NL1002627C2 - Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer. - Google Patents

Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer. Download PDF

Info

Publication number
NL1002627C2
NL1002627C2 NL1002627A NL1002627A NL1002627C2 NL 1002627 C2 NL1002627 C2 NL 1002627C2 NL 1002627 A NL1002627 A NL 1002627A NL 1002627 A NL1002627 A NL 1002627A NL 1002627 C2 NL1002627 C2 NL 1002627C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
resin
composition
composition according
lacquer
photosensitive
Prior art date
Application number
NL1002627A
Other languages
Dutch (nl)
Inventor
Stuart Arthur Harris
Theodorus Kessler
Albertus Koster
Gerardus Franciscus Jo Pouwels
Original Assignee
Stork Screens Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Stork Screens Bv filed Critical Stork Screens Bv
Priority to NL1002627A priority Critical patent/NL1002627C2/en
Priority to PCT/NL1997/000125 priority patent/WO1997034198A1/en
Priority to AU20460/97A priority patent/AU2046097A/en
Priority to IDP970837A priority patent/ID19647A/en
Application granted granted Critical
Publication of NL1002627C2 publication Critical patent/NL1002627C2/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

Korte aanduiding: Fotogevoelige harssamenstelling en deze samenstelling omvattende lak.Short designation: Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer.

De uitvinding heeft betrekking op een fotogevoelige harssamenstelling, die een fotopolymeer en een polyes-terhars omvat.The invention relates to a photosensitive resin composition comprising a photopolymer and a polyester resin.

Een dergelijke samenstelling is bijvoorbeeld uit EP-5 Bl-0 130 804 bekend. Deze bekende samenstelling bevat een viertal bestanddelen, namelijk een fotopolymeer uit een in water oplosbaar, verzeept vinylacetaatpolymeer met bepaalde styrylpyridinium of styrylchinolinium ent-groepen, een tweede polymeerbestanddeel gekozen uit in 10 water dispergeerbare of hydrofobe polymeren bijvoorbeeld polyurethaan of een dispersie van polyesterhars, een derde bestanddeel van een fotopolymeriseerbare, onverzadigde verbinding met ten minste één ethylenisch onverzadigde groep zoals een UV-acrylaat of een onverzadigde 15 polyester, en een fotopolymerisatie-initiator als vierde component. Een dergelijke samenstelling kan worden toegepast in een fotogevoelige lak voor drukplaten of -zeven.Such a composition is known, for example, from EP-5 B1-0 130 804. This known composition contains four components, namely a photopolymer of a water-soluble, saponified vinyl acetate polymer with certain styrylpyridinium or styrylquinolinium graft groups, a second polymer component selected from water-dispersible or hydrophobic polymers, for example polyurethane or a polyester resin dispersion, a third component of a photopolymerizable unsaturated compound with at least one ethylenically unsaturated group such as a UV acrylate or an unsaturated polyester, and a photopolymerization initiator as a fourth component. Such a composition can be used in a photosensitive lacquer for printing plates or screens.

Volgens deze publikatie zijn met name het derde be-20 standdeel en de daarbijbehorende initiator nodig om een goede natsterkte na ontwikkeling met water, alsmede een goede chemische bestendigheid van de eindcoating te verkrijgen. Deze samenstelling heeft betere eigenschappen in vergelijking met die van uit GB-B-2030575 bekende 25 fotopolymeren.According to this publication, in particular, the third component and the accompanying initiator are required to obtain good wet strength after development with water, as well as good chemical resistance of the final coating. This composition has better properties compared to that of photopolymers known from GB-B-2030575.

Gebleken is echter dat de uit EP-B-0 130 804 bekende samenstelling, hoewel de hierboven genoemde eigenschappen vertonend, een duidelijk nadeel heeft. Deze samenstelling leidt namelijk tot een plakkerige bekleding, 30 die zich aan de tijdens bedrijf daarop aangebrachte film hecht. Daardoor gaat een gedeelte van de lak op de film over, waardoor de laklaag wordt beschadigd. Verder wordt daardoor de film, die vaak bewaart dient te worden, onbruikbaar voor hergebruik. Teneinde dit nadeel te ver- 1002627 2 mijden is reeds voorgesteld talkpoeder op de aangebrachte laklaag te strooien.However, it has been found that the composition known from EP-B-0 130 804, although showing the above-mentioned properties, has a clear drawback. Namely, this composition results in a tacky coating which adheres to the film applied thereto during operation. As a result, part of the lacquer transfers to the film, which damages the lacquer layer. Furthermore, this makes the film, which often has to be stored, unusable for reuse. In order to avoid this drawback, it has already been proposed to sprinkle talcum powder on the applied lacquer layer.

De onderhavige uitvinding heeft ten doel de plakkerigheid van de fotogevoelige samenstelling te verminderen, 5 terwijl de goede eigenschappen van de bekende samenstelling worden behouden.The present invention aims to reduce the tackiness of the photosensitive composition while retaining the good properties of the known composition.

De fotogevoelige harssamenstelling van het beschreven type volgens de uitvinding wordt gekenmerkt, doordat de samenstelling verder een harsbestanddeel omvat, dat ge-10 kozen is uit een aminohars en/of fenolhars.The photosensitive resin composition of the type described in accordance with the invention is characterized in that the composition further comprises a resin component selected from an amino resin and / or phenolic resin.

De samenstelling volgens de uitvinding bestaat in hoofdzaak uit een drietal componenten, namelijk een fo-topolymeer, een polyesterhars en een hars, gekozen uit amino- en/of fenolhars, die samen met de polyesterhars 15 uithardt. Gebleken is dat een dergelijke basissamenstelling als lak kan worden geformuleerd, die niet plakkerig is, d.w.z. zich niet te sterk aan de later op te brengen film hecht, en die een goede stabiliteit geeft. De uit deze samenstelling volgens de uitvinding verkregen coa-20 ting geeft een verbeterde natsterkte, chemische bestendigheid en gelijkblijvende fotogevoeligheid in vergelijking met de in GB-B-2 030 575 en EP-B-0 130 804 beschreven voorbeelden. Daarnaast is de aanwezigheid van een foto-initiator om de fotogevoeligheid te verbeteren, 25 zoals in EP-B-0 130 804 is beschreven, niet vereist, hetgeen een economisch voordeel geeft. Aangenomen wordt, dat de gunstige eigenschappen met betrekking tot de natsterkte worden verkregen door een synergistische in-teraktie tussen de polyesterhars, in het bijzonder een 30 thermohardende polyesterhars, zoals een alkydhars, en het fotopolymeer. De thermohardingsreaktie tussen de aminohars of fenolhars, de polyesterhars en het fotopolymeer leidt tot een coating met goede chemische bestendigheid en flexibiliteit. De afwezigheid van een UV-35 hars, bijvoorbeeld een acrylaathars zoals die in EP-B-0 130 804 is beschreven, resulteert in een verlaging van de plakkerigheid.The composition according to the invention mainly consists of three components, namely a fo-topolymer, a polyester resin and a resin, selected from amino and / or phenolic resin, which cures together with the polyester resin. It has been found that such a base composition can be formulated as a lacquer, which is not tacky, i.e. does not adhere too strongly to the film to be applied later, and which gives good stability. The coating obtained from this composition according to the invention provides improved wet strength, chemical resistance and constant photosensitivity compared to the examples described in GB-B-2 030 575 and EP-B-0 130 804. In addition, the presence of a photoinitiator to improve the photosensitivity, as described in EP-B-0 130 804, is not required, which provides an economic advantage. It is believed that the favorable wet strength properties are obtained by a synergistic interaction between the polyester resin, in particular a thermosetting polyester resin, such as an alkyd resin, and the photopolymer. The thermosetting reaction between the amino resin or phenolic resin, the polyester resin and the photopolymer results in a coating with good chemical resistance and flexibility. The absence of a UV-35 resin, for example an acrylate resin as described in EP-B-0 130 804, results in a reduction of the tackiness.

