WO2003065520A1 - Bandwidth narrowing module - Google Patents

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WO2003065520A1
WO2003065520A1 PCT/EP2003/000781 EP0300781W WO03065520A1 WO 2003065520 A1 WO2003065520 A1 WO 2003065520A1 EP 0300781 W EP0300781 W EP 0300781W WO 03065520 A1 WO03065520 A1 WO 03065520A1
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polarization
light
polarized light
grating
bandwidth
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PCT/EP2003/000781
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Inventor
Bernd Kleemann
Jeffrey Erxmeyer
Johannes Kraus
Klaus Heidemann
Original Assignee
Carl Zeiss Laser Optics Gmbh
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    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
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    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
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    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/105Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • H01S3/1055Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length one of the reflectors being constituted by a diffraction grating
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    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
    • H01S3/2256KrF, i.e. krypton fluoride is comprised for lasing around 248 nm

Definitions

  • the invention relates to a module for bandwidth narrowing for a light source, in particular a laser, with a reflection grating.
  • modules are used, for example, for excimer lasers to reduce the bandwidth of the emitted laser light, and they represent the rear resonator termination of the laser.
  • a reflection grating e.g. an Echelle grating in a so-called Littrow configuration is used to reduce the bandwidth of the emitted laser radiation by wavelength-selective reflection.
  • the module usually includes a beam expansion system, which is arranged between the laser resonator and the reflection grating and can be constructed from a plurality of prism bodies connected in series, and a e.g. to tune the wavelength of the rotating mirror.
  • a polarizing beam splitter with associated reflection mirror and a polarization rotating element in the form of a ⁇ / 4 plate are additionally inserted between the beam expansion system and the pivotably arranged mirror.
  • the light coming from the amplification medium, the gas discharge chamber is highly p- or TM-polarized due to the inclined position of the chamber exit windows at or near the Brewster angle and after passing through the prism beam expansion system due to the strong polarization dependence of the reflection losses on the prisms, with any remaining ones , s or TE polarized light components are reflected by the polarizing beam splitter while transmitting p-polarized light.
  • the ⁇ / 4 plate converts the p-polarized light into circularly polarized light, which then falls over the rotating mirror onto the Echelle grating in Littrow configuration and is reflected back.
  • the ⁇ / 4 plate converts the first time back-reflected, circularly polarized light into s-polarized light, which is reflected from the polarizing beam splitter to the associated mirror and back, so that it is again passed through the ⁇ / 4 plate with conversion into circular polarized light falls on the Echelle grating.
  • the light reflected again from there is now converted by the ⁇ / 4 plate into p-polarized light, which can pass through the polarizing beam splitter and runs back into the gas discharge chamber.
  • the invention is based on the technical problem of providing a bandwidth narrowing module of the type mentioned at the outset which, while maintaining the optical properties of the module, in particular a high degree of polarization for an associated laser, an increased efficiency, reduced thermal loads and an increased service life of the Reflection grating allows.
  • the invention solves this problem by providing a bandwidth narrowing module with the features of claim 1.
  • Module contains polarization means for setting an preferred polarization for light incident on the reflection grating.
  • This polar sation means thus cause that the light striking the reflection grating is essentially s-polarized.
  • s or TE polarization denotes a polarization perpendicular to the plane of incidence and output of the light, while the perpendicular polarization is designated as p or TM polarization.
  • the use of the said s-polarizing polarization means consequently results in an improved bandwidth narrowing due to the reduction in the thermal loads on the reflection grating, a concomitant increase in its service life and an improvement in the efficiency of the overall bandwidth narrowing module.
  • the polarization means simply comprise a ⁇ / 2 plate which 90 ° the direction of polarization of the p-polarized light coming from an amplification medium ° rotates so that the light is essentially s-polarized.
  • the ⁇ / 2 plate converts the s-polarized light reflected by the reflection grating back into p-polarized light before it re-enters the gain medium.
  • a module developed according to claim 3 includes a beam expansion unit with one or more successive beam expansion elements. The polarization means are arranged at any point between the foremost beam expansion element in the light beam path and the reflection grating.
  • the polarization means are located somewhere between the first and last beam expansion elements in the direction of light incidence, e.g. in the case of three beam expansion elements, between the second and third beam expansion elements. With this positioning, the polarization means are consequently located in the partially expanded light beam with the result that on the one hand their spatial dimension can be kept smaller than the cross section of the fully expanded light beam and on the other hand the power density of the light beam and thus the thermal load for the polarization means relative to the area of the not yet expanded light beam is significantly reduced.
  • the beam expansion element or elements arranged behind the polarization means are provided with an anti-reflective coating which is optimized for s-polarized light.
  • the high reflection losses for s-polarized light components on the beam expansion element or elements located in front of the polarization means ensure a high degree of polarization, e.g. in a laser resonator reflected back, bandwidth narrowed light.
  • FIG. 1 is a schematic side view of a laser resonator consisting of bandwidth narrowing module, gain medium and coupling-out mirror,
  • FIG. 2 is a graph illustrating the diffraction efficiency of an Echelle grating that can be used in the module of FIG. 1 and increased for s-polarized light compared to p-polarized light
  • FIG. 3 is a graph illustrating the lower absorption of the Echelle grating that can be used in the module of FIG. 1 for s-polarized light compared to p-polarized light.
  • the bandwidth narrowing module shown in Fig. 1 provides the rear resonator termination of a laser, e.g. of an excimer laser, and has the function of reducing the bandwidth of the emitted laser radiation by wavelength-selective reflection.
  • a laser e.g. of an excimer laser
  • An important area of application is UV radiation-emitting excimer lasers for lithography systems for wafer structuring.
  • the bandwidth narrowing module in the light beam path one behind the other after an amplification or gas discharge chamber 1, comprises a beam expansion unit with three successively arranged, suitably arranged prisms 3a, 3b, 3c, a mirror 4, not shown, which is conventionally arranged, and an echelle Grid 5 over-the-counter design in Littrow configuration. Furthermore, the bandwidth narrowing module includes a ⁇ / 2 plate 6 arranged in the light incidence direction between the second prism 3b and the third prism 3c.
  • the cross section of the laser beam coming from the gas discharge chamber 1 is not a rotational symmetry, but rather an elongated Nes rectangular profile, there is a preferred orientation with respect to the alignment of the grating and beam expansion and with respect to the inclination of the chamber window 2 at or near the Brewster angle.
