BE578109A - - Google Patents

Info

Publication number
BE578109A
BE578109A BE578109DA BE578109A BE 578109 A BE578109 A BE 578109A BE 578109D A BE578109D A BE 578109DA BE 578109 A BE578109 A BE 578109A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
tube
source
bulge
high frequency
resonant cavity
Prior art date
Application number
Other languages
French (fr)
Publication of BE578109A publication Critical patent/BE578109A/fr

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/16Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation

Description

       

   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  "Perfectionnements apportés eux sources d'ions mettant on oeuvre un - champ électrique haute fré- quenco pour réaliser   l'ionisation"   
La présente invention concerne les sources d'ions, c'est-à-dire los dispositifs permettant de produire dos fais- ceaux dd particules ionisées pour divers appareils traitant do telles particules, tels que les accélérateurs de particules, les spectomètres de masse, les unités do séparation isotopique, et plus particulièrement, parmi ces sources, celles dans les- quelles l'ionisation des particules est réalisée par l'appli- cation d'un champ électrique haute fréquence,

   dans une   en-   ceinte réalisée généralement en quartz ou en verre (en parti-   culier   du type au borosilicate d'aluminium et de sodium 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 désigné commercialement sous la marque déposée "Pyrex", ce type do   vorro   convenant particulièrement pour obtenir dos ions atomi- ques). 



   Dans do telles sources d'ions connues, on produit en général la champ électrique haute fréquence d'ionisation dans des circuits à constantes localisées et on obtient des rendements ioniques faibles par rapport   ± la   puissance haute fréquence mise en oeuvre du fait que pour un circuit à constantes localisées alimenté en haute fréquence, le coefficient de surtension Q est faible et les pertes sont élevées. 



   La présente invention a pour objet une source d'ions, destinée particulièrement, mais non exclusivement, à ioniser des gaz (tels que l'hydrogène, le deutérium, l'hélium, l'azote) ou des vapeurs (par exemple de métaux légers, tels que le lithium.. le sodium) pour réaliser un faisceau de particules ionisées des- tinées à   alimenter   un accélérateur de particules, avec un   ren-   demont ionique élevé (de l'ordre d'une dizaine de milliampères pour une puissance haute fréquence de 75 watts environ). 



   Une source   d'ions   selon l'invention comprend, à la ma- nière connue, m tube, généralement en verre ou en quartz, des moyens pour réaliser un vide poussé dans ledit tube, des moyens pour appliquer une différence de potentiel continue élevée entre les doux extrémités dudit tube, des moyens pour alimenter une des extrémités dudit tube on un produit sous forme gazeuse à ioniser, et une source de courant haute fréquence, et est   carac-   térisée par le fait qu'elle comporte une cavité résonante., excitée par ladite source et comprenant une zone réduite do champ haute fréquence très intense, que ledit tube   comprend,   au voisinage de son autre extrémité, un renflementg de volume réduit en forme de bulbe aplati, et qu'on dispose ledit renflemens dans ladite zone réduite.,

   

 <Desc/Clms Page number 3> 

 
De préférence, ladite cavité résonante est une cavité co- axiale, constituée par un conducteur creux interne,entourant ledit tube en verre ou on quartz jusqu' au niveau dudit renfle- ment,par une enveloppe conductrice externe ayant le   même   axe que ledit conducteur creux ot par deux plaques conductrices fer- mant ladito enveloppe avec laquelle elles sont en contact élec- trique, l'uno des plaques portant ledit conducteur interne avec lequel elle est en contact électrique et l'autre plaque, percée d'un orifice central pour la sortie des ions, étant disposée, par rapport à l'extrémité du conducteur interne de laquelle fait saillie ledit renflement, à une distance réduite, à peine supé-   ricuro     à l'épaisseur   dudit ronflement, cotte cavité coaxialc étant.

   excitée par la source haute fréquence, de préférence par couplage   capacitatif.   



   L'invention pourra, de toute façon, être bien comprise à l'aido du complément do description qui suit ainsi que des dessins ci-annexés,   lesquels   complément ut   dessin:-   sont, bien entendu, donnés surtout à titre d'indication, 
La figure 1 est une vue en coupa d'un mode da réalisation préféré d'une source d'ions mottant un oeuvre les perfectionne- ments salon l'invuntion, à l'exception des moyens d'alimentation en courant de ladite   source:.,   
La figure 2 illustre l'alimentation électrique de la source d'ions do la figure 1. 



