WO2009107845A1 - Metal/cured resin laminate - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a metal/cured resin laminate having a metal layer and a cured conjugated diene polymer layer, wherein the surface of the metal layer that attaches to the cured conjugate diene polymer layer has a roughness (Rz) not exceeding 2,500nm, and the strength of adhesion between the metal layer and the cured conjugated diene polymer layer not less than 0.5kN/m.

Description

金属-硬化樹脂積層体Metal-cured resin laminate
  本発明は、電子回路配線基板を含む多層配線基板等に好適な金属-硬化樹脂積層体とその製造方法に関する。 The present invention relates to a metal-cured resin laminate suitable for a multilayer wiring board including an electronic circuit wiring board and a method for producing the same.
  回路基板は、一般に誘電体層と導体層とから構成される。近年、高度情報化時代を迎え、情報伝送は高速化・高周波化に動き出し、マイクロ波通信やミリ波通信が現実になってきている。これらの高周波化時代の回路基板は、高周波におけるノイズや伝送ロスを極限まで軽減する必要があり、(1/誘電正接)で表わされるQ値の高い誘電体材料の選定と、誘電体層との密着界面が平滑な導体層形成が重要な課題となってきている。 A circuit board is generally composed of a dielectric layer and a conductor layer. In recent years, with the advent of advanced information technology, information transmission has begun to increase in speed and frequency, and microwave communication and millimeter wave communication have become a reality. These circuit boards in the high frequency era need to reduce noise and transmission loss at high frequencies to the utmost. Selection of a dielectric material having a high Q value represented by (1 / dielectric loss tangent) and the dielectric layer Formation of a conductor layer with a smooth adhesion interface has become an important issue.
  誘電体材料については、従来の低周波(k~MHz領域)で用いられる回路基板ではQ値が通常10~30程度のエポキシ樹脂が用いられていた。しかしながら、GHz領域で用いられる高周波回路基板においては、Q値が小さいと回路基板の性能や信頼性が十分でなく、従来に対して数倍~10倍以上、具体的にはQ値が100以上、好ましくは300以上、より好ましくは500以上の材料が求められてきている。 As a dielectric material, an epoxy resin having a Q value of usually about 10 to 30 is used in a circuit board used in a conventional low frequency (k to MHz range). However, in a high-frequency circuit board used in the GHz region, if the Q value is small, the performance and reliability of the circuit board are not sufficient, and several times to 10 times or more, more specifically, the Q value is 100 or more than the conventional one. Preferably, 300 or more, more preferably 500 or more materials have been demanded.
  導体層表面については、従来、導体層(金属)と誘電体層(有機材料)との密着性が悪いために、誘電体材料との物理密着(アンカー効果)を形成させるように大きく粗化して用いられていた。例えば、市販の銅箔としては、厚さ9~18μmの銅箔の片表面に7~8μm程度の粒状突起を数多く形成させた電解銅箔が用いられている。しかしながら、高周波領域における情報伝送は、導体層全体ではなく導体層表面だけで行われるため、導体層表面が荒れていると伝送遅延やノイズ発生の原因となる。一方、表面を粗化していない導体層を用いると、導体層と誘電体層との密着性が一層悪くなる問題が生ずる。特に、上記Q値の高い誘電体材料は、Q値を高めるためにエポキシ樹脂等にある極性基を極限まで低減してきているので、この平滑な導体層との密着がいっそう難しくなる大きな問題が生じていた。 Conventionally, the surface of the conductor layer has been roughened so as to form physical adhesion (anchor effect) with the dielectric material because the adhesion between the conductor layer (metal) and the dielectric layer (organic material) is poor. It was used. For example, as a commercially available copper foil, an electrolytic copper foil in which a large number of granular protrusions of about 7 to 8 μm are formed on one surface of a 9 to 18 μm thick copper foil is used. However, since information transmission in the high frequency region is performed only on the surface of the conductor layer, not the entire conductor layer, if the surface of the conductor layer is rough, transmission delay and noise are caused. On the other hand, when a conductor layer whose surface is not roughened is used, there arises a problem that the adhesion between the conductor layer and the dielectric layer becomes worse. In particular, the dielectric material having a high Q value has reduced the polar groups in the epoxy resin or the like to the maximum in order to increase the Q value, so that a big problem that the adhesion with the smooth conductor layer becomes more difficult occurs. It was.
  特許文献1には、Q値の高い誘電体材料として、室温で液状の分子量5,000未満である1,2-ポリブタジエン、固体ポリマーであるスチレン-ブタジエン-スチレントリブロックポリマー等の熱可塑性ブロックコポリマー、ジクミルパーオキシドやt-ブチルパーオキシヘキシン-3などの架橋剤、ジビニルベンゼンや多官能アクリレート等の架橋助剤、多量のシランカップリング剤で表面処理された充填材などを混合してスラリーとして繊維強化材に含浸させた後に溶媒除去してプリプレグを作製し、次いで2枚の銅箔間に複数枚のプリプレグを積層し、硬化して積層体を作製することが開示されている。ここで開示される金属-硬化樹脂積層体の誘電損失は1~10GHzで測定されたQ値が169.5~285.7であること、及び、通常の銅箔との接着強度が2.1~5.0pli(0.37~0.88kN/m)の範囲であることが示されている。しかしながら、ここで開示される金属-硬化樹脂積層体の製造方法では、平滑な銅箔を用いると密着が取れない問題がある。 Patent Document 1 discloses a thermoplastic block copolymer such as 1,2-polybutadiene having a molecular weight of less than 5,000 at room temperature and a styrene-butadiene-styrene triblock polymer which is a solid polymer as a dielectric material having a high Q value. Mixing a crosslinking agent such as dicumyl peroxide and t-butylperoxyhexine-3, a crosslinking aid such as divinylbenzene and polyfunctional acrylate, and a filler surface-treated with a large amount of silane coupling agent. It is disclosed that a fiber reinforced material is impregnated as a slurry and then the solvent is removed to prepare a prepreg, and then a plurality of prepregs are laminated between two copper foils and cured to produce a laminate. The dielectric loss of the metal-cured resin laminate disclosed herein has a Q value measured at 1 to 10 GHz of 169.5 to 285.7, and an adhesive strength with a normal copper foil of 2.1. It is shown to be in the range of ~ 5.0 pli (0.37 to 0.88 kN / m). However, in the method for producing a metal-cured resin laminate disclosed herein, there is a problem that adhesion cannot be obtained when a smooth copper foil is used.
  一方、特許文献2には、ポリブタジエンやポリイソプレン樹脂等の硬化樹脂層と金属層との間にエチレン-プロピレン-ジエンエラストマーなどの接着促進エラストマー層を配置して硬化樹脂と金属とを接着する技術を開示している。銅箔としては0.5~1オンスのYates  FoilのTAX箔、TWX箔、CotechのTAX箔、Circuit  FoilのNT-TOR箔、NT-TWS箔、Mitsuiの3EC箔などの、表面の粗度(Rz)が通常5~10μmの範囲のものが用いられ、該銅箔と硬化樹脂との密着強度は、エチレン-プロピレン-ジエンエラストマーなどの接着促進エラストマー層を介在させないと3~4pli(0.53~0.70kN/m)程度だが、接着促進エラストマー層を介在させることで5~7pli(0.88~1.23kN/m)程度まで改善されることが開示されている。しかしながら、接着促進エラストマー層を設けると10GHzの誘電定数は3.457が3.449と下がるが、Q値が271から222と悪くなってしまう問題や銅箔の粗度を小さくするとこの方法でも十分に接着できない問題がある。 On the other hand, Patent Document 2 discloses a technique in which an adhesion promoting elastomer layer such as ethylene-propylene-diene elastomer is disposed between a cured resin layer such as polybutadiene or polyisoprene resin and a metal layer to bond the cured resin and the metal. Is disclosed. Surface roughness of copper foils such as 0.5-1 ounce Yats Foil TAX foil, TWX foil, Cotech TAX foil, Circuit Foil NT-TOR foil, NT-TWS foil, Mitsui 3EC foil ( Rz) is usually in the range of 5 to 10 μm, and the adhesion strength between the copper foil and the cured resin is 3 to 4 pli (0.53) unless an adhesion promoting elastomer layer such as ethylene-propylene-diene elastomer is interposed. However, it is disclosed that it can be improved to about 5 to 7 pli (0.88 to 1.23 kN / m) by interposing an adhesion promoting elastomer layer. However, when an adhesion promoting elastomer layer is provided, the dielectric constant at 10 GHz decreases from 3.457 to 3.449. However, this method is sufficient when the Q value is reduced from 271 to 222 and the roughness of the copper foil is reduced. There is a problem that can not be adhered.
特開平8-208856号公報JP-A-8-208856 特表2005-502192号公報JP 2005-502192 A
  本発明の目的は、高周波領域における優れた伝送特性や微細配線形成性を発現する金属-硬化樹脂積層体、すなわち、Q値が高く、且つ粗度の小さい金属層と硬化樹脂層との密着性にも優れた金属-硬化樹脂積層体を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a metal-cured resin laminate exhibiting excellent transmission characteristics and fine wiring formability in a high frequency region, that is, adhesion between a metal layer having a high Q value and low roughness and a cured resin layer. Another object of the present invention is to provide an excellent metal-cured resin laminate.
  本発明者らは、上記課題に鑑み硬化樹脂層と表面の粗度の小さい金属層との密着を高める方法について鋭意検討の結果、粗度が小さい金属層表面をラジカル反応性の炭素-炭素不飽和基を有するシランカップリング剤で処理し、次いで共役ジエンポリマーと硬化剤とを含む硬化性樹脂組成物層を該金属層表面に形成した後に加熱硬化(架橋)すると、Q値が高く、且つ粗度の小さい金属層と硬化樹脂層との密着性が高い金属-硬化樹脂積層体が初めて得られることを見出した。また、この方法によれば、金属層の厚みや粗度を極限まで小さくしても0.5kN/m以上の密着強度を得ることが可能であることを見出した。さらに、本発明で得られる、Q値が高く、且つ低粗度の金属層との密着性に優れる金属-硬化樹脂積層体を用いるとL/S=20μm以下の回路基板が容易に製造できること、また、マイクロストリップライン等の回路基板を作製し1~10GHzにおける伝送ロスを測定すると極めて小さい値であることがわかった。本発明者らは、これらの知見に基づいて本発明を完成するに至った。 In view of the above problems, the present inventors have intensively studied a method for improving the adhesion between the cured resin layer and the metal layer having a low surface roughness. As a result, the surface of the metal layer having a low roughness is treated with a radical-reactive carbon-carbon non-reactive layer. When a curable resin composition layer containing a conjugated diene polymer and a curing agent is formed on the surface of the metal layer after being treated with a silane coupling agent having a saturated group and then thermally cured (crosslinked), the Q value is high, and It has been found that a metal-cured resin laminate having high adhesion between a metal layer having a low roughness and a cured resin layer can be obtained for the first time. It has also been found that according to this method, it is possible to obtain an adhesion strength of 0.5 kN / m or more even if the thickness and roughness of the metal layer are reduced to the limit. Furthermore, when a metal-cured resin laminate obtained by the present invention and having a high Q value and excellent adhesion to a low-roughness metal layer is used, a circuit board having L / S = 20 μm or less can be easily produced. Further, when a circuit board such as a microstrip line was produced and the transmission loss at 1 to 10 GHz was measured, it was found that the value was extremely small. Based on these findings, the inventors have completed the present invention.