  • Optimal bandwidth narrowing is achieved if the direction of the beam expansion is parallel, that of the lattice furrows perpendicular to the short axis of the beam profile.
  • the required size of the chamber window is also minimal if the axis of rotation of the inclined position is parallel to the long axis of the beam profile.
  • the p-polarization results as the preferred polarization for minimizing losses due to reflection. If this polarization, which is favorable for chamber and beam expansion, is to be maintained, the s-polarization which is more favorable for the operation of the grating can be achieved by introducing a polarization rotator near the grating.
  • the essentially p-polarized light coming from the amplification chamber 1 undergoes a partial expansion through the first prism 3a and the second prism 3b, after which it is rotated by 90 ° in its polarization, ie from p- is converted into s-polarized light.
  • the light which is largely s-polarized in this way is then expanded by the last prism 3c to the full cross section, with which it is incident on the Echelle grating 5 at a suitable large Littrow angle via the mirror 4.
  • the light with s-preferential polarization which is reflected back by the Echelle grating 5 then passes via the mirror 4 and the third prism 3c to the ⁇ / 2 plate 6, from which it is converted back into light with p-polarization, after which the essentially p- polarized light, which is narrowed in bandwidth by the action of the Echelle grating 5, is coupled back into the discharge chamber 1 via the second prism 3b and the first prism 3a for the purpose of amplification.
  • a corresponding laser beam 9 emerges via an exit surface 7, which is also inclined, whereby it is routed via a conventional output-side coupler 9.
  • the placement of the ⁇ / 2 plate 6 in the partially widened light beam between the second prism 3b and the third prism 3c has the advantage over positioning at a point further forward in the direction of the discharge chamber 1 that the power density of the laser beam and thus the thermal Load for the ⁇ / 2 plate 6 is reduced accordingly.
  • this positioning can prevent the ⁇ / 2 plate 6 from being arranged between the third prism 3c and the Echelle grating 5, i. in the fully expanded light beam, the dimension of the ⁇ / 2 plate 6 can be kept correspondingly small, for example in the order of 25 mm 2525 mm with square dimensions.
  • the ⁇ / 2 plate can, depending on the application, also be arranged in the region that has not yet been partially expanded between the first prism 3a and the second prism 3b or in the region that has not yet been expanded between the discharge chamber 1 and the first prism 3a. if the higher power density there is no problem, the ⁇ / 2 plate 6 can then be dimensioned even smaller. Further alternatively, the ⁇ / 2 plate can be arranged in the fully expanded light beam between the third prism 3c and the mirror 4 or between the mirror 4 and the Echelle grating 5 if the power density in the only partially expanded light beam is a problem and the necessary for it larger dimension of the ⁇ / 2 plate is accepted.
  • the third prism 3c is preferably provided with an anti-reflective coating, which is not explicitly shown, and which is optimized for s-polarization, ie for the one coming from the ⁇ / 2 plate 6 and the one reflected back from the Echelle grating 5, essentially each s-polarized light, which - o -
  • the two upstream prisms 3a, 3b are retained in their conventional design, which provides comparatively high reflection losses for s-polarized light. This leads to the desired effect that these two prisms 3a, 3b reflect any interfering s-polarized light components, which may be contained in the reflected light emerging from the ⁇ / 2 plate 6, from the actual main beam path, so that the same does not be coupled into the amplification chamber 1, which ensures that a high degree of polarization of the radiation 9 emitted by the laser is achieved.
  • the prism or prisms lying in the beam path between the ⁇ / 2 plate 6 and the Echelle grating 5 are each provided with the anti-reflective coating optimized for s-polarization, while the or the prisms lying between the ⁇ / 2 plate 6 and the discharge chamber 1 take on the task of masking out any s-polarized radiation components by reflecting away.
  • the use of the ⁇ / 2 plate 6 causes the light with s preferential polarization to strike the Echelle grating 5.
  • This has significant advantages over conventional arrangements, in which light with p-polarization or in any case with a noticeable proportion of p-polarized radiation falls on the reflection grating, which is based on the one hand that the diffraction efficiency of Echelle gratings for s-polarized light is clear is higher than for p-polarized light, especially at suitable angles of incidence, and on the other hand the absorption of Echelle gratings for s-polarized light is significantly lower than for p-polarized light. This is shown in the diagrams of FIGS.
  • ⁇ 2 shows the course of the diffraction efficiency ⁇ for the -60.
  • Diffraction order depending on the blaze facet angle over an angle range of 74 ° to 84 ° on the one hand for s-polarized light, i.e. TE polarization, according to the upper characteristic with the circularly marked data points and on the other hand in comparison for p-polarized light, i.e. TM polarization, according to the lower characteristic with the triangularly marked data points.
  • s-polarized light i.e. TE polarization
  • p-polarized light i.e. TM polarization
  • FIG. 3 illustrates the course of the absorption a as a function of the blaze facet angle on the one hand for s-polarized light, ie TE absorption, according to the lower characteristic curve with the data points marked in a circle and on the other hand in comparison for p-polarized light, ie TM absorption, according to the upper characteristic with the triangularly marked data points.
  • the absorption for s-polarized light is less than half as large as that for p-polarized light over the entire range of blaze facet angles from 74 ° to 84 °. Since in the module of FIG.
  • the light is essentially s-polarized and strikes the Echelle grating 5 by using the ⁇ / 2 plate 6, a correspondingly low absorption and high diffraction efficiency is achieved.
  • the low absorption means reduced thermal problems, which among other things could negatively influence the wavelength resolution of the module, and an increased service life of the Echelle grating 5.
  • the bandwidth narrowing module can be used not only for a laser, as shown, but also for other light sources which have the task of suitably narrowing the bandwidth of an emitted light beam.
  • Echelle gratings can be used as reflection gratings, but depending on the application also other conventional reflection grating types can be used depending on the respective application.

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Abstract

The invention relates to a bandwidth narrowing module for a light source, particularly a laser, with a reflection grating (5). Preferred s-polarization is set for the light falling on the reflection grating by means of polarizing means (6). The inventive module can be used for narrowing the bandwidth of lasers, for example.