   La figure 3   montre     schématiquement   la cavité résonante à constantes distribuées de la source d'ions do la figure 1 et son modo d'excitation. 



   La figure 4, unfin, illustre la circuit   résonant   à cons- tantes localisées correspondant à la cavité résonante de la figure 3. 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 d'ions 
La   source proprement   dite   (fig.l)   comporte essentiellement un tube 1,   généralement   en   verra   "Pyrex" ou en quartz, dont une extrémité 24 comprend un   renflement   2 en forme do bulbe aplati de potito dimension, ayant par exemple un volume; do l'ordre du centimètre cube; l'extrémité 24 du   tubu   prend appui sur une bague 3 portée par une pièce coniquo 4 meintenue dans un logement 25a d'une paroi conductrice 25.

   Les pièces 3 et 4 sont réalisées on dois métaux résistant à l'impact dos ions tels que la platine, l'acior inoxydable, l'aluminium (par exemple la bague 3 est en platino et la pièce 4 on aluminium). 



   L'autre extrémité conique 26 du tube 1 porte le dispositif T   d'alimentation   on gaz ou vapeur à ioniser, qui comprend une chambre 27 avec deux embouts creux 28 ot 29 recevant, l'un l'ex- trémité 26 ot   l'autre   une électrode crouse 5 à travers laquelle on introduit,   comme   représenté par la flèche F, la gaz ou l'élé- ment,   préalablement   vaporise, à ioniser; dans la chambre 27 est logé un disquo on quartz 30 ayant pour objet d'augmenter la ten- sion   disruptivo   du milieu gazeux à l'intérieur do la source d'ions. 



   La plus grande partio du tube 1 est logée dans une cavité résonante coaxialo R constituée par un conducteur creux interne 7 enveloppant ledit tube et une   envoloppu   conductrice externe 6 de môme axe   quo   le conductuur interne 7 ; une plaque métallique 8, soudéo on 30 à l'enveloppe externe 6 pour assurer la connexion électrique,   fcrnc   un côté de   l'enveloppe   6 ; cotte plaque 8 est percée d'un trou   central   31 laissant passer les ions produits dans le bulbe 2 et qui quittent le tube 1, suivant la flèche f. Des joints toriques 32 et 33 on caoutchouc sont disposés   entre:   la plaque 8 et le bulbe 2, d'une part, et entre cette plaque et la paroi 25, d'autre part.

   De même. l'autre extrémité de l'enveloppe 6 est fermée par une plaque métallique 34, fixée par soudure en /30a à l'enveloppe 6 et 

 <Desc/Clms Page number 5> 

 
 EMI5.1 
 percée en son milieu pour recevoir un r.1c.7.1\in 35 dans lequel sont enfilés les éléments tubulairos 1 et 7. Les éléments 6,7,8,34,35 sont des éléments bon conducteurs do l'électricité,   par   exemple en cuivre. 



   Des moyens de pompage (représentés en P) communiquent avec 
 EMI5.2 
 l'espace 50 compris entre les plaques cl et 25 et à l'intéricurdu joint torique 33 pour   maintenir,   à travers les orifices 4a de la 
 EMI5.3 
 pièce 4, un vide de l'ordre de 10-3 à 10-4m. de nercuro dans le tube 1. 
 EMI5.4 
 En ce qui concerne l'alinontation en courant (fig.2) -on applique une différence do potentiel continue élevée entre   l'électrode   5   (polo   positif   +HTo)   et la plaque 8 (pôle négatif -HTo);

   -on applique une tension haute fréquence sur le conducteur interne 
7 à partir d'un tube oscillateur 9 (disposé dans une enceinte 
23 formant blindage) au moyen de trois tiges de cuivre 20,21,22 à travers trois condensateurs 12,16 et 18, dont les   armatures   sont séparées par une feuille unique de mica 56, épaisse d'environ 
 EMI5.5 
 0,1=, de manière à réaliser un couplage ccpicit-tif entrw la cavité résonante et. l'oseilifteur, ce qui p<1r;t de les porter à des potentiels très différents.

