KR950004851Y1 - B-u type electron gun for crt - Google Patents
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
제1도는 종래의 전자총 구조 단면도.1 is a cross-sectional view of a conventional electron gun structure.
제2도는 종래 구성에서 노킹 공정시의 스파크 발생도.2 is a diagram showing spark generation in a knocking process in a conventional configuration.
제3도는 본 고안에 의한 전자총 구조 단면도.3 is a cross-sectional view of an electron gun structure according to the present invention.
제4도는 본 고안에서 노킹 공정시의 스파크 발생도.4 is a spark generation degree during the knocking process in the present invention.
제5(a)도는 전하량(qo)을 가진 하전입자가 전기력에 의해 경로 A-B를 움직일 때의 전위차 설명도, 제5(b)도는 전하량(qo)을 가진 하전입자가 외력에 의해 경로 a-b를 움직일 때의 전위차 설명도.5 (a) is an explanatory diagram of the potential difference when a charged particle having an amount of charge qo moves the path AB by an electric force. Figure of potential difference when
제6도는 본 고안의 특성 데이타를 살펴본 참고도.6 is a reference diagram that looks at the characteristic data of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
9,G4: 전극 10,G5: 전극9, G 4 : electrode 10, G 5 : electrode
11,G6: 전극 1a,G5-G6: 전극간격11, G 6 : electrode 1a, G 5 -G 6 : electrode spacing
2a,G4-G5: 전극간격2a, G 4 -G 5 : electrode spacing
본 고안은 B-U(Bi-Unipotential Focus)타입 전자총의 주정전렌즈를 구성하는 집속전극G3계 방전구조에 관련된 것으로서, 이는 특히 고전압이 인가되는 부분의 전극간 간격을 적절히 조정하여 노킹(Knocking)시 스피크를 고르게 발생되도록 함으로써 집속전극G3계 전극을 청결하게 유지할 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to a discharge structure of the focusing electrode G 3 system constituting the main electrostatic lens of a BU (Bi-Unipotential Focus) type electron gun, which is particularly adjusted at the time of knocking by appropriately adjusting the inter-electrode spacing at the portion where high voltage is applied. It is to keep the focusing electrode G 3 -type electrode clean by generating the speaker evenly.
종래의 전자총 집속전극G3계 방전구조는 도면 제1도에서와 같이 세개의 음극(4a)(4b)(4c)이 인라인형으로 배열되어 히터(5a)(5b)(5c)에 의해 고열이 발생되고 음극(4a)(4c)에서 열전자가 방출되며 이 열전자는 빔을 형성하여 각 전극을 거치면서 G1전극(6)에 의해 제어되고 G2전극(7)에 의해 가속되며 주렌즈를 형성하는 집속전극G3전극(8)과 집속전극G5전극(10) 및 접속전극G4전극(9)과 집속전극G6전극(11) 및 쉴드컵(12)을 통과하여 패널편의 형광체를 발광시켜 화면을 구성하게 된다.In the conventional electron gun focusing electrode G three- based discharge structure, as shown in FIG. 1, three cathodes 4a, 4b, and 4c are arranged inline, and high heat is generated by the heaters 5a, 5b, and 5c. And hot electrons are emitted from the cathodes 4a and 4c, which form a beam that is controlled by the G 1 electrode 6 as it passes through each electrode and is accelerated by the G 2 electrode 7 to form the main lens. The fluorescent material of the panel piece is emitted through the focusing electrode G 3 electrode 8, the focusing electrode G 5 electrode 10, the connecting electrode G 4 electrode 9, the focusing electrode G 6 electrode 11, and the shield cup 12. To compose the screen.
