WO2008083671A1 - Optoelectronic device, and method for the production thereof - Google Patents

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WO2008083671A1
WO2008083671A1 PCT/DE2008/000028 DE2008000028W WO2008083671A1 WO 2008083671 A1 WO2008083671 A1 WO 2008083671A1 DE 2008000028 W DE2008000028 W DE 2008000028W WO 2008083671 A1 WO2008083671 A1 WO 2008083671A1
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layer
optoelectronic device
electrode
electronic
electrodes
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PCT/DE2008/000028
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German (de)
French (fr)
Inventor
Ralph Pätzold
Joachim Wecker
Original Assignee
Osram Opto Semiconductors Gmbh
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    • H10K59/8051Anodes
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Definitions

  • the present invention relates to an optoelectronic device comprising an organic material-containing layer stack with an active region for emitting electromagnetic radiation and a method for producing an optoelectronic device.
  • Optoelectronic devices of the aforementioned type are referred to as organic light-emitting diodes ("OLEDs"), Such optoelectronic devices are primarily used as screens (televisions, PC screens, displays for automobiles, displays for mobile phones, touchscreen displays Another field of application is general lighting, in particular large-scale room lighting.
  • OLEDs organic light-emitting diodes
  • the object of the invention is to provide an optoelectronic device and a method for producing an optoelectronic device with which or in a simple manner a compact construction of the optoelectronic device is made possible.
  • the object is solved by the features of the independent claims.
  • Advantageous embodiments of the invention are characterized in the subclaims.
  • the invention is characterized by an optoelectronic device comprising an organic material-containing layer stack with an active region for emission of electromagnetic radiation, and an electronic unit, wherein the layer stack and the electronic unit are arranged on a common substrate ,
  • the substrate as the carrier material both for the layer containing the organic material and the active region designed for emitting electromagnetic radiation and for the electronic unit.
  • Such a structure is characterized by a particularly high integration density and consequently by a special user-friendliness.
  • the electronic unit has a control unit for controlling and / or regulating the layer stack. Furthermore, the electronic unit may consist of a control unit for controlling and / or regulating the layer stack.
  • the electronic unit has a protective unit for protecting the layer stack.
  • the electronic unit consists of the protection unit.
  • the protection unit may be a reversely poled diode, in particular a Zener diode, which is the stack of layers is connected in parallel to counteract voltage overshoots.
  • the electronic unit may have a detection unit or monitoring unit for detecting or monitoring the electromagnetic radiation.
  • the detection or monitoring unit may be a sensor that detects, for example, the ambient radiation or the temperature.
  • a readjustment can take place by means of the control unit and the intensity of the emitted radiation can be adjusted as desired.
  • the layer stack comprises first electrodes and the electronic unit has second electrodes, and at least one of the first electrodes and at least one of the second electrodes are electrically conductively coupled to one another, i. in particular, they are electrically connected to one another.
  • the optoelectronic device has a protective layer, which is arranged and configured so that the electronic unit is at least partially disposed between the substrate and the protective layer.
  • a protective layer which is arranged and configured so that the electronic unit is at least partially disposed between the substrate and the protective layer.
  • the substrate and / or the protective layer has a dimensionally stable material.
  • the layer stack and the electronic unit can be coupled mechanically stable.
  • the substrate and / or the protective layer comprises glass or a plastic or metal foil. It is also conceivable to use a layer stack with layers of different materials, for example of different plastics and / or metals, in particular metal oxides, metal nitrides or metal oxynitrides. In this way, the substrate and / or the protective layer can be formed inexpensively. Glass is characterized in particular by its suitability for optoelectronic devices.
  • the substrate and / or the protective layer comprises a material that is transparent to the electromagnetic radiation that can be emitted by the active region.
  • the electromagnetic radiation emitted by the active region can reach a region outside the optoelectronic device in which it can be used.
  • a further advantageous embodiment consists in that one of the first electrodes and / or one of the second electrodes has at least one layer which comprises an electrically conductive oxide and / or a metal. It is also advantageous if at least one of the first electrodes and / or one of the second electrodes has a layer sequence with at least one first layer with an electrically conductive oxide and a second layer with a metal. This has the advantage that the first electrodes and / or the second electrodes can be used both for the layer stack with the active region designed for emitting electromagnetic radiation and for the electronic unit.
  • the metal is selected from a group of copper, aluminum, silver and chromium. These metals have the advantage of low electrical resistance. Furthermore, such a material may allow a particularly good adhesion of the second layer to an electrically conductive oxide of a first layer. Thus, a stable electrically conductive and mechanical coupling between the first layer and the second layer can be achieved.
  • At least one of the first electrodes is electrically conductively coupled to a plurality of second electrodes. This makes it possible to realize the construction of complex electronic switching structures by means of the first and the second electrodes.
  • adjacent ones of the plurality of second electrodes at least partially each have a spacing of about 100 microns to 300 microns from each other. This allows a miniaturized training of the electronic unit in the Optoelectronic device and thus a space-saving design of the electronic unit.
  • the optoelectronic device has a plurality of layer stacks. This allows the formation of a large-area optoelectronic device.
  • the electronic unit comprises a plurality of electronic subunits, which are arranged spatially separated from one another.
  • the electronic control unit comprises a plurality of electronic sub-control units. This makes it possible to distribute the electronic sub-control units on the substrate on which the layer stacks and the electronic control unit are arranged. In particular, this makes it possible to achieve a homogeneous emission of electromagnetic radiation over the entire optoelectronic device.
  • a group of layer stacks can each be controlled by one of the electronic sub-control units.
  • individual sub-control units which are designed to control and / or regulate the layer stacks can each control or regulate a subset of layer stacks. It is thus possible to achieve a good distribution of the electrical load on the various electronic sub-control units.
  • the optoelectronic device has a single external electrical lead, which is electrically conductive with the electronic unit is coupled. This makes it possible to connect the optoelectronic device by means of a single external supply line via the electronic unit, in particular via the electronic control unit, to an external power and / or voltage supply, whereby the assembly of the optoelectronic device can be facilitated. In particular, it can thus be avoided that a large number of external electrical supply lines must be brought to the optoelectronic device.
  • the optoelectronic device has a radiation sensor, which is electrically coupled to the electronic control unit in such a way that a signal of the radiation sensor can be emitted to the electronic control unit, and wherein the radiation sensor is arranged and configured such that the emission electromagnetic Radiation formed active region of the layer stack in response to the signal of the radiation sensor can be controlled.
  • the radiation sensor is arranged and configured such that the emission electromagnetic Radiation formed active region of the layer stack in response to the signal of the radiation sensor can be controlled.
  • the invention comprises a method for producing an optoelectronic device comprising the steps of: providing a substrate, applying a first layer to the substrate, wherein the first layer comprises an electrically conductive oxide, applying a second layer comprising a metal, on the first layer, removing portions of the first layer and / or portions of the second layer to form at least a first electrode and a second electrode, and depositing an active region of a layer stack on the second layer of the first electrode and electronic components on the second Layer of the second electrode, such that the electronic components are electrically conductively coupled to the second electrode. It is thus possible to combine different steps in the production of the organic material-containing layer stack and the electronic unit with each other, rather than performing them in separate steps. This allows a particularly cost-effective production of an optoelectronic device.
  • the electronic components are first applied to the second layer of the second electrode and then the active region of the layer stack is applied to the second layer of the first electrode.
  • the electronic components are applied to the second layer of the second electrode by means of thick-film technology.
  • Method of thick film technology represent particularly cost-effective and proven methods for applying electronic components to substrates or layers.
  • the first layer which preferably comprises electrically conductive oxide, can advantageously be processed before the further steps.
  • FIG. 1 shows a sectional view of an optoelectronic device
  • Figure 2 is a schematic, partially broken plan view of an optoelectronic device
  • FIG. 3 shows a flow chart for a method for producing an optoelectronic device.
  • FIG. 1 shows an exemplary embodiment of an optoelectronic device.
  • the optoelectronic device has a layer stack 10 with an active region designed for emitting electromagnetic radiation 12, wherein the active region 12 contains an organic material.
  • the active region 12 may comprise organic polymers, organic oligomers, organic monomers, small organic molecules, small molecule, or combinations thereof Suitable materials, as well as arrangements and structuring of the active region materials 12, are known to those skilled in the art Thus, electron and hole recombination can produce electromagnetic radiation having a single wavelength or a range of wavelengths in the active region 12. In the case of an observer, a monochrome, a multicolored and / or a mixed-color luminous impression may occur to be awakened.
  • first electrodes 14, 16 Adjacent to the active region 12, first electrodes 14, 16 are arranged.
  • the first electrodes 14, 16 may have a surface or structured in partial areas.
  • the first electrode 14 is arranged below the active region 12 with respect to FIG. 1 and is preferably designed as an anode, with which it can serve as a hole-inducing element.
  • the first electrode 14 has a first layer 141 and a second layer 142, wherein the second layer 142 of the first electrode 14 of the first layer 141 of the first electrode 14 is associated.
  • the first layer 141 of the first electrode 14 is in particular formed as an electrically conductive oxide. Particularly preferred is the formation of the first layer 141 of the first electrode 14 as a transparent electrically conductive oxide (transparent conductive oxide, TCO).
  • TCO transparent conductive oxide
  • Transparent electrically conductive oxides are transparent conductive materials, usually metal oxides, such as For example, zinc oxide, tin oxide, cadmium oxide, titanium oxide, indium oxide or particularly preferably indium tin oxide (ITO).
  • metal oxides such as zinc oxide, tin oxide, cadmium oxide, titanium oxide, indium oxide or particularly preferably indium tin oxide (ITO).
  • binary metal-oxygen compounds such as ZnO, SnO 2 or In 2 O 3 also include ternary metal-oxygen compounds such as Zn 2 SnO 4 , CdSnO 3 , ZnSnO 3 , MgIn 2 O 4 , GaInO 3 , Zn 2 In 2 O 5 or In 4 Sn 3 Oi 2 or mixtures of different transparent electroconductive oxides to the group of TCOs.
  • the TCOs do not necessarily have to correspond to a stoichiometric composition and may also be p- or n-doped.
  • the second layer 142 of the first electrode 14 preferably comprises chromium or copper.
  • the further first electrode 16 arranged above the active region 12 with respect to FIG. 1 is preferably designed as a cathode and thus serves as an electron-inducing element.
  • Aluminum, barium, indium, silver, gold, magnesium, calcium or lithium, as well as compounds, combinations and alloys thereof, may in particular be advantageous as material for this electrode.
  • the optoelectronic device further has an electronic unit, which in this embodiment consists of an electronic control unit 20 which is designed to control and / or regulate the layer stack 10.
  • the electronic control unit 20 has second electrodes 24, 26, the electronic components 22 to contact.
  • the second electrode 24 disposed below the electronic components 22 with respect to FIG. 1 has a first layer 241 and a second layer 242.
  • the first layer 241 is formed in the same manner as the first layer 141 of the first electrode 14 and the second layer
  • the second electrode 24 is formed like the second layer 142 of the first electrode 14.
  • the further second electrode 26 arranged above the electronic components 22 with respect to FIG. 1 is designed like the further first electrode 16 above the active region 12 of the layer stack 10.
  • the electronic control unit 20 may also be part of an electronic circuit.
  • the electronic control unit 20 may be, for example, an integrated circuit (IC) or an active or passive electronic assembly or an active or passive electronic component for electrical circuits.
  • IC integrated circuit
  • the layer stack 10 and the electronic control unit 20 are arranged on a common substrate 30. It is particularly preferred if the substrate 30 comprises glass. Alternatively or additionally, the substrate 30 may also include quartz, plastic films, metal, metal foils, silicon wafers, or any other suitable substrate material. Alternatively or additionally, the substrate 30 may also comprise a laminate or a layer sequence of a plurality of layers. In this case, at least one layer may comprise glass or be made of glass. In particular, in the case of a substrate 30 formed from a layer sequence, at least the layer may comprise glass on which the layer stack 10 and the electronic control unit 20 are arranged. In addition, the substrate 30 may also comprise plastic.
