eletrodo injetor 304 pode ser um sensor que detecta a impedância da formação 132. Deve-se notar que o eletrodo injetor 304 pode ser um eletrodo de botão. Pode haver qualquer número adequado de eletrodos injetores 304 dentro do arranjo de botões 128 que pode produzir uma corrente predeterminada desejada. Sem limitação, a faixa para um número adequado de eletrodos injetores 304 dentro do arrnajo de botões 128 pode ser de cerca de um eletrodo injetor 304 a cerca de cem eletrodos injetores 304. Por exemplo, a faixa para um número adequado de eletrodos injetores 304 dentro do arranjo de botões 128 pode ser de cerca de um eletrodo injetor 304 a cerca de vinte e cinco eletrodos injetores 304, de cerca de vinte e cinco eletrodos injetores 304 a cerca de cinquenta eletrodos injetores 304, de cerca de cinquenta eletrodos injetores 304 a cerca de setenta e cinco eletrodos injetores 304, ou de cerca de setenta e cinco eletrodos injetores 304 a cerca de cem eletrodos injetores 304.

[0026] Nos exemplos, pode haver uma pluralidade de eletrodos de retorno 130. Um dos eletrodos de retorno 130 pode ser disposto em um lado do arranjo de botões 128 e outro dos eletrodos de retorno 130 pode ser disposto no lado oposto do arranjo de botões 128. Estes eletrodos de retorno 130 podem ser dispostos a distâncias iguais longe da matriz de botões 128 ou a distâncias variáveis do arranjo de botões 128. Sem limitação, a distância do centro de um dos eletrodos de retorno para o arranjo de botões pode ser de cerca de uma polegada a cerca de um pé. Nos exemplos, uma diferença de voltagem entre o arranjo de botões 128 e os eletrodos de retorno 130 pode ser aplicada, o que pode fazer com que as correntes sejam emitidas do arranjo de botões 128 para a lama (não ilustrada) e formação 132 (referindo-se à Figura 1).

[0027] Durante as operações, um operador pode energizar o arranjo de botões 128. Uma voltagem pode ser aplicada entre cada eletrodo injetor 304 e eletrodo de retorno 130. O nível da voltagem pode ser controlado pelo sistema de manipulação de informações 114. Isso pode fazer com que as correntes sejam transmitidas através do arranjo de botões 128. Estas correntes podem viajar através da lama e da formação 132 e podem alcançar de volta o eletrodo de retorno 130. A quantidade de corrente emitida por cada eletrodo injetor 304 pode ser inversamente proporcional à impedância vista por esse eletrodo injetor

304. Esta impedância pode ser afetada pelas propriedades da formação 132 e da lama diretamente na frente de cada eletrodo injetor 304. Portanto, a corrente emitida por cada eletrodo injetor 304 pode ser medida e registrada a fim de obter uma imagem de formação da resistividade da formação 132.

[0028] Nos exemplos, uma corrente pode ser transmitida a partir do eletrodo injetor 304 e retornar ao eletrodo de retorno 130. Estes dois eletrodos podem ser referidos como os eletrodos de corrente. Em seguida, a queda de voltagem através do arranjo de botões 128 pode ser medida e usada para estimar a impedância da formação 132. Nestas implementações alternativas, os eletrodos injetores 304 podem ser referidos como eletrodos de voltagem ou eletrodos de monitoramento. O método proposto pode operar em qualquer um dos dois projetos acima ou qualquer outra ferramenta de imageador de resistividade de lama à base de óleo semelhante sem quaisquer limitações. No resto do texto, a ferramenta de imageador será assumida como sendo do primeiro projeto sem qualquer perda de generalidade.

[0029] A proteção 300 pode ajudar a focar a maior parte da corrente produzida pelo arranjo de botões 128 na formação 132 radialmente. A proteção 300 pode ser disposta em torno do arranjo de botões 128. A proteção 300 pode incluir o mesmo potencial que o arranjo de botões 128.

[0030] Nos exemplos, o alojamento 302 pode servir para proteger o arranjo de botões 128 e eletrodos de retorno 130 da lama circundante e da formação 132. O alojamento pode ser feito com qualquer material adequado. Sem limitação, o material adequado pode incluir metais, não metais, plásticos, cerâmica, compósitos e/ou combinações dos mesmos. Nos exemplos, o alojamento 302 pode ser uma placa de metal. O alojamento 302 pode ser conectado através do braço 136 à ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, referindo-se à Figura 1). Um material isolante pode ser usado para preencher as porções restantes da almofada 134. Nos exemplos, cerâmica pode ser usada como o material isolante para preencher as porções restantes da almofada 134.

[0031] Um valor de impedância pode ser calculado através da transmissão de corrente entre um eletrodo injetor 304 e a formação 132 para cada eletrodo injetor 304. A voltagem entre o arranjo de botões 128 e os eletrodos de retorno 130 pode ser medida e dividida pela corrente transmitida para produzir um valor para a impedância vista por cada eletrodo injetor 304. A maior parte da corrente transmitida pode ser retornada aos eletrodos de retorno 130, embora algumas porções da mesma possam retornar através do alojamento 302 e da ferramenta de fundo de poço 102 (referindo-se à Figura

1.

[0032] A Figura 4 ilustra um exemplo de um modelo de circuito que pode aproximar a ferramenta de fundo de poço 102. Os efeitos da corrente transmitida podem ser aproximadamente caracterizados por um valor de impedância de alojamento para formação 400A, um valor de impedância de eletrodo de retorno para alojamento 400B, um valor de impedância de eletrodo de retorno para formação 400C, um valor de impedância de botão para alojamento 400D e um valor de impedância de botão para formação 400E. À impedância pode ser calculada abaixo, em que Z é a impedância, Vsz é o botão para retornar a voltagem do eletrodo e Tr é a corrente do botão: z = Ve 4 6d)

[0033] O valor calculado na Equação (1) pode ser igual a, Lar + Lar como mostrado na Figura 4, em que Ler éa impedância de um botão individual do arranjo de botões 128 para a formação 132 e Lrréa impedância do eletrodo de retorno 130 para a formação 132. Deve-se notar que as impedâncias para cada botão do arranjo de botões 128 podem diferir com base nas variações no poço 124, tal como a presença de rugosidade, lavagens, vugs na frente de alguns dos botões e o ambiente. Estas variações em impedâncias medidas, que podem ser ilustradas em uma imagem de impedância, podem ser usadas para determinar características geofísicas. Além disso, ambos Ler e frrtêm contribuições tanto da lama circundante quanto da formação 132 (referindo-se à Figura 1). Assim, equivalentemente, pode ser escrito na Equação (2) como: L= Lo = Zona + 2 o

