WO2020071511A1 - Magnetism detection device, transmission line, and magnetism detection method - Google Patents

Magnetism detection device, transmission line, and magnetism detection method

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Abstract

This magnetism detection device 1 comprises a transmission line 10 that has a wire-like first conductor 11 including a magnetic material, a signal generator 30 that applies a pulse to the transmission line 10 as an incident wave, and a calculation device 20 that detects the incident wave and a reflected wave produced by an impedance difference at a magnetic field application position on the transmission line 10. The calculation device 20 calculates the position and intensity of a magnetic field applied to the transmission line 10 on the basis of the incident wave and reflected wave.

Description

磁気検出装置、伝送線路及び磁気検出方法Magnetic detection device, transmission line, and magnetic detection method 関連出願の相互参照Cross-reference of related applications
 本出願は、2018年10月5日に日本国に特許出願された特願2018-190387号及び2019年10月3日に日本国に特許出願された特願2019-182846号の優先権を主張するものであり、当該出願の開示全体を、ここに参照のために取り込む。 This application claims the priority of Japanese Patent Application No. 2018-190387 filed in Japan on October 5, 2018 and Japanese Patent Application No. 2019-182846 filed in Japan on Oct. 3, 2019. And the entire disclosure of that application is incorporated herein by reference.
 本開示は、磁気検出装置、伝送線路及び磁気検出方法に関する。 The present disclosure relates to a magnetic detection device, a transmission line, and a magnetic detection method.
 従来、磁界を検出することが可能な磁気検出装置が知られている。 Conventionally, a magnetic detection device capable of detecting a magnetic field has been known.
 例えば、特許文献1には、分布定数回路の内部に、磁界によって透磁率が変化する磁性体を配置する磁界検出装置が開示されている。この磁界検出装置は、磁性体の透磁率が磁界によって変化することに起因する分布定数回路内の電磁場分布の変化を検出することによって、所定の位置における磁界を検出することができる。 For example, Patent Document 1 discloses a magnetic field detection device in which a magnetic material whose magnetic permeability changes due to a magnetic field is arranged inside a distributed constant circuit. This magnetic field detection device can detect a magnetic field at a predetermined position by detecting a change in an electromagnetic field distribution in a distributed constant circuit caused by a change in the magnetic permeability of a magnetic substance due to a magnetic field.
特開平5-151535号公報JP-A-5-151535
 特許文献1に記載されている磁界検出装置は、所定の位置における磁界を検出することはできるが、分布定数回路の任意の位置において磁界の検出を行うことができないという課題があった。 (4) The magnetic field detection device described in Patent Document 1 can detect a magnetic field at a predetermined position, but cannot detect a magnetic field at an arbitrary position of a distributed constant circuit.
 そこで、本開示は、分布定数回路の任意の位置において磁界の検出を行うことが可能な磁気検出装置、伝送線路及び磁気検出方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present disclosure is to provide a magnetic detection device, a transmission line, and a magnetic detection method capable of detecting a magnetic field at an arbitrary position of a distributed constant circuit.
 幾つかの実施形態に係る磁気検出装置は、磁性材を含む線状の第1導体を備える伝送線路と、前記伝送線路に入射波としてパルスを入力する信号発生器と、前記伝送線路の磁界印加位置においてインピーダンス不整合により生じた反射波と、前記入射波とを検出する演算装置と、を備え、前記演算装置は、前記入射波と前記反射波とに基づいて、前記伝送線路に印加された磁界の位置及び強度を算出する。このような磁気検出装置によれば、分布定数回路の任意の位置において磁界の検出を行うことが可能である。 A magnetic detection device according to some embodiments includes a transmission line including a linear first conductor including a magnetic material, a signal generator configured to input a pulse as an incident wave to the transmission line, and a magnetic field applied to the transmission line. A reflected wave generated due to impedance mismatch at a position, and an arithmetic unit for detecting the incident wave, wherein the arithmetic unit is applied to the transmission line based on the incident wave and the reflected wave. Calculate the position and strength of the magnetic field. According to such a magnetic detection device, it is possible to detect a magnetic field at an arbitrary position in the distributed constant circuit.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記演算装置は、前記入射波を検出した時間と、前記反射波を検出した時間との差分に基づいて、前記伝送線路に印加された磁界の位置を算出してもよい。これにより、演算装置は、伝送線路に印加された磁界の位置を精度よく算出することができる。 In the magnetic detection device according to one embodiment, the arithmetic device calculates a position of the magnetic field applied to the transmission line based on a difference between a time when the incident wave is detected and a time when the reflected wave is detected. May be. Thereby, the arithmetic unit can accurately calculate the position of the magnetic field applied to the transmission line.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記演算装置は、前記反射波の振幅に基づいて、前記伝送線路に印加された磁界の強度を算出してもよい。これにより、演算装置は、伝送線路に印加された磁界の強度を精度よく算出することができる。 In the magnetic detection device according to one embodiment, the arithmetic device may calculate the strength of the magnetic field applied to the transmission line based on the amplitude of the reflected wave. Accordingly, the arithmetic device can calculate the strength of the magnetic field applied to the transmission line with high accuracy.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記演算装置は、前記伝送線路に磁界が印加されていない状態のデータをオフセットデータとして検出し、前記伝送線路に磁界が印加されている状態における反射波のデータから前記オフセットデータを引いた差分のデータを、磁界の位置及び強度を算出するための反射波のデータとして用いてもよい。これにより、演算装置は、伝送線路の構成要素の機械的な公差などにより生じた反射波の影響を低減することができる。 In the magnetic detection device according to one embodiment, the arithmetic unit detects data in a state where a magnetic field is not applied to the transmission line as offset data, and detects a reflected wave in a state where a magnetic field is applied to the transmission line. The difference data obtained by subtracting the offset data from the data may be used as reflected wave data for calculating the position and intensity of the magnetic field. Thereby, the arithmetic unit can reduce the influence of the reflected wave caused by the mechanical tolerance of the components of the transmission line.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記伝送線路は、誘電体と、第2導体と、をさらに備え、同軸ケーブル、平行二線路、ストリップ線路、マイクロストリップ線路、コプレーナ線路及び導波管のいずれかでよい。このように、伝送線路を同軸ケーブルとすることにより、伝送線路に柔軟性を持たせることができる。また、フレキシブル基板により平行二線路、ストリップ線路、マイクロストリップ線路、コプレーナ線路又は導波管を構成することにより、伝送線路に柔軟性を持たせることができる。 In the magnetic detection device according to one embodiment, the transmission line further includes a dielectric and a second conductor, and includes any one of a coaxial cable, a parallel two line, a strip line, a microstrip line, a coplanar line, and a waveguide. It may be. As described above, by using a coaxial cable as the transmission line, the transmission line can have flexibility. Further, the transmission line can be made flexible by forming two parallel lines, a strip line, a microstrip line, a coplanar line, or a waveguide using a flexible substrate.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記第1導体は、磁性材が略均一に分布する、又は、導体表面に磁性材を含む磁性膜が形成されていてもよい。第1導体において、導体表面に磁性材を含む磁性膜が形成されていることにより、ヒステリシスを生じにくくさせることができる。 に お い て In the magnetic detection device according to one embodiment, the first conductor may be such that a magnetic material is substantially uniformly distributed, or a magnetic film containing a magnetic material may be formed on the conductor surface. In the first conductor, since the magnetic film containing the magnetic material is formed on the conductor surface, it is possible to make it difficult for hysteresis to occur.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記伝送線路は、複数の前記第1導体を備えてもよい。このように、伝送線路が、複数の第1導体を備えることにより、伝送線路の抵抗損失を小さくすることができる。 に お い て In the magnetic detection device according to one embodiment, the transmission line may include a plurality of the first conductors. As described above, since the transmission line includes the plurality of first conductors, the resistance loss of the transmission line can be reduced.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記伝送線路にバイアス磁界を印加するコイルをさらに備えてもよい。このように、伝送線路にバイアス磁界を印加するコイルを備えることにより、正の磁界が印加されたか、負の磁界が印加されたかを判定することができる。 磁 気 The magnetic detection device according to one embodiment may further include a coil for applying a bias magnetic field to the transmission line. By providing the transmission line with the coil that applies the bias magnetic field, it is possible to determine whether a positive magnetic field is applied or a negative magnetic field is applied.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記パルスは、矩形波状、正弦波状、三角波状及び鋸波状のいずれかであってもよい。このように、信号発生器が生成するパルスは多様な形状とすることができる。 In the magnetic detection device according to one embodiment, the pulse may be any one of a rectangular wave, a sine wave, a triangle wave, and a sawtooth wave. Thus, the pulses generated by the signal generator can be of various shapes.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記信号発生器は、前記入射波として正弦波状のパルスを掃引して前記伝送線路に入力し、前記演算装置は、掃引して入力された前記入射波の周波数毎に、前記入射波に対する前記反射波の振幅及び位相差を取得し、前記入射波に対する前記反射波の前記振幅に基づいて反射率の周波数領域データを生成し、前記入射波に対する前記反射波の前記位相差に基づいて位相差の周波数領域データを生成し、前記反射率の周波数領域データ及び前記位相差の周波数領域データを逆フーリエ変換して前記反射波の時間領域データを生成し、前記伝送線路に印加された磁界の位置及び強度を算出してもよい。このように、入射波に対する反射波の振幅及び位相差に基づいて反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを生成することにより、入射波に揺らぎがあっても、揺らぎをキャンセルして入射波に対する反射波のベクトル比を検出することができる。従って、入射波のジッターを除去することができ、時間的な信号の揺らぎの無い、同期の取れた測定を行うことができる。
できる。
In the magnetic detection device according to one embodiment, the signal generator sweeps a sinusoidal pulse as the incident wave and inputs the pulse to the transmission line, and the arithmetic unit scans the incident wave that is input by sweeping. For each frequency, obtain the amplitude and phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave, generate frequency domain data of reflectance based on the amplitude of the reflected wave with respect to the incident wave, and generate the reflected wave with respect to the incident wave Generating frequency domain data of the phase difference based on the phase difference, generating the time domain data of the reflected wave by performing an inverse Fourier transform of the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference, The position and intensity of the magnetic field applied to the transmission line may be calculated. As described above, by generating the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference based on the amplitude and the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave, even if the incident wave fluctuates, the fluctuation is canceled. The vector ratio of the reflected wave to the incident wave can be detected. Accordingly, the jitter of the incident wave can be removed, and a synchronized measurement without fluctuation of the signal over time can be performed.
it can.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記信号発生器は、前記正弦波状のパルスを掃引して前記伝送線路に入力し、前記演算装置は、前記反射率の周波数領域データ及び前記位相差の周波数領域データを逆フーリエ変換してインパルス応答として前記反射波の時間領域データを生成するか、又は、逆フーリエ変換された前記反射率の周波数領域データ及び前記位相差の周波数領域データを積分してステップ応答として前記反射波の時間領域データを生成してもよい。このように、インパルス応答又はステップ応答として反射波の時間領域データを生成することにより、伝送線路に印加された磁界の強度の位置及び強度を精度よく算出することができる。 In the magnetic detection device according to one embodiment, the signal generator sweeps the sine wave pulse and inputs the sine wave pulse to the transmission line, and the arithmetic device calculates the frequency domain data of the reflectance and the frequency of the phase difference. Either generate time domain data of the reflected wave as an impulse response by performing an inverse Fourier transform of the domain data, or integrate the frequency domain data of the reflectivity and the frequency domain data of the phase difference subjected to the inverse Fourier transform. Time domain data of the reflected wave may be generated as a response. As described above, by generating the time domain data of the reflected wave as the impulse response or the step response, the position and the intensity of the magnetic field applied to the transmission line can be accurately calculated.
 一実施形態に係る磁気検出装置において、前記信号発生器は、前記正弦波状のパルスを掃引して前記伝送線路に入力し、前記演算装置は、前記反射率の周波数領域データ及び前記位相差の周波数領域データについて畳み込み積分処理を行って、逆フーリエ変換を行い、ステップ応答として前記反射波の時間領域データを生成してもよい。このように、畳み込み積分処理を行うことにより、逆フーリエ変換をしてから積分処理をする場合に比べて、計算にかかる時間を低減することができる。 In the magnetic detection device according to one embodiment, the signal generator sweeps the sine wave pulse and inputs the sine wave pulse to the transmission line, and the arithmetic device calculates the frequency domain data of the reflectance and the frequency of the phase difference. A convolution integral process may be performed on the domain data to perform an inverse Fourier transform, and time domain data of the reflected wave may be generated as a step response. As described above, by performing the convolution integration processing, the time required for the calculation can be reduced as compared with the case where the integration processing is performed after performing the inverse Fourier transform.
 幾つかの実施形態に係る伝送線路は、磁界の検出に使用される伝送線路であって、磁性材が略均一に分布する、又は、導体表面に磁性材を含む磁性膜が形成されている信号線を備える。このような伝送線路を用いることにより、分布定数回路の任意の位置において磁界の検出を行うことが可能である。 A transmission line according to some embodiments is a transmission line used for detecting a magnetic field, in which a magnetic material is substantially uniformly distributed, or a signal in which a magnetic film including a magnetic material is formed on a conductor surface. With lines. By using such a transmission line, it is possible to detect a magnetic field at an arbitrary position of the distributed constant circuit.
 幾つかの実施形態に係る磁気検出方法は、磁性材を含む線状の第1導体を備える伝送線路と、信号発生器と、演算装置と、を備える磁気検出装置における磁気検出方法であって、前記信号発生器が、前記伝送線路に入射波としてパルスを入力するステップと、前記演算装置が、前記伝送線路の磁界印加位置においてインピーダンス不整合により生じた反射波と、前記入射波とを検出するステップと、前記演算装置が、前記入射波と前記反射波とに基づいて、前記伝送線路に印加された磁界の位置及び強度を算出するステップと、を含む。このような磁気検出方法によれば、分布定数回路の任意の位置において磁界の検出を行うことが可能である。 A magnetic detection method according to some embodiments is a magnetic detection method in a magnetic detection device including a transmission line including a linear first conductor including a magnetic material, a signal generator, and an arithmetic device, The signal generator inputs a pulse as an incident wave to the transmission line, and the arithmetic unit detects a reflected wave caused by impedance mismatch at a magnetic field application position of the transmission line and the incident wave. And calculating the position and intensity of the magnetic field applied to the transmission line based on the incident wave and the reflected wave. According to such a magnetic detection method, it is possible to detect a magnetic field at an arbitrary position in the distributed constant circuit.
