BR112019021080A2 - SYSTEM FOR EVALUATING AN UNDERGROUND EARTH FORMATION AND METHODS OF EVALUATING AN UNDERGROUND EARTH FORMATION AND DIRECTING A DRILL DRILL IN AN UNDERGROUND FORMATION. - Google Patents

SYSTEM FOR EVALUATING AN UNDERGROUND EARTH FORMATION AND METHODS OF EVALUATING AN UNDERGROUND EARTH FORMATION AND DIRECTING A DRILL DRILL IN AN UNDERGROUND FORMATION. Download PDF

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Abstract

um sistema e método para avaliar uma formação de terra subterrânea, bem como um método de direcionar uma broca de perfuração em uma formação de terra subterrânea. o sistema compreende uma ferramenta de perfilagem que é operável para medir dados de formação e localizável em um furo de poço intersectando a formação de terra subterrânea. o sistema também compreende um processador que está em comunicação com a ferramenta de perfilagem. o processador é operável para calcular múltiplas soluções (dtbb) usando os dados de formação medidos, identificar soluções dtbb que satisfaçam um limiar, converter as soluções identificadas em soluções pixeladas dividindo as soluções identificadas em pixels, gerar uma formação modelo com base nas soluções pixeladas, e avaliar a formação utilizando o modelo de formação gerado.a system and method for assessing an underground earth formation, as well as a method of directing a drill bit into an underground earth formation. The system comprises a profiling tool that is operable to measure formation data and can be located in a borehole intersecting the formation of underground earth. the system also comprises a processor that is in communication with the profiling tool. the processor is operable to calculate multiple solutions (dtbb) using the measured training data, identify dtbb solutions that satisfy a threshold, convert the identified solutions into pixelated solutions by dividing the identified solutions into pixels, generate a model formation based on the pixelated solutions, and evaluate training using the training model generated.

Description

SISTEMA PARA AVALIAR UMA FORMAÇÃO DE TERRA SUBTERRÂNEA, E, MÉTODO DE AVALIAÇÃO DE UMA FORMAÇÃO DE TERRA SUBTERRÂNEASYSTEM FOR EVALUATING AN UNDERGROUND EARTH FORMATION, AND, METHOD OF EVALUATING AN UNDERGROUND EARTH FORMATION

FUNDAMENTOSFUNDAMENTALS

[001] Esta seção se destina a fornecer informação de base relevante para facilitar uma melhor compreensão dos vários aspectos das modalidades descritas. Desta forma, deve-se entender que estas declarações serão lidas sob esta luz e não como admissões de estado da técnica.[001] This section is intended to provide relevant background information to facilitate a better understanding of the various aspects of the described modalities. Thus, it must be understood that these statements will be read in this light and not as state of the art admissions.

[002] Operações de perfuração e produção de petróleo exigem uma grande quantidade de informações relacionadas aos parâmetros e às condições do fundo do poço. Tais informações podem incluir a localização e a orientação do furo de poço e conjunto de perfuração, propriedades de formação de terra e parâmetros do ambiente de perfuração de fundo de poço. A coleção de informações relativas às propriedades de formação e condições de fundo de poço é comumente referida como “perfilagem” e pode ser realizada durante o processo de perfuração em si (daí o termo “perfilagem durante a perfuração” ou “LWD,” frequentemente usados de forma intercambiável com o termo “medição durante a perfuração” ou “MWD”).[002] Drilling and oil production operations require a large amount of information related to the parameters and the bottom conditions. Such information may include the location and orientation of the borehole and drilling set, land forming properties and parameters of the downhole drilling environment. The collection of information regarding formation properties and downhole conditions is commonly referred to as "profiling" and can be performed during the drilling process itself (hence the term "profiling during drilling" or "LWD," frequently used interchangeably with the term “measurement during drilling” or “MWD”).

[003] Várias ferramentas de medição são usadas em aplicações de[003] Various measurement tools are used in measurement applications

LWD. Uma dessas ferramentas é a ferramenta de resistividade, que inclui uma ou mais antenas para receber uma resposta de formação e pode incluir uma ou mais antenas para transmitir um sinal eletromagnético para a formação. Quando operada em baixas frequências, a ferramenta de resistividade pode ser chamada de uma ferramenta de “indução”, e em altas frequências, pode ser a ferramenta de resistividade pode ser chamada de uma ferramenta de propagação de onda eletromagnética. Embora os fenômenos físicos que dominam a medição possam variar com frequência, os princípiosLWD. One of these tools is the resistivity tool, which includes one or more antennas to receive a formation response and can include one or more antennas to transmit an electromagnetic signal for the formation. When operated at low frequencies, the resistivity tool can be called an "induction" tool, and at high frequencies, it can be the resistivity tool can be called an electromagnetic wave propagation tool. Although the physical phenomena that dominate measurement can vary frequently, the principles

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2/24 de funcionamento para a ferramenta são consistentes. Em alguns casos, a amplitude e/ou a fase dos sinais recebidos é comparada à amplitude e/ou à fase dos sinais de transmissão para medir a resistividade de formação. Em outros casos, a amplitude e/ou fase de múltiplos sinais de recebimento são comparados uns aos outros para medir a resistividade de formação.2/24 operation for the tool is consistent. In some cases, the amplitude and / or the phase of the received signals is compared to the amplitude and / or the phase of the transmission signals to measure the formation resistivity. In other cases, the amplitude and / or phase of multiple receiving signals are compared to each other to measure the resistivity of formation.

[004] Uma inversão baseada em modelos em camadas tem sido usada nas ferramentas de perfilagem de resistividade eletromagnética para identificar os principais limites entre diferentes resistências de formação. O pressuposto de formação unidimensional (ID) é tipicamente usado também na inversão, onde cada limite é paralelo de um para outro. Os pressupostos de formação são bastante verdade devido à faixa de detecção das medições usadas na inversão. De um modo geral, a faixa típica de detecção das ferramentas convencionais de perfilagem de resistividade é de cerca de 5 (1,5 metros) a 10 pés (3 metros) e a máxima de detecção é de cerca de 18 pés (5,5 metros).[004] An inversion based on layered models has been used in the electromagnetic resistivity profiling tools to identify the main limits between different forming resistors. The assumption of unidimensional formation (ID) is typically also used in inversion, where each limit is parallel to one another. The formation assumptions are quite true due to the detection range of the measurements used in the inversion. In general, the typical detection range of conventional resistivity profiling tools is about 5 (1.5 meters) to 10 feet (3 meters) and the maximum detection is about 18 feet (5.5 meters).

[005] Ferramentas de perfilagem de resistividade ultraprofundas detectam limites de formação a 100 pés (30,5 metros) da ferramenta, o que proporciona uma faixa de detecção muito mais profunda do que as ferramentas convencionais de perfilagem. Dentro da profundidade da investigação, geralmente há várias camadas e um método qualitativo, como falhas de correlação, devido à complexidade. Um algoritmo de mapeamento de limite, como um algoritmo de inversão de limite de distância para leito (DTBB) é usado para interpretar as respostas da ferramenta qualitativamente e avaliar a formação de terra subterrânea para identificar zonas de formação que são adequadas para a produção de fluidos de formação, como hidrocarbonetos.[005] Ultra-deep resistivity profiling tools detect formation limits at 100 feet (30.5 meters) from the tool, which provides a much deeper detection range than conventional profiling tools. Within the depth of the investigation, there are usually several layers and a qualitative method, such as correlation failures, due to the complexity. A boundary mapping algorithm, such as a distance boundary inversion algorithm for bed (DTBB) is used to interpret the tool's responses qualitatively and assess underground formation to identify formation zones that are suitable for fluid production training, such as hydrocarbons.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOSBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

[006] As modalidades da invenção são descritas com referência às seguintes figuras. Os mesmos números são usados em todas as figuras para[006] The modalities of the invention are described with reference to the following figures. The same numbers are used in all figures to

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3/24 referenciar características e componentes parecidos. Os recursos descritos nas figuras não são necessariamente mostradas em escala. Certas recursos das modalidades podem ser mostrados exageradamente em termos de escala ou de forma um tanto esquemática e alguns detalhes de elementos podem não ser mostrados por questão de clareza e concisão.3/24 refer to similar characteristics and components. The features described in the figures are not necessarily shown to scale. Certain features of the modalities may be shown exaggeratedly in terms of scale or somewhat schematically and some details of elements may not be shown for the sake of clarity and conciseness.

[007] A FIG. 1 representa uma vista em elevação de um ambiente de perfilagem durante a perfuração, de acordo com uma ou mais modalidades;[007] FIG. 1 represents an elevation view of a profiling environment during drilling, according to one or more modalities;

A FIG. 2 representa uma vista esquemática de uma ferramenta de perfilagem de resistividade, de acordo com uma ou mais modalidades;FIG. 2 represents a schematic view of a resistivity profiling tool, according to one or more modalities;

A FIG. 3 representa uma vista de diagrama de um método de pixelização, de acordo com uma ou mais modalidades;FIG. 3 represents a diagrammatic view of a pixelization method, according to one or more modalities;

A FIG. 4 representa uma vista de gráfico de um modelo de formação, de acordo com uma ou mais modalidades;FIG. 4 represents a graphical view of a training model, according to one or more modalities;

A FIG. 5 representa uma vista de gráfico de um perfil de resistividade, de acordo com uma ou mais modalidades;FIG. 5 represents a graphical view of a resistivity profile, according to one or more modalities;

A FIG. 6 representa uma vista de gráfico da incerteza do perfil de resistividade da FIG. 5, de acordo com uma ou mais modalidades;FIG. 6 represents a graphical view of the uncertainty of the resistivity profile of FIG. 5, according to one or more modalities;

A FIG. 7 representa uma vista de gráfico da incerteza de resistividade como um gráfico de contorno, de acordo com uma ou mais modalidades;FIG. 7 represents a graph view of the resistivity uncertainty as a contour graph, according to one or more modalities;

A FIG. 8 representa uma vista de gráfico de um perfil de incerteza de limite de formação, de acordo com um ou mais modalidades; eFIG. 8 represents a graphical view of a formation limit uncertainty profile, according to one or more modalities; and

A FIG. 9 representa uma vista de gráfico do perfil de incerteza suavizado da FIG. 8, de acordo com uma ou mais modalidades.FIG. 9 represents a graph view of the smoothed uncertainty profile of FIG. 8, according to one or more modalities.