Description

Beschreibung Bandbreiten-Einengun smodul Description Bandwidth single gun module
Die Erfindung bezieht sich auf ein Modul zur Bandbreiten-Einengung für eine Lichtquelle, insbesondere einen Laser, mit einem Reflektionsgitter. Derartige Module werden beispielsweise für Excimer-Laser zur Verringerung der Bandbreite des abgestrahlten Laserlichts verwendet, wobei sie den rückwärtigen Resonatorabschluss des Lasers darstellen. Als Reflektionsgitter wird z.B. ein Echelle-Gitter in sogenannter Littrow- Konfiguration eingesetzt, um die Bandbreite der emittierten Laserstrahlung durch wellenlängenselektive Reflektion zu reduzieren. Das Modul beinhaltet üblicherweise ein Strahlaufweitungssystem, das zwischen dem Laserresonator und dem Reflektionsgitter angeordnet ist und aus mehreren hintereinander geschalteten Prismenkörpern aufgebaut sein kann, und einen z.B. zur Durchstimmung der Wellenlänge drehbeweglich angeordneten Spiegel.The invention relates to a module for bandwidth narrowing for a light source, in particular a laser, with a reflection grating. Such modules are used, for example, for excimer lasers to reduce the bandwidth of the emitted laser light, and they represent the rear resonator termination of the laser. As a reflection grating e.g. an Echelle grating in a so-called Littrow configuration is used to reduce the bandwidth of the emitted laser radiation by wavelength-selective reflection. The module usually includes a beam expansion system, which is arranged between the laser resonator and the reflection grating and can be constructed from a plurality of prism bodies connected in series, and a e.g. to tune the wavelength of the rotating mirror.
Bei einem in der Patentschrift US 5.917.849 offenbarten, modifizierten Bandbreiten-Einengungsmodul dieser Art sind zwischen dem Strahlaufweitungssystem und dem schwenkbeweglich angeordneten Spiegel zusätzlich ein polarisierender Strahlteiler mit zugehörigem Reflektionsspie- gel und ein Polarisationsdrehelement in Form einer λ/4-Platte einge- bracht. Das vom Verstärkungsmedium, der Gasentladungskammer, kommende Licht ist durch die schräge Stellung der Kammeraustrittsfenster unter oder nahe dem Brewster-Winkel und nach Durchtritt durch das Prismenstrahlaufweitungssystem aufgrund der starken Polarisationsabhängigkeit der Reflexionsverluste an den Prismen hochgradig p- bzw. TM-polarisiert, wobei eventuell verbleibende, s- bzw. TE- polarisierte Lichtanteile vom polarisierenden Strahlteiler reflektiert wer- den, während er p-polarisiertes Licht durchlässt. Die λ/4-Platte wandelt das p-polarisierte Licht in zirkulär polarisiertes Licht, das dann über den drehbeweglichen Spiegel auf das Echelle-Gitter in Littrow-Konfiguration fällt und zurückreflektiert wird. Die λ/4-Platte wandelt das erstmals rück- reflektierte, zirkulär polarisierte Licht in s-polarisiertes Licht, das vom polarisierenden Strahlteiler zum zugehörigen Spiegel und zurück reflektiert wird, so dass es nochmals durch die λ/4-Platte hindurch unter Umwandlung in zirkulär polarisiertes Licht auf das Echelle-Gitter fällt. Das von dort erneut reflektierte Licht wird durch die λ/4-Platte nun in p- polarisiertes Licht gewandelt, das durch den polarisierenden Strahlteiler hindurchtreten kann und in die Gasentladungskammer zurückläuft. Weiter wird dort angegeben, dass der Reflektionsgrad von Echelle-Gittern polarisationsabhängig ist mit einer Differenz zwischen p- und s- Polarisation von etwa 10%, was zu einer gewissen Störung des zirkula- ren Polarisationszustands führt. Dies hat zur Folge, dass ein kleiner Anteil von nur einmal am Echelle-Gitter reflektiertem Licht durch den Strahlteiler hindurchtritt, wobei sich die Effizienz der zweifachen Reflek- tion jedoch um höchstens 10% verringert, was angesichts der durch die zweifache Reflektion verbesserten Bandbreiteneinengung akzeptiert wird.In a modified bandwidth narrowing module of this type disclosed in US Pat. No. 5,917,849, a polarizing beam splitter with associated reflection mirror and a polarization rotating element in the form of a λ / 4 plate are additionally inserted between the beam expansion system and the pivotably arranged mirror. The light coming from the amplification medium, the gas discharge chamber, is highly p- or TM-polarized due to the inclined position of the chamber exit windows at or near the Brewster angle and after passing through the prism beam expansion system due to the strong polarization dependence of the reflection losses on the prisms, with any remaining ones , s or TE polarized light components are reflected by the polarizing beam splitter while transmitting p-polarized light. The λ / 4 plate converts the p-polarized light into circularly polarized light, which then falls over the rotating mirror onto the Echelle grating in Littrow configuration and is reflected back. The λ / 4 plate converts the first time back-reflected, circularly polarized light into s-polarized light, which is reflected from the polarizing beam splitter to the associated mirror and back, so that it is again passed through the λ / 4 plate with conversion into circular polarized light falls on the Echelle grating. The light reflected again from there is now converted by the λ / 4 plate into p-polarized light, which can pass through the polarizing beam splitter and runs back into the gas discharge chamber. It also states that the degree of reflection of Echelle gratings is polarization-dependent with a difference between p and s polarization of approximately 10%, which leads to a certain disturbance of the circular polarization state. As a result, a small proportion of light reflected only once at the Echelle grating passes through the beam splitter, but the efficiency of the double reflection is reduced by at most 10%, which is accepted in view of the bandwidth narrowing which is improved by the double reflection ,
Der Erfindung liegt als technisches Problem die Bereitstellung eines Bandbreiten-Einengungsmoduls der eingangs genannten Art zugrunde, das unter Beibehaltung der optischen Eigenschaften des Moduls, insbe- sondere eines hohen Polarisationsgrades für einen zugeordneten Laser, eine erhöhte Effizienz, reduzierte thermische Belastungen und eine erhöhte Lebensdauer des Reflektionsgitters ermöglicht.The invention is based on the technical problem of providing a bandwidth narrowing module of the type mentioned at the outset which, while maintaining the optical properties of the module, in particular a high degree of polarization for an associated laser, an increased efficiency, reduced thermal loads and an increased service life of the Reflection grating allows.