Voorbeelden van bij de samenstelling volgens de uit- 1002627 3 vinding toe te passen fotopolymeren zijn die, welke zijn beschreven in het Britse octrooi GB-B-2 030 575 en de Europese octrooien EP-B-0 130 804, 0 313 220, 0 313 221 en 0 373 537. Al deze publikaties openbaren fotopolyme-5 ren van polyvinylalkoholen of -acetaten met verscheidene entgroepen en bereidingswerkwijzen daarvan. De fotopolymeren, die de voorkeur hebben, zijn die volgens GB-B-2 030 575 en EP-B-0 313 220 en 0 313 221, welke hierna als met stilbazolium geënte polyvinylalkoholen worden aange-10 duid.Examples of photopolymers to be used in the composition according to the invention are those described in British patent GB-B-2 030 575 and European patents EP-B-0 130 804, 0 313 220, 0 313 221 and 0 373 537. All of these publications disclose photopolymers of polyvinyl alcohols or acetates with various graft groups and preparation methods thereof. The preferred photopolymers are those according to GB-B-2 030 575 and EP-B-0 313 220 and 0 313 221, hereinafter referred to as stilbazolium grafted polyvinyl alcohols.

Het droge stofgehalte van het voorkeursfotopolymeer in de basissamenstelling ligt in het algemeen in het gebied van 5-30%, bij voorkeur in het gebied van 9-17%. Wanneer het gehalte minder dan 5% bedraagt, dan vindt onvoldoen-15 de emulgatie plaats, doordat te weinig schutcolloïd (PVA) aanwezig is om de harsfase te stabiliseren, hetgeen tot een instabiele en plakkerige lak aanleiding geeft. Daarnaast zijn bij een dergelijk laag gehalte onvoldoende stilbazoliumgroepen voor de reaktie onder 20 invloed van licht aanwezig, waardoor de natsterkte niet optimaal is. Indien het gehalte de bovengrens van 30% overschrijdt, is de samenstelling relatief duur en is de chemische bestendigheid tegen tijdens een drukproces gebruikte drukinkten minder.The dry matter content of the preferred photopolymer in the base composition is generally in the range of 5-30%, preferably in the range of 9-17%. When the content is less than 5%, the emulsification is not satisfactory because too little protective colloid (PVA) is present to stabilize the resin phase, which leads to an unstable and sticky lacquer. In addition, at such a low content, insufficient stilbazolium groups for the reaction under the influence of light are present, so that the wet strength is not optimal. If the content exceeds the upper limit of 30%, the composition is relatively expensive and the chemical resistance to printing inks used in a printing process is less.

25 De polyesterhars is bij voorkeur een thermohardende polyesterhars. Thermohardende polyesterharsen kunnen in de onverzadigde polyesters en de alkydharsen (ook wel met olie gemodificeerde polyesters genoemd) worden onderverdeeld. De laatste groep heeft in het bijzonder de 3 0 voorkeur.The polyester resin is preferably a thermosetting polyester resin. Thermosetting polyester resins can be divided into the unsaturated polyesters and the alkyd resins (also called oil-modified polyesters). The latter group is particularly preferred.

Alkydharsen kunnen worden bereid, zoals in het vak bekend is, uit een drietal componenten, namelijk 1) meerbasische alkoholen of mengsels daarvan, zoals bijvoorbeeld propyleenglycol, ethyleenglycol, glycerol, 35 pentaerythritol, polyglycerol, dimethanolpropionzuur, sorbitol, mannitol en neopentylglycol met 2) meerwaardige zuren, anhydriden of mengsels daarvan, zoals bijvoorbeeld drie- of hoger -waardige zuren, zoals met citroen- 1002627 4 zuur gemaleïniseerde onverzadigde vetzuren, gemaleïni-seerd colofonium, trimellitinezuur, benzofenontetracar-bonzuur, tweewaardige zuren zoals ftaalzuur, isoftaal-zuur, adipinezuur, barnsteenzuur, azelaïnezuur, sebaci-5 nezuur en 3) monobasisch zuur of mengsel daarvan, zoals bijvoorbeeld verzadigde of onverzadigde vetzuren of olieën daarvan, zoals bijvoorbeeld kokosnoot-, (gedehy-drateerde) castor-, soya-, lijnzaad-, denne- en zonnebloemolie. De alkydhars kan van het oxidatief drogende 10 type of van het moffeltype zijn.Alkyd resins can be prepared, as is known in the art, from three components, namely 1) polybasic alcohols or mixtures thereof, such as for example propylene glycol, ethylene glycol, glycerol, pentaerythritol, polyglycerol, dimethanol propionic acid, sorbitol, mannitol and neopentyl glycol with 2) polyvalent acids, anhydrides or mixtures thereof, such as, for example, trivalent or higher acids, such as citric 1002627 4 acid-malalized unsaturated fatty acids, maleized rosin, trimellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, divalent acids such as phthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, succinic acid, azelaic acid, sebacinic acid and 3) monobasic acid or mixture thereof, such as, for example, saturated or unsaturated fatty acids or oils thereof, such as, for example, coconut, (dehydrated) castor, soy, linseed, pine and sunflower oil . The alkyd resin can be of the oxidatively drying type or of the muffle type.

Voorbeelden van alkydharsen, die in de samenstelling volgens de uitvinding kunnen worden toegepast, zijn onder meer verkrijgbaar onder de handelsnamen Crodakyd, Uralac, Alftalat, Sacolyd, Novalkyd, Sintal, Jagalyd en 15 Worléekyd. Typisch worden deze alkydharsen bereid uit ftaalzuuranhydride (25-70%) of isoftaalzuuranhydride (10-20%). Het oliegehalte (30-80%) is gebaseerd op een brede verscheidenheid aan vetzuren (bijvoorbeeld lijn-zaadolie, denneolie, kokosnootolie, castorolie of syn-20 thetische zuren). De vetzuren, die een niet-geconjugeer-de onverzadigde binding bevatten, hebben in het bijzonder de voorkeur. Voorbeelden daarvan omvatten kokosnoot-, castor-, druivepit-, lijnzaad-, palm-, saffloer-, zonnebloem-, soya- en denneolie. Het oliegehalte ligt 25 bij voorkeur in het gebied van 30-55%. Verder is het hydroxylgehalte van de alkydhars van belang, dat bij voorkeur in het gebied van 3-7,5% ligt. Uit het oogpunt van stabiliteit worden met voordeel alkydharsen met een zuurwaarde van minder dan 25 toegepast, hoewel alkydhar-30 sen met zuurwaarden tot 50 mg KOH/g vaste stof van de alkydhars bruikbaar zijn gebleken.Examples of alkyd resins which can be used in the composition of the invention are available, inter alia, under the trade names Crodakyd, Uralac, Alftalat, Sacolyd, Novalkyd, Sintal, Jagalyd and Worleekyd. Typically, these alkyd resins are prepared from phthalic anhydride (25-70%) or isophthalic anhydride (10-20%). The oil content (30-80%) is based on a wide variety of fatty acids (eg linseed oil, pine oil, coconut oil, castor oil or synthetic acids). The fatty acids, which contain a non-conjugated unsaturated bond, are particularly preferred. Examples thereof include coconut, castor, grape seed, linseed, palm, safflower, sunflower, soy and pine oils. The oil content is preferably in the range of 30-55%. Furthermore, the hydroxyl content of the alkyd resin is important, which is preferably in the range of 3-7.5%. From the standpoint of stability, alkyd resins with an acid value of less than 25 are advantageously used, although alkyd resins with acid values up to 50 mg KOH / g solid of the alkyd resin have been found to be useful.