  かくして本発明によれば、金属層と硬化共役ジエンポリマー層とを有する金属-硬化樹脂積層体であって、金属層の、硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度(Rz)が2,500nm以下で、金属層と硬化共役ジエンポリマー層との密着強度が0.5kN/m以上である金属-硬化樹脂積層体が提供される。 Thus, according to the present invention, there is provided a metal-cured resin laminate having a metal layer and a cured conjugated diene polymer layer, wherein the roughness of the adhesive surface of the metal layer to the cured conjugated diene polymer layer (Rz) is 2, Provided is a metal-cured resin laminate having an adhesion strength between the metal layer and the cured conjugated diene polymer layer of 0.5 kN / m or more at 500 nm or less.
  本発明によれば、Q値が高く、且つ粗度の小さい金属層と硬化樹脂層との密着性に優れる金属-硬化樹脂積層体を容易に得ることができる。また、本発明の金属-硬化樹脂積層体は、Q値が高く、且つ粗度の小さい金属層と硬化樹脂層との密着性に優れるため、通信機器用途等のマイクロ波またはミリ波等の高周波回路基板に好適に使用することができる。また、本発明の金属-硬化樹脂積層体は、粗度の小さい金属層と硬化樹脂層との密着性に優れるため、L/Sを小さくでき、Q値が高く、且つ小型の回路基板とすることができる。 According to the present invention, it is possible to easily obtain a metal-cured resin laminate having a high Q value and excellent adhesion between a metal layer having a low roughness and a cured resin layer. In addition, since the metal-cured resin laminate of the present invention has a high Q value and excellent adhesion between the metal layer having a low roughness and the cured resin layer, the metal-cured resin laminate has a high frequency such as microwave or millimeter wave for use in communication equipment. It can be suitably used for a circuit board. Further, since the metal-cured resin laminate of the present invention is excellent in adhesion between the metal layer having a low roughness and the cured resin layer, the L / S can be reduced, the Q value is high, and the circuit board is small. be able to.
  本発明に使用される硬化共役ジエンポリマーとは、共役ジエンポリマーの硬化物である。該ポリマーとしては、通常、共役ジエンポリマーと硬化剤とを含む硬化性樹脂組成物を硬化したものが用いられる。本発明の金属-硬化樹脂積層体における硬化樹脂は硬化共役ジエンポリマーからなる。 硬化 The cured conjugated diene polymer used in the present invention is a cured product of a conjugated diene polymer. As this polymer, what hardened | cured the curable resin composition containing a conjugated diene polymer and a hardening | curing agent is used normally. The cured resin in the metal-cured resin laminate of the present invention comprises a cured conjugated diene polymer.
(共役ジエンポリマー)
  本発明に使用される共役ジエンポリマーは、少なくとも共役ジエンモノマー単位を含むポリマーである。該ポリマーとしては格別に限定はされないが、共役ジエンホモポリマーと共役ジエン共重合ポリマーとからなる群から選ばれる少なくとも1種が好適に用いられる。これらの合成方法は特に限定されない。
(Conjugated diene polymer)
The conjugated diene polymer used in the present invention is a polymer containing at least a conjugated diene monomer unit. The polymer is not particularly limited, but at least one selected from the group consisting of a conjugated diene homopolymer and a conjugated diene copolymer is preferably used. These synthesis methods are not particularly limited.
  共役ジエンモノマーとしては、例えば、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、ペンタジエンなどが挙げられ、好ましくはブタジエンやイソプレンで、より好ましくはブタジエンである。 Examples of the conjugated diene monomer include butadiene, isoprene, chloroprene, pentadiene and the like, preferably butadiene and isoprene, and more preferably butadiene.
  共役ジエンホモポリマーとしては、例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ポリシアノブタジエン、ポリペンタジエンなどが挙げられ、好ましくはポリブタジエン、ポリイソプレン、より好ましくはポリブタジエンである。 Examples of the conjugated diene homopolymer include polybutadiene, polyisoprene, polychloroprene, polycyanobutadiene, polypentadiene, and the like, preferably polybutadiene, polyisoprene, and more preferably polybutadiene.
  共役ジエン共重合ポリマーとしては、少なくとも共役ジエンモノマー単位を含む共重合ポリマーであれば格別な限定はなく、例えば、ランダム共重合ポリマーやブロック共重合ポリマーを用いることができる。共役ジエン共重合ポリマーを用いると、硬化共役ジエンポリマー層に強化繊維を含む場合は、強化繊維への硬化樹脂の含浸性と得られる金属-硬化樹脂積層体の密着強度、機械的強度、靭性等の特性が高度にバランスされ好適である。 The conjugated diene copolymer is not particularly limited as long as it is a copolymer containing at least a conjugated diene monomer unit. For example, a random copolymer or a block copolymer can be used. When a conjugated diene copolymer is used, if the cured conjugated diene polymer layer contains reinforcing fibers, the cured resin impregnation into the reinforcing fibers and the adhesion strength, mechanical strength, toughness, etc. of the resulting metal-cured resin laminate These characteristics are highly balanced and suitable.
  共役ジエン共重合ポリマーにおいて、共役ジエンモノマーと共重合可能なモノマーとしては、例えば、シアノ基含有ビニルモノマー、アミノ基含有ビニルモノマー、ピリジル基含有ビニルモノマー、アルコキシル基含有ビニルモノマー、芳香族ビニルモノマーなどが挙げられ、これらの中でもシアノ基含有ビニルモノマーや芳香族ビニルモノマーが好ましく、特に芳香族ビニルモノマーが好ましい。 Examples of the monomer copolymerizable with the conjugated diene monomer in the conjugated diene copolymer include, for example, a cyano group-containing vinyl monomer, an amino group-containing vinyl monomer, a pyridyl group-containing vinyl monomer, an alkoxyl group-containing vinyl monomer, and an aromatic vinyl monomer. Among these, cyano group-containing vinyl monomers and aromatic vinyl monomers are preferable, and aromatic vinyl monomers are particularly preferable.
  芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、3-メチルスチレン、4-メチルスチレン、2,4-ジイソプロピルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、4-t-ブチルスチレン、5-t-ブチル-2-メチルスチレン、N,N-ジメチルアミノエチルスチレン、N,N-ジエチルアミノエチルスチレンなどを挙げることができ、これらの中でも、スチレン、及びα-メチルスチレンが特に好ましい。 Examples of the aromatic vinyl monomer include styrene, α-methyl styrene, 2-methyl styrene, 3-methyl styrene, 4-methyl styrene, 2,4-diisopropyl styrene, 2,4-dimethyl styrene, and 4-t-butyl. Examples include styrene, 5-t-butyl-2-methylstyrene, N, N-dimethylaminoethylstyrene, N, N-diethylaminoethylstyrene, and among these, styrene and α-methylstyrene are particularly preferable. .
  共役ジエン共重合ポリマーの共役ジエンモノマー単位と共重合可能なモノマー単位との配合割合は、使用目的に応じて適宜選択され、共役ジエンモノマー単位/共重合可能なモノマー単位の重量比で、通常95/5~5/95、好ましくは90/10~10/90、より好ましくは80/20~20/80の範囲であり、この範囲の時に、金属-硬化樹脂積層体の密着強度、機械的強度及び靭性の特性が高度にバランスされ好適である。 The blending ratio of the conjugated diene monomer unit and the copolymerizable monomer unit of the conjugated diene copolymer is appropriately selected according to the purpose of use, and is usually 95 by weight ratio of the conjugated diene monomer unit / the copolymerizable monomer unit. / 5 to 5/95, preferably 90/10 to 10/90, more preferably 80/20 to 20/80, and within this range, the adhesion strength and mechanical strength of the metal-cured resin laminate And toughness properties are highly balanced and suitable.
  共役ジエン共重合ポリマーとして用いられる共役ジエンブロック共重合ポリマーの結合様式は、2ブロック共重合体、3ブロック共重合体、4ブロック共重合体、5ブロック共重合体等、使用目的に応じて適宜選択されるが、3ブロック共重合体を用いると、金属層と硬化共役ジエンポリマー層との積層性と、得られる積層体の機械的強度との関係が高度にバランスされ好適である。具体的には、スチレン-ブタジエン-スチレンブロックポリマー、スチレン-イソプレン-スチレンブロックポリマー、α-メチルスチレン-ブタジエン-α-メチルスチレンブロックポリマーなどが挙げられ、好ましくはスチレン-ブタジン-スチレンブロックポリマーである。 The coupling mode of the conjugated diene block copolymer used as the conjugated diene copolymer is appropriately selected according to the purpose of use, such as a 2-block copolymer, a 3-block copolymer, a 4-block copolymer, and a 5-block copolymer. Although selected, the use of a triblock copolymer is preferable because the relationship between the laminate property of the metal layer and the cured conjugated diene polymer layer and the mechanical strength of the resulting laminate is highly balanced. Specific examples include styrene-butadiene-styrene block polymers, styrene-isoprene-styrene block polymers, α-methylstyrene-butadiene-α-methylstyrene block polymers, and preferably styrene-butazine-styrene block polymers. .
  本発明に使用される共役ジエンポリマーの共役ジエン部のビニル結合量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、赤外分光光度計を用いてハンプトン法(R.Hampton,Anal.Chem.,21,923(1949))により測定される値で、通常5モル%以上、好ましくは40モル%以上、より好ましくは60モル%以上、最も好ましくは80モル%以上である。ビニル結合量がこの範囲である時に、金属-硬化樹脂積層体の密着強度と機械的強度を高度に向上させることができ好適である。 The vinyl bond amount of the conjugated diene part of the conjugated diene polymer used in the present invention is appropriately selected according to the purpose of use, but it is determined using a Hampton method (R. Hampton, Anal. Chem., Using an infrared spectrophotometer). 21, 923 (1949)), usually 5 mol% or more, preferably 40 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, most preferably 80 mol% or more. When the vinyl bond content is within this range, the adhesion strength and mechanical strength of the metal-cured resin laminate can be improved to a high degree, which is preferable.
  本発明に使用される共役ジエンポリマーの分子量は、使用目的に応じて適宜選択できるが、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(ポリスチレン換算、トルエン溶離液)で測定される重量平均分子量で、通常500~5,000,000、好ましくは1,000~1,000,000の範囲である。 The molecular weight of the conjugated diene polymer used in the present invention can be appropriately selected depending on the purpose of use, but it is a weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (polystyrene conversion, toluene eluent), usually 500 to 5, It is in the range of 1,000,000, preferably 1,000 to 1,000,000.