Die Erfindung löst dieses Problem durch die Bereitstellung eines Band- breiten-Einengungsmoduls mit den Merkmalen des Anspruchs 1. DiesesThe invention solves this problem by providing a bandwidth narrowing module with the features of claim 1. This
Modul enthält Polarisationsmittel zur Einstellung einer s-Vorzugs- polarisation für auf das Reflektionsgitter einfallendes Licht. Diese Polari- sationsmittel bewirken somit, dass das auf das Reflektionsgitter auftreffende Licht im wesentlichen s-polarisiert ist. Wie üblich, bezeichnet hierbei s- bzw. TE-Polarisation eine Polarisation senkrecht zur Ein- und Ausfallsebene des Lichtes, während die dazu senkrechte Polarisation mit p- bzw. TM-Polarisation bezeichnet wird.Module contains polarization means for setting an preferred polarization for light incident on the reflection grating. This polar sation means thus cause that the light striking the reflection grating is essentially s-polarized. As usual, here s or TE polarization denotes a polarization perpendicular to the plane of incidence and output of the light, while the perpendicular polarization is designated as p or TM polarization.
Theoretische Berechnungen und praktische Beobachtungen zeigen, dass die Lichtabsorption von Reflektionsgittern, wie insbesondere von Echelle-Gittern der hier verwendeten Art, ohne weitere Maßnahmen, wie z.B. eine Schutzschicht, für s-polarisiertes Licht, d.h. bei einem Echelle- Gitter für parallel zu den Gitterfurchen polarisiertes Licht, deutlich geringer als für p-polarisiertes Licht ist, wie es aufgrund der stark polarisationsabhängigen Transmission des hier verwendeten Strahlaufweitungs- systems aus dem Laserresonator austritt. Gleichzeitig und als unmittel- bare Folge zeigt sich für s-polarisiertes Licht eine deutlich höhere Beugungseffizienz z.B. für hohe Beugungsordnungen von Echelle-Gittern in Littrow-Konfiguration verglichen mit p-polarisiertem Licht. Insgesamt resultiert die Verwendung der besagten s-polarisierenden Polarisationsmittel folglich in einer verbesserten Bandbreiteneinengung aufgrund der Verringerung der thermischen Belastungen des Reflektionsgitters, einer damit einhergehenden Erhöhung seiner Lebensdauer und in einer Verbesserung der Effizienz des gesamten Bandbreiten-Einengungsmoduls.Theoretical calculations and practical observations show that the light absorption of reflection gratings, such as in particular Echelle gratings of the type used here, without further measures, such as a protective layer for s-polarized light, i.e. in an Echelle grating for light polarized parallel to the grating furrows, is significantly lower than for p-polarized light, as it emerges from the laser resonator due to the strongly polarization-dependent transmission of the beam expansion system used here. At the same time and as a direct consequence, a significantly higher diffraction efficiency is shown for s-polarized light e.g. for high diffraction orders of Echelle gratings in Littrow configuration compared to p-polarized light. Overall, the use of the said s-polarizing polarization means consequently results in an improved bandwidth narrowing due to the reduction in the thermal loads on the reflection grating, a concomitant increase in its service life and an improvement in the efficiency of the overall bandwidth narrowing module.
In einer Weiterbildung der Erfindung nach Anspruch 2, die insbesondere das Erfordernis einer Drehung der aus dem Laserresonator austretenden Strahlung insgesamt vermeidet, beinhalten die Polarisationsmittel einfach eine λ/2-Platte, welche die Polarisationsrichtung des von einem Verstärkungsmedium kommenden, p-polarisierten Lichts um 90° dreht, so dass das Licht im wesentlichen s-polarisiert weitergeleitet wird. Gleichzeitig wandelt die λ/2-Platte das vom Reflektionsgitter reflektierte, s-polarisierte Licht vor dem Wiedereintritt in das Verstärkungsmedium wieder in p-polarisiertes Licht zurück. Ein nach Anspruch 3 weitergebildetes Modul beinhaltet eine Strahlauf- weitungseinheit mit einem oder mehreren aufeinanderfolgenden Strahl- aufweitungselementen. Die Polarisationsmittel sind an beliebiger Stelle zwischen dem im Lichtstrahlengang vordersten Strahlaufweitungsele- ment und dem Reflektionsgitter angeordnet.In a further development of the invention according to claim 2, which in particular avoids the need to rotate the radiation emerging from the laser resonator as a whole, the polarization means simply comprise a λ / 2 plate which 90 ° the direction of polarization of the p-polarized light coming from an amplification medium ° rotates so that the light is essentially s-polarized. At the same time, the λ / 2 plate converts the s-polarized light reflected by the reflection grating back into p-polarized light before it re-enters the gain medium. A module developed according to claim 3 includes a beam expansion unit with one or more successive beam expansion elements. The polarization means are arranged at any point between the foremost beam expansion element in the light beam path and the reflection grating.
In weiterer Ausgestaltung dieser Maßnahme sind gemäß Anspruch 4 mindestens zwei Strahlaufweitungselemente vorgesehen, und die Pola- risationsmittel befinden sich irgendwo zwischen dem in Lichteinfallsrichtung ersten und letzten Strahlaufweitungselement, z.B. bei drei Strahl- aufweitungselementen zwischen dem zweiten und dritten Strahlaufweitungselement. Bei dieser Positionierung befinden sich die Polarisationsmittel folglich im teilaufgeweiteten Lichtstrahl mit der Folge, dass ei- nerseits ihre räumliche Abmessung kleiner als der Querschnitt des voll aufgeweiteten Lichtstrahls gehalten werden kann und andererseits die Leistungsdichte des Lichtstrahls und damit die thermische Belastung für die Polarisationsmittel gegenüber dem Bereich des noch nicht aufgeweiteten Lichtstrahls deutlich reduziert ist.In a further embodiment of this measure, at least two beam expansion elements are provided, and the polarization means are located somewhere between the first and last beam expansion elements in the direction of light incidence, e.g. in the case of three beam expansion elements, between the second and third beam expansion elements. With this positioning, the polarization means are consequently located in the partially expanded light beam with the result that on the one hand their spatial dimension can be kept smaller than the cross section of the fully expanded light beam and on the other hand the power density of the light beam and thus the thermal load for the polarization means relative to the area of the not yet expanded light beam is significantly reduced.
In weiterer Ausgestaltung sind gemäß Anspruch 5 das oder die hinter den Polarisationsmitteln angeordneten Strahlaufweitungselemente mit einer Entspiegelungsbeschichtung versehen, die für s-polarisiertes Licht optimiert ist. Gleichzeitig gewährleisten die hohen Reflektionsverluste für s-polarisierte Lichtanteile an dem oder den vor den Polarisationsmitteln liegenden Strahlaufweitungselementen einen hohen Polarisationsgrad des z.B. in einen Laserresonator rückreflektierten, bandbreiteneingeengten Lichtes.In a further embodiment, the beam expansion element or elements arranged behind the polarization means are provided with an anti-reflective coating which is optimized for s-polarized light. At the same time, the high reflection losses for s-polarized light components on the beam expansion element or elements located in front of the polarization means ensure a high degree of polarization, e.g. in a laser resonator reflected back, bandwidth narrowed light.