De keuze van de bestanddelen is afhankelijk van de beoogde eigenschappen, zowel voor de verwerking als de eigenschappen van het eindprodukt. Het droge stofgehalte 35 van de alkydhars in de basissamenstelling ligt in het algemeen in het gebied van 20-80%, bij voorkeur 40-75%. Bij een hoger gehalte is de chemische bestendigheid onvoldoende en kan anderszijds te weinig aminohars aanwe- 1002627 5 zig zijn om een goede verknoping te bewerkstelligen, terwijl bij een lager gehalte de flexibiliteit te laag is en een brosse laag wordt gevormd. De toepassing van alkydharsen, die drogende of semi-drogende (onverzadig-5 de) olieën of vetzuren bevatten, heeft in het bijzonder de voorkeur.The choice of ingredients depends on the intended properties, both for processing and the properties of the final product. The dry matter content of the alkyd resin in the base composition is generally in the range of 20-80%, preferably 40-75%. At a higher content, the chemical resistance is insufficient and, on the other hand, too little amino resin may be present to effect good cross-linking, while at a lower content the flexibility is too low and a brittle layer is formed. The use of alkyd resins containing drying or semi-drying (unsaturated) oils or fatty acids is particularly preferred.

De derde component, die gekozen is uit aminohars en/of fenolhars, is bij voorkeur een aminohars, zoals melamine formaldehyde en meer bij voorkeur een benzoguanaminehars 10 uit het oogpunt van houdbaarheid. De aminohars maakt het gezamenlijk uitharden (drogen) van de polyesterhars, in het bijzonder een alkydhars, tijdens moffelen mogelijk. De derde component is in het algemeen in een gehalte (% droge stof van totaalsamenstelling) van 10-70% aanwezig, 15 bij voorkeur 15-50%. De bovengrens wordt bepaald door de flexibliteit, terwijl de ondergrens wordt bepaald door de chemische bestendigheid vanwege de onvoldoende aanwezigheid van amino- of fenolhars voor de verknopingsreac-tie. Geschikte aminoharsen, die volgens de uitvinding 20 kunnen worden toegepast, zijn in de handel verkrijgbaar onder de handelsnamen Luwipal, Beetle, Maprenal, Cymel en Resimene.The third component selected from amino resin and / or phenolic resin is preferably an amino resin such as melamine formaldehyde and more preferably a benzoguanamine resin from the viewpoint of shelf life. The amino resin allows the joint curing (drying) of the polyester resin, in particular an alkyd resin, during baking. The third component is generally present in a content (% dry matter of total composition) of 10-70%, preferably 15-50%. The upper limit is determined by the flexibility, while the lower limit is determined by the chemical resistance due to the insufficient presence of amino or phenolic resin for the crosslinking reaction. Suitable amino resins which can be used according to the invention are commercially available under the trade names Luwipal, Beetle, Maprenal, Cymel and Resimene.

De uitvinding heeft verder betrekking op een fotoge-voelige lak voor zeefdruk, die als essentieel bestand-25 deel de fotogevoelige harssamenstelling volgens de uitvinding bevat, naast gebruikelijke oplosmiddelen. De fotogevoelige lak volgens de uitvinding bestaat bij voorkeur uit 35-50% basissamenstelling, 40-75% water en 5-15% organisch oplosmiddel, waarbij de beste resultaten 30 worden bereikt met een lak, die uit ongeveer 45% basissamenstelling, 45% water en 10% organisch oplosmiddel bestaat.The invention further relates to a photosensitive screen printing lacquer, which contains as essential component the photosensitive resin composition according to the invention, in addition to conventional solvents. The photosensitive lacquer according to the invention preferably consists of 35-50% base composition, 40-75% water and 5-15% organic solvent, the best results being achieved with a lacquer consisting of about 45% base composition, 45% water and 10% organic solvent exists.

De voor toepassing in de lak volgens de uitvinding geschikte oplosmiddelen omvatten in het bijzonder de 35 lagere alkylalkoholen en -acetaten of glycolen of mengsels daarvan, zoals isobutanol, propanol en butylglycol en bij voorkeur butylacetaat, butylalkohol of een mengsel daarvan. Bij toepassing van een mengsel van organi- 1002627 6 sche oplosmiddelen is de verhouding van de verschillende componenten daarvan niet kritisch en kan door de vakman afhankelijk van de specifieke toepassingseisen worden bepaald.The solvents suitable for use in the lacquer according to the invention particularly comprise the lower alkyl alcohols and acetates or glycols or mixtures thereof, such as isobutanol, propanol and butyl glycol and preferably butyl acetate, butyl alcohol or a mixture thereof. When using a mixture of organic solvents, the ratio of the various components thereof is not critical and can be determined by the skilled person depending on the specific application requirements.

5 Zoals hierboven reeds is aangegeven, wordt de lak in de drukindustrie toegepast, in het bijzonder bij zeefdrukken. Hierbij wordt een laag van de lak volgens de uitvinding op een zeef, bijvoorbeeld een cylindrische zeef, aangebracht en gedroogd bij een enigszins verhoog-10 de temperatuur, bijvoorbeeld ongeveer 35 °C, gedurende een voldoende tijdsperiode, bijvoorbeeld in de orde van 30 minuten. Uiteraard zijn de juiste droogomstandigheden afhankelijk van de aard en hoeveelheden van de componenten in de lak en de aangebrachte laagdikte. Op de ge-15 droogde lak wordt vervolgens een film met patroon aangebracht, die wordt belicht, waarna de film wordt verwijderd, alsmede de niet-belichte laklaag, waardoor de zeef van het juiste drukpatroon is voorzien en het eigenlijke drukken kan worden aangevangen.As already indicated above, the lacquer is used in the printing industry, in particular in screen printing. Here, a layer of the lacquer according to the invention is applied to a screen, for example a cylindrical screen, and dried at a slightly elevated temperature, for example about 35 ° C, for a sufficient period of time, for example on the order of 30 minutes. Of course, the correct drying conditions depend on the nature and quantities of the components in the lacquer and the applied layer thickness. A patterned film is then applied to the dried lacquer, which is exposed, after which the film is removed, and the non-exposed lacquer layer, so that the screen is correctly printed and the actual printing can be started.

20 De uitvinding zal hierna worden toegelicht aan de hand van de volgende voorbeelden.The invention will be elucidated hereinbelow with reference to the following examples.

Vergelijkend voorbeeld 1.Comparative example 1.