상기의 각 전극들은 절연체인 비드글라스에 의해 일정 간격으로 융착 고정되고 집속전극G3전극과 G5전극에는 약 6.5∼10.5[KV]정도의 중간 전압이 인가되며 가속전극 G4전극과 G6전극에는 약 20∼25[KV]정도의고전압이 인가되므로 가속전극G4전극 및 G6전극과, 집속전극G3전극 및 G4전극 사이에 전압차이가 현저하게 방전현상이 발생된다.The electrodes are fused and fixed at regular intervals by an insulator bead glass, and an intermediate voltage of about 6.5 to 10.5 [KV] is applied to the focusing electrodes G 3 and G 5 electrodes, and the accelerating electrodes G 4 and G 6 electrodes. Since a high voltage of about 20 to 25 [KV] is applied, a voltage difference is remarkably generated between the accelerating electrodes G 4 and G 6 electrodes and the focusing electrodes G 3 electrodes and G 4 electrodes.
이때의 방전현상은 두가지로 대별될 수 있으며, 그 첫째는 화면상에 나타나는 잔상인 에스-스트레이(A-Stray)이고, 둘째는 전자총이 삽입되는 네크부에 나타나는 발광현상인 비-스트레이(B-Stray)로 나타날 수 있는데, 이러한 방전현상은 전자총 전극에서 발생되는 냉전자가 네크부에 부딪쳤을 때 비-스트레이, 스크린에 부딪쳤을 때 에이-스트레이의 현상으로 나타난다.At this time, the discharge phenomenon can be roughly classified into two types, the first is A-Stray, which is an afterimage appearing on the screen, and the second is non-stray, which is a light emission phenomenon appearing on the neck portion into which an electron gun is inserted. This discharge phenomenon appears as a phenomenon of non-stray when cold electrons generated at the electron gun electrode hit the neck portion and A-stray when hitting the screen.
특히, 이러한 방전현상은 전극전압 차이에 의하여 발생되는 형태는 3가지가 있다.In particular, the discharge phenomenon is generated in three forms due to the electrode voltage difference.
첫째로, 양극전압과 집속전압의 차이에 의하여 발생되는 집속전극G3계 스트레이와, 둘째로, 집속전압과 가속전극G2계의 전압차이에 의하여 발생되는 가속전극G2계 스트레이와, G2계 가속전압과, G1전극측의 제어전압차에 의하여 발생되는 G1계 스트레이를 들 수 있다.Firstly, the focusing electrode G 3 system stray generated by the difference between the anode voltage and the focusing voltage, and secondly, the acceleration electrode G 2 system stray generated by the voltage difference between the focusing voltage and the accelerating electrode G 2 system, and G 2. And G 1 strays generated by the system acceleration voltage and the control voltage difference on the G 1 electrode side.
이러한 현상에의하여 제1도예의 종래 기술에서는 가속전압이 가속전극G4전극과 G6전극에 가해지고, 집속전압이 집속전극G3전극 및 G5전극에 인가되는 형태로 이뤄져 있기 때문에 G3계 스트레이가 매우 취약한 구조로 되어 있다.The by these symptoms prior art of the first ceramic acceleration voltage of the accelerating electrode G 4 electrode G is applied to the six electrodes, since yirwojyeo to form the focusing voltage applied to the focusing electrode G 3 electrodes and G 5 electrode G 3 based Stray is very fragile.
또, 전자총이나 네크부에 이물이 붙어있을 경우, 이에 의하여 동작 특성을 열화시키는 방전 현상이 특히 심하게 나타나므로 문제가 되어왔다.In addition, when foreign matter adheres to the electron gun or the neck portion, there has been a problem because a discharge phenomenon that causes deterioration of operation characteristics is particularly severe.
그러므로, 이러한 방전 현상을 제거하기 위해 전자총을 깨끗하게 해야 하는데 그 작업에는 한계가 있으므로 노킹(Knocking)이라는 공정을 통해 전자총을 청결하게 하는 클린업(Clean Up)작업을 시키고 있다.Therefore, in order to remove such discharge phenomenon, the electron gun needs to be cleaned. However, there is a limit to the operation of the electron gun. Therefore, a clean up operation is performed to clean the electron gun through a process called knocking.