[0034] Como resultado, a impedância medida pode ter contribuições tanto da lama quanto da formação 132, em que fm é q impedância da lama e Lré a impedância da formação 132. Partes imaginárias de Zr e fm podem ser assumidas como sendo principalmente capacitivas. Assumindo que esta capacitância pode estar em paralelo com a porção resistiva, Zyr então também pode ser escrita como: er [271 [221 ) 3) em que Ru é a resistência à lama, Rr é a resistência da formação 132, Cué a capacitância da Crlama, é a capacitância da formação 132, j é o número imaginário unitário e & é a frequência angular. Tanto a resistência à lama quanto a capacitância da lama podem aumentar à medida que o afastamento aumenta e pode diminuir com o aumento da área efetiva do arranjo de botões 128. “Afastamento” pode ser usado para denotar a distância dos elementos de uma almofada 134 de uma parede do poço 124 (por exemplo, Referindo-se à Figura 1). O afastamento de cada botão individual em um arranjo de botões pode variar; os afastamentos dos eletrodos de retorno também podem diferir dos botões. As variações de afastamento afetarão significativamente o botão para a impedância de formação 400E. No modelo de circuito simplificado, presume-se que o afastamento de cada elemento da almofada seja constante. O afastamento pode presumir que a almofada 134 é móvel enquanto a ferramenta de fundo de poço 102 permanece imóvel. Nos exemplos, para alcançar grandes distâncias da parede do poço 124, a ferramenta de fundo de poço 102 pode ser movida juntamente com a almofada 134. Nos exemplos, o termo “excentricidade” pode ser usado em vez de “afastamento”. Os métodos propostos (discutidos mais adiante) podem ser igualmente válidos se a almofada 134 se move ou se a almofada 134 e a ferramenta de fundo de poço 102 se movem.

[0035] A equação (3) pode ser usada para obter curvas de desempenho básicas para a ferramenta de fundo de poço 102. Estas curvas de desempenho básicas podem ser bastante precisas em formações homogêneas 132 na determinação da variação da resposta de um eletrodo injetor exemplificativo 304 no arranjo de botões 128 (por exemplo, referindo-se às Figuras 1-3) com parâmetros ambientais em mudança. Na Figura 5, a parte real da impedância medida versus a resistividade da formação pode ser determinada usando a Equação (3), que é ilustrada no gráfico 500 na Figura 5. A parte imaginária da impedância pode ser determinada pela capacitância da lama; portanto, pode não ser necessário representá-la. Em um exemplo, ilustrado na Figura 5, pode ser presumido que a permissividade da formação (eF) é 15, a permissividade da lama (eM) é 6 e a resistividade da lama (pM) é 8000 OQ--m. Os resultados para três frequências diferentes (1 MHz, 7 MHz e 49 MHz) em dois espaçadores diferentes (so=1 mm e so=3 mm), onde (so) significa espaçador da ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, referindo-se à Figura 1), podem ser exibidos na Figura 5.

[0036] Como ilustrado na Figura 5, uma separação entre diferentes afastamentos em resistividades de formação mais baixas pode ser vista. Este efeito pode ser mais pronunciado se a frequência for menor. Em resistividades de formação mais elevadas, o efeito dielétrico na formação 132 (por exemplo, referindo-se à Figura 1) pode causar um roll-off na impedância medida, como ilustrado na Figura 5. Operar em uma região linear da curva, exibida na Figura 5, pode produzir uma correspondência mais precisa entre a imagem de impedância e a da resistividade de formação verdadeira. O efeito de afastamento em baixas resistividades de formação pode causar uma ambiguidade na interpretação das imagens de impedância. Estas medições brutas podem ser usadas, mas o contraste da imagem de resistividade pode ser reduzido. Além disso, pequenos erros nas medições de afastamento podem causar uma grande diferença na leitura da impedância. Pode ser observado a partir da Figura 5 que a impedância medida pode começar a diminuir à medida que a resistividade da formação aumenta. Este “rolloff” pode ser causado pelos efeitos dielétricos na formação 132 (por exemplo, referindo-se à Figura 1) e pode se tornar mais pronunciado em frequências mais altas.

[0037] É desejável operar em uma região linear da curva para ter uma correspondência mais precisa entre a parte real da imagem de impedância e a da resistividade de formação verdadeira. O efeito de afastamento em baixas resistividades de formação causa uma ambiguidade na interpretação das imagens de impedância. Pequenos erros nas medições de afastamento podem causar uma grande diferença na leitura da impedância se essas medições brutas puderem ser usadas. Ao reduzir o efeito de lama nas medições brutas, a resposta pode se tornar linear.

[0038] Nos exemplos, pode ser utilizado um método que faz uso de dados obtidos em diferentes frequências para calcular o ângulo da lama. O ângulo de lama pode ser o ângulo de fase da impedância da lama. Nos exemplos, o ângulo de lama pode ser o arco tangente da razão das partes imaginárias e reais da impedância complexa, como é comumente conhecido por aqueles versados na técnica. Nos exemplos, o ângulo de lama será diferente em cada frequência de operação. O ângulo de lama pode ser usado em esquemas de remoção de lama para eliminar o efeito da lama (ou equivalentemente o afastamento). Sem limitações, um exemplo de tal esquema pode ser o algoritmo Z90, como ilustrado na Figura 6. No entanto, qualquer outro esquema de remoção de lama adequado pode ser usado nos exemplos. O algoritmo Z90 pode ser escrito na Equação (4) como: Z90 = |Z|sin(4Z — qM) (4)

[0039] O objetivo do processamento de Z90 pode ser subtrair a projeção da impedância medida no vetor de impedância de lama da impedância medida para reduzir o efeito de lama. Conforme ilustrado, a impedância medida (Z), a impedância de lama (ZM) e a impedância de formação (ZF) podem ser representadas como vetor 600, vetor 602 e vetor 604, respectivamente, no plano complexo. Embora a direção aproximada do vetor 602 possa ser conhecida, sua força absoluta depende do afastamento entre outros fatores. No entanto, uma projeção do vetor 600 no vetor 602 pode ser calculada com precisão medindo um ângulo de fase da medição 606 e um ângulo de fase da lama 608. Nas equações, o ângulo de fase da medição é definido como (6Z) enquanto (qQM) é o ângulo de fase da lama.

[0040] A Figura 7 ilustra um gráfico replotado após a aplicação do algoritmo 290. Como ilustrado, o efeito de afastamento pode ser eliminado para todas as frequências utilizadas durante a aquisição e/ou processamento de dados. Um caso ideal usando um modelo de circuito perfeito pode ocorrer onde o ângulo de lama pode ser conhecido e o ruído não está nos dados, como representado na Figura 7. Em relação à presente divulgação, sem limitação, o método proposto abaixo pode ser usado com processamento Z90, mas qualquer outro processamento ou algoritmos adequados podem ser usados.