一実施形態に係る磁気検出装置の概略構成を示す図である。It is a figure showing the schematic structure of the magnetic sensing device concerning one embodiment. 一実施形態に係る伝送線路の概略構成を示す図である。It is a figure showing the schematic structure of the transmission line concerning one embodiment. 図1の磁気検出装置において磁界を検出する様子を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing how a magnetic field is detected by the magnetic detection device of FIG. 1. 伝送線路を分布定数回路として表した様子を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a state in which a transmission line is represented as a distributed constant circuit. 演算装置が検出する入射波と反射波の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of an incident wave and a reflected wave detected by the arithmetic device. 伝送線路に印加された磁界と反射波の振幅との関係を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a relationship between a magnetic field applied to a transmission line and an amplitude of a reflected wave. 伝送線路における入射波の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of an incident wave in a transmission line. 伝送線路における入射波と反射波の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of an incident wave and a reflected wave in a transmission line. 伝送線路における入射波と反射波の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of an incident wave and a reflected wave in a transmission line. 伝送線路における入射波の他の例を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating another example of an incident wave in a transmission line. 伝送線路における入射波と反射波の他の例を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating another example of the incident wave and the reflected wave in the transmission line. 伝送線路における入射波と反射波の他の例を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating another example of the incident wave and the reflected wave in the transmission line. 同軸ケーブルとして構成された伝送線路の概略構成の他の例を示す図である。It is a figure showing other examples of a schematic structure of a transmission line constituted as a coaxial cable. 同軸ケーブルとして構成された伝送線路の概略構成の他の例を示す図である。It is a figure showing other examples of a schematic structure of a transmission line constituted as a coaxial cable. 同軸ケーブルとして構成されていない伝送線路の例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a transmission line that is not configured as a coaxial cable. 同軸ケーブルとして構成されていない伝送線路の例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a transmission line that is not configured as a coaxial cable. 同軸ケーブルとして構成されていない伝送線路の例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a transmission line that is not configured as a coaxial cable. 同軸ケーブルとして構成されていない伝送線路の例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a transmission line that is not configured as a coaxial cable. 伝送線路の周りに配置されたコイルによってバイアス磁界が印加されている様子を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a state where a bias magnetic field is applied by a coil arranged around a transmission line. バイアス磁界が印加された状態における磁界と反射波の振幅との関係を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a relationship between a magnetic field and an amplitude of a reflected wave in a state where a bias magnetic field is applied. 他の実施形態に係る磁気検出装置の概略構成を示す図である。It is a figure showing the schematic structure of the magnetic sensing device concerning other embodiments. 図13の磁気検出装置において磁界を検出する様子を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing how a magnetic field is detected by the magnetic detection device of FIG. 13. 図13の磁気検出装置における入射波の一例を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an example of an incident wave in the magnetic detection device in FIG. 13. 図13の磁気検出装置における入射波の振幅の一例を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an example of an amplitude of an incident wave in the magnetic detection device in FIG. 13. 図13の磁気検出装置における入射波に対する反射波の反射率の一例を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a reflectance of a reflected wave with respect to an incident wave in the magnetic detection device of FIG. 13. 図13の磁気検出装置における入射波に対する反射波の位相差の一例を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a phase difference between a reflected wave and an incident wave in the magnetic detection device in FIG. 13. 反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを反射波の時間領域データに変換した場合の一例を示す図である。It is a figure showing an example when frequency domain data of a reflectance and frequency domain data of a phase difference are converted into time domain data of a reflected wave. 反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを反射波の時間領域データに変換した場合の一例を示す図である。It is a figure showing an example when frequency domain data of a reflectance and frequency domain data of a phase difference are converted into time domain data of a reflected wave. 反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを反射波の時間領域データに変換した場合の一例を示す図である。It is a figure showing an example when frequency domain data of a reflectance and frequency domain data of a phase difference are converted into time domain data of a reflected wave.
 以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
 なお、本明細書の説明においては、磁界に関する用語を以下のような意味で用いる。
 「磁界」:被測定磁界(外部磁界)、環境磁界及びバイアス磁界などを含む総称。
 「所定(任意)の位置における磁界」:外部磁界及び環境磁界を含む磁界。
 「外部磁界(伝送線路に印加された磁界)」:初期状態にはなく外部から伝送線路に印加される磁界であって、磁石等により生成される磁界。
 「環境磁界」:初期状態から伝送線路に印加されている磁界であって、地磁気又は他の電子機器などから発生する磁界。すなわち、外部磁界を測定する際に雑音となる磁界。
 「バイアス磁界」:センサ出力に極性を付加したり、直線性を良くしたりするために、コイルなどを用いてセンサに予め印加する磁界。
In the description of this specification, terms relating to a magnetic field are used in the following meaning.
"Magnetic field": A generic term including a magnetic field to be measured (external magnetic field), an environmental magnetic field, a bias magnetic field, and the like.
"A magnetic field at a predetermined (arbitrary) position": a magnetic field including an external magnetic field and an environmental magnetic field.
“External magnetic field (magnetic field applied to transmission line)”: a magnetic field that is not in the initial state but is applied to the transmission line from outside and is generated by a magnet or the like.
“Environmental magnetic field”: a magnetic field applied to a transmission line from an initial state, and is a magnetic field generated from terrestrial magnetism or other electronic devices. That is, a magnetic field that becomes noise when measuring an external magnetic field.
"Bias magnetic field": a magnetic field previously applied to a sensor using a coil or the like in order to add polarity to the sensor output or improve linearity.
 図1は、一実施形態に係る磁気検出装置1の概略構成を示す図である。磁気検出装置1は、伝送線路10と、演算装置20と、信号発生器30と、コネクタ40と、終端抵抗50とを備える。 FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a magnetic detection device 1 according to one embodiment. The magnetic detection device 1 includes a transmission line 10, a calculation device 20, a signal generator 30, a connector 40, and a terminating resistor 50.
 伝送線路10は、線状の伝送線路である。伝送線路10は、所定の特性インピーダンスを有する。伝送線路10は、例えば、同軸ケーブル又はFPC(Flexible Printed Circuits)等として構成してよい。同軸ケーブル又はFPCとして構成することにより、伝送線路10は、柔軟性を有することができ、容易に曲げることが可能となる。伝送線路10は、柔軟性を有することにより、測定対象の形状に合わせて自由に設置することができる。 The transmission line 10 is a linear transmission line. The transmission line 10 has a predetermined characteristic impedance. The transmission line 10 may be configured as, for example, a coaxial cable or FPC (Flexible Printed Circuits). By configuring as a coaxial cable or an FPC, the transmission line 10 can have flexibility and can be easily bent. Since the transmission line 10 has flexibility, it can be freely installed according to the shape of the measurement target.
 伝送線路10の一端はコネクタ40に接続されており、他端は終端抵抗50に接続されている。伝送線路10は、他端が終端抵抗50に接続されているため、信号発生器30からコネクタ40を介して入力される入射波に対して、ほとんど反射波を生じさせない。伝送線路10の他端は、終端抵抗50の代わりにアッテネータ(減衰器)に接続されていてもよい。 一端 One end of the transmission line 10 is connected to the connector 40, and the other end is connected to the terminating resistor 50. Since the other end of the transmission line 10 is connected to the terminating resistor 50, almost no reflected wave is generated with respect to the incident wave input from the signal generator 30 via the connector 40. The other end of the transmission line 10 may be connected to an attenuator (attenuator) instead of the terminating resistor 50.
 伝送線路10が同軸ケーブルとして構成されている場合の一例を、図2を参照して説明する。図2に示すように、伝送線路10は、第1導体(信号線)11と、誘電体12と、第2導体(シールド線)13と、被覆14とを備える。 An example in which the transmission line 10 is configured as a coaxial cable will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, the transmission line 10 includes a first conductor (signal line) 11, a dielectric 12, a second conductor (shield line) 13, and a coating 14.
 第1導体11は、磁性材を含む線状の導体である。第1導体11は、少なくとも表面に磁性材を含んでいればよいが、図2に示す例においては、第1導体11は、略均一に分布した磁性材を含んでいる。 The first conductor 11 is a linear conductor containing a magnetic material. The first conductor 11 only needs to include a magnetic material on at least the surface, but in the example shown in FIG. 2, the first conductor 11 includes a magnetic material that is distributed substantially uniformly.
 第1導体11は、保持力が小さく透磁率が高い軟磁性材を含んでよい。第1導体11は、例えば、アモルファス合金又はパーマロイを含んでよい。 The first conductor 11 may include a soft magnetic material having a small coercive force and a high magnetic permeability. The first conductor 11 may include, for example, an amorphous alloy or permalloy.
 アモルファス合金及びパーマロイは、高透磁率の磁性材を含む。そのため、第1導体11を備える伝送線路10は、周方向透磁率及び軸方向透磁率が高くなる。周方向透磁率及び軸方向透磁率が高いため、伝送線路10は、外部磁界が印加されると、第1導体11表面における磁気インピーダンス効果及び第1導体11内部の磁化(磁壁移動)の効果のいずれか一方の効果、又は、両方の効果により、インピーダンスが変化する。 Amorphous alloys and permalloys include magnetic materials with high magnetic permeability. Therefore, the transmission line 10 including the first conductor 11 has high circumferential magnetic permeability and high axial magnetic permeability. Since the circumferential magnetic permeability and the axial magnetic permeability are high, when an external magnetic field is applied, the transmission line 10 has the effect of the magnetic impedance effect on the surface of the first conductor 11 and the effect of the magnetization (domain wall movement) inside the first conductor 11. The impedance changes due to one or both effects.
 例えば、原子が不規則に配列したアモルファス合金は、Fe基アモルファス合金であるFe-Co-Si-B合金(Feリッチ)、Fe-Si-B-C系合金、Fe-Si-B系合金、Fe-Si-B-Nb-Cu系合金、又はFe-P-B系合金などであってよい。また、アモルファス合金は、Co基アモルファス合金であるFe-Co-Si-B系合金(Coリッチ)、Co-Fe-Cr-Si-B系合金、又はCo-Fe-Mn-Cr-Si-B系合金などであってよい。また、アモルファス合金は、Ni基アモルファス合金であってよい。 For example, amorphous alloys in which atoms are randomly arranged include Fe-based amorphous alloys such as Fe-Co-Si-B alloys (Fe-rich), Fe-Si-BC alloys, Fe-Si-B alloys, and Fe-Si-B alloys. It may be a Si-B-Nb-Cu-based alloy or an Fe-PB-based alloy. Further, the amorphous alloy is a Co-based amorphous alloy such as a Fe-Co-Si-B alloy (Co-rich), a Co-Fe-Cr-Si-B alloy, or a Co-Fe-Mn-Cr-Si-B alloy. A system alloy may be used. Further, the amorphous alloy may be a Ni-based amorphous alloy.
 例えば、Fe及びNiを主成分とした合金であるパーマロイは、Ni含有量78.5%の78-パーマロイ(JIS規格:パーマロイA)、Ni含有量45%(40~50%)の45-パーマロイ(JIS規格:パーマロイB)、又は78-パーマロイにMo、Cu若しくはCrなどを添加したパーマロイ(JIS規格:パーマロイC)などであってよい。 For example, permalloy, which is an alloy mainly composed of Fe and Ni, is 78-permalloy having a Ni content of 78.5% (JIS standard: Permalloy A), and 45-permalloy having a Ni content of 45% (40 to 50%). (JIS standard: Permalloy B) or permalloy obtained by adding Mo, Cu, Cr or the like to 78-permalloy (JIS standard: Permalloy C).
 パーマロイの体積抵抗率は、68μΩcm程度である。これは、銅の体積抵抗率1.68μΩcmの40倍以上の体積抵抗率である。 体積 The volume resistivity of Permalloy is about 68 μΩcm. This is 40 times or more the volume resistivity of copper, which is 1.68 μΩcm.
 第1導体11は、アモルファス合金及びパーマロイ以外の他の軟磁性材として、Fe-Si-Al系合金(例えばセンダスト)、Fe-Co系合金(例えばパーメンジュール)、Mn-Zn系合金若しくはNi-Zn系合金(例えばソフトフェライト)、又はFe-Si系合金(例えば珪素鋼若しくは電磁鋼)などを含んでよい。 The first conductor 11 is made of an Fe—Si—Al alloy (eg, Sendust), an Fe—Co alloy (eg, permendur), a Mn—Zn alloy, or a Ni—Al—alloy other than an amorphous alloy and permalloy. It may include a -Zn-based alloy (for example, soft ferrite) or an Fe-Si-based alloy (for example, silicon steel or electromagnetic steel).
 伝送線路10に印加される磁界が10[Oe(エルステッド)]程度の比較的大きい磁界である場合、第1導体11は、Fe、Ni又はCoなどの単金属を磁性材として含んでよい。 When the magnetic field applied to the transmission line 10 is a relatively large magnetic field of about 10 [Oe (Oersted)], the first conductor 11 may include a single metal such as Fe, Ni, or Co as a magnetic material.
 第1導体11は、ナノ結晶粒をアモルファス相に分散させたナノ結晶軟磁性材を含んでよい。 The first conductor 11 may include a nanocrystalline soft magnetic material in which nanocrystalline grains are dispersed in an amorphous phase.
 誘電体12は、円筒状の形状であり、第1導体11を覆う。誘電体12は、例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)又はポリエチレンなどの絶縁物であってよい。 The dielectric 12 has a cylindrical shape and covers the first conductor 11. The dielectric 12 may be, for example, an insulator such as PTFE (polytetrafluoroethylene) or polyethylene.
 第2導体13は、円筒状の形状であり、誘電体12を覆う。第2導体13は、例えば、銅線によって構成される網組線であってよい。 The second conductor 13 has a cylindrical shape and covers the dielectric 12. The second conductor 13 may be, for example, a braided wire composed of a copper wire.
 被覆14は、円筒状の形状であり、第2導体13を覆う。被覆14は、内部に収容されている第1導体11、誘電体12及び第2導体13を保護する。 The coating 14 has a cylindrical shape and covers the second conductor 13. The coating 14 protects the first conductor 11, the dielectric 12, and the second conductor 13 housed therein.
 第1導体11、誘電体12、第2導体13及び被覆14は、柔軟性を有する材料で構成されてよい。これにより、伝送線路10は、柔軟性を有することができる。 The first conductor 11, the dielectric 12, the second conductor 13, and the coating 14 may be made of a flexible material. Thereby, the transmission line 10 can have flexibility.
 演算装置20は、信号発生器30からコネクタ40を介して入力される電圧パルス(以下、単に「パルス」とも称する)を、入射波として検出する。演算装置20は、伝送線路10からコネクタ40を介して入力されるパルスを、反射波として検出する。伝送線路10において発生する反射波の詳細については後述する。 The arithmetic unit 20 detects a voltage pulse (hereinafter, also simply referred to as a “pulse”) input from the signal generator 30 via the connector 40 as an incident wave. The arithmetic unit 20 detects a pulse input from the transmission line 10 via the connector 40 as a reflected wave. Details of the reflected wave generated in the transmission line 10 will be described later.
 演算装置20は、図1に示すように、入力回路21と、ADコンバータ(ADC)22と、制御部23と、メモリ24とを備える。 The arithmetic unit 20 includes an input circuit 21, an AD converter (ADC) 22, a control unit 23, and a memory 24, as shown in FIG.
 入力回路21は、信号発生器30からコネクタ40を介して入力される入射波を検出する。入力回路21は、伝送線路10からコネクタ40を介して入力される反射波を検出する。入力回路21は、減衰回路及びプリアンプなどを含む。入力回路21は、アナログ信号として入力される入射波及び反射波の振幅がADコンバータ22の入力仕様に対し適切な範囲になるように調整して、振幅調整後のアナログ信号をADコンバータ22に出力する。 The input circuit 21 detects an incident wave input from the signal generator 30 through the connector 40. The input circuit 21 detects a reflected wave input from the transmission line 10 via the connector 40. The input circuit 21 includes an attenuation circuit, a preamplifier, and the like. The input circuit 21 adjusts the amplitude of the incident wave and the reflected wave input as an analog signal so as to be in a range appropriate for the input specification of the AD converter 22, and outputs the analog signal after the amplitude adjustment to the AD converter 22. I do.
