KR20240022648A - Systems and methods for testing MEMS arrays and associated ASICs - Google Patents

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KR20240022648A
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조나단 스트로드
라지브 시바다산
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엑소 이미징, 인크.
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Abstract

본원에서 설명된 것은 트랜스듀서들 및 연관된 집적 회로들을 테스트하기 위한 방법들 및 시스템들이다. 일부 경우들에는, 본원에서 설명된 방법 또는 시스템은 트랜스듀서 어레이의 복수의 트랜스듀서들을 병렬로 테스트할 시에 유용한 변조된 바이어스 전압 신호를 생성하기 위하여, 테스트 신호를 이용하여 바이어스 전압을 변조하는 것을 포함할 수 있다.Described herein are methods and systems for testing transducers and associated integrated circuits. In some cases, a method or system described herein includes modulating a bias voltage using a test signal to generate a modulated bias voltage signal useful when testing multiple transducers in a transducer array in parallel. It can be included.

Description

MEMS 어레이들 및 연관된 ASIC들을 테스트하기 위한 시스템들 및 방법들Systems and methods for testing MEMS arrays and associated ASICs

본 출원은 특히, 초음파(ultrasound)에 의한 것과 같은 의학적 이미징(medical imaging)을 위한 의학적 시스템들, 방법들, 및 시스템들에 관한 것이다.This application relates particularly to medical systems, methods, and systems for medical imaging, such as by ultrasound.

최근에 개발되고 상업화된 초음파 기술들은 전통적인 압전 트랜스듀서(piezoelectric transducer)들, 예를 들어, PZT 트랜서듀서들에 비해 수많은 장점들을 가질 수 있는 MEMS(microelectromechanical systems : 마이크로전기기계 시스템들) 초음파 트랜서듀서들의 어레이들을 이용하였다. 초음파 MEMS 어레이들은 pMUT(piezoelectric micromachined ultrasound transducer : 압전 마이크로가공된 초음파 트랜서듀서)들 및 cMUT(capacitive micromachined ultrasound transducer : 용량성 마이크로가공된 초음파 트랜서듀서)들과 같은 초음파 트랜서듀서들의 대형 어레이를 포함할 수 있다. 이 어레이들은 전형적으로, ASIC(application specific integrated circuit : 애플리케이션 특정 집적 회로) 상에 장착되고, 많은 경우들에는, 각각의 초음파 트랜스듀서가 그것이 기능적이라는 것을 보장하기 위하여 테스트될 필요가 있다. 제조 동안에 발생할 수 있는 고장들은 그 중에서도, 파단된 멤브레인(broken membrane)을 가지는 MEMS 디바이스, 단락되거나, ASIC에 대한 접속이 약하거나 비-존재하는 MEMS 디바이스를 포함할 수 있다. 현존하는 기술들을 이용하는 초음파 MEMS 어레이들의 테스팅은 예를 들어, 복잡하고 시간-소모적인데, 그 이유는 현재의 테스팅 기술들이 테스트가능한 출력을 생성하기 위하여 트랜스듀서들이 기계적(예컨대, 초음파) 자극을 받을 것을 요구하기 때문이다. 그렇게 행하는 것은 테스트 환경에서 기술적으로 도전일 수 있음과 동시에 고가일 수 있다.Recently developed and commercialized ultrasonic technologies include MEMS (microelectromechanical systems) ultrasonic transducers, which can have numerous advantages over traditional piezoelectric transducers, such as PZT transducers. Arrays were used. Ultrasound MEMS arrays can include large arrays of ultrasound transducers, such as piezoelectric micromachined ultrasound transducers (pMUTs) and capacitive micromachined ultrasound transducers (cMUTs). there is. These arrays are typically mounted on application specific integrated circuits (ASICs), and in many cases, each ultrasound transducer needs to be tested to ensure that it is functional. Failures that may occur during manufacturing may include, among other things, MEMS devices with broken membranes, shorted, or weak or non-existent connections to the ASIC. Testing of ultrasonic MEMS arrays using existing technologies, for example, is complex and time-consuming because current testing techniques require the transducers to be mechanically (e.g., ultrasonic) stimulated to produce a testable output. Because it is demanded. Doing so can be both technically challenging and expensive in a test environment.

본원에서 개시되는 방법들 및 시스템들은 초음파 MEMS 트랜스듀서 어레이들 및 연관된 ASIC들을 테스트하기 위한 비용 및 복잡도를 극적으로 감소시킨다. 일부 양태들에서, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법은 변조된 바이어스 전압 신호를 생성하기 위하여 테스트 신호를 바이어스 전압 신호에 적용하는 단계; 변조된 바이어스 전압 신호를 초음파 트랜스듀서 어레이에 제공하는 단계; 초음파 트랜스듀서 어레이의 출력 신호를 측정하는 단계; 및 측정된 출력 신호가 예상된 출력 제한들의 세트 내에 있는지 여부를 결정하는 단계를 포함한다. 일부 경우들에는, 출력 신호가 초음파 트랜스듀서 어레이의 MEMS 트랜스듀서 또는 저잡음 증폭기(LNA : low-noise amplifier)로부터 측정된다. 일부 경우들에는, 방법은 초음파 트랜스듀서 어레이의 행(row)의 각각의 MEMS 트랜스듀서 또는 LNA에 대한 측정 및 결정을 병렬로 수행하는 단계를 더 포함한다. 일부 경우들에는, 방법은 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 행에 대한 측정 및 결정을 순서대로 수행하는 단계를 더 포함한다. 일부 경우들에는, 방법은 초음파 트랜스듀서 어레이의 열(column)의 각각의 MEMS 트랜스듀서 또는 LNA에 대한 측정 및 결정을 병렬로 수행하는 단계를 더 포함한다. 일부 경우들에는, 방법은 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 열에 대한 측정 및 결정을 순서대로 수행하는 단계를 더 포함한다. 일부 경우들에는, 방법은 예상된 출력 제한들의 세트 내에 있지 않는 것으로 결정되는 측정된 출력 신호들의 총 수에 기초하여 총 에러 수를 결정하는 단계를 더 포함한다. 일부 경우들에는, 방법은 총 에러 수가 에러 카운트 제한을 초과하는 경우에, 초음파 트랜스듀서 어레이를 거절된 것으로서 식별하는 단계를 더 포함한다. 일부 경우들에는, 예상된 출력 제한들의 세트가 예상된 출력 전압 진폭 값의 30 % 내의 출력 전압 진폭을 포함한다. 일부 경우들에는, 예상된 출력 제한들의 세트가 예상된 신호 주파수 값의 5 % 내의 신호 주파수를 포함한다.The methods and systems disclosed herein dramatically reduce the cost and complexity for testing ultrasonic MEMS transducer arrays and associated ASICs. In some aspects, a method for testing a transducer array includes applying a test signal to a bias voltage signal to generate a modulated bias voltage signal; providing a modulated bias voltage signal to an ultrasonic transducer array; Measuring the output signal of the ultrasonic transducer array; and determining whether the measured output signal is within a set of expected output limits. In some cases, the output signal is measured from a MEMS transducer or low-noise amplifier (LNA) of an ultrasonic transducer array. In some cases, the method further includes performing measurements and determinations in parallel on each MEMS transducer or LNA of a row of the ultrasonic transducer array. In some cases, the method further includes performing measurements and determinations for each row of the ultrasonic transducer array in sequence. In some cases, the method further includes performing measurements and determinations in parallel for each MEMS transducer or LNA of a column of the ultrasonic transducer array. In some cases, the method further includes sequentially performing measurements and determinations for each row of the ultrasonic transducer array. In some cases, the method further includes determining a total number of errors based on the total number of measured output signals that are determined to be not within the set of expected output limits. In some cases, the method further includes identifying the ultrasonic transducer array as rejected if the total number of errors exceeds an error count limit. In some cases, the set of expected output limits includes an output voltage amplitude within 30% of the expected output voltage amplitude value. In some cases, the set of expected power limits includes a signal frequency within 5% of the expected signal frequency value.

다양한 양태들에서, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템은 복수의 MEMS 트랜스듀서들을 포함하는 초음파 트랜스듀서 어레이; 바이어스 전압 신호 소스; 바이어스 전압 신호 소스 및 초음파 트랜스듀서 어레이에 직렬로 접속되는 테스트 전압 신호 소스; 초음파 트랜스듀서 어레이의 출력 신호를 측정하는 단계; 및 측정된 출력 신호가 예상된 출력 제한들의 세트 내에 있는지 여부를 결정하는 단계를 수행하도록 구성되는 하나 이상의 제어기들; 초음파 트랜스듀서 어레이 및 하나 이상의 제어기들과 직렬로 접속되는 복수의 저잡음 증폭기(LNA)들을 포함한다. 일부 경우들에는, 출력 신호는 초음파 트랜스듀서 어레이의 MEMS 트랜스듀서 또는 LNA 중의 하나 이상으로부터 측정된다. 일부 경우들에는, 제어기는 초음파 트랜스듀서 어레이의 행의 각각의 MEMS 및 LNA에 대한 측정 및 결정을 병렬로 수행하도록 구성된다. 일부 경우에는, 제어기는 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 행에 대한 측정 및 결정을 순서대로 수행하도록 구성된다. 일부 경우들에는, 제어기는 초음파 트랜스듀서 어레이의 열의 각각의 MEMS 및 LNA에 대한 측정 및 결정을 병렬로 수행하도록 구성된다. 일부 경우들에는, 제어기는 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 열에 대한 측정 및 결정을 순서대로 수행하도록 구성된다. 일부 경우들에는, 제어기는 또한, 예상된 출력 제한들의 세트 내에 있지 않는 것으로 결정되는 측정된 출력 신호들의 총 수에 기초하여 총 에러 수를 결정하도록 구성된다. 일부 경우들에는, 제어기는 또한, 총 에러 수가 에러 카운트 제한을 초과하는 경우에, 초음파 트랜스듀서 어레이를 거절된 것으로서 식별하도록 구성된다. 일부 경우들에는, 예상된 출력 제한들의 세트가 예상된 출력 전압 진폭 값의 30 % 내의 출력 전압 진폭을 포함한다. 일부 경우들에는, 예상된 출력 제한들의 세트가 예상된 신호 주파수 값의 5 % 내의 신호 주파수를 포함한다.In various aspects, a system for testing a transducer array includes an ultrasonic transducer array comprising a plurality of MEMS transducers; bias voltage signal source; a test voltage signal source connected in series to the bias voltage signal source and the ultrasonic transducer array; Measuring the output signal of the ultrasonic transducer array; and one or more controllers configured to perform the step of determining whether the measured output signal is within a set of expected output limits; It includes a plurality of low noise amplifiers (LNAs) connected in series with an ultrasonic transducer array and one or more controllers. In some cases, the output signal is measured from one or more of a MEMS transducer or LNA of an ultrasonic transducer array. In some cases, the controller is configured to perform measurements and decisions on each MEMS and LNA in a row of the ultrasonic transducer array in parallel. In some cases, the controller is configured to perform measurements and decisions for each row of the ultrasonic transducer array in sequence. In some cases, the controller is configured to perform measurements and decisions in parallel for each MEMS and LNA of the array of ultrasonic transducers. In some cases, the controller is configured to perform measurements and decisions for each row of the ultrasonic transducer array in sequence. In some cases, the controller is also configured to determine the total number of errors based on the total number of measured output signals that are determined to be not within the set of expected output limits. In some cases, the controller is also configured to identify the ultrasonic transducer array as rejected if the total number of errors exceeds the error count limit. In some cases, the set of expected output limits includes an output voltage amplitude within 30% of the expected output voltage amplitude value. In some cases, the set of expected power limits includes a signal frequency within 5% of the expected signal frequency value.

본 요지의 특징들 및 장점들의 더 양호한 이해는 발명의 원리들이 사용되는 예시적인 실시예들을 기재하는 다음의 상세한 설명 및 그 첨부 도면들을 참조하여 획득될 것이다:
도 1은 실시예들에 따른, 핸드헬드 초음파 프로브(handheld ultrasound probe)의 개략도를 도시한다.
도 2a는 실시예들에 따른, 트랜스듀서 어레이의 개략도를 도시한다.
도 2b는 실시예들에 따른, 트랜스듀서 어레이의 사시도를 도시한다.
도 2c는 실시예들에 따른, 트랜스듀서 어레이의 개략도를 도시한다.
도 3은 실시예들에 따른, 테스팅 회로의 도면을 도시한다.
도 4는 실시예들에 따른, 테스팅 회로의 도면을 도시한다.
도 5는 실시예들에 따른, 테스팅 프로세스들의 블록도를 도시한다.
A better understanding of the features and advantages of the subject matter will be obtained by reference to the following detailed description and accompanying drawings, which set forth exemplary embodiments in which the principles of the invention are utilized:
1 shows a schematic diagram of a handheld ultrasound probe, according to embodiments.
2A shows a schematic diagram of a transducer array, according to embodiments.
Figure 2B shows a perspective view of a transducer array, according to embodiments.
Figure 2C shows a schematic diagram of a transducer array, according to embodiments.
3 shows a diagram of a testing circuit, according to embodiments.
4 shows a diagram of a testing circuit, according to embodiments.
Figure 5 shows a block diagram of testing processes, according to embodiments.