DESCRIÇÃO DETALHADADETAILED DESCRIPTION

[008] A FIG. 1 mostra uma ou mais modalidades de um ambiente de[008] FIG. 1 shows one or more modalities of an environment of

LWD ilustrativo. Uma plataforma de perfuração 2 suporta uma torre 4 tendo uma catarina 6 para levantar e abaixar uma coluna de perfuração 8. Um top drive 10 suporta e gira a coluna de perfuração 8 à medida que é baixadaIllustrative LWD. A drilling rig 2 supports a tower 4 having a catarina 6 for raising and lowering a drilling column 8. A top drive 10 supports and rotates the drilling column 8 as it is lowered

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4/24 através da cabeça do poço 12. Uma broca de perfuração 14 é acionada por um motor de fundo de poço e/ou pela rotação da coluna de perfuração 8. Quando a broca 14 gira, ela cria um furo de poço 16 que passa através de várias formações. Uma bomba 18 circula fluido de perfuração 20 através de um tubo de alimentação 22, através do interior da coluna de perfuração 8 para a broca de perfuração 14. O fluido sai através de orifícios da broca de perfuração 14 e flui para cima através do anular em tomo da coluna de perfuração 8 para transportar fragmentos e cascalhos de perfuração para a superfície, onde o fluido é filtrado e recirculado.4/24 through the wellhead 12. A drill bit 14 is driven by a downhole motor and / or by rotating the drill column 8. When the drill bit 14 spins, it creates a well hole 16 that passes through various formations. A pump 18 circulates drilling fluid 20 through a feed tube 22 through the interior of the drilling column 8 to the drill bit 14. The fluid exits through the holes in the drill bit 14 and flows upwards through the annular in I take the drilling column 8 to transport drilling fragments and cuttings to the surface, where the fluid is filtered and recirculated.

[009] A broca de perfuração 14 é apenas um pedaço de uma composição de fundo 24 que inclui um motor de lama e um ou mais “colares de perfuração” (tubulação de aço de parede espessa) que fornecem o peso e rigidez para auxiliar o processo de perfuração. Alguns destes comandos incluem instrumentos de perfilagem embutidos para recolher medições de vários parâmetros de perfuração, tais como localização, orientação, peso na broca, diâmetro de furo de poço, etc. A orientação da ferramenta pode ser especificada em termos de um ângulo da face da ferramenta (orientação rotacional), um ângulo de inclinação (o declive); e direção da agulha, cada um dos quais pode ser derivado de medições por magnetômetros, medidores de inclinação e/ou acelerômetros, embora possam altemativamente ser usados outros tipos de sensores tais como os giroscópios. Numa modalidade específica, a ferramenta inclui um magnetômetro fluxgate de 3 eixos e um acelerômetro de três eixos. Como é conhecido na técnica, a combinação desses dois sistemas de sensor permite a medição do ângulo de face da ferramenta, ângulo de inclinação e direção da agulha. Tais medições de orientação podem ser combinadas com medições giroscópicas ou inerciais para rastrear com precisão a posição da ferramenta.[009] Drill bit 14 is just a piece of bottom composition 24 that includes a mud motor and one or more “drill collars” (thick-walled steel tubing) that provide the weight and rigidity to assist the drilling process. Some of these commands include built-in profiling instruments to collect measurements of various drilling parameters, such as location, orientation, drill weight, borehole diameter, etc. The orientation of the tool can be specified in terms of an angle of the tool face (rotational orientation), an angle of inclination (the slope); and needle direction, each of which can be derived from measurements by magnetometers, tilt meters and / or accelerometers, although other types of sensors such as gyroscopes may alternatively be used. In a specific embodiment, the tool includes a 3-axis fluxgate magnetometer and a three-axis accelerometer. As is known in the art, the combination of these two sensor systems allows measurement of the tool's face angle, tilt angle and needle direction. Such orientation measurements can be combined with gyroscopic or inertial measurements to accurately track the position of the tool.

[0010] A composição de fundo 24 pode incluir um dispositivo para medir a resistividade de formação, um dispositivo de raios gama para medir a[0010] The background composition 24 may include a device for measuring formation resistivity, a gamma ray device for measuring the

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5/24 intensidade da formação de raios gama, dispositivos para medir a inclinação e o azimute da coluna de perfuração 8, sensores de pressão para medir a pressão do furo de poço, sensores de temperatura para medir a temperatura do furo de poço, etc. Também está incluído na composição de fundo 24 um sub de telemetria que mantém uma ligação de comunicações com a superfície. Telemetria de pulso de lama é uma técnica de telemetria comum para transferir medições de ferramenta para receptores de superfície e receber comandos da superfície, mas outras técnicas de telemetria também podem ser usadas. Para algumas técnicas (por exemplo, sinalização acústica através da parede) a coluna de perfuração 8 inclui um ou mais repetidores 30 para detectar, amplificar e retransmitir o sinal. Na superfície, transdutores 28 converte sinais entre forma mecânica e elétrica, permitindo que um módulo de interface de rede 36 receba a ligação do sinal da sub telemetria e (pelo menos em algumas modalidades) transmita um sinal de downlink para o sub de telemetria.5/24 intensity of gamma ray formation, devices for measuring the inclination and azimuth of the drilling column 8, pressure sensors for measuring well hole pressure, temperature sensors for measuring well hole temperature, etc. Also included in the background composition 24 is a telemetry sub that maintains a communications link with the surface. Mud pulse telemetry is a common telemetry technique for transferring tool measurements to surface receivers and receiving surface commands, but other telemetry techniques can also be used. For some techniques (e.g., acoustic signaling through the wall) the drill string 8 includes one or more repeaters 30 to detect, amplify and retransmit the signal. On the surface, transducers 28 convert signals between mechanical and electrical forms, allowing a network interface module 36 to receive the signal link from the sub telemetry and (at least in some modalities) transmit a downlink signal to the telemetry sub.

[0011] Um sistema de computador 50 localizado na superfície recebe um sinal de telemetria digital, receptor do sinal e exibe os dados da ferramenta ou perfis de poço para um usuário. Embora a FIG. 1 ilustre o sistema de computador 50 como estando ligado ao sistema de telemetria, deve ser apreciado que o sistema de computador 50 pode estar em comunicação sem fios com o sistema de telemetria. O sistema de computador 50 pode incluir um processador e um meio legível por máquina não transitório 53 (por exemplo, ROM, EPROM, EEPROM, memória flash, RAM, um disco rígido, um disco de estado sólido, um disco óptico ou uma combinação dos mesmos) capaz de executar instruções. O processador do sistema de computador 50 pode incluir um ou mais processadores localizados na superfície ou no furo de poço, tal como integrado com a composição de fundo 24. O software (representado na Fig. 1 como o meio não transitório legível por máquina 52) controla o funcionamento do sistema 50. Um usuário interage com o sistema[0011] A computer system 50 located on the surface receives a digital telemetry signal, signal receiver and displays tool data or well profiles to a user. Although FIG. 1 illustrating computer system 50 as being connected to the telemetry system, it should be appreciated that computer system 50 may be in wireless communication with the telemetry system. Computer system 50 may include a processor and a non-transitory machine-readable medium 53 (for example, ROM, EPROM, EEPROM, flash memory, RAM, a hard disk, a solid state disk, an optical disk, or a combination of the able to execute instructions. The processor of the computer system 50 can include one or more processors located on the surface or in the well bore, as integrated with the bottom composition 24. The software (represented in Fig. 1 as the machine-readable non-transitory medium 52) controls the functioning of the system 50. A user interacts with the system

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6/24 e o software 52, através de um ou mais dispositivos de entrada 54 e 55 e um ou mais dispositivos 56 de saída. Em algumas modalidades do sistema, um perfurador emprega o sistema 50 para tomar decisões de geo-orientação (por exemplo, modificando a trajetória do furo de poço ou direcionando a broca 14) e comunicando comandos apropriados à composição de fundo 24 para executar essas decisões. O sistema de computador 50 é operável para realizar cálculos ou operações para avaliar a formação, identificar posições limite de formação e/ou direcionar a broca de perfuração 14 como descrito aqui.6/24 and software 52, via one or more input devices 54 and 55 and one or more output devices 56. In some embodiments of the system, a driller employs system 50 to make geo-orientation decisions (for example, modifying the path of the well hole or directing the drill 14) and communicating commands appropriate to the bottom composition 24 to execute those decisions. Computer system 50 is operable to perform calculations or operations to assess formation, identify formation limit positions and / or direct drill bit 14 as described here.

[0012] A coluna de perfuração mostrada na FIG. 1 ilustra uma operação, onde a perfuração é realizada ao longo de um caminho que não seja um caminho vertical reto para baixo. Pelo menos algumas modalidades ilustrativas, a mudança de direção é feita usando um “sub curvo,” que é uma seção tubular ao longo da perfuração perto da broca de perfuração que é dobrada ou curva. A curva ou dobra pode ser fixa ou variável, com a direção da perfuração sendo determinada através da curva sozinha, ou por uma combinação da dobra e a rotação da perfuração. Por exemplo, se um motor do fundo do poço é usado para guiar a broca de perfuração e uma perfuração com um sub de curva fixa é mantida em uma orientação azimutal fixa, a coluna de perfuração gradualmente vai mudar de direção na direção da curva. Se em vez disso, tal perfuração é girada, a perfuração vai progredir ao longo de uma linha paralela à seção de perfuração acima da curva e cerca dos processos da broca perfuração.[0012] The drill column shown in FIG. 1 illustrates an operation, where drilling is carried out along a path other than a straight down vertical path. At least in some illustrative modalities, the change of direction is made using a “curved sub,” which is a tubular section along the perforation near the bent or curved drill bit. The curve or bend can be fixed or variable, with the direction of the perforation being determined through the curve alone, or by a combination of the bend and the rotation of the perforation. For example, if a downhole motor is used to guide the drill bit and drilling with a fixed curve sub is maintained in a fixed azimuth orientation, the drill column will gradually change direction in the direction of the curve. If, instead, such a perforation is rotated, the perforation will progress along a line parallel to the perforation section above the curve and around the drilling bit processes.