   Par exemple L'enceinte 23 de la source haute fréquence est mise à la masse 
La source haute fréquence comprend: 
Un tube oscillateur convenant pour consommer environ 75-100   wqtts   à une fréquence de l'ordre de 150 MHz, tel qu'une 
 EMI5.6 
 tétrode 9, diraentée par une haute: tension plaque +HTI appliquée sur sa plaque 11 à partir da la ligne 10, pc.r une haute tension écran +HT2 appliquée sur sc grille-écran 14 à partir de la lig-ic. 



  13 et par uns tension de. chauffage à 1, cauhode 38 à partir des fils 39, le retour s'effectuant par la ligne Cú:TIUJ1...: 19 constituant lu 7Ô1C négatif -HT des hautes tensions d "-:li:-cnt,-',ticl1, des bobines de choc 40   empêchent   le   passade   un retour des courants 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 haute fréquence engendrés par le   tube 9  et dos condensateurs   41,42   le passage du courant continu directement vers la ligne   19,   La grille de commande 15 du tube 9 est   reliée,   d'une part   direc-   tement, à la tigo 43 du condensateur 16 et, d'autre part par une   résistance   17 do   quelques   milliers d'ohms,

   à la tige 44 du con- densateur 18 qui est reliée par le conducteur   44a.   à la ligne de retour 19, c'est-à-dire à la cathode au point du vue haute fré- quence; enfin, la tension plaque est appliquée par la tige 37 au condensateur 12 ; on réalise ainsi avec le tube 9 et la cavité résonante R un   ensemble   oscillent   représente   schématiquement sur la figure 3. 



   Les valeurs des   éléments   du montage de la figure 2 peu-- vent être les suivantes: +HT1 : + 700 volts +HT2 : +1500 volts   -HT :   0 volts 
41   f 1500pF   
42 : 6800pF fréquence: 150MHz 
17 : 20. 000 ohms +HTo;+20.000 volts -HTo;  +13.000 volts   
La cavité résonante est ainsi excitée (fig.3) par les tiges 20,21,22 en produisant un champ haute   fréquence   maximun   (conne   indiqué par les lignes de force,   peu     danses   46 et très denses 46a dans la zone 5, du champ   électrique)   entre l'extrétité 45 du conducteur 7 et.la.plaque 8 distantes d'un intervalic d à poine supériour à l'épaisseur e du bulbe;

     un-condensateur   c ost   formé   entre ces deux éléments, tandis que l'intérieur de l'enveloppe de la cavité résonante constitue la self-induction L du circuit   oscillant   correspondant   représenta   schématiquement sur la figure 4. 



   La concentration des lignes du force 46a du champ élec- trique dans une zone réduite S de la cavité résinante, zone dans 

 <Desc/Clms Page number 7> 

 laquelle est justement placée, conformément à la caractéristique prin- cipale de l'invention, la zone d'ionisation (renflement 2 du tube 1), assure une forte ionisation du gaz ou de la vapeur dans le renflement 2. En   outro,   du fait que la surtension Q d'une cavité résonante peut ôtre très élovée pour les très hautes fréquencos (contrairement aux circuits résonants à constantes localisées) on peut amorcor très fa- ciloment l'ionisation du gaz ou de la vapeur dans la   ronflement   2, car la champ y est très   intense   avant l'amorçage.

   On peut ainsi réaliser une cavité du typo représenté ayant un coefficient de sur- tension do l'ordre de 1000 qui réalise un amorçage très facile de l'ionisation. 



   Un autre avantage très important du   montage   selon l'invontion est constitué par la fait que la zono d'ionisation   (renflement   2) est contigue à la zone d'extraction, l'extraction ayant lieu par des moyens connus, par exemple au noyen d'une série d'électrodes   d'extrac-   tion, d'accélération et do focalisation (par exemple du type décrit dans l'article paru dans le numéro de décembre 1948 du périodique "The   Roviow   of Sciontific Instruments p.907-909) pour diriger les ions sur le dispositif utilisateur, tel qu'un accélérateur. 



   En définitive, le fonctionnement du la source d'ions décrite et représentée est le suivant: 
Le gaz ou la vapeur à ioniser arrive par l'électrode 5 et il est essentiellement ionisé dans le   renflement   2 en forme de bulbe aplati qui so trouve dans une zone do champ haute fréquence maximum; l'ioni- sation y est amorcée et réalisée avec une grande intensité, cc qui permet d'obtenir dos faisceaus f très intenses contenant une forte proportion d'ions (par exemple de l'ordre d'eau moins 70%). Les ions ainsi obtenus sont alors soumis, par les électrode:. d'oxtraction, d'accélération et de focalisation, à une tension continue qui les canalise vers le dispositif d'utilisation, tol qu'un accélérateur de particules.



