JP2010218301A - Failure diagnosis apparatus, failure diagnosis method, and failure diagnosis program - Google Patents

Failure diagnosis apparatus, failure diagnosis method, and failure diagnosis program Download PDF

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JP2010218301A JP2009065192A JP2009065192A JP2010218301A JP 2010218301 A JP2010218301 A JP 2010218301A JP 2009065192 A JP2009065192 A JP 2009065192A JP 2009065192 A JP2009065192 A JP 2009065192A JP 2010218301 A JP2010218301 A JP 2010218301A
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Yosuke Matsushima
洋輔 松島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a failure diagnosis apparatus that estimates the state of a chemical plant through regression analysis, and automatically identifies the cause of failure when determining an abnormal state. <P>SOLUTION: The failure diagnosis apparatus performs regression analysis on the basis of a measurement value obtained by measuring a target object in a plant in order to diagnose an abnormal state in the plant, determines an estimated value of the object, and predicts the occurrence of failure by comparing the estimated value with a predetermined threshold. The failure diagnosis apparatus includes a measurement value specifying means that specifies a measurement value greatly contributing to the estimated value of the object. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラントに異常が発生しているか否かを診断し、発生した異常の原因を特定する異常診断装置、異常診断方法、異常診断プログラムに関する。   The present invention relates to an abnormality diagnosis device, an abnormality diagnosis method, and an abnormality diagnosis program that diagnose whether or not an abnormality has occurred in a plant and identify the cause of the abnormality that has occurred.

近年、プロセス制御を採用している化学プラントの複雑化・特殊化が進んでいる一方で、オペレーティング現場では少人数化に拍車がかかっている。複雑かつ汎用化されていないプラントの監視を少人数で実施するのは非常に難しく、プラント停止警報等が発報されて初めて化学プラントの異変が表面化する事例が多い。また、化学プラントの異常運転は重大な経済的損失を伴う可能性がある。そのため早期に異常を検知し、原因を特定するシステムが非常に有用となる。   In recent years, while chemical plants that employ process control have become more complex and specialized, operating sites have been spurred by fewer people. It is very difficult to monitor a complex and non-generalized plant with a small number of people, and there are many cases in which a chemical plant anomaly appears only when a plant stop alarm is issued. Also, abnormal operation of chemical plants can be accompanied by significant economic losses. Therefore, a system that detects an abnormality early and identifies the cause is very useful.

従来技術にあっては、化学プラントを対象として、主成分分析(PCA;principal component analysis)を使用した異常予測方法(例えば、特許文献1参照)、また、回帰分析(PLS;Partial Least Squares)を使用した異常予測方法(例えば、特許文献2参照)などがある。PCAもPLSも多変量解析の一種であり、入力変数と出力変数との関係をモデル化し、新たな入力変数で出力変数を推定することができる。PLSに関しては、多重共線性に影響されない特質を利用して、化学プラントの状態推定(ソフトセンサー)として使用されている(例えば、特許文献2参照)。   In the prior art, for a chemical plant, an abnormality prediction method using principal component analysis (PCA; principal component analysis) (see, for example, Patent Document 1), or regression analysis (PLS; Partial Least Squares) There is an abnormality prediction method used (for example, see Patent Document 2). PCA and PLS are both types of multivariate analysis, and the relationship between input variables and output variables can be modeled, and output variables can be estimated using new input variables. As for PLS, it is used as a state estimation (soft sensor) of a chemical plant by utilizing a characteristic that is not affected by multicollinearity (see, for example, Patent Document 2).

特許文献1、2に記載の方法は、化学プラント内の何らかの測定値を推定し、実際の測定値と比較することで異常を検知する方法である。特許文献3に記載の方法は、化学プラント内でリアルタイムで測定できない物理量を推定し、プラント操業に役立てる方法である。これらは、多変量解析を利用して何らかの状態を推定する点では同等の技術であり、近年は、化学プラントにおいて、異常検知や状態推定に活用されている。   The methods described in Patent Documents 1 and 2 are methods for detecting an abnormality by estimating some measured value in a chemical plant and comparing it with an actual measured value. The method described in Patent Document 3 is a method for estimating a physical quantity that cannot be measured in real time in a chemical plant and using it for plant operation. These are equivalent techniques in that some state is estimated using multivariate analysis, and in recent years, they are used for abnormality detection and state estimation in chemical plants.