  • the optoelectronic device is designed as an OLED and in particular as a so-called “bottom emitter", that is to say that it emits in the active region 12 Electromagnetic radiation is radiated through the substrate 30, the substrate 30 may advantageously have a transparency for at least a portion of the electromagnetic radiation generated in the active region 12. In the bottom emitter configuration, the first electrode 14 and the second electrode 24 can advantageously also have transparency for at least some of the electromagnetic radiation generated in the active region 12.
  • the further second electrode 26, which is arranged above the electronic components 22 with respect to FIG. 1, can be embodied as a cathode and thus serve as an electron-inducing element.
  • the optoelectronic device further comprises a protective layer 40, which is coupled to the substrate 30 such that the layer stack 10 and the electronic control unit 20 with the associated electrodes 14, 16, 24, 26 and the active region 12 and the electronic components 22 before Moisture and / or oxidizing substances such as oxygen can be protected.
  • the encapsulation may preferably comprise one or more layers, wherein the encapsulation protective layer 40 preferably comprises planarization layers, barrier layers, water and / or oxygen absorbing layers, tie layers or combinations thereof.
  • the optoelectronic device can have optoelectronic elements, which are arranged downstream of the active region 12 in the emission direction of the electromagnetic radiation.
  • optoelectronic elements which are arranged downstream of the active region 12 in the emission direction of the electromagnetic radiation.
  • the substrate 30 the bottom emitter
  • the Protective layer 40 for a top emitter
  • Circular polarizer can be arranged with which can be advantageously avoided that light that is radiated into the optoelectronic device from the outside and can be reflected, for example, to the electrodes 14, 16, 24, 26, again emerge from the optoelectronic device.
  • the optoelectronic device further has an external electrical lead 50, which is electrically coupled to the electronic control unit 20.
  • the external electrical lead 50 is formed in the embodiment shown here as a single external electrical lead, which serves to electrically couple the optoelectronic device with other electronic control units and / or a power and / or a voltage supply.
  • the optoelectronic device may also have a plurality of external electrical leads.
  • FIG. 2 shows a schematic representation of the optoelectronic device in a partially broken plan view.
  • the optoelectronic device has a plurality of first electrodes 14, 16 and a plurality of second electrodes 24, 26.
  • first electrodes 14, 16 and the second electrodes 24 are shown only partially or broken, and the further second electrodes 26 Not shown.
  • the first electrodes 14 and the second electrodes 24 are preferably arranged substantially in a common plane.
  • the further first electrodes 16 are preferably in Substantially arranged in a plane which is different from the common plane in which the first electrodes 14 and the second electrodes 24 are arranged.
  • the electronic unit has a radiation sensor 52 and an electronic control unit 20.
  • the electronic control unit 20 comprises a plurality of electronic sub-control units 20a, 20b, 20c, 20d, which are arranged distributed on the substrate 30.
  • 20b, 20c, 20d are arranged in corner regions of the substrate 30 in the preferred embodiment shown here, but may alternatively be located in other regions of the substrate
  • the first electrodes 14 and the second electrodes 24 are electrically conductively coupled together.
  • the first electrodes 14 are formed below the active region 12 of the layer stack 10 in the form of parallel adjacent conductor tracks and the other first electrodes 16 above the active region 12 of the layer stack 10 as perpendicular to the first electrode 14 extending parallel juxtaposed interconnects.
  • the active regions 12 of the layer stack 10 are arranged between the first electrodes 14 and the further first electrodes 16.
  • the electronic sub-control units 20a, 20b, 20c, 20d are configured and arranged such that each of the electronic sub-control units 20a, 20b, 20c, 20d has a Group 11 of layer stacks 10 with the active areas 12 can control. This is illustrated by way of example on the top right in FIG. 2 with respect to the electronic sub-control unit 20b.
  • Neighboring the second electrodes 24 each have a distance D to each other.
  • the distance D is preferably about 100 microns to 300 microns, wherein the distance D is to be understood as a center-to-center distance, so that the distance D denotes a grid of adjacent second electrode 24. Due to the distance D of about 100 microns to 300 microns on the one hand miniaturization of the electronic control unit 20 allows, on the other hand, thereby the electrical contacting of adjacent second electrodes 24 can be easily performed. In a corresponding manner adjacent to the other second electrodes 26, not shown, each have a distance D to each other.
  • the radiation sensor 52 is electrically coupled to the electronic control unit 20 via a sensor connection line 54.
  • a signal 56 of the radiation sensor 52 can pass via the sensor connection line 54 to the electronic control unit 20, in particular the electronic sub-control unit 20b.
  • the signal 56 of the radiation sensor 52 can be evaluated. If the electronic control unit 20 designed to control and / or regulate the layer stack 10 detects, by means of the radiation sensor 52, that the emission of electromagnetic radiation from the active region 12 of the layer stack 10 is no longer sufficient, it is possible to use a current or voltage-controlled control to control the active region 12 of the layer stack 10 so that from this again a sufficiently high level of electromagnetic radiation is emitted.
  • Optoelectronic devices as shown in FIGS. 1 and 2 can, owing to the advantages already described, enable a high level of economic efficiency and low costs through an efficient use of material.
  • such optoelectronic devices may be suitable for use in display and / or
  • Lighting equipment characterized by a compact, space-saving and flat design.
  • the layer stack 10 and the electronic unit By forming the layer stack 10 and the electronic unit on the common substrate 30, a particularly space-saving design of the optoelectronic device is possible in particular. Due to the common protective layer 40 for the electronic unit 20 and the layer stack 10, the electronic unit does not require a separate housing. The handling of the optoelectronic device can be formed very simply by the common substrate 30, the formation of a common protective layer 40 and a single common external electrical lead 50 for the electronic unit 20 and the layer stack 10.
  • FIG. 3 shows a flow chart for the method for producing an optoelectronic device.
  • a step S8 the method is started.
  • the substrate 30 is provided.
  • the provision may include method steps known to the person skilled in the art for producing a suitable optoelectronic device.
  • the first layer 141, 241 is applied to the substrate 30, wherein the first layer 141, 241 comprises an electrically conductive oxide.
  • the application of the first layer 141, 241 is preferably carried out by means of lithography. In an alternative embodiment of the method, the first layer 141, 241 may already be applied to the provided substrate 30.
  • step S14 which is optional, portions of the first layer 141, 241 are removed.
  • the second layer 142, 242 which comprises a metal, is applied to the first layer 141, 241.
  • the second layer 142, 242 is applied to the first layer 141, 241 by lithography.
  • the second layer 142, 242 is in particular mechanically coupled to the first layer 141, 241 by an adhesion promoter, which may preferably be chromium or molybdenum.
  • a step S18 by removing portions of the first layer 141, 241 and / or portions of the second layer 142, 242, the first electrode 14 and the second electrode 24 are formed. It is thus preferably the shape of the layer stack 10 of the optoelectronic device and the layout of the electronic unit, in particular the circuits of the electronic control unit 20 is formed.
  • the active region 12 of the layer stack 10 are applied to the second layer 142 of the first electrode 14 and the electronic components 22 to the second layer 242 of the second electrode. The application of the electronic components 22 takes place such that the electronic components 22 are electrically conductively coupled to the second electrode 24.
  • the application of the electronic components 22 is preferably carried out in thick-film technology, which can be realized in a particularly simple and cost-effective manner.
  • the electronic components 22 are first applied to the second layer 242 of the second electrode 24 and then the active region 12 of the layer stack 10 is applied to the second layer 142 of the first electrode 14.
  • the active region 12 of the layer stack 10 may be applied to the second layer 142 of the first electrode 14 at a time of the process just before the application of the protective layer 40 (see step S24), thereby allowing the active region 12 can be protected from moisture or other external influences.
  • the external electrical supply line 50 is provided and the external electrical supply line 50 with the electronic unit, in particular the electronic control unit 20, electrically conductively coupled.
  • the electronic unit in particular the electronic control unit 20, electrically conductively coupled.
  • the electronic unit is at least partially reformed by means of the protective layer 40, which preferably comprises a plastics material, particularly preferably an epoxy resin.
  • the protective layer 40 which preferably comprises a plastics material, particularly preferably an epoxy resin.
  • step S26 the method for producing an optoelectronic device ends.

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract

Disclosed is an optoelectronic device comprising a layer stack (10) which contains an organic material and has an active zone (12) designed to emit electromagnetic radiation, and an electronic unit (20). The layer stack (10) and the electronic unit (20) are arranged on a common substrate (30).

Description

Beschreibungdescription
Optoelektronische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen VorrichtungOptoelectronic device and method for producing an optoelectronic device
Die vorliegende Erfindung betrifft eine optoelektronische Vorrichtung, die aufweist einen ein organisches Material enthaltenden Schichtenstapel mit einem zur Emission elektromagnetischer Strahlung ausgebildeten aktiven Bereich und ein Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung.The present invention relates to an optoelectronic device comprising an organic material-containing layer stack with an active region for emitting electromagnetic radiation and a method for producing an optoelectronic device.
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung Nr. 10 2007 001 742.3, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird.This patent application claims the priority of German Patent Application No. 10 2007 001 742.3, the disclosure of which is hereby incorporated by reference.
Optoelektronische Vorrichtungen der eingangs genannten Art werden als organische Leuchtdioden (OLED, auf Englisch „Organic Light-Emitting Diode") bezeichnet. Derartige optoelektronische Vorrichtungen werden vorrangig als Bildschirme (Fernseher, PC-Bildschirme, Displays für Automobile, Displays für Mobiltelefone, Touchscreen-Displays und ähnliches) verwendet. Ein weiteres Einsatzgebiet stellt die Allgemeinbeleuchtung, insbesondere die großflächige Raumbeleuchtung, dar .Optoelectronic devices of the aforementioned type are referred to as organic light-emitting diodes ("OLEDs"), Such optoelectronic devices are primarily used as screens (televisions, PC screens, displays for automobiles, displays for mobile phones, touchscreen displays Another field of application is general lighting, in particular large-scale room lighting.
Die Aufgabe der Erfindung ist es, eine optoelektronische Vorrichtung und ein Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung zu schaffen, mit der bzw. mit dem in einfacher Weise ein kompakter Aufbau der optoelektronischen Vorrichtung ermöglicht ist. Die Aufgabe wird gelöst durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.The object of the invention is to provide an optoelectronic device and a method for producing an optoelectronic device with which or in a simple manner a compact construction of the optoelectronic device is made possible. The object is solved by the features of the independent claims. Advantageous embodiments of the invention are characterized in the subclaims.
Gemäß eines ersten Aspekts zeichnet sich die Erfindung aus durch eine optoelektronische Vorrichtung, die aufweist einen ein organisches Material enthaltenden Schichtenstapel mit einem zur Emission elektromagnetischer Strahlung ausgebildeten aktiven Bereich, und eine elektronische Einheit, wobei der Schichtenstapel und die elektronische Einheit auf einem gemeinsamen Substrat angeordnet sind.According to a first aspect, the invention is characterized by an optoelectronic device comprising an organic material-containing layer stack with an active region for emission of electromagnetic radiation, and an electronic unit, wherein the layer stack and the electronic unit are arranged on a common substrate ,
So ist in vorteilhafter Weise eine gemeinsame Nutzung des Substrats als Trägermaterial sowohl für den das organische Material enthaltenden Schichtenstapel mit dem zur Emission elektromagnetischer Strahlung ausgebildeten aktiven Bereich als auch für die elektronische Einheit möglich. Ein derartiger Aufbau zeichnet sich durch eine besonders hohe Integrationsdichte und infolgedessen durch eine besondere Nutzerfreundlichkeit aus .Thus, it is advantageously possible to jointly use the substrate as the carrier material both for the layer containing the organic material and the active region designed for emitting electromagnetic radiation and for the electronic unit. Such a structure is characterized by a particularly high integration density and consequently by a special user-friendliness.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist die elektronische Einheit eine Steuereinheit zur Steuerung und/oder Regelung des Schichtenstapels auf. Ferner kann die elektronische Einheit aus einer Steuereinheit zur Steuerung und/oder Regelung des Schichtenstapels bestehen.According to a preferred embodiment, the electronic unit has a control unit for controlling and / or regulating the layer stack. Furthermore, the electronic unit may consist of a control unit for controlling and / or regulating the layer stack.