[0013] Para colunas de perfuração capaz de variar o ângulo do sub curvo, o sub é definido como um ângulo desejado e direção enquanto a coluna de perfuração é mantida em uma orientação azimutal fixa desejada, com a broca sendo conduzida pelo motor do fundo do poço. Isso às vezes é chamado de “perfuração deslizante”, como a coluna de perfuração desliza através do furo de poço sem girar. Em outras modalidades da perfuração, a perfuração[0013] For drill columns capable of varying the angle of the curved sub, the sub is defined as a desired angle and direction while the drill column is maintained in a desired fixed azimuth orientation, with the drill being driven by the bottom engine of the well. This is sometimes called “sliding drilling”, as the drill column slides through the well hole without turning. In other drilling modalities, drilling

Petição 870190100458, de 07/10/2019, pág. 14/52 /24 continua a ser girada e o ângulo do sub curvo é mantido, aplicando uma força sobre a coluna de perfuração em uma direção específica. Isso faz com que o sub seja empurrado para a parede do furo de poço oposto à direção de perfuração desejada para criar um ângulo entre os tubos da coluna de perfuração e/ou as unidades de composição de fundo para cada lado do sub. Tais sistemas são por vezes referidos como sistemas giratórios orientáveis. [0014] Devido à mudança de ângulo introduzida pelos subs e sistemas acima descritos usados na perfuração direcional e devido às dobras produzidas na coluna de perfuração pelo furo de poço resultante, os subs de ferramenta de perfilagem localizados ao longo do comprimento da coluna de perfuração podem ser orientados em direções diferentes. Isto é particularmente verdadeiro para ferramentas de perfilagem utilizadas na avaliação de formação profunda (ou seja, ferramentas em que uma antena de transmissor é separada de uma antena de recebimento pelo menos 20 pés), como as antenas transmissoras e receptoras utilizadas em tais ferramentas podem ser alojadas nos subs da ferramenta de perfilagem que são separados por distâncias maiores (em comparação com outras ferramentas de perfilagem) para atingir a penetração de formação desejada dos sinais transmitidos. Quanto maior a distância entre os subs ferramenta de perfilagem, a maior diferença do ângulo de inclinação e golpe podem ser entre seções da coluna de perfuração atravessando um caminho do furo de poço que esteja curvo ou não numa linha reta. Conforme usado no presente documento, o ângulo de inclinação de um sub de ferramenta de LWD que aloja uma antena é definido como o ângulo entre um eixo vertical z e um eixo local da coluna de perfuração z para a referida antena. O ângulo de golpe é definido como o ângulo entre um vetor de referência normal para um eixo vertical z e uma projeção em uma plana horizontal x-y da coluna de perfuração local do eixo z da antena.Petition 870190100458, of 10/07/2019, p. 14/52 / 24 continues to be rotated and the angle of the curved sub is maintained, applying a force on the drill string in a specific direction. This causes the sub to be pushed into the well hole wall opposite the desired drilling direction to create an angle between the drill column tubes and / or the bottom composition units on each side of the sub. Such systems are sometimes referred to as swiveling swivel systems. [0014] Due to the angle change introduced by the subs and systems described above used in directional drilling and due to the folds produced in the drilling column by the resulting well hole, the profiling tool subs located along the length of the drilling column can be oriented in different directions. This is particularly true for profiling tools used in deep formation assessment (ie tools in which a transmitter antenna is separated from a receiving antenna at least 20 feet), as the transmitting and receiving antennas used in such tools can be. housed in the subs of the profiling tool that are separated by greater distances (compared to other profiling tools) to achieve the desired formation penetration of the transmitted signals. The greater the distance between the profiling tool subs, the greater the difference in the angle of inclination and stroke can be between sections of the drill column crossing a well hole path that is curved or not in a straight line. As used herein, the angle of inclination of an LWD tool sub that houses an antenna is defined as the angle between a vertical axis z and a local axis of the drill column z for said antenna. The strike angle is defined as the angle between a normal reference vector for a vertical z axis and a projection on a horizontal x-y plane of the local drilling column of the antenna's z axis.

[0015] A FIG. 2 mostra uma vista esquemática de uma ferramenta de[0015] FIG. 2 shows a schematic view of a tool for

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8/24 perfilagem de resistividade profunda 200, de acordo com uma ou mais modalidades. A ferramenta de perfilagem de resistividade 200 pode ser incluída com a composição de fundo 24 da FIG. 1 e inclui dois subs de ferramenta de LWD 202 e 206 em locais e orientações diferentes ao longo de uma coluna de perfuração. Uma antena receptora da ferramenta de perfilagem de resistividade 212 e um dispositivo de medição de posição de antena receptora correspondente 222a está alojado no sub de ferramenta de LWD 202, enquanto uma antena transmissora da ferramenta de perfilagem de resistividade 216 e um dispositivo de medição de posição de antena transmissora correspondente 222b (componentes de um instrumento “na broca”) estão alojados no sub de ferramenta de LWD 206 e mais perto da broca de perfuração 208. Os dispositivos de medição de posição 222a, b localizam a posição de cada antena correspondente, que pode ser expressa, por exemplo, em termos do ângulo de inclinação de cada antena ( ' e em zr zt relação aos eixos e respectivamente; geralmente fixo e conhecido), o ângulo azimutal de cada antena ( e em relação ao eixo x), cada ângulo8/24 profiling of deep resistivity 200, according to one or more modalities. The resistivity profiling tool 200 can be included with the bottom composition 24 of FIG. 1 and includes two LWD 202 and 206 tool subs in different locations and orientations along a drill string. A receiving antenna of the resistivity profiling tool 212 and a corresponding receiving antenna position measuring device 222a is housed in the sub tool of LWD 202, while a transmitting antenna of the resistivity profiling tool 216 and a position measuring device corresponding transmitting antenna 222b (components of an instrument “in the drill”) are housed in the tool sub of LWD 206 and closer to the drill bit 208. Position measuring devices 222a, b locate the position of each corresponding antenna, which can be expressed, for example, in terms of the angle of inclination of each antenna ('and in z r z t in relation to the axes and respectively; generally fixed and known), the azimuth angle of each antenna (and in relation to the x axis ), each angle

$.r Φέ de inclinação do sub da ferramenta de LWD ( e ), e a distância d’ entre as antenas. Vários métodos podem ser usados para localizar as posições da antena (por exemplo, em relação a uma posição de referência na superfície. Deve-se notar que, embora os ângulos do sub curvo sejam tipicamente menores que cinco graus, a ilustração mostrada tem ângulos muito mais pronunciados para melhor ilustrar o efeito dos ângulos nas localizações espaciais relativas das antenas, descritas em mais detalhes abaixo.$. r Φέ of inclination of the sub of the LWD tool (e), and the distance d 'between the antennas. Various methods can be used to locate the positions of the antenna (for example, in relation to a reference position on the surface. It should be noted that, although the angles of the curved sub are typically less than five degrees, the illustration shown has very different angles. more pronounced to better illustrate the effect of angles on the relative spatial locations of the antennas, described in more detail below.

[0016] A ferramenta de perfilagem de resistividade 200 em comunicação com o sistema de computador 50 da FIG. 1 é utilizada para medir dados de formação, que é utilizado para avaliar a formação e/ou determinar uma trajetória do furo de poço para produzir fluidos de formação, tais como fluidos de hidrocarbonetos. Deve ser apreciado que a ferramenta de perfilagem de resistividade 200 é uma ferramenta exemplificativa para medir[0016] The resistivity profiling tool 200 in communication with the computer system 50 of FIG. 1 is used to measure formation data, which is used to assess formation and / or determine a well bore path to produce formation fluids, such as hydrocarbon fluids. It should be appreciated that the resistivity profiling tool 200 is an exemplary tool for measuring

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9/24 dados de formação e que outras ferramentas de perfilagem adequadas podem ser utilizadas. Além disso, outras ferramentas de perfilagem de resistividade podem empregar diferentes configurações de antenas para avaliar a formação. [0017] Os dados de formação medidos podem ser usados para gerar um modelo de resistividade da formação e determinar a incerteza de um parâmetro incluído ou determinado a partir dos dados de formação. Um modelo de resistividade pode ser usado para identificar posições limite entre camadas de formação e determinar a trajetória do furo de poço para produzir fluidos de formação. A incerteza de um parâmetro indica uma faixa de valores adequados para um parâmetro específico, como a incerteza dos valores de resistividade ou as posições limites das camadas de formação. Por exemplo, a incerteza de uma posição limite fornece uma indicação de onde um limite de formação pode ser localizado e até que ponto essa posição limite de formação pode variar. Conforme usado neste documento, a incerteza de um parâmetro refere-se a uma faixa de valores adequados para o parâmetro ou uma medição que é usada para quantificar uma variação no parâmetro (por exemplo, desvio padrão). O parâmetro pode incluir qualquer uma ou qualquer combinação de resistividade horizontal, resistividade vertical, condutividade, uma razão de anisotropia, uma posição limite das camadas de formação e uma imersão na formação.9/24 training data and what other suitable profiling tools can be used. In addition, other resistivity profiling tools may employ different antenna configurations to assess formation. [0017] The measured training data can be used to generate a resistivity model of the formation and determine the uncertainty of a parameter included or determined from the training data. A resistivity model can be used to identify limit positions between formation layers and determine the path of the well hole to produce formation fluids. The uncertainty of a parameter indicates a range of values suitable for a specific parameter, such as the uncertainty of the resistivity values or the limit positions of the formation layers. For example, the uncertainty of a limit position provides an indication of where a formation limit can be located and to what extent that formation limit position can vary. As used in this document, the uncertainty of a parameter refers to a range of suitable values for the parameter or a measurement that is used to quantify a variation in the parameter (for example, standard deviation). The parameter can include any or any combination of horizontal resistivity, vertical resistivity, conductivity, an anisotropy ratio, a limit position of the formation layers and an immersion in the formation.

[0018] A FIG. 3 mostra um fluxograma de um método 300 para gerar um modelo de formação utilizando dados de formação medidos a partir da ferramenta de perfilagem de resistividade 200 da FIG. 2, de acordo com uma ou mais modalidades. No bloco 302, os dados de formação são utilizados para gerar soluções DTBB utilizando um método de inversão DTBB. No bloco 304, as soluções DTBB são filtradas para produzir as soluções DTBB que se ajustam melhor aos dados de formação medidos. No bloco 306, as soluções filtradas são convertidas em soluções pixeladas, conforme aqui descrito. As soluções pixeladas fornecem uma maneira eficiente de analisar soluções[0018] FIG. 3 shows a flow chart of a method 300 for generating a training model using training data measured from the resistivity profiling tool 200 of FIG. 2, according to one or more modalities. In block 302, training data is used to generate DTBB solutions using a DTBB inversion method. In block 304, the DTBB solutions are filtered to produce the DTBB solutions that best fit the measured training data. In block 306, the filtered solutions are converted to pixelated solutions, as described herein. Pixelated solutions provide an efficient way to analyze solutions

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10/2410/24

DTBB representando números variados de camadas de formação. No bloco 308, uma média das soluções pixeladas pode ser usada para gerar um modelo de formação resumindo as soluções DTBB. No bloco 310, o modelo de formação pode ser usado para avaliar a formação, desenvolver uma trajetória do furo de poço ou direcionar uma broca e perfuração para produzir fluidos de formação.DTBB representing varying numbers of training layers. In block 308, an average of the pixelated solutions can be used to generate a training model summarizing the DTBB solutions. In block 310, the formation model can be used to assess formation, develop a well hole path or direct a drill and drill to produce formation fluids.