特表2008−512792号公報Japanese translation of PCT publication No. 2008-512792 特開2006−350698号公報JP 2006-350698 A 特開2007−004769号公報JP 2007-004769 A

ところで、化学プラントにおいては異常を早期に検知することに加え、早期に検知した異常の原因を推定することが重要である。しかしながら、従来技術では、異常を検知するのみであり、異常状態を発生させている原因を特定することができないという問題がある。事前に異常が検知できたとしても、原因が分からなければ化学プラントの稼働停止、装置の損傷などの状態を回避することができない。化学プラントは複雑なプロセスが重なり合っているものが多く、異常原因を特定することが難しい。また、近年はベテランオペレータが不足している化学プラントもあり、異常原因を自動的に検知する方法が要望されている。   By the way, in the chemical plant, in addition to detecting the abnormality early, it is important to estimate the cause of the abnormality detected early. However, the conventional technique only detects an abnormality, and there is a problem that a cause causing an abnormal state cannot be specified. Even if an abnormality can be detected in advance, it is impossible to avoid a situation such as the operation stop of the chemical plant or damage to the apparatus unless the cause is known. Many chemical plants have complicated processes overlapping, and it is difficult to identify the cause of the abnormality. In recent years, there are chemical plants that lack experienced operators, and there is a demand for a method for automatically detecting the cause of an abnormality.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、PLS(Partial Least Squares)等の回帰分析により化学プラントの状態を推定し、異常な状態が発生したと判定された場合には、自動的に異常の原因を特定することができる異常診断装置、異常診断方法及び異常診断プログラムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and estimates the state of a chemical plant by regression analysis such as PLS (Partial Least Squares) and automatically determines that an abnormal state has occurred. It is an object of the present invention to provide an abnormality diagnosis device, an abnormality diagnosis method, and an abnormality diagnosis program that can identify the cause of abnormality.

本発明は、プラントの異常を診断するために、前記プラント内の測定対象を測定した測定値に基づいて回帰分析を行うことにより、異常検出対象の推定値を求め、該推定値を予め決められたしきい値と比較することにより異常発生を予測する異常診断装置であって、前記異常検出対象の推定値に大きく寄与している前記測定値を特定する測定値特定手段を備えたことを特徴とする。   According to the present invention, in order to diagnose a plant abnormality, a regression analysis is performed based on a measurement value obtained by measuring a measurement object in the plant, thereby obtaining an estimated value of the abnormality detection target, and the estimated value can be determined in advance. An abnormality diagnosis apparatus that predicts the occurrence of an abnormality by comparing the measured value with a measured threshold value, comprising: a measurement value specifying unit that specifies the measurement value that greatly contributes to the estimated value of the abnormality detection target. And

本発明は、プラントの異常を診断するために、前記プラント内の測定対象を測定した測定値に基づいて回帰分析を行うことにより、異常検出対象の推定値を求め、該推定値を予め決められたしきい値と比較することにより異常発生を予測する異常診断装置における異常診断方法であって、前記異常検出対象の推定値に大きく寄与している前記測定値を特定する測定値特定ステップを有することを特徴とする。   According to the present invention, in order to diagnose a plant abnormality, a regression analysis is performed based on a measurement value obtained by measuring a measurement object in the plant, thereby obtaining an estimated value of the abnormality detection target, and the estimated value can be determined in advance. An abnormality diagnosis method in an abnormality diagnosis apparatus that predicts occurrence of an abnormality by comparing with a threshold value, and includes a measurement value identification step that identifies the measurement value that greatly contributes to the estimated value of the abnormality detection target It is characterized by that.

本発明は、プラントの異常を診断するために、前記プラント内の測定対象を測定した測定値に基づいて回帰分析を行うことにより、異常検出対象の推定値を求め、該推定値を予め決められたしきい値と比較することにより異常発生を予測する異常診断装置上で動作する異常診断プログラムであって、前記異常検出対象の推定値に大きく寄与している前記測定値を特定する測定値特定ステップをコンピュータに行わせることを特徴とする。   According to the present invention, in order to diagnose a plant abnormality, a regression analysis is performed based on a measurement value obtained by measuring a measurement object in the plant, thereby obtaining an estimated value of the abnormality detection target, and the estimated value can be determined in advance. An abnormality diagnosis program that operates on an abnormality diagnosis device that predicts the occurrence of an abnormality by comparing with a measured threshold value, and specifies the measurement value that greatly contributes to the estimated value of the abnormality detection target The step is performed by a computer.

本発明によれば、プラント内の測定対象を測定した測定値に基づいて回帰分析を行うことにより、異常検出対象の推定値を求め、この推定値を予め決められたしきい値と比較することにより異常発生を予測する異常診断装置において、異常検出対象の推定値に大きく寄与している測定値を特定し、出力するようにしたため、プラント内で異常が発生した場合の異常原因を特定することができる。これにより、プラント内に異常が発生した場合、迅速に異常回避措置をとることが可能になるという効果が得られる。   According to the present invention, the regression analysis is performed based on the measurement value obtained by measuring the measurement target in the plant, thereby obtaining the estimated value of the abnormality detection target and comparing the estimated value with a predetermined threshold value. In the abnormality diagnosis device that predicts the occurrence of abnormalities, the measurement value that greatly contributes to the estimated value of the abnormality detection target is specified and output, so the cause of abnormality when an abnormality occurs in the plant must be specified Can do. Thereby, when an abnormality occurs in the plant, it is possible to obtain an effect that an abnormality avoidance measure can be taken quickly.