  本発明においては、上記共役ジエンポリマーは、それぞれ単独で、または2種以上組み合わせて用いることができるが、共役ジエンホモポリマーと共役ジエン共重合ポリマーを組み合わせることで金属-硬化樹脂積層体の密着強度、機械的特性、強靭性の特性が高度にバランスされ好適である。 In the present invention, each of the conjugated diene polymers can be used alone or in combination of two or more kinds. By combining the conjugated diene homopolymer and the conjugated diene copolymer, the adhesion strength of the metal-cured resin laminate can be obtained. The mechanical properties and toughness properties are highly balanced and suitable.
  共役ジエンホモポリマーと共役ジエン共重合ポリマーを組み合わせる場合の、共役ジエンホモポリマーの分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(ポリスチレン換算、トルエン溶離液)で測定される重量平均分子量で、通常500~500,000、好ましくは1,000~10,000、より好ましくは1,000~5,000の範囲である。組み合わせる場合の、共役ジエン共重合ポリマーの分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(ポリスチレン換算、トルエン溶離液)で測定される重量平均分子量で、通常1,000~1,000,000、好ましくは5,000~500,000、より好ましくは10,000~300,000の範囲である。共役ジエンホモポリマーと共役ジエン共重合ポリマーの分子量がこの範囲である時に、金属-硬化樹脂積層体の密着強度と機械的強度、特に硬化性樹脂組成物に強化繊維を使用した場合の密着強度と機械強度が高度にバランスされ好適である。 When the conjugated diene homopolymer and the conjugated diene copolymer are combined, the molecular weight of the conjugated diene homopolymer is a weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (polystyrene conversion, toluene eluent), usually 500 to 500, 000, preferably 1,000 to 10,000, more preferably 1,000 to 5,000. When combined, the molecular weight of the conjugated diene copolymer is a weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (polystyrene conversion, toluene eluent), and is usually 1,000 to 1,000,000, preferably 5, The range is from 000 to 500,000, more preferably from 10,000 to 300,000. When the molecular weight of the conjugated diene homopolymer and the conjugated diene copolymer is within this range, the adhesion strength and mechanical strength of the metal-cured resin laminate, particularly when the reinforcing fiber is used in the curable resin composition, The mechanical strength is highly balanced and suitable.
  共役ジエンホモポリマーと共役ジエン共重合ポリマーを組み合わせる場合の配合割合は、使用目的に応じて適宜選択されるが、共役ジエンホモポリマー/共役ジエン共重合ポリマーの重量比で、通常10/90~95/5、好ましくは50/50~90/10、より好ましくは70/30~85/15の範囲である。両者の割合がこの範囲にあるときに、金属-硬化樹脂積層体の密着強度、機械的特性、強靭性の特性が高度にバランスされ好適である。 The blending ratio in the case of combining the conjugated diene homopolymer and the conjugated diene copolymer is appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 10/90 to 95 in terms of the weight ratio of the conjugated diene homopolymer / conjugated diene copolymer. / 5, preferably 50/50 to 90/10, more preferably in the range of 70/30 to 85/15. When the ratio of the two is within this range, the adhesion strength, mechanical properties, and toughness properties of the metal-cured resin laminate are highly balanced, which is preferable.
(硬化剤)
  本発明に使用される硬化剤としては、上記共役ジエンポリマーの硬化反応を誘起し得るものであれば格別な制限はないが、通常ラジカル発生剤が用いられる。ラジカル発生剤としては、有機過酸化物、ジアゾ化合物および非極性ラジカル発生剤などが挙げられ、好ましくは有機過酸化物や非極性ラジカル発生剤である。特にQ値を高度に高め且つ金属層と硬化共役ジエンポリマー層との密着性も高める上では、非極性ラジカル発生剤が好適である。
(Curing agent)
The curing agent used in the present invention is not particularly limited as long as it can induce the curing reaction of the conjugated diene polymer, but a radical generator is usually used. Examples of the radical generator include organic peroxides, diazo compounds, and nonpolar radical generators, with organic peroxides and nonpolar radical generators being preferred. In particular, a nonpolar radical generator is preferred in order to increase the Q value to a high degree and to improve the adhesion between the metal layer and the cured conjugated diene polymer layer.
  有機過酸化物としては、例えば、t-ブチルヒドロペルオキシド、p-メンタンヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシドなどのヒドロペルオキシド類;ジクミルペルオキシド、t-ブチルクミルペルオキシド、α,α’-ビス(t-ブチルペルオキシ-m-イソプロピル)ベンゼン、ジ-t-ブチルペルオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキシ)-3-ヘキシン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキシ)ヘキサンなどのジアルキルペルオキシド類;ジプロピオニルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシドなどのジアシルペルオキシド類;2,2-ジ(t-ブチルペルオキシ)ブタン、1,1-ジ(t-ヘキシルペルオキシ)シクロヘキサン、1,1-ジ(t-ブチルペルオキシ)-2-メチルシクロヘキサン、1,1-ジ(t-ブチルペルオキシ)シクロヘキサンなどのペルオキシケタール類;t-ブチルペルオキシアセテート、t-ブチルペルオキシベンゾエートなどのペルオキシエステル類;t-ブチルペルオキシイソプロピルカルボナート、ジ(イソプロピルペルオキシ)ジカルボナートなどのペルオキシカルボナート類;t-ブチルトリメチルシリルペルオキシドなどのアルキルシリルペルオキシド類;などが挙げられる。中でも、ジアルキルペルオキシドおよびペルオキシケタール類が好ましい。 Examples of the organic peroxide include hydroperoxides such as t-butyl hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, cumene hydroperoxide; dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, α, α'-bis (t- Butylperoxy-m-isopropyl) benzene, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) -3-hexyne, 2,5-dimethyl-2,5-di ( dialkyl peroxides such as t-butylperoxy) hexane; diacyl peroxides such as dipropionyl peroxide and benzoyl peroxide; 2,2-di (t-butylperoxy) butane, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) -2- Peroxyketals such as tilcyclohexane and 1,1-di (t-butylperoxy) cyclohexane; peroxyesters such as t-butylperoxyacetate and t-butylperoxybenzoate; t-butylperoxyisopropylcarbonate, di (isopropylperoxy) ) Peroxycarbonates such as dicarbonate; alkylsilyl peroxides such as t-butyltrimethylsilyl peroxide; and the like. Of these, dialkyl peroxides and peroxyketals are preferable.
  ジアゾ化合物としては、例えば、4,4’-ビスアジドベンザル(4-メチル)シクロヘキサノン、2,6-ビス(4’-アジドベンザル)シクロヘキサノンなどが挙げられる。 Examples of diazo compounds include 4,4'-bisazidobenzal (4-methyl) cyclohexanone and 2,6-bis (4'-azidobenzal) cyclohexanone.
  非極性ラジカル発生剤としては、2,3-ジメチル-2,3-ジフェニルブタン、3,4-ジメチル-3,4-ジフェニルヘキサン、1,1,2-トリフェニルエタン、1,1,1-トリフェニル-2-フェニルエタンなどが挙げられる。 Nonpolar radical generators include 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane, 3,4-dimethyl-3,4-diphenylhexane, 1,1,2-triphenylethane, 1,1,1- And triphenyl-2-phenylethane.
  本発明に使用される硬化剤がラジカル発生剤の場合の1分間半減期温度は、ラジカル発生剤の種類及び使用条件により適宜選択されるが、通常、50~350℃、好ましくは100~250℃、より好ましくは150~230℃の範囲である。ここで1分間半減期温度は、ラジカル発生剤の半量が1分間で分解する温度である。例えば、ジ-t-ブチルペルオキシドでは186℃、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルペルオキシ)-3-ヘキシンでは194℃である。 When the curing agent used in the present invention is a radical generator, the one-minute half-life temperature is appropriately selected depending on the type of radical generator and the use conditions, but is usually 50 to 350 ° C., preferably 100 to 250 ° C. More preferably, it is in the range of 150 to 230 ° C. Here, the half-life temperature for 1 minute is a temperature at which half of the radical generator decomposes in 1 minute. For example, it is 186 ° C. for di-t-butyl peroxide and 194 ° C. for 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) -3-hexyne.
  これらの硬化剤は、それぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。硬化剤の使用量は、共役ジエンポリマー100重量部に対して、通常0.01~10重量部、好ましくは0.1~10重量部、より好ましくは0.5~5重量部の範囲である。 These curing agents can be used alone or in combination of two or more. The amount of the curing agent used is usually in the range of 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.5 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conjugated diene polymer. .
  本発明に使用される硬化性樹脂組成物には、上記共役ジエンポリマーと硬化剤とを必須成分として、所望により、充填材、老化防止剤、硬化助剤、強化繊維及びその他の配合剤などを添加することができる。 The curable resin composition used in the present invention contains the conjugated diene polymer and a curing agent as essential components, and optionally contains a filler, an antioxidant, a curing aid, a reinforcing fiber, and other compounding agents. Can be added.
  本発明においては、硬化性樹脂組成物に充填材を配合することで、金属-硬化樹脂積層体の機械的強度の向上や熱膨張率の低減が図れるため好適である。充填材としては、工業的に一般に使用されるものであれば格別な限定はなく、無機充填材や有機充填材のいずれも用いることができるが、好適には無機充填材である。 In the present invention, it is preferable to add a filler to the curable resin composition because the mechanical strength of the metal-cured resin laminate can be improved and the thermal expansion coefficient can be reduced. The filler is not particularly limited as long as it is generally used industrially, and either an inorganic filler or an organic filler can be used, but an inorganic filler is preferred.
  無機充填材としては、例えば、鉄、銅、ニッケル、金、銀、アルミニウム、鉛、タングステン等の金属粒子;カーボンブラック、グラファイト、活性炭、炭素バルーン等の炭素粒子;シリカ、シリカバルーン、アルミナ、酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化すず、酸化ベリリウム、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の無機酸化物粒子;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸水素ナトリウム等の無機炭酸塩粒子;硫酸カルシウム等の無機硫酸塩粒子;タルク、クレー、マイカ、カオリン、フライアッシュ、モンモリロナイト、ケイ酸カルシウム、ガラス、ガラスバルーン等の無機ケイ酸塩粒子;チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸鉛等のチタン酸塩粒子、窒化アルミニウム、炭化ケイ素粒子やウィスカー等が挙げられる。 Examples of the inorganic filler include metal particles such as iron, copper, nickel, gold, silver, aluminum, lead, and tungsten; carbon particles such as carbon black, graphite, activated carbon, and carbon balloon; silica, silica balloon, alumina, and oxidation. Inorganic oxide particles such as titanium, iron oxide, zinc oxide, magnesium oxide, tin oxide, beryllium oxide, barium ferrite and strontium ferrite; inorganic carbonate particles such as calcium carbonate, magnesium carbonate and sodium hydrogen carbonate; inorganic such as calcium sulfate Sulfate particles: inorganic silicate particles such as talc, clay, mica, kaolin, fly ash, montmorillonite, calcium silicate, glass, glass balloon; calcium titanate, strontium titanate, barium titanate, lead zirconate titanate Titanium etc. Examples thereof include acid salt particles, aluminum nitride, silicon carbide particles and whiskers.
