RU2058610C1 - Device for vacuum treatment of cathode-ray tube - Google Patents

Device for vacuum treatment of cathode-ray tube Download PDF

Info

Publication number
RU2058610C1
RU2058610C1 SU4929684A RU2058610C1 RU 2058610 C1 RU2058610 C1 RU 2058610C1 SU 4929684 A SU4929684 A SU 4929684A RU 2058610 C1 RU2058610 C1 RU 2058610C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
tube
electrode
neck
terminal
terminals
Prior art date
Application number
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Л.И. Лисицына
А.А. Катаев
В.И. Чушикина
Е.Е. Поспелова
Л.П. Балаш
Original Assignee
Лисицына Лилия Ивановна
Новосибирский государственный технический университет
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Лисицына Лилия Ивановна, Новосибирский государственный технический университет filed Critical Лисицына Лилия Ивановна
Priority to SU4929684 priority Critical patent/RU2058610C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2058610C1 publication Critical patent/RU2058610C1/en

Links

Images

Landscapes

  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

FIELD: electronic engineering. SUBSTANCE: device is provided with cylindrical applicator electrode and elastic metal clamp tightly fitted to side leads and connected to high-frequency lead of generator; applicator electrode has slit over generating line and cut for passing side leads and is connected to ground through generator high-frequency terminal. EFFECT: improved design. 1 dwg

Description

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при производстве электронно-лучевых трубок (ЭЛТ) с боковыми выводами. The invention relates to the electronics industry and can be used in the production of cathode ray tubes (CRTs) with side leads.

Известно устройство вакуумной обработки ЭЛТ, содержащее откачкой пост и гребенку с напаянными приборами [1]
Известное устройство не позволяет полностью удалять все виды загрязнений внутренних поверхностей ЭЛТ, а следовательно, имеет место невысокое качество обработки.
A device for vacuum processing of a CRT containing a pumping station and a comb with soldered devices [1]
The known device does not allow to completely remove all types of contamination of the inner surfaces of the CRT, and therefore, there is a low quality of processing.

Известно также устройство для вакуумной обработки ЭЛТ, содержащее гнездо для размещения трубки, соединенное со средствами откачки, высокочастотный генератор, один из выходов которого соединен с электродом для размещения на горловине трубки и заземлен, а другой выход снабжен клеммой для подключения к выводам электронно-оптической системы трубки [2]
Известное устройство не позволяет использовать его для проведения плазменной обработки ЭЛТ с боковыми выводами электродов для повышения качества обработки, так как большой диаметр индуктора, используемого в существующей технологии вакуумной обработки ЭЛТ, и его малая протяженность не позволяют создать в приборе ВЧ-разряд требуемой интенсивности. Увеличить протяженность индуктора не представляется возможным, так как при существующей операции обработки арматуры ВЧ-токами произойдет распыление газопоглотителя. Уменьшить диаметр индуктора тоже нельзя, так как мешают боковые выводы. Кроме того, на боковые выводы при плазмо-химической очистке необходимо подведение ВЧ-энергии с целью увеличения интенсивности разряда. Использование известного устройства для очистки ЭЛТ с боковыми выводами обеспечивает слабый ВЧ-разряд, а, следовательно, невысокую степень очистки.
A device for vacuum processing of a CRT is also known, comprising a socket for accommodating a tube connected to pumping means, a high-frequency generator, one of the outputs of which is connected to an electrode for placement on the neck of the tube and is grounded, and the other output is equipped with a terminal for connecting to the terminals of the electron-optical system tubes [2]
The known device does not allow it to be used for plasma processing of CRTs with lateral leads of electrodes to improve the quality of processing, since the large diameter of the inductor used in the existing technology for vacuum processing of CRTs and its small length do not allow creating an RF discharge of the required intensity in the device. It is not possible to increase the length of the inductor, since with the existing operation of processing the reinforcement with RF currents, the getter will be sprayed. It is also impossible to reduce the diameter of the inductor, since the side leads interfere. In addition, the supply of RF energy to the side leads during plasma-chemical cleaning is necessary in order to increase the discharge intensity. The use of a known device for cleaning a CRT with side leads provides a weak RF discharge, and, therefore, a low degree of purification.

Цель изобретения повышение качества очистки ЭЛТ с боковыми выводами. The purpose of the invention is to improve the quality of cleaning CRT with lateral findings.