[0019] No bloco 302, para gerar um modelo de resistividade da formação, várias estimativas são aplicadas a um método de inversão DTBB para fornecer múltiplas soluções DTBB que melhor se ajustam aos dados de formação medidos. As inversões DTBB são executadas com múltiplas estimativas iniciais aleatórias com uma ou mais camadas de formação. No bloco 304, após a inversão, as soluções DTBB, que podem incluir várias centenas de soluções, são identificadas pela extensão do desajuste com os dados de formação medidos. As soluções DTBB que satisfazem um limiar (por exemplo, uma solução residual mínima) podem ser identificadas para processamento adicional. As soluções DTBB que se encaixam melhor com as medições de formação são selecionadas como as soluções finais. O processo de seleção de inversão e solução DTBB é feito repetidamente em cada ponto de perfilagem ou profundidade de medição da ferramenta de perfilagem de resistividade.[0019] In block 302, to generate a resistivity model of the formation, several estimates are applied to a DTBB inversion method to provide multiple DTBB solutions that best fit the measured formation data. DTBB inversions are performed with multiple initial random estimates with one or more layers of formation. In block 304, after inversion, DTBB solutions, which can include several hundred solutions, are identified by the extent of the mismatch with the measured training data. DTBB solutions that satisfy a threshold (for example, a minimal residual solution) can be identified for further processing. The DTBB solutions that fit best with formation measurements are selected as the final solutions. The inversion and DTBB solution selection process is done repeatedly at each profiling point or measuring depth of the resistivity profiling tool.

[0020] No bloco 306, assim que as soluções são identificadas, as soluções são convertidas em soluções pixeladas, as quais dividem as soluções em pixels representando um ou mais valores de parâmetros de formação em uma profundidade vertical verdadeira (TVD) ou uma faixa de TVDs dependendo da largura do pixel. Como exemplo, a FIG. 4 mostra uma vista em diagrama da conversão de uma solução de inversão 302, que compreende três camadas de formação diferentes (404, 406 e 408), para uma solução pixelada 410, de acordo com uma ou mais modalidades. A solução de inversão 402 é uma solução de 3 camadas que proporciona três camadas de[0020] In block 306, as soon as the solutions are identified, the solutions are converted into pixelated solutions, which divide the solutions into pixels representing one or more values of formation parameters in a true vertical depth (TVD) or a range of TVDs depending on the pixel width. As an example, FIG. 4 shows a diagrammatic view of the conversion of an inversion solution 302, which comprises three different formation layers (404, 406 and 408), to a pixelated solution 410, according to one or more modalities. The 402 inversion solution is a 3-layer solution that provides three layers of

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11/24 formação diferentes. Cada solução identificada pode ser dividida em pixels, incluindo informações de parâmetros de formação (por exemplo, resistividade horizontal, resistividade vertical, condutividade, razão de anisotropia e imersão de formação) em função da verdadeira profundidade vertical. Cada pixel pode ter uma largura constante ao longo da direção TVD e, assim, um pixel representa um ou mais parâmetros de formação numa determinada TVD ou uma faixa de TVD dependendo da largura do pixel ao longo da direção TVD. Uma função ponderada 412 pode também ser aplicada aos pixels para ajustar os valores de certos pixels e compensar quaisquer incertezas na solução pixelada. Por exemplo, os pixels distantes da posição da ferramenta, que são menos sensíveis aos limites de resistividade, podem ser ajustados para compensar as imprecisões. Uma vez convertida em uma solução pixelada, as posições limite são representadas implicitamente por pixels localizados nos limites dos contrastes de resistividade 414 e 416. As soluções pixeladas proporcionam, assim, uma maneira eficiente de analisar soluções DTBB com diferentes números de camadas, conforme aqui descrito. Altemativamente, uma análise estatística, tal como P5, P50 ou P95, pode também ser aplicada aos pixels para gerar a solução de inversão pixelada final.11/24 different training. Each identified solution can be divided into pixels, including formation parameter information (for example, horizontal resistivity, vertical resistivity, conductivity, anisotropy ratio and formation immersion) depending on the true vertical depth. Each pixel can have a constant width along the TVD direction and thus a pixel represents one or more parameters of formation in a given TVD or a TVD band depending on the width of the pixel along the TVD direction. A weighted function 412 can also be applied to the pixels to adjust the values of certain pixels and to compensate for any uncertainties in the pixelated solution. For example, pixels away from the tool's position, which are less sensitive to resistivity limits, can be adjusted to compensate for inaccuracies. Once converted to a pixelated solution, the limit positions are implicitly represented by pixels located at the limits of resistivity contrasts 414 and 416. The pixelated solutions thus provide an efficient way to analyze DTBB solutions with different numbers of layers, as described here . Alternatively, a statistical analysis, such as P5, P50 or P95, can also be applied to pixels to generate the final pixelated inversion solution.

[0021] As soluções pixeladas podem ser resumidas usando uma média modelo dos pixels em cada profundidade de medição e uma TVD ou uma faixa de TVDs. Portanto, no bloco 308, um esquema de média de modelo pode ser usado para gerar um modelo de formação das soluções de DTBB pixeladas. Um meio matemático, incluindo a média algébrica, geométrica ou harmônica:[0021] The pixelated solutions can be summarized using a model average of the pixels at each measurement depth and a TVD or a range of TVDs. Therefore, in block 308, a model averaging scheme can be used to generate a model for forming pixelated DTBB solutions. A mathematical medium, including algebraic, geometric or harmonic mean:

Figure BR112019021080A2_D0001

pode ser aplicado às soluções selecionadas para calcular um modelo de formação, onde é o valor médio e E são os pixels das soluções pixeladas para uma profundidade de medição específica e um TVDcan be applied to the selected solutions to calculate a formation model, where is the average value and E are the pixels of the pixelated solutions for a specific measurement depth and a TVD

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12/24 ou faixa de TVDs dependendo da largura do pixel.12/24 or range of TVDs depending on the pixel width.

[0022] A FIG. 5 mostra uma vista gráfica de um modelo de formação 500 gerado usando dados de formação sintéticos de DTBB, de acordo com uma ou mais modalidades. O modelo de formação 500 é a média do modelo harmônico das soluções pixeladas para cada profundidade de medição. O modelo de formação 500 condensa centenas de soluções de inversão para cada profundidade de medição em um único gráfico e fornece um conjunto de dados eficiente para avaliar a formação. Como mostrado, o gráfico é um gráfico de contorno de resistividade horizontal (ohm-m) como uma função da profundidade de medição (eixo x) em relação à profundidade vertical verdadeira (eixo y). Cada profundidade de medição é a média harmônica de soluções pixeladas. No bloco 310, uma trajetória do furo de poço 502 pode ser desenvolvida para penetrar uma ou mais camadas de formação adequadas para a produção de fluidos de formação, tais como hidrocarbonetos. Os contrastes em resistividade (404 e 406) demonstram posições limite de formação entre camadas de formação compreendendo diferentes propriedades de formação, tais como xisto, calcário, arenito, arenito gasoso, calcário oleoso, etc. As posições limite das camadas de formação identificado no modelo de formação 400 pode ser utilizado para direcionar a broca de perfuração para uma camada de formação adequada ou identificar a trajetória do furo de poço 402 para penetrar uma ou mais camadas de formação para produção, tais como camadas de formação adequadas para a produção de fluidos de formação. Por exemplo, a trajetória do furo de poço 402 pode ser identificada para avançar predominantemente entre as posições limite de formação identificadas com base nos contrastes da resistividade 404 e 406.[0022] FIG. 5 shows a graphical view of a training model 500 generated using synthetic DTBB training data, according to one or more modalities. Formation model 500 is the average of the harmonic model of the pixelated solutions for each measurement depth. The 500 training model condenses hundreds of inversion solutions for each measurement depth into a single graph and provides an efficient data set for evaluating the formation. As shown, the graph is a contour plot of horizontal resistivity (ohm-m) as a function of the measurement depth (x-axis) in relation to the true vertical depth (y-axis). Each measurement depth is the harmonic mean of pixelated solutions. In block 310, a path of well bore 502 can be developed to penetrate one or more formation layers suitable for the production of formation fluids, such as hydrocarbons. The resistivity contrasts (404 and 406) demonstrate formation limit positions between formation layers comprising different formation properties, such as shale, limestone, sandstone, gaseous sandstone, oily limestone, etc. The limit positions of the formation layers identified in formation model 400 can be used to direct the drill bit to a suitable formation layer or to identify the path of the well hole 402 to penetrate one or more formation layers for production, such as training layers suitable for the production of training fluids. For example, the trajectory of well bore 402 can be identified to advance predominantly between the limit formation positions identified based on resistivity contrasts 404 and 406.

[0023] Os vários meios matemáticos fornecem diferentes interpretações do modelo de formação. Por exemplo, a média algébrica calcula a média da resistividade em ohm-m diretamente. A média geométrica calcula a média em uma escala logarítmica de resistividade. Os meios[0023] The various mathematical means provide different interpretations of the training model. For example, the algebraic average directly averages the resistivity in ohm-m. The geometric mean calculates the mean on a logarithmic resistivity scale. The means

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13/24 algébricos e geométricos são meios matemáticos que podem destacar os modelos com grandes valores de resistividade. A média harmônica calcula a média da condutividade e, em seguida, converte a condutividade média em resistividade. Para uma ferramenta de LWD de resistividade baseada em indução, a média harmônica geralmente é usada porque a ferramenta é sensível à condutividade em vez da resistividade. Portanto, pixels com grande condutividade podem ser destacados ao calcular a média a partir das medições de uma ferramenta de perfilagem de indução. As diferenças entre os valores médios calculados com os vários meios matemáticos também podem representar uma incerteza de parâmetro.13/24 algebraic and geometric are mathematical means that can highlight models with high resistivity values. The harmonic mean calculates the mean conductivity and then converts the mean conductivity into resistivity. For an induction-based resistivity LWD tool, harmonic averaging is generally used because the tool is sensitive to conductivity rather than resistivity. Therefore, pixels with high conductivity can be highlighted when averaging from the measurements of an induction profiling tool. The differences between the average values calculated with the various mathematical means can also represent a parameter uncertainty.