본원에 개시된 것은 초음파 트랜스듀서 어레이들의 개선된 테스트를 위한 방법들 및 시스템들이다. 예를 들어, 본원에서 설명된 방법들 및 시스템들은, 초음파 트랜스듀서 이미저(imager) 시스템 또는 그 부분의 바이어스 전압의 변조가 초음파 트랜스듀서 이미저의 초음파 트랜스듀서 어레이 및 애플리케이션-특정 집적 회로(ASIC)를 테스트하는 시간, 비용, 및 기술적 어려움을 극적으로 감소시킬 수 있다는 것을 포함한다. 초음파 트랜스듀서 이미저 시스템의 바이어스 전압을 변조하는 것은 복수의 초음파 이미저 시스템 트랜스듀서들(예컨대, MEMS 엘리먼트들) 및 일부 경우들에는, 그 트랜스듀서들과 연관된 애플리케이션-특정 집적 회로(ASIC)들의 접속들 및 구성의 동시 조사(interrogation)를 허용할 수 있다. 일부 경우들에는, 바이어스 전압을 변조하는 것은, 정밀한 기계적 입력을 (예컨대, 특화된 테스팅 장비를 이용하여) 어레이(또는 그 테스트된 부분)의 각각의 트랜스듀서 엘리먼트(예컨대, MEMS 엘리먼트)에 적용하기 위한 필요성을 회피하면서, 초음파 이미저 회로부의 접속들 및 구성의 조사를 허용한다. 초음파 이미저 시스템 컴포넌트들을 테스트하는 시간 및 복잡도에서의 감소들은, 예컨대, 본원에서 설명된 바와 같이, 생산의 비용을 상당히 감소시킬 수 있고 품질 제어를 개선시킬 수 있다.Disclosed herein are methods and systems for improved testing of ultrasonic transducer arrays. For example, the methods and systems described herein may include modulating the bias voltage of an ultrasonic transducer imager system or portion thereof using an ultrasonic transducer array and an application-specific integrated circuit (ASIC) of the ultrasonic transducer imager. This includes dramatically reducing the time, cost, and technical difficulty of testing. Modulating the bias voltage of an ultrasonic transducer imager system may be performed using a plurality of ultrasonic imager system transducers (e.g., MEMS elements) and, in some cases, application-specific integrated circuits (ASICs) associated with the transducers. May allow interrogation of connections and configurations. In some cases, modulating the bias voltage may be used to apply a precise mechanical input (e.g., using specialized testing equipment) to each transducer element (e.g., MEMS element) of the array (or tested portion thereof). Allows examination of the connections and configuration of the ultrasonic imager circuitry, while avoiding the need for this. Reductions in the time and complexity of testing ultrasonic imager system components, for example, as described herein, can significantly reduce the cost of production and improve quality control.

디바이스들devices

일부 경우들에는(예컨대, 도 1에서 도시된 바와 같이), 초음파 이미저 시스템은: 예컨대, 압력 파(pressure wave)들을 송신하고 수신하기 위한 트랜스듀서 어레이(101)(예를 들어, 복수의 트랜스듀서 엘리먼트들을 각각 포함할 수 있는 하나 이상의 트랜시버 타일(transceiver tile)들을 포함함); 압력 파들의 전파 방향을 설정하고 및/또는 압력 파들을 포커싱(focusing)하기 위한 렌즈(lens)로서 동작할 수 있고, 트랜시버 타일과 인간 신체(110) 사이에서 음향 임피던스 인터페이스로서 또한 기능하는 코팅 층(212); 트랜시버 타일(들)(101)을 제어하기 위한, ASIC 칩(또는 간략하게 ASIC)과 같은 제어 유닛(202); 예컨대, 초음파 이미저 시스템의 컴포넌트들을 제어하기 위한 필드 프로그래밍가능 게이트 어레이(FPGA : Field Programmable Gate Array)들(214); 예컨대, 신호들을 프로세싱/조절하기 위한, 아날로그 프론트 엔드(AFE : Analogue Front End)와 같은 회로(들)(215); 예컨대, 회로(215)를 향해 전파할 수 있는, 트랜스듀서 타일들(210)에 의해 생성되는 파들을 흡수하기 위한 음향 흡수기 층(203); 예컨대, 무선으로 또는 하나 이상의 포트들(216)을 통해 외부 디바이스와 데이터를 통신하기 위한 통신 유닛(208); 예컨대, 데이터를 저장하기 위한 메모리(218); 전기적 전력을 이미저의 컴포넌트들에 제공하기 위한 배터리(206); 및 임의적으로, 예컨대, 환자의 내부 기관(organ)들과 같은 타깃 객체들의 이미지들을 디스플레이하기 위한 디스플레이(217)를 포함할 수 있다.In some cases (e.g., as shown in FIG. 1), an ultrasonic imager system may include: a transducer array 101 (e.g., a plurality of transducers) for transmitting and receiving pressure waves; Contains one or more transceiver tiles, each of which may include deducer elements); A coating layer ( 212); a control unit 202, such as an ASIC chip (or ASIC for short), for controlling the transceiver tile(s) 101; For example, Field Programmable Gate Arrays (FPGAs) 214 for controlling components of an ultrasound imager system; Circuit(s) 215, such as an Analogue Front End (AFE), for example, for processing/conditioning signals; For example, an acoustic absorber layer 203 for absorbing waves generated by transducer tiles 210, which may propagate toward circuit 215; a communication unit 208 for communicating data with an external device, e.g., wirelessly or through one or more ports 216; For example, memory 218 for storing data; a battery 206 to provide electrical power to components of the imager; and optionally a display 217 for displaying images of target objects, such as internal organs of a patient.

일부 경우들에는, 초음파 트랜스듀서 어레이의 복수의 트랜스듀서 엘리먼트들이 열(column)들 및 행(row)들(예컨대, 도 2a에서 도시된 바와 같이, 예를 들어, 열 1 및 행 1에서 시작함) 내로 공간적으로 배열될 수 있다. 일부 경우들에는, (예컨대, 도 2b에서 도시된 바와 같이) 초음파 트랜스듀서 어레이 부분(250)의 복수의 트랜스듀서들이 평평한 기판(255) 상에 배열되고, 커버(260)가 제공될 수 있다. 일부 경우들에는, 예를 들어, 도 2c에서 도시된 바와 같이, 초음파 트랜스듀서 어레이 부분의 복수의 트랜스듀서들이 (예컨대, 단면에서) 만곡되는 기판 상에 배열된다. 일부 경우들에는, (예컨대, 도 2c에서 도시된 바와 같이) 초음파 트랜스듀서 어레이의 복수의 트랜스듀서 엘리먼트들은 복수의 트랜스듀서 어레이 부분들(250a, 250b, 250c)로 분할될 수 있다.In some cases, a plurality of transducer elements of an ultrasonic transducer array are arranged in columns and rows (e.g., starting at column 1 and row 1, as shown in FIG. 2A). ) can be spatially arranged within. In some cases, a plurality of transducers of the ultrasonic transducer array portion 250 (e.g., as shown in FIG. 2B) may be arranged on a flat substrate 255 and provided with a cover 260. In some cases, for example, as shown in FIG. 2C, a plurality of transducers of an ultrasonic transducer array portion are arranged on a substrate that is curved (e.g., in cross-section). In some cases, the plurality of transducer elements of an ultrasonic transducer array (e.g., as shown in FIG. 2C) may be divided into a plurality of transducer array portions 250a, 250b, and 250c.

트랜스듀서 어레이들transducer arrays

초음파 이미저 시스템(또는 초음파 이미저 테스트 시스템(100))은 예컨대, 도 3에서 예시된 바와 같이 트랜스듀서 어레이(101)를 포함할 수 있다. 초음파 트랜스듀서 어레이 또는 그 부분은 (예컨대, 초음파 이미저 시스템의 기판 상에서 행들 및 열들로 배열되는) 복수의 마이크로전기기계 시스템(MEMS) 트랜스듀서 엘리먼트들을 포함할 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 트랜스듀서 엘리먼트가 가공된 초음파 트랜스듀서(MUT : machined ultrasound transducer)일 수 있다. 일부 경우들에는, 가공된 초음파 트랜스듀서(MUT)가 압전 마이크로가공된 초음파 트랜스듀서(pMUT)일 수 있다. 일부 경우들에는, 마이크로가공된 초음파 트랜스듀서(MUT)가 용량성 마이크로가공된 초음파 트랜스듀서(cMUT)일 수 있다. 초음파 이미저 시스템(또는 초음파 이미저 테스트 시스템(100))은 복수의 애플리케이션-특정 집적 회로(ASIC) 컴포넌트들(102)을 포함할 수 있다. 일부 경우들에는, 초음파 이미저 시스템 또는 초음파 이미저 테스트 시스템(100)의 복수의 ASIC 컴포넌트들(102)이 트랜스듀서 어레이의 복수의 트랜스듀서 엘리먼트들에 결합될 수 있다. 초음파 이미저 테스트 시스템(100)의 ASIC 컴포넌트들(102)은 저잡음 증폭기(LNA) 중의 하나 이상을 포함할 수 있고(예컨대, 여기서, LNA는 하나 이상의 트랜스듀서들로부터, 예를 들어, 트랜스듀서들의 행으로부터의 신호들을 프로세싱하기 위하여 이용됨). 일부 경우들에는, 초음파 이미저 시스템의 하나 이상의 ASIC 컴포넌트들(102)은 트랜스듀서 어레이의 복수의 트랜스듀서 엘리먼트들을 제어하기 위하여 이용될 수 있다. 일부 경우들에는, 하나 이상의 ASIC 컴포넌트들(102)은 기판 및/또는 복수의 트랜스듀서 엘리먼트들과 함께 하나의 유닛으로서 조립될 수 있다. 일부 경우들에는, 하나 이상의 ASIC 컴포넌트들(102)은 초음파 이미저 디바이스의 외부에 위치될 수 있고, 복수의 트랜스듀서 엘리먼트들에 (예컨대, 케이블을 통해) 전기적으로 결합될 수 있다.An ultrasonic imager system (or ultrasonic imager test system 100) may include a transducer array 101, for example, as illustrated in FIG. 3. An ultrasonic transducer array, or portion thereof, may include a plurality of microelectromechanical system (MEMS) transducer elements (eg, arranged in rows and columns on a substrate of the ultrasonic imager system). In some cases, the MEMS transducer element may be a machined ultrasound transducer (MUT). In some cases, the machined ultrasonic transducer (MUT) may be a piezoelectric micromachined ultrasonic transducer (pMUT). In some cases, the micromachined ultrasonic transducer (MUT) may be a capacitive micromachined ultrasonic transducer (cMUT). An ultrasonic imager system (or ultrasonic imager test system 100 ) may include a plurality of application-specific integrated circuit (ASIC) components 102 . In some cases, multiple ASIC components 102 of the ultrasonic imager system or ultrasonic imager test system 100 may be coupled to multiple transducer elements of a transducer array. The ASIC components 102 of the ultrasonic imager test system 100 may include one or more of a low noise amplifier (LNA) (e.g., where the LNA is configured to output from one or more transducers, e.g., of the transducers). used to process signals from the row). In some cases, one or more ASIC components 102 of an ultrasound imager system may be used to control multiple transducer elements of a transducer array. In some cases, one or more ASIC components 102 may be assembled as a unit with a substrate and/or multiple transducer elements. In some cases, one or more ASIC components 102 may be located external to the ultrasound imager device and electrically coupled (eg, via a cable) to a plurality of transducer elements.