Это достигается тем, что в устройстве для вакуумной обработки ЭЛТ электрод, размещенный на горловине трубки, выполнен в виде цилиндра с разрезом вдоль образующей и с возможностью плотной посадки и охвата всей боковой поверхности горловины трубки, а клемма для подключения к выводам электронно-оптической системы электрически соединена с дополнительной клеммой для соединения с боковыми выводами трубки, при этом цилиндрический электрод выполнен с вырезом, границы которого обеспечивают зазор между электродом и дополнительной клеммой, превышающий 1,5 см. This is achieved by the fact that in the device for vacuum processing of a CRT, the electrode placed on the neck of the tube is made in the form of a cylinder with a cut along the generatrix and with the possibility of a tight fit and coverage of the entire lateral surface of the neck of the tube, and the terminal for connecting to the terminals of the electron-optical system is electrically connected to an additional terminal for connection with the side leads of the tube, while the cylindrical electrode is made with a notch, the boundaries of which provide a gap between the electrode and the additional terminal, Breathing 1.5 cm.

На чертеже схематически изображено предлагаемое устройство для вакуумной обработки ЭЛТ с боковыми выводами. The drawing schematically depicts the proposed device for vacuum processing of CRT with side leads.

Устройство для вакуумной обработки содержит колбу ЭЛТ 1 с боковыми выводами, гнездо 2 для размещения прибора, снабженное узлом, выполненным в виде контактного элемента, установленного с возможностью соединения с выводами прибора и с ВЧ-клеммой ВЧ-генератора, средства 3 и 4 откачки и напуска газа соответственно, генератор ВЧ-колебаний 5, установленный с возможностью создания в приборе ВЧ-разряда, электрод 6, выполненный в виде цилиндра с разрезом вдоль образующей и с возможностью плотной посадки и охвата всей поверхности горловины ЭЛТ, соединенный с "земляной" клеммой ВЧ-генератора и имеющий вырез в месте расположения боковых выводов шириной 1,5-2 см и длиной на 1,5-2 см больше, чем протяженность образующей горловины ЭЛТ, занятой боковыми выводами, и дополнительный электрод, выполненный в виде скобы 7, плотно облегающий боковые выводы. SUBSTANCE: device for vacuum processing comprises a CRT flask 1 with lateral terminals, a socket 2 for accommodating the device, equipped with a node made in the form of a contact element mounted with the possibility of connection with the terminals of the device and with the RF terminal of the RF generator, means 3 and 4 for pumping and inlet gas, respectively, the generator of high-frequency oscillations 5, installed with the possibility of creating an RF discharge in the device, an electrode 6, made in the form of a cylinder with a cut along the generatrix and with the possibility of tight fit and cover the entire surface of the neck of the CRT, connected with the "ground" terminal of the RF generator and having a cutout in the location of the side leads 1.5-2 cm wide and 1.5-2 cm longer than the length of the CRT neckline occupied by the side leads and an additional electrode made in the form of a bracket 7, tightly fitting lateral conclusions.

Предлагаемое устройство для вакуумной обработки ЭЛТ работает следующим образом. The proposed device for vacuum processing of CRT works as follows.

Колба 1 ЭЛТ через гнездо 2 откачивается средствами откачки 3 до давления 13,3 Па. Включается ВЧ-генератор 5, соединенный заземленным выходом с электродом 6, размещенным на горловине колбы 1 ЭЛТ, ВЧ-выходом соединенный с выводами электронно-оптической системы и с дополнительной клеммой 7, облегающей боковые выводы ЭЛТ. Частота генерируемого сигнала 13,56± 1% 30 МГц. The CRT flask 1 through the socket 2 is pumped out by means of pumping 3 to a pressure of 13.3 Pa. The RF generator 5 is turned on, connected to the grounded output with an electrode 6 located on the neck of the CRT bulb 1, and the RF output connected to the terminals of the electron-optical system and with an additional terminal 7, which surrounds the side terminals of the CRT. The frequency of the generated signal is 13.56 ± 1% 30 MHz.

В горловине колбы ЭЛТ формируется высокочастотный емкостной разряд и осуществляется плазменная очистка узлов и деталей ЭЛТ. Внутренняя поверхность колбы и арматура подвергаются бомбардировке потоком ионов остаточных газов, разрывающих связи в многоатомных молекулах загрязнений, химически связывающих их, образуя летучие соединения. Для удаления их из внутреннего объема прибора необходимо, чтобы откачка велась непрерывно. A high-frequency capacitive discharge is formed in the neck of a CRT bulb and plasma cleaning of CRT components and assemblies is carried out. The inner surface of the bulb and the reinforcement are bombarded by a stream of ions of residual gases, breaking bonds in polyatomic pollution molecules, chemically bonding them, forming volatile compounds. To remove them from the internal volume of the device, it is necessary that pumping is carried out continuously.