本発明の一実施形態の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of one Embodiment of this invention. 図1に示す異常診断装置2の処理動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the processing operation of the abnormality diagnosis apparatus 2 shown in FIG. 図1に示すデータベース22に記憶されるプラントデータの一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the plant data memorize | stored in the database 22 shown in FIG. 図1に示すプラント1の一例を示す系統図である。It is a systematic diagram which shows an example of the plant 1 shown in FIG. 製品ガスの純度の予測値と実測値を対比して示した説明図である。It is explanatory drawing which contrasted and showed the predicted value of the purity of product gas, and the measured value. 推定結果に寄与した各測定値の強度を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the intensity | strength of each measured value which contributed to the estimation result.

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態による異常診断装置を説明する。図1は同実施形態の構成を示すブロック図である。この図において、符号1は、プロセス制御によって稼働する化学プラント(以下、プラントと称する)であり、本発明による異常診断装置が行う異常診断の対象となるプラントである。符号2は、プラント1の異常診断を行う異常診断装置であり、コンピュータ装置で構成する。符号21は、プラント操業時に、プラント1内に備えてられているセンサ(図示せず)から出力されるプラントの状態を示す測定データ(これを実プラントデータという)を入力する実プラントデータ入力部である。符号22は、実プラントデータ入力部21が入力した実プラントデータを保存しておくデータベースであり、記憶装置で構成する。符号23は、データベース22に記憶されているデータからPLSモデルを決定するPLSモデル決定部である。符号24は、PLSモデル決定部23が決定したPLSモデルデータを記憶するPLSモデル記憶部である。符号25は、PLSモデル記憶部24に記憶されているPLSモデルデータを使用して、被説明変数の推定値を求めて出力するPLS推定処理部である。   Hereinafter, an abnormality diagnosis apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the embodiment. In this figure, reference numeral 1 denotes a chemical plant (hereinafter referred to as a plant) that operates by process control, and is a plant that is a target of abnormality diagnosis performed by the abnormality diagnosis apparatus according to the present invention. Reference numeral 2 denotes an abnormality diagnosis device that performs abnormality diagnosis of the plant 1 and is configured by a computer device. Reference numeral 21 denotes an actual plant data input unit for inputting measurement data (referred to as actual plant data) indicating the state of the plant output from a sensor (not shown) provided in the plant 1 during plant operation. It is. Reference numeral 22 denotes a database that stores actual plant data input by the actual plant data input unit 21 and is configured by a storage device. Reference numeral 23 denotes a PLS model determination unit that determines a PLS model from data stored in the database 22. Reference numeral 24 denotes a PLS model storage unit that stores the PLS model data determined by the PLS model determination unit 23. Reference numeral 25 denotes a PLS estimation processing unit that uses the PLS model data stored in the PLS model storage unit 24 to obtain and output an estimated value of the explained variable.

符号26は、PLS推定処理部25が出力する被説明変数推定値を記憶する被説明変数推定値記憶部である。符号27は、実プラントデータ入力部21に保持されている実プラントデータ(被説明変数)と、被説明変数推定値とを比較することにより異常判定を行う異常判定処理部である。符号28は、異常判定処理部27において異常発生と判定された場合に出力される異常発生警報情報を表示する表示部であり、ディスプレイ装置で構成する。表示部28には、音声によって警報発生を知らせるようにしてもよい。符号29は、異常判定処理部27において異常発生と判定された場合に、発生した異常の原因を解析して特定する異常原因解析部である。符号30は、異常原因解析部29が特定した説明変数を表示する表示部である。表示部30は、表示部28と兼用してもよい。   Reference numeral 26 denotes a explained variable estimated value storage unit that stores the explained variable estimated value output from the PLS estimation processing unit 25. Reference numeral 27 denotes an abnormality determination processing unit that performs an abnormality determination by comparing actual plant data (explained variable) held in the actual plant data input unit 21 with an explanatory variable estimated value. Reference numeral 28 denotes a display unit that displays abnormality occurrence alarm information that is output when the abnormality determination processing unit 27 determines that an abnormality has occurred, and is configured by a display device. The display unit 28 may be notified of the occurrence of an alarm by voice. Reference numeral 29 denotes an abnormality cause analysis unit that analyzes and identifies the cause of an abnormality that has occurred when the abnormality determination processing unit 27 determines that an abnormality has occurred. Reference numeral 30 denotes a display unit that displays the explanatory variables specified by the abnormality cause analysis unit 29. The display unit 30 may also be used as the display unit 28.