 ADコンバータ22は、入力回路21から受け取ったアナログ信号をデジタルデータに変換して、制御部23に出力する。 The AD converter 22 converts an analog signal received from the input circuit 21 into digital data and outputs the digital data to the control unit 23.
 制御部23は、演算装置20の各構成部を制御する。制御部23は、例えばCPU(Central Processing Unit)などのプロセッサとして構成されてよい。制御部23の機能の詳細については後述する。 The control unit 23 controls each component of the arithmetic device 20. The control unit 23 may be configured as a processor such as a CPU (Central Processing Unit), for example. Details of the function of the control unit 23 will be described later.
 メモリ24は、制御部23に接続されている。メモリ24は、例えば、HDD(Hard Disk Drive)、SSD(Solid State Drive)、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)、ROM(Read-Only Memory)、及びRAM(Random Access Memory)等の任意の記憶装置を有する。メモリ24は、例えば主記憶装置、補助記憶装置、又はキャッシュメモリとして機能してもよい。メモリ24は、演算装置20に内蔵されるものに限定されず、USB(Universal Serial Bus)等のデジタル入出力ポート等によって接続された外付け型の記憶装置であってもよい。 The memory 24 is connected to the control unit 23. The memory 24 includes, for example, an HDD (Hard Disk Drive), an SSD (Solid State Drive), an EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory, and a ROM (Read-Only Memory), a ROM (Read-Only Memory), and a ROM (Read-Only Memory). It has a storage device. The memory 24 may function as, for example, a main storage device, an auxiliary storage device, or a cache memory. The memory 24 is not limited to the one built in the arithmetic device 20, and may be an external storage device connected via a digital input / output port such as a USB (Universal Serial Bus).
 信号発生器30は、電圧パルスを生成する。信号発生器30は、コネクタ40に接続されている。信号発生器30が生成したパルスは、コネクタ40を介して、入射波として伝送線路10に入力される。また、信号発生器30が生成したパルスは、コネクタ40において分岐され、演算装置20に入力される。 The signal generator 30 generates a voltage pulse. The signal generator 30 is connected to the connector 40. The pulse generated by the signal generator 30 is input to the transmission line 10 via the connector 40 as an incident wave. The pulse generated by the signal generator 30 is branched at the connector 40 and input to the arithmetic unit 20.
 信号発生器30は、パルスとして、短パルス又は立ち上がり時間が高速なパルスを生成してよい。このようなパルスとすることで、演算装置20が複数の反射波を検出する場合、複数の反射波を分離することが容易となる。また、このようなパルスとすることで、信号発生器30の消費電力を低減することができる。 The signal generator 30 may generate a short pulse or a pulse with a fast rise time as a pulse. With such a pulse, when the arithmetic device 20 detects a plurality of reflected waves, it becomes easy to separate the plurality of reflected waves. Further, by using such a pulse, the power consumption of the signal generator 30 can be reduced.
 信号発生器30が生成するパルスは、特に限定しないが、例えば、立ち上がり時間が200[ps]、パルス幅が500[ps]、パルス高さが1[V]などであってよい。 The pulse generated by the signal generator 30 is not particularly limited. For example, the rise time may be 200 [ps], the pulse width may be 500 [ps], and the pulse height may be 1 [V].
 信号発生器30が生成するパルスは、任意の形状であってよい。信号発生器30が生成するパルスは、例えば、矩形波状、正弦波状、三角波状、又は鋸波状などであってよい。 The pulse generated by the signal generator 30 may have any shape. The pulse generated by the signal generator 30 may be, for example, rectangular, sinusoidal, triangular, or sawtooth.
 コネクタ40は、伝送線路10と、演算装置20と、信号発生器30とを相互に接続する。コネクタ40は、例えば、T型コネクタであってよい。 The connector 40 connects the transmission line 10, the arithmetic unit 20, and the signal generator 30 to each other. The connector 40 may be, for example, a T-type connector.
 図3を参照して、伝送線路10に磁界が印加された場合に、磁気検出装置1が、伝送線路10上の磁界印加位置を検出する様子を説明する。図3に示す例においては、伝送線路10の近傍に磁石60が配置され、磁石60が生成する磁界強度Hexの外部磁界が、伝送線路10に印加されている。 With reference to FIG. 3, a state where the magnetic detection device 1 detects a magnetic field application position on the transmission line 10 when a magnetic field is applied to the transmission line 10 will be described. In the example shown in FIG. 3, a magnet 60 is arranged near the transmission line 10, and an external magnetic field having a magnetic field strength Hex generated by the magnet 60 is applied to the transmission line 10.
 伝送線路10は、磁界強度Hexの外部磁界が印加されると、磁界が印加されている磁界印加位置において、磁気インピーダンス効果によりインピーダンスが変化する。以下、磁気インピーダンス効果について説明する。 When an external magnetic field having a magnetic field strength Hex is applied, the impedance of the transmission line 10 changes due to the magnetic impedance effect at the magnetic field application position where the magnetic field is applied. Hereinafter, the magnetic impedance effect will be described.
 伝送線路10は、図4に示すように、等価な分布定数回路として表すことができる。図4において、Lは、第1導体11の単位長さ辺りのインダクタンス成分である。Rは、第1導体11の単位長さ辺りの抵抗成分である。Cは、第1導体11と第2導体13との間の単位長さ辺りの容量成分である。 (4) The transmission line 10 can be represented as an equivalent distributed constant circuit as shown in FIG. In FIG. 4, L is an inductance component of the first conductor 11 per unit length. R is a resistance component of the first conductor 11 per unit length. C is a capacitance component per unit length between the first conductor 11 and the second conductor 13.
 伝送線路10は、磁界強度Hexの外部磁界が印加されると、磁界が印加されている磁界印加位置において、第1導体11の抵抗成分Rとインダクタンス成分Lとが変化する。 When an external magnetic field having a magnetic field strength Hex is applied to the transmission line 10, the resistance component R and the inductance component L of the first conductor 11 change at the magnetic field application position where the magnetic field is applied.
 伝送線路10の第1導体11は、信号発生器30からパルスが入力されると、周方向において一方向に磁化される。ここで、周方向とは、伝送線路10が延びている方向を軸方向とすると、当該軸方向を中心として回転する方向である。この状態において、図3に示すように、伝送線路10の軸方向に磁界強度Hexの外部磁界が印加されると、周方向に誘起された磁気モーメントが磁界強度Hexの外部磁界の印加された方向に沿って回転する。 When a pulse is input from the signal generator 30, the first conductor 11 of the transmission line 10 is magnetized in one direction in the circumferential direction. Here, the circumferential direction is a direction in which the direction in which the transmission line 10 extends is defined as an axial direction and rotates around the axial direction. In this state, when an external magnetic field having a magnetic field strength H ex is applied in the axial direction of the transmission line 10 as shown in FIG. 3, the magnetic moment induced in the circumferential direction is applied to the external magnetic field having the magnetic field strength H ex. Rotate along the direction.
 この磁気モーメントの回転により、第1導体11の周方向の透磁率が変化する。伝送線路10のインピーダンスは第1導体11の周方向の透磁率に依存するため、磁界印加位置における第1導体11の周方向の透磁率が変化すると、磁界印加位置における伝送線路10のインピーダンスが変化する。 (4) Due to the rotation of the magnetic moment, the magnetic permeability of the first conductor 11 in the circumferential direction changes. Since the impedance of the transmission line 10 depends on the magnetic permeability of the first conductor 11 in the circumferential direction, if the magnetic permeability of the first conductor 11 at the magnetic field application position changes, the impedance of the transmission line 10 at the magnetic field application position changes. I do.
 磁気インピーダンス効果は、表皮効果が顕著な場合(表皮の深さδ<<第1導体11の半径a)に、以下の数式(1)で表される。 The magnetic impedance effect is expressed by the following equation (1) when the skin effect is remarkable (skin depth δ << radius a of the first conductor 11).
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 ここで、Zは伝送線路10のインピーダンス、ωはパルスを正弦波として近似したときの角周波数、aは第1導体11の半径、ρは第1導体11の電気抵抗率、RDCは直流抵抗、μは第1導体11の周方向の透磁率、Hexは伝送線路10に印加されている外部磁界の磁界強度である。ωについてより詳細に説明すると、パルス波形は正弦波の-T/2~T/2(Tは正弦波の周期)の時間幅の波形で近似できる。この際、ピークの電圧の高さがVのパルスは、振幅がV/2の正弦波にV/2のオフセットが加わった波形となる。そのため、パルスの立ち上がり時間t≒T/2=1/(2f)となり、角周波数ω=2πfとなる。なお、パルスを正弦波として近似するのは一例であり、他の波形で近似してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
Here, Z is the impedance of the transmission line 10, ω is the angular frequency when a pulse is approximated as a sine wave, a is the radius of the first conductor 11, ρ is the electrical resistivity of the first conductor 11, and R DC is the DC resistance. , Μ is the magnetic permeability of the first conductor 11 in the circumferential direction, and H ex is the magnetic field strength of the external magnetic field applied to the transmission line 10. To explain ω in more detail, the pulse waveform can be approximated by a sine wave having a time width of −T / 2 to T / 2 (T is the period of the sine wave). At this time, the pulse whose peak voltage is V has a waveform obtained by adding a V / 2 offset to a sine wave having an amplitude of V / 2. Therefore, the rise time of the pulse t r ≒ T / 2 = 1 / (2f) , and becomes an angular frequency omega = 2 [pi] f. The approximation of a pulse as a sine wave is an example, and may be approximated by another waveform.
 数式(1)を参照すると、第1導体11の周方向の透磁率μが変化すると、インダクタンス成分Lだけでなく、抵抗成分Rも変化することがわかる。 Referring to equation (1), it can be seen that when the magnetic permeability μ of the first conductor 11 in the circumferential direction changes, not only the inductance component L but also the resistance component R changes.
 図3に示すように伝送線路10に磁石60によって磁界強度Hexの外部磁界が印加されていると、磁界印加位置において、伝送線路10のインピーダンスが変化する。そのため、この状態で、信号発生器30から伝送線路10に入射波としてパルスが入力されると、磁界印加位置におけるインピーダンス不整合により、磁界印加位置において反射波が発生する。 As shown in FIG. 3, when an external magnetic field having a magnetic field strength Hex is applied to the transmission line 10 by the magnet 60, the impedance of the transmission line 10 changes at the magnetic field application position. Therefore, when a pulse is input as an incident wave from the signal generator 30 to the transmission line 10 in this state, a reflected wave is generated at the magnetic field application position due to impedance mismatch at the magnetic field application position.
 磁界印加位置において発生した反射波は、伝送線路10内を入射波と逆方向に進行し、コネクタ40を介して演算装置20に入力される。 反射 The reflected wave generated at the magnetic field application position travels in the transmission line 10 in the direction opposite to the incident wave, and is input to the arithmetic unit 20 via the connector 40.
 従って、演算装置20が入射波を検出する時間と、反射波を検出する時間との時間差Δtは、反射波がコネクタ40と磁界印加位置との間を往復する時間である。よって、コネクタ40から磁界印加位置までの距離Dは、以下の数式(2)で表される。 Therefore, the time difference Δt between the time when the arithmetic device 20 detects the incident wave and the time when the reflected wave is detected is the time that the reflected wave reciprocates between the connector 40 and the magnetic field application position. Therefore, the distance D from the connector 40 to the magnetic field application position is represented by the following equation (2).
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 ここで、Vは伝送線路10内における電磁波の伝搬速度、αは伝送線路10内における波長短縮率、cは真空中の電磁波の伝搬速度である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
Here, Vp is the propagation speed of the electromagnetic wave in the transmission line 10, α is the wavelength reduction rate in the transmission line 10, and c is the propagation speed of the electromagnetic wave in vacuum.
 図5に、演算装置20が、時間差Δtで、入射波と反射波を検出する様子の一例を示す。 FIG. 5 shows an example of how the arithmetic unit 20 detects an incident wave and a reflected wave with a time difference Δt.
 数式(2)において、真空中の電磁波の伝搬速度cは、真空中の光速3.0×108[m/s]であり既知である。また、伝送線路10内における波長短縮率αは、誘電体12などの伝送線路10を構成する部材に依存する値であり既知である。従って、演算装置20の制御部23は、入射波を検出する時間と、反射波を検出する時間との時間差Δtに基づいて、コネクタ40から磁界印加位置までの距離Dを算出することができる。すなわち、演算装置20の制御部23は、伝送線路10に印加された磁界の位置を算出することができる。 In Equation (2), the propagation speed c of the electromagnetic wave in vacuum is known as the light speed in vacuum of 3.0 × 10 8 [m / s]. In addition, the wavelength shortening rate α in the transmission line 10 is a value that depends on members constituting the transmission line 10 such as the dielectric 12 and is known. Therefore, the control unit 23 of the arithmetic device 20 can calculate the distance D from the connector 40 to the magnetic field application position based on the time difference Δt between the time for detecting the incident wave and the time for detecting the reflected wave. That is, the control unit 23 of the arithmetic device 20 can calculate the position of the magnetic field applied to the transmission line 10.
 続いて、磁気検出装置1による、伝送線路10に印加された磁界の強度の算出について説明する。 Next, calculation of the strength of the magnetic field applied to the transmission line 10 by the magnetic detection device 1 will be described.
 上述のように、伝送線路10に磁界強度Hexの外部磁界が印加されると、磁界が印加されている磁界印加位置において、磁気インピーダンス効果によりインピーダンスが変化する。伝送線路10において、インピーダンスが整合している位置から、インピーダンスが不整合となっている磁界印加位置に入射波が進行すると、反射波が発生する。このときの入射波に対する反射波の反射率rは、以下の数式(3)で表される。 As described above, when an external magnetic field having the magnetic field strength Hex is applied to the transmission line 10, the impedance changes at the magnetic field application position where the magnetic field is applied due to the magnetic impedance effect. In the transmission line 10, when an incident wave advances from a position where impedance is matched to a magnetic field application position where impedance is mismatched, a reflected wave is generated. At this time, the reflectance r of the reflected wave with respect to the incident wave is represented by the following equation (3).
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
 ここで、Zは伝送線路10の磁界印加位置におけるインピーダンス、Zは伝送線路10のインピーダンスが整合している位置における特性インピーダンス、ΔZは伝送線路10の磁界印加位置におけるインピーダンスの変化量である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
Here, Z m the impedance in the magnetic field applying position of the transmission line 10, Z 0 is the characteristic impedance at the position where the impedance of the transmission line 10 are matched, [Delta] Z is the amount of change in the impedance in the magnetic field applying position of the transmission line 10 .
 また、伝送線路10において、インピーダンスが整合している位置から、インピーダンスが不整合となっている磁界印加位置に入射波が進行したことにより発生する反射波の電圧Vは、以下の数式(4)で表される。 Further, the transmission line 10, from a position where the impedance is matched, the voltage V R of the reflected wave impedance generated by the incident wave has progressed to the magnetic field application position which is misaligned, the following equation (4 ).
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 ここで、Vは入射波の電圧である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
Here, V i is the voltage of the incident wave.
 数式(4)において、伝送線路10のインピーダンスが整合している位置における特性インピーダンスZは、既知である。また、入射波の電圧Vは、信号発生器30が生成するパルスの振幅であり既知である。従って、演算装置20の制御部23は、反射波の電圧Vに基づいて、伝送線路10の磁界印加位置におけるインピーダンスの変化量ΔZを算出することができる。 In Equation (4), the characteristic impedance Z 0 at the position where the impedance of the transmission line 10 are matched is known. Further, the voltage V i of the incident wave are known the amplitude of the pulse signal generator 30 generates. Accordingly, the control unit 23 of the computing device 20 based on the voltage V R of the reflected wave, it is possible to calculate the impedance variation ΔZ in the magnetic field applying position of the transmission line 10.