제2도는 에이징 전에 실시하는 일반적인 노킹 공정의 전압인가도를 나타낸 것으로서 가속전극G4전극(9) 및 G6전극(11)에 60∼80[KV]정도의 고전압이 안기되고, 기타의 전극G1, G2, G3, G5전극들은 접지시켜 전극G3, G4전극간격(3)과 전극G4, G5전극 간격(2) 및 전극G6전극과 전극G6전극 간격(1)에서 강제 스파크를 발생시키므로써 전자총에 묻은 이물 등을 제거하게 된다.2 shows a voltage application diagram of a general knocking step performed before aging. A high voltage of about 60 to 80 [KV] is placed on the acceleration electrode G 4 electrode 9 and the G 6 electrode 11, and other electrodes G are shown. 1, G 2, G 3, G 5 electrodes to a ground electrode G 3, G 4 electrode gap 3 and the electrode G 4, G 5 the distance between electrodes 2 and the electrode G 6 electrode and the electrode G 6 electrode spacing (1 ), A forced spark is generated to remove foreign matters from the gun.
그러나 상기의 종래 구성에서는 G3∼G4전극간격(3), G4∼G5전극간격(2), G6∼G6전극간격(1)은 거의 동일하게 구성되어져 있다. 그리고, 노킹시에는 G4전극 및 G6전극에는 고전압이 인가되어지고 G3, G5, G2, G1전극에는 접지가 되어 있으므로 전 노킹 공정에서의 스파크 현상은 G6전극에서 G5전극쪽으로, G4전극에서 G3전극쪽으로, G4전극에서 G5전극쪽으로 발생해야 하나 종래와 같은 전극 간격구조에서는 G3, G4전극간 스파크(31)와 G4, G5전극간 스파크(21)만 발생하고 G5, G6전극간 스파크(41)는 발생하지 않게 된다.However, in the above conventional configuration, the G 3 to G 4 electrode gap 3, the G 4 to G 5 electrode gap 2, and the G 6 to G 6 electrode gap 1 are configured in almost the same way. And, being, the application of high voltages to G 4 electrode and G 6 electrode at the time of knocking G 3, G 5, G 2, the spark phenomenon at the former knocking process G 1 electrode, because it is the ground G 5 electrode in G 6 electrode side, in the G 4 electrode side G 3 electrode, G one should occur towards the G 5 electrode from the fourth electrode in the electrode spacing structures, such as conventional G 3, G 4, inter-electrode spark 31 and G 4, G 5 inter-electrode spark ( 21 only occurs, and the spark between the G 5 and G 6 electrodes 41 does not occur.
상기와 같은 이유의 첫째로는, 상기 G4전극은 판상전극으로 구성되어 G3전극과 G4전극, G4전극과 G5전극간격의 조립오차가 클수 밖에 없고, 이에 의하여 상대적으로 G5전극과 G6전극과의 간격보다 작은 부분이 나타날 수 밖에 없은 것이며, 이 작은 간격 부분에서 강제 스파크가 먼저 일어나게 되는 것이다.First of all, the G 4 electrode is composed of a plate electrode, so that the assembly error between the G 3 electrode and the G 4 electrode, and the G 4 electrode and the G 5 electrode is large, and thus, the G 5 electrode is relatively high. The smaller part of the gap between the and G 6 electrodes is inevitably shown, and the forced spark occurs first in this small gap.
또, 둘째로는 G4전극 주위에는 노킹시 접지가 되기 때문에 방전 현상이 쉽게 일어나며, 이러한 이유에 의하여 G4전극을 중심으로 강제 스파크는 활발하게 일어나고, G5전극과 G6전극 간격 부근에 에서는 미세하게 일어난다.The second is that G 4 electrode is surrounded by a discharge phenomenon, since the ground when knocking occurs easily, going on to this by reason around a G 4 electrode force shavings active, in the vicinity of G 5 electrode and G 6 electrode gap Occurs finely
따라서 전 노킹공정은 전체적으로 G3, G5전극을 클린업시키는 것이 목적인데 G5전극은 클린업되지 않게 되는 문제점이 있었다.Therefore, the entire knocking process aims to clean up the G 3 and G 5 electrodes as a whole, but there is a problem that the G 5 electrodes are not cleaned up.