次に、図2を参照して、図1に示す異常診断装置2の処理動作を説明する。まず、実プラントデータ入力部21は、プラント1の実プラントデータを入力し(ステップS1)、データベース22に記憶する。ここでいう実プラントデータとは、プラント1内に備えられているセンサが出力する測定データのことであり、例えば、配管内の圧力を測定する圧力センサの測定値である。ここで、図3を参照して、図1に示すデータベース22のテーブル構造を説明する。データベース22は、図3に示すように、m個の測定点(センサの取付位置)について、時刻a1、a2、…、aNにおけるN個の時系列データから構成されて記憶される。図3において、xが各センサの測定値である。   Next, the processing operation of the abnormality diagnosis device 2 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. First, the actual plant data input unit 21 inputs actual plant data of the plant 1 (step S1) and stores it in the database 22. The actual plant data here is measurement data output from a sensor provided in the plant 1, and is, for example, a measurement value of a pressure sensor that measures a pressure in a pipe. Here, the table structure of the database 22 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the database 22 is configured and stored from N pieces of time series data at times a1, a2,..., AN for m measurement points (sensor mounting positions). In FIG. 3, x is a measured value of each sensor.

次に、PLSモデル決定部23は、データベース22に記憶されている複数の実プラントデータを、推定に使用する説明変数と推定する対象の被説明変数に分けることにより、PLSモデルを決定して、決定したPLSモデルデータをPLSモデル記憶部24へ記憶する(ステップS2)。被説明変数は、プラント1の生産物の品質や量に関するものを選択するのが望ましい。ここで、PLSモデル決定部23のPLSモデル決定処理について説明する。   Next, the PLS model determination unit 23 determines the PLS model by dividing the plurality of actual plant data stored in the database 22 into explanatory variables used for estimation and target explained variables to be estimated, The determined PLS model data is stored in the PLS model storage unit 24 (step S2). As the explained variable, it is desirable to select a variable related to the quality and quantity of the product of the plant 1. Here, the PLS model determination process of the PLS model determination unit 23 will be described.

今、Nを標本数(時系列データ数)、m、nをそれぞれ説明変数の数、被説明変数(=推定したい変数)の数とし、Xは説明変数のデータ行列(N×m;(1)式)、Yは被説明変数のデータ行列(N×n;(2)式)とする。

Figure 2010218301
なお、被説明変数Yと説明変数Xは標準化処理をされているものとする。 Now, N is the number of samples (the number of time-series data), m and n are the number of explanatory variables and the number of explained variables (= variable to be estimated), respectively, and X is a data matrix of explanatory variables (N × m; (1 ) Equation), Y is the data matrix of the explained variable (N × n; Equation (2)).
Figure 2010218301
It is assumed that the explained variable Y and the explanatory variable X have been standardized.

ここで、被説明変数Yは、説明変数Xと重回帰パラメータα(m×n行列)を使用して、(3)式のようにあらわせると仮定する。
Y=X・α ・・・(3)
ここで、Xにおけるm個の説明変数のうちある変数の間に共線性があるとする。このときαは最小二乗法では推定できない。そこで、Xの階層をr(rankX≦m)として、(4)式のように特異値分解できるものとする。

Figure 2010218301
(4)式のtはXXの特異点に対応した固有ベクトル(N次)、pはXXの特異点に対応した固有ベクトル(m次)である。 Here, it is assumed that the explained variable Y is represented by the equation (3) using the explanatory variable X and the multiple regression parameter α (m × n matrix).
Y = X · α (3)
Here, it is assumed that there is collinearity among certain variables among the m explanatory variables in X. At this time, α cannot be estimated by the method of least squares. Therefore, suppose that the hierarchy of X is r (rankX ≦ m), and the singular value decomposition can be performed as in equation (4).
Figure 2010218301
(4) eigenvector t is corresponding to singularity XX T of formula (N order), p is the eigenvector corresponding to the singular points of X T X (m order).

(3)式に(4)式を代入すると(5)式のようになる。

Figure 2010218301
ここまでの展開では、tはYから独立して決められるように見えるが、YとXの関係を考慮して決められる。 Substituting equation (4) into equation (3) yields equation (5).
Figure 2010218301
In the development so far, t seems to be determined independently of Y, but is determined in consideration of the relationship between Y and X.