   <Desc / Clms Page number 1>
 



  "Improvements made to them sources of ions using a - high frequency electric field to achieve ionization"
The present invention relates to ion sources, that is to say to devices for producing beams of ionized particles for various apparatuses for processing such particles, such as particle accelerators, mass spectometers, mass spectrometers, and other devices. isotope separation units, and more particularly, among these sources, those in which the ionization of the particles is carried out by the application of a high frequency electric field,

   in an enclosure generally made of quartz or glass (in particular of the sodium aluminum borosilicate type

 <Desc / Clms Page number 2>

 designated commercially under the trademark "Pyrex", this type of vorro being particularly suitable for obtaining atomic ions).



   In such known ion sources, the high-frequency electric ionization field is generally produced in circuits with localized constants and low ionic yields are obtained with respect to ± the high-frequency power used because for a circuit with localized constants supplied with high frequency, the Q Q factor is low and the losses are high.



   The present invention relates to an ion source, intended particularly, but not exclusively, to ionize gases (such as hydrogen, deuterium, helium, nitrogen) or vapors (for example of light metals. , such as lithium .. sodium) to produce a beam of ionized particles intended to supply a particle accelerator, with a high ionic output (of the order of ten milliamps for high frequency power of approximately 75 watts).



   An ion source according to the invention comprises, in a known manner, a tube, generally made of glass or quartz, means for creating a high vacuum in said tube, means for applying a high continuous potential difference between the soft ends of said tube, means for supplying one of the ends of said tube are produced in gaseous form to be ionized, and a high frequency current source, and is characterized by the fact that it comprises a resonant cavity. by said source and comprising a reduced area do very intense high frequency field, that said tube comprises, in the vicinity of its other end, a bulge of reduced volume in the form of a flattened bulb, and that said bulges are placed in said reduced area. ,

   

 <Desc / Clms Page number 3>

 
Preferably, said resonant cavity is a coaxial cavity, constituted by an internal hollow conductor, surrounding said glass or quartz tube up to the level of said bulge, by an external conductive envelope having the same axis as said hollow conductor. ot by two conductive plates closing the envelope with which they are in electrical contact, one of the plates carrying said internal conductor with which it is in electrical contact and the other plate, pierced with a central hole for the the outlet of the ions, being disposed, with respect to the end of the internal conductor from which the said bulge protrudes, at a reduced distance, barely greater than the thickness of the said snore, this cavity being coaxial.

   excited by the high frequency source, preferably by capacitive coupling.



   The invention can, in any case, be well understood with the aid of the additional description which follows as well as the appended drawings, which complement the drawing: - are, of course, given mainly by way of indication,
FIG. 1 is a sectional view of a preferred embodiment of an ion source forming a work of the improvements involving the invasion, with the exception of the means for supplying current to said source :. ,
Figure 2 illustrates the power supply to the ion source of Figure 1.



   FIG. 3 schematically shows the resonant cavity with distributed constants of the ion source of FIG. 1 and its mode of excitation.



   FIG. 4, unfinally, illustrates the resonant circuit with localized constants corresponding to the resonant cavity of FIG. 3.

 <Desc / Clms Page number 4>

 ions
The source itself (fig.l) essentially comprises a tube 1, generally in "Pyrex" glass or in quartz, one end 24 of which comprises a bulge 2 in the form of a flattened bulb of potito dimension, having for example a volume; do the order of a cubic centimeter; the end 24 of the tube rests on a ring 3 carried by a conical part 4 held in a housing 25a of a conductive wall 25.

   Parts 3 and 4 are made from metals resistant to the impact of ions such as platinum, stainless steel, aluminum (for example ring 3 is in platinum and part 4 is aluminum).



   The other conical end 26 of the tube 1 carries the device T for supplying the gas or vapor to be ionized, which comprises a chamber 27 with two hollow end pieces 28 ot 29 receiving, one end 26 ot the other. a dirt electrode 5 through which is introduced, as represented by the arrow F, the gas or the element, vaporized beforehand, to be ionized; in the chamber 27 is housed a quartz disc 30 for the purpose of increasing the disruptive voltage of the gaseous medium inside the ion source.