[0041] Como descrito anteriormente e mostrado na Figura 5, um fator que afeta a linearidade da resposta pode ser o efeito dielétrico. O efeito dielétrico pode se tornar mais pronunciado à medida que a resistividade da formação e a frequência de operação da ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, referindo-se à Figura 1) aumentam. Por exemplo, um esquema alternativo pode utilizar um esquema de processamento diferente. Tendo em vista a Equação (3),

nos casos em que Zm << Zs, a equação pode ser alterada como visto abaixo: Ze —ARE * I+joRÕC, (5) da 7 tan '(- OR C;) (6) OR,C, = -tan(é, ) & Zoe? RE BF : 1- jtan(g, ) G) Zu= ZU —jtan(g, » O) onde Zeor É definido como uma impedância corrigida para um efeito dielétrico. Deve-se notar que a Equação (7) inclui uma multiplicação da resistência e capacitância da formação. Assim, a tangente do ângulo de fase da impedância medida pode ser definida como a constante de relaxamento de formação em analogia com os sistemas de circuito. A Equação (9) representa um de uma variedade de métodos para aplicar a correção dielétrica em dados registrados do sistema de medição de poço 100. Na Figura 8, os resultados quando a correção dielétrica pode ser aplicada a medições registradas do sistema de medição de poço 100 representado na Figura 5 são mostrados. Pode ser visto que o efeito de roll-off dielétrico da Figura 5 pode ser eliminado em altas resistividades de formação usando este esquema de processamento. No entanto, se a resistividade da lama for prevalente nas medições do sistema de medição de poço 100, os resultados podem deteriorar-se e tornar-se saturados. Além disso, pode haver uma pequena dependência de afastamento que também pode ser observada em regiões de alta resistividade. A dependência pode afetar os resultados de todas as frequências da mesma forma, de modo que pode não afetar o algoritmo de mistura como descrito abaixo.

[0042] O método proposto pode ser baseado na observação de que algoritmos de correção dielétrica e remoção de efeito de lama podem ser precisos em regiões separadas da faixa de resistividade de formação. Tipicamente, em regiões onde tais algoritmos podem ser utilizados, algoritmos de remoção de efeito de lama podem tender a dar resultados semelhantes em diferentes frequências. Assim, é possível alternar entre os resultados de uma pluralidade de algoritmos para obter uma saída misturada após a comparação de uma variância ao longo de uma faixa de frequência dos dados originais, os resultados processados após a aplicação de um algoritmo de remoção de efeito de lama e os resultados processados após a aplicação de um algoritmo de correção dielétrica.

[0043] A Figura 9 ilustra um fluxograma 900 do fluxo de trabalho de um método proposto com processos separados para obter uma saída misturada. Neste fluxo de trabalho, inicialmente uma imagem de formação da formação circundando o poço, conforme definido na Equação (10) abaixo: IEévnífo — (10) pode ser obtida usando a ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, referindo-se à Figura 1) na etapa 902. Nos exemplos, a ferramenta de fundo de poço 102 pode obter e/ou processar medições de dados de múltiplas frequências. Pode ser presumido que a imagem de formação (D é uma função da profundidade (z), ângulo azimutal (n) e frequência (f.) Neste exemplo, barras sobrepostas duplas são usadas para denotar que os dados podem ser uma matriz. Cada elemento da imagem de formação que corresponde a uma profundidade específica, ângulo azimutal e frequência pode ser referido como um pixel. À imagem de formação pode representar a impedância medida pela ferramenta de fundo de poço 102, ou alguma outra informação equivalente, tal como a resistividade aparente.

[0044] Embora apenas a porção real desta matriz de imagem de formação possa ser usada para traçar resistividade na maioria dos casos, a parte imaginária dos dados pode ser necessária para aplicar algoritmos de remoção de lama e correção dielétrica. Em exemplos alternativos, a imagem de formação pode ser dividida em várias seções ou zonas. Alternativamente, os dados para cada ponto de perfilagem ou pixel de imagem podem ser processados separadamente em tempo real sem qualquer perda de generalidade. Pode ainda ser presumido no fluxograma 900 que as amostras de dados para profundidade, ângulo azimutal e frequência são denotadas pelos subscritos i, j e k, respectivamente, onde há um total de amostras de profundidade M, amostras de ângulo azimutal N e amostras de frequência K. A imagem de formação obtida na etapa 902 pode ser processada adicionalmente na etapa 904 ou etapa

906.

[0045] Na etapa 904, um algoritmo de remoção de efeito de lama pode ser aplicado à imagem de formação original, conforme descrito na etapa 902. Na etapa 906, um algoritmo de correção dielétrica pode ser aplicado à imagem de formação original, conforme descrito na etapa 902. Os resultados desses processos na etapa 904 e na etapa 906 podem ser denotados por matrizes nas Equações (11) e (12).

Pginfo — AD Pan fo — (12)

[0046] Conforme aplicado à Equação (10), as imagens de formação resultantes produzidas na etapa 904 MR) e na etapa 906 PO, podem ser funções de profundidade, ângulo azimutal e frequência. Nos exemplos, estas matrizes podem ser puramente reais (isto é, sem componentes imaginários). Uma vez que estes resultados são obtidos, a etapa 908 pode ser implementada.

[0047] A etapa 908 pode compreender calcular uma medição das variações dos resultados ao longo de uma faixa de frequência. A medição pode ser um desvio padrão dos resultados como mostrado nas Equações (13) e (14), representadas como (SMº) e (5PC) para os desvios padrão dos resultados produzidos na etapa 904 e na etapa 906, respectivamente. Em alguns exemplos, uma medida da variação de uma função da imagem de formação pode ser

24 / 40 calculada. Nos exemplos, esta função pode ser um logaritmo dos valores de imagem de formação.

SMP (21,717) (3) SPO (z,,nj) (14)

[0048] Depois disso, um peso pode ser calculado com base nas variações calculadas na etapa 910. Sem limitação, qualquer função de ponderação adequada pode ser usada. Nos exemplos, uma maneira de calcular o peso pode ser usando a Equação (15):

P a(zi,nj) = Cena) (15) (saem) +(Uspe mp)

[0049] Aqui, o peso (a) é uma razão do inverso do desvio padrão dos resultados após a aplicação do algoritmo de remoção de lama na etapa 904 para a soma do inverso dos desvios padrão após a aplicação dos algoritmos de remoção de lama e correção dielétrica na etapa 904 e etapa 906, respectivamente. O peso é uma função da profundidade e do ângulo azimutal, portanto, pode variar de pixel para pixel. Uma potência (P) do inverso dos desvios padrão também pode ser tomada para obter uma transição mais nítida. (P) pode ser 2 ou 3, por exemplo, e pode ser otimizado com base no projeto específico da ferramenta de imageamento. Usando este peso, uma imagem de formação processada P (Zi 1, fe), conforme definido na Equação (16), pode ser calculada para cada frequência. P(aun, fe) = azinj) x R(z,n, fo) + A — a(zin)) x PE(z, nn, fe) 6)