[0024] A média modelo também pode ser calculada pela não inclusão de pixels camada externa entre as soluções pixeladas no cálculo da média. Um ou mais pixels de uma solução pixelada (por exemplo, um conjunto de pixels ou uma solução pixelada inteira) podem ser removidos do conjunto de soluções antes da média, se os pixels forem considerados outliers. Conforme utilizado neste documento, um pixel de valor atípico pode ser um pixel que não satisfaz um valor ou condição limiar. Deve-se considerar que o parâmetro usado para identificar pixels externos pode ser qualquer um ou qualquer combinação de parâmetros de formação incluindo resistividade horizontal, resistividade vertical, condutividade, razão de anisotropia e imersão de formação.[0024] The model average can also be calculated by not including outer layer pixels among the pixelated solutions in the calculation of the average. One or more pixels from a pixelated solution (for example, a pixel set or an entire pixelated solution) can be removed from the solution set before averaging, if the pixels are considered outliers. As used in this document, an outlier pixel can be a pixel that does not satisfy a threshold value or condition. It must be considered that the parameter used to identify external pixels can be any or any combination of formation parameters including horizontal resistivity, vertical resistivity, conductivity, anisotropy ratio and formation immersion.

[0025] Um exemplo de um valor médio com refinamento para descartar pixels fora de série é a média aparada, que calcula a média após descartar partes de uma distribuição ou amostras de probabilidade (por exemplo, os pixels em uma TVD específica e a profundidade de medição) nos valores mais altos e/ou mais baixos entre os pixels. Os pixels são sequenciados para uma TVD específica e profundidade de medição, e os pixels dentro dos valores mais altos e mais baixos para uma determinada porcentagem (por exemplo, os 20% mais alto e mais baixo) são descartados.[0025] An example of a refined average value for discarding out-of-range pixels is the trimmed average, which calculates the average after discarding parts of a distribution or probability samples (for example, the pixels in a specific DTV and the depth of measurement) at the highest and / or lowest values between pixels. Pixels are sequenced for a specific DTV and measurement depth, and pixels within the highest and lowest values for a given percentage (for example, the highest and lowest 20%) are discarded.

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As porcentagens mais altas e mais baixas podem servir como um valor limiar para refinar as soluções pixeladas. Somente os pixels retidos são calculados para definir a solução final, por exemplo, um modelo de resistividade da formação.The highest and lowest percentages can serve as a threshold value for refining pixelated solutions. Only the retained pixels are calculated to define the final solution, for example, a resistivity model of the formation.

[0026] Outro exemplo do processo de refinamento é que o desvio padrão pode ser usado como um valor de limiar para identificar os pixels de camada externa. Os pixels que satisfazem a seguinte expressão:[0026] Another example of the refinement process is that the standard deviation can be used as a threshold value to identify the outer layer pixels. The pixels that satisfy the following expression:

/ = í 3Q — H | < c S pode ser usado como uma condição para descartar discrepantes e calcular a média, onde c é um coeficiente (por exemplo, 0,5), S é o desvio padrão das soluções de pixel para essa profundidade vertical verdadeira específica e profundidade de medição, e I é o conjunto de pixels que satisfazem a condição de que a diferença absoluta da média (H) de um pixel/ = 3Q - H | <c S can be used as a condition for discarding discrepancies and averaging, where c is a coefficient (for example, 0.5), S is the standard deviation of pixel solutions for that specific true vertical depth and measurement depth , and I is the set of pixels that satisfy the condition that the absolute difference from the mean (H) of a pixel

Λ ( ) é menor ou igual ao desvio padrão ponderado. Da mesma forma, a diferença absoluta da média que satisfaz um valor limiar separado também pode ser usada como uma condição para filtrar pixels camada externa no cálculo da média modelo.Λ () is less than or equal to the weighted standard deviation. Likewise, the absolute difference in the average that satisfies a separate threshold value can also be used as a condition to filter outer layer pixels in the calculation of the model average.

[0027] O desvio padrão S também pode ser usado para determinar a incerteza de um parâmetro incluído no modelo de formação final, que é calculado com base na média das soluções pixeladas. O desvio padrão S é dado pela expressão:[0027] The standard deviation S can also be used to determine the uncertainty of a parameter included in the final formation model, which is calculated based on the average of the pixelated solutions. The standard deviation S is given by the expression:

Figure BR112019021080A2_D0002

onde H é o pixel médio entre soluções pixeladas, que pode ser calculado usando vários meios matemáticos (por exemplo, média algébrica, geométrica ou harmônica), conforme discutido anteriormente. Como discutido anteriormente, a incerteza de um parâmetro fornece uma indicaçãowhere H is the average pixel between pixelated solutions, which can be calculated using various mathematical means (for example, algebraic, geometric or harmonic mean), as previously discussed. As discussed earlier, the uncertainty of a parameter provides an indication

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15/24 da extensão em que o valor de um parâmetro (por exemplo, resistividade horizontal ou queda na formação) pode variar.15/24 of the extent to which the value of a parameter (for example, horizontal resistivity or drop in formation) can vary.

[0028] A FIG. 6 mostra uma vista de gráfico de um perfil de resistividade 600, de acordo com uma ou mais modalidades. O perfil de resistividade 600 é a média das soluções pixeladas para a resistividade horizontal a uma profundidade de medição particular (20.979 pés/6394 metros) com base nos mesmos dados de formação de DTBB sintéticos usados na FIG. 5. O perfil de resistividade 600 é gerado determinando a média das soluções pixeladas para uma TVD correspondente ou uma faixa de TVDs dependendo da largura do pixel. O perfil de resistividade 600 é representado como uma função da profundidade vertical verdadeira e pode ser visto como tirando uma fatia vertical de uma profundidade de medição particular (20. 979 pés/6394 metros) da resistividade horizontal média representada na FIG. 5. Semelhante à FIG. 5, o perfil de resistividade 600 pode ser usado para identificar limites de formação em TVDs de contraste de resistividade 602 e 604.[0028] FIG. 6 shows a graphical view of a resistivity profile 600, according to one or more modalities. The resistivity profile 600 is the average of the pixelated solutions for the horizontal resistivity at a particular measurement depth (20,979 feet / 6394 meters) based on the same synthetic DTBB formation data used in FIG. 5. The resistivity profile 600 is generated by averaging the pixelated solutions for a corresponding TVD or a range of TVDs depending on the pixel width. The resistivity profile 600 is represented as a function of the true vertical depth and can be seen as taking a vertical slice of a particular measurement depth (20. 979 feet / 6394 meters) from the average horizontal resistivity represented in FIG. 5. Similar to FIG. 5, the resistivity profile 600 can be used to identify formation limits in resistivity contrast TVDs 602 and 604.

[0029] A FIG. 7 mostra uma vista de gráfico da incerteza do perfil de resistividade 700 determinado a partir das soluções pixeladas, de acordo com uma ou mais modalidades. A incerteza do perfil de resistividade 700 é o desvio padrão do perfil de resistividade representado na FIG. 6. Como mostrado, o perfil de incerteza 700 é uma função da profundidade vertical verdadeira a uma profundidade de medição particular (20.979 pés/6394 metros) e fornece uma indicação da faixa de valores adequados para a resistividade em uma TVD específica ou uma faixa de TVDs dependendo da largura do pixel. O perfil de incerteza 700 também pode ser usado para identificar posições limite de formação, o que, por sua vez, facilita o desenvolvimento de uma trajetória de furo de poço ou direciona a broca de perfuração para uma camada de formação adequada para a produção de fluidos de formação.[0029] FIG. 7 shows a graphical view of the uncertainty of the resistivity profile 700 determined from the pixelated solutions, according to one or more modalities. The uncertainty of the resistivity profile 700 is the standard deviation of the resistivity profile represented in FIG. 6. As shown, the uncertainty profile 700 is a function of the true vertical depth at a particular measurement depth (20,979 feet / 6394 meters) and provides an indication of the range of values suitable for resistivity in a specific DTV or a range of TVDs depending on the pixel width. The uncertainty profile 700 can also be used to identify limit formation positions, which, in turn, facilitates the development of a well hole trajectory or directs the drill bit to a suitable formation layer for fluid production training.

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16/2416/24

[0030] A FIG. 8 mostra uma vista de gráfico da incerteza de resistividade 800, de acordo com uma ou mais modalidades. A incerteza de resistividade 800 é o desvio padrão das soluções pixeladas para resistividade horizontal com base nos mesmos dados de formação de DTBB sintéticos usados na FIG. 5. O desvio padrão 700 para a resistividade horizontal é representado como um gráfico de contomo da resistividade horizontal como uma função da profundidade de medição (eixo x) em relação à profundidade vertical verdadeira (eixo y). Como mostrado, uma trajetória do furo de poço 802 pode ser desenvolvida para penetrar uma ou mais camadas de formação adequadas para a produção de fluidos de formação, tais como hidrocarbonetos. Posições limite entre diferentes camadas de formação podem ser identificadas usando o gráfico de contomo da incerteza de resistividade 800 identificando áreas de contraste na incerteza de resistividade (804 e 806). O desvio padrão também pode ser usado para determinar a incerteza de outros parâmetros incluindo, entre outros, resistividade vertical, condutividade, razão de anisotropia e imersão de formação.[0030] FIG. 8 shows a graphical view of the resistivity uncertainty 800, according to one or more modalities. Resistivity uncertainty 800 is the standard deviation of pixelated solutions for horizontal resistivity based on the same synthetic DTBB formation data used in FIG. 5. The standard deviation 700 for the horizontal resistivity is represented as a plot of the horizontal resistivity as a function of the measurement depth (x-axis) in relation to the true vertical depth (y-axis). As shown, a well bore path 802 can be developed to penetrate one or more formation layers suitable for the production of formation fluids, such as hydrocarbons. Limit positions between different layers of formation can be identified using the resistivity uncertainty contour graph 800 by identifying areas of contrast in the resistivity uncertainty (804 and 806). The standard deviation can also be used to determine the uncertainty of other parameters including, but not limited to, vertical resistivity, conductivity, anisotropy ratio and formation immersion.