In een glasbeker werden 54,5 g vloeibare epoxyhars, 25 gevormd uit bisfenol A en epichloorhydrine, gebracht, waarna de inhoud werd verhit tot 115 °C en vervolgens een aminehardingsmiddel werd toegevoegd. Het aldus verkregen mengsel liet men tot 50 °C koelen. In een ander bekerglas werden 59,4 g urethaanacrylaat oligomeer (85% 30 in 1,6-hexaandiolacrylaat) ingebracht en tot 50 °C verhit, waarna 0,6 g foto-initiator Irgacure 369 (Ciba Gei-gy) werd toegevoegd. De mengsels werden samengevoegd en tot aan verdere verwerking op 50 °C gehouden.54.5 g of liquid epoxy resin, formed from bisphenol A and epichlorohydrin, were placed in a glass beaker, the contents were heated to 115 ° C and then an amine curing agent was added. The mixture thus obtained was allowed to cool to 50 ° C. In another beaker, 59.4 g of urethane acrylate oligomer (85% 30 in 1,6-hexanediol acrylate) were introduced and heated to 50 ° C, after which 0.6 g of photoinitiator Irgacure 369 (Ciba Gei-gy) was added. The mixtures were combined and kept at 50 ° C until further processing.

100 G van de bovenstaande warme harsfase werd vervol-35 gens geëmulgeerd in een mengsel van 48 g fotopolymeer LS400 (Toyo Gosei, Japan; een 13%'s waterige oplossing van een polyvinylderivaat, bestaande uit 88% verzeept polyvinylacetaat met een polymerisatiegraad van 500, en 1 0 0 v 6 1 7 7 gemodificeerd met 4,2 mol% styrylpyridiniumgroepen) en 192 g van een 10%'s waterige oplossing van een 88% verzeept polyvinylacetaat met een polymerisatiegraad van 3300. De aldus verkregen foto-emulsie werd daarna met 5 water en ethanol verdund en onder toepassing van een in water oplosbare kleurstof gekleurd.100 g of the above warm resin phase was then emulsified in a mixture of 48 g of photopolymer LS400 (Toyo Gosei, Japan; a 13% aqueous solution of a polyvinyl derivative consisting of 88% saponified polyvinyl acetate with a polymerization degree of 500, and 1 0 0 v 6 1 7 7 modified with 4.2 mol% styrylpyridinium groups) and 192 g of a 10% aqueous solution of an 88% saponified polyvinyl acetate with a degree of polymerization of 3300. The photo-emulsion thus obtained was then mixed with Diluted water and ethanol and stained using a water-soluble dye.

Deze foto-emulsie werd verder verdund met water en vervolgens op een nikkelen zeef voor rotatiezeefdruk door middel van dompelbekleden aangebracht. Na drogen 10 gedurende 40 minuten bij 35 °C werd de nog plakkerige emulsie met talk behandeld om een niet-plakkende bekleding te verkrijgen. De zeef werd vervolgens belicht door een fotonegatieve film onder toepassing van een met gallium gedoteerde lage druk kwiklamp en vervolgens met 15 water ontwikkeld. Na polymerisatie gedurende 1 uur op 180 °C was de coating niet meer plakkerig. De foto-emulsie vertoonde echter een slechte natsterkte en chemische bestendigheid.This photoemulsion was further diluted with water and then applied to a nickel screen for rotary screen printing by dip coating. After drying for 40 minutes at 35 ° C, the still tacky emulsion was treated with talc to obtain a non-stick coating. The screen was then exposed through a photonegative film using a gallium-doped low-pressure mercury lamp and then developed with water. After polymerization for 1 hour at 180 ° C, the coating was no longer sticky. However, the photoemulsion showed poor wet strength and chemical resistance.

De resultaten van dit vergelijkingsvoorbeeld, alsmede 20 van de hierna beschreven voorbeelden zijn in Tabel 1 samengevat.The results of this comparative example, as well as of the examples described below, are summarized in Table 1.

Vergelijkend voorbeeld 2.Comparative example 2.

Teneinde het plakken van de droge film te verminderen 25 werd een andere foto-emulsie als vergelijking bereid. Hierin werd de harsfase gemodificeerd door de hoeveelheid plakkerig UV-acrylaat oligomeer te verlagen.In order to reduce the sticking of the dry film, another photoemulsion was prepared as a comparison. Herein, the resin phase was modified by reducing the amount of tacky UV-acrylate oligomer.

68 G van de in vergelijkingsvoorbeeld 1 toegepaste epoxyhars werd tot 115 °C verhit, waaraan 7 g aminehar-30 dingsmiddel werd toegevoegd. Afzonderlijk werden 29 g urethaanacrylaat oligomeer en 1 g foto-initiator Irgacu-re 369 gemengd, d.w.z de hoeveelheid urethaanacrylaat oligomeer bedroeg de helft van die in vergelijkingsvoorbeeld 1. Het samenvoegen van de twee mengsels gaf 105 g 35 warme harsfase, welke op dezelfde wijze als in vergelijkend voorbeeld l in hetzelfde mengsel van fotopolymeer en polyvinylalcoholoplossing werd geëmulgeerd. De aldus verkregen foto-emulsie was enigszins minder plakkerig.68 g of the epoxy resin used in Comparative Example 1 was heated to 115 ° C, to which was added 7 g of amine curing agent. Separately, 29 g of urethane acrylate oligomer and 1 g of photoinitiator Irgacuer-369 were mixed, ie the amount of urethane acrylate oligomer was half that in Comparative Example 1. Combining the two mixtures gave 105 g of a warm resin phase, which was similar to in comparative example 1, the same mixture of photopolymer and polyvinyl alcohol solution was emulsified. The photo-emulsion thus obtained was somewhat less sticky.

10 oε ü 7 810 oε ü 7 8

De natsterkte was echter buitengewoon slecht en na ontwikkeling met water ging de gehele op de zeef aangebrachte foto-emulsie opnieuw in emulsie.However, the wet strength was extremely poor, and after development with water, the entire photo-emulsion applied to the screen was re-emulsified.

5 Voorbeeld 1.5 Example 1.

In een glasbeker werd een mengsel van 150 g alkydhars met korte olieketenlengte (een zogeheten "short oil al-kyd") en 150 g gealkyleerde benzoguanaminehars gebracht. Dit mengsel werd vervolgens onder roeren verhit tot 65 10 °C. De alkydhars is een 65%'s oplossing in butylacetaat.A mixture of 150 g of short chain oil alkyd resin (a so-called "short oil alkyd") and 150 g of alkylated benzoguanamine resin was introduced into a glass beaker. This mixture was then heated to 65 ° C with stirring. The alkyd resin is a 65% solution in butyl acetate.

De alkydhars heeft een castoroliegehalte van 42% en een maximale zuurwaarde van 15 mg KOH per g vaste stof van de hars en een hydroxylgehalte van 4% (OH-equivalent) . De benzoguanaminehars, die als een niet-weekmakende ben-15 zoguanamineformaldehydehars wordt beschreven, is een 80%'s oplossing in n-butanol.The alkyd resin has a castor oil content of 42% and a maximum acid value of 15 mg KOH per g solid of the resin and a hydroxyl content of 4% (OH equivalent). The benzoguanamine resin, which is described as a non-plasticizing ben-zoguanamine formaldehyde resin, is an 80% solution in n-butanol.