[0050] Deve ser entendido que a equação (16), bem como qualquer equação contendo os índices 1, j e k, são realizadas para cada valor possível desses índices. Alternativamente, o desvio padrão da imagem de formação produzida a partir da etapa 902 pode ser calculado (Se incorporado na etapa

910. Nos exemplos, o fator adicional pode ser útil nos casos em que os resultados de imageamento processados não são perfeitos (devido ao ruído, seleção imprecisa de parâmetros de processamento, etc.) Em tal caso, pode haver regiões da imagem de formação processada onde a imagem de formação da etapa 902 pode ser mais precisa do que qualquer um dos dados corrigidos dielétricos e de remoção de lama. Em tais exemplos, as Equações (15) e (16) podem ser modificadas como se segue: MRI; (gain) a (Zi) DD DE a7) amena) aan) gsm) 1 P a” (zi,nj) = o lee 18) (san&in)) +(Uspetin) +(Usscinp) O; (41556) (DM) DE (19) (smmein) +(/speinp) (4/25) P(z,n fe) = aMR(zi,njf) x TUR (z,, nn, fe) + PE (zi,nj) x TP (z;, nn, fe) + aº (zi,nf) x (zum, fc) (20)

[0051] Após a etapa 910, uma etapa de conclusão 912 pode terminar o fluxo de trabalho apresentado no fluxograma 900. Na etapa 912, uma imagem de formação misturada, B (Zi, 1), pode ser formada tomando uma função dos dados ponderados. Esta função pode envolver qualquer operação média, mínima, máxima e/ou mediana adequada. Além disso, em exemplos alternativos, pode haver um peso associado a uma combinação na etapa 912. Este peso pode ser determinado, como exemplo, pelo valor absoluto da impedância medida para cada frequência (ou uma das frequências). Nos exemplos, um peso mais alto pode ser dado à frequência mais alta se o valor absoluto para essa frequência estiver abaixo de um limiar com base no projeto da ferramenta de fundo de poço

102. B(z,n) = F(P(z,n, fo) QD

[0052] Embora a imagem de formação misturada seja obtida pela obtenção de uma imagem de formação processada no exemplo anterior, pode ser óbvio para um versado na técnica que as Equações (16) e (20) não precisam ser explicitamente executadas, mas podem estar implícitas na definição de função da Equação (21). Sem limitação, a imagem de formação misturada pode ser calculada diretamente sem produzir uma imagem de formação processada primeiro.

[0053] As Figuras 10 e 11 mostram os resultados do algoritmo de mistura apresentado no fluxograma 900 (por exemplo, referindo-se à Figura 9) para os dados representados nas Figuras 7 e 8. Conforme ilustrado, dois valores de afastamento diferentes são mostrados em Imm e 3mm. Estes dois casos podem ser escolhidos para representar o desempenho em dois ambientes diferentes em que foram processados separadamente. Observe que esses gráficos mostram a aplicação dos algoritmos em gráficos bidimensionais em vez de imagens coloridas, o que ilustra o desempenho do algoritmo. Na Figura 10, resultados processados intermediários análogos paral? ) para todas as frequências em espaçadores de 1 mm e 3 mm podem ser mostrados. Pode ser visto que as respostas de frequência individuais melhoraram. Os resultados podem ser obtidos assumindo uma potência (P) de 3 durante o processamento no fluxograma 900.

[0054] Na Figura 11, os resultados finais misturados (análogo alê) podem ser mostrados em dois valores de afastamento diferentes. Nos exemplos, a mediana dos resultados processados para as três frequências pode ser selecionada para produzir a imagem de formação misturada final. Os resultados podem ser monotonicamente crescentes e variar linearmente com a resistividade da formação. Assim, uma boa estimativa da resistividade da formação pode ser obtida escalonando a impedância com uma constante da ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, referindo-se à Figura 1). Como ilustrado, a qualidade da imagem de formação pode ser grandemente melhorada como resultado da aplicação dos métodos da presente divulgação.

[0055] Em um exemplo alternativo, em vez de uma transição contínua como representado no fluxograma 900 da Figura 9, um algoritmo de comutação pode ser implementado como ilustrado na Figura 12. Deve-se notar que um algoritmo de comutação também pode ser considerado como uma média ponderada com pesos de 1 para um pixel de uma das imagens de formação (tal como um pixel de Tr (z,, Tj, fc) Je O para as outras imagens de formação para esse pixel específico (tal como P(z,, Ty, fc) el (21 Tj, fo) O fluxograma 1200 pode fornecer o fluxo de trabalho para uma modalidade alternativa começando com uma etapa 1202. A etapa 1202 pode ser semelhante à etapa 902 (por exemplo, referindo-se à Figura 9) no fluxograma 900 em que uma imagem de formação inicial da formação circundante perto de um poço é obtida. A etapa adicional 1204 ou a etapa 1206 podem ser implementadas para processar os dados na imagem de formação inicial com um algoritmo de remoção de lama ou um algoritmo de correção dielétrica, respectivamente. Em seguida, a etapa 1208 pode ser implementada para calcular uma medição das variações dos resultados ao longo de uma faixa de frequência. A medição pode ser um desvio padrão dos resultados como mostrado nas Equações (13) e (14), representadas como (E MR) e (SPO) para os desvios padrão dos resultados produzidos na etapa 1204 e na etapa 1206, respectivamente. Alternativamente, o desvio padrão da imagem de formação original produzida a partir da etapa 1202 (5º) também pode ser calculado.

[0056] Após a etapa 1208, a etapa 1210 pode ser implementada. Neste exemplo, quando o desvio padrão após a remoção de lama é menor do que o desvio padrão após correção dielétrica para um pixel específico correspondente a (Zzi,nj), os resultados do algoritmo de remoção de lama podem ser usados para processamento adicional para esse pixel. Alternativamente, se o desvio padrão após a remoção da lama for maior do que o desvio padrão após a correção dielétrica, os resultados da correção dielétrica podem ser usados para processamento adicional para esse pixel. Um fator de escala de K pode ser adicionado ao algoritmo de comutação, como nas Equações (22) e Equação (23), para otimizar ainda mais a comutação entre os dois algoritmos. O fator K pode ser dependente da frequência e/ou da ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, referindo-se à Figura 1). O fator K pode ser determinado empiricamente. Para o exemplo mostrado no fluxograma 1200, um valor de K de cerca de 2 pode ser escolhido, em que K pode ser otimizado com base no projeto específico da ferramenta de fundo de poço 102.