Gemäß einer weiter bevorzugten Ausführungsform weist die elektronische Einheit eine Schutzeinheit zum Schutz des Schichtenstapels auf. Vorzugsweise besteht die elektronische Einheit aus der Schutzeinheit. Beispielsweise kann die Schutzeinheit eine in Sperrrichtung gepolte Diode, insbesondere eine Zenerdiode sein, die dem Schichtenstapel parallel geschaltet ist, um Spannungsüberhöhungen entgegenzuwirken.According to a further preferred embodiment, the electronic unit has a protective unit for protecting the layer stack. Preferably, the electronic unit consists of the protection unit. For example, the protection unit may be a reversely poled diode, in particular a Zener diode, which is the stack of layers is connected in parallel to counteract voltage overshoots.
Ferner kann die elektronische Einheit eine Erfassungseinheit oder Überwachungseinheit zur Erfassung oder Überwachung der elektromagnetischen Strahlung aufweisen. Beispielsweise kann die Erfassungs- oder Überwachungseinheit ein Sensor sein, der beispielsweise die UmgebungsStrahlung oder die Temperatur erfasst. In Abhängigkeit der erfassten Werte kann mittels der Steuereinheit eine Nachregelung erfolgen und die Intensität der emittierten Strahlung nach Wunsch angepasst werden.Furthermore, the electronic unit may have a detection unit or monitoring unit for detecting or monitoring the electromagnetic radiation. For example, the detection or monitoring unit may be a sensor that detects, for example, the ambient radiation or the temperature. Depending on the detected values, a readjustment can take place by means of the control unit and the intensity of the emitted radiation can be adjusted as desired.
In einer vorteilhaften Ausführungsform weisen der Schichtenstapel erste Elektroden und die elektronische Einheit zweite Elektroden auf, und mindestens eine der ersten Elektroden und mindestens eine der zweiten Elektroden sind elektrisch leitend miteinander gekoppelt, d.h. sie sind insbesondere miteinander elektrisch leitend verbunden. Dies hat den Vorteil, dass so eine elektrische Kopplung des Schichtenstapels mit der elektronischen Einheit innerhalb des über das gemeinsame Substrat hergestellten Verbunds der optoelektronischen Vorrichtung aus dem Schichtenstapel und der elektronischen Einheit möglich ist.In an advantageous embodiment, the layer stack comprises first electrodes and the electronic unit has second electrodes, and at least one of the first electrodes and at least one of the second electrodes are electrically conductively coupled to one another, i. in particular, they are electrically connected to one another. This has the advantage that an electrical coupling of the layer stack with the electronic unit within the composite of the optoelectronic device produced by the common substrate from the layer stack and the electronic unit is thus possible.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform hat die optoelektronische Vorrichtung eine Schutzschicht, die so angeordnet und ausgebildet ist, dass die elektronische Einheit wenigstens teilweise zwischen dem Substrat und der Schutzschicht angeordnet ist. Dies hat den Vorteil, dass keine eigene Verkapselung der elektronischen Einheit mittels einer eigenen Schutzschicht erforderlich ist . Vielmehr können der Schichtenstapel und die elektronische Einheit mittels einer einzigen Schutzschicht wenigstens teilweise verkapselt werden. Dies ermöglicht insbesondere auch einen langzeitstabilen Verbund des Schichtenstapels und der elektronischen Einheit, wobei die gemeinsame Schutzschicht besonders kostengünstig ausgeführt sein kann.In a further advantageous embodiment, the optoelectronic device has a protective layer, which is arranged and configured so that the electronic unit is at least partially disposed between the substrate and the protective layer. This has the advantage that no separate encapsulation of the electronic unit is required by means of its own protective layer. Rather, the layer stack and the electronic unit can be at least partially encapsulated by means of a single protective layer become. This allows in particular a long-term stable composite of the layer stack and the electronic unit, wherein the common protective layer can be designed particularly cost.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform weist das Substrat und/oder die Schutzschicht ein formstabiles Material auf. Damit können der Schichtenstapel und die elektronische Einheit mechanisch stabil miteinander gekoppelt werden.In a further advantageous embodiment, the substrate and / or the protective layer has a dimensionally stable material. Thus, the layer stack and the electronic unit can be coupled mechanically stable.
Vorteilhaft ist auch, wenn das Substrat und/oder die Schutzschicht Glas oder eine Kunststoff- oder Metallfolie aufweist. Es ist auch denkbar, einen Schichtenstapel mit Schichten aus verschiedenen Materialien, beispielsweise aus verschiedenen Kunststoffen und/oder Metallen, insbesondere Metalloxiden, Metallnitriden oder Metalloxinitriden, zu verwenden. Auf diese Weise können das Substrat und/oder die Schutzschicht kostengünstig ausgebildet sein. Glas zeichnet sich insbesondere durch seine gute Eignung für optoelektronische Vorrichtungen aus.It is also advantageous if the substrate and / or the protective layer comprises glass or a plastic or metal foil. It is also conceivable to use a layer stack with layers of different materials, for example of different plastics and / or metals, in particular metal oxides, metal nitrides or metal oxynitrides. In this way, the substrate and / or the protective layer can be formed inexpensively. Glass is characterized in particular by its suitability for optoelectronic devices.
Weiterhin ist vorteilhaft, wenn das Substrat und/oder die Schutzschicht ein Material aufweist, das für die von dem aktiven Bereich emittierbare elektromagnetische Strahlung transparent ausgebildet ist. Damit kann die von dem aktiven Bereich emittierte elektromagnetische Strahlung in einen Bereich außerhalb der optoelektronischen Vorrichtung gelangen, in dem sie genutzt werden kann.Furthermore, it is advantageous if the substrate and / or the protective layer comprises a material that is transparent to the electromagnetic radiation that can be emitted by the active region. In this way, the electromagnetic radiation emitted by the active region can reach a region outside the optoelectronic device in which it can be used.
Eine weitere vorteilhafte Ausführung besteht darin, dass eine der ersten Elektroden und/oder eine der zweiten Elektroden mindestens eine Schicht aufweisen, die ein elektrisch leitendes Oxid und/oder ein Metall umfasst. Weiter ist vorteilhaft, wenn mindestens eine der ersten Elektroden und/oder eine der zweiten Elektroden eine Schichtenfolge mit zumindest einer ersten Schicht mit einem elektrisch leitenden Oxid und einer zweiten Schicht mit einem Metall aufweist. Dies hat den Vorteil, dass die ersten Elektroden und/oder die zweiten Elektroden sowohl für den Schichtenstapel mit dem zur Emission elektromagnetischer Strahlung ausgebildeten aktiven Bereich als auch für die elektronische Einheit einsetzbar sind.A further advantageous embodiment consists in that one of the first electrodes and / or one of the second electrodes has at least one layer which comprises an electrically conductive oxide and / or a metal. It is also advantageous if at least one of the first electrodes and / or one of the second electrodes has a layer sequence with at least one first layer with an electrically conductive oxide and a second layer with a metal. This has the advantage that the first electrodes and / or the second electrodes can be used both for the layer stack with the active region designed for emitting electromagnetic radiation and for the electronic unit.
Weiter ist vorteilhaft, wenn das Metall aus einer Gruppe aus Kupfer, Aluminium, Silber und Chrom ausgewählt ist. Diese Metalle haben den Vorteil eines geringen elektrischen Widerstands. Des Weiteren kann ein derartiges Material eine besonders gute Haftung der zweiten Schicht an einem elektrisch leitenden Oxid einer ersten Schicht ermöglichen. Damit kann eine stabile elektrisch leitende und mechanische Kopplung zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht erreicht werden.It is further advantageous if the metal is selected from a group of copper, aluminum, silver and chromium. These metals have the advantage of low electrical resistance. Furthermore, such a material may allow a particularly good adhesion of the second layer to an electrically conductive oxide of a first layer. Thus, a stable electrically conductive and mechanical coupling between the first layer and the second layer can be achieved.
Weiter ist vorteilhaft, wenn mindestens eine der ersten Elektroden mit einer Mehrzahl von zweiten Elektroden elektrisch leitend gekoppelt ist. Damit ist es möglich, mittels der ersten und der zweiten Elektroden den Aufbau von komplexen elektronischen Schaltstrukturen zu realisieren.It is also advantageous if at least one of the first electrodes is electrically conductively coupled to a plurality of second electrodes. This makes it possible to realize the construction of complex electronic switching structures by means of the first and the second electrodes.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform weisen benachbarte der Mehrzahl von zweiten Elektroden zumindest teilweise jeweils einen Abstand von etwa 100 Mikrometer bis 300 Mikrometer voneinander auf. Dies ermöglicht eine miniaturisierte Ausbildung der elektronischen Einheit in der optoelektronischen Vorrichtung und damit eine Platz sparende Ausführung der elektronischen Einheit.In a further advantageous embodiment, adjacent ones of the plurality of second electrodes at least partially each have a spacing of about 100 microns to 300 microns from each other. This allows a miniaturized training of the electronic unit in the Optoelectronic device and thus a space-saving design of the electronic unit.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform weist die optoelektronische Vorrichtung eine Mehrzahl von Schichtenstapeln auf. Dies ermöglicht die Ausbildung einer großflächigen optoelektronischen Vorrichtung.In a further advantageous embodiment, the optoelectronic device has a plurality of layer stacks. This allows the formation of a large-area optoelectronic device.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform umfasst die elektronische Einheit eine Mehrzahl von elektronischen Untereinheiten, die räumlich getrennt voneinander angeordnet sind. Insbesondere umfasst die elektronische Steuereinheit eine Mehrzahl von elektronischen Untersteuereinheiten. Dies ermöglicht es, die elektronischen Untersteuereinheiten auf dem Substrat, auf dem die Schichtenstapel und die elektronische Steuereinheit angeordnet sind, zu verteilen. Insbesondere kann dadurch eine homogene Emission elektromagnetischer Strahlung über die gesamte optoelektronische Vorrichtung erreicht werden.In a further advantageous embodiment, the electronic unit comprises a plurality of electronic subunits, which are arranged spatially separated from one another. In particular, the electronic control unit comprises a plurality of electronic sub-control units. This makes it possible to distribute the electronic sub-control units on the substrate on which the layer stacks and the electronic control unit are arranged. In particular, this makes it possible to achieve a homogeneous emission of electromagnetic radiation over the entire optoelectronic device.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform ist eine Gruppe von Schichtenstapeln jeweils durch eine der elektronischen Untersteuereinheiten ansteuerbar. Damit können einzelne Untersteuereinheiten, die ausgebildet sind zur Steuerung und/oder Regelung der Schichtenstapel, jeweils eine Teilmenge von Schichtenstapeln steuern beziehungsweise regeln. Es ist so möglich, eine gute Verteilung der elektrischen Last auf die verschiedenen elektronischen Untersteuereinheiten zu erreichen.In a further advantageous embodiment, a group of layer stacks can each be controlled by one of the electronic sub-control units. In this way, individual sub-control units which are designed to control and / or regulate the layer stacks can each control or regulate a subset of layer stacks. It is thus possible to achieve a good distribution of the electrical load on the various electronic sub-control units.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform weist die optoelektronische Vorrichtung eine einzige externe elektrische Zuleitung auf, die elektrisch leitend mit der elektronischen Einheit gekoppelt ist. Dies schafft die Möglichkeit, die optoelektronische Vorrichtung mittels einer einzigen externen Zuleitung über die elektronische Einheit, insbesondere über die elektronische Steuereinheit, an eine externe Strom- und/oder SpannungsVersorgung anzuschließen, wodurch die Montage der optoelektronischen Vorrichtung erleichtert werden kann. Insbesondere kann so vermieden werden, dass eine Vielzahl von externen elektrischen Zuleitungen an die optoelektronische Vorrichtung herangeführt werden müssen.In a further advantageous embodiment, the optoelectronic device has a single external electrical lead, which is electrically conductive with the electronic unit is coupled. This makes it possible to connect the optoelectronic device by means of a single external supply line via the electronic unit, in particular via the electronic control unit, to an external power and / or voltage supply, whereby the assembly of the optoelectronic device can be facilitated. In particular, it can thus be avoided that a large number of external electrical supply lines must be brought to the optoelectronic device.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform weist die optoelektronische Vorrichtung einen Strahlungssensor auf, der mit der elektronischen Steuereinheit derart elektrisch gekoppelt ist, dass ein Signal des StrahlungsSensors an die elektronische Steuereinheit abgebbar ist, und wobei der Strahlungssensor derart angeordnet und ausgebildet ist, dass der zur Emission elektromagnetischer Strahlung ausgebildete aktive Bereich des Schichtenstapels in Abhängigkeit von dem Signal des Strahlungssensors ansteuerbar ist. Damit kann ein stabiles Niveau der von dem Schichtenstapel emittierten elektromagnetischen Strahlung erreicht werden. Des Weiteren ermöglicht dies eine integrierte Ausbildung des Strahlungssensors innerhalb der optoelektronischen Vorrichtung, was eine besonders Platz sparende und kostengünstige Lösung darstellen kann.In a further advantageous embodiment, the optoelectronic device has a radiation sensor, which is electrically coupled to the electronic control unit in such a way that a signal of the radiation sensor can be emitted to the electronic control unit, and wherein the radiation sensor is arranged and configured such that the emission electromagnetic Radiation formed active region of the layer stack in response to the signal of the radiation sensor can be controlled. In this way, a stable level of the electromagnetic radiation emitted by the layer stack can be achieved. Furthermore, this allows an integrated design of the radiation sensor within the optoelectronic device, which can be a particularly space-saving and cost-effective solution.