 図6に、伝送線路10に印加された磁界と、反射波の電圧Vとの関係を示す。図6に示すように、伝送線路10に印加された磁界がゼロであるときは、反射波の電圧Vはゼロである。伝送線路10に印加された磁界の強度が増えるに従って、反射波の電圧Vが増加していく。 6 shows a magnetic field applied to the transmission line 10, the relationship between the voltage V R of the reflected wave. As shown in FIG. 6, when the magnetic field applied to the transmission line 10 is zero, the voltage V R of the reflected wave is zero. According intensity of the applied magnetic field in the transmission line 10 is increased, the voltage V R of the reflected wave increases.
 インピーダンスの変化量ΔZは、伝送線路10に印加されている外部磁界の磁界強度Hexに依存しているため、演算装置20の制御部23は、インピーダンスの変化量ΔZに基づいて、伝送線路10に印加された磁界の強度を算出することができる。より具体的には、磁気検出装置1は、検出した反射波の電圧Vを数式(4)に代入することによりインピーダンスの変化量ΔZを算出することができる。磁気検出装置1は、数式(1)のZにZ+ΔZを代入することにより伝送線路10に印加されている磁界強度Hexを算出することができる。なお、磁気検出装置1は、磁界強度Hexを算出する際、数式(1)を用いるのではなく、数式(1)を近似した式(例えば、直線近似式)を用いて磁界強度Hexを算出してもよい。 Since the change amount ΔZ of the impedance depends on the magnetic field strength Hex of the external magnetic field applied to the transmission line 10, the control unit 23 of the arithmetic device 20 determines the transmission line 10 based on the change amount ΔZ of the impedance. Can be calculated. More specifically, the magnetic detection device 1, the voltage V R of the detected reflected wave can be calculated impedance variation ΔZ by substituting the equation (4). The magnetic detection device 1 can calculate the magnetic field strength H ex applied to the transmission line 10 by substituting Z 0 + ΔZ into Z in Expression (1). The magnetic detection device 1, when calculating the field strength H ex, rather than using Equation (1), the magnetic field intensity H ex using the equation approximating the equation (1) (for example, linear approximation) It may be calculated.
 このように、磁気検出装置1は、入射波を検出する時間と、反射波を検出する時間との時間差Δtを測定することにより、コネクタ40から磁界印加位置までの距離Dを算出することができる。また、磁気検出装置1は、反射波の電圧Vの振幅を測定することにより、伝送線路10に印加された磁界の強度を算出することができる。従って、磁気検出装置1は、伝送線路10における磁界印加位置と、伝送線路10に印加された磁界の強度とを、同時に算出することができる。 As described above, the magnetic detection device 1 can calculate the distance D from the connector 40 to the magnetic field application position by measuring the time difference Δt between the time for detecting the incident wave and the time for detecting the reflected wave. . Further, the magnetic detection device 1, by measuring the amplitude of the voltage V R of the reflected wave, can be calculated intensity of the magnetic field applied to the transmission line 10. Therefore, the magnetic detection device 1 can calculate the magnetic field application position on the transmission line 10 and the strength of the magnetic field applied to the transmission line 10 at the same time.
 演算装置20は、伝送線路10における磁界印加位置と、伝送線路10に印加された磁界の強度とを算出する際、反射波の電圧Vからオフセットデータを引いた差分のデータを、磁界印加位置及び磁界の強度を算出する際に用いる反射波のデータとして用いてよい。演算装置20は、伝送線路10に磁界が印加されていない状態に検出したデータをオフセットデータとして、メモリ24に保存しておいてよい。演算装置20は、このように、反射波の電圧Vからオフセットデータを引いた差分のデータを用いることにより、伝送線路10の構成要素の機械的な公差、伝送線路10の曲げ等により生じる歪み、及び初期状態から印加されている環境磁界(例えば地磁気又は電子機器などから発生する磁界)などにより生じた反射波の影響を低減することができる。 Calculation unit 20, a magnetic field application position in the transmission line 10, when calculating the intensity of the magnetic field applied to the transmission line 10, the difference data obtained by subtracting the offset data from the voltage V R of the reflected wave, magnetic field applying position And the data of the reflected wave used in calculating the strength of the magnetic field. The arithmetic unit 20 may store, in the memory 24, data detected when no magnetic field is applied to the transmission line 10 as offset data. Calculation unit 20, Thus, by using the difference data obtained by subtracting the offset data from the voltage V R of the reflected wave, the mechanical tolerances of the components of the transmission line 10, distortions caused by bending or the like of the transmission line 10 And the influence of reflected waves generated by an environmental magnetic field (for example, a magnetic field generated from geomagnetism or electronic equipment) applied from the initial state.
 なお、図3においては、磁石60が伝送線路10に外部磁界を印加する場合を例示しているが、伝送線路10に外部磁界を印加するものは磁石60に限定されない。例えば、ヘルムホルツコイルによる外部磁界、磁性材料からの漏れによる外部磁界、又は渦電流により生じた外部磁界などが伝送線路10に印加された場合であっても、磁気検出装置1は、伝送線路10における磁界印加位置と、伝送線路10に印加された磁界の強度とを、同時に算出することができる。また、磁気検出装置1は、磁石60などによって印加された外部磁界だけでなく、地磁気などによる環境磁界を測定対象とすることも可能である。 Note that FIG. 3 illustrates the case where the magnet 60 applies an external magnetic field to the transmission line 10, but the type of applying the external magnetic field to the transmission line 10 is not limited to the magnet 60. For example, even when an external magnetic field due to a Helmholtz coil, an external magnetic field due to leakage from a magnetic material, or an external magnetic field generated due to an eddy current is applied to the transmission line 10, the magnetic detection device 1 operates in the transmission line 10. The magnetic field application position and the strength of the magnetic field applied to the transmission line 10 can be calculated simultaneously. Further, the magnetic detection device 1 can measure not only an external magnetic field applied by the magnet 60 or the like but also an environmental magnetic field such as geomagnetism.
 続いて、図7A~図7Cを参照して、伝送線路10の磁界印加位置において発生する反射波について、詳細に説明する。 Next, with reference to FIGS. 7A to 7C, the reflected wave generated at the magnetic field application position of the transmission line 10 will be described in detail.
 図7Aは、伝送線路10の磁界印加位置に入射波P1が到達する前の様子を示す。図7Bは、伝送線路10の磁界印加位置に入射波P1が進入したときの様子を示す。図7Cは、伝送線路10の磁界印加位置を入射波P1が通過したときの様子を示す。 FIG. 7A shows a state before the incident wave P1 reaches the magnetic field application position of the transmission line 10. FIG. 7B shows a state when the incident wave P1 enters the magnetic field application position of the transmission line 10. FIG. 7C shows a state where the incident wave P1 passes through the magnetic field application position of the transmission line 10.
 図4に示したように、伝送線路10は、等価な分布定数回路として表すことができる。伝送線路10における磁界印加位置をパルスが通過する際は、磁気インピーダンス効果により、磁界印加位置における第1導体11の抵抗成分Rとインダクタンス成分Lとが変化する。そのため、伝送線路10のインピーダンスは、磁界印加位置において変化する。一般的に、分布定数回路のインピーダンスZは、以下の数式(5)で表される。 伝 送 As shown in FIG. 4, the transmission line 10 can be represented as an equivalent distributed constant circuit. When the pulse passes through the magnetic field application position in the transmission line 10, the resistance component R and the inductance component L of the first conductor 11 at the magnetic field application position change due to the magnetic impedance effect. Therefore, the impedance of the transmission line 10 changes at the position where the magnetic field is applied. Generally, the impedance Z of a distributed constant circuit is represented by the following equation (5).
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 ここで、Gは第1導体11と第2導体13との間の単位長さ辺りの漏洩抵抗に相当するコンダクタンス成分であるが、コンダクタンス成分Gは微少であるため省略している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
Here, G is a conductance component corresponding to a leakage resistance per unit length between the first conductor 11 and the second conductor 13, but the conductance component G is omitted because it is very small.
 表皮効果が顕著な場合(表皮の深さδ<<第1導体11の半径a)、磁気インピーダンス効果を考慮すると、伝送線路10のインピーダンスZは、以下の数式(6)で表される。 場合 When the skin effect is remarkable (skin depth δ << radius a of the first conductor 11), the impedance Z of the transmission line 10 is expressed by the following equation (6) in consideration of the magnetic impedance effect.
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
 図7Aは、伝送線路10の磁界印加位置に入射波P1が到達する前であるため、入射波P1は、伝送線路10のインピーダンスが一定のところを進行している。そのため、反射波は発生しない。 7A is before the incident wave P1 arrives at the magnetic field application position of the transmission line 10, so the incident wave P1 travels in a place where the impedance of the transmission line 10 is constant. Therefore, no reflected wave is generated.
 図7Bは、伝送線路10の磁界印加位置に入射波P1が進入したときの様子を示している。図7Bに示すように、伝送線路10の磁界印加位置において、伝送線路10のインピーダンスは、磁気インピーダンス効果によりΔZだけ増加し、Z+ΔZとなっている。この場合、伝送線路10において、入射波P1は、特性インピーダンスZの線路から、インピーダンスZ+ΔZの線路に入射するため、正の反射波P2が発生する。 FIG. 7B shows a state when the incident wave P1 enters the magnetic field application position of the transmission line 10. As shown in FIG. 7B, at the magnetic field application position of the transmission line 10, the impedance of the transmission line 10 increases by ΔZ due to the magnetic impedance effect and becomes Z 0 + ΔZ. In this case, the transmission line 10, the incident wave P1 from a characteristic impedance Z 0, for entering the line impedance Z 0 + [Delta] Z, positive reflection wave P2 is generated.
 図7Cは、伝送線路10の磁界印加位置を入射波P1が通過したときの様子を示している。図7Cにおいては、図7Bに示す状態とは逆に、入射波P1は、インピーダンスZ+ΔZの線路から、特性インピーダンスZの線路に入射するため、負の反射波P3が発生する。 FIG. 7C shows a state where the incident wave P1 passes through the magnetic field application position of the transmission line 10. In Figure 7C, contrary to the state shown in FIG. 7B, the incident wave P1 from the line impedance Z 0 + [Delta] Z, for entering the characteristic impedance of Z 0, the negative reflected wave P3 is generated.
 このように、伝送線路10に磁界が印加されると、磁界印加位置において正負の反射波が発生する。図7A~図7Cに示す例においては、入射波P1のパルス幅に対して、図7Aに示す磁界印加位置の長さL1が長いため、正負の反射波が離れて存在している。 と When a magnetic field is applied to the transmission line 10, positive and negative reflected waves are generated at the position where the magnetic field is applied. In the examples shown in FIGS. 7A to 7C, since the length L1 of the magnetic field application position shown in FIG. 7A is longer than the pulse width of the incident wave P1, positive and negative reflected waves are separated.
 演算装置20は、時間差Δtを算出する際、正の反射波P2のピークの時間を用いてよいがこれに限定されない。演算装置20は、正の反射波P2の立ち上がり又は立ち下がりの時間を用いてもよい。また、演算装置20は、負の反射波P3のピーク、立ち上がり又は立ち下がりの時間を用いてもよい。また、演算装置20は、正の反射波P2を用いて算出した時間差と、負の反射波P3を用いて算出した時間差とを用いて、磁界印加位置の長さL1を算出してもよい。 When calculating the time difference Δt, the arithmetic device 20 may use the peak time of the positive reflected wave P2, but is not limited thereto. The arithmetic unit 20 may use the time of the rise or fall of the positive reflected wave P2. Further, the arithmetic unit 20 may use the peak, rise, or fall time of the negative reflected wave P3. Further, the arithmetic device 20 may calculate the length L1 of the magnetic field application position using the time difference calculated using the positive reflected wave P2 and the time difference calculated using the negative reflected wave P3.
 入射波のパルス幅と、磁界印加位置の長さとの関係によっては、正負の反射波が一部重なり合う状態も存在しうる。そのような状態を図8A~図8Cに示す。 正 Depending on the relationship between the pulse width of the incident wave and the length of the magnetic field application position, there may be a state where the positive and negative reflected waves partially overlap. Such a state is shown in FIGS. 8A to 8C.
 図8Aは、伝送線路10の磁界印加位置に入射波Q1が到達する前の様子を示す。図8Bは、伝送線路10の磁界印加位置に入射波Q1が進入したときの様子を示す。図8Cは、伝送線路10の磁界印加位置を入射波Q1が通過したときの様子を示す。 FIG. 8A shows a state before the incident wave Q1 reaches the magnetic field application position of the transmission line 10. FIG. 8B shows a state where the incident wave Q1 enters the magnetic field application position of the transmission line 10. FIG. 8C shows a state where the incident wave Q1 passes through the magnetic field application position of the transmission line 10.
 図8A~図8Cに示す例においては、入射波Q1のパルス幅と、図8Aに示す磁界印加位置の長さL2とが同等程度である。そのため、図8Cに示すように、正の反射波Q2と、負の反射波Q3とが一部重なり合う状態となっている。 8A to 8C, the pulse width of the incident wave Q1 is substantially equal to the length L2 of the magnetic field application position shown in FIG. 8A. Therefore, as shown in FIG. 8C, the positive reflected wave Q2 and the negative reflected wave Q3 partially overlap.
 信号発生器30が生成するパルスの形状は任意であるが、立ち上がり時間を短くすると、演算装置20が磁界印加位置を検出する際の位置分解能を高くすることができる。そのため、後述する磁界印加位置が複数の場合において、演算装置20は、複数の磁界印加位置を明確に分離することができる。一方、パルスの立ち上がり時間を長くすると、パルスの伝送距離が長くなっても入射波及び反射波の減衰が小さくなるため、演算装置20は、長距離の測定をすることが可能となる。 The shape of the pulse generated by the signal generator 30 is arbitrary, but if the rise time is shortened, the position resolution when the arithmetic device 20 detects the magnetic field application position can be increased. Therefore, when there are a plurality of magnetic field application positions described later, the arithmetic unit 20 can clearly separate the plurality of magnetic field application positions. On the other hand, when the rising time of the pulse is increased, the attenuation of the incident wave and the reflected wave is reduced even if the transmission distance of the pulse is increased, so that the arithmetic unit 20 can measure a long distance.
(磁界印加位置が複数の場合)
 伝送線路10において、複数の位置で磁界が印加されている場合、演算装置20は、複数の磁界印加位置のそれぞれで生成された反射波について、時間差Δt及び反射波の電圧Vを検出する。これにより、磁気検出装置1は、伝送線路10における複数の磁界印加位置のそれぞれについて、磁界印加位置及び磁界の強度を同時に算出することができる。
(When there are multiple magnetic field application positions)
In the transmission line 10, if the magnetic field at a plurality of locations is applied, the arithmetic unit 20, the reflected waves generated in each of the plurality of magnetic field application position, detects the voltage V R of the time difference Δt and the reflected wave. Thereby, the magnetic detection device 1 can simultaneously calculate the magnetic field application position and the magnetic field strength for each of the plurality of magnetic field application positions on the transmission line 10.