SMR(7,,n) <KXx SPO (z,,nj) - P(zpn fe) = TUR (z,n, fo); k=1,..,P (22) SMR(7,,n;) >Kx SPC (z,,n;) - P(z,n1 fe) = PE (z,,n,, fe); k=1,..,P (23)

[0057] Após a etapa 1210, uma etapa de conclusão 1212 pode terminar o fluxo de trabalho apresentado no fluxograma 1200. Na etapa 1212, uma imagem de formação misturadal? (Zi, nj) pode ser formada tomando uma função dos dados ponderados. Esta função pode envolver qualquer operação média, mínima, máxima e/ou mediana adequada. Além disso, em exemplos alternativos, pode haver um peso associado a uma combinação na etapa 1212. Este peso pode ser determinado, como exemplo, pelo valor absoluto da impedância medida para cada frequência (ou uma das frequências). Nos exemplos, um peso mais alto pode ser dado à frequência mais alta se o valor absoluto para essa frequência estiver abaixo de um limiar com base no projeto da ferramenta de fundo de poço

102.

[0058] Em outro exemplo alternativo, alguma forma dos dados originais (isto é, sem qualquer correção dielétrica ou algoritmos de remoção de lama aplicados), tal como sua parte real, parte imaginária ou valor absoluto, pode ser usada em conjunto com algoritmos de remoção de lama e correção dielétrica durante a mistura. Um tal exemplo pode ser usando a parte real dos dados originais com o menor valor de frequência em regiões onde tanto a remoção de lama quanto a correção dielétrica podem ser consideradas imprecisas. Tal região pode ser determinada olhando para as variações de ambos os algoritmos de remoção de lama e correção dielétrica, como representado no fluxograma 1300 da Figura 13.

[0059] A Figura 13 ilustra um fluxograma 1300 do fluxo de trabalho de um método proposto. O fluxograma 1300 pode fornecer o fluxo de trabalho para uma modalidade alternativa começando com uma etapa 1302. A etapa 1302 pode ser semelhante à etapa 902 (por exemplo, referindo-se à Figura 9) no fluxograma 900 em que uma imagem de formação inicial da formação circundante perto de um poço é obtida. Além disso, a etapa 1304 ou a etapa 1306 podem ser implementadas para processar os dados na imagem de formação inicial com um algoritmo de remoção de lama ou um algoritmo de correção dielétrica, respectivamente. Em seguida, a etapa 1308 pode ser implementada para calcular uma medição das variações dos resultados ao longo de uma faixa de frequência. A medida pode ser um desvio padrão dos resultados como mostrado nas Equações (13) e (14), representadas como (SMF) e (SPC) para os desvios padrão dos resultados produzidos na etapa 1304 e na etapa 1306, respectivamente. Alternativamente, o desvio padrão da imagem de formação original produzida a partir da etapa 1302 pode ser calculado.

[0060] Após a etapa 1308, a etapa 1310 pode ser implementada. Neste exemplo, se os desvios padrão dos resultados ao longo da faixa de frequência após a remoção de lama e algoritmos de correção dielétrica estiverem acima de um limiar (Thresh), a parte real da frequência mais baixa em sua forma original pode ser usada, como ilustrado na Equação (24). SMR(z7,,nj) > Thresh &SPC(z;,nj) > Tresh - P(zu,n, fe) = Retl(z,n, fi); k=1,"",P (24)

[0061] Presume-se que fl contém a menor frequência no fluxo de trabalho na Equação (24). O resto do processamento pode seguir as metodologias descritas acima, tal como a descrita na Figura 9 ou 12. Alternativamente, o valor do sinal sem qualquer correção pode ser usado para esta determinação. Por exemplo, o valor absoluto da impedância ou resistividade obtida a partir da frequência mais alta pode ser usado para esta finalidade. Se os desvios padrão dos resultados ao longo da faixa de frequência após a remoção de lama e os algoritmos de correção dielétrica não estiverem acima de um limiar (Thresh), as Equações (22) e (23) podem ser usadas para determinar os resultados processados intermediários (isto é, 1 ). Em outros exemplos, Thresh, como mostrado na Equação (24), pode ser uma função de So.

[0062] Após a etapa 1310, uma etapa de conclusão 1312 pode terminar o fluxo de trabalho apresentado no fluxograma 1300. Na etapa 1312, uma imagem de formação misturada BP = (Zi, n;) pode ser formada tomando uma função dos dados ponderados. Esta função pode envolver qualquer operação média, mínima, máxima e/ou mediana adequada. Além disso, em exemplos alternativos, pode haver um peso associado a uma combinação na etapa 1312. Este peso pode ser determinado, como exemplo, pelo valor absoluto da impedância medida para cada frequência (ou uma das frequências). Nos exemplos, um peso mais alto pode ser dado à frequência mais alta se o valor absoluto para essa frequência estiver abaixo de um limiar com base no projeto da ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, Referindo-se à Figura 1).

[0063] Nos exemplos, como descrito acima, a função de mistura final pode usar uma ponderação entre diferentes frequências, ou pode haver uma comutação entre frequências com base em um limiar. Este limiar pode ser baseado no valor absoluto do sinal a uma certa frequência. A Figura 14 ilustra uma função de mistura de exemplo 1400 que pode ser usada em tal implementação. Neste exemplo, como mostrado nas Equações (25)e (26), se o valor absoluto da frequência mais alta (assumida como frequência P) for inferior a um limiar, uma função de mistura (F) pode usar os resultados processados da frequência mais alta. Caso contrário, uma função mediana pode ser usada. Tal exemplo pode ser desejável em formações com camadas finas e resistivas que podem ser resolvidas melhor com frequências mais altas.

T(zun, fo)| <Thresh > FP (zun, fo) =P (zon, fo) (25) FI (zu, 74, fo)) = mediana(T* (2113 fe) sobre f o.w. (26)

[0064] Em outros exemplos, os resultados dos métodos propostos podem ser inspecionados por um operador e podem ser usados como ponto de partida na criação de uma imagem de formação misturada manualmente. Nos exemplos, um operador pode ser definido como um indivíduo, grupo de indivíduos ou uma organização. Para mostrar ainda mais a melhoria produzida pelos métodos sugeridos, um dado de imagem de formação sintética foi simulado usando um solucionador eletromagnético baseado em FEM 3D em três frequências diferentes, uma baixa, uma média e uma alta frequência, para um perfil de resistividade de formação como mostrado na Tabela 1.

E ss pe Tabela 1

[0065] A permissividade relativa da formação é tomada como 15 e o afastamento é de 1 mm. Os limites nesta tabela podem ser dados para o ângulo de azimute de 180º como referência. O ângulo de mergulho de formação foi de 30º. Nas Figuras 15(a) a Figura 15(c), imagens de formação de resistividade aparente medidas nestas três frequências podem ser representadas. Um mapa de cores é ilustrado no lado direito de cada uma das figuras. Nos exemplos, as cores mais escuras podem representar resistividades de formação mais baixas,

enquanto as cores mais claras podem representar resistividades de formação mais altas. As linhas verticais podem denotar que não há dados nessa parte da imagem de formação. Como esperado das discussões anteriores, uma imagem de baixa frequência pode não ser sensível às camadas com baixa resistividade de formação. Alternativamente, o efeito roll-off dielétrico pode ser mais pronunciado em frequências mais altas.