Het warme mengsel werd vervolgens geëmulgeerd in 200 g fotopolymeer (fotopolymeer SPP H13 van Toyo Gosei (JP) ; een 13%'s waterige oplossing van een polyvinylal-20 koholderivaat, bestaande uit 88% verzeept polyvinylace-taat met een polymerisatiegraad van 1700, gemodificeerd met 1,3 mol% styrylpyridiniumgroepen) met behulp van een menger met hoge afschuiving.The warm mixture was then emulsified in 200 g of photopolymer (photopolymer SPP H13 from Toyo Gosei (JP); a 13% aqueous solution of a polyvinylalcohol derivative consisting of 88% saponified polyvinyl acetate with a polymerization degree of 1700, modified with 1.3 mol% styrylpyridinium groups) using a high shear mixer.

De aldus verkregen emulsie werd met 80 g water ver-25 dund, geneutraliseerd onder toepassing van een 33%'s oplossing van DMEA in water en gekleurd met behulp van 1 g van een in water oplosbare kleurstof om een foto-emul-sie te vormen. De foto-emulsie bezat een vaste stof-ge-halte van 42% en een oplosmiddelfase, die 44% water, 9% 30 butanol en 5% n-butanol omvatte.The emulsion thus obtained was diluted with 80 g of water, neutralized using a 33% aqueous solution of DMEA and colored using 1 g of a water-soluble dye to form a photoemulsion . The photoemulsion had a solids content of 42% and a solvent phase comprising 44% water, 9% butanol and 5% n-butanol.

Deze emulsie liet men 1 week staan, waarna de emulsie verder werd verdund met water. De verkregen laksamen-stelling werd op een nikkelen rotatiezeef aangebracht. Na droging bij 35 °C gedurende 40 minuten werd de niet-35 plakkerige foto-emulsie belicht door een negatieve film onder toepassing van een met Ga gedoteerde lage druk Hg-lamp. De zeef werd daarna ontwikkeld met water en de niet-belichte bekleding werd gemakkelijk opnieuw gedis- 1002627 9 pergeerd, terwijl de onder invloed van licht verknoopte bekleding een goede natsterkte vertoonde. Na polymerisatie gedurende 1 uur bij 180 °C was de rotatiezeef klaar voor gebruik. De bekleding vertoonde een goede natsterk-5 te en goede chemische bestendigheid tegen een brede verscheidenheid aan chemicaliën.This emulsion was allowed to stand for 1 week, after which the emulsion was further diluted with water. The resulting lacquer composition was applied to a rotary nickel screen. After drying at 35 ° C for 40 minutes, the non-tacky photoemulsion was exposed through a negative film using a Ga-doped low pressure Hg lamp. The screen was then developed with water and the unexposed coating was readily redispersed, while the lightly cross-linked coating exhibited good wet strength. After polymerization for 1 hour at 180 ° C, the rotary screen was ready for use. The coating exhibited good wet strength and good chemical resistance to a wide variety of chemicals.

Voorbeeld 2.Example 2.

Onder toepassing van dezelfde uitgangsmaterialen als 10 in voorbeeld 1 werden 185 alkydhars met 125 g benzogua-naminehars gemengd. Het mengsel werd vervolgens in 200 g fotopolymeer geëmulgeerd en overeenkomstig voorbeeld 1 tot een foto-emulsie verwerkt. De samenstelling van de aldus verkregen foto-emulsie was als volgt: vaste stof-15 gehalte 42%, butylacetaat 11% en n-butanol 4%. De uiteindelijke bekleding vertoonde een verbeterde flexibiliteit, die echter enigszins ten koste gaat van de chemische bestendigheid.Using the same starting materials as in Example 1, 185 alkyd resin was mixed with 125 g of benzoguanamine resin. The mixture was then emulsified in 200 g of photopolymer and processed into a photo-emulsion according to Example 1. The composition of the photo-emulsion thus obtained was as follows: solids content 42%, butyl acetate 11% and n-butanol 4%. The final coating exhibited improved flexibility, however, somewhat at the expense of chemical resistance.

20 Voorbeeld 3.20 Example 3.

Onder toepassing van dezelfde uitgangsmaterialen als in voorbeeld 1 werden 115 g alkydhars met 150 g benzo-guanaminehars gemengd. Het mengsel werd vervolgens in 345 g fotopolymeer geëmulgeerd. De uiteindelijke bekle-25 ding vertoonde een goede natsterkte, redelijke flexibiliteit en goede chemische bestendigheid.Using the same starting materials as in Example 1, 115 g of alkyd resin were mixed with 150 g of benzo-guanamine resin. The mixture was then emulsified in 345 g of photopolymer. The final coating showed good wet strength, reasonable flexibility and good chemical resistance.

Voorbeeld 4.Example 4.

Onder toepassing van dezelfde uitgangsmaterialen als 30 in de voorgaande voorbeelden werd 163 g alkydhars met 132 g benzoguanaminehars gemengd en vervolgens in 273 g fotopolymeer geëmulgeerd. De foto-emulsie bezat een matige natsterkte, goede chemische bestendigheid tegen oplosmiddelen en zuren en redelijke flexibiliteit.Using the same starting materials as in the previous examples, 163 g of the alkyd resin was mixed with 132 g of the benzoguanamine resin and then emulsified in 273 g of the photopolymer. The photoemulsion had moderate wet strength, good chemical resistance to solvents and acids, and reasonable flexibility.

3535

Voorbeeld 5.Example 5.

Bij dit voorbeeld werden 150 g alkydhars met korte olieketenlengte (42% kokosnootolie, 30% ftaalzuuranhy- 1002627 10 dride, zuurwaarde <10, vaste stof-gehalte 80% in isopro-panol) met 150 g van de bovenstaande benzoguanaminehars gemengd ne tot 75 °C verwarmd. Het warme mengsel werd in 200 g fotopolymeer SPP H13 geëmulgeerd. Deze foto-emul-5 sie vertoonde een goede natsterkte, alsmede een goede chemische bestendigheid.In this example, 150 g of short chain oil alkyd resin (42% coconut oil, 30% phthalic anhydride 1002627 10 dride, acid value <10, solids content 80% in isopropanol) were mixed with 150 g of the above benzoguanamine resin to 75 ° C C heated. The warm mixture was emulsified in 200 g of photopolymer SPP H13. This photo-emulsion showed good wet strength as well as good chemical resistance.

Voorbeeld 6.Example 6.

Hetzelfde warme mengsel van alkydhars en benzoguanami-10 nehars als in voorbeeld 5 werd in 200 g fotopolymeer SPP S10 (eveneens verkrijgbaar van Toyo Gosei (JP)) geëemul-geerd. Dit fotopolymeer is een 11%'s waterige oplossing van een polyvinylderivaat, bestaande uit 88% verzeept polyvinylacetaat met een polymerisatiegraad van 2300, 15 gemodificeerd met 1,1 mol% styrylpyridiniumgroepen. De verkregen resultaten waren vergelijkbaar met die van voorbeeld 5.The same warm mixture of alkyd resin and benzoguanami-10 resin as in Example 5 was emulsified in 200 g of photopolymer SPP S10 (also available from Toyo Gosei (JP)). This photopolymer is an 11% aqueous solution of a polyvinyl derivative, consisting of 88% saponified polyvinyl acetate with a polymerization degree of 2300, modified with 1.1 mol% styrylpyridinium groups. The results obtained were comparable to those of Example 5.