各行列を次のようにまとめる。
T=(t ・・・ t);N×r次のスコア行列
P=(p ・・・ P);m×r次の負荷量行列
W=(W ・・・ W);m×r次の係数行列
Q=(q ・・・ q);n×r次の負荷量行列
Each matrix is summarized as follows.
T = (t 1 t 2 ... Tr ); N × r degree score matrix P = (p 1 p 2 ... P r ); m × r order load matrix W = (W 1 W 2 ... W r ); m × r degree coefficient matrix Q = (q 1 q 2 ... Q r ); n × r order load matrix

XのTによる特異値分解とスコア行列Tは(6)、(7)式のように表せる。
X=TP ・・・(6)
T=XW ・・・(7)
The singular value decomposition of X by T and the score matrix T can be expressed by the following equations (6) and (7).
X = TP T (6)
T = XW T (7)

よって、(6)、(7)式から(8)式のようになる。
T(PW)=XW ・・・(8)
Therefore, the equations (6) and (7) to (8) are obtained.
T (P T W) = XW ··· (8)

行列PWはその対角要素が全て1のr×r次の三角行列であり、正則なので逆行列が存在する。よって(9)式のようにスコア行列Tを求めることができる。
T=XW(PWT)−1 ・・・(9)
The matrix P T W is an r × r-order triangular matrix whose diagonal elements are all 1 and is regular, and therefore has an inverse matrix. Therefore, the score matrix T can be obtained as shown in Equation (9).
T = XW (P T WT) −1 (9)

一方、Y=TQ+Eであるから、(9)式を代入すると(10)式になる。
Y=XW(PW)−1+E ・・・(10)
On the other hand, since Y = TQ T + E, substituting equation (9) yields equation (10).
Y = XW (P T W) -1 Q T + E ··· (10)

よって、重回帰パラメータαは、(11)式のように表すことができる。
α=W(PW)−1
Therefore, the multiple regression parameter α can be expressed as in equation (11).
α = W (P T W) −1 Q T

(11)式の関係を満たす負荷量行列P、Q、係数行列Wを決定することが、PLSモデル決定処理である。   Determining the load matrixes P and Q and the coefficient matrix W satisfying the relationship of the expression (11) is a PLS model determination process.

また、過去から現在の説明変数から未来の被説明変数が推定可能なプロセスの場合(例えば現在から2時間前のデータから未来の被説明変数が推定可能な場合)は、動的PLSを採用すれば未来の被説明変数が推定できるので、異常を検知するという意味ではさらに好ましい。   In the case of a process in which a future explained variable can be estimated from the past explanatory variable from the past (for example, a future explained variable can be estimated from data two hours before the present), dynamic PLS is employed. Since it is possible to estimate future explained variables, it is more preferable in terms of detecting an abnormality.

次に、PLS推定処理部25は、PLSモデル記憶部24に記憶されているPLSモデルデータと、実プラントデータ入力部21に保持されているプラント1の実プラントデータの説明変数を使用して、被説明変数の推定処理を実施する(ステップS3)。この処理は(3)式、(11)式を使用すれば実施可能である。PLS推定処理部25は、被説明変数推定値を、被説明変数推定値記憶部26に記憶する。   Next, the PLS estimation processing unit 25 uses the explanatory variables of the PLS model data stored in the PLS model storage unit 24 and the actual plant data of the plant 1 held in the actual plant data input unit 21, An explanatory variable estimation process is performed (step S3). This processing can be performed by using equations (3) and (11). The PLS estimation processing unit 25 stores the explained variable estimated value in the explained variable estimated value storage unit 26.

次に、異常判定処理部27は、被説明変数推定値記憶部26に記憶されている推定被説明変数と、実プラントデータ入力部21に保持している測定被説明変数(実プラントデータ)を比較して異常を検知する処理を実施する(ステップS4)。この場合は、推定した被説明変数と測定した被説明変数との差の絶対値がある一定の値以上になった場合に異常とみなすものとする。この際の閾値は、被説明変数の標準偏差の数倍程度が好ましい。また、動的PLSを採用する場合は、未来の被説明変数を推定することが可能なので、推定した未来の被説明変数とプラントの警報閾値と比較する方法でも良い。異常判定処理部27は、異常が検知されたか否かを判定し(ステップS5)、異常が検知されなければ、ステップS1に戻り、処理を繰り返す。   Next, the abnormality determination processing unit 27 includes the estimated explained variable stored in the explained variable estimated value storage unit 26 and the measured explained variable (actual plant data) held in the actual plant data input unit 21. A process of detecting an abnormality by comparison is performed (step S4). In this case, when the absolute value of the difference between the estimated explained variable and the measured explained variable exceeds a certain value, it is regarded as abnormal. The threshold at this time is preferably about several times the standard deviation of the explained variable. Further, when dynamic PLS is employed, it is possible to estimate future explained variables, so a method of comparing the estimated future explained variables with a plant alarm threshold value may be used. The abnormality determination processing unit 27 determines whether or not an abnormality is detected (step S5). If no abnormality is detected, the process returns to step S1 and repeats the process.