Eine vorteilhafte Ausführungsform der Erfindung ist in den Zeichnungen veranschaulicht und wird nachfolgend beschrieben. Hierbei zeigen: Fig. 1 eine schematische Seitenansicht eines aus Bandbreiten- Einengungsmodul, Verstärkungsmedium und Auskoppelspiegel bestehenden Laserresonators,An advantageous embodiment of the invention is illustrated in the drawings and is described below. Here show: 1 is a schematic side view of a laser resonator consisting of bandwidth narrowing module, gain medium and coupling-out mirror,
Fig. 2 ein Schaubild zur Veranschaulichung der für s-polarisiertes Licht im Vergleich zu p-polarisiertem Licht erhöhten Beugungseffizienz eines im Modul von Fig. 1 verwendbaren Echelle- Gitters undFIG. 2 is a graph illustrating the diffraction efficiency of an Echelle grating that can be used in the module of FIG. 1 and increased for s-polarized light compared to p-polarized light
Fig. 3 ein Schaubild zur Veranschaulichung der für s-polarisiertes Licht im Vergleich zu p-polarisiertem Licht geringeren Absorption des im Modul von Fig. 1 verwendbaren Echelle-Gitters.FIG. 3 is a graph illustrating the lower absorption of the Echelle grating that can be used in the module of FIG. 1 for s-polarized light compared to p-polarized light.
Das in Fig. 1 gezeigte Bandbreiten-Einengungsmodul stellt den rückwär- tigen Resonatorabschluss eines Lasers, z.B. eines Excimer-Lasers, dar und hat die Funktion, durch wellenlängenselektive Reflektion die Bandbreite der emittierten Laserstrahlung zu reduzieren. Ein wichtiges Anwendungsgebiet sind UV-Strahlung emittierende Excimer-Laser für Lithographieanlagen zur Waferstrukturierung.The bandwidth narrowing module shown in Fig. 1 provides the rear resonator termination of a laser, e.g. of an excimer laser, and has the function of reducing the bandwidth of the emitted laser radiation by wavelength-selective reflection. An important area of application is UV radiation-emitting excimer lasers for lithography systems for wafer structuring.
Das Bandbreiten-Einengungsmodul umfasst im Lichtstrahlengang hin- tereinanderliegend nach einer Verstärkungs- bzw. Gasentladungskammer 1 eine Strahlaufweitungseinheit mit drei hintereinanderliegenden, geeignet angeordneten Prismen 3a, 3b, 3c, einen in nicht näher gezeig- ter, herkömmlicher Weise drehbeweglich angeordneten Spiegel 4 und ein Echelle-Gitter 5 überlicher Bauart in Littrow-Konfiguration. Des weiteren beinhaltet das Bandbreiten-Einengungsmodul eine in Lichteinfallrichtung zwischen dem zweiten Prisma 3b und dem dritten Prisma 3c angeordnete λ/2-Platte 6.The bandwidth narrowing module in the light beam path, one behind the other after an amplification or gas discharge chamber 1, comprises a beam expansion unit with three successively arranged, suitably arranged prisms 3a, 3b, 3c, a mirror 4, not shown, which is conventionally arranged, and an echelle Grid 5 over-the-counter design in Littrow configuration. Furthermore, the bandwidth narrowing module includes a λ / 2 plate 6 arranged in the light incidence direction between the second prism 3b and the third prism 3c.
Da der Querschnitt des aus der Gasentladungskammer 1 kommenden Laserstrahls keine Rotationssymmetrie, sondern eher ein langgezoge- nes Rechteckprofil aufweist, existiert eine Vorzugsorientierung bezüglich der Ausrichtung von Gitter und Strahlaufweitung sowie bezüglich der Schrägstellung der Kammerfenster 2 unter oder nahe dem Brewster- Winkel. Optimale Bandbreiteneinengung wird erreicht, wenn die Rich- tung der Strahlaufweitung parallel, die der Gitterfurchen senkrecht zur kurzen Achse des Strahlprofils orientiert ist. Die erforderliche Größe der Kammerfenster ist zugleich minimal, wenn die Drehachse der Schrägstellung parallel zur langen Achse des Strahlprofils ist. Aus der Orientierung der Schrägstellung der Kammerfenster sowie der Orientierung der Prismenstrahlaufweitung ergibt sich die p-Polarisation als Vorzugspolarisation zur Minimierung von Verlusten durch Reflexion. Soll diese für Kammer und Strahlaufweitung günstige Polarisation beibehalten werden, so kann die für den Betrieb des Gitters günstigere s-Polarisation durch Einbringen eines Polarisationsdrehers nahe dem Gitter realisiert werden.Since the cross section of the laser beam coming from the gas discharge chamber 1 is not a rotational symmetry, but rather an elongated Nes rectangular profile, there is a preferred orientation with respect to the alignment of the grating and beam expansion and with respect to the inclination of the chamber window 2 at or near the Brewster angle. Optimal bandwidth narrowing is achieved if the direction of the beam expansion is parallel, that of the lattice furrows perpendicular to the short axis of the beam profile. The required size of the chamber window is also minimal if the axis of rotation of the inclined position is parallel to the long axis of the beam profile. From the orientation of the inclined position of the chamber windows and the orientation of the prism beam expansion, the p-polarization results as the preferred polarization for minimizing losses due to reflection. If this polarization, which is favorable for chamber and beam expansion, is to be maintained, the s-polarization which is more favorable for the operation of the grating can be achieved by introducing a polarization rotator near the grating.