[0031] Como as posições de contomo são representadas implicitamente com base no contraste entre os pixels da resistividade, como representado nas FIGS. 5 e 6, as posições limite também podem ser identificadas usando uma derivada de primeira ordem da resistividade horizontal :[0031] As the contour positions are represented implicitly based on the contrast between the resistivity pixels, as represented in FIGS. 5 and 6, the limit positions can also be identified using a first order derivative of the horizontal resistivity:

= £(¾) δ= £ (¾) δ

onde representa o operador diferencial. A derivada da resistividade horizontal “ se aproxima de zero dentro de uma camada de formação, enquanto os picos (mínimos locais ou máximos) da derivada indicam posições limite. Um limiar máximo pode ser usado para descartar pequenas oscilações na derivada e indicações imprecisas de uma posição limite. A derivada também pode ser suavizada antes de determinar a incerteza das posições limite para aprimorar a determinação da incerteza dawhere it represents the differential operator. The horizontal resistivity derivative “approaches zero within a formation layer, while the peaks (local minimums or maximums) of the derivative indicate limit positions. A maximum threshold can be used to rule out minor fluctuations in the derivative and inaccurate indications of a limit position. The derivative can also be smoothed before determining the uncertainty of the limit positions to improve the determination of the uncertainty of the

Petição 870190100458, de 07/10/2019, pág. 24/52Petition 870190100458, of 10/07/2019, p. 24/52

17/24 posição limite. Por exemplo, a derivada pode ser suavizada aplicando um filtro, incluindo mas não limitado a uma convolução dada pela expressão:17/24 limit position. For example, the derivative can be smoothed by applying a filter, including but not limited to a convolution given by the expression:

$ 3.¾ — * si) = - A * u dx dx onde é o operador de convolução, é o pixel de resistividade horizontal média, é o pixel a uma profundidade vertical verdadeira e é uma função de suavização. O derivado 5 também pode ser suavizado aplicando outros filtros de suavização adequados, incluindo, mas não se limitando a, um filtro gaussiano.$ 3.¾ - * si) = - A * u dx dx where is the convolution operator, is the pixel of average horizontal resistivity, is the pixel at a true vertical depth and is a smoothing function. Derivative 5 can also be smoothed by applying other suitable smoothing filters, including, but not limited to, a Gaussian filter.

[0032] A incerteza de uma posição limite pode ser identificada pela largura de um pico encontrado na derivada . A incerteza do limite inclui, mas não se limita, à largura total do pico ou a um valor menor que a largura total do pico (por exemplo, meia largura). Se a resistividade horizontal média incluir contrastes nítidos na resistividade, a incerteza de limite pode ser relativamente pequena, uma vez que as soluções pixeladas indicam as mesmas posições limite ou semelhantes. Por outro lado, se a resistividade horizontal média mudar gradualmente, a incerteza de limite pode ser grande, indicando uma grande variação na posição limite entre as soluções pixeladas.[0032] The uncertainty of a limit position can be identified by the width of a peak found in the derivative. The limit uncertainty includes, but is not limited to, the total width of the peak or a value less than the total width of the peak (for example, half width). If the average horizontal resistivity includes sharp contrasts in resistivity, the limit uncertainty can be relatively small, since the pixelated solutions indicate the same or similar limit positions. On the other hand, if the average horizontal resistivity changes gradually, the limit uncertainty can be large, indicating a large variation in the limit position between the pixelated solutions.

[0033] A FIG. 9 mostra uma vista de gráfico de um perfil de incerteza de limite 800, de acordo com uma ou mais modalidades. O perfil de incerteza de limite 900 é determinado calculando a primeira derivada do perfil de resistividade 600 representado na FIG. 6. O perfil de incerteza de limite 900 é representado como uma função da profundidade vertical verdadeira semelhante aos perfis das FIGS. 6 e 7. Os máximos e mínimos locais indicam os locais das posições limite em potencial. As posições limite podem ser utilizadas para desenvolver uma trajetória de furo de poço para penetrar camadas de formação adequadas para produzir um fluido de formação, tal como um hidrocarboneto.[0033] FIG. 9 shows a graphical view of a limit uncertainty profile 800, according to one or more modalities. The limit uncertainty profile 900 is determined by calculating the first derivative of the resistivity profile 600 represented in FIG. 6. The limit uncertainty profile 900 is represented as a function of the true vertical depth similar to the profiles of FIGS. 6 and 7. Local highs and lows indicate the locations of potential limit positions. Limit positions can be used to develop a borehole path to penetrate suitable formation layers to produce a formation fluid, such as a hydrocarbon.

[0034] A FIG. 10 mostra uma vista de gráfico de um perfil de[0034] FIG. 10 shows a graph view of a profile

Petição 870190100458, de 07/10/2019, pág. 25/52Petition 870190100458, of 10/07/2019, p. 25/52

18/24 incerteza suavizado 1000, de acordo com uma ou mais modalidades. O perfil de incerteza suavizado 1000 é gerado filtrando o perfil de incerteza de limite ti usando a função de suavização de convolução , como discutido anteriormente. Após o alisamento, as posições limite podem ser identificadas como máximos e mínimos locais (1002 e 1006) no perfil de incerteza suavizado. A incerteza da posição limite pode ser identificada como a largura 1002 de cada pico ou como um valor menor que a largura do pico (por exemplo, meia largura de pico). A incerteza da posição limite fornece uma faixa de TVDs onde a posição limite pode existir. Semelhante ao gráfico de contorno representado na FIG. 8, um gráfico de contorno da incerteza limite pode também ser formado para avaliar a formação e identificar posições de fronteira.18/24 uncertainty smoothed 1000, according to one or more modalities. The smoothed uncertainty profile 1000 is generated by filtering the boundary uncertainty profile ti using the convolution smoothing function, as discussed earlier. After smoothing, the limit positions can be identified as local maximums and minimums (1002 and 1006) in the smoothed uncertainty profile. The limit position uncertainty can be identified as the 1002 width of each peak or as a value less than the peak width (for example, half peak width). The limit position uncertainty provides a range of DVTs where the limit position may exist. Similar to the contour graph shown in FIG. 8, a boundary uncertainty contour plot can also be formed to assess the formation and identify boundary positions.

[0035] No bloco 310, as posições limite, que são identificadas usando os vários gráficos (FIGS. 5-9) ou soluções pixeladas médias, como discutido anteriormente, também podem ser usadas para avaliar a formação, identificar uma trajetória de furo de poço e/ou direcionar uma broca de perfuração (por exemplo, a broca de perfuração 14 da FIG. 1) através ou em direção a uma camada de formação adequada para a produção de fluidos de formação. Por exemplo, uma camada de formação adequada para a produção de fluidos de formação pode existir entre os picos 1002 e 1004 representados na FIG. 10. Além dos picos 1002 e 1004 que indicam a localização das posições limite, as incertezas da posição limite são indicadas pelas larguras dos picos 1002 e 1004. As larguras dos picos 1002 e 1004 indicam a faixa de TVDs onde as posições limite também podem existir. Uma broca de perfuração pode ser direcionada ou uma trajetória do furo de poço pode ser desenvolvida para passar entre as larguras de pico dos picos 1002 e 1004.[0035] In block 310, the limit positions, which are identified using the various graphs (FIGS. 5-9) or medium pixelated solutions, as previously discussed, can also be used to assess the formation, identify a well hole trajectory and / or directing a drill bit (for example, the drill bit 14 of FIG. 1) through or towards a forming layer suitable for the production of forming fluids. For example, a formation layer suitable for the production of formation fluids can exist between peaks 1002 and 1004 shown in FIG. 10. In addition to the peaks 1002 and 1004 that indicate the location of the limit positions, the uncertainties of the limit position are indicated by the widths of the peaks 1002 and 1004. The widths of the peaks 1002 and 1004 indicate the range of TVDs where the limit positions may also exist . A drill bit can be directed or a well hole path can be developed to pass between the peak widths of peaks 1002 and 1004.

[0036] Deverá ser apreciado que o sistema e os métodos aqui descritos fornecem uma solução necessariamente enraizada em ferramentas de perfilagem de resistividade profunda no fundo de poço para superar um[0036] It should be appreciated that the system and methods described here provide a solution necessarily rooted in deep resistivity profiling tools at the bottom of the well to overcome a

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19/24 problema que surge especificamente dos métodos de inversão utilizados para determinar propriedades de formação a partir dos dados de formação medidos utilizando ferramentas de perfilagem de resistividade profunda. Métodos de inversão usando dados de formação das ferramentas de perfilagem de resistividade profunda podem fornecer centenas de soluções em uma única profundidade de medição da ferramenta de perfilagem de resistividade, levantando problemas na avaliação das soluções de inversão, como identificar um modelo de formação indicativo das propriedades de formação e as incertezas correspondentes. Os métodos e o sistema aqui descritos resumem as soluções de inversão utilizando um valor médio de soluções pixeladas para avaliar a formação, identificar uma trajetória do furo de poço e/ou direcionar uma broca de perfuração para produzir fluidos de formação.19/24 problem that arises specifically from the inversion methods used to determine formation properties from the formation data measured using deep resistivity profiling tools. Inversion methods using formation data from deep resistivity profiling tools can provide hundreds of solutions in a single measurement depth of the resistivity profiling tool, raising problems in the evaluation of inversion solutions, such as identifying a training model indicative of properties training and the corresponding uncertainties. The methods and system described here summarize the inversion solutions using an average value of pixelated solutions to evaluate the formation, identify a well hole trajectory and / or direct a drill bit to produce formation fluids.

[0037] Em adição às modalidades descritas acima, muitos exemplos de combinações específicas fazem parte do escopo da divulgação, alguns dos quais são detalhados abaixo:[0037] In addition to the modalities described above, many examples of specific combinations are part of the scope of the disclosure, some of which are detailed below:

[0038] Exemplo 1: Um sistema para avaliar uma formação de terra subterrânea, compreendendo:[0038] Example 1: A system for assessing an underground formation, comprising:

uma ferramenta de perfilagem operável para medir dados de formação e localizável em um furo de poço intersectando a formação de terra subterrânea; e um processador em comunicação com a ferramenta de perfilagem e operável para:a profiling tool operable to measure formation data and located in a well bore intersecting the formation of underground earth; and a processor in communication with the profiling tool and operable to:

calcular múltiplas soluções de limite de distância para leito (DTBB) usando os dados de formação medidos, identificar soluções DTBB que satisfaçam um limite, converter as soluções identificadas em soluções pixeladas dividindo as soluções identificadas em pixels, gerar um modelo de formação baseado nas soluções pixeladas, ecalculate multiple distance limit solutions for bed (DTBB) using the measured training data, identify DTBB solutions that satisfy a limit, convert the identified solutions into pixelated solutions by dividing the identified solutions into pixels, generate a formation model based on the pixelated solutions , and

Petição 870190100458, de 07/10/2019, pág. 27/52Petition 870190100458, of 10/07/2019, p. 27/52

20/24 avaliar a formação utilizando o modelo de formação gerado. [0039] Exemplo 2: O sistema do exemplo 1, em que a ferramenta de perfilagem compreende uma ferramenta de perfilagem de resistividade operável para medir a resistividade da formação.20/24 evaluate training using the training model generated. [0039] Example 2: The system of example 1, in which the profiling tool comprises an operable resistivity profiling tool to measure the resistivity of the formation.