[0066] A Figura 16 ilustra uma imagem de formação misturada como resultado dos métodos propostos na presente divulgação. Pode ser observado que a imagem de formação misturada final mostra uma correlação muito melhor com a resistividade real da formação em comparação com as imagens de formação obtidas a partir dos dados originais nas Figuras 15(a) a 15(c). Além disso, a imagem de formação misturada pode mostrar um melhor contraste das camadas de formação. A obtenção de uma imagem de formação tão precisa automaticamente e com pouco esforço computacional pode permitir uma interpretação rápida e precisa das propriedades de formação por um operador. Nos exemplos, os resultados podem ser ainda melhorados escalando os resultados das funções de processamento com uma constante da ferramenta de fundo de poço 102 (por exemplo, referindo-se à Figura 1) se os algoritmos causarem uma mudança nos valores de impedância e/ou resistividade.

[0067] Atualmente, existem problemas com imagens de impedância obtidas por imageadores de lama à base de óleo devido a características que degradam a qualidade da imagem de formação. Por exemplo, quando a resistividade da formação é baixa e a frequência de operação é relativamente baixa, um efeito de lama significativo pode ser observado. Por outro lado, em altas resistividades de formação, o efeito dielétrico causa um rolloff na impedância medida. Este efeito posterior é mais pronunciado em frequências de operação mais altas. Nos exemplos, este efeito pode ser observado em resistividades inferiores a 2 O-m para frequências em torno de 50 MHz, enquanto as resistividades tão altas quanto 100 Q-m podem ser afetadas se a frequência for reduzida para 1 MHz. Este efeito pode ser uma função da constante dielétrica de formação (por exemplo, o efeito aumenta com uma constante dielétrica crescente). Para uma constante dielétrica de formação típica de cerca de 15, o roll-off pode começar para resistividades acima de 1.000 O-m a 1 MHz, enquanto que para frequências em torno de 50 MHz o roll-off pode ser observado em resistividades acima de 20 Q-m.

[0068] Conforme divulgado acima, uma técnica de processamento em tempo real que combina automaticamente as correções feitas para esses dois efeitos e cria uma única imagem de formação a partir dos dados de múltiplas frequências melhora a tecnologia atual combinando duas técnicas em um único processo. Nos exemplos, a técnica proposta combina os resultados de um algoritmo de remoção de efeito de lama, juntamente com os resultados de um algoritmo de correção dielétrica para obter uma imagem de formação mais precisa da formação circundando o poço ao longo de uma ampla faixa de parâmetros de formação. A melhoria em relação à tecnologia atual é baseada na informação de que as regiões onde o efeito de lama é predominante, os resultados obtidos após a remoção do efeito de lama em diferentes frequências de operação devem ser próximos um do outro. Da mesma forma, nas regiões onde a correção dielétrica é precisa, os resultados processados em diferentes frequências devem coincidir entre si. Assim, é possível combinar os resultados de dois desses algoritmos com base em suas variações de frequência.

[0069] Conforme divulgado acima, melhorias podem incluir, uma imagem de formação processada que remove tanto o efeito de lama quanto o efeito dielétrico, usando dados de multifrequência com um algoritmo de remoção de efeito de lama e correção de efeito dielétrico separadamente, e combinações são baseadas na variação dos resultados sobre a frequência. Assim, uma imagem de formação precisa da formação pode ser produzida em tempo real, o que pode não ser possível com um esquema de inversão. O método é, portanto, mais preciso do que usar dados brutos e menos intensivo computacionalmente do que um esquema de inversão.

[0070] Melhorias aumentam a qualidade das imagens de formação obtidas com imageadores de lama à base de óleo através do processamento. Em particular, fornece uma imagem de formação com contraste melhorado em ambas as formações de baixa e alta resistividade, onde tradicionalmente os imageadores de lama à base de óleo têm um desempenho ruim. Os métodos divulgados acima podem ser realizados em tempo real, embora dando qualidade de imagem de formação comparável aos obtidos por métodos muito mais computacionalmente intensivos, tais como inversão. Sem limitação, um algoritmo pode ser usado no lugar da seleção manual de resultados em diferentes frequências escolhendo o mais preciso em cada caso ou pode ajudar como ponto de partida em tal determinação, economizando tempo e dinheiro.

[0071] Consequentemente, um sistema e método para corrigir um efeito dielétrico e obter uma estimativa de resistividade precisa de um dispositivo de fundo de poço podem ser fornecidos. Os sistemas e métodos divulgados neste documento podem incluir qualquer uma das várias características dos sistemas e métodos divulgados neste documento, incluindo uma ou mais das seguintes declarações.

[0072] Declaração 1: Um método de imageamento de resistividade compreendendo: dispor uma ferramenta de fundo de poço em um poço, em que a ferramenta de fundo de poço compreende: uma almofada; um arranjo de eletrodos injetores; e um ou mais eletrodos de retorno; aplicar uma diferença de voltagem entre o arranjo de eletrodos injetores e um ou mais eletrodos de retorno com uma pluralidade de frequências; fazer uma medição de impedância com arranjo de eletrodos injetores para cada uma da pluralidade de frequências; construir um primeiro conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências; aplicar um algoritmo de remoção de efeito de lama para produzir um segundo conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências; aplicar um algoritmo de correção dielétrica a cada uma da pluralidade de frequências para produzir um terceiro conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências; e combinar o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para obter uma imagem misturada.

[0073] Declaração 2: O método da declaração 1, em que apenas dois do primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação são utilizados na mistura.

[0074] Declaração 3: O método de qualquer uma das declarações anteriores, em que a imagem misturada é formada com base em uma variação do primeiro, segundo e terceiro conjuntos de imagens com frequência e em que a variação é determinada tomando um desvio padrão de cada pixel no primeiro conjunto de imagens de formação, no segundo conjunto de imagens de formação e no terceiro conjunto de imagens de formação sobre a pluralidade de frequências para cada conjunto.

[0075] Declaração 4: O método de qualquer uma das declarações anteriores, compreendendo ainda aplicar uma função de ponderação a cada pixel de cada um do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação e do terceiro conjunto de imagens de formação com pesos que são inversamente proporcionais ao desvio padrão de cada pixel para produzir a imagem misturada.

[0076] Declaração 5: O método de qualquer uma das declarações anteriores, em que um algoritmo de comutação é aplicado definindo os pesos de qualquer ou de todo o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para ser zero para qualquer pixel do primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação ou o terceiro conjunto de imagens de formação.

[0077] Declaração 6: O método de qualquer uma das declarações anteriores, em que a função de ponderação utiliza versões dimensionadas de um desvio padrão do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação ou do terceiro conjunto de imagens de formação.

[0078] Declaração 7: O método de qualquer uma das declarações anteriores, em que um fator de escala é dependente da frequência, um projeto da ferramenta de fundo de poço ou é determinado empiricamente.