Gemäß eines zweiten Aspekts umfasst die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung mit den Schritten: Bereitstellen eines Substrats, Aufbringen einer ersten Schicht auf das Substrat, wobei die erste Schicht ein elektrisch leitendes Oxid aufweist, Aufbringen einer zweiten Schicht, die ein Metall aufweist, auf die erste Schicht, Abtragen von Abschnitten der ersten Schicht und/oder von Abschnitten der zweiten Schicht unter Ausbildung mindestens einer ersten Elektrode und einer zweiten Elektrode, und Aufbringen eines aktiven Bereichs eines Schichtenstapels auf die zweite Schicht der ersten Elektrode und elektronischer Bauteile auf die zweite Schicht der zweiten Elektrode, derart, dass die elektronischen Bauteile elektrisch leitend mit der zweiten Elektrode gekoppelt sind. Es ist so möglich, verschiedene Schritte bei der Herstellung des ein organisches Material enthaltenden Schichtenstapels und der elektronischen Einheit miteinander zu kombinieren, anstatt sie in getrennten Schritten durchzuführen. Dies ermöglicht eine besonders kostengünstige Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung.According to a second aspect, the invention comprises a method for producing an optoelectronic device comprising the steps of: providing a substrate, applying a first layer to the substrate, wherein the first layer comprises an electrically conductive oxide, applying a second layer comprising a metal, on the first layer, removing portions of the first layer and / or portions of the second layer to form at least a first electrode and a second electrode, and depositing an active region of a layer stack on the second layer of the first electrode and electronic components on the second Layer of the second electrode, such that the electronic components are electrically conductively coupled to the second electrode. It is thus possible to combine different steps in the production of the organic material-containing layer stack and the electronic unit with each other, rather than performing them in separate steps. This allows a particularly cost-effective production of an optoelectronic device.
In einer vorteilhaften Ausführungsform des Verfahrens zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung werden in dem Schritt Aufbringen des aktiven Bereichs des Schichtenstapels auf die zweite Schicht der ersten Elektrode und elektronischer Bauteile auf die zweite Schicht der zweiten Elektrode zuerst die elektronischen Bauteile auf die zweite Schicht der zweiten Elektrode aufgebracht und anschließend wird der aktive Bereich des Schichtenstapels auf die zweite Schicht der ersten Elektrode aufgebracht. Dies ermöglicht es, den aktiven Bereich des Schichtenstapels erst dann aufzubringen, wenn ein Schutz des aktiven Bereichs vor äußeren Einflüssen ermöglicht werden kann.In an advantageous embodiment of the method for producing an optoelectronic device, in the step of applying the active region of the layer stack to the second layer of the first electrode and electronic components to the second layer of the second electrode, the electronic components are first applied to the second layer of the second electrode and then the active region of the layer stack is applied to the second layer of the first electrode. This makes it possible to apply the active region of the layer stack only when protection of the active region from external influences can be made possible.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des Verfahrens zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung werden die elektronischen Bauteile mittels Dickschichttechnik auf die zweite Schicht der zweiten Elektrode aufgebracht. Verfahren der Dickschichttechnik stellen besonders kostengünstige und bewährte Verfahren zum Aufbringen von elektronischen Bauteilen auf Substrate oder Schichten dar.In a further advantageous embodiment of the method for producing an optoelectronic device, the electronic components are applied to the second layer of the second electrode by means of thick-film technology. Method of thick film technology represent particularly cost-effective and proven methods for applying electronic components to substrates or layers.
Weiterhin ist vorteilhaft, wenn mit einem weiteren Schritt zwischen den Schritten Aufbringen der ersten Schicht auf das Substrat und Aufbringen der zweiten Schicht auf die erste Schicht ein Abtragen von Abschnitten der ersten Schicht erfolgt. Damit kann die erste Schicht, die vorzugsweise elektrisch leitendes Oxid aufweist, vorteilhafter Weise bereits vor den weiteren Schritten bearbeitet werden.Furthermore, it is advantageous if, with a further step between the steps of applying the first layer to the substrate and applying the second layer to the first layer, removal of portions of the first layer takes place. Thus, the first layer, which preferably comprises electrically conductive oxide, can advantageously be processed before the further steps.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des Verfahrens erfolgen in weiteren Schritten nach dem Schritt Aufbringen eines aktiven Bereichs eines Schichtenstapels auf die zweite Schicht der ersten Elektrode und elektronischer Bauteile auf die zweite Schicht der zweiten Elektrode ein Bereitstellen einer externen elektrischen Zuleitung und ein Herstellen einer elektrisch leitenden Kopplung der externen elektrischen Zuleitung mit der elektronischen Einheit, insbesondere mit der elektronischen Steuereinheit. Damit ist es möglich, optoelektronische Vorrichtungen in besonders einfacher Weise mit einer einzigen externen Zuleitung auszubilden.In a further advantageous embodiment of the method, in further steps after the step of applying an active region of a layer stack to the second layer of the first electrode and electronic components to the second layer of the second electrode, provision of an external electrical supply line and establishment of an electrically conductive coupling take place the external electrical supply line to the electronic unit, in particular to the electronic control unit. This makes it possible to form optoelectronic devices in a particularly simple manner with a single external lead.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des Verfahrens erfolgt in einem weiteren Schritt nach dem Schritt Aufbringen eines aktiven Bereichs eines Schichtenstapels auf die zweite Schicht der ersten Elektrode und elektronischer Bauteile auf die zweite Schicht der zweiten Elektrode ein wenigstens teilweises Umformen der elektronischen Einheit mit einer Schutzschicht zum Ausbilden einer Verkapselung. Damit kann die elektronische Einheit vor äußeren Einflüssen geschützt werden.In a further advantageous embodiment of the method, in a further step after the step of applying an active region of a layer stack to the second layer of the first electrode and electronic components to the second layer of the second electrode, at least partial reshaping of the electronic unit with a protective layer for forming takes place an encapsulation. In order to the electronic unit can be protected from external influences.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind nachfolgend anhand der Schematischen Zeichnungen näher erläutert.Advantageous embodiments of the invention are explained in more detail below with reference to the schematic drawings.
Es zeigen:Show it:
Figur 1 eine Schnittansicht einer optoelektronischen Vorrichtung,FIG. 1 shows a sectional view of an optoelectronic device,
Figur 2 eine schematische, teilweise gebrochene Aufsicht auf eine optoelektronische Vorrichtung, undFigure 2 is a schematic, partially broken plan view of an optoelectronic device, and
Figur 3 ein Flussdiagramm für ein Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung.FIG. 3 shows a flow chart for a method for producing an optoelectronic device.
Elemente gleicher Konstruktion oder Funktion sind figurenübergreifend mit den gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet. Die dargestellten Elemente und deren Größenverhältnisse untereinander sind grundsätzlich nicht als maßstabsgerecht anzusehen, vielmehr können einzelne Elemente, wie zum Beispiel Schichten, Bauteile, Bauelemente und Bereiche zur besseren Darstellbarkeit und/oder zum besseren Verständnis übertrieben dick oder groß dimensioniert dargestellt sein.Elements of the same construction or function are identified across the figures with the same reference numerals. The illustrated elements and their proportions with each other are basically not to be regarded as true to scale, but individual elements, such as layers, components, components and areas for better representability and / or better understanding may be shown exaggerated thick or large.
In Figur 1 ist ein Ausführungsbeispiel für eine optoelektronische Vorrichtung gezeigt.FIG. 1 shows an exemplary embodiment of an optoelectronic device.
Die optoelektronische Vorrichtung weist auf einen Schichtenstapel 10, mit einem zur Emission elektromagnetischer Strahlung ausgebildeten aktiven Bereich 12 , wobei der aktive Bereich 12 ein organisches Material enthält. Der aktive Bereich 12 kann organische Polymere, organische Oligomere, organische Monomere, organische kleine, nicht-polymere Moleküle („Small Molecules") oder Kombinationen daraus aufweisen. Geeignete Materialien sowie Anordnungen und Strukturierungen der Materialien für den aktiven Bereich 12 sind dem Fachmann bekannt und werden daher an dieser Stelle nicht weiter ausgeführt. In dem aktiven Bereich 12 kann durch Elektronen- und Löcherrekombination elektromagnetische Strahlung mit einer einzelnen Wellenlänge oder einem Bereich von Wellenlängen erzeugt werden. Dabei kann bei einem Betrachter ein einfarbiger, ein mehrfarbiger und/oder ein mischfarbiger Leuchteindruck erweckt werden.The optoelectronic device has a layer stack 10 with an active region designed for emitting electromagnetic radiation 12, wherein the active region 12 contains an organic material. The active region 12 may comprise organic polymers, organic oligomers, organic monomers, small organic molecules, small molecule, or combinations thereof Suitable materials, as well as arrangements and structuring of the active region materials 12, are known to those skilled in the art Thus, electron and hole recombination can produce electromagnetic radiation having a single wavelength or a range of wavelengths in the active region 12. In the case of an observer, a monochrome, a multicolored and / or a mixed-color luminous impression may occur to be awakened.