초음파 이미저 시스템(100)은 바이어스 전압 소스(103)를 포함할 수 있다. 바이어스 전압은 초음파 트랜스듀서 어레이의 초음파 트랜스듀서 엘리먼트들에 의해 생성되는 전압 변조를 정규화하기 위하여 초음파 어레이의 테스팅 및 동작 동안에 이용될 수 있는 기준 전압(예컨대, 일정한 0 V 또는 -18 V 입력 신호와 같은 정적 직류(DC : direct current) 전압)일 수 있고, 이것은 어레이에 의해 생성되는 이미지들의 정확도 및 정밀도를 개선시킬 수 있다. 바이어스 전압은 동작 중인 동안에 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 엘리먼트로 분배될 수 있다. 각각의 개별적인 트랜스듀서 어레이 엘리먼트(예컨대, MEMS 엘리먼트)로의 바이어스 전압의 분배는, 예를 들어, 제조 프로세스와 연관된 트랜스듀서 및/또는 ASIC 구성에서의 가변성으로 인해 (예컨대, 동일한입력 음파 신호가 주어질 경우에) 서로 약간 상이할 수 있는, 각각의 개별적인 트랜스듀서 어레이 엘리먼트의 출력 전압의 정규화(normalization)를 용이하게 할 수 있다.Ultrasound imager system 100 may include a bias voltage source 103. The bias voltage is a reference voltage (e.g., a constant 0 V or -18 V input signal) that can be used during testing and operation of the ultrasonic transducer array to normalize the voltage modulation produced by the ultrasonic transducer elements of the ultrasonic transducer array. It can be a static direct current (DC) voltage, which can improve the accuracy and precision of images produced by the array. A bias voltage may be distributed to each element of the ultrasonic transducer array during operation. The distribution of bias voltage to each individual transducer array element (e.g., MEMS element) may vary, for example, due to variations in transducer and/or ASIC configurations associated with the manufacturing process (e.g., given the same input acoustic signal). to) facilitate normalization of the output voltage of each individual transducer array element, which may be slightly different from each other.

본원에서 설명된 바와 같이, (예컨대, 바이어스 전압 소스(103)에 의해 생성되는) 바이어스 전압은 예를 들어, (예컨대, 테스트 신호 소스(106)에 의해 생성되는) 테스트 신호로 변조될 수 있다. 테스트 신호에 의한 바이어스 전압의 변조는 (예컨대, 테스트 신호 및 바이어스 전압의 중첩을 포함하는) 변조된 바이어스 전압으로 귀착될 수 있다. 일부 경우들에는, 예를 들어, 도 3에서 도시된 바와 같이, 트랜스포머(105)(예컨대, 스텝-다운 트랜스포머(step-down transformer))는 초음파 트랜스듀서 이미저의 바이어스 전압(예컨대, -18 V 바이어스 전압과 같은 일정한 바이어스 전압)을 변조하기 위하여 이용된 테스트 신호의 진폭을 조절(예컨대, 감소)하기 위하여 이용될 수 있다. 트랜스포머(105)는 바이어스 전압 소스(103)와 직렬로 접속될 수 있다.As described herein, a bias voltage (e.g., generated by bias voltage source 103) may be modulated, for example, with a test signal (e.g., generated by test signal source 106). Modulation of the bias voltage by the test signal may result in a modulated bias voltage (eg, including superposition of the test signal and bias voltage). In some cases, for example, as shown in FIG. 3, transformer 105 (e.g., a step-down transformer) may be used to adjust the bias voltage of the ultrasonic transducer imager (e.g., -18 V bias). It can be used to adjust (e.g., reduce) the amplitude of a test signal used to modulate a constant bias voltage (e.g., voltage). Transformer 105 may be connected in series with the bias voltage source 103.

일부 경우들에는, 테스팅에서 이용되는 테스트 신호 소스(106) 및 스텝-다운 트랜스포머(105)는 초음파 트랜스듀서 시스템 또는 어레이에 대해 외부적일 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 신호 소스(106) 및/또는 스텝-다운 트랜스포머(105)가 초음파 트랜스듀서 이미저의 바이어스 전압 소스(103)와 초음파 트랜스듀서 어레이(101)(예컨대, MEMS 엘리먼트 어레이) 사이의 초음파 트랜스듀서 이미저에 결합될 수 있다. 트랜스듀서 엘리먼트 어레이(101)의 트랜스듀서 엘리먼트들은 (예컨대, 복수의 저잡음 증폭기들 및 일부 경우들에는 하나 이상의 우회 커패시터(bypass capacitor)들을 포함할 수 있는 애플리케이션 특정 집적 회로(ASIC)(102)를 포함하는) 초음파 이미저의 제어 회로에 결합될 수 있다. 변조된 바이어스 전압 신호들은 ASIC 회로 이후에 수신될 수 있고, 초음파 이미저의 MEMS 트랜스듀서 어레이 및/또는 ASIC 중의 하나 이상에서의 고장들 또는 결함들로부터 기인할 수 있는, 예상되는 변조된 바이어스 전압 신호에 대한 (예컨대, 진폭, 주파수, 및/또는 파형 형상에 대한) 변화들에 대하여 분석될 수 있다.In some cases, the test signal source 106 and step-down transformer 105 used in testing may be external to the ultrasonic transducer system or array. In some cases, the test signal source 106 and/or the step-down transformer 105 may be connected between the bias voltage source 103 of the ultrasonic transducer imager and the ultrasonic transducer array 101 (e.g., an array of MEMS elements). An ultrasonic transducer may be coupled to the imager. The transducer elements of the transducer element array 101 include an application-specific integrated circuit (ASIC) 102 (e.g., which may include a plurality of low-noise amplifiers and, in some cases, one or more bypass capacitors). ) can be coupled to the control circuit of the ultrasonic imager. The modulated bias voltage signals may be received after the ASIC circuit and may result from failures or defects in one or more of the ASIC and/or the MEMS transducer array of the ultrasonic imager. Changes to (e.g., amplitude, frequency, and/or waveform shape) may be analyzed.

(예컨대, 본원에서 설명된 바와 같이, 테스트 신호를 갖는) 바이어스 전압의 변조는 비변조된 바이어스 전압(또는 비변조된 바이어스 전압을 사용하는 ASIC 출력 신호)보다 (예컨대, 측정 시스템(107)에 의해 측정되고 및/또는 프로세싱되어야 할) 더 유익한 출력 신호로 귀착될 수 있다. 예를 들어, 투입된 테스트 신호는 예컨대, 초음파 이미저의 트랜스듀서 어레이 및/또는 ASIC의 MEMS 트랜스듀서들의 하드웨어에서의 결함들로부터 기인할 수 있는 진폭에 있어서의 변화들, 파형 형상, 및/또는 주기성(periodicity)에 대한 변화들에 대하여 (예컨대, 측정 시스템(107)을 이용하여) 용이하게 평가될 수 있는 정의된 파형을 가질 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 신호가 주기적 파형을 포함한다. 예를 들어, 테스트 신호는 정현 파형(sinusoidal waveform)을 가질 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 신호가 비-제로(non-zero) 최대 진폭을 가진다. 일부 경우들에는, 테스트 신호가 0.1 밀리볼트(millivolt) 내지 3 밀리볼트의 (예컨대, 스텝 다운 트랜스포머 이후의) 피크-대-피크 진폭을 가질 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 신호가 0.1 밀리볼트 내지 0.3 밀리볼트, 0.1 밀리볼트 내지 0.5 밀리볼트, 0.1 밀리볼트 내지 1 밀리볼트, 0.1 밀리볼트 내지 2 밀리볼트, 0.1 밀리볼트 내지 2.5 밀리볼트, 0.1 밀리볼트 내지 3 밀리볼트, 0.3 밀리볼트 내지 0.5 밀리볼트, 0.3 밀리볼트 내지 1 밀리볼트, 0.3 밀리볼트 내지 2 밀리볼트, 0.3 밀리볼트 내지 2.5 밀리볼트, 0.3 밀리볼트 내지 3 밀리볼트, 0.5 밀리볼트 내지 1 밀리볼트, 0.5 밀리볼트 내지 2 밀리볼트, 0.5 밀리볼트 내지 2.5 밀리볼트, 0.5 밀리볼트 내지 3 밀리볼트, 1 밀리볼트 내지 2 밀리볼트, 1 밀리볼트 내지 2.5 밀리볼트, 1 밀리볼트 내지 3 밀리볼트, 2 밀리볼트 내지 2.5 밀리볼트, 2 밀리볼트 내지 3 밀리볼트, 또는 2.5 밀리볼트 내지 3 밀리볼트의 (예컨대, 스텝 다운 트랜스포머 이후의) 피크-대-피크 진폭을 가질 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 신호가 0.1 밀리볼트, 0.3 밀리볼트, 0.5 밀리볼트, 1 밀리볼트, 2 밀리볼트, 2.5 밀리볼트, 또는 3 밀리볼트의 (예컨대, 스텝 다운 트랜스포머 이후의) 피크-대-피크 진폭을 가질 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 신호가 적어도 0.1 밀리볼트, 0.3 밀리볼트, 0.5 밀리볼트, 1 밀리볼트, 2 밀리볼트, 2.5 밀리볼트, 또는 3 밀리볼트의 (예컨대, 스텝 다운 트랜스포머 이후의) 피크-대-피크 진폭을 가질 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 신호가 최대 0.1 밀리볼트, 0.3 밀리볼트, 0.5 밀리볼트, 1 밀리볼트, 2 밀리볼트, 2.5 밀리볼트, 또는 3 밀리볼트의 (예컨대, 스텝 다운 트랜스포머 이후의) 피크-대-피크 진폭을 가질 수 있다.Modulation of the bias voltage (e.g., with a test signal, as described herein) may be performed (e.g., by measurement system 107) over an unmodulated bias voltage (or an ASIC output signal using an unmodulated bias voltage). may result in a more informative output signal (which must be measured and/or processed). For example, the injected test signal may exhibit changes in amplitude, waveform shape, and/or periodicity that may result, for example, from defects in the hardware of the transducer array of the ultrasonic imager and/or the MEMS transducers of the ASIC. It may have a defined waveform that can be easily evaluated (e.g., using measurement system 107) for changes in periodicity. In some cases, the test signal includes a periodic waveform. For example, the test signal may have a sinusoidal waveform. In some cases, the test signal has a non-zero maximum amplitude. In some cases, the test signal may have a peak-to-peak amplitude (e.g., after a step-down transformer) of 0.1 millivolts to 3 millivolts. In some cases, the test signal is 0.1 millivolt to 0.3 millivolt, 0.1 millivolt to 0.5 millivolt, 0.1 millivolt to 1 millivolt, 0.1 millivolt to 2 millivolt, 0.1 millivolt to 2.5 millivolt, 0.1 millivolt. Volt to 3 millivolt, 0.3 millivolt to 0.5 millivolt, 0.3 millivolt to 1 millivolt, 0.3 millivolt to 2 millivolt, 0.3 millivolt to 2.5 millivolt, 0.3 millivolt to 3 millivolt, 0.5 millivolt to 0.5 millivolt. 1 millivolt, 0.5 millivolt to 2 millivolt, 0.5 millivolt to 2.5 millivolt, 0.5 millivolt to 3 millivolt, 1 millivolt to 2 millivolt, 1 millivolt to 2.5 millivolt, 1 millivolt to 3 millivolt. Volts, 2 millivolts to 2.5 millivolts, 2 millivolts to 3 millivolts, or 2.5 millivolts to 3 millivolts (e.g., after a step down transformer) peak-to-peak amplitude. In some cases, the test signal may be 0.1 millivolts, 0.3 millivolts, 0.5 millivolts, 1 millivolts, 2 millivolts, 2.5 millivolts, or 3 millivolts peak-to-peak (e.g., after a step-down transformer). It may have a peak amplitude. In some cases, the test signal has a peak-to-peak (e.g., after a step-down transformer) of at least 0.1 millivolt, 0.3 millivolt, 0.5 millivolt, 1 millivolt, 2 millivolt, 2.5 millivolt, or 3 millivolt. -Can have peak amplitude. In some cases, the test signal may have a peak-to-peak (e.g., after a step-down transformer) of up to 0.1 millivolt, 0.3 millivolt, 0.5 millivolt, 1 millivolt, 2 millivolt, 2.5 millivolt, or 3 millivolt. -Can have peak amplitude.