[0040] Exemplo 3: O sistema do exemplo 1, em que o processador é ainda operável, determina a incerteza do parâmetro com base nas soluções pixeladas.[0040] Example 3: The system of example 1, in which the processor is still operable, determines the parameter uncertainty based on the pixelated solutions.

[0041] Exemplo 4: O sistema do exemplo 3, em que a incerteza do parâmetro é determinada com base no desvio padrão do parâmetro determinado a partir do modelo de formação.[0041] Example 4: The system of example 3, in which the parameter uncertainty is determined based on the standard deviation of the parameter determined from the training model.

[0042] Exemplo 5: O sistema do exemplo 3, em que a incerteza do parâmetro é determinada com base na derivada de uma resistividade horizontal determinada a partir do modelo de formação.[0042] Example 5: The system of example 3, in which the parameter uncertainty is determined based on the derivative of a horizontal resistivity determined from the formation model.

[0043] Exemplo 6: O sistema do exemplo 3, em que o parâmetro inclui qualquer uma ou qualquer combinação de uma resistividade horizontal, uma razão de anisotropia, uma posição limite de camadas de formação e uma imersão de formação.[0043] Example 6: The system of example 3, where the parameter includes any or any combination of a horizontal resistivity, an anisotropy ratio, a limit position of formation layers and a formation immersion.

[0044] Exemplo 7: O sistema do exemplo 3, em que a incerteza do parâmetro é determinada aplicando um filtro à derivada de uma resistividade horizontal derivada do modelo de formação.[0044] Example 7: The system of example 3, in which the parameter uncertainty is determined by applying a filter to the derivative of a horizontal resistivity derived from the formation model.

[0045] Exemplo 8: O sistema do exemplo 3, em que a incerteza do parâmetro é determinada aplicando um filtro a um derivado de uma resistividade horizontal determinada a partir do modelo de formação e identificando uma largura de pico da derivada convoluída.[0045] Example 8: The system of example 3, in which the parameter uncertainty is determined by applying a filter to a derivative of a horizontal resistivity determined from the formation model and identifying a peak width of the convoluted derivative.

[0046] Exemplo 9: O sistema do exemplo 1, em que o modelo de formação é gerado calculando uma média das soluções pixeladas.[0046] Example 9: The system of example 1, in which the training model is generated by calculating an average of the pixelated solutions.

[0047] Exemplo 10: O sistema do exemplo 9, em que a média é calculada pela não inclusão de pixels camada externa entre as soluções pixeladas.[0047] Example 10: The system of example 9, in which the average is calculated by not including outer layer pixels between the pixelated solutions.

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21/2421/24

[0048] Exemplo 11: Método de avaliação de uma formação de terra subterrânea, caracterizado pelo fato de que compreende:[0048] Example 11: Method for assessing an underground formation, characterized by the fact that it comprises:

medir dados de formação em um poço intersectando a formação da terra subterrânea usando uma ferramenta de perfilagem, calcular múltiplas soluções de limite de distância para leito (DTBB) usando os dados de formação medidos, identificar soluções DTBB que satisfaçam um limiar, converter as soluções identificadas em soluções de resistividade pixeladas dividindo as soluções identificadas em pixels, gerar um modelo de formação baseado nas soluções pixeladas, e avaliar a formação utilizando o modelo de formação.measure formation data in a well intersecting underground earth formation using a profiling tool, calculate multiple distance limit solutions for bed (DTBB) using the measured formation data, identify DTBB solutions that satisfy a threshold, convert the identified solutions in pixelated resistivity solutions dividing the solutions identified in pixels, generate a training model based on the pixelated solutions, and evaluate the training using the training model.

[0049] Exemplo 12: O método do exemplo 11, em que a ferramenta de perfilagem compreende uma ferramenta de perfilagem de resistividade operável para medir a resistividade da formação.[0049] Example 12: The method of example 11, wherein the profiling tool comprises an operable resistivity profiling tool to measure the resistivity of the formation.

[0050] Exemplo 13: O método do exemplo 11 compreende ainda determinar a incerteza de um parâmetro baseado no modelo de formação.[0050] Example 13: The method of example 11 further comprises determining the uncertainty of a parameter based on the training model.

[0051] Exemplo 14: O método do exemplo 13, em que a determinação da incerteza do parâmetro compreende calcular um desvio padrão do parâmetro com base no modelo de formação.[0051] Example 14: The method of example 13, in which the determination of the parameter uncertainty comprises calculating a standard deviation of the parameter based on the formation model.

[0052] Exemplo 15: O método do exemplo 13, em que a determinação da incerteza do parâmetro compreende:[0052] Example 15: The method of example 13, in which the determination of the parameter uncertainty comprises:

calcular uma derivada de uma resistividade horizontal determinada a partir do modelo de formação;calculate a derivative of a horizontal resistivity determined from the formation model;

aplicar um método de convolução à derivada da resistividade horizontal; e identificar uma largura de pico da derivada convoluída, em que a incerteza do parâmetro inclui a largura do pico.apply a convolution method to the derivative of horizontal resistivity; and identifying a peak width of the convoluted derivative, where the parameter uncertainty includes the peak width.

[0053] Exemplo 16: O método do exemplo 13, em que o parâmetro[0053] Example 16: The method of example 13, where the parameter

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22/24 inclui qualquer uma ou qualquer combinação de uma resistividade horizontal, uma razão de anisotropia, uma posição limite de camadas de formação e uma imersão de formação.22/24 includes any or any combination of a horizontal resistivity, an anisotropy ratio, a limit position of formation layers and a formation immersion.

[0054] Exemplo 17: O método do exemplo 11, em que a geração do modelo de formação compreende calcular uma média das soluções de resistividade pixeladas.[0054] Example 17: The method of example 11, in which the generation of the formation model comprises calculating an average of the pixelated resistivity solutions.

[0055] Exemplo 18: O método do exemplo 15, em que a média é calculada pela não inclusão de pixels camada externa entre as soluções pixeladas do cálculo.[0055] Example 18: The method of example 15, in which the average is calculated by not including outer layer pixels between the pixelated solutions of the calculation.

[0056] Exemplo 19: Um método de direcionar uma broca de perfuração em uma formação de terra subterrânea, compreendendo:[0056] Example 19: A method of directing a drill bit into an underground formation, comprising:

medir dados de formação em um poço intersectando a formação da terra subterrânea usando uma ferramenta de perfilagem localizada no furo de poço, calcular múltiplas soluções de limite de distância para leito (DTBB) com base nos dados de formação medidos, identificar soluções DTBB que satisfaçam um limiar, converter as soluções identificadas em soluções pixeladas dividindo as soluções identificadas em pixels, gerar um modelo de formação baseado nas soluções pixeladas, identificar uma trajetória do furo de poço com base no modelo de formação e direcionar uma broca de perfuração de acordo com a trajetória do furo de poço.measure formation data in a well intersecting the formation of the underground earth using a profiling tool located in the well bore, calculate multiple bed distance limit solutions (DTBB) based on the measured formation data, identify DTBB solutions that satisfy a threshold, convert the identified solutions into pixelated solutions by dividing the identified solutions into pixels, generate a formation model based on the pixelated solutions, identify a well hole trajectory based on the formation model and direct a drill bit according to the trajectory of the well hole.

[0057] Exemplo 20: Método do exemplo 19, compreendendo ainda:[0057] Example 20: Method of example 19, further comprising:

[0058] determinar a incerteza de um parâmetro da formação baseado no modelo de formação calculando uma derivada de uma resistividade horizontal derivada do modelo de formação, aplicar um método de convolução à derivada da resistividade horizontal, e identificar uma largura de[0058] determine the uncertainty of a formation parameter based on the formation model by calculating a derivative of a horizontal resistivity derived from the formation model, apply a convolution method to the derivative of the horizontal resistivity, and identify a width of

Petição 870190100458, de 07/10/2019, pág. 30/52Petition 870190100458, of 10/07/2019, p. 30/52

23/24 pico do derivada convoluída, em que a incerteza do parâmetro inclui a largura do pico.23/24 peak of the convoluted derivative, where the parameter uncertainty includes the width of the peak.

[0059] A discussão a seguir é direcionada a várias modalidades da presente divulgação. As figuras dos desenhos não estão necessariamente em escala. Certos recursos das modalidades podem ser mostrados exageradamente em termos de escala ou de forma um tanto esquemática e alguns detalhes de elementos convencionais podem não ser mostrados por questão de clareza e concisão. Embora uma ou mais dessas modalidades possam ser preferenciais, as modalidades apresentadas não devem ser interpretadas ou usadas como limitadoras do escopo da divulgação, incluindo as reivindicações. Será completamente reconhecido que os diferentes ensinamentos das modalidades discutidas podem ser empregados separadamente ou em qualquer combinação adequada para produzir os resultados desejados. Além disso, um versado na técnica entenderá que a descrição tem ampla aplicação e a discussão de qualquer modalidade se destina apenas a ser exemplar dessa modalidade e não se destina a sugerir que o escopo da divulgação, incluindo as reivindicações, é limitado a essa modalidade.[0059] The following discussion is directed to various modalities of this disclosure. The figures in the drawings are not necessarily to scale. Certain features of the modalities may be shown exaggeratedly in terms of scale or in a somewhat schematic manner and some details of conventional elements may not be shown for the sake of clarity and conciseness. Although one or more of these modalities may be preferred, the modalities presented should not be interpreted or used as limiting the scope of the disclosure, including the claims. It will be fully recognized that the different teachings of the modalities discussed can be used separately or in any suitable combination to produce the desired results. In addition, one skilled in the art will understand that the description has wide application and the discussion of any modality is only intended to be an example of that modality and is not intended to suggest that the scope of the disclosure, including the claims, is limited to that modality.