Voorbeeld 7.Example 7.

20 Hetzelfde warme mengsel van alkydhars en benzoguanami nehars als in voorbeeld 5 werd in 200 g fotopolymeer SPP S13 (eveneens verkrijgbaar van Toyo Gosei (JP)) geëemul-geerd. Dit fotopolymeer is een 11%'s waterige oplossing van een polyvinylderivaat, bestaande uit 88% verzeept 25 polyvinylacetaat met een polymerisatiegraad van 2300, gemodificeerd met 1,37 mol% styrylpyridiniumgroepen. De onder toepassing van dit fotopolymeer verkregen resultaten waren vergelijkbaar met die van voorbeelden 5 en 6.The same warm mixture of alkyd resin and benzoguanami resin as in Example 5 was emulsified in 200 g of photopolymer SPP S13 (also available from Toyo Gosei (JP)). This photopolymer is an 11% aqueous solution of a polyvinyl derivative, consisting of 88% saponified polyvinyl acetate with a polymerization degree of 2300, modified with 1.37 mole% styrylpyridinium groups. The results obtained using this photopolymer were similar to those of Examples 5 and 6.

30 Voorbeeld 8.30 Example 8.

In dit voorbeeld werden 117 g alkydhars met lange olieketenlengte (83% gemengde zuren, 13% ftaalzuuranhy-dride, zuurwaarde <7, vaste stof-gehalte 99%) gemengd met 145 g benzoguanaminehars. Dit voormengsel werd tot 35 75 °C verwarmd en vervolgens in 2 00 g fotopolymeer SPPIn this example, 117 g long oil chain length alkyd resin (83% mixed acids, 13% phthalic anhydride, acid value <7, solids content 99%) were mixed with 145 g benzoguanamine resin. This premix was heated to 75 ° C and then in 200 g photopolymer SPP

H13 geëmulgeerd. De aanwezigheid van deze alkydhars met lange olieketenlengte gaf een verbetering van de flexibiliteit van de uiteindelijk verkregen bekleding.H13 emulsified. The presence of this long oil chain length alkyd resin improved the flexibility of the final coating obtained.

: 't 0 z 6 2 7 11: t 0 z 6 2 7 11

Voorbeeld 9.Example 9.

150 G alkydhars met korte olieketenlengte (35% speciale zuren, 25% ftaalzuuranhydride, zuurwaarde <10, hydroxy lgehalte 4,4%, vaste stof-gehalte 80% in isobutyla-5 cetaat) werd met 150 g benzoguanaminehars gemengd, vervolgens verwarmd en met 200 g fotopolymeer SPP H13 geëmulgeerd. Dit leidde tot een foto-emulsie met een uitstekende chemische bestendigheid tegen basen, echter ten koste van de natsterkte en chemische bestendigheid tegen 10 oplosmiddelen.150 G short chain oil alkyd resin (35% special acids, 25% phthalic anhydride, acid value <10, hydroxy content 4.4%, solid content 80% in isobutyl 5-acetate) was mixed with 150 g benzoguanamine resin, then heated and with 200 g of photopolymer SPP H13 emulsified. This resulted in a photo-emulsion with excellent chemical resistance to bases, but at the expense of wet strength and chemical resistance to solvents.

Voorbeeld 10.Example 10.

Met 84 g benzoguanaminehars werden 197 g alkydhars (50% niet-drogende olie, zuurwaarde <50, vaste stof-ge-15 halte 75% in n-butanol/butylglycol) gemengd, vervolgens verwarmd en in 200 g fotopolymeer SPP H13 geëmulgeerd. Het resultaat was een foto-emulsie met uitstekende flexibiliteit, natsterkte en zeer goede chemische bestendigheid.197 g of alkyd resin (50% non-drying oil, acid value <50, solids content 75% in n-butanol / butyl glycol) were mixed with 84 g of benzoguanamine resin, then heated and emulsified in 200 g of photopolymer SPP H13. The result was a photo-emulsion with excellent flexibility, wet strength and very good chemical resistance.

2020

Voorbeeld 11.Example 11.

Van dezelfde alkydhars als in voorbeeld 10 werden 206 g met 67 g benzoguanaminehars (veresterd met methanol, vaste stof-gehalte 75% in isobutanol) gemengd, verwarmd 25 en vervolgens geëmulgeerd in 200 g fotopolymeer SPP H13. Dit gaf een uitstekend evenwicht van eigenschappen.206 g of the same alkyd resin as in Example 10 were mixed with 67 g of benzoguanamine resin (esterified with methanol, solids content 75% in isobutanol), heated and then emulsified in 200 g of photopolymer SPP H13. This gave an excellent balance of properties.

Voorbeeld 12.Example 12.

Voorbeeld 11 werd herhaald, behalve dat 209 g alkyd-30 hars werd gemengd met 89 g benzoguanaminehars. De met deze foto-emulsie verkregen resultaten waren vergelijkbaar met die van voorbeeld 11, behalve dat de chemische bestendigheid tegen basen enigszins minder was.Example 11 was repeated except that 209 g of alkyd-30 resin was mixed with 89 g of benzoguanamine resin. The results obtained with this photoemulsion were similar to those of Example 11, except that the chemical resistance to bases was somewhat less.

35 Voorbeeld 13.35 Example 13.

Voorbeeld 11 werd herhaald onder toepassing van 180 g alkydhars en 120 g benzoguanaminehars. Opnieuw werden dezelfde gunstige eigenschappen verkregen, behalve dat 1002627 12 de flexibiliteit en chemische bestendigheid tegen basen enigszins minder was.Example 11 was repeated using 180 g of alkyd resin and 120 g of benzoguanamine resin. Again, the same favorable properties were obtained, except that the flexibility and chemical resistance to bases was somewhat less.

Voorbeeld 14.Example 14.

5 In plaats van een alkydhars werd in dit voorbeeld een polyesterhars (65% in methoxypropylacetaat) toegepast. 255 G polyesterhars werd met 55 g van de in voorbeeld 11 toegepaste benzoguanaminehars gemengd, verwarmd en vervolgens werd het warme mengsel in 200 g SPP H13 geëmul-10 geerd. De foto-emulsie was slechts enigszins plakkerig, bezat een redelijke natsterkte en goede chemische bestendigheid tegen zuren. De bestendigheid tegen oplosmiddelen en in het bijzonder tegen basen was minder.In this example, a polyester resin (65% in methoxypropyl acetate) was used instead of an alkyd resin. 255 g of polyester resin was mixed with 55 g of the benzoguanamine resin used in Example 11, heated and then the warm mixture was emulsified in 200 g of SPP H13. The photoemulsion was only slightly tacky, had reasonable wet strength and good chemical resistance to acids. The resistance to solvents and especially to bases was less.

15 Voorbeeld 15.15 Example 15.

Voorbeeld 14 werd herhaald onder toepassing van 237 g van een in hoge mate reactieve, verzadigde polyesterhars (zuurwaarde <18, vaste stof-gehalte 85% in isobutylace-taat). Dezelfde resultaten als in voorbeeld 14 werden 20 verkregen. De chemische bestendigheid tegen oplosmiddelen was echter enigszins slechter.Example 14 was repeated using 237 g of a highly reactive saturated polyester resin (acid value <18, solids content 85% in isobutyl acetate). The same results as in Example 14 were obtained. However, the chemical resistance to solvents was somewhat worse.