일부 경우들에는, 예를 들어, 도 4에서 도시된 바와 같이, 초음파 트랜스듀서 어레이(예컨대, MEMS 트랜스듀서 어레이) 또는 ASIC에서의 고장 또는 결함은, 바이어스 전압 소스(103)(또는 트랜스포머(105))와 (예컨대, MEMS 바이어스 노드 또는 X-노드에서의) 트랜스포머 어레이(101) 사이, 트랜스듀서 어레이(101)와 (예컨대, O-노드 또는 ASIC LNA 입력에서의) ASIC(102) 사이, 및/또는 (예컨대, ASIC LNA 출력에서의) ASIC 이후의 초음파 트랜스듀서 시스템에서의 포인트에서 측정되는 신호의 전압 또는 형상에 의해 결정될 수 있다. 표 1은 제조 동안에 발생할 수 있는 일부 고장들, 및 바이어스 전압을 변조하기 위하여 이용되는 -18 볼트(V) 일정한 바이어스 전압 입력 및 1 밀리볼트(mV) 피크-대-피크 교류(AC : alternating current) 테스트 신호를 가정하여, 회로에서의 다양한 포인트들에서 측정되는 변조된 바이어스 전압 신호에 대해 고장들이 가질 수 있는 효과들을 도시한다. 표 1에서 도시된 MEMS 트랜스듀서 엘리먼트 단락 조건들 하에서의 ASIC LNA 입력에서의 예상된 신호 전압이 보호 다이오드들을 이용하는 전압 클램핑(voltage clamping)을 통해 측정된다는 것이 주목된다. 도 4는 회로 상에서 식별되는 X-노드 및 O-노드 기준 포인트들을 갖는 테스트 회로의 도면을 도시한다.In some cases, for example, as shown in FIG. 4, a failure or defect in the ultrasonic transducer array (e.g., MEMS transducer array) or ASIC may cause the bias voltage source 103 (or transformer 105) to ) and transformer array 101 (e.g., at a MEMS bias node or X-node), between transducer array 101 and ASIC 102 (e.g., at an O-node or ASIC LNA input), and/ or by the voltage or shape of the signal measured at a point in the ultrasonic transducer system after the ASIC (e.g., at the ASIC LNA output). Table 1 lists some of the failures that can occur during manufacturing, and the -18 volt (V) constant bias voltage input and 1 millivolt (mV) peak-to-peak alternating current (AC) used to modulate the bias voltage. Assuming a test signal, we illustrate the effects faults can have on a modulated bias voltage signal measured at various points in the circuit. It is noted that the expected signal voltage at the ASIC LNA input under the MEMS transducer element short circuit conditions shown in Table 1 is measured through voltage clamping using protection diodes. Figure 4 shows a diagram of the test circuit with X-node and O-node reference points identified on the circuit.

도시된 바와 같이, ASIC의 LNA들 후에 측정되는 출력 신호는 O-노드 또는 파단된 MEMS 트랜스듀서에서의 오류 있는 열적 압착 결합(TCB : thermal compression bond)과 같은 조건들에 대하여 0 V 일정한 신호로서 측정될 수 있다. 바이어스 전압이 MEMS 트랜스듀서 어레이 내로 도입되기 전의 회로의 오류는 또한, ASIC LAN들 이후의 출력된 일정한 0 V 출력 신호로 귀착될 수 있지만; 그러나, 이러한 고장은 또한, MEMS 바이어스 노드에서 일정한 0 V 출력 신호를 나타낼 것이다(예컨대, 출력된 주기적 신호의 진폭의 감소 또는 증가는 고장난 LNA와 같은 고장난 ASIC 컴포넌트를 지시할 수 있음).As shown, the output signal measured after the ASIC's LNAs is measured as a 0 V constant signal for conditions such as a faulty thermal compression bond (TCB) at the O-node or a broken MEMS transducer. It can be. Failure of the circuit before the bias voltage is introduced into the MEMS transducer array can also result in a constant 0 V output signal output after the ASIC LANs; However, such a failure will also result in a constant 0 V output signal at the MEMS bias node (e.g., a decrease or increase in the amplitude of the output periodic signal may indicate a failed ASIC component, such as a failed LNA).

일부 경우들에는, 초음파 이미저 테스트 시스템(100)의 테스트 측정 시스템(107)은 하나 이상의 아날로그-대-디지털 변환기(ADC : analog-to-digital converter)들(201)을 포함할 수 있다. 일부 경우들에는, 초음파 이미저 테스트 시스템(100)의 각각의 LNA로부터 출력되는 신호가 테스트 측정 시스템(107)의 상이한 ADC로 전달된다. (예컨대, 프로세서 및 임의적으로 비-일시적 메모리를 포함하는) 제어기(202)는 테스트 측정 시스템(107)의 하나 이상의 ADC들에 결합될 수 있다. 일부 경우들에는, 초음파 이미저 시스템의 하나 이상의 온-보드(on-board) ADC들은 초음파 이미저 시스템을 테스트할 시에 사용될 수 있다(예컨대, 여기서, 초음파 이미저 테스트 시스템(100)의 ADC들은 예를 들어, 별도의 테스트 측정 시스템(107)의 ADC들을 사용하는 것과 반대로, 초음파 이미저 시스템의 온-보드 ADC들을 포함함). 일부 경우들에는, 제어기(202)가 하나 이상의 LNA들로부터 수신되는 데이터에 대해 고속 푸리에 변환(FFT : fast Fourier transform)을 수행하도록 구성된다. 일부 경우들에는, 제어기(202)는 멀티-채널 FFT 시스템을 포함한다. 일부 경우들에는, 테스트 측정 시스템(107)은 신호 분석 유닛(203)을 포함한다. 일부 경우들에는, 신호 분석 유닛(203)은 (예컨대, 테스트 측정 시스템(107)의 ADC 또는 제어기를 통해) 초음파 이미저 시스템의 하나 이상의 LNA들로부터 수신되는 신호에 대해 하나 이상의 분석들을 수행하도록 구성되는 프로세서(예컨대, 그리고 비-일시적 메모리)를 포함한다. 일부 경우들에는, 신호 분석 유닛(203)은 (예컨대, 초음파 이미저 시스템의 하나 이상의 LNA들로부터 수신되는 하나 이상의 신호들에 대해) 신호 진폭 비교, 파형 형상 비교, 및/또는 통과/오류 로직 기능들을 수행하도록 구성된다.In some cases, the test measurement system 107 of the ultrasonic imager test system 100 may include one or more analog-to-digital converters (ADCs) 201. In some cases, the signal output from each LNA of the ultrasonic imager test system 100 is passed to a different ADC of the test measurement system 107. Controller 202 (eg, including a processor and optionally non-transitory memory) may be coupled to one or more ADCs of test measurement system 107. In some cases, one or more on-board ADCs of the ultrasonic imager system may be used when testing the ultrasonic imager system (e.g., where the ADCs of the ultrasonic imager test system 100 are For example, including on-board ADCs of an ultrasonic imager system, as opposed to using ADCs in a separate test measurement system 107). In some cases, controller 202 is configured to perform a fast Fourier transform (FFT) on data received from one or more LNAs. In some cases, controller 202 includes a multi-channel FFT system. In some cases, test measurement system 107 includes signal analysis unit 203. In some cases, signal analysis unit 203 is configured to perform one or more analyzes on a signal received from one or more LNAs of an ultrasonic imager system (e.g., via an ADC or controller of test measurement system 107). processor (e.g., and non-transitory memory). In some cases, signal analysis unit 203 may perform signal amplitude comparison, waveform shape comparison, and/or pass/fail logic functions (e.g., for one or more signals received from one or more LNAs of an ultrasound imager system). It is configured to carry out these tasks.

일부 경우들에는, 테스트 측정 시스템(107)은 테스트 신호 소스(106)를 포함할 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 측정 시스템(107)은 트랜스포머(105)를 포함할 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 측정 시스템(107)은 바이어스 전압 소스(103)를 포함할 수 있다.In some cases, test measurement system 107 may include test signal source 106. In some cases, test measurement system 107 may include transformer 105. In some cases, test measurement system 107 may include a bias voltage source 103.

일부 경우들에는, 테스트 측정 시스템(107) 또는 그 부분은 ASIC에 로컬(local)로 위치된다. 일부 경우들에는, 테스트 측정 시스템(107) 또는 그 부분은 ASIC으로부터 원격으로 위치된다(예컨대, 여기서, 테스트 측정 시스템(107) 또는 그 부분은 무선으로 또는 케이블에 의해 ASIC에 결합됨). 일부 경우들에는, 테스트 측정 시스템(107)의 전부 또는 부분(예컨대, 테스트 신호 소스(106), 트랜스포머(105), 하나 이상의 ADC들, 하나 이상의 제어기들, 및/또는 하나 이상의 신호 분석 유닛들)은 초음파 트랜스듀서 이미저의 트랜스듀서 어레이(101) 및/또는 ASIC(102)에 제거가능하게 결합될 수 있다.In some cases, test measurement system 107, or portions thereof, is located local to the ASIC. In some cases, test measurement system 107 or a portion thereof is located remotely from the ASIC (e.g., where test measurement system 107 or a portion thereof is coupled wirelessly or by a cable to the ASIC). In some cases, all or part of test measurement system 107 (e.g., test signal source 106, transformer 105, one or more ADCs, one or more controllers, and/or one or more signal analysis units) may be removably coupled to the transducer array 101 and/or ASIC 102 of the ultrasonic transducer imager.

도 4는 초음파 이미저 시스템(100)의 예를 도시한다. 신호 소스는 주기적 테스트 신호(예컨대, 정현 신호)를 생성할 수 있는 저-임피던스 테스트 신호 소스(106)(예컨대, 50 오옴(ohm), 10 VRMS)일 수 있다. (예컨대, 테스트 신호의 피크-대-피크 전압을 +/- 1 mVRMS로 감소시키기 위한) 저-임피던스(예컨대, 0.35 오옴) 스텝-다운 트랜스포머는 (예컨대, 예를 들어, -18 V의 일정한 전압 바이어스 입력을 공급하기 위하여 이용될 수 있는) 바이어스 전압 소스와 직렬로 배치될 수 있다. 일부 경우들에는, -18 VDC +/- 1 mVRMS 신호가 초음파 트랜스듀서 이미저의 MEMS 트랜스듀서 어레이(101)의 입력 노드에서 측정될 수 있다. 일부 경우들에는, 이 MEMS 입력 신호는 ASIC LNA들에 대한 입력 노드에서 1 mVRMS 신호로서 측정될 수 있다. 일부 경우들에는, 신호는 ASIC LNA 출력 노드에서 30 mVRMS 신호로서 측정될 수 있다.4 shows an example of an ultrasonic imager system 100. The signal source may be a low-impedance test signal source 106 (e.g., 50 ohms, 10 V RMS ) capable of generating a periodic test signal (e.g., a sinusoidal signal). A low-impedance (e.g., 0.35 Ohm) step-down transformer (e.g., to reduce the peak-to-peak voltage of the test signal to +/- 1 mV RMS ) can be used to reduce the peak-to-peak voltage of the test signal to +/-1 mV RMS. can be placed in series with a bias voltage source (which can be used to supply a voltage bias input). In some cases, a -18 V DC +/- 1 mV RMS signal may be measured at the input node of the MEMS transducer array 101 of the ultrasonic transducer imager. In some cases, this MEMS input signal can be measured as a 1 mV RMS signal at the input node to the ASIC LNAs. In some cases, the signal may be measured as a 30 mV RMS signal at the ASIC LNA output node.

MEMS 어레이들 및 연관된 ASIC을 테스트하는 방법들Methods for testing MEMS arrays and associated ASICs

도 5는 MEMS 트랜스듀서 어레이 및 연관된 ASIC을 테스트하기 위한 방법들의 단계들을 도시한다. 일부 경우들에는, ASIC 및 MEMS 어레이는 파워 온(power on)될 수 있고, 테스팅 이전에 구성될 수 있다(예컨대, 단계(1001)). 이것은 바이어스 전압 파라미터들과 같은 기준 시스템 파라미터들의 검증을 포함할 수 있고, 테스트 신호 소스, 트랜스포머, 및/또는 출력 신호 측정 컴포넌트들의 접속을 수반할 수 있다. 일부 경우들에는, 초음파 트랜스듀서 어레이의 제1 행(예컨대, 행 1)이 테스트 신호 도입 이전에 테스트를 위하여 선택될 수 있다(예컨대, 단계(1002)). 제1 행은 반드시 트랜스듀서들의 가장 상부 또는 가장 좌측 행이 아닐 수 있다. 일부 경우들에는, 어레이 상의 물리적 위치에 관계없이, 제1 행은 간단하게 테스트되는 제1 행이다. 일부 경우들에는, (예컨대, 도 5에서 도시된 바와 같이, 예를 들어, 각각의 행의 엘리먼트들이 병렬로 테스트되는 것이 아니라, 각각의 열의 엘리먼트들이 병렬로 테스트되는 방법들 및 시스템들에서) 제1 행이 아니라 제1 열이 선택된다.Figure 5 shows steps in methods for testing a MEMS transducer array and associated ASIC. In some cases, the ASIC and MEMS array may be powered on and configured prior to testing (eg, step 1001). This may include verification of reference system parameters, such as bias voltage parameters, and may involve connection of test signal source, transformer, and/or output signal measurement components. In some cases, a first row (e.g., row 1) of the ultrasonic transducer array may be selected for testing prior to test signal introduction (e.g., step 1002). The first row is not necessarily the top or leftmost row of transducers. In some cases, regardless of its physical location on the array, the first row is simply the first row that is tested. In some cases (e.g., in methods and systems where elements of each row are tested in parallel, rather than elements of each row, as shown in FIG. 5), elements of each column are tested in parallel. The first column, not row 1, is selected.