  有機充填剤としては、例えば、木粉、デンプン、有機顔料、ポリスチレン、ナイロン、ポリエチレンやポリプロピレンのようなポリオレフィン、塩化ビニル、各種エラストマー、廃プラスチック等の化合物粒子が挙げられる。 Examples of organic fillers include compound particles such as wood powder, starch, organic pigments, polystyrene, nylon, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, vinyl chloride, various elastomers, and waste plastics.
  この中でも、Q値を高くすることができ、好ましいものは無機酸化物粒子であり、具体的には、シリカ、アルミナ、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムなどチタン酸塩粒子がある。これらの充填材は、それぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、共役ジエンポリマー100重量部に対して、通常1~1,000重量部、好ましくは10~500重量部、より好ましくは50~350重量部の範囲である。 Among these, the Q value can be increased, and inorganic oxide particles are preferable, and specific examples include titanate particles such as silica, alumina, calcium titanate, strontium titanate, and barium titanate. These fillers can be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount is usually 1 to 1,000 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conjugated diene polymer. The amount is in the range of 500 parts by weight, more preferably 50 to 350 parts by weight.
  本発明においては、硬化性樹脂組成物に老化防止剤として、フェノール系老化防止剤、アミン系老化防止剤、リン老系化防止剤及びイオウ系老化防止剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の老化防止剤を加えることにより、硬化反応を阻害しないで、得られる金属-硬化樹脂積層体の耐熱性を高度に向上させることができ好適である。これらの中でも、フェノール系老化防止剤とアミン系老化防止剤が好ましく、フェノール系老化防止剤が特に好ましい。これらの老化防止剤は、それぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。老化防止剤の使用量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、共役ジエンポリマー100重量部に対して、通常0.0001~10重量部、好ましくは0.001~5重量部、より好ましくは0.01~1重量部の範囲である。 In the present invention, the curable resin composition has at least one selected from the group consisting of a phenolic anti-aging agent, an amine-based anti-aging agent, a phosphorus anti-aging agent and a sulfur-based anti-aging agent as an anti-aging agent. By adding an anti-aging agent, the heat resistance of the resulting metal-cured resin laminate can be highly improved without inhibiting the curing reaction, which is preferable. Among these, a phenolic antiaging agent and an amine antiaging agent are preferable, and a phenolic antiaging agent is particularly preferable. These anti-aging agents can be used alone or in combination of two or more. The amount of the antiaging agent used is appropriately selected depending on the purpose of use, but is usually 0.0001 to 10 parts by weight, preferably 0.001 to 5 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the conjugated diene polymer. Is in the range of 0.01 to 1 part by weight.
  本発明においては、硬化性樹脂組成物に硬化助剤を加えることで、金属-硬化樹脂積層体の密着強度と機械的強度を高度にバランスさせることができ好適である。硬化助剤とは、架橋構造を形成し得る2官能性以上の化合物である。硬化助剤としては、一般的に用いられるものを格別な限定なく使用でき、例えば、炭素-炭素不飽和結合を2つ有する2官能性化合物、炭素-炭素不飽和結合を3つ以上有する多官能性化合物などを挙げることができる。 In the present invention, the addition of a curing aid to the curable resin composition is preferable because the adhesion strength and mechanical strength of the metal-cured resin laminate can be highly balanced. The curing aid is a bifunctional or higher functional compound that can form a crosslinked structure. As the curing aid, commonly used ones can be used without particular limitation. For example, a bifunctional compound having two carbon-carbon unsaturated bonds, a polyfunctional compound having three or more carbon-carbon unsaturated bonds. Can be mentioned.
  硬化助剤の具体例としては、p-ジイソプロペニルベンゼン、m-ジイソプロペニルベンゼン、o-ジイソプロペニルベンゼンなどの2官能性化合物、トリイソプロペニルベンゼン、トリメタアリルイソシアネートなどの3官能性化合物等が挙げられる。中でも、トリイソプロペニルベンゼン、p-ジイソプロペニルベンゼン、m-ジイソプロペニルベンゼン、o-ジイソプロペニルベンゼンが好ましく、m-ジイソプロペニルベンゼンがより好ましい。 Specific examples of the curing aid include bifunctional compounds such as p-diisopropenylbenzene, m-diisopropenylbenzene and o-diisopropenylbenzene, trifunctionality such as triisopropenylbenzene and trimethallyl isocyanate. Compounds and the like. Of these, triisopropenylbenzene, p-diisopropenylbenzene, m-diisopropenylbenzene, and o-diisopropenylbenzene are preferable, and m-diisopropenylbenzene is more preferable.
  これらの硬化助剤は、それぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。硬化助剤の使用量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、共役ジエンポリマー100重量部に対し、通常0.1~50重量部、好ましくは0.5~30重量部、さらに好ましくは1~20重量部、最も好ましくは5~15重量部である。 硬化 These curing aids can be used alone or in combination of two or more. The amount of the curing aid is appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.5 to 30 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the conjugated diene polymer. 1 to 20 parts by weight, most preferably 5 to 15 parts by weight.
  本発明においては、硬化性樹脂組成物に強化繊維を含むことが、金属-硬化樹脂積層体の機械的強度及び靭性を高度に改善でき好適である。強化繊維としては、格別な制限はないが、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)繊維、アラミド繊維、超高分子ポリエチレン繊維、ポリアミド(ナイロン)繊維、液晶ポリエステル繊維、ポリパラベンゾオキサゾール繊維、フッ素樹脂繊維などの有機繊維;ガラス繊維、炭素繊維、アルミナ繊維、タングステン繊維、モリブデン繊維、ブデン繊維、チタン繊維、スチール繊維、ボロン繊維、シリコンカーバイド繊維、シリカ繊維などの無機繊維;などを挙げることができる。これらの中でも、有機繊維やガラス繊維が好ましく、特にアラミド繊維、液晶ポリエステル繊維、ガラス繊維が好ましい。ガラス繊維としては、Eガラス、NEガラス、Sガラス、Dガラス、NCRガラス、Hガラス等の繊維が好適に用いることができる。 In the present invention, it is preferable that the curable resin composition contains reinforcing fibers because the mechanical strength and toughness of the metal-cured resin laminate can be improved to a high degree. The reinforcing fiber is not particularly limited. For example, PET (polyethylene terephthalate) fiber, aramid fiber, ultra-high molecular polyethylene fiber, polyamide (nylon) fiber, liquid crystal polyester fiber, polyparabenzoxazole fiber, fluororesin fiber, etc. Organic fibers such as glass fibers, carbon fibers, alumina fibers, tungsten fibers, molybdenum fibers, budene fibers, titanium fibers, steel fibers, boron fibers, silicon carbide fibers, silica fibers, and the like. Among these, organic fibers and glass fibers are preferable, and aramid fibers, liquid crystal polyester fibers, and glass fibers are particularly preferable. As the glass fiber, fibers such as E glass, NE glass, S glass, D glass, NCR glass, and H glass can be suitably used.
  これらの強化繊維は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができ、その使用量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、共役ジエンポリマー/強化繊維の重量比で、通常10/90~90/10、好ましくは20/80~80/20、より好ましくは30/70~70/30の範囲であり、この範囲にあるときに金属-硬化樹脂積層体のQ値と機械的強度が高度にバランスされ好適である。 These reinforcing fibers can be used singly or in combination of two or more, and the amount used is appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 10 by weight ratio of conjugated diene polymer / reinforcing fiber. / 90 to 90/10, preferably 20/80 to 80/20, and more preferably 30/70 to 70/30. When in this range, the Q value and mechanical properties of the metal-cured resin laminate The strength is highly balanced and suitable.
  その他の配合剤としては、難燃剤、着色剤、光安定剤、顔料、発泡剤などを挙げることができる。難燃剤としては、リン系難燃剤、窒素系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、水酸化アルミニウムや水酸化マウグネシウムなどの金属水酸化物、三酸化アンチモンなどのアンチモン化合物などが挙げられる。着色剤としては、染料、顔料などが用いられる。染料の種類は多様であり、公知のものを適宜選択して使用すればよい。これらのその他の添加剤は、それぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができ、その使用量は、本発明の効果を損ねない範囲で適宜選択される。 Examples of other compounding agents include flame retardants, colorants, light stabilizers, pigments, and foaming agents. Examples of the flame retardant include phosphorus flame retardants, nitrogen flame retardants, halogen flame retardants, metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, and antimony compounds such as antimony trioxide. As the colorant, dyes, pigments and the like are used. There are various kinds of dyes, and known ones may be appropriately selected and used. These other additives can be used alone or in combination of two or more, and the amount used is appropriately selected within a range not impairing the effects of the present invention.
(金属層)
  本発明に使用される金属層は、その硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度が、JIS  B0601-1994に基づき測定される十点平均粗さ(Rz)で、2,500nm以下である。本発明によれば、粗度の小さい金属層を用いて高い密着性を有する金属-硬化樹脂積層体が得られる。金属層の硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度(Rz)は、好ましくは2,000nm以下、より好ましくは1,800nm以下、最も好ましくは1,000nm以下である。一方、粗度の下限は、格別な限定はないが、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上である。金属層の粗度が過度に大きいと、高周波伝送に於けるノイズ、遅延、伝送ロス等の原因となり得る。
 なお、金属-硬化樹脂積層体に組み込まれた状態にある金属層の、硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度(Rz)は、金属層を適当な薬品で溶解、除去し、残った硬化共役ジエンポリマー層の、該金属層の被接着面の粗度(Rz)を、JIS  B0601-1994に基づき測定される十点平均粗さ(Rz)として得ることにより、該被接着面の粗度(Rz)として間接的に求めることができる。該被接着面の粗度(Rz)は、金属層の、硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度(Rz)をJIS  B0601-1994に基づき測定される十点平均粗さ(Rz)として直接測定した値と実質的に同じである。金属層を溶解、除去するための薬品としては、例えば、金属層が銅箔の場合、塩化第二鉄液、硫酸、硫酸と過酸化水素、及びペルオキソ二硫酸アンモニウム液などのエッチング液を用いることができる。金属層を溶解、除去するための薬品は、金属層の材質に応じて適宜選択すればよい。
(Metal layer)
The metal layer used in the present invention has a ten-point average roughness (Rz) measured according to JIS B0601-1994, and the roughness of the adhesive surface with the cured conjugated diene polymer layer is 2,500 nm or less. . According to the present invention, a metal-cured resin laminate having high adhesion can be obtained using a metal layer having low roughness. The roughness (Rz) of the adhesion surface of the metal layer to the cured conjugated diene polymer layer is preferably 2,000 nm or less, more preferably 1,800 nm or less, and most preferably 1,000 nm or less. On the other hand, the lower limit of the roughness is not particularly limited, but is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more. If the roughness of the metal layer is excessively large, it may cause noise, delay, transmission loss, etc. in high frequency transmission.