Использование предлагаемого устройства вакуумной обработки повышает качество обработки внутренней поверхности горловины ЭЛТ и арматуры. Чистота поверхностей как металлических, так и стеклянных, проанализированная по углу смачивания и методом пара при использовании предлагаемого устройства, составляет 0,02-0,05 мкГ/см2 при исходном состоянии 0,2-0,3 мкГ/см2.The use of the proposed vacuum processing device improves the quality of processing the inner surface of the neck of a CRT and fittings. The surface cleanliness of both metal and glass, analyzed by the angle of wetting and the steam method when using the proposed device, is 0.02-0.05 μG / cm 2 in the initial state of 0.2-0.3 μG / cm 2 .

Claims (1)

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТРУБКИ, содержащее гнездо для размещения трубки, соединенное со средствами откачки, высокочастотный генератор, один из выходов которого соединен с электродом для размещения на горловине трубки и заземлен, а другой выход снабжен клеммой для подключения к выводам электронно-оптической системы трубки, отличающееся тем, что, с целью повышения степени очистки трубки с боковыми выводами, электрод, размещенный на горловине трубки, выполнен в виде цилиндра с разрезом вдоль образующей и с возможностью плотной посадки и охвата всей боковой поверхности горловины трубки, а клемма для подключения к выводам электронно-оптической системы электрически соединена с дополнительной клеммой в виде скобы для соединения с боковыми выводами трубки, при этом цилиндрический электрод выполнен с вырезом, границы которого выбраны обеспечивающими зазор между электродом и дополнительной клеммой, превышающий 1,5 см. DEVICE FOR VACUUM PROCESSING OF AN ELECTRON BEAM TUBE, containing a socket for accommodating a tube, connected to pumping means, a high-frequency generator, one of the outputs of which is connected to an electrode for placement on the neck of the tube and is grounded, and the other output is equipped with a terminal for connecting to the terminals of the electron-optical tube system, characterized in that, in order to increase the degree of cleaning of the tube with side leads, the electrode placed on the neck of the tube is made in the form of a cylinder with a cut along the generatrix and with the possibility of a tight fit and coverage of the entire lateral surface of the neck of the tube, and the terminal for connecting to the terminals of the electro-optical system is electrically connected to an additional terminal in the form of a bracket for connection with the side terminals of the tube, while the cylindrical electrode is made with a cutout whose boundaries are selected to provide a gap between electrode and additional terminal exceeding 1.5 cm.
SU4929684 1991-04-22 1991-04-22 Device for vacuum treatment of cathode-ray tube RU2058610C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4929684 RU2058610C1 (en) 1991-04-22 1991-04-22 Device for vacuum treatment of cathode-ray tube

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4929684 RU2058610C1 (en) 1991-04-22 1991-04-22 Device for vacuum treatment of cathode-ray tube

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2058610C1 true RU2058610C1 (en) 1996-04-20

Family

ID=21570977

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4929684 RU2058610C1 (en) 1991-04-22 1991-04-22 Device for vacuum treatment of cathode-ray tube

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2058610C1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Технология и оборудование производства электровакуумных приборов./ Под ред. Ю. А. Хруничева. М.: Высшая школа, 1979. Авторское свидетельство СССР N 1721660, кл. H 01J 9/41, 1990. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4088926A (en) Plasma cleaning device
JP3414398B2 (en) Ion beam gun
US8698075B2 (en) Orthogonal ion injection apparatus and process
US5334834A (en) Inductively coupled plasma mass spectrometry device
JP2778689B2 (en) Discharge ionization mass spectrometer
US5124526A (en) Ion source
RU2058610C1 (en) Device for vacuum treatment of cathode-ray tube
JPS5546494A (en) Device for reducing effect of arccover of cathode ray tube
JP2603722B2 (en) High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer
US5164952A (en) Electrically pumped gas laser suitable for high input power
CN204991648U (en) Ion source
JP2591822B2 (en) High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer
CN105355535A (en) Ion source and ionization method
JPH0521245Y2 (en)
GB2144669A (en) Cleaning electrical contacts
JPS61259436A (en) High pressure adjustment for cathode ray tube mount
JP2806641B2 (en) High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer
JP3471821B2 (en) High frequency inductively coupled plasma analyzer
JPH0521246Y2 (en)
JPH0215553A (en) High frequency induction combining plasma mass spectrometry device
RU1701058C (en) Gear for machining of screen of cathode-ray tube device
CN112106170B (en) Impact ionization spray ion source or electrospray ionization ion source
JPS60223126A (en) Plasma treater
RU2018184C1 (en) Color picture tube
Shannon et al. Plasma cleaning device