도 5의 단계(1003)에서 도시된 바와 같이, 테스트 신호는 (예컨대, 도 3 내지 도 5에서 도시된 것들과 같은 테스트 회로를 이용하여) 초음파 이미저 시스템에 적용될 수 있다. 테스트 신호는 트랜스포머(105)를 이용하는 MEMS에 대한 바이어스 전압으로 투입될 수 있다(예컨대, 여기서, 트랜스포머(105)는 바이어스 전압 소스(103)와 직렬로 배치됨). (예컨대, 바이어스 전압 신호의 변조를 위한) 테스트 신호는 주기 파형을 가질 수 있다. 일부 경우들에는, 정현 테스트 신호가 이용될 수 있다. 초음파 트랜스듀서 어레이(101) 및/또는 ASIC(102)을 테스트하기 위한 방법들 및 시스템에서의 이용을 위한 테스트 신호를 선택할 시에, 과도하게 높거나 낮지 않은 주파수를 갖는 주기적 신호를 이용하는 것이 유리할 수 있다. 매우 높은 주파수들을 갖는 테스트 신호들을 회피함으로써, (예컨대, 트랜스듀서 보드(transducer board) 상의 커패시턴스(capacitance)로 인한) 주기적 신호의 감쇠가 감소되거나 회피될 수 있다. 일부 경우들에는, 매우 낮은 주파수를 갖는 테스트 신호들이 회피되는 경우에, ASIC LNA들로부터의 이득의 불충분함은 회피될 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 신호는 5 kHz 미만, 5 kHz 내지 10 kHz, 10 kHz 내지 15 kHz, 15 kHz 내지 20 kHz, 20 kHz 내지 25 kHz, 25 kHz 내지 30 kHz, 30 kHz 내지 35 kHz, 35 kHz 내지 40 kHz, 40 kHz 내지 45 kHz, 45 kHz 내지 50 kHz, 또는 50 kHz 초과의 주파수를 가질 수 있다. 일부 경우들에는, 20 kHz(예컨대, 15 kHz 내지 25 kHz)의 범위에서의 주파수가 최적일 수 있다.As shown at step 1003 of Figure 5, a test signal may be applied to the ultrasonic imager system (e.g., using a test circuit such as those shown in Figures 3-5). The test signal may be input as a bias voltage for the MEMS using transformer 105 (e.g., where transformer 105 is placed in series with bias voltage source 103). The test signal (e.g., for modulation of a bias voltage signal) may have a periodic waveform. In some cases, a sinusoidal test signal may be used. When selecting a test signal for use in methods and systems for testing the ultrasonic transducer array 101 and/or ASIC 102, it may be advantageous to use a periodic signal with a frequency that is not excessively high or low. there is. By avoiding test signals with very high frequencies, attenuation of the periodic signal (eg, due to capacitance on the transducer board) can be reduced or avoided. In some cases, insufficient gain from ASIC LNAs can be avoided if test signals with very low frequencies are avoided. In some cases, the test signal is below 5 kHz, 5 kHz to 10 kHz, 10 kHz to 15 kHz, 15 kHz to 20 kHz, 20 kHz to 25 kHz, 25 kHz to 30 kHz, 30 kHz to 35 kHz, 35 kHz. It may have a frequency between 40 kHz, between 40 kHz and 45 kHz, between 45 kHz and 50 kHz, or above 50 kHz. In some cases, a frequency in the range of 20 kHz (eg, 15 kHz to 25 kHz) may be optimal.

일부 경우들에는, 테스트 신호는 신호 트랜스포머(105)(예컨대, 스텝-다운 신호 트랜스포머)를 이용하여 바이어스 전압 신호로 투입된다. 일부 경우들에는, 신호 트랜스포머의 이용이 소스 임피던스를 감소시키는 장점을 가지고, 예컨대, 신호 트랜스포머는 큰 용량성 부하를 구동할 수 있다. 이 테스트 신호는 MEMS 커패시턴스에 의해 ASIC(102)의 입력에 용량성으로(capacitively) 결합될 수 있다.In some cases, the test signal is input as a bias voltage signal using a signal transformer 105 (e.g., a step-down signal transformer). In some cases, the use of a signal transformer has the advantage of reducing source impedance, for example, the signal transformer can drive a large capacitive load. This test signal may be capacitively coupled to the input of ASIC 102 by a MEMS capacitance.

단계(1004)에서 도시된 바와 같이, (예컨대, 열 1에 대한) ASIC의 출력은 예를 들어, MEMS 어레이 및/또는 ASIC에서의 고장들을 검출하기 위하여 캡처(capture)될 수 있다. 일부 경우들에는, 예를 들어, 단계(1005)에서 도시된 바와 같이, (예컨대, 본원에서 설명된 바와 같이) 변조된 바이어스 신호에 의해 자극되는 초음파 MEMS 어레이 및 ASIC 시스템의 출력은 이 출력이 테스팅 제한들을 준수하는지 여부에 대해 평가될 수 있다. 일부 경우들에는, (예컨대, 진폭, 주기성, 위상, 및/또는 주파수에 대하여) 예상된(또는 요구된) 출력 제한들 내에 있지 않은 측정된 신호가 (예컨대, 초음파 이미저 시스템에서 고장으로서 귀결될 수 있는) 에러 신호로서 분류될 수 있다. 일부 경우들에는, 손상된 MEMS는 상당히 더 낮은 커패시턴스를 가질 수 있고, 이것은 더 낮은 이득으로 귀착될 수 있다. 일부 경우들에는, 손상된 MEMS 엘리먼트는 ASIC 출력이 포화하게 할 수 있는 단락(short circuit)을 포함할 수 있다. ASIC과 MEMS 사이의 오류 있는 결합은 트랜스듀서 회로가 출력을 생성하는 것에 실패하는 것으로 귀착될 수 있다. 일부 경우들에는, 에러 카운트(error count)가 (예컨대, 하나씩) 증분될 수 있고, 측정 시스템은 (예컨대, 단계(1006)에서 도시된 바와 같이) 측정된 신호가 출력 제한들 내에 있지 않은 경우에 (예컨대, 다음 열, 예를 들어, 열 +1에서 위치된) 다음 MEMS/ASIC으로부터의 출력을 분석하도록 진행할 수 있다. 그 대신에, 측정된 신호가 출력 제한들 내에 있는 경우에, 측정 시스템은 에러 카운트를 증분시키지 않으면서, 단계(1007)에서 도시된 바와 같이, (예컨대, 다음 열, 예를 들어, 열 +1에서 위치된) 다음 MEMS/ASIC으로부터의 출력을 분석하도록 진행할 수 있다. 다음 열(예컨대, 열 +1)에서 위치된 MEMS/ASIC으로부터의 출력은 (예컨대, 단계(1008)에서 도시된 바와 같이) 예상된/요구된 출력 제한들과의 준수성(conformity)에 대하여 분석될 수 있다. 예상된/요구된 출력 제한들과의 비-준수성은 1009에서 도시된 바와 같이, (예컨대, 하나씩) 에러 카운트의 증분으로 귀착될 수 있다. 에러 카운트가 증분되었을 경우, 또는 출력이 제한들 내에 있는 것으로 발견되었을 경우에, 이전에 테스트된 MEMS/ASIC이 어레이 또는 그 부분의 마지막 열 내에 있었는지 여부를 결정하기 위하여 (예컨대, 단계(1010)에서 도시된 바와 같이) 체크가 수행될 수 있다. 일부 경우들에는, 테스트 시스템은 단계(1007)로 복귀할 수 있고, 이전에 분석된 MEMS/ASIC이 행/어레이의 마지막 열 내에 있지 않았을 경우에, 행 내의 다음 MEMS/ASIC을 분석할 수 있다. 단계들(1004 내지 1010)은 도 5에서 도시된 바와 같이, 열-대-열(column-by-column) 대신에 행-대-행(row-by-row)으로 프로세싱함으로써 수행될 수 있다는 것이 고려된다. 일부 경우들에는, 초음파 이미저 시스템의 열(또는 행) 내의 각각의 MEMS/ASIC 엘리먼트의 테스팅(예컨대, 도 5에서의 파선 박스에 의해 지시된 바와 같이, 단계들(1004 내지 1010))이 병렬로 수행될 수 있다. MEMS는 병렬로 테스트될 수 있는데, 그 이유는 수정된 바이어스 전압 신호가 모든 MEMS에 동시에 적용될 수 있기 때문이다.As shown in step 1004, the output of the ASIC (e.g., for column 1) may be captured, for example, to detect failures in the MEMS array and/or ASIC. In some cases, for example, as shown in step 1005, the output of the ultrasonic MEMS array and ASIC system stimulated by a modulated bias signal (e.g., as described herein) may be used to test the Can be evaluated for compliance with restrictions. In some cases, a measured signal that is not within expected (or required) power limits (e.g., for amplitude, periodicity, phase, and/or frequency) may result in a failure (e.g., in an ultrasound imager system). can be classified as an error signal. In some cases, a damaged MEMS may have significantly lower capacitance, which may result in lower gain. In some cases, a damaged MEMS element may contain a short circuit that can cause the ASIC output to saturate. Faulty coupling between the ASIC and the MEMS can result in the transducer circuit failing to produce output. In some cases, the error count may be incremented (e.g., by one) and the measurement system may be incremented (e.g., as shown in step 1006) if the measured signal is not within output limits. One may proceed to analyze the output from the next MEMS/ASIC (e.g. located in the next row, e.g. column +1). Instead, if the measured signal is within the output limits, the measurement system does not increment the error count, as shown in step 1007 (e.g., next row, e.g., row +1). You can then proceed to analyze the output from the MEMS/ASIC (located in ). The output from the MEMS/ASIC located in the next column (e.g., column +1) is analyzed for conformity with expected/required output limits (e.g., as shown in step 1008). It can be. Non-compliance with expected/required output limits may result in an increment of the error count (eg, by one), as shown at 1009. If the error count is incremented, or if the output is found to be within limits, to determine whether a previously tested MEMS/ASIC was within the last row of the array or portion thereof (e.g., step 1010) A check may be performed (as shown in ). In some cases, the test system may return to step 1007 and analyze the next MEMS/ASIC in the row if the previously analyzed MEMS/ASIC was not within the last column of the row/array. Steps 1004-1010 may be performed by processing row-by-row instead of column-by-column, as shown in FIG. 5. is considered. In some cases, testing of each MEMS/ASIC element within a column (or row) of an ultrasonic imager system (e.g., steps 1004-1010, as indicated by the dashed box in FIG. 5) may be performed in parallel. It can be performed as: MEMS can be tested in parallel because a modified bias voltage signal can be applied to all MEMS simultaneously.

단계들(1008 내지 1010)에서 이전에 분석된 MEMS/ASIC이 행의 최종적인 열(또는 열의 최종적인 행) 내에 위치되었을 경우에, 분석된 행이 어레이의 마지막 행이었는지 여부(또는 분석된 열이 어레이의 마지막 열이었는지 여부)를 결정하기 위하여 (예컨대, 단계(1011)에서 도시된 바와 같이) 판정 체크가 수행될 수 있다. 행(또는 열)이 어레이에서 마지막이 아니었을 경우에, 측정 시스템은 예를 들어, 단계(1012)에서 도시된 바와 같이, 다음 행(예컨대, 행 +1)의 제1 열에서의 MEMS/ASIC으로부터의 출력을 분석하도록 진행할 수 있고(또는 각각의 열의 행들을 아래로 진행하는 경우에, 다음 열이 그 다음으로 분석될 수 있음), 측정 시스템은 다음 행(또는 열)에서의 MEMS/ASIC 엘리먼트들의 분석을 예를 들어, 병렬로 수행할 수 있다.If the MEMS/ASIC previously analyzed in steps 1008-1010 was located within the last column of the row (or the last row of the row), then the row analyzed was the last row of the array (or the last row of the row was A decision check may be performed (e.g., as shown in step 1011) to determine whether it was the last row of the array. If the row (or column) was not the last in the array, the measurement system determines the MEMS/ASIC in the first column of the next row (e.g., row +1), e.g. You can proceed to analyze the output from the MEMS/ASIC element in the next row (or column) (or, if you proceed down the rows of each column, the next column can be analyzed). The analysis can be performed in parallel, for example.