Das von der Verstärkungskammer 1 kommende, im wesentlichen p- polarisierte Licht erfährt durch das erste Prisma 3a und das zweite Prisma 3b eine Teilaufweitung, wonach es durch die λ/2-Platte in seiner Po- larisation um 90° gedreht, d.h. von p- in s-polarisiertes Licht gewandelt wird. Das solchermaßen weitestgehend s-polarisierte Licht wird dann vom letzten Prisma 3c auf den vollen Querschnitt aufgeweitet, mit dem es über den Spiegel 4 auf das Echelle-Gitter 5 unter einem geeigneten großen Littrow-Winkel einfällt. Das vom Echelle-Gitter 5 rückreflektierte Licht mit s-Vorzugspolarisation gelangt dann über den Spiegel 4 und das dritte Prisma 3c wieder zur λ/2-Platte 6, von der es in Licht mit p- Polarisation rückgewandelt wird, wonach das im wesentlichen p- polarisierte und durch die Wirkung des Echelle-Gitters 5 bandbreiteneingeengte Licht über das zweite Prisma 3b und das erste Prisma 3a wie- der zwecks Verstärkung in die Entladungskammer 1 eingekoppelt wird. An der Vorderseite der Entladungskammer 1 tritt ein entsprechender Laserstrahl 9 über eine ebenfalls schräg gestaltete Austrittsfläche 7 aus, wobei es über einen herkömmlichen ausgangsseitigen Koppler 9 geführt wird.The essentially p-polarized light coming from the amplification chamber 1 undergoes a partial expansion through the first prism 3a and the second prism 3b, after which it is rotated by 90 ° in its polarization, ie from p- is converted into s-polarized light. The light which is largely s-polarized in this way is then expanded by the last prism 3c to the full cross section, with which it is incident on the Echelle grating 5 at a suitable large Littrow angle via the mirror 4. The light with s-preferential polarization which is reflected back by the Echelle grating 5 then passes via the mirror 4 and the third prism 3c to the λ / 2 plate 6, from which it is converted back into light with p-polarization, after which the essentially p- polarized light, which is narrowed in bandwidth by the action of the Echelle grating 5, is coupled back into the discharge chamber 1 via the second prism 3b and the first prism 3a for the purpose of amplification. At the front of the discharge chamber 1, a corresponding laser beam 9 emerges via an exit surface 7, which is also inclined, whereby it is routed via a conventional output-side coupler 9.
Die Platzierung der λ/2-Platte 6 im teilaufgeweiteten Lichtstrahl zwi- sehen dem zweiten Prisma 3b und dem dritten Prisma 3c hat gegenüber einer Positionierung an einer weiter vorn in Richtung Entladungskammer 1 liegenden Stelle den Vorteil, dass die Leistungsdichte des Laserstrahls und damit die thermische Belastung für die λ/2-Platte 6 entsprechend reduziert ist. Zum anderen kann durch diese Positionierung gegenüber einem Anordnen der λ/2-Platte 6 zwischen dem dritten Prisma 3c und dem Echelle-Gitter 5, d.h. im voll aufgeweiteten Lichtstrahl, die Abmessung der λ/2-Platte 6 entsprechend klein gehalten werden, beispielsweise in einer Größenordnung von 25mmχ25mm bei quadratischen Abmessungen.The placement of the λ / 2 plate 6 in the partially widened light beam between the second prism 3b and the third prism 3c has the advantage over positioning at a point further forward in the direction of the discharge chamber 1 that the power density of the laser beam and thus the thermal Load for the λ / 2 plate 6 is reduced accordingly. On the other hand, this positioning can prevent the λ / 2 plate 6 from being arranged between the third prism 3c and the Echelle grating 5, i. in the fully expanded light beam, the dimension of the λ / 2 plate 6 can be kept correspondingly small, for example in the order of 25 mm 2525 mm with square dimensions.
Alternativ zur gezeigten Positionierung kann die λ/2-Platte je nach Anwendungsfall auch im noch nicht so stark teilaufgeweiteten Bereich zwischen dem ersten Prisma 3a und dem zweiten Prisma 3b oder im noch nicht aufgeweiteten Bereich zwischen der Entladungskammer 1 und dem ersten Prisma 3a angeordnet werden, wenn die dort höhere Leistungsdichte keine Probleme bereitet, wobei dann die λ/2-Platte 6 noch kleiner dimensioniert werden kann. Weiter alternativ kann die λ/2-Platte im voll aufgeweiteten Lichtstrahl zwischen dem dritten Prisma 3c und dem Spiegel 4 oder zwischen dem Spiegel 4 und dem Echelle-Gitter 5 angeordnet sein, wenn die Leistungsdichte im erst teilaufgeweiteten Lichtstrahl ein Problem darstellt und dafür die notwendige größere Abmessung der λ/2-Platte in Kauf genommen wird.As an alternative to the positioning shown, the λ / 2 plate can, depending on the application, also be arranged in the region that has not yet been partially expanded between the first prism 3a and the second prism 3b or in the region that has not yet been expanded between the discharge chamber 1 and the first prism 3a. if the higher power density there is no problem, the λ / 2 plate 6 can then be dimensioned even smaller. Further alternatively, the λ / 2 plate can be arranged in the fully expanded light beam between the third prism 3c and the mirror 4 or between the mirror 4 and the Echelle grating 5 if the power density in the only partially expanded light beam is a problem and the necessary for it larger dimension of the λ / 2 plate is accepted.
Bevorzugt ist das dritte Prisma 3c mit einer nicht explizit gezeigten Be- Schichtung zur Entspiegelung versehen, die für s-Polarisation optimiert ist, d.h. für das von der λ/2-Platte 6 kommende und das vom Echelle- Gitter 5 rückreflektierte, jeweils im wesentlichen s-polarisierte Licht, wel- - o -The third prism 3c is preferably provided with an anti-reflective coating, which is not explicitly shown, and which is optimized for s-polarization, ie for the one coming from the λ / 2 plate 6 and the one reflected back from the Echelle grating 5, essentially each s-polarized light, which - o -
ches dieses dritte Prisma 3c auf dem Hin- und dem Rückweg durchquert. Dies minimiert den Lichtverlust durch das dritte Prisma 3c. Andererseits werden die beiden vorgeschalteten Prismen 3a, 3b in ihrem herkömmlichen Design beibehalten, das vergleichsweise hohe Reflektions- Verluste für s-polarisiertes Licht liefert. Dies führt zu dem erwünschten Effekt, dass diese beiden Prismen 3a, 3b jegliche störenden s- polarisierten Lichtanteile, die eventuell im zurückgestrahlten, aus der λ/2-Platte 6 austretenden Licht enthalten sind, aus dem eigentlichen Hauptstrahlengang weg reflektieren, so dass selbige nicht in die Verstär- kungskammer 1 eingekoppelt werden, was die Erzielung eines hohen Polarisationsgrades der vom Laser emittierten Strahlung 9 gewährleistet.ches through this third prism 3c on the way there and back. This minimizes the loss of light through the third prism 3c. On the other hand, the two upstream prisms 3a, 3b are retained in their conventional design, which provides comparatively high reflection losses for s-polarized light. This leads to the desired effect that these two prisms 3a, 3b reflect any interfering s-polarized light components, which may be contained in the reflected light emerging from the λ / 2 plate 6, from the actual main beam path, so that the same does not be coupled into the amplification chamber 1, which ensures that a high degree of polarization of the radiation 9 emitted by the laser is achieved.