본 고안은 상기 문제점을 개선하기 위해 안출한 것으로서 이것은 특히, 고전압이 인가되는 부분인 G4, G5전극간 간격을 G5, G6전극간 간격보다 크게 설명하여 구성하는 것을 특징으로 하며 이를 첨부 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.The present invention has been devised to improve the above problems, which is characterized in that, in particular, configured to explain the gap between the G 4 , G 5 electrode which is a portion to which a high voltage is applied larger than the gap between the G 5 , G 6 electrode and attached thereto When described in detail by the drawings as follows.
즉, 도면 제3도에서와 같이 고전압이 인가되는 부분인 G4전극(9)와 G5전극간(10)간 간격(2a)을 G5전극(10)과 G6전극(11)간의 간격(1a)보다 크게 넓혀서 강제 스파크 현상(42)을 G6∼G5전극 간격(1a)사이로 유도되도록 구성하며 최적의 노킹효과를 얻기 위하여 G4전극(10)과 G6전극(11)간의 간격보다 1.5배 이상 2.5배 이하로 한다.That is, as shown in FIG. 3, the interval 2a between the G 4 electrode 9 and the G 5 electrode 10, which is a portion to which a high voltage is applied, is spaced between the G 5 electrode 10 and the G 6 electrode 11. It is configured to be wider than (1a) so that the forced spark phenomenon 42 is guided between the G 6 to G 5 electrode gaps 1a, and the gap between the G 4 electrodes 10 and the G 6 electrodes 11 to obtain an optimal knocking effect. It is 1.5 times or more and 2.5 times or less.
이와 같이 구성되는 전차총의 강제 스파크 현상을 설명하면, 우선 도면 제5도에서와 같이 어떤 전하(qo)를 가진 한 입자가 임의의 경로를 따라서 점A(혹은 a)에서 점B(혹은 b)로 움직이고 있다고 가정할 때, 그 입자에 작용하는 힘은 제5(a)도 도면과 같은 전원에 의한 전기력과 외부에서 가하는 제5(a)도 도면과 같은 외력으로 나눌 수 있으며, 그때 입자의 운동에너지가 없다는 가정하에서 외부에서 그 입자에 해준 일을(WA-B)ext라 할때 점 A(혹은 a)와 점 B(b)간의 전위차 VA-VB=(WA-B)ext/qo가 된다. 그래서 전위의 변화 VA-VB는 점 A에서 점 B로 대전된 입자가 움직일 때 그 입자의 운동 에너지의 변화없이 단위견하당 외부에서 해준 일과 같으며 일(WA-B)ext은 전기장(E)에 의해서 해준 일(WA-B)의 반대 부호와 같다.Referring to the forced spark phenomenon of the tank gun configured as described above, first, as shown in FIG. 5, a particle having a certain charge qo is located at a point B (or b) at a point A (or a) along an arbitrary path. Assuming that it is moving by, the force acting on the particle can be divided into the electric force by the power source as shown in Fig. 5 (a) and the external force as shown in Fig. 5 (a) Assuming that there is no energy, the external work done to the particle (W AB ) ext is the potential difference between point A (or a) and point B (b) V A -V B = (W AB ) ext / qo . Thus, the change in potential V A- V B is the same as the work done outside the unit shoulder without changing the kinetic energy of the particle charged from point A to point B, and the work (W AB ) ext is the electric field (E). Same as the opposite of the work done by W AB .
즉, 가해준 힘에 의해 견하에 해준 일은 그 입자의 운동 에너지의 변화와 같아야 한다.In other words, the work done by the force applied should be equal to the change in the kinetic energy of the particle.
그런데, 운동 에너지의 변화가 없으므로 (WA-B)ext+(WA-B)E=0 또는, (WA-B)ext=-(WA-B)E가 된다.However, since there is no change in the kinetic energy, (W AB ) ext + (W AB ) E = 0 or (W AB ) ext = − (W AB ) E.
