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Appareillage pour le traitement de surface de matériaux en bande.,
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La t"cNtte 1nv(mt Ion "ln t'apporte un appareillage p"'i: la '.rliitrIJMllt bzz continu de ;;ul'faoes de bandes de laïttt;',r,- jil;siiquoe, de ba'1(tu$ (1(' papier et de bandes text11ees, <Jl n5 t qUl' Ii combinaisons (le ces niettérieuxp par revêtement :<éJ:cti l", phase gazeuse eiv-ec des combinaisons uxa,in7, j 1",1''''' '''1!'ol<inl..1Ù61.. a éxt connu lic àiaitor as>a ciorpo lI10UlôtI, par ex'9Mpl9 dit "f1X l'':;' nUl' Vap()r1hge hyjpot.ysnut tt%4tie, des cotl1bina.Uon$ \j"r.uilcrr.;l.t,H.1Wl'S, pcp t" !llp1H 4.: V 1; N!l IItty) Htl.lnatf;f, de -r,;l'":'s!: ...;.<..;;l ià>. on>te vii tté, On cv .;I.d:, ',;'J11 r'Oilt duc.
Iih;jI,ho.. d'1frl!'!"f)trwt.!Ol1 pour bandes de l"l' 3. t@'>t1,Hef) aveo den t,rr$i3'ïi est ol\.t101'UJ de ai1'\C.)!HJ5? J"':1" pt.zaLéh,:ac;:: endu.:t1on et im1:d.hit1on, ainsi ,ait* <h(C Wt:V)0 C5 par 1rnIllflrÜHJ çSYVV 'ya57V 811aDes halogén4S t de;, wit#:;... :=un sature'-', ou d'autres substances l"dflotives dans dt:; ,a'?,X,3ClG inerte$4 An 9,3Iï'Jtï ,T'3k'''r Psrfilkahk1 décrit SOU. le titra 'tE!'lcol1j.e au gas 1.1'1 paphr" la cathode consishnt â. fa1rt passer <1;; ptlp1e!' par une chambre où il est tPai%4 avec d'S8
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vapeurs da mÓ1.hyHr1t"hloI'dluno..
La rÓaoUOl1 a lieu par ., trta=fsx'coafi.ra dlt l::ôtl1yltriêhlorsilane sveo les gyoup@Mat6 hydroxyle de la oel!'Uos8) le papier, tout en d:l.11I1inant du !' , chlorhydrique; 7=3r,,= -1;, tre autres des propriété$ hyd4-opholest Le gaz chlorhydrique produit est neutralisé au moyen de vapeurs ,1'8:':!10nlHC ùa réaction se produit dans un laps et,* temps de 02 k3t Selon les lnd1cath.1l:3 fournies pai l'auteur ce pxor3aâ ne pouvait, pas Grv: erh:fJ.('(1 ex&autê à l'éohelle indus- ttiei1e, k la date de la publication de l'article susment1on / >16.. 1e>:
difficultés de 1' xén 1?40n pratiqua du procédé résident dune la cOD11c8ttnn e qpeil19RfB nécessaires pour isoler les sapeurs nisible '' 1 >, <:> .it4 du m4thvitri*
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chloi,silene et de ses ;>r.>d:i < sinsi que dans
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la forte agressivité du gaz chlorhydrique séparé.
La dispo- ' sition suivant l'invention permet par contre, tout en évitant les actions nuisibles à la santé et corrosives des vapeurs des combinaisons organométalliques et de leurs produits de réac- tion, de procéder à une opération de revêtement en continu* Le principe de base de l'installation réside dans le montage en série de chambres de réaction, ces chambras étant séparées hermétiquement les unes des autres et à l'égard de l'espace ambiant au moyen de tampons d'air, dé telle sorte que la vaporisage, le rinçage à l'air et la neutralisation peuvent être exécutés dans des phases graduelles.
Dans un appareillage pour le traitement en continu de surfaces de bandas de matière plastique, de papier ou de textile, ou de combinaisons de ces Matériaux, par revêtement de réaction en phase gazeuse, l'invention prévoit que la bande est passée par plusieurs chambres successives, les différente* chambres étant séparées hermétiquement les unes des autres par des joints à labyrinthe, la séparation de l'ensemble de l'appareillage à l'égard de l'extérieur ayant lieu au moyen de sas ( en surpression ou en dépression),qui sont de préfé- rance disposés à l'endroit de l'admission de la bande*
En principe, toutes les bandes de papier, de textile et de matière plastique, ainsi que des feuilles et des plaques;
transportées sur des bandes de support inertes; peuvent être revêtues conformément à l'invention, las matériaux à revêtir devant présenter à leur surface des radicaux (OH, NH2, NH, etc.) susceptibles de réagir avec des combinaisons organo. métalliques ou encore une couche d'eau monomoléculaire, liée adhésivement.