The roughness (Rz) of the adhesion surface of the metal layer incorporated in the metal-cured resin laminate with the cured conjugated diene polymer layer was obtained by dissolving and removing the metal layer with an appropriate chemical. By obtaining the roughness (Rz) of the adherend surface of the metal layer of the cured conjugated diene polymer layer as the ten-point average roughness (Rz) measured based on JIS B0601-1994, the roughness of the adherend surface is obtained. The degree (Rz) can be obtained indirectly. The roughness (Rz) of the adherend surface is the ten-point average roughness (Rz) measured based on JIS B0601-1994 as the roughness (Rz) of the adhesion surface of the metal layer to the cured conjugated diene polymer layer. It is substantially the same as the value measured directly. As a chemical for dissolving and removing the metal layer, for example, when the metal layer is a copper foil, an etching solution such as ferric chloride solution, sulfuric acid, sulfuric acid and hydrogen peroxide, and ammonium peroxodisulfate solution may be used. it can. What is necessary is just to select suitably the chemical | medical agent for melt | dissolving and removing a metal layer according to the material of a metal layer.
  金属層の材質としては、回路基板で一般的に用いられるものを格別な制限なく用いることができ、通常金属箔、好ましくは銅箔が用いられる。 As a material for the metal layer, those generally used for circuit boards can be used without particular limitation, and usually metal foil, preferably copper foil is used.
  本発明に使用される金属層の厚さは、使用目的に応じて適宜選択されるが、通常1~50μm、好ましくは3~30μm、より好ましくは5~20μm、最も好ましくは5~15μmの範囲である。金属層の厚さが過度に大きい場合は、回路基板のL/Sを小さくすることができず、逆に、過度に小さい場合は、安定した回路形成が難しくなることがある。 The thickness of the metal layer used in the present invention is appropriately selected according to the purpose of use, but is usually in the range of 1 to 50 μm, preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm, and most preferably 5 to 15 μm. It is. If the thickness of the metal layer is excessively large, the L / S of the circuit board cannot be reduced. Conversely, if the thickness is excessively small, it may be difficult to form a stable circuit.
(金属-硬化樹脂積層体)
  本発明の金属-硬化樹脂積層体は、上記粗度の小さい金属層表面に前記硬化共役ジエンポリマー層を形成してなり、高いQ値と、金属層と硬化共役ジエンポリマー層との高い密着性を有する。
(Metal-cured resin laminate)
The metal-cured resin laminate of the present invention is formed by forming the cured conjugated diene polymer layer on the surface of the metal layer having a low roughness, and has a high Q value and high adhesion between the metal layer and the cured conjugated diene polymer layer. Have
  本発明の金属-硬化樹脂積層体の硬化共役ジエンポリマー層の誘電率は、使用目的に応じて適宜選択されるが、5GHzで測定される値で、通常1.5~15、好ましくは2~10、より好ましくは2.5~7.5の範囲である。 The dielectric constant of the cured conjugated diene polymer layer of the metal-cured resin laminate of the present invention is appropriately selected depending on the purpose of use, but is a value measured at 5 GHz, usually 1.5 to 15, preferably 2 to 10, more preferably in the range of 2.5 to 7.5.
  本発明の金属-硬化樹脂積層体の硬化共役ジエンポリマー層のQ値は、5GHzで測定される誘電正接の逆数(1/tanδ)で、通常100以上、好ましくは300以上、より好ましくは500以上である。Q値が過度に小さいと、高周波回路の損失、信頼性に欠ける傾向にある。硬化共役ジエンポリマー層のQ値は、共役ジエンホモポリマーと共役ジエン共重合ポリマーとからなる群から選ばれる少なくとも1種を適宜用いることにより容易に調整可能である。 The Q value of the cured conjugated diene polymer layer of the metal-cured resin laminate of the present invention is the reciprocal of the dielectric loss tangent (1 / tan δ) measured at 5 GHz, usually 100 or more, preferably 300 or more, more preferably 500 or more. It is. When the Q value is excessively small, the high-frequency circuit tends to lack loss and reliability. The Q value of the cured conjugated diene polymer layer can be easily adjusted by appropriately using at least one selected from the group consisting of a conjugated diene homopolymer and a conjugated diene copolymer.
  本発明の金属-硬化樹脂積層体の金属層と硬化共役ジエンポリマー層との密着強度は、金属層と硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度(Rz)が2,500nm以下で、0.5kN/m以上、好ましくは0.55kN/m以上、より好ましくは0.6kN/m以上である。また、上限としては、格別な限定はなく、金属層の厚さおよび粗度等により定まるが、通常5kN/m以下、好ましくは3kN/m以下、より好ましくは2kN/m以下である。特に、金属層と硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度(Rz)が2,500nm以下であり、かつ金属層の厚さが5~15μmの範囲にあるときの密着強度が、通常、0.5~5kN/m、好ましくは0.55~3kN/m、より好ましくは0.6~2kN/mの範囲であるときに、回路基板のL/Sを小さくでき且つ伝送ロス、遅延、ノイズ等の問題を極限まで小さくでき好適である。密着強度は、後述の実施例に記載の方法によって測定することができる。 The adhesion strength between the metal layer of the metal-cured resin laminate of the present invention and the cured conjugated diene polymer layer is 0 when the roughness (Rz) of the adhesive surface between the metal layer and the cured conjugated diene polymer layer is 2500 nm or less. 0.5 kN / m or more, preferably 0.55 kN / m or more, more preferably 0.6 kN / m or more. The upper limit is not particularly limited and is determined by the thickness and roughness of the metal layer, but is usually 5 kN / m or less, preferably 3 kN / m or less, more preferably 2 kN / m or less. In particular, the adhesion strength when the roughness (Rz) of the adhesion surface between the metal layer and the cured conjugated diene polymer layer is 2,500 nm or less and the thickness of the metal layer is in the range of 5 to 15 μm is usually When the range is 0.5 to 5 kN / m, preferably 0.55 to 3 kN / m, more preferably 0.6 to 2 kN / m, the L / S of the circuit board can be reduced and transmission loss, delay, It is preferable because problems such as noise can be minimized. The adhesion strength can be measured by the method described in Examples described later.
  上記の通りの密着強度を有する、本発明の金属-硬化樹脂積層体の製造は、格別な限定はないが、ラジカル反応基をもつ化合物(以下、「ラジカル反応性処理剤」という場合がある。)、好ましくは式(1)R MXn(MはSi,Ti,AlまたはZrを表わし、Rは不飽和結合を有する炭化水素基を表し、Rは酸素原子、窒素原子、リン原子、イオウ原子、又はハロゲン原子を含んでもよい炭化水素基を表し、Xはアルコキシル基、アセトキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、水酸基、または水素原子を表わす。mは1以上の整数を表わし、kは0以上の整数を表わし、nは1以上の整数を表わす。m+n+kはMがSi,TiまたはZrのときは4であり、MがAlのときは3である。)で表される化合物またはその縮合物で表面処理した金属層表面に、共役ジエンポリマーと硬化剤とを含んでなる硬化性樹脂組成物層を形成し、次いで該硬化性樹脂組成物を硬化することで容易に行なうことができる。金属層及び硬化性樹脂組成物については、前記と同様なものを用いることができる。 The production of the metal-cured resin laminate of the present invention having the above adhesion strength is not particularly limited, but may be a compound having a radical reactive group (hereinafter referred to as “radical reactive treating agent”). ), Preferably formula (1) R 1 m R 2 k MX n (M represents Si, Ti, Al or Zr, R 1 represents a hydrocarbon group having an unsaturated bond, R 2 represents an oxygen atom, nitrogen Represents a hydrocarbon group which may contain an atom, phosphorus atom, sulfur atom or halogen atom, X represents an alkoxyl group, acetoxy group, halogen atom, amino group, hydroxyl group or hydrogen atom, and m represents an integer of 1 or more. K represents an integer of 0 or more, n represents an integer of 1 or more, m + n + k is 4 when M is Si, Ti or Zr, and 3 when M is Al.) Compound or its It can be easily carried out by forming a curable resin composition layer comprising a conjugated diene polymer and a curing agent on the surface of the metal layer surface-treated with the compound, and then curing the curable resin composition. . About a metal layer and a curable resin composition, the thing similar to the above can be used.
  ここで式(1)においてRの炭化水素基の炭素数としては、通常、2~50である。Rとして具体的には、アルケニル基、アルキニル基またはアルケニル基を置換基として有するシクロアルキル基もしくはアリール基などが挙げられる。具体例としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、デセニル基、ノルボルニル基、シクロヘキセニル基、スチリル基などが挙げられ、好ましくはスチリル基である。 Here, in the formula (1), the carbon number of the hydrocarbon group represented by R 1 is usually 2 to 50. Specific examples of R 1 include an alkenyl group, an alkynyl group, and a cycloalkyl group or an aryl group having an alkenyl group as a substituent. Specific examples include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a decenyl group, a norbornyl group, a cyclohexenyl group, and a styryl group, and a styryl group is preferable.
  Rの炭化水素基の炭素数としては、通常、1~50である。Rとして具体的には、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;フェニル基、ナフチル基などのアリール基;チオール基、メルカプト基、エーテル結合、若しくはアミド基を有するアルキル基又はアリール基;などが挙げられ、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;フェニル基などのアリール基が好ましい。 The carbon number of the hydrocarbon group for R 2 is usually 1 to 50. Specific examples of R 2 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, and cyclohexyl group; aryl groups such as phenyl group and naphthyl group; alkyl groups or aryl groups having a thiol group, mercapto group, ether bond, or amide group An alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a cyclohexyl group; an aryl group such as a phenyl group is preferred.
  Xとして具体的には、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシル基;アセトキシ基;塩素原子などのハロゲン原子;アミノ基;水酸基;水素原子などが挙げられる。これらの中でも、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシル基;アセトキシ基;塩素原子などのハロゲン原子;アミノ基;水素原子が好ましく、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシル基;塩素原子などのハロゲン原子;アミノ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシル基が最も好ましい。なお、通常、前記アルコキシル基の炭素数としては1~10、前記アセトキシ基の炭素数としては2~10である。 Specific examples of X include alkoxyl groups such as methoxy group and ethoxy group; acetoxy group; halogen atom such as chlorine atom; amino group; hydroxyl group; Among these, alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups; acetoxy groups; halogen atoms such as chlorine atoms; amino groups; hydrogen atoms are preferred, alkoxyl groups such as methoxy groups and ethoxy groups; halogen atoms such as chlorine atoms; amino Group is more preferable, and alkoxyl groups such as methoxy group and ethoxy group are most preferable. In general, the alkoxyl group has 1 to 10 carbon atoms, and the acetoxy group has 2 to 10 carbon atoms.