(同軸ケーブルの他の例)
 図9A及び図9Bに、伝送線路10が同軸ケーブルとして構成されている場合の他の例を示す。図9Aに示す伝送線路10aは、第1導体(信号線)11aと、誘電体12aと、第2導体(シールド線)13aと、被覆14aとを備える。誘電体12a、第2導体13a及び被覆14aは、それぞれ、図2に示した誘電体12、第2導体13及び被覆14と同様の構成である。
(Other examples of coaxial cable)
9A and 9B show another example in which the transmission line 10 is configured as a coaxial cable. The transmission line 10a illustrated in FIG. 9A includes a first conductor (signal line) 11a, a dielectric 12a, a second conductor (shield line) 13a, and a coating 14a. The dielectric 12a, the second conductor 13a, and the coating 14a have the same configuration as the dielectric 12, the second conductor 13, and the coating 14, respectively, shown in FIG.
 第1導体11aは、導体15aと、磁性膜16aとを備える。導体15aは、非磁性の導体である。磁性膜16aは、磁性材を含む膜であり、導体15aの表面に形成されている。磁性膜16aが含む磁性材は、図2に示した第1導体11が含む磁性材と同様の磁性材であってよい。 The first conductor 11a includes a conductor 15a and a magnetic film 16a. The conductor 15a is a non-magnetic conductor. The magnetic film 16a is a film containing a magnetic material, and is formed on the surface of the conductor 15a. The magnetic material included in the magnetic film 16a may be the same magnetic material as the magnetic material included in the first conductor 11 illustrated in FIG.
 磁性膜16aは、例えば、めっき、蒸着、スパッタリング又はCVD(Chemical Vapor Deposition)などにより、導体15aの表面に形成することができる。 The magnetic film 16a can be formed on the surface of the conductor 15a by, for example, plating, vapor deposition, sputtering, or CVD (Chemical Vapor Deposition).
 第1導体11aは、導体15aが非磁性の導体であるため、第1導体11aの内部において、磁化(磁壁移動)によるインピーダンス変化が起こらない。そのため、第1導体11aにおいては、ヒステリシスが生じにくく、高感度で磁界を検出することができる。 Since the conductor 15a is a non-magnetic conductor, the first conductor 11a does not cause impedance change due to magnetization (domain wall movement) inside the first conductor 11a. Therefore, in the first conductor 11a, hysteresis hardly occurs, and a magnetic field can be detected with high sensitivity.
 図9Bに示す伝送線路10bは、複数の第1導体(信号線)11bと、誘電体12bと、第2導体(シールド線)13bと、被覆14bとを備える。誘電体12b、第2導体13b及び被覆14bは、それぞれ、図2に示した誘電体12、第2導体13及び被覆14と同様の構成である。 伝 送 The transmission line 10b shown in FIG. 9B includes a plurality of first conductors (signal lines) 11b, a dielectric 12b, a second conductor (shield line) 13b, and a coating 14b. The dielectric 12b, the second conductor 13b, and the coating 14b have the same configuration as the dielectric 12, the second conductor 13, and the coating 14 shown in FIG. 2, respectively.
 複数の第1導体11bの各々の第1導体11bの構成は、図1に示した第1導体11と同様の構成であってよい。 The configuration of each first conductor 11b of the plurality of first conductors 11b may be the same as the configuration of the first conductor 11 shown in FIG.
 このように、複数の第1導体11bを束ねた構成とすることで、複数の第1導体11b全体としての抵抗損失を小さくすることができる。そのため、伝送線路10bが長い場合であっても、入射波及び反射波の減衰を小さくすることができる。したがって、磁気検出装置1は、長い伝送線路10bを備えて、印加された磁界の位置及び強度を測定することが可能となる。 こ と By thus configuring the plurality of first conductors 11b in a bundle, the resistance loss of the plurality of first conductors 11b as a whole can be reduced. Therefore, even when the transmission line 10b is long, the attenuation of the incident wave and the reflected wave can be reduced. Therefore, the magnetic detection device 1 includes the long transmission line 10b, and can measure the position and intensity of the applied magnetic field.
(伝送線路の他の例)
 伝送線路10は、特性インピーダンスを有する線路であれば、同軸ケーブルとして構成されていなくてもよい。例えば、伝送線路10は、平行二線路、ストリップ線路、マイクロストリップ線路、コプレーナ線路又は導波管として構成されていてもよい。図10A~図10Dに、伝送線路10が同軸ケーブルとして構成されていない場合の例を示す。
(Other examples of transmission lines)
The transmission line 10 does not have to be configured as a coaxial cable as long as the line has a characteristic impedance. For example, the transmission line 10 may be configured as a parallel two line, a strip line, a microstrip line, a coplanar line, or a waveguide. FIGS. 10A to 10D show examples in which the transmission line 10 is not configured as a coaxial cable.
 図10Aは、伝送線路10cが平行二線路として構成された場合の断面を示す図である。伝送線路10cは、第1導体(信号線)11cと、誘電体12cと、第2導体(シールド線)13cとを備える。第1導体11cは、図2に示した第1導体11と同様に磁性材を含む。第1導体11cは、誘電体12c上に薄膜として形成されている。 FIG. 10A is a diagram showing a cross section when the transmission line 10c is configured as two parallel lines. The transmission line 10c includes a first conductor (signal line) 11c, a dielectric 12c, and a second conductor (shield line) 13c. The first conductor 11c includes a magnetic material as in the case of the first conductor 11 shown in FIG. The first conductor 11c is formed as a thin film on the dielectric 12c.
 図10Bは、伝送線路10dがストリップ線路として構成された場合の断面を示す図である。伝送線路10dは、第1導体(信号線)11dと、誘電体12dと、第2導体(シールド線)13dとを備える。第1導体11dは、図2に示した第1導体11と同様に磁性材を含む。第1導体11dは、誘電体12dの内部において薄膜として形成されている。 FIG. 10B is a diagram showing a cross section when the transmission line 10d is configured as a strip line. The transmission line 10d includes a first conductor (signal line) 11d, a dielectric 12d, and a second conductor (shield line) 13d. The first conductor 11d includes a magnetic material similarly to the first conductor 11 shown in FIG. The first conductor 11d is formed as a thin film inside the dielectric 12d.
 図10Cは、伝送線路10eがマイクロストリップ線路として構成された場合の断面を示す図である。伝送線路10eは、第1導体(信号線)11eと、誘電体12eと、第2導体(シールド線)13eとを備える。第1導体11eは、図2に示した第1導体11と同様に磁性材を含む。第1導体11eは、誘電体12e上に薄膜として形成されている。 FIG. 10C is a diagram showing a cross section when the transmission line 10e is configured as a microstrip line. The transmission line 10e includes a first conductor (signal line) 11e, a dielectric 12e, and a second conductor (shield line) 13e. The first conductor 11e includes a magnetic material as in the case of the first conductor 11 shown in FIG. The first conductor 11e is formed as a thin film on the dielectric 12e.
 図10Dは、伝送線路10fがコプレーナ線路として構成された場合の断面を示す図である。伝送線路10fは、第1導体(信号線)11fと、誘電体12fと、第2導体(シールド線)13fとを備える。第1導体11fは、図2に示した第1導体11と同様に磁性材を含む。第1導体11fは、誘電体12f上に薄膜として形成されている。 FIG. 10D is a diagram showing a cross section when the transmission line 10f is configured as a coplanar line. The transmission line 10f includes a first conductor (signal line) 11f, a dielectric 12f, and a second conductor (shield line) 13f. The first conductor 11f includes a magnetic material similarly to the first conductor 11 shown in FIG. The first conductor 11f is formed as a thin film on the dielectric 12f.
 図10A~図10Dに示す誘電体12c~12fは、図2に示した誘電体12と同様に、例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)又はポリエチレンなどの絶縁物であってよい。 The dielectrics 12c to 12f shown in FIGS. 10A to 10D may be, for example, an insulator such as PTFE (polytetrafluoroethylene) or polyethylene, similarly to the dielectric 12 shown in FIG.
 図10A~図10Dに示す第2導体13c~13fは、図2に示した第2導体13と同様に、例えば銅を材料として構成されてよい。 The second conductors 13c to 13f shown in FIGS. 10A to 10D may be made of, for example, copper as in the case of the second conductor 13 shown in FIG.
 以下、図10A~図10Dに示したような、薄膜形状の第1導体11c~11fを備える伝送線路10c~10fにおける磁気インピーダンス効果について説明する。第1導体11c~11fの厚さをdとすると、表皮効果が顕著な場合(表皮の深さδ<<d/2)、磁気インピーダンス効果は、以下の数式(7)及び数式(8)で表される。 Hereinafter, the magneto-impedance effect in the transmission lines 10c to 10f including the thin film-shaped first conductors 11c to 11f as shown in FIGS. 10A to 10D will be described. Assuming that the thickness of the first conductors 11c to 11f is d, when the skin effect is remarkable (skin depth δ << d / 2), the magnetic impedance effect is expressed by the following equations (7) and (8). expressed.
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
 ここで、wは第1導体11c~11fの幅、lは第1導体11c~11fの長さである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
Here, w is the width of the first conductors 11c to 11f, and l is the length of the first conductors 11c to 11f.
 図2に示した同軸ケーブルとして構成されている伝送線路10と同様に、図10A~図10Dに示す伝送線路10c~10fにおいても、磁気モーメントの回転により、第1導体11c~11fの周方向の透磁率が変化する。伝送線路10c~10fのインピーダンスは第1導体11c~11fの周方向の透磁率に依存するため、磁界印加位置における第1導体11c~11fの周方向の透磁率が変化すると、磁界印加位置における伝送線路10c~10fのインピーダンスが変化する。 Similarly to the transmission line 10 configured as the coaxial cable shown in FIG. 2, the transmission lines 10c to 10f shown in FIGS. 10A to 10D also rotate in the circumferential direction of the first conductors 11c to 11f due to the rotation of the magnetic moment. The permeability changes. Since the impedance of the transmission lines 10c to 10f depends on the magnetic permeability of the first conductors 11c to 11f in the circumferential direction, when the magnetic permeability of the first conductors 11c to 11f in the magnetic field applying position changes, the transmission at the magnetic field applying position changes. The impedance of the lines 10c to 10f changes.
 図10A~図10Dに示す伝送線路10c~10fは、例えば、フレキシブル基板により伝送線路10c~10fを構成することにより、同軸ケーブルで構成した場合と同様に柔軟性を持たせることができる。 伝 送 The transmission lines 10c to 10f shown in FIGS. 10A to 10D can be provided with flexibility, for example, by forming the transmission lines 10c to 10f by a flexible substrate, as in the case of being formed by a coaxial cable.
 図10A~図10Dに示す第1導体11c~11fは、図9Aに示した第1導体11aと同様に、非磁性の導体の表面に磁性膜が形成された構成であってもよい。 The first conductors 11c to 11f shown in FIGS. 10A to 10D may have a configuration in which a magnetic film is formed on the surface of a nonmagnetic conductor, like the first conductor 11a shown in FIG. 9A.
 図10A~図10Dに示す伝送線路10c~10fは、図9Bに示した伝送線路10bと同様に、それぞれ、複数の第1導体11c~11fを含む構成であってもよい。 The transmission lines 10c to 10f shown in FIGS. 10A to 10D may have a configuration including a plurality of first conductors 11c to 11f, similarly to the transmission line 10b shown in FIG. 9B.
(バイアス磁界の印加)
 磁気検出装置1は、図11に示すように、伝送線路10の周囲にコイル70を備えていてもよい。コイル70は、図11に示すようにバイアス電流を流すことで、伝送線路10の軸方向(長手方向)にバイアス磁界を印加する。
(Application of bias magnetic field)
The magnetic detection device 1 may include a coil 70 around the transmission line 10 as shown in FIG. The coil 70 applies a bias magnetic field in the axial direction (longitudinal direction) of the transmission line 10 by flowing a bias current as shown in FIG.
 このように、コイル70によって伝送線路10にバイアス磁界が正の方向に均一に印加されると、伝送線路10の特性インピーダンスはZからZ(Z<Z)になり、伝送線路10に印加された磁界と反射波の電圧Vとの関係は、図6に示すグラフVR0(Hex)から図12に示すグラフVR1(Hex)へオフセットされることとなる。伝送線路10に外部磁界が加えられていない状態では、特性インピーダンスがZで均一となるため、反射波は生じない。外部磁界として正の磁界が印加されると、バイアス磁界に加えて外部磁界が印加されるため、磁界印加部の特性インピーダンスはZ+ΔZとなり、図7B及び図7Cで示すような反射波が生じる。外部磁界として負の磁界が印加されると、バイアス磁界と逆向きに外部磁界が印加されるため、磁界印加部の特性インピーダンスはZ-ΔZとなり、図7B及び図7Cの逆相の反射波が生じる。これにより、磁気検出装置1は、伝送線路10に印加された磁界の強度だけでなく、正の磁界が印加されたか、負の磁界が印加されたかを判定することができる。またバイアス磁界の強度は任意であるが、飽和磁界(図12のHで示す範囲の磁界)より小さく、センサとして直線性が良くなるような(図12のHsLで示す範囲が略直線的になるように)バイアス磁界を印加する。 As described above, when the bias magnetic field is uniformly applied to the transmission line 10 by the coil 70 in the positive direction, the characteristic impedance of the transmission line 10 changes from Z 0 to Z 1 (Z 0 <Z 1 ). relationship between the applied magnetic field and the voltage V R of the reflected wave becomes to be offset to the graph V R1 (H ex) showing graph V R0 from (H ex) 12 shown in FIG. In a state where no external magnetic field is applied to the transmission line 10, since the characteristic impedance is uniform in Z 1, no reflected wave. When a positive magnetic field is applied as an external magnetic field, an external magnetic field is applied in addition to the bias magnetic field. Therefore, the characteristic impedance of the magnetic field application unit becomes Z 1 + ΔZ, and reflected waves as shown in FIGS. 7B and 7C are generated. . When a negative magnetic field is applied as an external magnetic field, the external magnetic field is applied in a direction opposite to the bias magnetic field, so that the characteristic impedance of the magnetic field application unit becomes Z 1 −ΔZ, and the reflected wave of the opposite phase of FIGS. 7B and 7C. Occurs. Thus, the magnetic detection device 1 can determine not only the strength of the magnetic field applied to the transmission line 10 but also whether a positive magnetic field or a negative magnetic field has been applied. Although the intensity of the bias magnetic field is optional, smaller than the saturation magnetic field (magnetic field in the range indicated by H s of FIG. 12), such as linearity is improved as a sensor (substantially linearly range indicated by H sL of 12 Is applied).
 以上のような一実施形態に係る磁気検出装置1によれば、分布定数回路の任意の位置において磁界の検出を行うことが可能である。より具体的には、磁気検出装置1では、信号発生器30は、伝送線路10に入射波としてパルスを入力し、演算装置20は、伝送線路10の磁界印加位置においてインピーダンス不整合により生じた反射波と、入射波とを検出する。そして、演算装置20は、入射波と反射波とに基づいて、伝送線路10に印加された磁界の位置及び強度を算出する。従って、一実施形態に係る磁気検出装置1は、分布定数回路として表すことができる伝送線路10の任意の位置において磁界の検出を行うことが可能である。 According to the magnetic detection device 1 according to the embodiment as described above, it is possible to detect a magnetic field at an arbitrary position in the distributed constant circuit. More specifically, in the magnetic detection device 1, the signal generator 30 inputs a pulse as an incident wave into the transmission line 10, and the arithmetic device 20 determines the reflection caused by impedance mismatch at the magnetic field application position of the transmission line 10. A wave and an incident wave are detected. Then, the arithmetic unit 20 calculates the position and intensity of the magnetic field applied to the transmission line 10 based on the incident wave and the reflected wave. Therefore, the magnetic detection device 1 according to one embodiment can detect a magnetic field at an arbitrary position on the transmission line 10 that can be represented as a distributed constant circuit.