[0060] Certos termos são usados ao longo da descrição e das reivindicações para se referir a características ou componentes particulares. Como será entendido por um versado na técnica, diferentes pessoas podem se referir à mesma característica ou componente por nomes diferentes. Este documento não pretende fazer distinção entre os componentes ou as características que diferem em nome, mas não em função, a menos que especificamente indicado. Na discussão e nas reivindicações, os termos “incluindo” e “compreendendo” são usados de forma aberta e, portanto, devem ser interpretados como “incluindo, mas não limitados a...”. Também, o termo “acoplar” ou “acopla” pretende significar uma conexão indireta ou direta. Além disso, os termos “axial” e “axialmente” geralmente significam ao[0060] Certain terms are used throughout the description and claims to refer to particular characteristics or components. As will be understood by one skilled in the art, different people may refer to the same characteristic or component by different names. This document is not intended to distinguish between components or features that differ in name, but not in function, unless specifically indicated. In the discussion and in the claims, the terms "including" and "comprising" are used openly and, therefore, should be interpreted as "including, but not limited to ...". Also, the term “couple” or “couple” is intended to mean an indirect or direct connection. In addition, the terms “axially” and “axially” generally mean the

Petição 870190100458, de 07/10/2019, pág. 31/52Petition 870190100458, of 10/07/2019, p. 31/52

24/24 longo ou paralelamente a um eixo central (por exemplo, eixo central de um corpo ou porto), enquanto os termos “radial” e “radialmente” geralmente significam perpendicular à ao eixo central. O uso de “topo,” “fundo,” “acima,” “abaixo” e variações destes termos é feita por conveniência, mas não requer qualquer orientação específica dos componentes.24/24 long or parallel to a central axis (for example, central axis of a body or port), while the terms "radial" and "radially" generally mean perpendicular to the central axis. The use of “top,” “bottom,” “above,” “below” and variations of these terms is made for convenience, but does not require any specific guidance from the components.

[0061] A referência ao longo deste relatório descritivo a “uma modalidade”, “a modalidade” ou linguagem semelhante significa que um determinado recurso, estrutura ou característica descrita em relação a modalidade pode estar incluída em pelo menos uma modalidade da presente divulgação. Assim, o aparecimento da frase “na modalidade”, “em uma modalidade” e expressões semelhantes, ao longo deste relatório descritivo, podem, mas não necessariamente, se referir à mesma modalidade.[0061] The reference throughout this specification to "a modality", "the modality" or similar language means that a particular resource, structure or characteristic described in relation to the modality may be included in at least one modality of the present disclosure. Thus, the appearance of the phrase “in the modality”, “in a modality” and similar expressions, throughout this specification, may, but not necessarily, refer to the same modality.

[0062] Embora a presente invenção tenha sido descrita em relação a detalhes específicos, não se pretende que tais detalhes sejam considerados como limitações ao âmbito da invenção, exceto na medida em que estejam incluídos nas reivindicações anexas.[0062] Although the present invention has been described in relation to specific details, such details are not intended to be construed as limitations on the scope of the invention, except to the extent that they are included in the appended claims.

Claims (15)

1. Sistema para avaliar uma formação de terra subterrânea, caracterizado pelo fato de que compreende:1. System for assessing an underground earth formation, characterized by the fact that it comprises: uma ferramenta de perfilagem operável para medir dados de formação e localizável em um furo de poço intersectando a formação de terra subterrânea; e um processador em comunicação com a ferramenta de perfilagem e operável para:a profiling tool operable to measure formation data and located in a well bore intersecting the formation of underground earth; and a processor in communication with the profiling tool and operable to: calcular múltiplas soluções de limite de distância para leito (DTBB) usando os dados de formação medidos, identificar soluções DTBB que satisfaçam um limite, converter as soluções identificadas em soluções pixeladas dividindo as soluções identificadas em pixels, gerar um modelo de formação baseado nas soluções pixeladas, e avaliar a formação utilizando o modelo de formação gerado.calculate multiple distance limit solutions for bed (DTBB) using the measured training data, identify DTBB solutions that satisfy a limit, convert the identified solutions into pixelated solutions by dividing the identified solutions into pixels, generate a training model based on the pixelated solutions , and evaluate training using the training model generated. 2. Sistema de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a ferramenta de perfilagem compreende uma ferramenta de perfilagem de resistividade operável para medir a resistividade da formação.2. System according to claim 1, characterized by the fact that the profiling tool comprises an operable resistivity profiling tool to measure the resistivity of the formation. 3. Sistema de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o processador é ainda operável, determina a incerteza do parâmetro com base nas soluções pixeladas.3. System according to claim 1, characterized by the fact that the processor is still operable, determines the parameter uncertainty based on the pixelated solutions. 4. Sistema de acordo com a reivindicação 3, caracterizado pelo fato de que a incerteza do parâmetro é determinada com base no desvio padrão do parâmetro determinado a partir do modelo de formação ou é determinada com base na derivada de uma resistividade horizontal determinada a partir do modelo de formação ou é determinada aplicando um filtro a uma derivada de uma resistividade horizontal determinada do modelo de formação e identificando uma largura de pico da derivada convoluída.4. System according to claim 3, characterized by the fact that the uncertainty of the parameter is determined based on the standard deviation of the parameter determined from the formation model or is determined based on the derivative of a horizontal resistivity determined from the formation model or is determined by applying a filter to a derivative of a determined horizontal resistivity of the formation model and identifying a peak width of the convoluted derivative. 5. Sistema de acordo com a reivindicação 3, caracterizado pelo5. System according to claim 3, characterized by the Petição 870190100458, de 07/10/2019, pág. 49/52 Petition 870190100458, of 10/07/2019, p. 49/52 2/3 fato de que o parâmetro inclui qualquer uma ou qualquer combinação de uma resistividade horizontal, uma razão de anisotropia, uma posição limite de camadas de formação e uma imersão de formação ou é determinado aplicando um filtro à derivada de uma resistividade horizontal derivada do modelo de formação.2/3 the fact that the parameter includes any or any combination of a horizontal resistivity, an anisotropy ratio, a limit position of formation layers and a formation immersion or is determined by applying a filter to the derivative of a horizontal resistivity derived from training model. 6. Sistema de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o modelo de formação é gerado calculando uma média das soluções pixeladas.6. System according to claim 1, characterized by the fact that the formation model is generated by calculating an average of the pixelated solutions. 7. Sistema de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que a média é calculada pela não inclusão de pixels camada externa entre as soluções pixeladas.7. System according to claim 6, characterized by the fact that the average is calculated by not including outer layer pixels between the pixelated solutions. 8. Método de avaliação de uma formação de terra subterrânea, caracterizado pelo fato de que compreende:8. Evaluation method of an underground earth formation, characterized by the fact that it comprises: medir dados de formação em um poço intersectando a formação da terra subterrânea usando uma ferramenta de perfilagem, calcular múltiplas soluções de limite de distância para leito (DTBB) usando os dados de formação medidos, identificar soluções DTBB que satisfaçam um limiar, converter as soluções identificadas em soluções de resistividade pixeladas dividindo as soluções identificadas em pixels, gerar um modelo de formação baseado nas soluções pixeladas, e avaliar a formação utilizando o modelo de formação.measure formation data in a well intersecting underground earth formation using a profiling tool, calculate multiple distance limit solutions for bed (DTBB) using the measured formation data, identify DTBB solutions that satisfy a threshold, convert the identified solutions in pixelated resistivity solutions dividing the solutions identified in pixels, generate a training model based on the pixelated solutions, and evaluate the training using the training model. 9. Método de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de que compreende ainda determinar a incerteza de um parâmetro baseado no modelo de formação.9. Method according to claim 8, characterized by the fact that it also comprises determining the uncertainty of a parameter based on the formation model. 10. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que a determinação da incerteza do parâmetro compreende calcular um desvio padrão do parâmetro com base no modelo de formação.10. Method according to claim 9, characterized by the fact that the determination of the parameter uncertainty comprises calculating a standard deviation of the parameter based on the formation model. 11. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado11. Method according to claim 9, characterized Petição 870190100458, de 07/10/2019, pág. 50/52Petition 870190100458, of 10/07/2019, p. 50/52 3/3 pelo fato de que a determinação da incerteza do parâmetro compreende:3/3 due to the fact that the determination of the parameter uncertainty comprises: calcular uma derivada de uma resistividade horizontal determinada a partir do modelo de formação;calculate a derivative of a horizontal resistivity determined from the formation model; aplicar um método de convolução à derivada da resistividade horizontal; e identificar uma largura de pico da derivada convoluída, em que a incerteza do parâmetro inclui a largura do pico.apply a convolution method to the derivative of horizontal resistivity; and identifying a peak width of the convoluted derivative, where the parameter uncertainty includes the peak width. 12. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que o parâmetro inclui qualquer uma ou qualquer combinação de uma resistividade horizontal, uma razão de anisotropia, uma posição limite de camadas de formação e uma imersão de formação.Method according to claim 9, characterized in that the parameter includes any or any combination of a horizontal resistivity, an anisotropy ratio, a limit position of formation layers and a formation immersion. 13. Método de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de que a geração do modelo de formação compreende calcular uma média das soluções de resistividade pixeladas e a média é calculada pela não inclusão de pixels de camada externa entre as soluções pixeladas do cálculo.13. Method according to claim 8, characterized by the fact that the generation of the formation model comprises calculating an average of the pixelated resistivity solutions and the average is calculated by not including outer layer pixels between the pixelated solutions of the calculation. 14. Método de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de que compreende: identificar uma trajetória do furo de poço em uma formação de terra subterrânea com base no modelo de formação e direcionar uma broca de perfuração de acordo com a trajetória do furo de poço.14. Method according to claim 8, characterized by the fact that it comprises: identifying a well hole trajectory in an underground earth formation based on the formation model and directing a drill bit according to the hole's trajectory. well. 15. Método de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que compreende ainda:15. Method according to claim 14, characterized by the fact that it further comprises: determinar a incerteza de um parâmetro da formação baseado no modelo de formação calculando uma derivada de uma resistividade horizontal derivada do modelo de formação, aplicar um método de convolução à derivada da resistividade horizontal, e identificar uma largura de pico do derivada convoluída, em que a incerteza do parâmetro inclui a largura do pico.determine the uncertainty of a formation parameter based on the formation model by calculating a horizontal resistivity derivative derived from the formation model, apply a convolution method to the horizontal resistivity derivative, and identify a peak width of the convoluted derivative, where the parameter uncertainty includes the peak width.
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