[0079] Declaração 8: O método de qualquer uma das declarações anteriores, compreendendo ainda produzir uma imagem processada para cada uma da pluralidade de frequências combinando o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para uma frequência específica.

[0080] Declaração 9: O método de qualquer uma das declarações anteriores, compreendendo ainda aplicar uma função de ponderação a cada pixel da imagem processada correspondente à frequência específica no primeiro conjunto de imagens de formação, no segundo conjunto de imagens de formação e no terceiro conjunto de imagens de formação com pesos que são inversamente proporcionais aos seus desvios padrão.

[0081] Declaração 10: O método de qualquer uma das declarações anteriores, compreendendo ainda obter a imagem misturada da imagem processada para cada uma da pluralidade de frequências através de uma média ponderada, uma seleção mediana, uma seleção mínima ou uma operação de seleção máxima.

[0082] Declaração 11: O método de qualquer uma das declarações anteriores, compreendendo ainda designar um limiar, em que os componentes reais de um pixel do primeiro conjunto de imagens de formação são designados como o pixel da imagem processada se um desvio padrão de ambos o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação forem maiores do que o limiar para esse pixel específico, e em que a imagem misturada é produzida a partir de uma função da imagem processada.

[0083] Declaração 12: O método de qualquer uma das declarações anteriores, em que o limiar é baseado no valor absoluto da medição de impedância de múltiplas frequências a uma certa frequência.

[0084] Declaração 13: Um sistema para imageamento de resistividade, compreendendo: uma ferramenta de fundo de poço, em que a ferramenta de fundo de poço compreende: uma almofada, um arranjo de eletrodos injetores; e um ou mais eletrodos de retorno; um transporte para dispor a ferramenta de fundo de poço em um poço; e um sistema de manipulação de informações, em que o sistema de manipulação de informações é configurado para medir uma impedância para cada uma de uma pluralidade de frequências e construir um primeiro conjunto de imagens de formação de cada impedância para cada uma da pluralidade de frequências; aplicar um algoritmo de remoção de efeito de lama para produzir um segundo conjunto de imagens de formação; aplicar um algoritmo de correção dielétrica para produzir um terceiro conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências; e combinar o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para obter uma imagem misturada.

[0085] Declaração 14: O sistema da declaração 13, em que o sistema de manipulação de informações é configurado para calcular um desvio padrão para uma variação sobre a frequência de cada pixel a partir do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação e do terceiro conjunto de imagens de formação.

[0086] Declaração 15: O sistema da declaração 13 ou 14, em que o sistema de manipulação de informações é ainda configurado para aplicar uma função de ponderação a cada pixel do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação e do terceiro conjunto de imagens de formação com pesos que são inversamente proporcionais aos seus desvios padrão para produzir a imagem misturada.

[0087] Declaração 16: O sistema de qualquer uma das declarações 13 a 15, em que o sistema de manipulação de informações é ainda configurado para usar apenas dois do primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação em mistura.

[0088] Declaração 17: O sistema de qualquer uma das declarações 13 a 16, em que o sistema de manipulação de informações é configurado para produzir uma imagem processada para cada uma da pluralidade das frequências combinando as imagens do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação e do terceiro conjunto de imagens de formação para uma frequência específica usando a variação de muito pixel em cada conjunto de imagem sobre a frequência.

[0089] Declaração 18: O sistema de qualquer uma das declarações 13 a 17, em que o sistema de manipulação de informações é configurado para produzir a imagem misturada a partir das imagens processadas através de uma média ponderada, uma seleção mediana, uma seleção mínima ou uma operação de seleção máxima.

[0090] Declaração 19: O sistema de qualquer uma das declarações 13 a 18, em que o sistema de manipulação de informações é configurado para designar um limiar, em que os componentes reais de um pixel do primeiro conjunto de imagens de formação são designados como uma imagem processada se os desvios padrão de ambos o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para esse pixel específico forem maiores do que o limiar, em que uma imagem misturada é produzida a partir de uma função da imagem processada.

[0091] Declaração 20: O sistema de qualquer uma das declarações 13 a 19, em que o limiar é baseado no valor absoluto da medição de impedância de múltiplas frequências a um certa frequência.

[0092] Embora a presente invenção e suas vantagens tenham sido descritas em detalhes, deve ser entendido que várias alterações, substituições e alterações podem ser feitas neste documento sem se afastar do espírito e escopo da invenção, conforme definido pelas reivindicações anexas. A descrição anterior fornece vários exemplos dos sistemas e métodos de uso divulgados neste documento que podem conter diferentes etapas do método e combinações alternativas de componentes. Deve ser entendido que, embora exemplos individuais possam ser discutidos neste documento, a presente divulgação abrange todas as combinações dos exemplos divulgados, incluindo, sem limitação, as diferentes combinações de componentes, combinações de etapa de método e propriedades do sistema. Deve ser entendido que as composições e métodos são descritos em termos de “compreendendo”, "contendo” ou “incluindo” vários componentes ou etapas, as composições e métodos também podem “consistir essencialmente em” ou “consistir em" os vários componentes e etapas. Além disso, os artigos indefinidos “um” ou “uma”, como usados nas reivindicações, são definidos neste documento para significar um ou mais do que um dos elementos que ele introduz.

[0093] Por uma questão de brevidade, apenas certas faixas são explicitamente divulgadas neste documento. No entanto, faixas de qualquer limite inferior podem ser combinadas com qualquer limite superior para recitar uma faixa não explicitamente recitada, bem como faixas de qualquer limite inferior podem ser combinadas com qualquer outro limite inferior para recitar uma faixa não explicitamente recitada, da mesma forma, faixas de qualquer limite superior podem ser combinadas com qualquer outro limite superior para recitar uma faixa não explicitamente recitada. Além disso, sempre que uma faixa numérica com um limite inferior e um limite superior é divulgada, qualquer número e qualquer faixa incluída dentro da faixa são especificamente divulgados. Em particular, cada faixa de valores (da forma, "de cerca de a a cerca

40 / 40 de b" ou, equivalentemente, "de aproximadamente a a b" ou, equivalentemente, "de aproximadamente a-b”) divulgada neste documento deve ser entendida como estabelecendo cada número e faixa englobados dentro da faixa mais ampla de valores, mesmo que não explicitamente recitados. Assim, cada ponto ou valor individual pode servir como seu próprio limite inferior ou superior combinado com qualquer outro ponto ou valor individual ou qualquer outro limite inferior ou superior, para recitar uma faixa não explicitamente recitada.