   The greater partio of the tube 1 is housed in a coaxial R resonant cavity constituted by an internal hollow conductor 7 enveloping said tube and an external conductive envoloppu 6 of the same axis as the internal conductuur 7; a metal plate 8, welded to the outer casing 6 to ensure the electrical connection, fcrnc one side of the casing 6; this plate 8 is pierced with a central hole 31 allowing the ions produced in the bulb 2 to pass and which leave the tube 1, following the arrow f. O-rings 32 and 33 on rubber are arranged between: the plate 8 and the bulb 2, on the one hand, and between this plate and the wall 25, on the other hand.

   The same. the other end of the casing 6 is closed by a metal plate 34, fixed by welding at / 30a to the casing 6 and

 <Desc / Clms Page number 5>

 
 EMI5.1
 pierced in its middle to receive a r.1c.7.1 \ in 35 in which are threaded the tubular elements 1 and 7. The elements 6,7,8,34,35 are elements that are good conductors of electricity, for example in copper.



   Pumping means (shown at P) communicate with
 EMI5.2
 the space 50 included between the plates cl and 25 and inside the O-ring 33 to hold, through the orifices 4a of the
 EMI5.3
 part 4, a gap of the order of 10-3 to 10-4m. of nercuro in tube 1.
 EMI5.4
 With regard to the current alinontation (fig.2) - a high continuous potential difference is applied between the electrode 5 (positive polo + HTo) and the plate 8 (negative pole -HTo);

   -we apply a high frequency voltage to the internal conductor
7 from an oscillator tube 9 (arranged in an enclosure
23 forming shielding) by means of three copper rods 20,21,22 through three capacitors 12,16 and 18, the armatures of which are separated by a single sheet of mica 56, approximately
 EMI5.5
 0.1 =, so as to achieve a ccpicit-tif coupling between the resonant cavity and. the sorrelator, which p <1r; t to bring them to very different potentials.

   For example Speaker 23 of the high frequency source is grounded
The high frequency source includes:
An oscillator tube suitable for consuming about 75-100 wqtts at a frequency of the order of 150 MHz, such as a
 EMI5.6
 tetrode 9, said by a high: plate voltage + HTI applied to its plate 11 from line 10, pc.r a high screen voltage + HT2 applied to sc grid-screen 14 from lig-ic.



  13 and by a voltage of. heating at 1, cauhode 38 from the wires 39, the return being effected by the line Cú: TIUJ1 ...: 19 constituting read 7Ô1C negative -HT of high voltages d "-: li: -cnt, - ', ticl1 , shock coils 40 prevent the passing of a return of currents

 <Desc / Clms Page number 6>

 high frequency generated by the tube 9 and its capacitors 41,42 the passage of the direct current directly towards the line 19, The control grid 15 of the tube 9 is connected, on the one hand directly, to the tigo 43 of the capacitor 16 and, on the other hand by a resistance 17 of a few thousand ohms,

   to the rod 44 of the capacitor 18 which is connected by the conductor 44a. at the return line 19, that is to say at the cathode from the high frequency point of view; finally, the plate voltage is applied by the rod 37 to the capacitor 12; with tube 9 and resonant cavity R, an oscillating assembly is thus produced, shown schematically in FIG. 3.



   The values of the assembly elements of figure 2 can be as follows: + HT1: + 700 volts + HT2: +1500 volts -HT: 0 volts
41 f 1500pF
42: 6800pF frequency: 150MHz
17: 20,000 ohms + HTo; +20,000 volts -HTo; +13,000 volts
The resonant cavity is thus excited (fig. 3) by the rods 20,21,22 by producing a maximum high frequency field (cone indicated by the lines of force, little dances 46 and very dense 46a in zone 5, of the electric field ) between the end 45 of the conductor 7 et.la.plaque 8 spaced apart by an intervalic d at a point greater than the thickness e of the bulb;

     a capacitor c ost formed between these two elements, while the interior of the envelope of the resonant cavity constitutes the self-induction L of the corresponding oscillating circuit, schematically represented in FIG. 4.



   The concentration of the lines of force 46a of the electric field in a reduced zone S of the resinous cavity, zone in

 <Desc / Clms Page number 7>

 which is precisely placed, in accordance with the main characteristic of the invention, the ionization zone (bulge 2 of tube 1), ensures a strong ionization of the gas or vapor in the bulge 2. In addition, because that the overvoltage Q of a resonant cavity can be very high for very high frequencies (unlike resonant circuits with localized constants) it is very easy to initiate the ionization of gas or steam in hum 2, because the field is very intense there before priming.