단계(1011)에서의 판정 체크가 이전에 분석된 MEMS/ASIC이 마지막 행 및 열(예컨대, 행 +x, 열 +x)이었다는 것을 지시하는 결과를 반환하는 경우에, 예를 들어, 단계(1013)에서 도시된 바와 같이, 총 에러 카운트가 허용가능한 제한 미만인지 여부를 결정하기 위하여 판정 체크가 행해질 수 있다. 에러 카운트가 제한 이상(또는 대안적으로 초과)인 경우에, 디바이스/어레이는 거절된 것(또는 "오류")으로서 표기될 수 있고, 테스트는 (예컨대, 단계(1015)에서 도시된 바와 같이) 종료될 수 있다. 총 에러 카운트가 제한 미만(또는 대안적으로 이하)인 경우에, 디바이스/어레이는 수락된 것(또는 "통과")으로서 표기될 수 있고, 테스트는 (예컨대, 단계(1014)에서 도시된 바와 같이) 종료될 수 있다. 일부 경우들에는, 총 에러 카운트가 충족되었거나 초과하였는지 여부를 결정하기 위하여, 단계(1004 및 1013) 사이의 임의의 단계에서 중간 판정 체크가 수행될 수 있다. 일부 경우들에는, 이러한 중간 판정 체크는, 총 에러 카운트가 제한을 초과(또는 대안적으로 충족)하는 경우에, 디바이스/어레이가 거절된 것(또는 "오류")로서 표기되고 테스트가 종료되는 것으로 귀착될 수 있다. 이러한 중간 판정 체크 동안에, 에러 카운트가 제한 미만(또는 대안적으로 동일한) 것으로 밝혀지는 경우에, 테스팅 시스템은 테스팅 방법(1000)으로 계속되도록 허용될 수 있다.If the decision check at step 1011 returns a result indicating that the previously analyzed MEMS/ASIC was the last row and column (e.g., row +x, column +x), for example, step 1013 ), a decision check may be made to determine whether the total error count is below an acceptable limit. If the error count is above (or alternatively exceeds) the limit, the device/array may be marked as rejected (or “error”) and testing may be performed (e.g., as shown in step 1015). It may end. If the total error count is below (or alternatively below) the limit, the device/array may be marked as accepted (or “passed”) and the test may be performed (e.g., as shown in step 1014). ) can be terminated. In some cases, an intermediate decision check may be performed at any step between steps 1004 and 1013 to determine whether the total error count has been met or exceeded. In some cases, this intermediate decision check means that if the total error count exceeds (or alternatively meets) the limit, the device/array is marked as rejected (or "error") and the test is terminated. It may result. During this interim decision check, if the error count is found to be less than (or alternatively equal to) the limit, the testing system may be permitted to continue with the testing method 1000.

위의 단계들은 실시예들에 따라 MEMS 어레이 트랜스듀서를 테스트하기 위한 도 5의 방법들의 실시예들을 나타내지만, 여전히 본 기술분야에서의 통상의 기술자는 본원에서 설명된 교시사항에 기초한 많은 변형들을 인식할 것이다. 단계들은 상이한 순서로 완료될 수 있다. 단계들은 추가되거나 삭제될 수 있다. 단계들의 일부는 서브-단계(sub-step)들을 포함할 수 있다. 단계들 중의 다수는 테스팅에 대해 유리할 정도로 자주 반복될 수 있다.Although the above steps represent embodiments of the methods of FIG. 5 for testing a MEMS array transducer in accordance with embodiments, those skilled in the art will still recognize many variations based on the teachings described herein. something to do. The steps may be completed in different orders. Steps can be added or deleted. Some of the steps may include sub-steps. Many of the steps can be repeated frequently enough to be advantageous for testing.

도 5의 방법의 단계들 중의 하나 이상은 본원에서 설명된 바와 같은 회로부로, 예를 들어, 본원에서 설명된 ASIC 또는 다른 프로세싱 또는 로직 회로부를 이용하여 수행될 수 있다. 회로부는 도 5의 방법의 단계들 중의 하나 이상을 제공하도록 프로그래밍될 수 있고, 프로그램은 예를 들어, 컴퓨터 판독가능 메모리 상에 저장된 프로그램 명령들, 또는 프로세싱 또는 로직 회로부의 프로그래밍된 단계들을 포함할 수 있다.One or more of the steps of the method of Figure 5 may be performed using circuitry as described herein, for example, using an ASIC or other processing or logic circuitry as described herein. Circuitry may be programmed to provide one or more of the steps of the method of Figure 5, and the program may include, for example, program instructions stored on a computer-readable memory, or programmed steps in processing or logic circuitry. there is.

에러 조건들 및 초음파 시스템 고장들Error conditions and ultrasound system failures

초음파 트랜스듀서 어레이(예컨대, MEMS 어레이) 또는 그 부분을 테스트하는 방법은 테스팅 동안에 에러를 식별하는 것을 포함할 수 있다. 테스팅 동안의 에러는 예상된 값 또는 파형 형상으로부터 이탈하는 전압, 전류, 파형, 또는 파형의 부분을 포함할 수 있다. 일부 경우들에는, 테스팅 동안에 식별되거나, 측정되거나, 검출되는 에러는 MEMS 어레이 또는 그 부분(예컨대, 어레이 내의 MEMS 엘리먼트 또는 MEMS 엘리먼트들의 그룹)에서의 고장의 결과일 수 있다.MEMS 어레이 또는 그 부분을 테스트하는 방법은 MEMS 어레이 또는 그 부분(예컨대, 어레이의 MEMS 엘리먼트 또는 MEMS 엘리먼트들의 그룹)에서 고장을 식별하는 것을 포함할 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 어레이 또는 그 부분에서의 더 낮은 수의 고장들은, 예컨대, 더 큰 수의 고장들을 가지는 MEMS 어레이 또는 그 부분과 비교하여, MEMS 어레이가 더 높은 감도, 더 높은 정확도, 및/또는 더 재현가능한 측정들을 가지는 것으로 귀결될 수 있다.A method of testing an ultrasonic transducer array (eg, MEMS array) or portion thereof may include identifying errors during testing. Errors during testing may include voltages, currents, waveforms, or portions of waveforms that deviate from expected values or waveform shapes. In some cases, an error identified, measured, or detected during testing may be the result of a failure in the MEMS array or a portion thereof (e.g., a MEMS element or group of MEMS elements within the array). A method of testing may include identifying a failure in a MEMS array or portion thereof (eg, a MEMS element or group of MEMS elements of the array). In some cases, a lower number of failures in a MEMS array or portion thereof may result in the MEMS array having higher sensitivity, higher accuracy, and/or, e.g., compared to a MEMS array or portion thereof with a larger number of failures. Or it may result in having more reproducible measurements.

일부 경우들에는, 에러는 MEMS 어레이 또는 그 부분에서의 고장으로부터 유발될 수 있다. 고장은 어레이로의, 어레이로부터의, 또는 어레이 내의 하나 이상의 접속들 또는 어레이에서의 결함으로부터 유발될 수 있다. 예를 들어, 고장은 ASIC 컴포넌트와 MEMS 컴포넌트 사이의 손상된 MEMS 엘리먼트, 단락, 또는 오류 있는 결합으로부터 유발도리 수 있다.In some cases, the error may result from a failure in the MEMS array or part thereof. A failure may result from a fault in the array or one or more connections to, from, or within the array. For example, a failure may result from a damaged MEMS element, short circuit, or faulty coupling between the ASIC component and the MEMS component.