Bei den oben genannten, alternativen Positionierungen der λ/2-Platte 6 werden jeweils das oder die im Strahlengang zwischen der λ/2-Platte 6 und dem Echelle-Gitter 5 liegenden Prismen mit der für s-Polarisation optimierten Entspiegelungsbeschichtung versehen, während das oder die zwischen der λ/2-Platte 6 und der Entladungskammer 1 liegenden Prismen die Aufgabe der Ausblendung eventueller s-polarisierter Strah- lungsanteile durch Weg reflektieren übernehmen.In the above-mentioned alternative positions of the λ / 2 plate 6, the prism or prisms lying in the beam path between the λ / 2 plate 6 and the Echelle grating 5 are each provided with the anti-reflective coating optimized for s-polarization, while the or the prisms lying between the λ / 2 plate 6 and the discharge chamber 1 take on the task of masking out any s-polarized radiation components by reflecting away.
Der Einsatz der λ/2-Platte 6 bewirkt wie beschrieben, dass das Licht mit s-Vorzugspolarisation auf das Echelle-Gitter 5 einfällt. Dies hat gegenüber herkömmlichen Anordnungen, bei denen Licht mit p-Polarisation oder jedenfalls mit merklichem Anteil an p-polarisierter Strahlung auf das Reflektionsgitter einfällt, signifikante Vorteile, die darauf beruhen, dass zum einen die Beugungseffizienz von Echelle-Gittern für s-polarisiertes Licht deutlich höher ist als für p-polarisiertes Licht, speziell bei geeigneten Einfallswinkeln, und zum anderen die Absorption von Echelle-Gittern für s-polarisiertes Licht deutlich geringer ist als für p-polarisiertes Licht. Dies ist in den Schaubildern der Fig. 2 und 3 beispielhaft dargestellt für ein typisches Gitter, wie es zum Betrieb in einem Bandbreiten- Einengungsmodul der in Fig. 1 dargestellten Art geeignet ist. Angenommen ist, dass ein Al-Echelle-Gitter mit d=7648nm für eine Laserlicht- Wellenlänge von λ=248,4nm in einer Konfiguration mit einem großen Littrow-Winkel von 77° für Blaze-Profile mit einem Apexwinkel von 90° in der -60. Beugungsordnung verwendet ist. Derart hohe Beugungsordnungen werden z.B. in Echelle-Gittern mit großem Littrow-Winkel innerhalb von Bandbreiten-Einengungsmodulen als letzte propagierende Beugungsordnung verwendet. Bei großen Littrow-Winkeln dient die kleine Facette der Dreiecksprofile des Echelle-Gitters als Blazeflanke.As described, the use of the λ / 2 plate 6 causes the light with s preferential polarization to strike the Echelle grating 5. This has significant advantages over conventional arrangements, in which light with p-polarization or in any case with a noticeable proportion of p-polarized radiation falls on the reflection grating, which is based on the one hand that the diffraction efficiency of Echelle gratings for s-polarized light is clear is higher than for p-polarized light, especially at suitable angles of incidence, and on the other hand the absorption of Echelle gratings for s-polarized light is significantly lower than for p-polarized light. This is shown in the diagrams of FIGS. 2 and 3 by way of example for a typical grating, as is used for operation in a bandwidth Constriction module of the type shown in Fig. 1 is suitable. It is assumed that an Al-Echelle grating with d = 7648nm for a laser light wavelength of λ = 248.4nm in a configuration with a large Littrow angle of 77 ° for blaze profiles with an apex angle of 90 ° in the - 60th Diffraction order is used. Such high diffraction orders are used, for example, in Echelle gratings with a large Littrow angle within bandwidth narrowing modules as the last propagating order. At large Littrow angles, the small facet of the triangular profile of the Echelle grating serves as a blaze flank.
Speziell zeigt Fig. 2 den Verlauf der Beugungseffizienz η für die -60. Beugungsordnung in Abhängigkeit vom Blaze-Facetten-Winkel über einen Winkelbereich von 74° bis 84° einerseits für s-polarisiertes Licht, d.h. TE-Polarisation, gemäß der oberen Kennlinie mit den kreisförmig markierten Datenpunkten und andererseits im Vergleich dazu für p- polarisiertes Licht, d.h. TM-Polarisation, gemäß der unteren Kennlinie mit den dreieckförmig markierten Datenpunkten. Ersichtlich ist für Blaze- Facetten-Winkel oberhalb von 77° in diesem speziellen Beispiel die Beugungseffizienz für s-polarisiertes Licht in der -60. Beugungsordnung um absolut gesehen etwa 15% höher als für p-polarisiertes Licht.2 shows the course of the diffraction efficiency η for the -60. Diffraction order depending on the blaze facet angle over an angle range of 74 ° to 84 ° on the one hand for s-polarized light, i.e. TE polarization, according to the upper characteristic with the circularly marked data points and on the other hand in comparison for p-polarized light, i.e. TM polarization, according to the lower characteristic with the triangularly marked data points. In this particular example, the diffraction efficiency for s-polarized light in the -60 can be seen for blaze facet angles above 77 °. Diffraction order in absolute terms about 15% higher than for p-polarized light.
