|
NL247299A
(US08088918-20120103-C00476.png)
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1959-01-14 |
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NL247405A
(US08088918-20120103-C00476.png)
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1959-01-15 |
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NL247406A
(US08088918-20120103-C00476.png)
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1959-01-17 |
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NL130248C
(US08088918-20120103-C00476.png)
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1959-01-21 |
|
|
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|
DE1114705C2
(de)
*
|
1959-04-16 |
1962-04-12 |
Kalle Ag |
Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
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BE593836A
(US08088918-20120103-C00476.png)
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1959-08-05 |
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NL131386C
(US08088918-20120103-C00476.png)
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1959-08-29 |
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|
NL130926C
(US08088918-20120103-C00476.png)
*
|
1959-09-04 |
|
|
|
|
DE3043967A1
(de)
*
|
1980-11-21 |
1982-06-24 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
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DE3100856A1
(de)
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1981-01-14 |
1982-08-12 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
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DE3582697D1
(de)
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|
1984-06-07 |
1991-06-06 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung.
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|
DE3445276A1
(de)
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|
1984-12-12 |
1986-06-19 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform
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DE3718416A1
(de)
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|
1987-06-02 |
1988-12-15 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung
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DE3729034A1
(de)
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1987-08-31 |
1989-03-09 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden und hiermit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
|
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DE3820699A1
(de)
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|
1988-06-18 |
1989-12-21 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
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DE3940911A1
(de)
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|
1989-12-12 |
1991-06-13 |
Hoechst Ag |
Verfahren zur herstellung negativer kopien
|
|
DE4002397A1
(de)
*
|
1990-01-27 |
1991-08-01 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
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DE4003025A1
(de)
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|
1990-02-02 |
1991-08-08 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
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DE4004719A1
(de)
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|
1990-02-15 |
1991-08-22 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
|
|
DE4137325A1
(de)
*
|
1991-11-13 |
1993-05-19 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf der basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches material
|
|
DE4335425A1
(de)
*
|
1993-10-18 |
1995-04-20 |
Hoechst Ag |
Mattiertes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
|
|
DE602006009919D1
(de)
|
2006-08-03 |
2009-12-03 |
Agfa Graphics Nv |
Flachdruckplattenträger
|
|
ATE468981T1
(de)
|
2007-11-30 |
2010-06-15 |
Agfa Graphics Nv |
Verfahren zur behandlung einer lithografiedruckplatte
|
|
EP2098376B1
(en)
|
2008-03-04 |
2013-09-18 |
Agfa Graphics N.V. |
A method for making a lithographic printing plate support
|
|
ES2365885T3
(es)
|
2008-03-31 |
2011-10-13 |
Agfa Graphics N.V. |
Un método para tratar una plancha de impresión litográfica.
|
|
ES2655798T3
(es)
|
2014-12-08 |
2018-02-21 |
Agfa Nv |
Sistema para reducir los residuos de ablación
|
|
EP3429850A1
(en)
|
2016-03-16 |
2019-01-23 |
Agfa Nv |
Method and apparatus for processing a lithographic printing plate
|
|
EP3637188A1
(en)
|
2018-10-08 |
2020-04-15 |
Agfa Nv |
An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
|