 また、一実施形態に係る磁気検出装置1によれば、伝送線路10における磁界印加位置と、伝送線路10に印加された磁界の強度とを、同時に検出することができるため、伝送線路10において測定対象から発生した不均一な外部磁界を検出することができる。従って、磁気検出装置1は、測定対象である磁性材の磁化分布により発生した外部磁界、及び測定対象である金属表面の欠陥による磁界分布により発生した外部磁界などを測定することが可能となる。また、磁気検出装置1は、地磁気検出、渦電流探傷、磁気顕微鏡、電流センサ及び脳磁計など、多種多様な計測機器に対して適用可能である。 Further, according to the magnetic detection device 1 according to one embodiment, since the magnetic field application position in the transmission line 10 and the intensity of the magnetic field applied to the transmission line 10 can be detected simultaneously, the measurement in the transmission line 10 is performed. A non-uniform external magnetic field generated from an object can be detected. Therefore, the magnetic detection device 1 can measure an external magnetic field generated by a magnetization distribution of a magnetic material to be measured, an external magnetic field generated by a magnetic field distribution due to a defect on a metal surface to be measured, and the like. In addition, the magnetic detection device 1 is applicable to a wide variety of measurement devices such as terrestrial magnetism detection, eddy current flaw detection, a magnetic microscope, a current sensor, and a magnetoencephalograph.
 また、一実施形態に係る磁気検出装置1によれば、伝送線路10における複数の磁界印加位置を検出することができる。例えば、従来の磁気センサであるホール素子、MR(Magneto-Resistance)センサ、MI(Magneto-Impedance)センサ、フラックスゲート、ピックアップコイル、SQUID(Superconducting QUantum Interference Device)及びOPAM(Optically-Pumped Atomic Magnetometer)は、点計測、又は小範囲の面計測であった。そのため、磁界の分布を測定するためには、磁気センサを複数設置する必要があったが、信号処理回路を一つにまとめるためのスイッチング回路を別途容易することが必要となるなど拡張性が低かった。これに対し、一実施形態に係る磁気検出装置1は、複数の磁界印加位置を検出することができるため、一つの装置で磁界の分布を測定することができる。 According to the magnetic detection device 1 according to one embodiment, a plurality of magnetic field application positions on the transmission line 10 can be detected. For example, a conventional magnetic sensor such as a Hall element, a magneto-resistance (MR) sensor, a magneto-impedance (MI) sensor, a flux gate, a pickup coil, a SQUID (Superconducting @ Quantum @ Interference @ Device) and an OPAM (OpticalMaterial-Primary-Medical-Pattern) , Point measurement, or small area measurement. Therefore, in order to measure the distribution of the magnetic field, it was necessary to install a plurality of magnetic sensors. Was. On the other hand, the magnetic detection device 1 according to one embodiment can detect a plurality of magnetic field application positions, so that the distribution of the magnetic field can be measured by one device.
 また、一実施形態に係る磁気検出装置1によれば、伝送線路10内の第1導体11が、アモルファス合金又はパーマロイのような高透磁率の磁性材を含むことにより、10m[Oe]程度の微小な磁界を検出することができる。 Further, according to the magnetic detection device 1 according to one embodiment, the first conductor 11 in the transmission line 10 includes a magnetic material having a high magnetic permeability such as an amorphous alloy or permalloy, so that about 10 m [Oe]. A minute magnetic field can be detected.
(周波数掃引)
 図13は、他の実施形態に係る磁気検出装置2の概略構成を示す図である。他の実施形態に係る磁気検出装置2については、図1に示した磁気検出装置1との相違点について主に説明し、図1に示した磁気検出装置1と同様の内容については適宜説明を省略する。
(Frequency sweep)
FIG. 13 is a diagram illustrating a schematic configuration of a magnetic detection device 2 according to another embodiment. Regarding the magnetic detection device 2 according to another embodiment, differences from the magnetic detection device 1 shown in FIG. 1 will be mainly described, and the same contents as those of the magnetic detection device 1 shown in FIG. 1 will be appropriately described. Omitted.
 磁気検出装置2は、入射波及び反射波に基づくデータについて、先に周波数領域データとして処理をした後に、周波数領域データを時間領域データに変換して処理するという点で、図1に示した磁気検出装置1と相違する。入射波及び反射波について、周波数領域データを時間領域データに変換した後の磁気検出装置2の処理は、図1に示した磁気検出装置1の処理と同様の処理である。 The magnetic detection device 2 shown in FIG. 1 is that the data based on the incident wave and the reflected wave is first processed as frequency domain data, and then the frequency domain data is converted into time domain data for processing. This is different from the detection device 1. The processing of the magnetic detection device 2 after converting the frequency domain data into the time domain data for the incident wave and the reflected wave is the same as the processing of the magnetic detection device 1 shown in FIG.
 磁気検出装置2は、測定装置100と、伝送線路10と、終端抵抗50とを備える。伝送線路10及び終端抵抗50は、図1に示した伝送線路10及び終端抵抗50と同様の構成であってよい。 The magnetic detection device 2 includes the measurement device 100, the transmission line 10, and the terminating resistor 50. The transmission line 10 and the terminating resistor 50 may have the same configuration as the transmission line 10 and the terminating resistor 50 shown in FIG.
 図14に、伝送線路10に磁界が印加された場合に、磁気検出装置2が、伝送線路10上の磁界印加位置を検出する様子を示す。図3に示した場合と同様に、伝送線路10の近傍に磁石60が配置されると、磁石60が生成する磁界強度Hexの外部磁界が、伝送線路10に印加される。伝送線路10は、磁界強度Hexの外部磁界が印加されると、磁界が印加されている磁界印加位置において、磁気インピーダンス効果によりインピーダンスが変化する。この状態で、信号発生器130から伝送線路10に入射波が入力されると、磁界印加位置におけるインピーダンス不整合により、磁界印加位置において反射波が発生する。 FIG. 14 shows how the magnetic detection device 2 detects a magnetic field application position on the transmission line 10 when a magnetic field is applied to the transmission line 10. As in the case shown in FIG. 3, when the magnet 60 is arranged near the transmission line 10, an external magnetic field having a magnetic field strength Hex generated by the magnet 60 is applied to the transmission line 10. When an external magnetic field having a magnetic field strength Hex is applied, the impedance of the transmission line 10 changes due to the magnetic impedance effect at the magnetic field application position where the magnetic field is applied. In this state, when an incident wave is input from the signal generator 130 to the transmission line 10, a reflected wave is generated at the magnetic field application position due to impedance mismatch at the magnetic field application position.
 図13に戻って、磁気検出装置2の説明を続ける。 に Returning to FIG. 13, the description of the magnetic detection device 2 will be continued.
 測定装置100は、演算装置120と、信号発生器130と、方向性結合器140とを備える。測定装置100は、例えば、ベクトルネットワークアナライザとして機能する測定装置であってよい。 The measuring device 100 includes an arithmetic device 120, a signal generator 130, and a directional coupler 140. The measurement device 100 may be, for example, a measurement device that functions as a vector network analyzer.
 演算装置120は、信号発生器130から入力される正弦波状のパルスを入射波として検出する。演算装置120は、信号発生器130から直接入射波を入力されてもよいし、方向性結合器140を介して入射波を入力されてもよい。 The arithmetic unit 120 detects a sinusoidal pulse input from the signal generator 130 as an incident wave. The arithmetic unit 120 may receive the incident wave directly from the signal generator 130 or may receive the incident wave via the directional coupler 140.
 演算装置120が検出する入射波は、信号発生器130が掃引して出力する正弦波状のパルスである。図15に、演算装置120が検出する入射波の一例を示す。図15に示す例においては、正弦波状のパルスが低い周波数から高い周波数へ連続的に掃引されている。ここで、「正弦波状のパルス」との用語は、正弦波状の波形の1周期分を示すものとして用いている。すなわち、「正弦波状のパルス」は、正弦波状の波形の正側の部分と負側の部分の両方を有する。図15に示す例においては、正弦波状のパルスは低い周波数から高い周波数に滑らかに変化するように掃引されているが、入射波の波形はこれに限定されない。入射波の波形は、例えば、1周期又はN周期毎に正弦波状のパルスの周波数が切り替えられるような波形であってもよい。 The incident wave detected by the arithmetic unit 120 is a sinusoidal pulse that is output by the signal generator 130 sweeping. FIG. 15 shows an example of an incident wave detected by the arithmetic unit 120. In the example shown in FIG. 15, a sinusoidal pulse is continuously swept from a low frequency to a high frequency. Here, the term “sinusoidal pulse” is used to indicate one cycle of a sinusoidal waveform. That is, the “sinusoidal pulse” has both the positive side part and the negative side part of the sinusoidal waveform. In the example shown in FIG. 15, the sinusoidal pulse is swept so as to smoothly change from a low frequency to a high frequency, but the waveform of the incident wave is not limited to this. The waveform of the incident wave may be, for example, a waveform in which the frequency of the sine wave pulse is switched every one cycle or every N cycles.
 演算装置120は、伝送線路10から方向性結合器140を介して入力されるパルスを、反射波として検出する。 The arithmetic unit 120 detects a pulse input from the transmission line 10 via the directional coupler 140 as a reflected wave.
 信号発生器130は、正弦波状のパルスを生成する。信号発生器130は、正弦波状のパルスを掃引して出力する。信号発生器130が掃引して出力する正弦波状のパルスは、例えば図15に示すような波形である。ここで、「掃引して出力する」とは、正弦波状のパルスの周波数を変えながら出力することを意味する。信号発生器130は、例えば、10MHzから50GHzまで周波数を変化させながら、正弦波状のパルスを出力してよい。 The signal generator 130 generates a sinusoidal pulse. The signal generator 130 sweeps and outputs a sine wave pulse. The sinusoidal pulse that is swept and output by the signal generator 130 has, for example, a waveform as shown in FIG. Here, “sweeping and outputting” means outputting while changing the frequency of the sinusoidal pulse. The signal generator 130 may output a sinusoidal pulse while changing the frequency from, for example, 10 MHz to 50 GHz.
 信号発生器130は、演算装置120の信号検波器121、及び方向性結合器140に接続されている。信号発生器130が掃引して出力する正弦波状のパルスは、方向性結合器140を介して、入射波として伝送線路10に入力される。また、信号発生器130が掃引して出力する正弦波状のパルスは、演算装置120の信号検波器121に入力される。 The signal generator 130 is connected to the signal detector 121 of the arithmetic unit 120 and the directional coupler 140. The sinusoidal pulse swept and output by the signal generator 130 is input to the transmission line 10 as an incident wave via the directional coupler 140. Further, a sine-wave-like pulse that is swept and output by the signal generator 130 is input to the signal detector 121 of the arithmetic device 120.
 方向性結合器140は、伝送線路10と、演算装置120と、信号発生器130とを相互に接続する。信号発生器130からの入射波は、方向性結合器140を介して伝送線路10に入力される。伝送線路10からの反射波は、方向性結合器140を介して演算装置20の信号検波器121に入力される。伝送線路10からの反射波は、伝送線路10の磁界印加位置におけるインピーダンス不整合により、入射波に対して発生する反射波である。 The -directional coupler 140 connects the transmission line 10, the arithmetic unit 120, and the signal generator 130 to each other. An incident wave from the signal generator 130 is input to the transmission line 10 via the directional coupler 140. The reflected wave from the transmission line 10 is input to the signal detector 121 of the arithmetic device 20 via the directional coupler 140. The reflected wave from the transmission line 10 is a reflected wave generated with respect to the incident wave due to impedance mismatch at the magnetic field application position of the transmission line 10.
 続いて、演算装置120の各機能ブロックについて説明する。演算装置120は、信号検波器121と、制御部122と、メモリ123とを備える。 Next, each functional block of the arithmetic device 120 will be described. The arithmetic device 120 includes a signal detector 121, a control unit 122, and a memory 123.
 信号検波器121は、信号発生器130から入力される入射波、及び、方向性結合器140から入力される反射波を検波する。信号検波器121は、信号発生器130が掃引して出力する正弦波状のパルスの周波数毎に、入射波に対する反射波のベクトル比を検出する。ここでいうベクトル比とは、入射波に対する反射波の反射率及び位相差によって規定されるベクトルである。ここで、入射波に対する反射波の反射率とは、反射波の振幅を入射波の振幅で割ったものである。また、入射波に対する反射波の位相差とは、反射波の位相から入射波の位相を引いたものである。 The signal detector 121 detects an incident wave input from the signal generator 130 and a reflected wave input from the directional coupler 140. The signal detector 121 detects the vector ratio of the reflected wave to the incident wave for each frequency of the sinusoidal pulse that is swept and output by the signal generator 130. The vector ratio here is a vector defined by the reflectance and the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave. Here, the reflectance of the reflected wave with respect to the incident wave is obtained by dividing the amplitude of the reflected wave by the amplitude of the incident wave. Further, the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave is obtained by subtracting the phase of the incident wave from the phase of the reflected wave.
 ここで、例えば、信号発生器130が入射波として掃引して出力する正弦波状のパルスは、周波数に対して振幅が一定であってもよい。図16に、周波数に対して、振幅がVで一定である様子を示す。 Here, for example, the sinusoidal pulse that the signal generator 130 sweeps and outputs as an incident wave may have a constant amplitude with respect to the frequency. Figure 16 shows relative frequencies, how the amplitude is constant V 0.
 信号検波器121は、例えば、図16に示すような周波数特性を有する入射波に対する反射波を、周波数毎に検波し、入射波に対する反射波の反射率及び入射波に対する反射波の位相差を検出する。このように、信号検波器121は、入射波に対する反射波の反射率及び位相差を相対値として検出する。そのため、信号検波器121は、入射波に揺らぎがあっても、揺らぎをキャンセルして入射波に対する反射波の反射率及び位相差を検出することができる。すなわち、信号検波器121は、入射波のジッターを除去することができ、時間的な信号の揺らぎの無い、同期の取れた測定を行うことができる。 The signal detector 121 detects, for each frequency, a reflected wave with respect to an incident wave having a frequency characteristic as shown in FIG. 16, and detects the reflectance of the reflected wave with respect to the incident wave and the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave. I do. As described above, the signal detector 121 detects the reflectance and the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave as relative values. Therefore, even if the incident wave has fluctuation, the signal detector 121 can cancel the fluctuation and detect the reflectance and the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave. That is, the signal detector 121 can remove the jitter of the incident wave, and can perform synchronized measurement without temporal signal fluctuation.