Fig. 3 veranschaulicht für dasselbe Beispiel mit den gleichen Parametern den Verlauf der Absorption a in Abhängigkeit vom Blaze-Facetten- Winkel einerseits für s-polarisiertes Licht, d.h. TE-Absorption, gemäß der unteren Kennlinie mit den kreisförmig markierten Datenpunkten und andererseits im Vergleich dazu für p-polarisiertes Licht, d.h. TM- Absorption, gemäß der oberen Kennlinie mit den dreieckförmig markierten Datenpunkten. Wie daraus ersichtlich, ist die Absorption für s- polarisiert.es Licht über den gesamten Bereich von Blaze-Facetten- Winkeln von 74° bis 84 ° weniger als halb so groß wie diejenige für p- polarisiertes Licht. Da beim Modul von Fig. 1 durch Einsatz der λ/2-Platte 6 das Licht im wesentlichen s-polarisiert auf das Echelle-Gitter 5 trifft, wird eine entsprechend niedrige Absorption und hohe Beugungseffizienz erzielt. Die niedrige Absorption bedeutet reduzierte thermische Probleme, welche unter anderem die Wellenlängenauflösung des Moduls negativ beeinflussen könnten, sowie eine erhöhte Lebensdauer des Echelle-Gitters 5.For the same example with the same parameters, FIG. 3 illustrates the course of the absorption a as a function of the blaze facet angle on the one hand for s-polarized light, ie TE absorption, according to the lower characteristic curve with the data points marked in a circle and on the other hand in comparison for p-polarized light, ie TM absorption, according to the upper characteristic with the triangularly marked data points. As can be seen from this, the absorption for s-polarized light is less than half as large as that for p-polarized light over the entire range of blaze facet angles from 74 ° to 84 °. Since in the module of FIG. 1 the light is essentially s-polarized and strikes the Echelle grating 5 by using the λ / 2 plate 6, a correspondingly low absorption and high diffraction efficiency is achieved. The low absorption means reduced thermal problems, which among other things could negatively influence the wavelength resolution of the module, and an increased service life of the Echelle grating 5.
Es versteht sich, dass die oben erwähnten Vorteile nicht nur für die gezeigte und die oben erwähnten alternativen Realisierungen, sondern auch für weitere Realisierungen des erfindungsgemäßen Bandbreiten- Einengungsmoduls gelten. Solche weiteren Realisierungen können z.B. den Einsatz anderer herkömmlicher Polarisationsmittel anstelle der λ/2- Platte 6 beinhalten, die lediglich so auszulegen sind, dass sie sicherstellen, dass das Licht im wesentlichen s-polarisiert auf das Echelle-Gitter 5 einfällt. In weiteren alternativen Ausführungsformen können statt der gezeigten andersartige Strahlaufweitungseinheiten herkömmlicher Art verwendet sein, z.B. solche mit nur zwei oder solche mit mehr als drei Prismen und/oder solche mit anderen optischen Komponenten, z.B. Linsen, zusätzlich oder anstelle des jeweiligen Prismas.It goes without saying that the advantages mentioned above apply not only to the shown and the above-mentioned alternative implementations, but also to further implementations of the bandwidth narrowing module according to the invention. Such further implementations can e.g. include the use of other conventional polarization means instead of the λ / 2 plate 6, which are only to be designed so that they ensure that the light is incident on the Echelle grating 5 essentially s-polarized. In further alternative embodiments, different types of beam expansion units of conventional type can be used instead of the shown, e.g. those with only two or those with more than three prisms and / or those with other optical components, e.g. Lenses, in addition to or instead of the respective prism.
Weiter versteht sich, dass das Bandbreiten-Einengungsmodul nicht nur, wie gezeigt, für einen Laser, sondern auch für andere Lichtquellen verwendbar ist, bei denen sich die Aufgabe stellt, die Bandbreite eines e- mittierten Lichtstrahls geeignet einzuengen. Als Reflektionsgitter sind nicht nur Echelle-Gitter, sondern je nach Anwendungsfall auch andere herkömmliche Reflektionsgittertypen abhängig vom jeweiligen Anwendungsfall einsetzbar. Furthermore, it goes without saying that the bandwidth narrowing module can be used not only for a laser, as shown, but also for other light sources which have the task of suitably narrowing the bandwidth of an emitted light beam. Not only Echelle gratings can be used as reflection gratings, but depending on the application also other conventional reflection grating types can be used depending on the respective application.

Claims

Patentansprüche claims
1. Bandbreiten-Einengungsmodul für eine Lichtquelle, insbesondere einen Laser, mit einem Reflektionsgitter (5), gekennzeichnet durch1. bandwidth narrowing module for a light source, in particular a laser, with a reflection grating (5), characterized by
Polarisationsmittel (6) zur Einstellung einer s-Vorzugspolarisation für auf das Reflektionsgitter (5) einfallendes Licht.Polarization means (6) for setting a preferred polarization for light incident on the reflection grating (5).
2. Bandbreiten-Einengungsmodul nach Anspruch 1 , weiter dadurch gekennzeichnet, dass die Polarisationsmittel eine λ/2-Platte (6) beinhalten, die zwischen einem Verstärkungsmedium (1 ) der Lichtquelle und dem Reflexionsgitter (5) angeordnet ist.2. bandwidth narrowing module according to claim 1, further characterized in that the polarization means include a λ / 2 plate (6) which is arranged between an amplification medium (1) of the light source and the reflection grating (5).
3. Bandbreiten-Einengungsmodul nach Anspruch 1 oder 2, weiter dadurch gekennzeichnet, dass eine Strahlaufweitungseinheit mit einer oder mehreren aufeinanderfolgenden Strahlaufweitungselementen (3a, 3b, 3c) vorgesehen ist und die Polarisationsmittel (6) im Bereich zwi- sehen dem vordersten Strahlaufweitungselement (3a) und dem Reflektionsgitter (5) angeordnet sind.3. The bandwidth narrowing module according to claim 1 or 2, further characterized in that a beam expansion unit with one or more successive beam expansion elements (3a, 3b, 3c) is provided and the polarization means (6) in the area between the foremost beam expansion element (3a). and the reflection grating (5) are arranged.
4. Bandbreiten-Einengungsmodul nach Anspruch 3, weiter dadurch gekennzeichnet, dass die Polarisationsmittel (6) im Bereich hinter einem vordersten und vor einem hintersten von mehreren Strahlaufweitungselementen (3a, 3b, 3c) angeordnet sind.4. bandwidth narrowing module according to claim 3, further characterized in that the polarization means (6) are arranged in the area behind a foremost and in front of a rearmost of a plurality of beam expansion elements (3a, 3b, 3c).
5. Bandbreiten-Einengungsmodul nach Anspruch 4, weiter dadurch gekennzeichnet, dass das oder die zwischen den Polarisationsmitteln (6) und dem Reflektionsgitter (5) befindlichen Strahlaufweitungselemente (3c) mit einer auf s-Polarisation optimierten Entspiegelungsbeschich- tung versehen sind. 5. The bandwidth narrowing module according to claim 4, further characterized in that the beam expansion element or elements (3c) located between the polarization means (6) and the reflection grating (5) are provided with an anti-reflective coating optimized for s-polarization.
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