Benachbart zu dem aktiven Bereich 12 sind erste Elektroden 14, 16 angeordnet. Insbesondere können die ersten Elektroden 14, 16 flächig oder in Teilbereiche strukturiert ausgeführt sein. Die erste Elektrode 14 ist bezüglich Figur 1 unterhalb des aktiven Bereichs 12 angeordnet und ist bevorzugt als Anode ausgeführt, womit sie als Löcher-induzierendes Element dienen kann. Die erste Elektrode 14 hat eine erste Schicht 141 und eine zweite Schicht 142, wobei die zweite Schicht 142 der ersten Elektrode 14 der ersten Schicht 141 der ersten Elektrode 14 zugeordnet ist.Adjacent to the active region 12, first electrodes 14, 16 are arranged. In particular, the first electrodes 14, 16 may have a surface or structured in partial areas. The first electrode 14 is arranged below the active region 12 with respect to FIG. 1 and is preferably designed as an anode, with which it can serve as a hole-inducing element. The first electrode 14 has a first layer 141 and a second layer 142, wherein the second layer 142 of the first electrode 14 of the first layer 141 of the first electrode 14 is associated.
Die erste Schicht 141 der ersten Elektrode 14 ist insbesondere als elektrisch leitendes Oxid ausgebildet. Besonders bevorzugt ist die Ausbildung der ersten Schicht 141 der ersten Elektrode 14 als transparentes elektrisch leitendes Oxid (Transparent Conductive Oxid, TCO) .The first layer 141 of the first electrode 14 is in particular formed as an electrically conductive oxide. Particularly preferred is the formation of the first layer 141 of the first electrode 14 as a transparent electrically conductive oxide (transparent conductive oxide, TCO).
Transparente elektrisch leitende Oxide sind transparente leitende Materialien, in der Regel Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid oder besonders bevorzugt Indium-Zinnoxid (ITO) . Neben binären Metall-Sauerstoffverbindungen, wie beispielsweise ZnO, SnO2 oder In2O3 gehören auch ternäre Metall-Sauerstoff-Verbindungen, wie beispielsweise Zn2SnO4, CdSnO3, ZnSnO3, MgIn2O4, GaInO3, Zn2In2O5 oder In4Sn3Oi2 oder Mischungen unterschiedlicher transparenter elektrisch leitender Oxide zu der Gruppe der TCOs . Weiterhin müssen die TCOs nicht zwingend einer stöchiometrisehen Zusammensetzung entsprechen und können auch p- oder n-dotiert sein.Transparent electrically conductive oxides are transparent conductive materials, usually metal oxides, such as For example, zinc oxide, tin oxide, cadmium oxide, titanium oxide, indium oxide or particularly preferably indium tin oxide (ITO). In addition to binary metal-oxygen compounds such as ZnO, SnO 2 or In 2 O 3 also include ternary metal-oxygen compounds such as Zn 2 SnO 4 , CdSnO 3 , ZnSnO 3 , MgIn 2 O 4 , GaInO 3 , Zn 2 In 2 O 5 or In 4 Sn 3 Oi 2 or mixtures of different transparent electroconductive oxides to the group of TCOs. Furthermore, the TCOs do not necessarily have to correspond to a stoichiometric composition and may also be p- or n-doped.
Die zweite Schicht 142 der ersten Elektrode 14 umfasst bevorzugt Chrom oder Kupfer.The second layer 142 of the first electrode 14 preferably comprises chromium or copper.
Die bezüglich Figur 1 oberhalb des aktiven Bereichs 12 angeordnete weitere erste Elektrode 16 ist bevorzugt als Kathode ausgeführt und dient somit als Elektroneninduzierendes Element. Als Material für diese Elektrode können insbesondere Aluminium, Barium, Indium, Silber, Gold, Magnesium, Kalzium oder Lithium sowie Verbindungen, Kombinationen und Legierungen davon vorteilhaft sein.The further first electrode 16 arranged above the active region 12 with respect to FIG. 1 is preferably designed as a cathode and thus serves as an electron-inducing element. Aluminum, barium, indium, silver, gold, magnesium, calcium or lithium, as well as compounds, combinations and alloys thereof, may in particular be advantageous as material for this electrode.
Die optoelektronische Vorrichtung weist weiter eine elektronische Einheit auf, die bei diesem Ausführungsbeispiel aus einer elektronischen Steuereinheit 20 besteht, die ausgebildet ist zur Steuerung und/oder Regelung des Schichtenstapels 10. Die elektronische Steuereinheit 20 weist zweite Elektroden 24, 26 auf, die elektronische Bauteile 22 kontaktieren. Die zweite Elektrode 24, die bezüglich Figur 1 unterhalb der elektronischen Bauteile 22 angeordnet ist, hat eine erste Schicht 241 und eine zweite Schicht 242. Die erste Schicht 241 ist in derselben Weise ausgebildet wie die erste Schicht 141 der ersten Elektrode 14 und die zweite Schicht 242 der zweiten Elektrode 24 ist ausgebildet wie die zweite Schicht 142 der ersten Elektrode 14. Die bezüglich Figur 1 oberhalb der elektronischen Bauteile 22 angeordnete weitere zweite Elektrode 26 ist ausgebildet wie die weitere erste Elektrode 16 oberhalb des aktiven Bereichs 12 des Schichtenstapels 10.The optoelectronic device further has an electronic unit, which in this embodiment consists of an electronic control unit 20 which is designed to control and / or regulate the layer stack 10. The electronic control unit 20 has second electrodes 24, 26, the electronic components 22 to contact. The second electrode 24 disposed below the electronic components 22 with respect to FIG. 1 has a first layer 241 and a second layer 242. The first layer 241 is formed in the same manner as the first layer 141 of the first electrode 14 and the second layer The second electrode 24 is formed like the second layer 142 of the first electrode 14. The further second electrode 26 arranged above the electronic components 22 with respect to FIG. 1 is designed like the further first electrode 16 above the active region 12 of the layer stack 10.
Die elektronische Steuereinheit 20 kann auch Teil einer elektronischen Schaltung sein. Insbesondere kann die elektronische Steuereinheit 20 beispielsweise ein integrierter Schaltkreis („integrated circuit", IC) oder eine aktive oder passive elektronische Baugruppe oder ein aktives oder passives elektronisches Bauteil für elektrische Schaltungen sein.The electronic control unit 20 may also be part of an electronic circuit. In particular, the electronic control unit 20 may be, for example, an integrated circuit (IC) or an active or passive electronic assembly or an active or passive electronic component for electrical circuits.
Der Schichtenstapel 10 und die elektronische Steuereinheit 20 sind auf einem gemeinsamen Substrat 30 angeordnet. Besonders bevorzugt ist, wenn das Substrat 30 Glas aufweist. Alternativ oder zusätzlich kann das Substrat 30 auch Quarz, Kunststofffolien, Metall, Metallfolien, Siliziumwafer oder ein beliebiges anderes geeignetes Substratmaterial umfassen. Alternativ oder zusätzlich kann das Substrat 30 auch ein Laminat oder eine Schichtenfolge aus mehreren Schichten aufweisen. Dabei kann zumindest eine Schicht Glas aufweisen oder aus Glas sein. Insbesondere kann bei einem aus einer Schichtenfolge gebildeten Substrat 30 zumindest die Schicht Glas aufweisen, auf der der Schichtenstapel 10 und die elektronische Steuereinheit 20 angeordnet sind. Darüber hinaus kann das Substrat 30 auch Kunststoff aufweisen.The layer stack 10 and the electronic control unit 20 are arranged on a common substrate 30. It is particularly preferred if the substrate 30 comprises glass. Alternatively or additionally, the substrate 30 may also include quartz, plastic films, metal, metal foils, silicon wafers, or any other suitable substrate material. Alternatively or additionally, the substrate 30 may also comprise a laminate or a layer sequence of a plurality of layers. In this case, at least one layer may comprise glass or be made of glass. In particular, in the case of a substrate 30 formed from a layer sequence, at least the layer may comprise glass on which the layer stack 10 and the electronic control unit 20 are arranged. In addition, the substrate 30 may also comprise plastic.
Ist die optoelektronische Vorrichtung als OLED und dabei insbesondere als so genannter „Bottom-Emitter" ausgeführt, das heißt, dass die in dem aktiven Bereich 12 emittierte elektromagnetische Strahlung durch das Substrat 30 hindurch abgestrahlt wird, so kann das Substrat 30 vorteilhafterweise eine Transparenz für zumindest einen Teil der im aktiven Bereich 12 erzeugten elektromagnetischen Strahlung aufweisen. In der Bottom-Emitter-Konfiguration kann vorteilhafterweise auch die erste Elektrode 14 und die zweite Elektrode 24 eine Transparenz zumindest für einen Teil der im aktiven Bereich 12 erzeugten elektromagnetischen Strahlung aufweisen.If the optoelectronic device is designed as an OLED and in particular as a so-called "bottom emitter", that is to say that it emits in the active region 12 Electromagnetic radiation is radiated through the substrate 30, the substrate 30 may advantageously have a transparency for at least a portion of the electromagnetic radiation generated in the active region 12. In the bottom emitter configuration, the first electrode 14 and the second electrode 24 can advantageously also have transparency for at least some of the electromagnetic radiation generated in the active region 12.
Die weitere zweite Elektrode 26, die bezüglich Figur 1 oberhalb der elektronischen Bauteile 22 angeordnet ist, kann als Kathode ausgeführt sein und somit als Elektroneninduzierendes Element dienen.The further second electrode 26, which is arranged above the electronic components 22 with respect to FIG. 1, can be embodied as a cathode and thus serve as an electron-inducing element.
Die optoelektronische Vorrichtung weist weiter eine Schutzschicht 40 auf, die derart mit dem Substrat 30 gekoppelt ist, dass der Schichtenstapel 10 und die elektronische Steuereinheit 20 mit den dazugehörigen Elektroden 14, 16, 24, 26 und dem aktiven Bereich 12 sowie den elektronischen Bauteilen 22 vor Feuchtigkeit und/oder oxidierenden Substanzen wie etwa Sauerstoff geschützt werden können. Die Verkapselung kann vorzugsweise eine oder mehrere Schichten umfassen, wobei die Schutzschicht 40 der Verkapselung vorzugsweise Planarisierungsschichten, Barriereschichten, Wasser und/oder Sauerstoff absorbierende Schichten, Verbindungsschichten oder Kombinationen daraus aufweist .The optoelectronic device further comprises a protective layer 40, which is coupled to the substrate 30 such that the layer stack 10 and the electronic control unit 20 with the associated electrodes 14, 16, 24, 26 and the active region 12 and the electronic components 22 before Moisture and / or oxidizing substances such as oxygen can be protected. The encapsulation may preferably comprise one or more layers, wherein the encapsulation protective layer 40 preferably comprises planarization layers, barrier layers, water and / or oxygen absorbing layers, tie layers or combinations thereof.
Weiterhin kann die optoelektronische Vorrichtung optoelektronische Elemente aufweisen, die dem aktiven Bereich 12 in Abstrahlrichtung der elektromagnetischen Strahlung nachgeordnet sind. Insbesondere kann etwa auf der Außenseite des Substrats 30 (beim Bottom-Emitter) oder über der Schutzschicht 40 (bei einem Top-Emitter) einFurthermore, the optoelectronic device can have optoelectronic elements, which are arranged downstream of the active region 12 in the emission direction of the electromagnetic radiation. In particular, about on the outside of the substrate 30 (the bottom emitter) or over the Protective layer 40 (for a top emitter)
Zirkularpolarisator angeordnet sein, mit dem auf vorteilhafte Weise vermieden werden kann, dass Licht, das von außen in die optoelektronische Vorrichtung hineingestrahlt wird und das beispielsweise an den Elektroden 14, 16, 24, 26 reflektiert werden kann, wieder aus der optoelektronischen Vorrichtung austreten kann.Circular polarizer can be arranged with which can be advantageously avoided that light that is radiated into the optoelectronic device from the outside and can be reflected, for example, to the electrodes 14, 16, 24, 26, again emerge from the optoelectronic device.