 信号検波器121は、通過帯域が可変なフィルタ(例えば、バンドパスフィルタ又はIF(Intermediate Frequency)フィルタ)を含む。フィルタがバンドパスフィルタである場合、バンドパスフィルタの通過帯域は、制御部122からの指令に応じて制御される。制御部122は、信号発生器130が出力している正弦波状のパルスを通過させ、その他の周波数の信号を減衰させるように、バンドパスフィルタの通過帯域を制御する。これにより、信号検波器121が含むバンドパスフィルタは、反射波に含まれるノイズのうち、信号発生器130が出力している正弦波状のパルス以外の周波数帯のノイズを減衰させることができる。したがって、信号検波器121は、演算装置120が受信する反射波のSN比を改善させることができる。 The signal detector 121 includes a filter whose pass band is variable (for example, a band-pass filter or an IF (Intermediate Frequency) filter). When the filter is a band pass filter, the pass band of the band pass filter is controlled according to a command from the control unit 122. The control unit 122 controls the pass band of the band-pass filter so that the sinusoidal pulse output from the signal generator 130 is passed and signals of other frequencies are attenuated. Accordingly, the bandpass filter included in the signal detector 121 can attenuate noise in a frequency band other than the sinusoidal pulse output from the signal generator 130 among the noises included in the reflected wave. Therefore, the signal detector 121 can improve the SN ratio of the reflected wave received by the arithmetic device 120.
 なお、信号検波器121がバンドパスフィルタを含むことは必須ではない。信号検波器121は、バンドパスフィルタを含んでいなくてもよい。 It is not essential that the signal detector 121 includes a band-pass filter. The signal detector 121 may not include a bandpass filter.
 信号検波器121は、図1に示した入力回路21と同様の機能を有していてよい。信号検波器121は、図1に示したADコンバータ22と同様の機能を有していてよい。 The signal detector 121 may have the same function as the input circuit 21 shown in FIG. The signal detector 121 may have the same function as the AD converter 22 shown in FIG.
 信号検波器121は、アナログ信号の状態で入射波及び反射波を検波してもよいし、デジタル信号の状態で入射波及び反射波を検波してもよい。 The signal detector 121 may detect an incident wave and a reflected wave in a state of an analog signal, or may detect an incident wave and a reflected wave in a state of a digital signal.
 制御部122は、演算装置120の各構成部を制御する。制御部122は、例えばCPUなどのプロセッサとして構成されてよい。制御部122の機能の詳細については後述する。 The control unit 122 controls each component of the arithmetic device 120. The control unit 122 may be configured as a processor such as a CPU, for example. Details of the function of the control unit 122 will be described later.
 メモリ123は、制御部122に接続されている。メモリ123は、例えば、HDD、SSD、EEPROM、ROM及びRAM等の任意の記憶装置を有する。メモリ123は、例えば主記憶装置、補助記憶装置、又はキャッシュメモリとして機能してもよい。メモリ123は、演算装置120に内蔵されるものに限定されず、USB等のデジタル入出力ポート等によって接続された外付け型の記憶装置であってもよい。 The memory 123 is connected to the control unit 122. The memory 123 has an arbitrary storage device such as an HDD, an SSD, an EEPROM, a ROM, and a RAM. The memory 123 may function as, for example, a main storage device, an auxiliary storage device, or a cache memory. The memory 123 is not limited to the one built in the arithmetic unit 120, and may be an external storage device connected via a digital input / output port such as a USB.
 制御部122は、信号検波器121から、入射波の周波数毎に、入射波に対する反射波の振幅及び位相差を取得する。制御部122は、入射波に対する反射波の振幅に基づいて反射率の周波数領域データを生成する。制御部122は、入射波に対する反射波の位相差に基づいて位相差の周波数領域データを生成する。制御部122は、反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを逆フーリエ変換して、反射波の時間領域データを生成する。 The control unit 122 acquires the amplitude and the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave from the signal detector 121 for each frequency of the incident wave. The control unit 122 generates frequency domain data of the reflectance based on the amplitude of the reflected wave with respect to the incident wave. The control unit 122 generates frequency domain data of the phase difference based on the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave. The control unit 122 performs inverse Fourier transform on the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference to generate time domain data of the reflected wave.
 制御部122は、反射波の時間領域データに対し、図1に示した磁気検出装置1が入射波及び反射波に対して行った処理と同様の処理を行い、伝送線路10に印加された磁界の位置及び強度を算出する。 The control unit 122 performs the same processing on the time domain data of the reflected wave as the processing performed on the incident wave and the reflected wave by the magnetic detection device 1 shown in FIG. Calculate the position and intensity of.
 演算装置120は、伝送線路10における磁界印加位置と、伝送線路10に印加された磁界の強度とを算出する際、磁界印加時に検波した反射波のデータからオフセットデータを引いた差分のデータを、磁界印加位置及び磁界の強度を算出する際に用いる反射波のデータとして用いてよい。演算装置120は、伝送線路10に磁界が印加されていない状態において検出した反射波のデータをオフセットデータとして、メモリ123に保存しておいてよい。この際、演算装置120は、伝送線路10に磁界が印加されていない状態において検出した反射率及び位相差のデータを、反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データのオフセットデータとしてメモリ123に保存しておいてもよいし、反射波の時間領域データのオフセットデータとしてメモリ123に保存しておいてもよい。 When calculating the magnetic field application position in the transmission line 10 and the strength of the magnetic field applied to the transmission line 10, the arithmetic device 120 calculates difference data obtained by subtracting offset data from data of a reflected wave detected at the time of applying the magnetic field, It may be used as reflected wave data used when calculating the magnetic field application position and the magnetic field strength. The arithmetic unit 120 may store the data of the reflected wave detected in a state where the magnetic field is not applied to the transmission line 10 in the memory 123 as offset data. At this time, the arithmetic unit 120 uses the data of the reflectance and the phase difference detected in a state where no magnetic field is applied to the transmission line 10 as the frequency domain data of the reflectance and the offset data of the frequency domain data of the phase difference in the memory 123. May be stored in the memory 123 as offset data of the time domain data of the reflected wave.
 演算装置120は、このように、磁界印加時に検波した反射率及び位相差のデータからオフセットデータを引いた差分のデータを用いることにより、伝送線路10の構成要素の機械的な公差、伝送線路10の曲げ等により生じる歪み、初期状態から印加されている環境磁界(例えば地磁気又は電子機器などから発生する磁界)、及び伝送線路間(例えば、50Ω同軸ケーブルと伝送線路10)のインピーダンス不整合などにより生じた反射波の影響を低減することができる。 The arithmetic unit 120 uses the difference data obtained by subtracting the offset data from the data of the reflectance and the phase difference detected when the magnetic field is applied, thereby obtaining the mechanical tolerance of the components of the transmission line 10 and the transmission line 10. Due to bending caused by bending, etc., an environmental magnetic field applied from an initial state (for example, a terrestrial magnetism or a magnetic field generated from an electronic device), and impedance mismatch between transmission lines (for example, a 50Ω coaxial cable and the transmission line 10). The effect of the generated reflected wave can be reduced.
 以下、演算装置120が、磁界印加時に検波した反射率及び位相差のデータからオフセットデータを引いた差分のデータを用いる場合を例に挙げて、演算装置120の処理について説明する。 Hereinafter, the processing of the arithmetic unit 120 will be described using an example in which the arithmetic unit 120 uses difference data obtained by subtracting offset data from reflectance and phase difference data detected when a magnetic field is applied.
 制御部122は、伝送線路10に磁界が印加されていない状態で、信号発生器130を制御して、入射波として正弦波状のパルスを掃引して出力させる。信号発生器130が掃引して出力する正弦波状のパルスの周波数特性は、図16に示す振幅特性を有してよい。 The control unit 122 controls the signal generator 130 in a state where no magnetic field is applied to the transmission line 10 to sweep and output a sinusoidal pulse as an incident wave. The frequency characteristic of the sinusoidal pulse swept and output by the signal generator 130 may have the amplitude characteristic shown in FIG.
 制御部122は、伝送線路10に磁界が印加されていない状態で、信号発生器130が正弦波状のパルスを掃引して出力しているときの反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを、信号検波器121を介して入力される入射波と、方向性結合器140及び信号検波器121を介して入力される反射波とから生成する。 The control unit 122 controls the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference when the signal generator 130 sweeps and outputs a sine wave pulse in a state where no magnetic field is applied to the transmission line 10. Is generated from the incident wave input via the signal detector 121 and the reflected wave input via the directional coupler 140 and the signal detector 121.
 制御部122は、反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを逆フーリエ変換して、反射波の時間領域データに変換する。入射波に対する反射波の反射率及び位相差が、それぞれ、図17A及び図17Bに示すような周波数特性を有する場合、反射波の時間領域データは、インパルス信号としての入射波に対するインパルス応答となる。また、制御部122は、インパルス信号を時間に対して積分してステップ信号に変換してもよい。この場合、反射波の時間領域データは、ステップ信号としての入射波に対するステップ応答となる。 The control unit 122 performs inverse Fourier transform on the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference to convert the frequency domain data of the reflected wave into the time domain data of the reflected wave. When the reflectance and the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave have frequency characteristics as shown in FIGS. 17A and 17B, the time domain data of the reflected wave is an impulse response to the incident wave as an impulse signal. The control unit 122 may convert the impulse signal into a step signal by integrating the impulse signal with respect to time. In this case, the time domain data of the reflected wave is a step response to the incident wave as a step signal.
 伝送線路10に磁界が印加されていない状態で制御部122が取得する入射波に対する反射波の反射率の一例は、例えば図17Aに破線202で示すようなデータである。伝送線路10に磁界が印加されていない状態で制御部122が取得する入射波に対する反射波の位相差の一例は、例えば図17Bに破線204で示すようなデータである。 の 一 An example of the reflectance of the reflected wave with respect to the incident wave acquired by the control unit 122 in a state where no magnetic field is applied to the transmission line 10 is, for example, data as indicated by a broken line 202 in FIG. 17A. An example of the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave acquired by the control unit 122 when no magnetic field is applied to the transmission line 10 is, for example, data as indicated by a broken line 204 in FIG. 17B.
 続いて、制御部122は、伝送線路10に磁界が印加された状態で、信号発生器130を制御して、入射波として正弦波状のパルスを掃引して出力させる。このときに信号発生器130が出力する入射波の波形は、伝送線路10に磁界が印加されていない状態で信号発生器130が出力する入射波の波形と同じ波形である。 Next, the control unit 122 controls the signal generator 130 in a state where the magnetic field is applied to the transmission line 10 to sweep and output a sinusoidal pulse as an incident wave. At this time, the waveform of the incident wave output by the signal generator 130 is the same as the waveform of the incident wave output by the signal generator 130 in a state where no magnetic field is applied to the transmission line 10.
 制御部122は、伝送線路10に磁界が印加された状態で、信号発生器130が正弦波状のパルスを掃引して出力しているときの反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを、信号検波器121を介して入力される入射波と、方向性結合器140及び信号検波器121を介して入力される反射波とから取得する。 The control unit 122 converts the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference when the signal generator 130 sweeps and outputs a sine wave pulse in a state where the magnetic field is applied to the transmission line 10. , From the incident wave input via the signal detector 121 and the reflected wave input via the directional coupler 140 and the signal detector 121.
 伝送線路10に磁界が印加された状態で制御部122が取得する入射波に対する反射波の反射率の一例は、例えば図17Aに実線201で示すようなデータである。伝送線路10に磁界が印加された状態で制御部122が取得する入射波に対する反射波の位相差の一例は、例えば図17Bに実線203で示すようなデータである。 An example of the reflectance of the reflected wave with respect to the incident wave acquired by the control unit 122 in a state where the magnetic field is applied to the transmission line 10 is, for example, data as shown by a solid line 201 in FIG. 17A. An example of the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave acquired by the control unit 122 with the magnetic field applied to the transmission line 10 is, for example, data as shown by a solid line 203 in FIG. 17B.
 制御部122は、伝送線路10に磁界が印加されていない状態で取得した反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを逆フーリエ変換して、反射波の時間領域データに変換する。伝送線路10に磁界が印加されていない状態における反射波の時間領域データの一例は、例えば図18Aに破線206で示すようなデータである。図18Aにおいて反射波として観測されている縦軸上のインパルス信号は、例えば伝送線路間(例えば、50Ω同軸ケーブルと伝送線路10)のインピーダンス不整合によるものである。 The control unit 122 performs an inverse Fourier transform on the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference acquired in a state where no magnetic field is applied to the transmission line 10, and converts the data into time domain data of the reflected wave. An example of time domain data of a reflected wave in a state where no magnetic field is applied to the transmission line 10 is, for example, data as indicated by a broken line 206 in FIG. 18A. The impulse signal on the vertical axis which is observed as a reflected wave in FIG. 18A is due to impedance mismatch between transmission lines (for example, a 50Ω coaxial cable and the transmission line 10).
 制御部122は、伝送線路10に磁界が印加された状態で取得した反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データを逆フーリエ変換して、反射波の時間領域データに変換する。伝送線路10に磁界が印加された状態における反射波の時間領域データの一例は、例えば図18Aに実線205で示すようなデータである。 The control unit 122 performs an inverse Fourier transform on the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference acquired in a state where the magnetic field is applied to the transmission line 10 to convert the frequency domain data of the reflected wave into the time domain data of the reflected wave. An example of time domain data of a reflected wave in a state where a magnetic field is applied to the transmission line 10 is, for example, data as shown by a solid line 205 in FIG. 18A.
 制御部122は、図18Aに示すような反射波の時間領域データを積分してよい。磁界が印加されていない状態における反射波の時間領域データ、すなわち、図18Aの破線206で示すデータを積分したデータの一例は、例えば図18Bに破線208で示すようなデータである。磁界が印加された状態における反射波の時間領域データ、すなわち、図18Aの実線205で示すデータを積分したデータの一例は、例えば図18Bに実線207で示すようなデータである。図18Bにおいて反射波として観測されているステップ信号は、例えば伝送線路間(例えば、50Ω同軸ケーブルと伝送線路10)のインピーダンス不整合によるものであり、図18Aにおいて反射波として観測されている縦軸上のインパルス信号を積分したデータである。 The control unit 122 may integrate the time domain data of the reflected wave as shown in FIG. 18A. An example of data obtained by integrating the time domain data of the reflected wave in a state where no magnetic field is applied, that is, the data shown by the broken line 206 in FIG. 18A is the data shown by the broken line 208 in FIG. 18B. An example of data obtained by integrating the time domain data of the reflected wave in the state where the magnetic field is applied, that is, the data shown by the solid line 205 in FIG. 18A is the data shown by the solid line 207 in FIG. 18B. The step signal observed as a reflected wave in FIG. 18B is due to, for example, impedance mismatch between transmission lines (for example, a 50Ω coaxial cable and the transmission line 10), and the vertical axis observed as a reflected wave in FIG. 18A. This is data obtained by integrating the above impulse signal.
 ここで、図18Bに示すデータ208はオフセットデータである。制御部122は、磁界が印加された状態における反射波の時間領域データを積分したデータ、すなわち、図18Bに示すデータ207から、オフセットデータ、すなわち、図18Bに示すデータ208を引いた差分のデータを算出する。このようにして算出された、オフセットデータを引いた差分のデータを、図18Cに実線209として示す。図18Cに示すように、オフセットデータを差し引くことにより、例えば伝送線路間(例えば、50Ω同軸ケーブルと伝送線路10)のインピーダンス不整合による影響を低減することができる。 デ ー タ Here, data 208 shown in FIG. 18B is offset data. The controller 122 integrates the time domain data of the reflected wave in the state where the magnetic field is applied, that is, the data obtained by integrating the offset data, that is, the difference data obtained by subtracting the data 208 shown in FIG. 18B from the data 207 shown in FIG. 18B. Is calculated. The calculated difference data obtained by subtracting the offset data is shown as a solid line 209 in FIG. 18C. As shown in FIG. 18C, by subtracting the offset data, it is possible to reduce the influence of impedance mismatch between transmission lines (for example, a 50Ω coaxial cable and the transmission line 10).