일부 경우들에는, MEMS 어레이 또는 그 부분에서 (예컨대, 고장의 결과로서) 에러를 식별하는 것은, (예컨대, MEMS 어레이 또는 그 부분에 적용되는 테스트 신호에 응답하여) MEMS 어레이 또는 그 부분의 출력을 측정하는 것을 포함할 수 있다. 예를 들어, 초음파 이미저 시스템(또는 초음파 이미저 테스트 시스템(100)) 또는 그 부분의 출력을 예상된 출력 전압 값 또는 예상된 출력 전압 범위와 비교함으로써, (예컨대, 시스템 고장으로부터 기인하는) 에러는 초음파 이미저 시스템 또는 그 부분(예컨대, 어레이의 MEMS 엘리먼트 또는 MEMS 엘리먼트들의 그룹)에서 식별될 수 있다. 일부 경우들에는, 본원에서 설명된 방법은 초음파 이미저 시스템(또는 초음파 이미저 테스트 시스템(100))의 출력 신호가 출력 제한들의 세트 내에 있는지 여부를 결정하는 것을 포함할 수 있다. 일부 경우들에는, 출력 제한들의 세트가 예상된 출력 신호 전압 진폭 값들의 범위를 포함한다. 일부 경우들에는, 예상된 출력 신호 전압 진폭 값이 0.1 볼트 내지 1 볼트, 0.1 볼트 내지 2 볼트, 0.1 볼트 내지 3 볼트, 0.1 볼트 내지 4 볼트, 0.1 볼트 내지 5 볼트, 0.1 볼트 내지 7.5 볼트, 0.1 볼트 내지 10 볼트, 0.1 볼트 내지 15 볼트, 0.1 볼트 내지 18 볼트, 0.1 볼트 내지 20 볼트, 1 볼트 내지 2 볼트, 1 볼트 내지 3 볼트, 1 볼트 내지 4 볼트, 1 볼트 내지 5 볼트, 1 볼트 내지 7.5 볼트, 1 볼트 내지 10 볼트, 1 볼트 내지 15 볼트, 1 볼트 내지 18 볼트, 1 볼트 내지 20 볼트, 2 볼트 내지 3 볼트, 2 볼트 내지 4 볼트, 2 볼트 내지 5 볼트, 2 볼트 내지 7.5 볼트, 2 볼트 내지 10 볼트, 2 볼트 내지 15 볼트, 2 볼트 내지 18 볼트, 2 볼트 내지 20 볼트, 3 볼트 내지 4 볼트, 3 볼트 내지 5 볼트, 3 볼트 내지 7.5 볼트, 3 볼트 내지 10 볼트, 3 볼트 내지 15 볼트, 3 볼트 내지 18 볼트, 3 볼트 내지 20 볼트, 4 볼트 내지 5 볼트, 4 볼트 내지 7.5 볼트, 4 볼트 내지 10 볼트, 4 볼트 내지 15 볼트, 4 볼트 내지 18 볼트, 4 볼트 내지 20 볼트, 5 볼트 내지 7.5 볼트, 5 볼트 내지 10 볼트, 5 볼트 내지 15 볼트, 5 볼트 내지 18 볼트, 5 볼트 내지 20 볼트, 7.5 볼트 내지 10 볼트, 7.5 볼트 내지 15 볼트, 7.5 볼트 내지 18 볼트, 7.5 볼트 내지 20 볼트, 10 볼트 내지 15 볼트, 10 볼트 내지 18 볼트, 10 볼트 내지 20 볼트, 15 볼트 내지 18 볼트, 15 볼트 내지 20 볼트, 또는 18 볼트 내지 20 볼트, 또는 20 볼트 초과일 수 있다. 일부 경우들에는, 예상된 출력 신호 전압 진폭 값은 0.1 볼트, 1 볼트, 2 볼트, 3 볼트, 4 볼트, 5 볼트, 7.5 볼트, 10 볼트, 15 볼트, 18 볼트, 또는 20 볼트일 수 있다. 일부 경우들에는, 출력 제한들의 세트가 예상된 출력 신호 주파수 값들의 범위를 포함한다. 일부 경우들에는, 예상된 출력 신호 주파수 값은 0.1 kHz 내지 1 kHz, 0.1 kHz 내지 5 kHz, 0.1 kHz 내지 10 kHz, 0.1 kHz 내지 15 kHz, 0.1 kHz 내지 20 kHz, 0.1 kHz 내지 25 kHz, 0.1 kHz 내지 30 kHz, 0.1 kHz 내지 35 kHz, 0.1 kHz 내지 40 kHz, 1 kHz 내지 5 kHz, 1 kHz 내지 10 kHz, 1 kHz 내지 15 kHz, 1 kHz 내지 20 kHz, 1 kHz 내지 25 kHz, 1 kHz 내지 30 kHz, 1 kHz 내지 35 kHz, 1 kHz 내지 40 kHz, 5 kHz 내지 10 kHz, 5 kHz 내지 15 kHz, 5 kHz 내지 20 kHz, 5 kHz 내지 25 kHz, 5 kHz 내지 30 kHz, 5 kHz 내지 35 kHz, 5 kHz 내지 40 kHz, 10 kHz 내지 15 kHz, 10 kHz 내지 20 kHz, 10 kHz 내지 25 kHz, 10 kHz 내지 30 kHz, 10 kHz 내지 35 kHz, 10 kHz 내지 40 kHz, 15 kHz 내지 20 kHz, 15 kHz 내지 25 kHz, 15 kHz 내지 30 kHz, 15 kHz 내지 35 kHz, 15 kHz 내지 40 kHz, 20 kHz 내지 25 kHz, 20 kHz 내지 30 kHz, 20 kHz 내지 35 kHz, 20 kHz 내지 40 kHz, 25 kHz 내지 30 kHz, 25 kHz 내지 35 kHz, 25 kHz 내지 40 kHz, 30 kHz 내지 35 kHz, 30 kHz 내지 40 kHz, 또는 35 kHz 내지 40 kHz, 또는 40 kHz 초과일 수 있다. 일부 경우들에는, 예상된 출력 신호 주파수 값은 0.1 kHz, 1 kHz, 5 kHz, 10 kHz, 15 kHz, 20 kHz, 25 kHz, 30 kHz, 35 kHz, 또는 40 kHz일 수 있다.In some cases, identifying an error in a MEMS array or portion thereof (e.g., as a result of a failure) may involve changing the output of the MEMS array or portion thereof (e.g., in response to a test signal applied to the MEMS array or portion thereof). It may include measuring. For example, by comparing the output of the ultrasonic imager system (or ultrasonic imager test system 100) or portion thereof to an expected output voltage value or expected output voltage range, errors (e.g., resulting from system failure) can be detected. may be identified in an ultrasonic imager system or portion thereof (eg, an array of MEMS elements or a group of MEMS elements). In some cases, the method described herein may include determining whether an output signal of an ultrasonic imager system (or ultrasonic imager test system 100) is within a set of output limits. In some cases, the set of output limits includes a range of expected output signal voltage amplitude values. In some cases, the expected output signal voltage amplitude value is 0.1 Volt to 1 Volt, 0.1 Volt to 2 Volt, 0.1 Volt to 3 Volt, 0.1 Volt to 4 Volt, 0.1 Volt to 5 Volt, 0.1 Volt to 7.5 Volt, 0.1 Volt to 7 Volt. 10 Volts to 10 Volts, 0.1 Volts to 15 Volts, 0.1 Volts to 18 Volts, 0.1 Volts to 20 Volts, 1 Volts to 2 Volts, 1 Volts to 3 Volts, 1 Volts to 4 Volts, 1 Volts to 5 Volts, 1 Volts to 1 Volts 7.5 volts, 1 volt to 10 volts, 1 volt to 15 volts, 1 volt to 18 volts, 1 volt to 20 volts, 2 volts to 3 volts, 2 volts to 4 volts, 2 volts to 5 volts, 2 volts to 7.5 volts , 2 volts to 10 volts, 2 volts to 15 volts, 2 volts to 18 volts, 2 volts to 20 volts, 3 volts to 4 volts, 3 volts to 5 volts, 3 volts to 7.5 volts, 3 volts to 10 volts, 3 15 Volts to 15 Volts, 3 Volts to 18 Volts, 3 Volts to 20 Volts, 4 Volts to 5 Volts, 4 Volts to 7.5 Volts, 4 Volts to 10 Volts, 4 Volts to 15 Volts, 4 Volts to 18 Volts, 4 Volts to 4 Volts 20 Volts, 5 Volts to 7.5 Volts, 5 Volts to 10 Volts, 5 Volts to 15 Volts, 5 Volts to 18 Volts, 5 Volts to 20 Volts, 7.5 Volts to 10 Volts, 7.5 Volts to 15 Volts, 7.5 Volts to 18 Volts , 7.5 volts to 20 volts, 10 volts to 15 volts, 10 volts to 18 volts, 10 volts to 20 volts, 15 volts to 18 volts, 15 volts to 20 volts, or 18 volts to 20 volts, or greater than 20 volts. there is. In some cases, the expected output signal voltage amplitude value may be 0.1 volts, 1 volt, 2 volts, 3 volts, 4 volts, 5 volts, 7.5 volts, 10 volts, 15 volts, 18 volts, or 20 volts. In some cases, the set of output limits includes a range of expected output signal frequency values. In some cases, expected output signal frequency values are 0.1 kHz to 1 kHz, 0.1 kHz to 5 kHz, 0.1 kHz to 10 kHz, 0.1 kHz to 15 kHz, 0.1 kHz to 20 kHz, 0.1 kHz to 25 kHz, 0.1 kHz. to 30 kHz, 0.1 kHz to 35 kHz, 0.1 kHz to 40 kHz, 1 kHz to 5 kHz, 1 kHz to 10 kHz, 1 kHz to 15 kHz, 1 kHz to 20 kHz, 1 kHz to 25 kHz, 1 kHz to 30 kHz, 1 kHz to 35 kHz, 1 kHz to 40 kHz, 5 kHz to 10 kHz, 5 kHz to 15 kHz, 5 kHz to 20 kHz, 5 kHz to 25 kHz, 5 kHz to 30 kHz, 5 kHz to 35 kHz, 5 kHz to 40 kHz, 10 kHz to 15 kHz, 10 kHz to 20 kHz, 10 kHz to 25 kHz, 10 kHz to 30 kHz, 10 kHz to 35 kHz, 10 kHz to 40 kHz, 15 kHz to 20 kHz, 15 kHz to 25 kHz, 15 kHz to 30 kHz, 15 kHz to 35 kHz, 15 kHz to 40 kHz, 20 kHz to 25 kHz, 20 kHz to 30 kHz, 20 kHz to 35 kHz, 20 kHz to 40 kHz, 25 kHz to 30 kHz, 25 kHz to 35 kHz, 25 kHz to 40 kHz, 30 kHz to 35 kHz, 30 kHz to 40 kHz, or 35 kHz to 40 kHz, or greater than 40 kHz. In some cases, the expected output signal frequency value may be 0.1 kHz, 1 kHz, 5 kHz, 10 kHz, 15 kHz, 20 kHz, 25 kHz, 30 kHz, 35 kHz, or 40 kHz.

일부 경우들에는, 측정된 값(예컨대, 측정된 출력 신호 전압 진폭 및/또는 측정된 출력 신호 주파수)이 예상된 값 또는 범위보다 큰 0.1 % 내지 1 %, 0.1 % 내지 5 %, 0.1 % 내지 10 %, 0.1 % 내지 20 %, 0.1 % 내지 25 %, 0.1 % 내지 30 %, 0.1 % 내지 40 %, 0.1 % 내지 50 %, 1 % 내지 5 %, 1 % 내지 10 %, 1 % 내지 20 %, 1 % 내지 25 %, 1 % 내지 30 %, 1 % 내지 40 %, 1 % 내지 50 %, 5 % 내지 10 %, 5 % 내지 20 %, 5 % 내지 25 %, 5 % 내지 30 %, 5 % 내지 40 %, 5 % 내지 50 %, 10 % 내지 20 %, 10 % 내지 25 %, 10 % 내지 30 %, 10 % 내지 40 %, 10 % 내지 50 %, 20 % 내지 25 %, 20 % 내지 30 %, 20 % 내지 40 %, 20 % 내지 50 %, 25 % 내지 30 %, 25 % 내지 40 %, 25 % 내지 50 %, 30 % 내지 40 %, 30 % 내지 50 %, 또는 40 % 내지 50 %, 또는 50 % 초과일 수 있는 경우에, 에러가 존재하는 것으로 결정될 수 있다(또는 에러 카운트가 하나씩 증가될 수 있음). 일부 경우들에는, 측정된 값(예컨대, 측정된 출력 신호 전압 진폭 및/또는 측정된 출력 신호 주파수)이 예상된 값 또는 범위보다 작은 0.1 % 내지 1 %, 0.1 % 내지 5 %, 0.1 % 내지 10 %, 0.1 % 내지 20 %, 0.1 % 내지 25 %, 0.1 % 내지 30 %, 0.1 % 내지 40 %, 0.1 % 내지 50 %, 1 % 내지 5 %, 1 % 내지 10 %, 1 % 내지 20 %, 1 % 내지 25 %, 1 % 내지 30 %, 1 % 내지 40 %, 1 % 내지 50 %, 5 % 내지 10 %, 5 % 내지 20 %, 5 % 내지 25 %, 5 % 내지 30 %, 5 % 내지 40 %, 5 % 내지 50 %, 10 % 내지 20 %, 10 % 내지 25 %, 10 % 내지 30 %, 10 % 내지 40 %, 10 % 내지 50 %, 20 % 내지 25 %, 20 % 내지 30 %, 20 % 내지 40 %, 20 % 내지 50 %, 25 % 내지 30 %, 25 % 내지 40 %, 25 % 내지 50 %, 30 % 내지 40 %, 30 % 내지 50 %, 40 % 내지 50 %, 또는 50 % 초과일 수 있는 경우에, 에러가 존재하는 것으로 결정될 수 있다(또는 에러 카운트가 하나씩 증가될 수 있음).In some cases, the measured value (e.g., measured output signal voltage amplitude and/or measured output signal frequency) is 0.1% to 1%, 0.1% to 5%, 0.1% to 10% greater than the expected value or range. %, 0.1% to 20%, 0.1% to 25%, 0.1% to 30%, 0.1% to 40%, 0.1% to 50%, 1% to 5%, 1% to 10%, 1% to 20%, 1% to 25%, 1% to 30%, 1% to 40%, 1% to 50%, 5% to 10%, 5% to 20%, 5% to 25%, 5% to 30%, 5% to 40%, 5% to 50%, 10% to 20%, 10% to 25%, 10% to 30%, 10% to 40%, 10% to 50%, 20% to 25%, 20% to 30% %, 20% to 40%, 20% to 50%, 25% to 30%, 25% to 40%, 25% to 50%, 30% to 40%, 30% to 50%, or 40% to 50% , or may be greater than 50%, an error may be determined to exist (or the error count may be incremented by one). In some cases, the measured value (e.g., measured output signal voltage amplitude and/or measured output signal frequency) is 0.1% to 1%, 0.1% to 5%, 0.1% to 10% less than the expected value or range. %, 0.1% to 20%, 0.1% to 25%, 0.1% to 30%, 0.1% to 40%, 0.1% to 50%, 1% to 5%, 1% to 10%, 1% to 20%, 1% to 25%, 1% to 30%, 1% to 40%, 1% to 50%, 5% to 10%, 5% to 20%, 5% to 25%, 5% to 30%, 5% to 40%, 5% to 50%, 10% to 20%, 10% to 25%, 10% to 30%, 10% to 40%, 10% to 50%, 20% to 25%, 20% to 30% %, 20% to 40%, 20% to 50%, 25% to 30%, 25% to 40%, 25% to 50%, 30% to 40%, 30% to 50%, 40% to 50%, or may be greater than 50%, then it may be determined that an error exists (or the error count may be incremented by one).

예를 들어, MEMS 어레이 또는 그 부분에서의 고장들의 총 수의 합산에 의한, MEMS 어레이 또는 그 부분에서 검출된 고장들의 수의 평가는 MEMS 어레이가 이용될 수 있거나 거절되어야 하는지 여부를 결정하기 위하여 이용될 수 있다. 예를 들어, 검출된 고장들의 총 수가 총 고장 제한 또는 임계 값을 초과하는 MEMS 어레이는 거절된 것으로서 식별되거나 표기될 수 있는 반면, 어레이에서 검출된 고장들의 총 수가 제한 또는 임계 값 이하인 MEMS 어레이는 수락가능한 것으로서 식별되거나 표기될 수 있다(예컨대, "통과"로서 표기됨).An assessment of the number of failures detected in a MEMS array or part thereof, for example, by summing the total number of failures in the MEMS array or part thereof, can be used to determine whether the MEMS array can be used or should be rejected. It can be. For example, a MEMS array where the total number of detected failures exceeds a total failure limit or threshold may be identified or marked as rejected, while a MEMS array where the total number of detected failures in the array is below the limit or threshold may be accepted. May be identified or marked as possible (e.g., marked as “passed”).