 Mとして具体的には、Si,Ti,AlまたはZrであり、Siが好ましい。 Specifically, M is Si, Ti, Al or Zr, and Si is preferable.
  式(1)で示される化合物は具体的には、アリルトリメトキシシラン、3-ブテニルトリメトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、スチリルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリクロロシラン、n-デセニルトリメトキシシラン、ノルボルニルトリメトキシシラン、ノルボルニルトリエトキシシラン、ノルボルニルトリクロロシラン、シクロヘキセニルトリメトキシシラン、ウンデセニルトリメトキシシラン、3-(N-スチリルメチル-2-アミノエチルアミノ)-プロピルトリメトキシシランヒドロクロライド、スチリルエチルトリメトキシシラン、3-(N-スチリルメチル-2-アミノエチルアミノ)-プロピルトリメトキシラン)、ビニルベンジルトリメトキシシラン、シクロヘキセニルエチルトリメトキシシラン、3-シクロペンタジエニルトリメトキシラン、シクロペンタジエニルプロピルトリメトキシシラン、ウンデセニルトリメトクロロシラン、シクロヘキセニルエチルトリクロロシラン、ノルボルニルトリクロロシランなどが挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the formula (1) include allyltrimethoxysilane, 3-butenyltrimethoxysilane, styryltrimethoxysilane, styryltriethoxysilane, allyltrichlorosilane, allylmethyldichlorosilane, styryltrichlorosilane, Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, vinyltrichlorosilane, n-decenyltrimethoxysilane, norbornyltrimethoxysilane, norbornyltriethoxysilane, Norbornyltrichlorosilane, cyclohexenyltrimethoxysilane, undecenyltrimethoxysilane, 3- (N-styrylmethyl-2-aminoethylamino) -propyltrimethoxysilane hydrochloride , Styrylethyltrimethoxysilane, 3- (N-styrylmethyl-2-aminoethylamino) -propyltrimethoxylane), vinylbenzyltrimethoxysilane, cyclohexenylethyltrimethoxysilane, 3-cyclopentadienyltrimethoxy Examples include lanthanum, cyclopentadienylpropyltrimethoxysilane, undecenyltrimethochlorosilane, cyclohexenylethyltrichlorosilane, norbornyltrichlorosilane, and the like.
  式(1)で示される化合物の縮合物は、式(1)で示される化合物の2分子以上が、Xの位置で縮合した構造を有するものである。具体的には、1,3-ジビニルテトラメチルジシラザンなどのシラザン類や、シロキサン類が挙げられる。 The condensate of the compound represented by Formula (1) has a structure in which two or more molecules of the compound represented by Formula (1) are condensed at the X position. Specific examples include silazanes such as 1,3-divinyltetramethyldisilazane and siloxanes.
  これらのラジカル反応性処理剤として好ましくは、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、スチリルトリクロロシランなどが挙げられる。 と し て Preferred examples of these radical-reactive treatment agents include styryltrimethoxysilane, styryltriethoxysilane, and styryltrichlorosilane.
  かかるラジカル反応性処理剤は、それぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができ、その使用量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、ラジカル反応性処理剤で処理した金属層表面を蛍光X線分析により測定した場合のX線強度が、通常0.1~0.8kcps、好ましくは0.2~0.5kcpsとなる範囲である。ラジカル反応性処理剤の使用量が過度に少ないと密着強度が十分でなく、逆に、過度に多いとQ値が悪くなる傾向がある。 These radical-reactive treatment agents can be used alone or in combination of two or more, and the amount used is appropriately selected according to the purpose of use, but the metal layer treated with the radical-reactive treatment agent The X-ray intensity when the surface is measured by fluorescent X-ray analysis is usually in the range of 0.1 to 0.8 kcps, preferably 0.2 to 0.5 kcps. If the amount of radical reactive treating agent used is too small, the adhesion strength is not sufficient, and conversely if too large, the Q value tends to deteriorate.
  ラジカル反応性処理剤による金属層表面の処理は、常法に従えばよく、例えば、ラジカル反応性処理剤含有水溶液を用いて金属層表面を処理することができる。 The treatment of the surface of the metal layer with the radical reactive treating agent may be carried out in accordance with a conventional method. For example, the surface of the metal layer can be treated with an aqueous solution containing a radical reactive treating agent.
  ラジカル反応性処理剤含有水溶液のラジカル反応性処理剤濃度は、通常0.0001重量%以上、好ましくは0.0001~10重量%、より好ましくは0.001~1重量%、最も好ましくは0.01~0.1重量%の範囲である。ラジカル反応性処理剤濃度が過度に薄いと、密着性改善効果が劣り、逆に、過度に濃いと、加水分解縮合が進む傾向がある。 The concentration of the radical reactive treating agent in the aqueous solution containing the radical reactive treating agent is usually 0.0001% by weight or more, preferably 0.0001 to 10% by weight, more preferably 0.001 to 1% by weight, and most preferably 0.001% by weight. It is in the range of 01 to 0.1% by weight. If the radical-reactive treatment agent concentration is too thin, the effect of improving the adhesion is inferior. Conversely, if the concentration is too high, hydrolysis condensation tends to proceed.
  ラジカル反応性処理剤含有水溶液は、界面活性剤を含ませることにより、ラジカル反応性処理剤の均一分散が可能となり好適である。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができ、なかでもノニオン界面活性剤が回路基板としてのイオンマイグレーションを抑制でき好適である。 The radical-reactive treating agent-containing aqueous solution is preferable because it can uniformly disperse the radical-reactive treating agent by including a surfactant. As the surfactant, nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants and the like can be used. Among them, the nonionic surfactant suppresses ion migration as a circuit board. This is preferable.
  ノニオン界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンオクチルエーテル、ポリオキシエチレンセカンドアルキルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、アルキルカルボニルオキシポリオキシエチレン類、脂肪族多価アルコールエステル類、脂肪族多価アルコールポリオキシエチレン類、脂肪族ショ糖エステル類などを挙げることができる。 Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene octyl ether and polyoxyethylene second alkyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyoxyethylene phenyl ether and the like. And polyoxyethylene alkylphenyl ethers, alkylcarbonyloxypolyoxyethylenes, aliphatic polyhydric alcohol esters, aliphatic polyhydric alcohol polyoxyethylenes, and aliphatic sucrose esters.
  これらの界面活性剤は、それぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができ、その使用量は、ラジカル反応性処理剤含有水溶液中の界面活性剤濃度で、通常0,0001~10重量%、好ましくは0.001~1重量%、より好ましくは0.01~0.1重量%の範囲である。 These surfactants can be used alone or in combination of two or more, and the amount used is usually from 0.0001 to 10% by weight in the concentration of the surfactant in the radical-reactive processing agent-containing aqueous solution. %, Preferably 0.001 to 1% by weight, more preferably 0.01 to 0.1% by weight.
  ラジカル反応性処理剤含有水溶液のpHは、使用する処理剤の種類に応じて適宜選択されるが、通常1~10、好ましくは2~7、より好ましくは3~5の範囲である。ラジカル反応性処理剤のpHがこの範囲であるときに、ラジカル反応性処理剤の縮合反応を抑えることができ、通常は酢酸、蟻酸、シュウ酸、クエン酸、酪酸などの有機酸やアンモニア水などで調整できる。 The pH of the soot-radical reactive treating agent-containing aqueous solution is appropriately selected depending on the kind of treating agent to be used, but is usually in the range of 1 to 10, preferably 2 to 7, and more preferably 3 to 5. When the pH of the radical-reactive treatment agent is within this range, the condensation reaction of the radical-reactive treatment agent can be suppressed. Usually, organic acids such as acetic acid, formic acid, oxalic acid, citric acid, butyric acid, aqueous ammonia, etc. It can be adjusted with.
  ラジカル反応性処理剤含有水溶液の金属層表面への処理方法は、常法に従えばよく、例えば、金属層をラジカル反応性処理剤含有水溶液に浸漬後に引き上げて乾燥させる方法、金属層表面にロールコーター、ダイコーター、グラビアコーターなどの塗工装置を用いてラジカル反応性処理剤含有水溶液を塗布し次いで乾燥させる方法、金属層表面に噴霧装置を用いてラジカル反応性処理剤含有水溶液を噴霧し乾燥する方法などを挙げることができる。ラジカル反応性処理剤含有水溶液処理後の乾燥は、通常100~200℃、1~60分間の条件で行なわれる。 The method for treating the surface of the metal layer with the radical-reactive treatment agent-containing aqueous solution may be in accordance with a conventional method, for example, a method in which the metal layer is dipped in the radical-reactive treatment agent-containing aqueous solution and then dried and rolled onto the surface of the metal layer. A method of applying a radical-reactive treatment agent-containing aqueous solution using a coating device such as a coater, die coater, or gravure coater, followed by drying, and spraying and drying the aqueous solution containing a radical-reactive treatment agent on the metal layer surface using a spray device And the like. Drying after the treatment with the radical-reactive treating agent-containing aqueous solution is usually carried out under conditions of 100 to 200 ° C. and 1 to 60 minutes.
  かかるラジカル反応性処理剤で処理した金属層表面への前記硬化性樹脂組成物層を形成させる方法は、常法に従えばよく、例えば、硬化性樹脂組成物を溶剤に溶解または分散させて金属層表面に塗布し溶剤を乾燥させる方法、硬化性樹脂組成物を溶剤に溶解または分散させて基材表面上に塗布し溶剤を乾燥させたシート、または硬化性樹脂組成物を溶剤に溶解または分散させて強化繊維中に含浸させ溶媒を乾燥させたプリプレグを、金属層表面上に加圧積層する方法などで行なうことができる。前記基材としては特に限定はないが、例えば、金属箔、樹脂製支持フィルム、金属ドラム、スチールベルト、フッ素樹脂ベルトなどが挙げられる。 The method for forming the curable resin composition layer on the surface of the metal layer treated with such a radical reactive treating agent may be in accordance with a conventional method. For example, the curable resin composition is dissolved or dispersed in a solvent to form a metal. A method of applying to the surface of the layer and drying the solvent, a sheet obtained by dissolving or dispersing the curable resin composition in the solvent and then applying the solution to the substrate surface, and then drying the solvent, or dissolving or dispersing the curable resin composition in the solvent The prepreg that has been impregnated into the reinforcing fiber and dried with the solvent can be performed by, for example, pressure laminating on the surface of the metal layer. Although it does not specifically limit as said base material, For example, metal foil, a resin-made support film, a metal drum, a steel belt, a fluororesin belt etc. are mentioned.
  硬化性樹脂組成物を溶解または分散させる溶媒としては、例えば、キシレン、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、テルペンなどが挙げられ、特にキシレンが好適である。溶媒の使用量は、ポリマー量及び強化繊維の種類等により適宜選択でき、また、溶媒の乾燥は、硬化剤の反応が起こらない範囲で適宜選択される。 Examples of the solvent for dissolving or dispersing the curable resin composition include xylene, toluene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, hexane, cyclohexane, octane, and terpene. Xylene is particularly preferable. The amount of the solvent used can be appropriately selected depending on the amount of the polymer, the type of reinforcing fiber, and the like, and the drying of the solvent is appropriately selected within a range in which the reaction of the curing agent does not occur.