Pour le vaporisage, on peut employer toutes les com- binaisons organométalliques facilement hydrolysables seules
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ou conjointement avec des gaz inertes facilement vapori- sables, par exemple sous forme d'aérosol.
L'invention sera maintenant décrite plus en détail avec référence à une forme de réalisation représentée par le dessin.
Deux cuves (p) en un matériau résistant à la corro- sion et présentant des joints longitudinaux contiennent des chambres à travers lesquelles est passée la bande à traiter.
L'appareillage est subdivisé en direction horizontale et peut être ouvert par pivotement pour l'introduction de la bande. L'étanchéité visant à empêcher le passage du gaz d'une chambre à l'autre et à l'entrée ainsi qu'à la sortie de la bande est assurée par des joints à labyrinthe (c). Apres la déroulement (a) et le guidage (b) de la bande à traiter, cette dernière, après avoir traversé le sas à surpression ou à dépression (s) pénètre dans la chambre de réaction (d).
Par pulvérisation (e) des vapeurs organométalliques à l'aide d'air sur la face supérieure et/ou inférieure et par chauf- fage (f) éventuel à une température maximale de 120 C, de préférence à 50-90 C, on effectue le revêtement réactif.
A l'extrémité de la chambre de réaction, le mélange d'air, de vapeur de réaction et de produits de fission de la réaction est aspirée ce mélange étant débarrassé des produits de fission dans un absorbeur (g), le gaz de réaction restant étant éventuellement condensé pour être retourné seul ou en mélange avec de l'air dans le circuit (h).
L'étage suivant (i) sert essentiellement au rinçage de la bande pour la débarrasser des vapeurs organométalliques résiduelles et des produits de fission de la réaction, par injection d'air (réchauffé) (e), également avec l'aide de chauf- fage, de l'absorbeur et en circuit, de telle sorte que dans
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le dernier êtes* (1), les traces de gaz résiduelles peuvent
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subir un tl'a1tnt final avec des sapeur* de nutra11$at:
1on" qui sont également maintenues en circuit (h) par aspiration, et à l'aide d'un absorbeur (g), Le dosage des additions de combinaisons organométalliques (q) ou des agents de neutra- lisation (r) aux otages d et 1 a lieu de manière telle qu'une saturation de l'air' avec les vapeurs correspondantes est assurée.
Un sas d'air peut précéder la sortie de la bande de l'installation, Les sas peuvent être à surpression ou à. dé- pression. Dans le cas d'un sas à surpression, la pression dansla chambre doit toujours être supérieure à la pression de la chambre à étanchéifier et de la chambre protéger (d).
Lorsque le sas est à dépression, la pression dans le sas doit toujours être inférieure à la pression atmosphérique. Dans les deux cas, le gaz ne peut s'échapper de la chambre protégée.
Une installation adéquate (n) peut, en, cas de besoin, suivre l'appareillage, pour le conditionnement ou la climati- sation de la bande traitée.
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Apparatus for the surface treatment of strip materials.,
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The t "cNtte 1nv (mt Ion" ln brings you an apparatus p "'i: the' .rliitrIJMllt continuous bzz of ;; ul'faoes of laïttt bands; ', r, - jil; siiquoe, of ba'1 (tu $ (1 ('paper and textured bands, <Jl n5 t qUl' Ii combinations (the niettereuxp by coating: <éJ: cti l ", gas phase eiv-ec combinations uxa, in7, j 1", 1 '' '' '' '' 1! 'Ol <inl..1Ù61 .. has been known lic àiaitor as> a ciorpo lI10UlôtI, eg'9Mpl9 says "f1X l' ':;' nUl 'Vap () r1hge hyjpot.ysnut tt% 4tie, des cotl1bina.Uon $ \ j "r.uilcrr.; lt, H.1Wl'S, pcp t"! llp1H 4 .: V 1; N! l IItty) Htl.lnatf; f, de - r,; l '":' s !: ...;. <.. ;; l ià>. on> te vii tté, On cv.; Id :, ',;' J11 r'Oilt duc.
Iih; jI, ho .. d'1frl! '! "F) trwt.! Ol1 for bands of l" l' 3. t @ '> t1, Hef) aveo den t, rr $ i3'ïi is ol \. t101'UJ from ai1 '\ C.)! HJ5? J "': 1" pt.zaLéh,: ac; :: endu.:t1on and im1: d.hit1on, thus, ait * <h (C Wt: V) 0 C5 by 1rnIllflrÜHJ çSYVV' ya57V 811aDes halogen4S t de; , wit #:; ...: = a saturated '-', or other l "deflative substances in dt :;, a '?, X, 3ClG inert $ 4 An 9,3Iï'Jtï, T'3k' ' 'r Psrfilkahk1 describes SOU. the titra' tE! 'lcol1j.e to gas 1.1'1 paphr "the cathode consishnt â. fa1rt pass <1 ;; ptlp1e! ' by a room where it is tPai% 4 with d'S8
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vapors da mÓ1.hyHr1t "hloI'dluno ..