그래서 전위의 차이 VA-B=-(WA-B)E/qo이고, (WA-B)E=qO E·ds와 같으므로 VA-VB=qo E·ds=qo E·ds이다.So the difference in potential V AB =-(W AB ) E / qo, (W AB ) E = Since qO E · ds, V A -V B = qo Eds = qo E · ds.
그러므로 전기장의 세기(E)는 VA-VB에 비례하며 거리(d)에 반비례한다.Therefore, the electric field strength E is proportional to V A -V B and inversely proportional to the distance d.
따라서, 상기의 원리에 의해 G4전극(9)과 G5전극(10) 간의 간격(2a)을 G5전극(10)과 G6전극(11) 간의 간격(1a)보다 1.5배 이상 2.5배 이하로 넓혀 G4, G5전극간의 전기장의 세기(E)를 약화시킴으로써 G5, G6전극간 간격(1a)에서 강제 스파크(12)가 발생하게 되는 것이다.Therefore, according to the above principle, the spacing 2a between the G 4 electrode 9 and the G 5 electrode 10 is 1.5 to 2.5 times larger than the spacing 1a between the G 5 electrode 10 and the G 6 electrode 11. The forced spark 12 is generated in the gap 1a between the G 5 and G 6 electrodes by widening below to weaken the intensity E of the electric field between the G 4 and G 5 electrodes.
일예로, 제6도예의 표시에 X축은 G4전극과 G5전극과의 간격(Gap)을 나타내며, 왼쪽 Y축은 G3계 에이-스트레이 불량을 나타내고, 오른쪽 Y축은 비점수차(Astigmatism)을 나타낸다.As an example, the display of the sixth ceramic represents the interval (Gap) of the X axis and G 4 electrode and G 5 electrode, the left Y-axis G 3 based A-represents the stray poor shows a right Y-axis astigmatism (Astigmatism) .
상기 비점수차는 스크린 해상도 특성을 나타내는 것으로서 보통 전자빔의 수평집속 전압 값과 수직집속 전압값을 말하며, 이는 보통 +300V이내로 관리된다.The astigmatism is a screen resolution characteristic, and usually refers to a horizontal focusing voltage value and a vertical focusing voltage value of an electron beam, which are usually managed within + 300V.
또, 여기서는 G4전극과 G5전극 간격이 커질수록 G3계 스트레이 불량율은 줄어들다가 2.5배 이상이 되면 거의 예외 없이 나타난다. 하지만 간격이 커지면 커질수록 비점수차가 증가되어 집속전압을 조정하여도 조정되지 않는 영역은 2.7배 이상에서 이다.In this case, as the gap between the G 4 electrode and the G 5 electrode increases, the G 3 stray defect rate decreases, and when the value exceeds 2.5 times, the appearance is almost without exception. However, as the distance increases, the astigmatism increases, and the area that is not adjusted even after adjusting the focusing voltage is 2.7 times or more.
그러므로, G4전극과 G5전극 간격이 G3전극과 G4전극 또는 G5전극과 G6전극의 간격 보다 2.5배 이하이어야 G3계 스트레이를 개선 할 수 있게 되는 것이다.Therefore, the G 3 electrode and the G 5 electrode spacing should be 2.5 times or less than the gap between the G 3 electrode and G 4 electrode or the G 5 electrode and G 6 electrode to improve the G 3 stray.
따라서, 본 고안은 B-U(Bi-Unipotential Focus) 타입 전자총의 G5전극과 G6전극의 간격(1a)에서 강제 스파크(42)를 발생시켜 줌으로써 G3계 방전구조에서 보다 향상된 노킹효과를 얻을 수 있게 되는 것이다.Therefore, the present invention generates a forced spark 42 at the interval 1a between the G 5 electrode and the G 6 electrode of a BU (Bi-Unipotential Focus) type electron gun, thereby achieving a better knocking effect in the G 3- based discharge structure. Will be.
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Family Applications (1)
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1992
- 1992-07-13 KR KR92012904U patent/KR950004851Y1/en not_active IP Right Cessation
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KR940004287U (en) | 1994-02-24 |
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