  乾燥温度は、通常50~250℃、好ましくは100~200℃、より好ましくは120~170℃の範囲であり、特に、前記硬化剤としてラジカル発生剤を用いる場合は、通常ラジカル発生剤の1分間半減期温度以下、好ましくは1分間半減期温度の10℃以下の温度、より好ましくは1分間半減期温度の20℃以下の温度である。乾燥時間は適宜選択すればよいが、通常0.1~120分間、好ましくは0.5~60分間、より好ましくは1~20分間の範囲である。 The drying temperature is usually in the range of 50 to 250 ° C., preferably 100 to 200 ° C., more preferably 120 to 170 ° C. In particular, when a radical generator is used as the curing agent, it is usually 1 minute of the radical generator. The half-life temperature or less, preferably a temperature of 10 ° C. or less of a 1-minute half-life temperature, more preferably a temperature of 20 ° C. or less of a 1-minute half-life temperature. The drying time may be appropriately selected, but is usually in the range of 0.1 to 120 minutes, preferably 0.5 to 60 minutes, more preferably 1 to 20 minutes.
  硬化方法は、常法に従えばよく、硬化剤の種類に応じて適宜選択されるが、通常は加熱硬化が行なわれる。硬化温度は、前記硬化剤により架橋の起こる温度であり、ラジカル発生剤を用いた場合は、1分間半減期温度以上、好ましくは1分間半減期温度より5℃以上高い温度、より好ましくは1分間半減期温度より10℃以上高い温度である。通常、0~250℃、好ましくは100~250℃、より好ましくは150~230℃の範囲である。硬化温度が過度に高いと金属層と硬化共役ジエンポリマー層との密着強度が劣る傾向がある。硬化時間は、0.1~180分間、好ましくは1~120分間、より好ましくは2~60分間の範囲である。 The wrinkle curing method may be in accordance with a conventional method and is appropriately selected according to the type of the curing agent, but is usually heat-cured. The curing temperature is a temperature at which crosslinking is caused by the curing agent. When a radical generator is used, the curing temperature is 1 minute half-life temperature or more, preferably 5 minutes or more higher than the 1-minute half-life temperature, more preferably 1 minute. The temperature is 10 ° C. or more higher than the half-life temperature. Usually, it is in the range of 0 to 250 ° C, preferably 100 to 250 ° C, more preferably 150 to 230 ° C. When the curing temperature is excessively high, the adhesion strength between the metal layer and the cured conjugated diene polymer layer tends to be inferior. The curing time is in the range of 0.1 to 180 minutes, preferably 1 to 120 minutes, more preferably 2 to 60 minutes.
  本発明の金属-硬化樹脂積層体は、通常用いられる任意の方法でパターン形成をし、また、通常用いられる任意の方法で受動部品・能動部品を実装し、電子回路基板を作製することができる。このような電子回路基板は、用途は特に限定されないがアンテナ、サーバー、ルーター、テスターなど低伝送損失が要求される高周波回路などに好適に用いられる。 The metal-cured resin laminate of the present invention can be patterned by any commonly used method, and can be mounted with passive / active components by any commonly used method to produce an electronic circuit board. . Although such an electronic circuit board is not particularly limited in use, it is preferably used for a high-frequency circuit such as an antenna, a server, a router, or a tester that requires low transmission loss.
  以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例および比較例における部および%は、特に断りのない限り重量基準である。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples and comparative examples, “part” and “%” are based on weight unless otherwise specified.
  実施例および比較例における各特性は、下記の方法に従い測定、評価した。
(1)表面粗さ:銅箔の表面粗さはJIS  B0601-1994に従って、十点平均粗さ(Rz)を求めた。
Each characteristic in an Example and a comparative example was measured and evaluated according to the following method.
(1) Surface roughness: The surface roughness of the copper foil was determined as 10-point average roughness (Rz) according to JIS B0601-1994.
(2)Q値:ネットワークアナライザーを用いトリプレート共振法にて5GHzにおけるQ値(1/tanδ)を測定し、以下の基準で評価した。
A:Q値が、500以上のもの
B:Q値が、300以上500未満のもの
C:Q値が、300未満のもの
(2) Q value: A Q value (1 / tan δ) at 5 GHz was measured by a triplate resonance method using a network analyzer, and evaluated according to the following criteria.
A: Q value is 500 or more B: Q value is 300 or more and less than 500 C: Q value is less than 300
(3)密着強度:金属-硬化樹脂積層体における金属箔の引き剥がし強さをJIS  C6481に基づいて測定し、以下の基準で評価した。
A:0.6kN/m以上
B:0.5kN/m以上、0.6kN/m未満
C:0.3kN/m以上、0.5kN/m未満
D:0.3kN/m未満
(3) Adhesion strength: The peel strength of the metal foil in the metal-cured resin laminate was measured based on JIS C6481, and evaluated according to the following criteria.
A: 0.6 kN / m or more B: 0.5 kN / m or more, less than 0.6 kN / m C: 0.3 kN / m or more, less than 0.5 kN / m D: less than 0.3 kN / m
(4)微細配線形成性:金属-硬化樹脂積層体の金属箔をエッチングして、配線を形成し下記基準で評価した。ここで、配線形成ができなかったとは、エッチングした後の樹脂面に銅箔の残りが認められることを表す。
A:25/25μmラインアンドスペース(L/S)の配線形成ができた。
B:30/30μmラインアンドスペース(L/S)の配線形成ができた。
C:40/40μmラインアンドスペース(L/S)の配線形成ができた。
D:配線ができなかった。
(4) Fine wiring formability: The metal foil of the metal-cured resin laminate was etched to form a wiring and evaluated according to the following criteria. Here, the fact that the wiring could not be formed means that the remainder of the copper foil is recognized on the resin surface after etching.
A: A 25/25 μm line and space (L / S) wiring was formed.
B: 30/30 μm line and space (L / S) wiring was formed.
C: 40/40 μm line and space (L / S) wiring was formed.
D: Wiring was not possible.
(5)伝送損失:金属-硬化樹脂積層体を用いてマイクロスストリップラインの回路基板を作製し、5GHzにおける伝送ロスを測定し、下記基準で評価した。
A:0.3dB/cm以下
B:0.3dB/cm超え、0.4dB/cm以下
C:0.4dB/cm超える
(5) Transmission loss: A microstrip line circuit board was prepared using a metal-cured resin laminate, and the transmission loss at 5 GHz was measured and evaluated according to the following criteria.
A: 0.3 dB / cm or less B: More than 0.3 dB / cm, 0.4 dB / cm or less C: More than 0.4 dB / cm
(6)ラジカル反応性処理剤量:金属層表面のラジカル反応性処理剤処理後の存在量は、
蛍光X線測定装置によりX線強度を測定して求めた。
(6) Amount of radical-reactive treatment agent: The amount of the metal layer surface after treatment with the radical-reactive treatment agent is:
The X-ray intensity was measured by a fluorescent X-ray measuring device and obtained.
実施例1
<ラジカル反応性処理剤含有水溶液の調製>
  ラジカル反応性処理剤含有水溶液としてp-スチリルトリメトキシシラン(商品名:KBM-1403、信越シリコーン社製)をメタノールに濃度50%になるように溶解した溶液を界面活性剤としてポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(商品名:HS-210、日本油脂社製)を0.06%含む水溶液に逐次的に滴下し、溶解させ、pHが4になるように酢酸で調整し、処理剤濃度が0.03%のラジカル反応性処理剤含有水溶液を得た。
Example 1
<Preparation of radical-reactive treatment agent-containing aqueous solution>
Polyoxyethylene octylphenyl as a surfactant is a solution in which p-styryltrimethoxysilane (trade name: KBM-1403, manufactured by Shin-Etsu Silicone) is dissolved in methanol to a concentration of 50% as an aqueous solution containing a radical reactive treating agent. Ether (trade name: HS-210, manufactured by NOF Corporation) is added dropwise to an aqueous solution containing 0.06%, dissolved, adjusted with acetic acid so that the pH is 4, and the treatment agent concentration is 0.03. % Aqueous solution containing a radical reactive treating agent was obtained.
<銅箔の表面処理>
  厚さ12μmのF3銅箔(電解銅箔、粗度Rz=2,100nm、古河サーキットフォイル社製)に、上記得られたラジカル反応性処理液含有水溶液を、室温下で、バーコーターを用いて塗布厚が4μmになるように均一に塗布した。次いでこれを速やかに窒素気流下で120℃で5分間乾燥させることによって表面処理された銅箔を得た。銅箔上のラジカル反応性処理剤量は、0.339kcpsであった。
<Surface treatment of copper foil>
The above-obtained aqueous solution containing radical reactive treatment solution was added to a 12 μm thick F3 copper foil (electrolytic copper foil, roughness Rz = 2,100 nm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) at room temperature using a bar coater. The coating was uniformly applied so that the coating thickness was 4 μm. Next, this was immediately dried at 120 ° C. for 5 minutes under a nitrogen stream to obtain a surface-treated copper foil. The amount of radical reactive treating agent on the copper foil was 0.339 kcps.
<金属-硬化樹脂積層体の製造>
  ポリブタジエンB3000(日本曹達社製;分子量3000、1,2-ビニル結合量95モル%)100部、スチレン-ブタジエン-スチレンブロックポリマー(スチレン含有量30%、分子量70,000)30部、臭素系難燃剤Saytex  BT-93WFG(ALBEMARLE社製)31部、シリカを70部、硬化剤ジ-t-ブチルペルオキシド1.2部をキシレン中で混合し、硬化性樹脂組成物を得た。ついで、得られた硬化性樹脂組成物をガラスクロス#1080(旭シュエーベル社製  Eガラス)に含浸させ、加熱により溶媒を除去してプリプレグを作製した。プリプレグのガラス繊維含有量は40%であった。
<Manufacture of metal-cured resin laminate>
Polybutadiene B3000 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd .; molecular weight 3000, 1,2-vinyl bond content 95 mol%) 100 parts, styrene-butadiene-styrene block polymer (styrene content 30%, molecular weight 70,000) 30 parts, bromine-based difficulty A curable resin composition was obtained by mixing 31 parts of a flame retardant Saytex BT-93WFG (manufactured by ALBEMARLE), 70 parts of silica, and 1.2 parts of a curing agent di-t-butyl peroxide in xylene. Next, the obtained curable resin composition was impregnated into glass cloth # 1080 (E glass manufactured by Asahi Sebel), and the solvent was removed by heating to prepare a prepreg. The glass fiber content of the prepreg was 40%.
