RU2058610C1 - Device for vacuum treatment of cathode-ray tube - Google Patents
Device for vacuum treatment of cathode-ray tube Download PDFInfo
- Publication number
- RU2058610C1 RU2058610C1 SU4929684A RU2058610C1 RU 2058610 C1 RU2058610 C1 RU 2058610C1 SU 4929684 A SU4929684 A SU 4929684A RU 2058610 C1 RU2058610 C1 RU 2058610C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- tube
- electrode
- neck
- terminal
- terminals
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при производстве электронно-лучевых трубок (ЭЛТ) с боковыми выводами. The invention relates to the electronics industry and can be used in the production of cathode ray tubes (CRTs) with side leads.
Известно устройство вакуумной обработки ЭЛТ, содержащее откачкой пост и гребенку с напаянными приборами [1]
Известное устройство не позволяет полностью удалять все виды загрязнений внутренних поверхностей ЭЛТ, а следовательно, имеет место невысокое качество обработки.A device for vacuum processing of a CRT containing a pumping station and a comb with soldered devices [1]
The known device does not allow to completely remove all types of contamination of the inner surfaces of the CRT, and therefore, there is a low quality of processing.
Известно также устройство для вакуумной обработки ЭЛТ, содержащее гнездо для размещения трубки, соединенное со средствами откачки, высокочастотный генератор, один из выходов которого соединен с электродом для размещения на горловине трубки и заземлен, а другой выход снабжен клеммой для подключения к выводам электронно-оптической системы трубки [2]
Известное устройство не позволяет использовать его для проведения плазменной обработки ЭЛТ с боковыми выводами электродов для повышения качества обработки, так как большой диаметр индуктора, используемого в существующей технологии вакуумной обработки ЭЛТ, и его малая протяженность не позволяют создать в приборе ВЧ-разряд требуемой интенсивности. Увеличить протяженность индуктора не представляется возможным, так как при существующей операции обработки арматуры ВЧ-токами произойдет распыление газопоглотителя. Уменьшить диаметр индуктора тоже нельзя, так как мешают боковые выводы. Кроме того, на боковые выводы при плазмо-химической очистке необходимо подведение ВЧ-энергии с целью увеличения интенсивности разряда. Использование известного устройства для очистки ЭЛТ с боковыми выводами обеспечивает слабый ВЧ-разряд, а, следовательно, невысокую степень очистки.A device for vacuum processing of a CRT is also known, comprising a socket for accommodating a tube connected to pumping means, a high-frequency generator, one of the outputs of which is connected to an electrode for placement on the neck of the tube and is grounded, and the other output is equipped with a terminal for connecting to the terminals of the electron-optical system tubes [2]
The known device does not allow it to be used for plasma processing of CRTs with lateral leads of electrodes to improve the quality of processing, since the large diameter of the inductor used in the existing technology for vacuum processing of CRTs and its small length do not allow creating an RF discharge of the required intensity in the device. It is not possible to increase the length of the inductor, since with the existing operation of processing the reinforcement with RF currents, the getter will be sprayed. It is also impossible to reduce the diameter of the inductor, since the side leads interfere. In addition, the supply of RF energy to the side leads during plasma-chemical cleaning is necessary in order to increase the discharge intensity. The use of a known device for cleaning a CRT with side leads provides a weak RF discharge, and, therefore, a low degree of purification.
Цель изобретения повышение качества очистки ЭЛТ с боковыми выводами. The purpose of the invention is to improve the quality of cleaning CRT with lateral findings.
Это достигается тем, что в устройстве для вакуумной обработки ЭЛТ электрод, размещенный на горловине трубки, выполнен в виде цилиндра с разрезом вдоль образующей и с возможностью плотной посадки и охвата всей боковой поверхности горловины трубки, а клемма для подключения к выводам электронно-оптической системы электрически соединена с дополнительной клеммой для соединения с боковыми выводами трубки, при этом цилиндрический электрод выполнен с вырезом, границы которого обеспечивают зазор между электродом и дополнительной клеммой, превышающий 1,5 см. This is achieved by the fact that in the device for vacuum processing of a CRT, the electrode placed on the neck of the tube is made in the form of a cylinder with a cut along the generatrix and with the possibility of a tight fit and coverage of the entire lateral surface of the neck of the tube, and the terminal for connecting to the terminals of the electron-optical system is electrically connected to an additional terminal for connection with the side leads of the tube, while the cylindrical electrode is made with a notch, the boundaries of which provide a gap between the electrode and the additional terminal, Breathing 1.5 cm.
На чертеже схематически изображено предлагаемое устройство для вакуумной обработки ЭЛТ с боковыми выводами. The drawing schematically depicts the proposed device for vacuum processing of CRT with side leads.