   It is thus possible to produce a cavity of the type represented having an over-voltage coefficient of the order of 1000 which achieves very easy initiation of the ionization.



   Another very important advantage of the assembly according to the invontion is constituted by the fact that the ionization zone (bulge 2) is contiguous to the extraction zone, the extraction taking place by known means, for example at the nucleus of a series of extraction, acceleration and focusing electrodes (for example of the type described in the article appearing in the December 1948 issue of the periodical "The Roviow of Sciontific Instruments p.907-909) for directing the ions to the user device, such as an accelerator.



   Ultimately, the operation of the ion source described and shown is as follows:
The gas or vapor to be ionized arrives through the electrode 5 and is essentially ionized in the bulge 2 in the form of a flattened bulb which is located in a zone of maximum high frequency field; ionization is initiated there and carried out with great intensity, which makes it possible to obtain very intense f beams containing a high proportion of ions (for example of the order of water minus 70%). The ions thus obtained are then subjected, by the electrodes :. oxtraction, acceleration and focusing, at a direct voltage which channels them to the device of use, tol a particle accelerator.


    

Claims (1)

REVENDICATIFS 1. Source d'ions comprenant un tube (1), des moyens /pour réaliser un vide poursé dans ledit tube, des moyens pour appliquer une différence de potentiel continue élevée entre les deux extré- mités (24,26) dudit tube, des moyens (T) pour alimenter une des extrémités (26) dudit tube en un produit sous forme gazeuse à doni- ser, et une source de courant haute fréquence (9), et caractérisée par le fait qu'elle comporte une cavité résonante (R), excitée par ladite source et comprenant une zone réduite (S) de champ haute fréquence très intense, que ledit tube comprend, au voisina- ge de son autre extrémité (24), un renflement (2) do volume réduit en forme de bulbe aplati, et qu'on dispose ledit renflement dans ladite zone réduite. CLAIMS 1. Ion source comprising a tube (1), means / for creating a vacuum maintained in said tube, means for applying a high continuous potential difference between the two ends (24,26) of said tube, means (T) for supplying one of the ends (26) of said tube with a product in gaseous form to be donated, and a high-frequency current source (9), and characterized in that it comprises a resonant cavity (R ), excited by said source and comprising a reduced zone (S) of very intense high frequency field, which said tube comprises, near its other end (24), a bulge (2) of reduced volume in the form of a bulb flattened, and that said bulge is placed in said reduced area. 2. Source crions selon la revendication 1, caracté- risée par le fait que la cavité résonante (R) est une cavité coaxi- ale, constituée par un conducteur creux interne (7) entourant ledit tube (1) jusqu'au niveau dudit renflement (2), par une enveloppe conductrice externe (6) ayant le même axe que ledit conducteur creux et par deux plaques conductrices (34,8) fermant ladite enveloppe avec laquelle elles sont en contact électrique, l'une des plaques (34) portant ledit conducteur interne avec lequel elle est en contact électrique et l'autre plaque, percée d'un orifice central pour la sortie dos ions,étant disposée,par rapport à l'extrémité (45) du conducteur interne de laquelle fait saillie ledit renflement (2),à une distance (d)réduito, à peine supérieure à l'épaisseur (e) dudit renflement (2). 2. Source crions according to claim 1, characterized in that the resonant cavity (R) is a coaxial cavity, constituted by an internal hollow conductor (7) surrounding said tube (1) up to the level of said bulge. (2), by an outer conductive casing (6) having the same axis as said hollow conductor and by two conductive plates (34,8) closing said casing with which they are in electrical contact, one of the plates (34) carrying said internal conductor with which it is in electrical contact and the other plate, pierced with a central orifice for the output of ions, being arranged, with respect to the end (45) of the internal conductor from which the said bulge protrudes ( 2), at a reduced distance (d), barely greater than the thickness (e) of said bulge (2). 3. Source datons solon les revendications 1 ou 2 ; caractérisée par le fait que ladite cavité résonante (R) est excitée par ladite source haute fréquence (9) par couplage capaci- tatif. <Desc/Clms Page number 9> 3. Source of dates based on claims 1 or 2; characterized in that said resonant cavity (R) is excited by said high frequency source (9) by capacitive coupling. <Desc / Clms Page number 9> 4. Source d'ions selon la revendication 3, carac- térisée par le fait que la source haute fréquence (9) est disposée dans une enceinte de blindage (23), mise à la masse. 4. Ion source according to claim 3, charac- terized in that the high frequency source (9) is arranged in a shielding enclosure (23), grounded. 5. Source d'ions selon les revendications 3 ou 4, caractérisée par la fait que la source haute fréquence (9) est constituée par un tube oscillateur comprenant une cathode (38), une grille de commande (15) et une anode (il) qui sont connectées chacuno à l'une des armatures do trois condensateurs (18,16,12) l'autre armature de chacun des- dits condensateurs étant connectée au conducteur creux interne (7) et une feuille unique de diélectrique (36) étant disposée entre les doux armatures dcstrois condensa- tours. - 6. Source d'ions selon la revendication 5, carac- térisée par le fait que la feuille de diélectrique (36) est constituée par une fouillo do mica épaisse dtenvilon 0,1mm. 5. Ion source according to claims 3 or 4, characterized in that the high frequency source (9) consists of an oscillator tube comprising a cathode (38), a control grid (15) and an anode (it ) which are each connected to one of the armatures of three capacitors (18,16,12) the other armature of each of said capacitors being connected to the internal hollow conductor (7) and a single sheet of dielectric (36) being arranged between the soft frames of three condensers. - 6. Ion source according to claim 5, charac- terized in that the dielectric sheet (36) consists of a 0.1 mm thick mica fouillo dtenvilon.
BE578109D BE578109A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE578109A true BE578109A (en)