The rÓaoUOl1 takes place by., Trta = fsx'coafi.ra dlt l :: ôtl1yltriêhlorsilane sveo les gyoup @ Mat6 hydroxyl de la oel! 'Uos8) the paper, while d: l.11I1inant du!' , hydrochloric; 7 = 3r ,, = -1 ;, being other of the properties $ hyd4-opholest The hydrochloric gas produced is neutralized by means of vapors, 1'8: ':! 10nlHC ùa reaction takes place in a period and, * time of 02 k3t According to lnd1cath.1l: 3 provided by the author this pxor3aâ could not, not Grv: erh: fJ. ('(1 ex & autê to the industrial eohelle, k the date of publication of the above article / > 16 .. 1st>:
difficulties of 1 'xen 1? 40n practiced the resident method dune the cOD11c8ttnn e qpeil19RfB necessary to isolate the nisible sappers'' 1>, <:> .it4 of the m4thvitri *
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chloi, silene and his;> r.> d: i <as well as in
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the strong aggressiveness of the separated hydrochloric gas.
The arrangement according to the invention on the other hand makes it possible, while avoiding the actions harmful to health and corrosive by the vapors of the organometallic compounds and of their reaction products, to carry out a continuous coating operation. The basis of the installation lies in the series connection of reaction chambers, these chambers being hermetically separated from each other and with respect to the ambient space by means of air buffers, so that the vaporization , air rinsing and neutralization can be carried out in gradual phases.
In an apparatus for the continuous treatment of surfaces of plastic, paper or textile bandas, or combinations of these materials, by reaction coating in the gas phase, the invention provides that the band has passed through several successive chambers. , the different * chambers being hermetically separated from each other by labyrinth seals, the separation of the whole apparatus from the outside taking place by means of airlocks (in overpressure or in depression), which are preferably placed at the point of admission of the tape *
In principle, all paper, textile and plastic webs, as well as sheets and plates;
transported on inert carrier belts; can be coated in accordance with the invention, las materials to be coated having to exhibit on their surface radicals (OH, NH2, NH, etc.) capable of reacting with organo combinations. metal or a layer of monomolecular water, adhesively bonded.
For vaporization, all organometallic combinations which can easily be hydrolyzed alone can be used.
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or together with inert, easily vaporizable gases, for example in aerosol form.
The invention will now be described in more detail with reference to an embodiment shown by the drawing.
Two tanks (p) made of a material resistant to corrosion and having longitudinal joints contain chambers through which the strip to be treated has passed.
The apparatus is subdivided in the horizontal direction and can be opened by pivoting for the introduction of the strip. Sealing to prevent the passage of gas from one chamber to another and at the inlet and outlet of the strip is provided by labyrinth seals (c). After unwinding (a) and guiding (b) of the strip to be treated, the latter, after passing through the overpressure or vacuum airlock (s), enters the reaction chamber (d).
By spraying (e) the organometallic vapors with air on the upper and / or lower face and by optionally heating (f) to a maximum temperature of 120 ° C., preferably at 50-90 ° C., the reactive coating.
At the end of the reaction chamber, the mixture of air, reaction vapor and fission products from the reaction is sucked in, this mixture being freed of the fission products in an absorber (g), the reaction gas remaining possibly being condensed to be returned alone or mixed with air in the circuit (h).
The next stage (i) is used essentially for rinsing the strip to rid it of residual organometallic vapors and fission products from the reaction, by injection of (heated) air (e), also with the aid of heating. fage, absorber and in circuit, so that in
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the last are * (1), residual gas traces may
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undergo a final tl'a1tnt with nutra11 $ sapper * at:
1on "which are also kept in circuit (h) by aspiration, and with the aid of an absorber (g), The dosage of additions of organometallic combinations (q) or neutralizing agents (r) to the hostages of and 1 takes place in such a way that saturation of the air with the corresponding vapors is ensured.
An air lock can precede the exit of the band from the installation. The air locks can be at overpressure or at. depression. In the case of an overpressure airlock, the pressure in the chamber must always be greater than the pressure of the chamber to be sealed and of the chamber to be protected (d).
When the airlock is vacuum, the pressure in the airlock must always be lower than atmospheric pressure. In either case, gas cannot escape from the protected chamber.
An adequate installation (n) can, if necessary, follow the equipment, for the conditioning or air conditioning of the treated strip.
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