Устройство для вакуумной обработки содержит колбу ЭЛТ 1 с боковыми выводами, гнездо 2 для размещения прибора, снабженное узлом, выполненным в виде контактного элемента, установленного с возможностью соединения с выводами прибора и с ВЧ-клеммой ВЧ-генератора, средства 3 и 4 откачки и напуска газа соответственно, генератор ВЧ-колебаний 5, установленный с возможностью создания в приборе ВЧ-разряда, электрод 6, выполненный в виде цилиндра с разрезом вдоль образующей и с возможностью плотной посадки и охвата всей поверхности горловины ЭЛТ, соединенный с "земляной" клеммой ВЧ-генератора и имеющий вырез в месте расположения боковых выводов шириной 1,5-2 см и длиной на 1,5-2 см больше, чем протяженность образующей горловины ЭЛТ, занятой боковыми выводами, и дополнительный электрод, выполненный в виде скобы 7, плотно облегающий боковые выводы. SUBSTANCE: device for vacuum processing comprises a CRT flask 1 with lateral terminals, a
Предлагаемое устройство для вакуумной обработки ЭЛТ работает следующим образом. The proposed device for vacuum processing of CRT works as follows.
Колба 1 ЭЛТ через гнездо 2 откачивается средствами откачки 3 до давления 13,3 Па. Включается ВЧ-генератор 5, соединенный заземленным выходом с электродом 6, размещенным на горловине колбы 1 ЭЛТ, ВЧ-выходом соединенный с выводами электронно-оптической системы и с дополнительной клеммой 7, облегающей боковые выводы ЭЛТ. Частота генерируемого сигнала 13,56± 1% 30 МГц. The CRT flask 1 through the
В горловине колбы ЭЛТ формируется высокочастотный емкостной разряд и осуществляется плазменная очистка узлов и деталей ЭЛТ. Внутренняя поверхность колбы и арматура подвергаются бомбардировке потоком ионов остаточных газов, разрывающих связи в многоатомных молекулах загрязнений, химически связывающих их, образуя летучие соединения. Для удаления их из внутреннего объема прибора необходимо, чтобы откачка велась непрерывно. A high-frequency capacitive discharge is formed in the neck of a CRT bulb and plasma cleaning of CRT components and assemblies is carried out. The inner surface of the bulb and the reinforcement are bombarded by a stream of ions of residual gases, breaking bonds in polyatomic pollution molecules, chemically bonding them, forming volatile compounds. To remove them from the internal volume of the device, it is necessary that pumping is carried out continuously.
Использование предлагаемого устройства вакуумной обработки повышает качество обработки внутренней поверхности горловины ЭЛТ и арматуры. Чистота поверхностей как металлических, так и стеклянных, проанализированная по углу смачивания и методом пара при использовании предлагаемого устройства, составляет 0,02-0,05 мкГ/см2 при исходном состоянии 0,2-0,3 мкГ/см2.The use of the proposed vacuum processing device improves the quality of processing the inner surface of the neck of a CRT and fittings. The surface cleanliness of both metal and glass, analyzed by the angle of wetting and the steam method when using the proposed device, is 0.02-0.05 μG / cm 2 in the initial state of 0.2-0.3 μG / cm 2 .
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4929684 RU2058610C1 (en) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | Device for vacuum treatment of cathode-ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4929684 RU2058610C1 (en) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | Device for vacuum treatment of cathode-ray tube |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2058610C1 true RU2058610C1 (en) | 1996-04-20 |
Family
ID=21570977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4929684 RU2058610C1 (en) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | Device for vacuum treatment of cathode-ray tube |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2058610C1 (en) |
-
1991
- 1991-04-22 RU SU4929684 patent/RU2058610C1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Технология и оборудование производства электровакуумных приборов./ Под ред. Ю. А. Хруничева. М.: Высшая школа, 1979. Авторское свидетельство СССР N 1721660, кл. H 01J 9/41, 1990. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4088926A (en) | Plasma cleaning device | |
JP3414398B2 (en) | Ion beam gun | |
US8698075B2 (en) | Orthogonal ion injection apparatus and process | |
US5334834A (en) | Inductively coupled plasma mass spectrometry device | |
JP2778689B2 (en) | Discharge ionization mass spectrometer | |
US5124526A (en) | Ion source | |
RU2058610C1 (en) | Device for vacuum treatment of cathode-ray tube | |
JPS5546494A (en) | Device for reducing effect of arccover of cathode ray tube | |
JP2603722B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
US5164952A (en) | Electrically pumped gas laser suitable for high input power | |
CN204991648U (en) | Ion source | |
JP2591822B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
CN105355535A (en) | Ion source and ionization method | |
JPH0521245Y2 (en) | ||
GB2144669A (en) | Cleaning electrical contacts | |
JPS61259436A (en) | High pressure adjustment for cathode ray tube mount | |
JP2806641B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer | |
JP3471821B2 (en) | High frequency inductively coupled plasma analyzer | |
JPH0521246Y2 (en) | ||
JPH0215553A (en) | High frequency induction combining plasma mass spectrometry device | |
RU1701058C (en) | Gear for machining of screen of cathode-ray tube device | |
CN112106170B (en) | Impact ionization spray ion source or electrospray ionization ion source | |
JPS60223126A (en) | Plasma treater | |
RU2018184C1 (en) | Color picture tube | |
Shannon et al. | Plasma cleaning device |