Family

ID=190956

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE578109D BE578109A (en)

Country Status (1)

Country Link
BE (1) BE578109A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0043740B1 (en) Plasma generator
FR2815888A1 (en) PLASMA GAS TREATMENT DEVICE
FR2726729A1 (en) DEVICE FOR PRODUCING A PLASMA FOR DISSOCIATION BETWEEN THE ZONES OF PROPAGATION AND ABSORPTION OF MICROWAVES
FR2680601A1 (en) LOW PRESSURE DISCHARGE LAMP WITHOUT ELECTRODE.
FR2529400A1 (en) GAS LASER WITH EXCITATION BY TRANSVERSE ELECTRIC DISCHARGE TRIGGERED BY PHOTOIONIZATION
BE578109A (en)
EP0340832A1 (en) Sealed, high flux neutron tube
EP0140730A1 (en) Soft X-ray source utilising a microch annel plasma created by photoionization of a gas
Baranov et al. Use of a discharge over a dielectric surface for preionization in excimer lasers
EP0241362B1 (en) Device, particularly a duoplasmatron, for ionizing a gas, and method of using this device
FR2681186A1 (en) ION SOURCE WITH ELECTRONIC CYCLOTRONIC RESONANCE AND COAXIAL INJECTION OF ELECTROMAGNETIC WAVES.
JPH02276143A (en) Apparatus and method for generating soft x-ray for extra-fine pattern
CH642483A5 (en) LIGHTING DEVICE.
FR2615331A1 (en) LASER
Baksht et al. Volume-plasma generation of a high H− concentration in low-voltage cesium–hydrogen discharge
WO1984000855A1 (en) Low voltage operation of arc discharge devices
Hosokai et al. Elongation of extreme ultraviolet (at 13.5 nm) emission with time-of-flight controlled discharges and lateral fuel injection
FR2524245A1 (en) Arc plasma gun - with coaxial electromagnet facing cathode inside plasma guide carrying focusing solenoid
Urai et al. High-repetition-rate operation of the wire ion plasma source using a novel method
Nikolaev et al. High-Current Vacuum-Arc Plasma Source for Producing Supersonic Plasma Flows in Magnetic Fields
Sudan et al. Field Emission from Vacuum‐Deposited Metallic Film and its Role in Electric Breakdown in Vacuum
FR2778525A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR HIGH FREQUENCY PROCESSING OF PRODUCTS AND HIGH FREQUENCY INDUCTANCE AND GENERATOR USED FOR THEIR IMPLEMENTATION
Apollonov et al. Dynamic profiling of an electric field in the case of formation of a volume self-sustained discharge under conditions of strong ionization of the electrode regions
Blok et al. Lifetime tests of rf-excited atomic xenon lasers
Schmidt et al. Influence of initial conditions on capillary discharge device capex 2