一方、異常を検知した場合、異常判定処理部27は、異常が発生したことを示す警報情報を表示部28に表示する(ステップS6)ことによりオペレータに対して異常発生を知らせるとともに、異常原因解析部29に対して、異常が検知されたことを通知する。   On the other hand, when an abnormality is detected, the abnormality determination processing unit 27 displays alarm information indicating that an abnormality has occurred on the display unit 28 (step S6), thereby notifying the operator of the occurrence of the abnormality and analyzing the cause of the abnormality. The unit 29 is notified that an abnormality has been detected.

異常検知の通知を受けると、異常原因解析部29は、異常原因の解析を行う(ステップS7)。被説明変数の予測はY=TQで算出されるために、スコア行列Tと負荷量行列Qの積を分解し予測結果に大きく寄与している説明変数を解析によって求めれば、異常原因である説明変数を特定することができる。 Upon receiving the notification of abnormality detection, the abnormality cause analysis unit 29 analyzes the cause of the abnormality (step S7). Since the prediction of the explained variable is calculated as Y = TQ T , if the explanatory variable that greatly contributes to the prediction result is obtained by analyzing the product of the score matrix T and the load matrix Q T , the cause of the abnormality Certain explanatory variables can be identified.

ここで、異常原因解析部29が、スコア行列Tと負荷量行列QTの積の分解処理を行うことにより、予測結果に大きく寄与している説明変数を見つけ出す処理動作を説明する。   Here, the processing operation in which the abnormality cause analysis unit 29 finds the explanatory variable that greatly contributes to the prediction result by performing the decomposition processing of the product of the score matrix T and the load amount matrix QT will be described.

Nを標本数、rをXの階層、nを被説明変数の数として、TQを詳細に表現すれば、(12)式のようになる。

Figure 2010218301
When TQ T is expressed in detail, where N is the number of samples, r is the hierarchy of X, and n is the number of explained variables, equation (12) is obtained.
Figure 2010218301

ゆえに、上記N×n行列のij成分は(13)式のようになる。
(T・Qij=ti1j1+ti2j2 ・・・ +tirjr ・・・(13)
Therefore, the ij component of the N × n matrix is as shown in equation (13).
(T · Q T ) ij = t i1 q j1 + t i2 q j2 ... + T ir q jr (13)

一方、W・(PT)−1のm×r行列をまとめてZとして、(9)式を置き変えると、(14)次式のように展開できる。

Figure 2010218301
On the other hand, when the m × r matrix of W · (P T T) −1 is collectively set to Z and equation (9) is replaced, it can be expanded as shown in equation (14).
Figure 2010218301

今、(13)式の時刻hの推定値においてk列目の被説明変数の異常の原因を解析する場合、(15)式の要素うち、一番絶対値が大きなthrkrは潜在変数成分rをfとする。
hk=(TQhk=th1k1+th2k2 ・・・ +thrkr ・・・(15)
Now, when analyzing the cause of the abnormality of the explained variable in the k-th column in the estimated value at time h in equation (13), among the elements in equation (15), t hr q kr having the largest absolute value is a latent variable. Let component r be f.
Y hk = (TQ T ) hk = t h1 q k1 + t h2 q k2 ... + T hr q kr (15)

(14)式と(15)式より、thfを説明変数XとZ成分で(16)式のように表現できる。
hf=xh11f+xh22f ・・・+xhmmf ・・・(16)
From equation (14) and equation (15), htf can be expressed as equation (16) with explanatory variable X and Z component.
t hf = x h1 Z 1f + x h2 Z 2f ... + x hm Z mf (16)

(16)式において、大きなxhm・zmf成分におけるxhmが、推定値に大きく寄与している説明変数になる。推定値に大きく寄与している説明変数を特定すると、異常原因解析部29は、特定した説明変数を表示部30に表示することにより、オペレータに対して、異常原因候補を知らせる(ステップS8)。 (16) In the formula, x hm in a large x hm · z mf component becomes larger contribution to that described variable to estimate. When the explanatory variable that greatly contributes to the estimated value is specified, the abnormality cause analysis unit 29 displays the specified explanatory variable on the display unit 30, thereby notifying the operator of the abnormality cause candidate (step S8).