  次に、作製したプリプレグシートを5枚重ね、さらにその両面に上記で表面処理を行った電解銅箔を処理面がプリプレグシートと接するように重ね、これを200℃で10分間、3MPaにて加熱プレスを行い金属-硬化樹脂積層体を得た。得られた積層体のQ値、密着強度、微細配線成形性、伝送損失を評価した。その結果を表1に示す。 Next, 5 sheets of the prepared prepreg sheets were stacked, and further, the electrolytic copper foil subjected to the surface treatment as described above was stacked on both sides so that the treated surface was in contact with the prepreg sheet, and this was heated at 200 ° C. for 10 minutes at 3 MPa. A metal-cured resin laminate was obtained by pressing. The obtained laminate was evaluated for Q value, adhesion strength, fine wiring moldability, and transmission loss. The results are shown in Table 1.
 なお、得られた金属-硬化樹脂積層体から、ポリブタジエンとスチレン-ブタジエン-スチレンブロックポリマーとを基材樹脂とする硬化共役ジエンポリマー層と、銅箔からなる金属層との接着部分を取得し、塩化第二鉄液を用いて銅箔を溶解、除去し、残った硬化共役ジエンポリマー層の、該金属層の被接着面の粗度(Rz)を、JIS  B0601-1994に基づき測定される十点平均粗さ(Rz)として求めたところ、その値は、金属層の、硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度(Rz)をJIS  B0601-1994に基づき測定される十点平均粗さ(Rz)として直接測定した値(Rz=2,100nm)と同じであった。以下、実施例2~4についても同じであった。 From the obtained metal-cured resin laminate, an adhesive portion between a cured conjugated diene polymer layer comprising polybutadiene and styrene-butadiene-styrene block polymer as a base resin and a metal layer comprising copper foil is obtained, The copper foil is dissolved and removed using a ferric chloride solution, and the roughness (Rz) of the adherend surface of the metal layer of the remaining cured conjugated diene polymer layer is measured based on JIS B0601-1994. When calculated as the point average roughness (Rz), the value is the ten-point average roughness measured based on the roughness (Rz) of the adhesion surface of the metal layer to the cured conjugated diene polymer layer in accordance with JIS B0601-1994. It was the same as the value (Rz = 2,100 nm) directly measured as (Rz). The same applies to Examples 2 to 4 below.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
実施例2
  銅箔として、厚さ12μmのF2銅箔(電解銅箔、粗度Rz=1,600nm、古河サーキットフォイル社製)を用いる以外は実施例1と同様にして金属-硬化樹脂積層体を得、各特性を評価した。その結果を表1に示す。
Example 2
As the copper foil, a metal-cured resin laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a 12 μm thick F2 copper foil (electrolytic copper foil, roughness Rz = 1,600 nm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) was used. Each characteristic was evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例3
  銅箔として、厚さ12μmのF0銅箔(電解銅箔、粗度Rz=700nm、古河サーキットフォイル社製)を用いる以外は実施例1と同様にして金属-硬化樹脂積層体を得、各特性を評価した。その結果を表1に示す。
Example 3
As the copper foil, a metal-cured resin laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a 12 μm thick F0 copper foil (electrolytic copper foil, roughness Rz = 700 nm, manufactured by Furukawa Circuit Foil) was used. Evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例4
  硬化剤として、2,3-ジメチル-2,3-ジフェニルブタンを用い、硬化条件を220℃で60分間とする以外は実施例2と同様にして金属-硬化樹脂積層体を得、各特性を評価した。その結果を表1に示す。
Example 4
A metal-cured resin laminate was obtained in the same manner as in Example 2 except that 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane was used as the curing agent and the curing conditions were set at 220 ° C. for 60 minutes. evaluated. The results are shown in Table 1.
比較例1
  処理剤として、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシランを用いる以外は実施例1と同様にして金属-硬化樹脂積層体を得、各特性を評価した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 1
A metal-cured resin laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that γ-mercaptopropyltrimethoxysilane was used as a treating agent, and each characteristic was evaluated. The results are shown in Table 1.
比較例2
  ラジカル反応性処理剤で処理しない厚さ12μmのF3銅箔(電解銅箔、粗度Rz=2,100nm、古河サーキットフォイル社製)を用いる以外は実施例1と同様にして金属-硬化樹脂積層体を得、各特性を評価した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 2
Laminated metal-cured resin in the same manner as in Example 1 except that 12 μm thick F3 copper foil (electrolytic copper foil, roughness Rz = 2,100 nm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) not treated with a radical reactive treating agent was used. A body was obtained and each characteristic was evaluated. The results are shown in Table 1.
比較例3
  ラジカル反応性処理剤で処理しない厚さ12μmのF2銅箔(電解銅箔、粗度Rz=1,600nm、古河サーキットフォイル社製)を用いる以外は実施例1と同様にして金属-硬化樹脂積層体を得、各特性を評価した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 3
A metal-cured resin laminate in the same manner as in Example 1 except that a 12 μm thick F2 copper foil (electrolytic copper foil, roughness Rz = 1,600 nm, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) not treated with a radical reactive treating agent was used. A body was obtained and each characteristic was evaluated. The results are shown in Table 1.
比較例4
  未処理の厚さ12μmのF3銅箔を用い、該F3銅箔表面に特表2005-502192号公報に従って、エチレン-プロピレン-ジエンエラストマーの10%キシレン溶液を調製し、エチレン-プロピレン-ジエンエラストマー100部当たり5部の2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルペルオキシ)ヘキシン-3を加えた溶液を塗布量が5.9g/mになるように塗布し乾燥させたものを用いる以外は実施例1と同様にして金属-硬化樹脂積層体を得、各特性を評価した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 4
An untreated F3 copper foil having a thickness of 12 μm was used, and a 10% xylene solution of an ethylene-propylene-diene elastomer was prepared on the surface of the F3 copper foil according to Japanese Patent Publication No. 2005-502192. A solution obtained by adding 5 parts of 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3 per part to a coating amount of 5.9 g / m 2 and drying. A metal-cured resin laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used, and each characteristic was evaluated. The results are shown in Table 1.
  以上、本発明によれば、Q値が高く、粗度の小さい金属層と硬化共役ジエンポリマー層との密着性が高い金属-硬化樹脂積層体が得られることが分かる。該金属-硬化樹脂積層体を用いると、回路基板を製造するときに微細配線を形成することが可能であり、得られる回路基板は伝送損失が小さいものとなる。 As can be seen from the above, according to the present invention, a metal-cured resin laminate having a high Q value and high adhesion between the metal layer having a low roughness and the cured conjugated diene polymer layer can be obtained. When the metal-cured resin laminate is used, fine wiring can be formed when manufacturing a circuit board, and the resulting circuit board has a small transmission loss.

Claims (10)

  1.  金属層と硬化共役ジエンポリマー層とを有する金属-硬化樹脂積層体であって、金属層の、硬化共役ジエンポリマー層との接着面の粗度(Rz)が2,500nm以下で、金属層と硬化共役ジエンポリマー層との密着強度が0.5kN/m以上である金属-硬化樹脂積層体。 A metal-cured resin laminate having a metal layer and a cured conjugated diene polymer layer, wherein the metal layer has a roughness (Rz) of an adhesive surface with the cured conjugated diene polymer layer of 2500 nm or less, A metal-cured resin laminate having an adhesion strength with a cured conjugated diene polymer layer of 0.5 kN / m or more.
  2.  硬化共役ジエンポリマー層が、共役ジエンポリマーと硬化剤とを含んでなる硬化性樹脂組成物を硬化して形成されるものである請求項1記載の金属-硬化樹脂積層体。 The metal-cured resin laminate according to claim 1, wherein the cured conjugated diene polymer layer is formed by curing a curable resin composition comprising a conjugated diene polymer and a curing agent.
  3.  硬化性樹脂組成物が、硬化助剤をさらに含んでなる請求項2記載の金属-硬化樹脂積層体。 The metal-cured resin laminate according to claim 2, wherein the curable resin composition further comprises a curing aid.
  4.  硬化性樹脂組成物が、強化繊維をさらに含んでなる請求項2または3記載の金属-硬化樹脂積層体。 The metal-cured resin laminate according to claim 2 or 3, wherein the curable resin composition further comprises reinforcing fibers.
  5.  硬化性樹脂組成物の硬化を、該硬化性樹脂組成物層をラジカル反応性処理剤で表面処理した金属層表面に形成し、次いで行う請求項2~4いずれか記載の金属-硬化樹脂積層体。 The metal-cured resin laminate according to any one of claims 2 to 4, wherein the curable resin composition is cured by forming the curable resin composition layer on the surface of the metal layer which has been surface-treated with a radical reactive treating agent, and then performing the curing. .
  6.  ラジカル反応性処理剤が、式(1)R MX(MはSi,Ti,AlまたはZrを表わし、Rは不飽和結合を有する炭化水素基を表し、Rは酸素原子、窒素原子、リン原子、イオウ原子、またはハロゲン原子を含んでもよい炭化水素基を表し、Xはアルコキシル基、アセトキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、水酸基、または水素原子を表わす。mは1以上の整数を表わし、kは0以上の整数を表わし、nは1以上の整数を表わす。m+n+kは、MがSi,Ti,またはZrのときは4であり、MがAlのときは3である。)で示される化合物またはその縮合物である請求項5記載の金属-硬化樹脂積層体。 The radical reactive treating agent has the formula (1) R 1 m R 2 k MX n (M represents Si, Ti, Al or Zr, R 1 represents a hydrocarbon group having an unsaturated bond, and R 2 represents oxygen An atom, a nitrogen atom, a phosphorus atom, a sulfur atom, or a hydrocarbon group that may contain a halogen atom, X represents an alkoxyl group, an acetoxy group, a halogen atom, an amino group, a hydroxyl group, or a hydrogen atom, and m is 1 or more. K represents an integer greater than or equal to 0, n represents an integer greater than or equal to 1. m + n + k is 4 when M is Si, Ti, or Zr, and 3 when M is Al. 6. The metal-cured resin laminate according to claim 5, which is a compound represented by the following formula or a condensate thereof.
  7.  硬化温度が0~250℃である請求項2~6いずれか記載の金属-硬化樹脂積層体。 The metal-cured resin laminate according to any one of claims 2 to 6, wherein the curing temperature is 0 to 250 ° C.
  8.  金属層の厚さが、1~50μmである請求項1~7いずれか記載の金属-硬化樹脂積層体。  The metal-cured resin laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein the metal layer has a thickness of 1 to 50 µm.
  9.  硬化共役ジエンポリマー層の(1/誘電正接)で表わされるQ値が300以上である請求項1~8いずれか記載の金属-硬化樹脂積層体。 The metal-cured resin laminate according to any one of claims 1 to 8, wherein a Q value represented by (1 / dielectric loss tangent) of the cured conjugated diene polymer layer is 300 or more.
  10.  請求項1~9のいずれかに記載の金属-硬化樹脂積層体を含む電子回路基板。 An electronic circuit board comprising the metal-cured resin laminate according to any one of claims 1 to 9.
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