Die optoelektronische Vorrichtung weist weiter eine externe elektrische Zuleitung 50 auf, die mit der elektronischen Steuereinheit 20 elektrisch gekoppelt ist. Die externe elektrische Zuleitung 50 ist in der hier gezeigten Ausführungsform als eine einzige externe elektrische Zuleitung ausgebildet, die dazu dient, die optoelektronische Vorrichtung mit weiteren elektronischen Steuereinheiten und/oder einer Strom- und/oder einer SpannungsVersorgung elektrisch zu koppeln. Alternativ kann die optoelektronische Vorrichtung auch mehrere externe elektrische Zuleitungen aufweisen.The optoelectronic device further has an external electrical lead 50, which is electrically coupled to the electronic control unit 20. The external electrical lead 50 is formed in the embodiment shown here as a single external electrical lead, which serves to electrically couple the optoelectronic device with other electronic control units and / or a power and / or a voltage supply. Alternatively, the optoelectronic device may also have a plurality of external electrical leads.
In Figur 2 ist eine schematische Darstellung der optoelektronischen Vorrichtung in einer teilweise gebrochenen Aufsicht dargestellt.FIG. 2 shows a schematic representation of the optoelectronic device in a partially broken plan view.
Die optoelektronische Vorrichtung hat eine Mehrzahl von ersten Elektroden 14, 16 und eine Mehrzahl von zweiten Elektroden 24, 26. Aus Gründen der Übersichtlichkeit sind hier die ersten Elektroden 14, 16 und die zweiten Elektroden 24 nur teilweise oder gebrochen dargestellt und die weiteren zweiten Elektroden 26 nicht gezeigt. Die ersten Elektroden 14 und die zweiten Elektroden 24 sind vorzugsweise im Wesentlichen in einer gemeinsamen Ebene angeordnet. Die weiteren ersten Elektroden 16 sind vorzugsweise im Wesentlichen in einer Ebene angeordnet, die verschieden ist von der gemeinsamen Ebene, in der die ersten Elektroden 14 und die zweiten Elektroden 24 angeordnet sind.The optoelectronic device has a plurality of first electrodes 14, 16 and a plurality of second electrodes 24, 26. For reasons of clarity, here the first electrodes 14, 16 and the second electrodes 24 are shown only partially or broken, and the further second electrodes 26 Not shown. The first electrodes 14 and the second electrodes 24 are preferably arranged substantially in a common plane. The further first electrodes 16 are preferably in Substantially arranged in a plane which is different from the common plane in which the first electrodes 14 and the second electrodes 24 are arranged.
Bei diesem Ausführungsbeispiel weist die elektronische Einheit einen Strahlungssensor 52 und eine elektronische Steuereinheit 20 auf. Die elektronische Steuereinheit 20 umfasst eine Mehrzahl von elektronischen Untersteuereinheiten 20a, 20b, 20c, 2Od, die auf dem Substrat 30 verteilt angeordnet sind. Die elektronischen Untersteuereinheiten 20a,In this embodiment, the electronic unit has a radiation sensor 52 and an electronic control unit 20. The electronic control unit 20 comprises a plurality of electronic sub-control units 20a, 20b, 20c, 20d, which are arranged distributed on the substrate 30. The electronic sub-control units 20a,
20b, 20c, 20d sind in der hier dargestellten bevorzugten Ausführungsform in Eckbereichen des Substrats 30 angeordnet, können jedoch alternativ in anderen Bereichen des Substrats20b, 20c, 20d are arranged in corner regions of the substrate 30 in the preferred embodiment shown here, but may alternatively be located in other regions of the substrate
30 angeordnet sein, wobei insbesondere eine Anordnung in Randbereichen des Substrats 30 bevorzugt ist, wodurch eine gleichmäßige Leuchtdichte der optoelektronischen Vorrichtung erreicht werden kann.30, wherein in particular an arrangement in edge regions of the substrate 30 is preferred, whereby a uniform luminance of the optoelectronic device can be achieved.
Die ersten Elektroden 14 und die zweiten Elektroden 24 sind elektrisch leitend miteinander gekoppelt. Vorzugsweise sind die ersten Elektroden 14 unterhalb des aktiven Bereichs 12 des Schichtenstapels 10 ausgebildet in Form parallel nebeneinander angeordneter Leiterbahnen und die weiteren ersten Elektroden 16 oberhalb des aktiven Bereichs 12 des Schichtenstapels 10 als senkrecht zu den ersten Elektroden 14 verlaufende parallel nebeneinander angeordnete Leiterbahnen. Die aktiven Bereiche 12 des Schichtenstapels 10 sind zwischen den ersten Elektroden 14 und den weiteren ersten Elektroden 16 angeordnet.The first electrodes 14 and the second electrodes 24 are electrically conductively coupled together. Preferably, the first electrodes 14 are formed below the active region 12 of the layer stack 10 in the form of parallel adjacent conductor tracks and the other first electrodes 16 above the active region 12 of the layer stack 10 as perpendicular to the first electrode 14 extending parallel juxtaposed interconnects. The active regions 12 of the layer stack 10 are arranged between the first electrodes 14 and the further first electrodes 16.
Die elektronische Untersteuereinheiten 20a, 20b, 20c, 2Od sind derart ausgebildet und angeordnet, dass jede der elektronischen Untersteuereinheiten 20a, 20b, 20c, 2Od eine Gruppe 11 von Schichtenstapeln 10 mit den aktiven Bereichen 12 ansteuern kann. Dies ist beispielhaft rechts oben in Figur 2 in Bezug auf die elektronische Untersteuereinheit 20b dargestellt .The electronic sub-control units 20a, 20b, 20c, 20d are configured and arranged such that each of the electronic sub-control units 20a, 20b, 20c, 20d has a Group 11 of layer stacks 10 with the active areas 12 can control. This is illustrated by way of example on the top right in FIG. 2 with respect to the electronic sub-control unit 20b.
Benachbarte der zweiten Elektroden 24 weisen jeweils einen Abstand D zueinander auf. Der Abstand D beträgt vorzugsweise zirka 100 Mikrometer bis 300 Mikrometer, wobei der Abstand D als Mitte-zu-Mitte-Abstand zu verstehen ist, so dass der Abstand D ein Raster von zueinander benachbarten zweiten Elektroden 24 bezeichnet. Durch den Abstand D von etwa 100 Mikrometer bis 300 Mikrometer ist einerseits eine Miniaturisierung der elektronischen Steuereinheit 20 ermöglicht, andererseits kann dadurch die elektrische Kontaktierung benachbarter zweiter Elektroden 24 leicht durchgeführt werden. In entsprechender Weise haben benachbarte der nicht dargestellten weiteren zweiten Elektroden 26 jeweils einen Abstand D zueinander.Neighboring the second electrodes 24 each have a distance D to each other. The distance D is preferably about 100 microns to 300 microns, wherein the distance D is to be understood as a center-to-center distance, so that the distance D denotes a grid of adjacent second electrode 24. Due to the distance D of about 100 microns to 300 microns on the one hand miniaturization of the electronic control unit 20 allows, on the other hand, thereby the electrical contacting of adjacent second electrodes 24 can be easily performed. In a corresponding manner adjacent to the other second electrodes 26, not shown, each have a distance D to each other.
Der Strahlungssensor 52 ist über eine Sensorverbindungsleitung 54 mit der elektronischen Steuereinheit 20 elektrisch gekoppelt. Ein Signal 56 des Strahlungssensors 52 kann über die Sensorverbindungsleitung 54 zu der elektronischen Steuereinheit 20, insbesondere der elektronischen Untersteuereinheit 20b, gelangen.The radiation sensor 52 is electrically coupled to the electronic control unit 20 via a sensor connection line 54. A signal 56 of the radiation sensor 52 can pass via the sensor connection line 54 to the electronic control unit 20, in particular the electronic sub-control unit 20b.
Mittels der elektronischen Steuereinheit 20 kann das Signal 56 des Strahlungssensors 52 ausgewertet werden. Detektiert die zur Steuerung und/oder Regelung des Schichtenstapels 10 ausgebildete elektronische Steuereinheit 20 mittels des Strahlungssensors 52, dass die Emission elektromagnetischer Strahlung aus dem aktiven Bereich 12 des Schichtenstapels 10 nicht mehr ausreichend ist, so ist es möglich, durch eine ström- oder spannungsgesteuerte Regelung den aktiven Bereich 12 des Schichtenstapels 10 so anzusteuern, dass aus diesem wieder ein ausreichend hohes Maß an elektromagnetischer Strahlung emittiert wird.By means of the electronic control unit 20, the signal 56 of the radiation sensor 52 can be evaluated. If the electronic control unit 20 designed to control and / or regulate the layer stack 10 detects, by means of the radiation sensor 52, that the emission of electromagnetic radiation from the active region 12 of the layer stack 10 is no longer sufficient, it is possible to use a current or voltage-controlled control to control the active region 12 of the layer stack 10 so that from this again a sufficiently high level of electromagnetic radiation is emitted.
Optoelektronische Vorrichtungen wie in den Figuren 1 und 2 gezeigt können durch die schon geschilderten Vorteile eine hohe Wirtschaftlichkeit und geringe Kosten durch einen effizienten Materialaufwand ermöglichen. Insbesondere können derartige optoelektronische Vorrichtungen geeignet sein für eine Verwendung in Anzeige- und/oderOptoelectronic devices as shown in FIGS. 1 and 2 can, owing to the advantages already described, enable a high level of economic efficiency and low costs through an efficient use of material. In particular, such optoelectronic devices may be suitable for use in display and / or
Beleuchtungseinrichtungen, die sich durch eine kompakte, Platz sparende und flache Bauform auszeichnen.Lighting equipment characterized by a compact, space-saving and flat design.
Durch die Ausbildung des Schichtenstapels 10 und der elektronischen Einheit auf dem gemeinsamen Substrat 30 ist insbesondere eine besonders Platz sparende Ausbildung der optoelektronischen Vorrichtung möglich. Die elektronische Einheit benötigt aufgrund der gemeinsamen Schutzschicht 40 für die elektronische Einheit 20 und den Schichtenstapel 10 kein separates Gehäuse. Die Handhabung der optoelektronischen Vorrichtung kann insbesondere durch das gemeinsame Substrat 30, die Ausbildung einer gemeinsamen Schutzschicht 40 und einer einzigen gemeinsamen externen elektrischen Zuleitung 50 für die elektronische Einheit 20 und den Schichtenstapel 10 sehr einfach ausgebildet sein.By forming the layer stack 10 and the electronic unit on the common substrate 30, a particularly space-saving design of the optoelectronic device is possible in particular. Due to the common protective layer 40 for the electronic unit 20 and the layer stack 10, the electronic unit does not require a separate housing. The handling of the optoelectronic device can be formed very simply by the common substrate 30, the formation of a common protective layer 40 and a single common external electrical lead 50 for the electronic unit 20 and the layer stack 10.
Im Weiteren wird auf die Figur 3 Bezug genommen, die ein Flussdiagramm für das Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung zeigt.Reference is now made to FIG. 3, which shows a flow chart for the method for producing an optoelectronic device.
In einem Schritt S8 wird das Verfahren gestartet. In einem Schritt SlO wird das Substrat 30 bereitgestellt. Die Bereitstellung kann dabei dem Fachmann bekannte Verfahrensschritte zur Herstellung einer geeigneten optoelektronischen Vorrichtung aufweisen.In a step S8, the method is started. In a step S10, the substrate 30 is provided. The provision may include method steps known to the person skilled in the art for producing a suitable optoelectronic device.