次に、図1に示す異常診断装置により、異常の発生の予測と、その異常の原因を特定する動作を実施した例について説明する。図4は、本発明による異常診断装置によって異常診断を行う対象プラントの系統図である。図4において、被説明変数は、製品ガスの純度を計測する純度センサの値である。説明変数は、系統内に設けられたセンサの測定値であり、図4に示す温度センサの出力である温度1〜3、流量センサの出力である流量1〜4、圧力センサの出力である圧力1〜5、液面センサの出力である液面1、2が相当する。このように、PLSモデルを決定し、図1に示す異常診断装置により、被説明変数(製品ガスの純度)を予測した結果を図5に示す。図5に示すように、時刻12時直前までは、予測値と実測値が良く合っている。しかし、12時の時点で、予測値が異常値を示し、異常を検知している。予測値は、2時間後の値を予測しているため、12時に異常を検知した予測値は、10時の時点で算出されていることになる。実測値は、15時から異常値を示すため、5時間前に異常を検知できることが分かる。   Next, an example will be described in which the abnormality diagnosis apparatus shown in FIG. 1 performs an operation for predicting the occurrence of an abnormality and identifying the cause of the abnormality. FIG. 4 is a system diagram of a target plant that performs abnormality diagnosis using the abnormality diagnosis apparatus according to the present invention. In FIG. 4, the explained variable is a value of a purity sensor that measures the purity of the product gas. The explanatory variables are measured values of sensors provided in the system. Temperatures 1 to 3 are output from the temperature sensor shown in FIG. 4, flow rates 1 to 4 are output from the flow sensor, and pressure is output from the pressure sensor. 1 to 5 and the liquid levels 1 and 2 which are the outputs of the liquid level sensor correspond. FIG. 5 shows the result of determining the PLS model and predicting the explained variable (product gas purity) by the abnormality diagnosis apparatus shown in FIG. As shown in FIG. 5, the predicted value and the actually measured value are in good agreement until immediately before 12:00. However, at 12 o'clock, the predicted value shows an abnormal value and an abnormality is detected. Since the predicted value predicts a value after 2 hours, the predicted value at which an abnormality is detected at 12:00 is calculated at the time of 10:00. Since the measured value shows an abnormal value from 15:00, it can be seen that the abnormality can be detected five hours ago.

図6は、異常原因解析部29が、12時における予測値の異常が説明変数の何処に起因するものであるかを解析して求めた結果を示す図である。図6に示すように、圧力4、圧力5、液面2及び圧力3の強度が高いことが分かる。図4を参照すると、この結果に寄与した各測定値の強度が高いのは、全て排ガス筒周辺の測定値であることが分かる。説明変数である圧力4、圧力5、液面2及び圧力3の値と、そのセンサ取付位置情報が表示部30に表示されることになる。オペレータは、この表示を目視することにより、異常が排ガス筒周辺で発生していることを知ることができる。   FIG. 6 is a diagram illustrating a result obtained by the abnormality cause analysis unit 29 by analyzing where the predicted value abnormality at 12:00 is caused by the explanatory variable. As shown in FIG. 6, it can be seen that the strengths of pressure 4, pressure 5, liquid level 2 and pressure 3 are high. Referring to FIG. 4, it can be seen that all the measured values contributing to this result have high intensities in the vicinity of the exhaust gas cylinder. Values of pressure 4, pressure 5, liquid level 2 and pressure 3, which are explanatory variables, and sensor mounting position information are displayed on the display unit 30. The operator can know that an abnormality has occurred around the exhaust gas cylinder by viewing this display.

以上説明したように、プラント内の測定対象を測定した測定値に基づいて回帰分析を行うことにより、異常検出対象の推定値を求め、この推定値を予め決められたしきい値と比較することにより異常発生を予測する異常診断装置において、異常検出対象の推定値に大きく寄与している測定値を特定し、特定された測定値の測定対象を特定して出力するようにしたため、プラント内異常が発生した場合の異常原因を特定することができる。これにより、プラント内に異常が発生した場合、迅速に異常回避措置をとることが可能になる。   As described above, the regression analysis is performed based on the measurement value obtained by measuring the measurement target in the plant, thereby obtaining the estimated value of the abnormality detection target and comparing the estimated value with a predetermined threshold value. In the abnormality diagnosis device that predicts the occurrence of an abnormality with the above, the measurement value that greatly contributes to the estimated value of the abnormality detection target is specified, and the measurement target of the specified measurement value is specified and output. It is possible to identify the cause of the abnormality when the error occurs. As a result, when an abnormality occurs in the plant, it is possible to quickly take an abnormality avoidance measure.

なお、図1における実プラントデータ入力部21、PLSモデル決定部23、PLS推定処理部25、異常判定処理部27及び異常原因解析部29の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより異常診断処理及び異常原因解析処理を行ってもよい。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、OSや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。また、「コンピュータシステム」は、ホームページ提供環境(あるいは表示環境)を備えたWWWシステムも含むものとする。また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、CD−ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムが送信された場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリ(RAM)のように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。   A computer-readable recording medium for realizing the functions of the actual plant data input unit 21, the PLS model determination unit 23, the PLS estimation processing unit 25, the abnormality determination processing unit 27, and the abnormality cause analysis unit 29 in FIG. The abnormality diagnosis process and the abnormality cause analysis process may be performed by causing the computer system to read the program recorded in the recording medium and executing the program. The “computer system” here includes an OS and hardware such as peripheral devices. The “computer system” includes a WWW system having a homepage providing environment (or display environment). The “computer-readable recording medium” refers to a storage device such as a flexible medium, a magneto-optical disk, a portable medium such as a ROM and a CD-ROM, and a hard disk incorporated in a computer system. Further, the “computer-readable recording medium” refers to a volatile memory (RAM) in a computer system that becomes a server or a client when a program is transmitted via a network such as the Internet or a communication line such as a telephone line. In addition, those holding programs for a certain period of time are also included.