 制御部122は、反射波の時間領域データとして図18Cに示すようなデータを用いて、図1に示す磁気検出装置1と同様の処理により、磁界の位置及び強度を算出することができる。 The control unit 122 can calculate the position and intensity of the magnetic field by using the data as shown in FIG. 18C as the time domain data of the reflected wave and performing the same processing as that of the magnetic detection device 1 shown in FIG.
 制御部122は、反射率の周波数領域データ及び位相差の周波数領域データについて、逆フーリエ変換をしてから積分処理をする代わりに、周波数領域で畳み込み積分処理を行ってから逆フーリエ変換をしてもよい。これにより、制御部122は、逆フーリエ変換をしてから積分処理をする場合に比べて、計算にかかる時間を低減することができる。 The control unit 122 performs a convolution integration process in the frequency domain and then performs an inverse Fourier transform on the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference, instead of performing the inverse Fourier transform and then performing the integration process. Is also good. Accordingly, the control unit 122 can reduce the time required for the calculation as compared with the case where the inverse Fourier transform is performed and then the integration process is performed.
 なお、図18Bに示したような反射波の時間領域データを積分する処理は必須ではなく、制御部122は、図18Aに示すデータ205からデータ206を引いた差分のデータを、反射波の時間領域データとして用いて、磁界の位置及び強度を算出してもよい。 Note that the process of integrating the time domain data of the reflected wave as shown in FIG. 18B is not essential, and the control unit 122 calculates the difference data obtained by subtracting the data 206 from the data 205 shown in FIG. The position and intensity of the magnetic field may be calculated using the region data.
 また、制御部122は、オフセットデータを引いて差分のデータを算出する処理をしなくてもよい。この場合、制御部122は、磁界が印加された状態における反射波の時間領域データをそのまま用いて、磁界の位置及び強度を算出してもよい。 制 御 In addition, the control unit 122 does not have to perform the process of subtracting the offset data and calculating the difference data. In this case, the control unit 122 may calculate the position and intensity of the magnetic field using the time domain data of the reflected wave in the state where the magnetic field is applied.
 なお、2端子対回路(4端子回路網)におけるSパラメータ(Scattering parameter)として、順方向の反射率であるS11を用いているが、逆方向の反射率であるS22を用いてもよい。ここで、S11は、一方の端子から信号を入力したときに一方の端子に反射する信号を意味し、S22は、他方の端子から信号を入力したときに他方の端子に反射する信号を意味する。 Note that S11, which is the reflectance in the forward direction, is used as the S parameter (Scattering @parameter) in the two-port pair circuit (four-terminal network), but S22, which is the reflectance in the reverse direction, may be used. Here, S11 means a signal reflected on one terminal when a signal is input from one terminal, and S22 means a signal reflected on the other terminal when a signal is input from the other terminal. .
 本開示は、その精神又はその本質的な特徴から離れることなく、上述した実施形態以外の他の所定の形態で実現できることは当業者にとって明白である。従って、先の記述は例示的であり、これに限定されない。開示の範囲は、先の記述によってではなく、付加した請求項によって定義される。あらゆる変更のうちその均等の範囲内にあるいくつかの変更は、その中に包含される。 It will be apparent to those skilled in the art that the present disclosure can be realized in other predetermined forms other than the above-described embodiments without departing from the spirit or essential features thereof. Accordingly, the foregoing description is by way of example and not limitation. The scope of the disclosure is defined by the appended claims, not by the foregoing description. Some of the changes that come within their equivalents are embraced therein.
 例えば、上述した各構成部の配置及び個数等は、上記の説明及び図面における図示の内容に限定されない。各構成部の配置及び個数等は、その機能を実現できるのであれば、任意に構成されてもよい。 For example, the arrangement and number of the above-described components are not limited to the above description and the contents shown in the drawings. The arrangement and number of the components may be arbitrarily configured as long as the function can be realized.
 1、2 磁気検出装置
 10、10a、10b、10c、10d、10e、10f 伝送線路
 11、11a、11b、11c、11d、11e、11f 第1導体(信号線)
 12、12a、12b、12c、12d、12e、12f 誘電体
 13、13a、13b、13c、13d、13e、13f 第2導体(シールド線)
 14、14a、14b 被覆
 15a 導体
 16a 磁性膜
 20 演算装置
 21 入力回路
 22 ADコンバータ(ADC)
 23 制御部
 24 メモリ
 30 信号発生器
 40 コネクタ
 50 終端抵抗
 60 磁石
 70 コイル
 100 測定装置
 120 演算装置
 121 信号検波器
 122 制御部
 123 メモリ
 130 信号発生器
 140 方向性結合器
1, 2 Magnetic detection device 10, 10a, 10b, 10c, 10d, 10e, 10f Transmission line 11, 11a, 11b, 11c, 11d, 11e, 11f First conductor (signal line)
12, 12a, 12b, 12c, 12d, 12e, 12f Dielectric 13, 13a, 13b, 13c, 13d, 13e, 13f Second conductor (shield wire)
14, 14a, 14b Coating 15a Conductor 16a Magnetic film 20 Arithmetic unit 21 Input circuit 22 AD converter (ADC)
Reference Signs List 23 control unit 24 memory 30 signal generator 40 connector 50 terminator 60 magnet 70 coil 100 measuring device 120 arithmetic unit 121 signal detector 122 control unit 123 memory 130 signal generator 140 directional coupler

Claims (14)

  1.  磁性材を含む線状の第1導体を備える伝送線路と、
     前記伝送線路に入射波としてパルスを入力する信号発生器と、
     前記伝送線路の磁界印加位置においてインピーダンス不整合により生じた反射波と、前記入射波とを検出する演算装置と、を備え、
     前記演算装置は、前記入射波と前記反射波とに基づいて、前記伝送線路に印加された磁界の位置及び強度を算出する、磁気検出装置。
    A transmission line including a linear first conductor including a magnetic material;
    A signal generator that inputs a pulse as an incident wave to the transmission line,
    A reflected wave generated due to impedance mismatch at a magnetic field application position of the transmission line, and an arithmetic device that detects the incident wave,
    The magnetic detection device, wherein the arithmetic device calculates a position and an intensity of a magnetic field applied to the transmission line based on the incident wave and the reflected wave.
  2.  請求項1に記載の磁気検出装置において、
     前記演算装置は、前記入射波を検出した時間と、前記反射波を検出した時間との差分に基づいて、前記伝送線路に印加された磁界の位置を算出する、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to claim 1,
    The magnetic detection device, wherein the arithmetic device calculates a position of a magnetic field applied to the transmission line based on a difference between a time when the incident wave is detected and a time when the reflected wave is detected.
  3.  請求項1又は2に記載の磁気検出装置において、
     前記演算装置は、前記反射波の振幅に基づいて、前記伝送線路に印加された磁界の強度を算出する、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to claim 1 or 2,
    The magnetic detection device, wherein the arithmetic device calculates an intensity of a magnetic field applied to the transmission line based on an amplitude of the reflected wave.
  4.  請求項1から3のいずれか一項に記載の磁気検出装置において、
     前記演算装置は、
      前記伝送線路に磁界が印加されていない状態のデータをオフセットデータとして検出し、
      前記伝送線路に磁界が印加されている状態における反射波のデータから前記オフセットデータを引いた差分のデータを、磁界の位置及び強度を算出するための反射波のデータとして用いる、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to any one of claims 1 to 3,
    The arithmetic unit includes:
    Detecting data in a state where no magnetic field is applied to the transmission line as offset data,
    A magnetic detection device, wherein data of a difference obtained by subtracting the offset data from data of a reflected wave in a state where a magnetic field is applied to the transmission line is used as reflected wave data for calculating a position and an intensity of the magnetic field.
  5.  請求項1から4のいずれか一項に記載の磁気検出装置において、
     前記伝送線路は、
      誘電体と、第2導体と、をさらに備え、
      同軸ケーブル、平行二線路、ストリップ線路、マイクロストリップ線路、コプレーナ線路及び導波管のいずれかである、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to any one of claims 1 to 4,
    The transmission line,
    Further comprising a dielectric and a second conductor,
    A magnetic detection device, which is one of a coaxial cable, a parallel two line, a strip line, a microstrip line, a coplanar line, and a waveguide.
  6.  請求項1から5のいずれか一項に記載の磁気検出装置において、
     前記第1導体は、磁性材が略均一に分布する、又は、導体表面に磁性材を含む磁性膜が形成されている、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to any one of claims 1 to 5,
    A magnetic detection device according to claim 1, wherein the first conductor has a magnetic material substantially uniformly distributed, or a magnetic film containing the magnetic material is formed on the conductor surface.
  7.  請求項1から6のいずれか一項に記載の磁気検出装置において、
     前記伝送線路は、複数の前記第1導体を備える、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to any one of claims 1 to 6,
    The magnetic detection device, wherein the transmission line includes a plurality of the first conductors.
  8.  請求項1から7のいずれか一項に記載の磁気検出装置において、
     前記伝送線路にバイアス磁界を印加するコイルをさらに備える、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to any one of claims 1 to 7,
    A magnetic detection device further comprising a coil for applying a bias magnetic field to the transmission line.
  9.  請求項1から8のいずれか一項に記載の磁気検出装置において、
     前記パルスは、矩形波状、正弦波状、三角波状及び鋸波状のいずれかである、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to any one of claims 1 to 8,
    The magnetic detection device, wherein the pulse has any one of a rectangular waveform, a sine waveform, a triangular waveform, and a sawtooth waveform.
  10.  請求項1から8のいずれか一項に記載の磁気検出装置において、
     前記信号発生器は、前記入射波として正弦波状のパルスを掃引して前記伝送線路に入力し、
     前記演算装置は、
      掃引して入力された前記入射波の周波数毎に、前記入射波に対する前記反射波の振幅及び位相差を取得し、
      前記入射波に対する前記反射波の前記振幅に基づいて反射率の周波数領域データを生成し、
      前記入射波に対する前記反射波の前記位相差に基づいて位相差の周波数領域データを生成し、
      前記反射率の周波数領域データ及び前記位相差の周波数領域データを逆フーリエ変換して前記反射波の時間領域データを生成し、前記伝送線路に印加された磁界の位置及び強度を算出する、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to any one of claims 1 to 8,
    The signal generator sweeps a sinusoidal pulse as the incident wave and inputs the pulse to the transmission line,
    The arithmetic unit includes:
    For each frequency of the input wave that has been input by sweeping, to obtain the amplitude and phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave,
    Generate frequency domain data of reflectivity based on the amplitude of the reflected wave for the incident wave,
    Generate frequency domain data of the phase difference based on the phase difference of the reflected wave with respect to the incident wave,
    Magnetic field detection for generating the time domain data of the reflected wave by performing an inverse Fourier transform of the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference, and calculating the position and intensity of the magnetic field applied to the transmission line; apparatus.
  11.  請求項10に記載の磁気検出装置において、
     前記信号発生器は、前記正弦波状のパルスを掃引して前記伝送線路に入力し、
     前記演算装置は、前記反射率の周波数領域データ及び前記位相差の周波数領域データを逆フーリエ変換してインパルス応答として前記反射波の時間領域データを生成するか、又は、逆フーリエ変換された前記反射率の周波数領域データ及び前記位相差の周波数領域データを積分してステップ応答として前記反射波の時間領域データを生成する、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to claim 10,
    The signal generator sweeps the sinusoidal pulse and inputs the pulse to the transmission line,
    The arithmetic unit generates the time domain data of the reflected wave as an impulse response by performing an inverse Fourier transform on the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference, or the inverse Fourier transformed reflection A magnetic detection device that integrates frequency domain data of a ratio and frequency domain data of the phase difference to generate time domain data of the reflected wave as a step response.
  12.  請求項10に記載の磁気検出装置において、
     前記信号発生器は、前記正弦波状のパルスを掃引して前記伝送線路に入力し、
     前記演算装置は、前記反射率の周波数領域データ及び前記位相差の周波数領域データについて畳み込み積分処理を行って、逆フーリエ変換を行い、ステップ応答として前記反射波の時間領域データを生成する、磁気検出装置。
    The magnetic detection device according to claim 10,
    The signal generator sweeps the sinusoidal pulse and inputs the pulse to the transmission line,
    The arithmetic unit performs a convolution integration process on the frequency domain data of the reflectance and the frequency domain data of the phase difference, performs an inverse Fourier transform, and generates time domain data of the reflected wave as a step response. apparatus.
  13.  磁界の検出に使用される伝送線路であって、
     磁性材が略均一に分布する、又は、導体表面に磁性材を含む磁性膜が形成されている信号線を備える、伝送線路。
    A transmission line used for detecting a magnetic field,
    A transmission line comprising a signal line in which a magnetic material is substantially uniformly distributed or a magnetic film containing the magnetic material is formed on a conductor surface.
  14.  磁性材を含む線状の第1導体を備える伝送線路と、信号発生器と、演算装置と、を備える磁気検出装置における磁気検出方法であって、
     前記信号発生器が、前記伝送線路に入射波としてパルスを入力するステップと、
     前記演算装置が、前記伝送線路の磁界印加位置においてインピーダンス不整合により生じた反射波と、前記入射波とを検出するステップと、
     前記演算装置が、前記入射波と前記反射波とに基づいて、前記伝送線路に印加された磁界の位置及び強度を算出するステップと、を含む磁気検出方法。
     
    A transmission line including a linear first conductor including a magnetic material, a signal generator, and an arithmetic unit, the method for detecting magnetic field in a magnetic detection device,
    The signal generator inputs a pulse as an incident wave to the transmission line,
    The arithmetic unit detects a reflected wave generated due to impedance mismatch at a magnetic field application position of the transmission line, and the incident wave,
    Calculating the position and intensity of a magnetic field applied to the transmission line based on the incident wave and the reflected wave.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05151535A (en) * 1991-02-28 1993-06-18 Sony Corp Magnetic field detector utilizing distribution factor circuit
JP2000180520A (en) * 1998-12-14 2000-06-30 Toshiba Corp Magnetic field sensor
JP2001289926A (en) * 2000-04-05 2001-10-19 Ricoh Co Ltd Magnetoresistance effect element, and magnetic sensor
JP2007240289A (en) * 2006-03-08 2007-09-20 Tohoku Univ High frequency carrier type thin film magnetic field sensor
JP2018190387A (en) 2017-04-28 2018-11-29 株式会社Buzzrio Introduction management system, method, and computer program
JP2019182846A (en) 2018-03-30 2019-10-24 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所 Antivirus agent

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05151535A (en) * 1991-02-28 1993-06-18 Sony Corp Magnetic field detector utilizing distribution factor circuit
JP2000180520A (en) * 1998-12-14 2000-06-30 Toshiba Corp Magnetic field sensor
JP2001289926A (en) * 2000-04-05 2001-10-19 Ricoh Co Ltd Magnetoresistance effect element, and magnetic sensor
JP2007240289A (en) * 2006-03-08 2007-09-20 Tohoku Univ High frequency carrier type thin film magnetic field sensor
JP2018190387A (en) 2017-04-28 2018-11-29 株式会社Buzzrio Introduction management system, method, and computer program
JP2019182846A (en) 2018-03-30 2019-10-24 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所 Antivirus agent

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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