In einem Schritt S12 wird die erste Schicht 141, 241 auf das Substrat 30 aufgebracht, wobei die erste Schicht 141, 241 ein elektrisch leitendes Oxid aufweist. Das Aufbringen der ersten Schicht 141, 241 erfolgt bevorzugt mittels Lithographie. In einer alternativen Ausführungsform des Verfahrens kann die erste Schicht 141, 241 bereits auch auf dem bereitgestellten Substrat 30 aufgebracht sein.In a step S12, the first layer 141, 241 is applied to the substrate 30, wherein the first layer 141, 241 comprises an electrically conductive oxide. The application of the first layer 141, 241 is preferably carried out by means of lithography. In an alternative embodiment of the method, the first layer 141, 241 may already be applied to the provided substrate 30.
In einem weiteren Schritt S14, der fakultativ ist, werden Abschnitte der ersten Schicht 141, 241 abgetragen.In a further step S14, which is optional, portions of the first layer 141, 241 are removed.
In einem weiteren Schritt S16 wird die zweite Schicht 142, 242, die ein Metall aufweist, auf die erste Schicht 141, 241 aufgebracht. Vorzugsweise erfolgt das Aufbringen der zweiten Schicht 142, 242 auf die erste Schicht 141, 241 durch Lithographie. Die zweite Schicht 142, 242 wird insbesondere durch einen Haftvermittler, der vorzugsweise Chrom oder Molybdän sein kann, mit der ersten Schicht 141, 241 mechanisch gekoppelt.In a further step S16, the second layer 142, 242, which comprises a metal, is applied to the first layer 141, 241. Preferably, the second layer 142, 242 is applied to the first layer 141, 241 by lithography. The second layer 142, 242 is in particular mechanically coupled to the first layer 141, 241 by an adhesion promoter, which may preferably be chromium or molybdenum.
In einem Schritt S18 werden durch Abtragen von Abschnitten der ersten Schicht 141, 241 und/oder von Abschnitten der zweiten Schicht 142, 242 die erste Elektrode 14 und die zweite Elektrode 24 ausgebildet. Es wird so vorzugsweise die Form des Schichtenstapels 10 der optoelektronischen Vorrichtung und das Layout der elektronischen Einheit, insbesondere der Schaltungen der elektronischen Steuereinheit 20 ausgebildet. In einem weiteren Schritt S20 werden der aktive Bereich 12 des Schichtenstapels 10 auf die zweite Schicht 142 der ersten Elektrode 14 und die elektronischen Bauteile 22 auf die zweite Schicht 242 der zweiten Elektrode aufgebracht. Das Aufbringen der elektronischen Bauteile 22 erfolgt derart, dass die elektronischen Bauteile 22 elektrisch leitend mit der zweiten Elektrode 24 gekoppelt sind.In a step S18, by removing portions of the first layer 141, 241 and / or portions of the second layer 142, 242, the first electrode 14 and the second electrode 24 are formed. It is thus preferably the shape of the layer stack 10 of the optoelectronic device and the layout of the electronic unit, in particular the circuits of the electronic control unit 20 is formed. In a further step S20, the active region 12 of the layer stack 10 are applied to the second layer 142 of the first electrode 14 and the electronic components 22 to the second layer 242 of the second electrode. The application of the electronic components 22 takes place such that the electronic components 22 are electrically conductively coupled to the second electrode 24.
Das Aufbringen der elektronischen Bauteile 22 erfolgt vorzugsweise in Dickschichttechnik, die besonders einfach und kostengünstig realisiert werden kann.The application of the electronic components 22 is preferably carried out in thick-film technology, which can be realized in a particularly simple and cost-effective manner.
Besonders bevorzugt ist, wenn die elektronischen Bauteile 22 zuerst auf die zweite Schicht 242 der zweiten Elektrode 24 aufgebracht werden und anschließend der aktive Bereich 12 des Schichtenstapels 10 auf die zweite Schicht 142 der ersten Elektrode 14 aufgebracht wird. Damit kann der aktive Bereich 12 des Schichtenstapels 10 zu einem Zeitpunkt des Verfahrens auf die zweite Schicht 142 der ersten Elektrode 14 aufgebracht werden, der kurz vor dem Aufbringen der Schutzschicht 40 (siehe Schritt S24) liegt, wodurch erreicht werden kann, dass der aktive Bereich 12 vor Feuchtigkeit oder anderen äußeren Einflüssen geschützt werden kann.It is particularly preferred if the electronic components 22 are first applied to the second layer 242 of the second electrode 24 and then the active region 12 of the layer stack 10 is applied to the second layer 142 of the first electrode 14. Thus, the active region 12 of the layer stack 10 may be applied to the second layer 142 of the first electrode 14 at a time of the process just before the application of the protective layer 40 (see step S24), thereby allowing the active region 12 can be protected from moisture or other external influences.
In einem weiteren Schritt S22 wird die externe elektrische Zuleitung 50 bereitgestellt und die externe elektrische Zuleitung 50 mit der elektronischen Einheit, insbesondere der elektronischen Steuereinheit 20, elektrisch leitend gekoppelt. Damit ist es möglich, die optoelektronische Vorrichtung in besonders einfacher Weise mit einer einzigen externen Zuleitung auszustatten. Die elektrischen Verbindungen zwischen der elektronischen Einheit und dem Schichtenstapel 10 können bereits über die geeignete Kopplung der ersten Elektroden 14, 16 und der zweiten Elektroden 24, 26 realisiert sein.In a further step S22, the external electrical supply line 50 is provided and the external electrical supply line 50 with the electronic unit, in particular the electronic control unit 20, electrically conductively coupled. This makes it possible to equip the optoelectronic device in a particularly simple manner with a single external lead. The electrical connections between the electronic unit and the Layer stacks 10 can already be realized via the suitable coupling of the first electrodes 14, 16 and the second electrodes 24, 26.
In einem weiteren Schritt S24 wird die elektronische Einheit wenigstens teilweise mittels der Schutzschicht 40, die vorzugsweise eine Kunststoffmasse, besonders bevorzugt ein Epoxydharz umfasst, umformt. Dadurch kann sowohl ein Schutz der elektronischen Einheit vor äußeren Einflüssen als auch eine stabile Befestigung erreicht werden. Alternativ oder zusätzlich werden der Schichtenstapel 10 oder Teile des Schichtenstapels 10 mittels der Schutzschicht 40 umformt.In a further step S24, the electronic unit is at least partially reformed by means of the protective layer 40, which preferably comprises a plastics material, particularly preferably an epoxy resin. As a result, both a protection of the electronic unit from external influences and a stable attachment can be achieved. Alternatively or additionally, the layer stack 10 or parts of the layer stack 10 are transformed by means of the protective layer 40.
In einem weiteren Schritt S26 endet das Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung.In a further step S26, the method for producing an optoelectronic device ends.
Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele auf diese beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist. The invention is not limited by the description based on the embodiments of these. Rather, the invention encompasses any novel feature as well as any combination of features, including in particular any combination of features in the claims, even if this feature or combination itself is not explicitly stated in the patent claims or exemplary embodiments.

Claims

Patentansprüche claims
1. Optoelektronische Vorrichtung (60), die aufweistAn optoelectronic device (60) comprising
- einen ein organisches Material enthaltenden Schichtenstapel (10) mit einem zur Emission elektromagnetischer Strahlung ausgebildeten aktiven Bereich (12) , undan organic material-containing layer stack (10) having an electromagnetic radiation emitting active region (12), and
- eine elektronische Einheit, wobei der Schichtenstapel (10) und die elektronische Einheit auf einem gemeinsamen Substrat (30) angeordnet sind.- An electronic unit, wherein the layer stack (10) and the electronic unit on a common substrate (30) are arranged.
2. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach Anspruch 1, wobei die elektronische Einheit eine Steuereinheit (20) zur Steuerung und/oder Regelung des Schichtenstapels (10) aufweist .2. Optoelectronic device (60) according to claim 1, wherein the electronic unit has a control unit (20) for controlling and / or regulating the layer stack (10).
3. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach Anspruch 1 oder 2, wobei die elektronische Einheit eine Schutzeinheit zum Schutz des Schichtenstapels (10) aufweist.3. The optoelectronic device (60) according to claim 1 or 2, wherein the electronic unit has a protection unit for protecting the layer stack (10).
4. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die elektronische Einheit eine Erfassungseinheit oder Überwachungseinheit zur Erfassung oder Überwachung der elektromagnetischen Strahlung aufweist.4. Optoelectronic device (60) according to one of claims 1 to 3, wherein the electronic unit has a detection unit or monitoring unit for detecting or monitoring the electromagnetic radiation.
5. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei der Schichtenstapel (10) erste Elektroden (14, 16) und die elektronische Einheit zweite Elektroden (24, 26) aufweisen, und mindestens eine der ersten Elektroden (14, 16) und mindestens eine der zweiten Elektroden (24, 26) elektrisch leitend miteinander gekoppelt sind. 5. The optoelectronic device according to claim 1, wherein the layer stack has first electrodes and the electronic unit has second electrodes, and at least one of the first electrodes. and at least one of the second electrodes (24, 26) are electrically conductively coupled together.
6. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der vorherigen Ansprüche, mit einer Schutzschicht (40) , die so angeordnet und ausgebildet ist, dass die elektronische Einheit wenigstens teilweise zwischen dem Substrat (30) und der Schutzschicht (40) angeordnet ist.6. An optoelectronic device (60) according to any one of the preceding claims, comprising a protective layer (40) which is arranged and formed so that the electronic unit is at least partially disposed between the substrate (30) and the protective layer (40).
7. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach Anspruch 6, wobei das Substrat (30) und/oder die Schutzschicht (40) ein formstabiles Material aufweist.7. The optoelectronic device (60) according to claim 6, wherein the substrate (30) and / or the protective layer (40) comprises a dimensionally stable material.
8. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der Ansprüche 6 oder 7, wobei das Substrat (30) und/oder die Schutzschicht (40) Glas aufweist.8. The optoelectronic device (60) according to any one of claims 6 or 7, wherein the substrate (30) and / or the protective layer (40) comprises glass.
9. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der Ansprüche 6 bis 8, wobei das Substrat (30) und/oder die Schutzschicht (40) ein Material aufweist, das für die von dem aktiven Bereich (12) emittierbare elektromagnetische Strahlung transparent ausgebildet ist.9. The optoelectronic device (60) according to any one of claims 6 to 8, wherein the substrate (30) and / or the protective layer (40) comprises a material which is transparent to the electromagnetic radiation emitted by the active region (12).
10. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der Ansprüche 5 bis 9, wobei eine der ersten Elektroden (14, 16) und/oder eine der zweiten Elektroden (24, 26) mindestens eine Schicht (141, 142, 241, 242) aufweisen, die ein elektrisch leitendes Oxid und/oder ein Metall umfasst.10. Optoelectronic device (60) according to one of claims 5 to 9, wherein one of the first electrodes (14, 16) and / or one of the second electrodes (24, 26) at least one layer (141, 142, 241, 242) comprising an electrically conductive oxide and / or a metal.
11. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach Anspruch 10, wobei mindestens eine der ersten Elektroden (14, 16) und/oder eine der zweiten Elektroden (24, 26) eine Schichtenfolge mit zumindest einer ersten Schicht (141, 241) mit einem elektrisch leitenden Oxid und einer zweiten Schicht (142, 242) mit einem Metall aufweist. 11. Optoelectronic device (60) according to claim 10, wherein at least one of the first electrodes (14, 16) and / or one of the second electrodes (24, 26) has a layer sequence with at least one first layer (141, 241) with an electrically conductive Oxide and a second layer (142, 242) having a metal.
12. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der Ansprüche 10 oder 11, wobei das Metall aus einer Gruppe aus Kupfer, Aluminium, Silber und Chrom ausgewählt ist.12. An optoelectronic device (60) according to any one of claims 10 or 11, wherein the metal is selected from a group of copper, aluminum, silver and chromium.
13. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der Ansprüche 5 bis 12, wobei mindestens eine der ersten Elektroden (14, 16) mit einer Mehrzahl von zweiten Elektroden (24, 26) elektrisch leitend gekoppelt ist.13. Optoelectronic device (60) according to one of claims 5 to 12, wherein at least one of the first electrodes (14, 16) with a plurality of second electrodes (24, 26) is electrically conductively coupled.
14. Optoelektronische Vorrichtung nach Anspruch 13, wobei benachbarte der Mehrzahl von zweiten Elektroden (24, 26) zumindest teilweise jeweils einen Abstand (D) von etwa 100 μm bis 300 μm voneinander aufweisen.14. The optoelectronic device of claim 13, wherein adjacent ones of the plurality of second electrodes (24, 26) at least partially each have a distance (D) of about 100 μm to 300 μm from each other.
15. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der vorherigen Ansprüche, die eine Mehrzahl von Schichtenstapeln15. An optoelectronic device (60) according to one of the preceding claims, which comprises a plurality of layer stacks
(10) aufweist.(10).
16. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der Ansprüche 2 bis 15, wobei die elektronische Steuereinheit16. An optoelectronic device (60) according to any one of claims 2 to 15, wherein the electronic control unit
(20) eine Mehrzahl von elektronischen Untersteuereinheiten (20a, 20b, 20c, 2Od) umfasst, die räumlich getrennt voneinander angeordnet sind.(20) comprises a plurality of electronic sub-control units (20a, 20b, 20c, 2Od), which are arranged spatially separated from each other.
17. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach Anspruch 16, wobei eine Gruppe (11) von Schichtenstapeln (10) jeweils durch eine der elektronischen Untersteuereinheiten (20a, 20b, 20c, 2Od) ansteuerbar ist.17. An optoelectronic device (60) according to claim 16, wherein a group (11) of layer stacks (10) in each case by one of the electronic sub-control units (20a, 20b, 20c, 2Od) is controllable.
18. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die optoelektronische Vorrichtung18. Optoelectronic device (60) according to one of the preceding claims, wherein the optoelectronic device
(60) eine einzige externe elektrische Zuleitung (50) aufweist, die elektrisch leitend mit der elektronischen Einheit gekoppelt ist.(60) a single external electrical lead (50) has, which is electrically conductively coupled to the electronic unit.
19. Optoelektronische Vorrichtung (60) nach Anspruch 2 und 4 oder einem der auf die Ansprüche 2 und 4 rückbezogenen Ansprüche, wobei die optoelektronische Vorrichtung (60) einen Strahlungssensor (52) aufweist, der mit der elektronischen Steuereinheit (20) derart elektrisch gekoppelt ist, dass ein Signal (56) des Strahlungssensors (52) an die elektronische Steuereinheit (20) abgebbar ist, und wobei der19. Optoelectronic device (60) according to claim 2 and 4 or one of the dependent claims 2 and 4 claims, wherein the optoelectronic device (60) comprises a radiation sensor (52) which is so electrically coupled to the electronic control unit (20) in that a signal (56) of the radiation sensor (52) is deliverable to the electronic control unit (20), and wherein the
Strahlungssensor (52) derart angeordnet und ausgebildet ist, dass der zur Emission elektromagnetischer Strahlung ausgebildete aktive Bereich (12) des Schichtenstapels (10) in Abhängigkeit von dem Signal (56) des StrahlungsSensors (52) ansteuerbar ist.Radiation sensor (52) is arranged and configured such that the active region (12) of the layer stack (10) designed for emission of electromagnetic radiation can be activated as a function of the signal (56) of the radiation sensor (52).
20. Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung (60) mit den Schritten:20. Method for producing an optoelectronic device (60) with the steps:
- Bereitstellen eines Substrats (30),Providing a substrate (30),
- Aufbringen einer ersten Schicht (141, 241) auf das Substrat, wobei die erste Schicht (141, 241) ein elektrisch leitendes Oxid aufweist,Depositing a first layer (141, 241) on the substrate, the first layer (141, 241) comprising an electrically conductive oxide,
Aufbringen einer zweiten Schicht (142, 242), die ein Metall aufweist, auf die erste Schicht (141, 241),Applying a second layer (142, 242) comprising a metal to the first layer (141, 241),
- Abtragen von Abschnitten der ersten Schicht (141, 241), und/oder von Abschnitten der zweiten Schicht (142, 242), unter Ausbildung mindestens einer ersten Elektrode (14) und einer zweiten Elektrode (24) , und- removing portions of the first layer (141, 241), and / or portions of the second layer (142, 242), forming at least a first electrode (14) and a second electrode (24), and
- Aufbringen eines aktiven Bereichs (12) eines Schichtenstapels (10) auf die zweite Schicht (142) der ersten Elektrode (14) und elektronischer Bauteile (22) auf die zweite Schicht '(242) der zweiten Elektrode (24), derart, dass die elektronischen Bauteile (22) elektrisch leitend mit der zweiten Elektrode (24) gekoppelt sind.- applying an active region (12) a stack of layers (10) on the second layer (142) of the first electrode (14) and electronic components (22) 'on the second layer (242) of the second electrode (24), such that the electronic components (22) are electrically conductively coupled to the second electrode (24).
21. Verfahren nach dem vorherigen Anspruch, wobei in dem Schritt Aufbringen des aktiven Bereichs (12) des Schichtenstapels (10) auf die zweite Schicht (142) der ersten Elektrode (14) und elektronischer Bauteile (22) auf die zweite Schicht (242) der zweiten Elektrode (24) zuerst die elektronischen Bauteile (22) auf die zweite Schicht (242) der zweiten Elektrode (24) aufgebracht werden und anschließend der aktive Bereich (12) des Schichtenstapels (10) auf die zweite Schicht (142) der ersten Elektrode (14) aufgebracht wird.21. The method according to the preceding claim, wherein, in the step, depositing the active region (12) of the layer stack (10) on the second layer (142) of the first electrode (14) and electronic components (22) on the second layer (242) the second electrode (24) first the electronic components (22) on the second layer (242) of the second electrode (24) are applied and then the active region (12) of the layer stack (10) on the second layer (142) of the first Electrode (14) is applied.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 oder 21, wobei die elektronischen Bauteile (22) mittels Dickschichttechnik auf die zweite Schicht (242) der zweiten Elektrode (24) aufgebracht werden.22. The method according to any one of claims 20 or 21, wherein the electronic components (22) by means of thick-film technology on the second layer (242) of the second electrode (24) are applied.
23. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 22, mit einem weiteren Schritt zwischen den Schritten Aufbringen der ersten Schicht (141, 241) auf das Substrat und Aufbringen der zweiten Schicht (142, 242) auf die erste Schicht (141, 241) :23. The method of claim 20, further comprising the step of applying the first layer to the substrate and applying the second layer to the first layer.
- Abtragen von Abschnitten der ersten Schicht (141, 241) .- Removal of portions of the first layer (141, 241).
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 23, mit weiteren Schritten nach dem Schritt Aufbringen des aktiven Bereichs (12) des Schichtenstapels (10) auf die zweite Schicht (142) der ersten Elektrode (14) und elektronischer Bauteile (22) auf die zweite Schicht (242) der zweiten Elektrode (24) :24. The method according to any one of claims 20 to 23, with further steps after the step of applying the active region (12) of the layer stack (10) on the second layer (142) of the first electrode (14) and electronic components (22) on the second layer (242) of the second electrode (24):
- Bereitstellen einer externen elektrischen Zuleitung (50) und - Herstellen einer elektrisch leitenden Kopplung der Zuleitung (50) mit der elektronischen Einheit.- Providing an external electrical supply line (50) and - Establishing an electrically conductive coupling of the supply line (50) with the electronic unit.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 24, mit einem weiteren Schritt nach dem Schritt Aufbringen des aktiven Bereichs (12) des Schichtenstapels (10) auf die zweite Schicht (142) der ersten Elektrode (14) und elektronischer Bauteile (22) auf die zweite Schicht (242) der zweiten Elektrode (24) :25. The method of claim 20, further comprising the step of applying the active region of the layer stack to the second layer of the first electrode and electronic components the second layer (242) of the second electrode (24):
- wenigstens teilweises Umformen der elektronischen Einheit (20) mit einer Schutzschicht (40) zum Ausbilden einer- At least partially forming the electronic unit (20) with a protective layer (40) for forming a
Verkapselung . Encapsulation.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101887904B (en) * 2009-05-15 2013-02-06 上海天马微电子有限公司 Organic light-emitting diode display of integrated touch screen

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5229887B2 (en) * 2008-08-06 2013-07-03 株式会社ワコム Position detection device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6147451A (en) * 1997-08-08 2000-11-14 Sanyo Electric Co., Ltd. Organic electrominiscent display device
JP2001130048A (en) * 1999-11-08 2001-05-15 Canon Inc Light emitting device and exposure device and recording apparatus using the same
EP1164641A2 (en) * 2000-06-12 2001-12-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting module and method of driving the same, and optical sensor
EP1227468A2 (en) * 2001-01-30 2002-07-31 Eastman Kodak Company Method of integrating digital control and display devices on a common substrate
EP1482572A1 (en) * 2003-05-29 2004-12-01 Sony Corporation Method of manufacturing a laminated structure, laminated structure, display device and display unit with laminated structure
US20060228974A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-12 Theiss Steven D Methods of making displays

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4831874B2 (en) * 2001-02-26 2011-12-07 株式会社半導体エネルギー研究所 LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
US7483001B2 (en) * 2001-11-21 2009-01-27 Seiko Epson Corporation Active matrix substrate, electro-optical device, and electronic device
JP3865245B2 (en) * 2003-03-12 2007-01-10 富士電機ホールディングス株式会社 Manufacturing method and manufacturing apparatus for organic EL display
US20060264143A1 (en) * 2003-12-08 2006-11-23 Ritdisplay Corporation Fabricating method of an organic electroluminescent device having solar cells
DE10359881A1 (en) * 2003-12-12 2005-07-14 Samsung SDI Co., Ltd., Suwon Organic light emitting diode (OLED) component e.g. for surface display, has current flow through OLED-component measured
DE102004002587B4 (en) * 2004-01-16 2006-06-01 Novaled Gmbh Image element for an active matrix display
DE112005000611T5 (en) * 2004-03-15 2010-06-24 Fuji Technosurvey Co., Ltd. Driver and driving method for an organic bistable electrical device and organic LED display
TWI302644B (en) * 2004-09-29 2008-11-01 Seiko Epson Corp Electro-optical device, image forming apparatus, and image reader
JP2006330469A (en) * 2005-05-27 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp Organic electroluminescence display device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6147451A (en) * 1997-08-08 2000-11-14 Sanyo Electric Co., Ltd. Organic electrominiscent display device
JP2001130048A (en) * 1999-11-08 2001-05-15 Canon Inc Light emitting device and exposure device and recording apparatus using the same
EP1164641A2 (en) * 2000-06-12 2001-12-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting module and method of driving the same, and optical sensor
EP1227468A2 (en) * 2001-01-30 2002-07-31 Eastman Kodak Company Method of integrating digital control and display devices on a common substrate
EP1482572A1 (en) * 2003-05-29 2004-12-01 Sony Corporation Method of manufacturing a laminated structure, laminated structure, display device and display unit with laminated structure
US20060228974A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-12 Theiss Steven D Methods of making displays

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101887904B (en) * 2009-05-15 2013-02-06 上海天马微电子有限公司 Organic light-emitting diode display of integrated touch screen

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