[0094] Portanto, os presentes exemplos são bem adaptados para atingir os fins e vantagens mencionados, bem como aqueles que são inerentes aos mesmos. Os exemplos particulares divulgados acima são apenas ilustrativos e podem ser modificados e praticados de maneiras diferentes, mas equivalentes, aparentes para aqueles versados na técnica tendo o benefício dos ensinamentos neste documento. Embora exemplos individuais sejam discutidos, a divulgação abrange todas as combinações de todos os exemplos. Além disso, nenhuma limitação é pretendida aos detalhes de construção ou projeto mostrados neste documento, a não ser como descrito nas reivindicações abaixo. Além disso, os termos nas reivindicações têm seu significado simples comum, a menos que explicitamente e claramente definido pelo titular da patente. Portanto, é evidente que os exemplos ilustrativos particulares divulgados acima podem ser alterados ou modificados e todas essas variações são consideradas dentro do escopo e espírito desses exemplos. Se houver qualquer conflito nos usos de uma palavra ou termo neste relatório descritivo e uma ou mais patentes ou outros documentos que possam ser incorporados neste documento por referência, as definições que são consistentes com este relatório descritivo devem ser adotadas.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Método de imageamento de resistividade, caracterizado pelo fato de que compreende: dispor uma ferramenta de fundo de poço em um poço, em que a ferramenta de fundo de poço compreende: uma almofada; um arranjo de eletrodos injetores; e um ou mais eletrodos de retorno; aplicar uma diferença de voltagem entre o arranjo de eletrodos injetores e um ou mais eletrodos de retorno com uma pluralidade de frequências; fazer uma medição de impedância com o arranjo de eletrodos injetores para cada uma da pluralidade de frequências; construir um primeiro conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências; aplicar um algoritmo de remoção de efeito de lama para produzir um segundo conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências; aplicar um algoritmo de correção dielétrica a cada uma da pluralidade de frequências para produzir um terceiro conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências; e combinar o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para obter uma imagem misturada.

2. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que apenas dois do primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação são usados na mistura.

3. Método de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que a imagem misturada é formada com base em uma variação do primeiro, segundo e terceiro conjuntos de imagens com frequência e em que a variação é determinada tomando um desvio padrão de cada pixel no primeiro conjunto de imagens de formação, no segundo conjunto de imagens de formação e no terceiro conjunto de imagens de formação ao longo da pluralidade de frequências para cada conjunto e, opcionalmente, compreendendo ainda aplicar uma função de ponderação a cada pixel de cada um do primeiro conjunto de imagens de formação, no segundo conjunto de imagens de formação e no terceiro conjunto de imagens de formação com pesos que são inversamente proporcionais ao desvio padrão de cada pixel para produzir a imagem misturada.

4. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que um algoritmo de comutação é aplicado definindo os pesos de qualquer ou de todo o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para ser zero para qualquer pixel do primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação ou o terceiro conjunto de imagens de formação.

5. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que a função de ponderação usa versões escalonadas de um desvio padrão do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação ou do terceiro conjunto de imagens de formação e, opcionalmente, em que um fator de escalonamento é dependente da frequência, de um projeto da ferramenta de fundo de poço ou é determinado empiricamente.

6. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que compreende ainda produzir uma imagem processada para cada uma da pluralidade de frequências combinando o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para uma frequência específica.

7. Método de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que compreende ainda aplicar uma função de ponderação a cada pixel da imagem processada correspondente à frequência específica no primeiro conjunto de imagens de formação, no segundo conjunto de imagens de formação e no terceiro conjunto de imagens de formação com pesos que são inversamente proporcionais aos seus desvios padrão.

8. Método de acordo com as reivindicações 6 ou 7, caracterizado pelo fato de que compreende ainda obter a imagem misturada da imagem processada para cada uma da pluralidade de frequências através de uma média ponderada, uma seleção mediana, uma seleção mínima ou uma operação de seleção máxima.

9, Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 8, caracterizado pelo fato de que compreende ainda designar um limiar, em que os componentes reais de um pixel do primeiro conjunto de imagens de formação são designados como o pixel da imagem processada se um desvio padrão de ambos o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação forem maiores do que o limiar para esse pixel específico e em que a imagem misturada é produzida a partir de uma função da imagem processada e, opcionalmente, em que o limiar é baseado no valor absoluto da medição de impedância de múltiplas frequências a uma certa frequência.

10. Sistema para imageamento de resistividade, caracterizado pelo fato de que compreende: uma ferramenta de fundo de poço, em que a ferramenta de fundo de poço compreende: uma almofada um arranjo de eletrodos injetores; e um ou mais eletrodos de retorno; um transporte para dispor a ferramenta de fundo de poço em um poço; e um sistema de manipulação de informações, em que o sistema de manipulação de informações é configurado para: medir uma impedância para cada uma de uma pluralidade de frequências e construir um primeiro conjunto de imagens de formação de cada impedância para cada uma da pluralidade de frequências; aplicar um algoritmo de remoção de efeito de lama para produzir um segundo conjunto de imagens de formação; aplicar um algoritmo de correção dielétrica para produzir um terceiro conjunto de imagens de formação para cada uma da pluralidade de frequências; e combinar o primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para obter uma imagem misturada.

11. Sistema de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que o sistema de manipulação de informações é configurado para calcular um desvio padrão para uma variação ao longo da frequência de cada pixel a partir do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação e do terceiro conjunto de imagens de formação e, opcionalmente, em que o sistema de manipulação de informações é ainda configurado para aplicar uma função de ponderação a cada pixel do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação e do terceiro conjunto de imagens de formação com pesos que são inversamente proporcionais aos seus desvios padrão para produzir a imagem misturada.

12. Sistema de acordo com as reivindicações 10 ou 11, caracterizado pelo fato de que o sistema de manipulação de informações é ainda configurado para usar apenas dois do primeiro conjunto de imagens de formação, o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação em mistura.

13. Sistema de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 12, caracterizado pelo fato de que o sistema de manipulação de informações é configurado para produzir uma imagem processada para cada uma da pluralidade das frequências combinando as imagens do primeiro conjunto de imagens de formação, do segundo conjunto de imagens de formação e do terceiro conjunto de imagens de formação para uma frequência específica usando a variação de muito pixel em cada conjunto de imagem sobre a frequência.

14. Sistema de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 13, caracterizado pelo fato de que o sistema de manipulação de informações é configurado para produzir a imagem misturada a partir das imagens processadas através de uma média ponderada, uma seleção mediana, uma seleção mínima ou uma operação de seleção máxima.

15. Sistema de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 14, caracterizado pelo fato de que o sistema de manipulação de informações é configurado para designar um limiar, em que os componentes reais de um pixel do primeiro conjunto de imagens de formação são designados como uma imagem processada se os desvios padrão de ambos o segundo conjunto de imagens de formação e o terceiro conjunto de imagens de formação para esse pixel específico forem maiores do que o limiar, em que uma imagem misturada é produzida a partir de uma função da imagem processada e, opcionalmente, em que o limiar é baseado no valor absoluto da medição de impedância de múltiplas frequências a uma certa frequência.