In onderstaande tabel 1 zijn de resultaten van bovenstaande vergelijkingsvoorbeelden en voorbeelden samenge-25 vat.Table 1 below summarizes the results of the above comparative examples and examples.

100-527 13100-527 13

Tabel 1. Resultaten.Table 1. Results.

Voor- Plakke- Nat- Chemische bestendigheid Flexibi- beeld righeid sterkte tegen 1 liteit oplos- zuren basen 5 middelenPre-Adhesive Wet Chemical Resistance Flexibility Strength Against 1 Lity Solvent Acids Bases 5 Agents

Verg.l zeer - slechtCompare very - bad

Verg.2 slecht I voldoende + ++ ++ + +/- 10 2 droog +/- + +/- - +/- 3 droog + ++ ++ +/- +/_ 4 droog +/- ++ ++ - +/- 5 voldoende + +/- ++ +/- +/- 6 voldoende + + ++ +/- +/- 15 7 voldoende ++ + ++ +/- +/~ 8 droog - ++ + - + 9 droog +/- +/- + ++ +/~ 10 droog ++ ++ ++ + ++ II droog ++ ++ ++ ++ ++ 20 12 droog ++ ++ ++ + ++ 13 droog ++ ++ ++ + + 14 voldoende +/- +/- ++ 15 voldoende +/- +/- ++ - 25 ++ * uitstekend; + = goed; +/- = voldoende; -/+ = onvoldoende; - = slecht; — = zeer slecht.Compare 2 bad I sufficient + ++ ++ + +/- 10 2 dry +/- + +/- - +/- 3 dry + ++ ++ +/- + / _ 4 dry +/- ++ + + - +/- 5 sufficient + +/- ++ +/- +/- 6 sufficient + + ++ +/- +/- 15 7 sufficient ++ + ++ +/- + / ~ 8 dry - ++ + - + 9 dry +/- +/- + ++ + / ~ 10 dry ++ ++ ++ + ++ II dry ++ ++ ++ ++ ++ 20 12 dry ++ ++ ++ + ++ 13 dry ++ ++ ++ + + 14 sufficient +/- +/- ++ 15 sufficient +/- +/- ++ - 25 ++ * excellent; + = good; +/- = sufficient; - / + = insufficient; - = bad; - = very bad.

1: Geteste oplosmiddelen waren aceton, butylacetaat, cyclohexaan, ethanol en xyleen.1: Solvents tested were acetone, butyl acetate, cyclohexane, ethanol and xylene.

30 Geteste zuren waren 5%'s azijnzuur en 5%'s zwavelzuur.Acids tested were 5% acetic acid and 5% sulfuric acid.

Geteste base was 5%'s natriumhydroxyde.Base tested was 5% sodium hydroxide.

- r o ?. 6 2 7- r o?. 6 2 7

Claims (12)

1. Fotogevoelige harssamenstelling, die een fotopoly-xneer en een polyesterhars omvat, met het kenmerk dat de samenstelling verder een harsbestanddeel omvat, dat gekozen is uit een aminohars en/of fenolhars. 5Photosensitive resin composition comprising a photopolymer and a polyester resin, characterized in that the composition further comprises a resin component selected from an amino resin and / or phenolic resin. 5 2. Fotogevoelige harssamenstelling volgens conclusie 1, met het kenmerk dat het fotopolymeer een met stilba-zolium geënte polyvinylalkohol is.The photosensitive resin composition according to claim 1, characterized in that the photopolymer is a stilvazol-grafted polyvinyl alcohol. 3. Samenstelling volgens conclusie l of 2, met het kenmerk dat de polyesterhars een thermohardende polyester is.Composition according to claim 1 or 2, characterized in that the polyester resin is a thermosetting polyester. 4. Samenstelling volgens één van de conclusies 1-3, 15 met het kenmerk dat de polyesterhars een alkydhars is.Composition according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the polyester resin is an alkyd resin. 5. Samenstelling volgens één van de voorgaande conclusies 1-4, met het kenmerk dat de samenstelling 20-80% alkydhars, 10-70% aminohars en 5-30% fotopolymeer omvat, 20 waarbij de percentages zijn uitgedrukt als percentage droge stof van de totaalsamenstelling.5. Composition according to any one of the preceding claims 1-4, characterized in that the composition comprises 20-80% alkyd resin, 10-70% amino resin and 5-30% photopolymer, the percentages being expressed as percent dry matter of the total composition. 6. Samenstelling volgens conclusie 5, met het kenmerk dat de samenstelling 40-75% alkydhars, 15-50% aminohars 25 en 9-17% fotopolymeer omvat.Composition according to claim 5, characterized in that the composition comprises 40-75% alkyd resin, 15-50% amino resin 25 and 9-17% photopolymer. 7. Samenstelling volgens één van de conclusies 1-6, met het kenmerk dat de alkydhars is gekozen uit een oxy-datief drogende alkydhars en/of een moffelalkydhars. 30Composition according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the alkyd resin is selected from an oxidatively drying alkyd resin and / or a stoving alkyd resin. 30 8. Samenstelling volgens één van de conclusies 1-7, met het kenmerk dat de aminohars benzoguanaminehars is.Composition according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the amino resin is benzoguanamine resin. 9. Fotogevoelige lak voor zeefdrukken, met het ken-35 merk dat de lak 35-50% van de fotogevoelige samenstelling volgens één van de conclusies 1-8 omvat, alsmede 1002627 40-75% water en 5-15% organisch oplosmiddel.Photosensitive lacquer for screen printing, characterized in that the lacquer comprises 35-50% of the photosensitive composition according to any one of claims 1-8, as well as 1002627 40-75% water and 5-15% organic solvent. 10. Fotogevoelige lak volgens conclusie 9, met het kenmerk dat het organisch oplosmiddel is gekozen uit de 5 groep die bestaat uit alkoholen, acetaten, glycolen en mengsels daarvan.Photosensitive lacquer according to claim 9, characterized in that the organic solvent is selected from the group consisting of alcohols, acetates, glycols and mixtures thereof. 11. Fotogevoelige lak volgens conclusie 9 of 10, met het kenmerk dat de lak ongeveer 45% van de basissamen- 10 stelling volgens één van de conclusies 1-8, ongeveer 45% water en ongeveer 10% organisch oplosmiddel bevat.Photosensitive lacquer according to claim 9 or 10, characterized in that the lacquer contains about 45% of the base composition according to any one of claims 1-8, about 45% water and about 10% organic solvent. 12. Zeefdrukstencil, omvattende een drager met daarop een fotogevoelige film van de fotogevoelige lak volgens 15 één van de conclusies 9-11. 1002527 wniNbii τν bnrMiiuw v cnunnu \r w · / RAPPORT BETREFFENDE NIEUWHEIDSONDERZOEK VAN INTERNATIONAAL TYPE IIOENDFIKATIE VAN OE NATIONALE AANVRAGE Kenmark van oe aanvrager ol van d· gemacnegoe 955116/JV/nbr Ne oenen om aanvrage nr.' inoienngsoaajm 1002627 15 maart 1996 Ingeroepen voorianguaum Aanvrager (Naam) STORK SCREENS B.V. 3aum van net verzoek voor een onoerzoek van mtemaaonaai type Door de insanM voor miemaionaei Onoerzoek (ISA) aan net verzoek voor een onoerzoek van ntemaoonaal type ©e gekend nr. SN 27292 NL . CLASSIFICATIE VAN HET ONDERWERP (bij ©e patong van vertcful lande datoftcaoat. alle ctatoficaoetym boten opgeven) tolgora de mamauraie aatoicaM (IPC) Int. Cl.6: G 03 F 7/038, G 03 F 7/12 . ONDERZOCHTE GEBIEDEN VAN DE TECHNIEK Onqerzoefwe minimum documentatie Classificatiesysteem I Classificanesvmoolon Int. Cl.6 G 03 F nerzochte anoere oocumena» can ae minimum Oocumenaee voor zover dergekjke Oocumanan m Oe onoerzocna gebeden qn genomen ! ! GEEN ONOERZOEK MOGELUK VOOR BEPAALDE CONCLUSIES (opmerkingen op aanvuilingspiad) !_' GEBREK AAN EENHEID VAN UITVINDING (opmerkinoen oo aanvullingsolad) I =-—-: _ j form PCT.1SA/’201iai C6 198412. Screen printing stencil, comprising a support with a photosensitive film of the photosensitive lacquer according to any one of claims 9-11. 1002527 wniNbii τν bnrMiiuw v cnunnu \ r w · / REPORT ON NEWNESS RESEARCH OF INTERNATIONAL TYPE II DISTRIBUTION OF OE NATIONAL APPLICATION Identifier of the applicant ol of d · gemacnegoe 955116 / JV / nbr Ne oen to application no. inoienngsoaajm 1002627 March 15, 1996 Invited for Jianguaum Applicant (Name) STORK SCREENS B.V. 3aum of net request for a search of mtemaaaiai type By the insMaM for miemaionaei Unsearch (ISA) to net request for a search of nnmoonoon type © e known nr SN 27292 NL. CLASSIFICATION OF THE SUBJECT (at © e patong of vertcful lande datoftcaoat. Specify all ctatoficaoetym boats) tolgora de mamauraie aatoicaM (IPC) Int. Cl. 6: G 03 F 7/038, G 03 F 7/12. FIELDS OF TECHNIQUE INVESTIGATED Onqerzoefwe minimum documentation Classification system I Classificanesvmoolon Int. Cl.6 G 03 F rerouted anoere oocumena »can ae minimum Oocumenaee insofar as such Oocumanan m Oe onoerzocna prayers qn taken! ! NO RESEARCH OPPORTUNITY FOR CERTAIN CONCLUSIONS (Comments on Pollution Path)! LACK OF UNITY OF INVENTION (Comment on Complementary Load) I = -—-: _ j form PCT.1SA / '201iai C6 1984
NL1002627A 1996-03-15 1996-03-15 Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer. NL1002627C2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1002627A NL1002627C2 (en) 1996-03-15 1996-03-15 Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer.
PCT/NL1997/000125 WO1997034198A1 (en) 1996-03-15 1997-03-12 Photosensitive resin composition and coating comprising said composition
AU20460/97A AU2046097A (en) 1996-03-15 1997-03-12 Photosensitive resin composition and coating comprising said composition
IDP970837A ID19647A (en) 1996-03-15 1997-03-14 RESIN PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COATING COMPOSITION