また、上記プログラムは、このプログラムを記憶装置等に格納したコンピュータシステムから、伝送媒体を介して、あるいは、伝送媒体中の伝送波により他のコンピュータシステムに伝送されてもよい。ここで、プログラムを伝送する「伝送媒体」は、インターネット等のネットワーク(通信網)や電話回線等の通信回線(通信線)のように情報を伝送する機能を有する媒体のことをいう。また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであってもよい。さらに、前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル(差分プログラム)であってもよい。   The program may be transmitted from a computer system storing the program in a storage device or the like to another computer system via a transmission medium or by a transmission wave in the transmission medium. Here, the “transmission medium” for transmitting the program refers to a medium having a function of transmitting information, such as a network (communication network) such as the Internet or a communication line (communication line) such as a telephone line. The program may be for realizing a part of the functions described above. Furthermore, what can implement | achieve the function mentioned above in combination with the program already recorded on the computer system, what is called a difference file (difference program) may be sufficient.

1・・・化学プラント、2・・・異常診断装置、21・・・実プラントデータ入力部、22・・・データベース、23・・・PLSモデル決定部、24・・・PLSモデル記憶部、25・・・PLS推定処理部、26・・・被説明変数推定値記憶部、27・・・異常判定部、28・・・表示部、29・・・異常原因解析部、30・・・表示部   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chemical plant, 2 ... Abnormality diagnosis apparatus, 21 ... Actual plant data input part, 22 ... Database, 23 ... PLS model determination part, 24 ... PLS model memory | storage part, 25 ... PLS estimation processing unit, 26 ... explained variable estimated value storage unit, 27 ... abnormality determination unit, 28 ... display unit, 29 ... abnormality cause analysis unit, 30 ... display unit

Claims (3)

プラントの異常を診断するために、前記プラント内の測定対象を測定した測定値に基づいて回帰分析を行うことにより、異常検出対象の推定値を求め、該推定値を予め決められたしきい値と比較することにより異常発生を予測する異常診断装置であって、
前記異常検出対象の推定値に大きく寄与している前記測定値を特定する測定値特定手段を備えたことを特徴とする異常診断装置。
In order to diagnose a plant abnormality, a regression analysis is performed based on a measurement value obtained by measuring the measurement target in the plant, thereby obtaining an estimated value of the abnormality detection target, and the estimated value is determined by a predetermined threshold value. An abnormality diagnosis device that predicts the occurrence of an abnormality by comparing with
An abnormality diagnosing device comprising a measured value specifying means for specifying the measured value that greatly contributes to the estimated value of the abnormality detection target.
プラントの異常を診断するために、前記プラント内の測定対象を測定した測定値に基づいて回帰分析を行うことにより、異常検出対象の推定値を求め、該推定値を予め決められたしきい値と比較することにより異常発生を予測する異常診断装置における異常診断方法であって、
前記異常検出対象の推定値に大きく寄与している前記測定値を特定する測定値特定ステップを有することを特徴とする異常診断方法。
In order to diagnose a plant abnormality, a regression analysis is performed based on a measurement value obtained by measuring the measurement target in the plant, thereby obtaining an estimated value of the abnormality detection target, and the estimated value is determined by a predetermined threshold value. An abnormality diagnosis method in an abnormality diagnosis apparatus that predicts the occurrence of an abnormality by comparing with,
An abnormality diagnosis method comprising a measurement value specifying step of specifying the measurement value that greatly contributes to the estimated value of the abnormality detection target.
プラントの異常を診断するために、前記プラント内の測定対象を測定した測定値に基づいて回帰分析を行うことにより、異常検出対象の推定値を求め、該推定値を予め決められたしきい値と比較することにより異常発生を予測する異常診断装置上で動作する異常診断プログラムであって、
前記異常検出対象の推定値に大きく寄与している前記測定値を特定する測定値特定ステップをコンピュータに行わせることを特徴とする異常診断プログラム。
In order to diagnose a plant abnormality, a regression analysis is performed based on a measurement value obtained by measuring the measurement target in the plant, thereby obtaining an estimated value of the abnormality detection target, and the estimated value is determined by a predetermined threshold value. An abnormality diagnosis program that operates on an abnormality diagnosis device that predicts the occurrence of an abnormality by comparing with
An abnormality diagnosis program for causing a computer to perform a measurement value specifying step for specifying the measurement value that greatly contributes to the estimated value of the abnormality detection target.
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