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1002627A NL1002627C2 (en) 1996-03-15 1996-03-15 Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer.
NL1002627 1996-03-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1002627C2 true NL1002627C2 (en) 1997-09-17

Family

ID=19762507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1002627A NL1002627C2 (en) 1996-03-15 1996-03-15 Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer.

Country Status (4)

Country Link
AU (1) AU2046097A (en)
ID (1) ID19647A (en)
NL (1) NL1002627C2 (en)
WO (1) WO1997034198A1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2030575A (en) * 1978-08-09 1980-04-10 Agency Ind Science Techn Photosensitive resin and method for manufacture thereof
EP0130804A2 (en) * 1983-06-30 1985-01-09 Kogyo Gijutsuin Photosensitive resin composition
US5045432A (en) * 1990-07-17 1991-09-03 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing both a poly(N-acylalkyleneimine) and an unsaturated polyester and use thereof in lithographic printing plates
US5053315A (en) * 1990-07-17 1991-10-01 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing an unsaturated polyester and use thereof in lithographic printing plates

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3481738A (en) * 1966-09-21 1969-12-02 Ball Brothers Co Inc Presensitized photoengraving plate and method of making same
JPS5637244B2 (en) * 1973-02-13 1981-08-29
JPH05127372A (en) * 1991-11-01 1993-05-25 Nippon Paint Co Ltd Lithographic printing photosensitive resin and resin composition

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2030575A (en) * 1978-08-09 1980-04-10 Agency Ind Science Techn Photosensitive resin and method for manufacture thereof
EP0130804A2 (en) * 1983-06-30 1985-01-09 Kogyo Gijutsuin Photosensitive resin composition
US5045432A (en) * 1990-07-17 1991-09-03 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing both a poly(N-acylalkyleneimine) and an unsaturated polyester and use thereof in lithographic printing plates
US5053315A (en) * 1990-07-17 1991-10-01 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing an unsaturated polyester and use thereof in lithographic printing plates

Also Published As

Publication number Publication date
WO1997034198A1 (en) 1997-09-18
AU2046097A (en) 1997-10-01
ID19647A (en) 1998-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6316517B1 (en) Radiation-polymerizable composition, flushing and grinding vehicle containing same
US4186069A (en) Photopolymerizable latex systems
US4273851A (en) Method of coating using photopolymerizable latex systems
CS232727B2 (en) Method of making aqueous dispersion of film-forming polymere
US4060656A (en) Support for photosensitive resin
KR100625398B1 (en) Stable aqueous polymer dispersions and a process for their preparation
FR2459273A1 (en) PAINT COMPOSITION CONTAINING POWDER PAINT DISPERSED IN AQUEOUS RESIN SOLUTION
WO1995028436A1 (en) Printing ink compositions, methods for making same and uses thereof
MXPA04010835A (en) Single phase aqueous energy curable compositions.
ZA200605349B (en) Homogenous aqueous energy curable metallic printing ink compositions
JPS6057057B2 (en) Photopolymerizable mixtures for producing printing plates and relief plates
JPS58122910A (en) Radiation-hardenable emulsion
US3928265A (en) Lacquer systems which are harmless to the environment
US4224398A (en) Photopolymerizable latex systems
NL1002627C2 (en) Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer.
US3933939A (en) Polyester with epoxy monomer, and a cross-linking monomer
NL1002628C2 (en) Photosensitive resin composition and this composition comprising lacquer.
JPH0665682B2 (en) Method for producing stable aqueous dispersion of polymer particles
US3772171A (en) Novel quick setting inks
US5011762A (en) Photosensitive compositions having enhanced photopolymerization rate
JPH0784370A (en) Photosensitive resin composition and photosensitive resin printing plate material
WO2016187363A1 (en) Emulsion composition for energy curable ink compositions and a printing process and method thereof
JP2001123100A (en) Ink composition
JPS6048353B2 (en) Surface treatment method for printed products
JPH07150073A (en) Resist material for marking surface of metal roll for rolling

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20001001