일부 경우들에는, 총 고장 제한 또는 임계치는 예상된 시스템 성능 파라미터에 기초하여 결정될 수 있다. 일부 경우들에는, 총 고장 제한(예컨대, 통과/오류 임계 값)은 측정들의 감도(sensitivity), 정확도(accuracy), 및/또는 재현가능성(reproducibility)의 희망된 레벨에 적어도 부분적으로 기초하여 결정될 수 있다. 일부 경우들에는, 총 고장 제한(예컨대, 통과/오류 임계 값)은 희망된 레벨 또는 성능이 손실되기 전에 MEMS 어레이 또는 그 부분이 가질 수 있는 고장들의 예상된 수에 적어도 부분적으로 기초할 수 있다. 일부 경우들에는, 총 에러 제한(예컨대, 통과/오류 임계치)은 제곱 밀리미터(square millimeter) 당 MEMS 엘리먼트의 0.01 퍼센트(percent) 내지 50 퍼센트일 수 있다. 일부 경우들에는, 총 에러 제한(예컨대, 통과/오류 임계치)은 제곱 밀리미터 당 MEMS 엘리먼트들의 0.01 퍼센트 내지 0.1 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 1 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 2 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 3 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 4 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 5 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 7 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 10 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 20 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 25 퍼센트, 0.01 퍼센트 내지 50 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 1 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 2 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 3 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 4 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 5 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 7 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 10 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 20 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 25 퍼센트, 0.1 퍼센트 내지 50 퍼센트, 1 퍼센트 내지 2 퍼센트, 1 퍼센트 내지 3 퍼센트, 1 퍼센트 내지 4 퍼센트, 1 퍼센트 내지 5 퍼센트, 1 퍼센트 내지 7 퍼센트, 1 퍼센트 내지 10 퍼센트, 1 퍼센트 내지 20 퍼센트, 1 퍼센트 내지 25 퍼센트, 1 퍼센트 내지 50 퍼센트, 2 퍼센트 내지 3 퍼센트, 2 퍼센트 내지 4 퍼센트, 2 퍼센트 내지 5 퍼센트, 2 퍼센트 내지 7 퍼센트, 2 퍼센트 내지 10 퍼센트, 2 퍼센트 내지 20 퍼센트, 2 퍼센트 내지 25 퍼센트, 2 퍼센트 내지 50 퍼센트, 3 퍼센트 내지 4 퍼센트, 3 퍼센트 내지 5 퍼센트, 3 퍼센트 내지 7 퍼센트, 3 퍼센트 내지 10 퍼센트, 3 퍼센트 내지 20 퍼센트, 3 퍼센트 내지 25 퍼센트, 3 퍼센트 내지 50 퍼센트, 4 퍼센트 내지 5 퍼센트, 4 퍼센트 내지 7 퍼센트, 4 퍼센트 내지 10 퍼센트, 4 퍼센트 내지 20 퍼센트, 4 퍼센트 내지 25 퍼센트, 4 퍼센트 내지 50 퍼센트, 5 퍼센트 내지 7 퍼센트, 5 퍼센트 내지 10 퍼센트, 5 퍼센트 내지 20 퍼센트, 5 퍼센트 내지 25 퍼센트, 5 퍼센트 내지 50 퍼센트, 7 퍼센트 내지 10 퍼센트, 7 퍼센트 내지 20 퍼센트, 7 퍼센트 내지 25 퍼센트, 7 퍼센트 내지 50 퍼센트, 10 퍼센트 내지 20 퍼센트, 10 퍼센트 내지 25 퍼센트, 10 퍼센트 내지 50 퍼센트, 20 퍼센트 내지 25 퍼센트, 20 퍼센트 내지 50 퍼센트, 또는 25 퍼센트 내지 50 퍼센트일 수 있다. 일부 경우들에는, 총 에러 제한(예컨대, 통과/오류 임계치)은 제곱 밀리미터 당 MEMS 엘리먼트의 0.01 퍼센트, 0.1 퍼센트, 1 퍼센트, 2 퍼센트, 3 퍼센트, 4 퍼센트, 5 퍼센트, 7 퍼센트, 10 퍼센트, 20 퍼센트, 25 퍼센트, 또는 50 퍼센트일 수 있다. 일부 경우들에는, 총 에러 제한(예컨대, 통과/오류 임계치)은 적어도 0.01 퍼센트, 0.1 퍼센트, 1 퍼센트, 2 퍼센트, 3 퍼센트, 4 퍼센트, 5 퍼센트, 7 퍼센트, 10 퍼센트, 20 퍼센트, 25 퍼센트, 또는 50 퍼센트일 수 있다. 일부 경우들에는, 총 에러 제한(예컨대, 통과/오류 임계치)은 제곱 밀리미터 당 MEMS 엘리먼트의 최대 0.01 퍼센트, 0.1 퍼센트, 1 퍼센트, 2 퍼센트, 3 퍼센트, 4 퍼센트, 5 퍼센트, 7 퍼센트, 10 퍼센트, 20 퍼센트, 25 퍼센트, 또는 50 퍼센트일 수 있다.In some cases, the total failure limit or threshold may be determined based on expected system performance parameters. In some cases, the total failure limit (e.g., pass/fail threshold) may be determined based at least in part on the desired level of sensitivity, accuracy, and/or reproducibility of the measurements. there is. In some cases, the total failure limit (eg, pass/fail threshold) may be based at least in part on the expected number of failures the MEMS array or portion thereof may have before a desired level or performance is lost. In some cases, the total error limit (eg, pass/fail threshold) may be between 0.01 percent and 50 percent of the MEMS element per square millimeter. In some cases, the total error limit (e.g., pass/fail threshold) is 0.01 percent to 0.1 percent, 0.01 percent to 1 percent, 0.01 percent to 2 percent, 0.01 percent to 3 percent, or 0.01 percent to 0.01 percent of MEMS elements per square millimeter. 4 percent, 0.01 percent to 5 percent, 0.01 percent to 7 percent, 0.01 percent to 10 percent, 0.01 percent to 20 percent, 0.01 percent to 25 percent, 0.01 percent to 50 percent, 0.1 percent to 1 percent, 0.1 percent to 2 percent. , 0.1 percent to 3 percent, 0.1 percent to 4 percent, 0.1 percent to 5 percent, 0.1 percent to 7 percent, 0.1 percent to 10 percent, 0.1 percent to 20 percent, 0.1 percent to 25 percent, 0.1 percent to 50 percent, 1 Percent to 2 percent, 1 percent to 3 percent, 1 percent to 4 percent, 1 percent to 5 percent, 1 percent to 7 percent, 1 percent to 10 percent, 1 percent to 20 percent, 1 percent to 25 percent, 1 percent to 1 percent. 50 percent, 2 percent to 3 percent, 2 percent to 4 percent, 2 percent to 5 percent, 2 percent to 7 percent, 2 percent to 10 percent, 2 percent to 20 percent, 2 percent to 25 percent, 2 percent to 50 percent , 3 percent to 4 percent, 3 percent to 5 percent, 3 percent to 7 percent, 3 percent to 10 percent, 3 percent to 20 percent, 3 percent to 25 percent, 3 percent to 50 percent, 4 percent to 5 percent, 4 Percent to 7 percent, 4 percent to 10 percent, 4 percent to 20 percent, 4 percent to 25 percent, 4 percent to 50 percent, 5 percent to 7 percent, 5 percent to 10 percent, 5 percent to 20 percent, 5 percent to 25 percent, 5 percent to 50 percent, 7 percent to 10 percent, 7 percent to 20 percent, 7 percent to 25 percent, 7 percent to 50 percent, 10 percent to 20 percent, 10 percent to 25 percent, 10 percent to 50 percent , 20 percent to 25 percent, 20 percent to 50 percent, or 25 percent to 50 percent. In some cases, the total error limit (e.g., pass/fail threshold) may be 0.01 percent, 0.1 percent, 1 percent, 2 percent, 3 percent, 4 percent, 5 percent, 7 percent, 10 percent, per square millimeter of MEMS element. It could be 20 percent, 25 percent, or 50 percent. In some cases, the total error limit (e.g., pass/error threshold) is at least 0.01 percent, 0.1 percent, 1 percent, 2 percent, 3 percent, 4 percent, 5 percent, 7 percent, 10 percent, 20 percent, 25 percent. , or it could be 50 percent. In some cases, the total error limit (e.g., pass/fail threshold) may be up to 0.01 percent, 0.1 percent, 1 percent, 2 percent, 3 percent, 4 percent, 5 percent, 7 percent, or 10 percent of the MEMS element per square millimeter. , may be 20 percent, 25 percent, or 50 percent.

일부 경우들에는, 총 에러 제한(예컨대, 통과/오류 임계 값)은 MEMS 어레이들의 생성 배치(production batch)에 걸친 MEMS 어레이 또는 그 부분 당 총 고장들의 분포에 적어도 부분적으로 기초할 수 있다. 예를 들어, 통과/오류 결정들은 총 고장 수에 의해 구간화된(binned) 생성 런(production run)으로부터의 MEMS 어레이들의 분석에 기초하여 행해질 수 있다. 일부 실시예들에서, (예컨대, 어레이 당 고장들, MEMS 엘리먼트 당 고장들, 또는 어레이 영역의 제곱 밀리미터 당 에러들의 총 수에 의해 등급화되거나 구간화된) 테스트된 MEMS 어레이들의 상위 오분위(quintile), 상위 2개의 오분위들, 상위 3개의 오분위들, 상위 4개의 오분위들, 상위 사분위(quartile), 상위 2개의 사분위들, 상위 3개의 사분위들, 상위 삼분위(third), 상위 2개의 삼부위들, 또는 상위 이분위(half)만이 "통과"로서 식별되거나 표기된다(예컨대, 이용가능한 것으로서 식별되거나 표기되고 및/또는 판매를 위한 최종적인 디바이스 내로 추후에 편입됨).In some cases, the total error limit (eg, pass/fail threshold) may be based at least in part on the distribution of total failures per MEMS array or portion thereof across a production batch of MEMS arrays. For example, pass/fail decisions can be made based on analysis of MEMS arrays from a production run binned by total number of failures. In some embodiments, the top quintile of tested MEMS arrays (e.g., ranked or binned by the total number of failures per array, failures per MEMS element, or errors per square millimeter of array area) ), top 2 quintiles, top 3 quintiles, top 4 quintiles, top quartile, top 2 quartiles, top 3 quartiles, top third , only the top two tertiles, or top half, are identified or marked as “pass” (e.g., identified or marked as available and/or subsequently incorporated into the final device for sale).

초음파 디바이스들 및 그 부분들(예컨대, MEMS 어레이들 또는 그 부분들, ASIC들 등)을 테스트하기 위한 방법들 및 시스템들은, 예를 들어, 기계적 신호들을 개별적인 트랜스듀서 엘리먼트들을 순차적으로 제공하기 위하여 프로브를 이용하는 것을 요구할 수 있는 전류 생성 및 테스팅 방법들 및 시스템들과 비교하여, 초음파 디바이스 컴포넌트들(예컨대, MEMS 어레이들, MEMS 어레이들의 부분들, ASIC들 등)을 생성하고 테스트하는 시간(및 비용)을 상당히 감소시킬 수 있다. 유리하게도, 본원에서 설명된 방법들 및 시스템들은 변형가능한 트랜스듀서 엘리먼트의 기계적 변조를 필요로 하지 않으면서, 디바이스 컴포넌트들을 병렬로 테스트하기 위하여 (예컨대, 본원에서 설명된 바와 같이 변조된) 바이어스 전압을 사용할 수 있다. 일부 경우들에는, 방법들 및 시스템들이 복수의 엘리먼트들을 병렬로 테스트하기 위하여 이용될 수 있다. 예를 들어, 본원에서 설명된 테스팅 시스템 또는 방법은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 10 내지 20, 20 내지 30, 30 내지 40, 40 내지 50, 50 내지 100, 100 내지 200, 200 내지 500, 500 내지 1000, 또는 1000 초과의 MEMS 엘리먼트들을 병렬로 테스트하도록 구성될 수 있다. 일부 경우들에는, 초음파 트랜스듀서 어레이의 엘리먼트들은 기판 상의 그 배열의 순서에 따라 테스트될 수 있다. 예를 들어, (예컨대, 도 2a에서 도시된 바와 같은) 어레이의 행 또는 어레이의 열 내의 MEMS 엘리먼트들의 전부 또는 부분이 병렬로 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 20 마이크로초(microsecond) 내지 50,000 마이크로초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트의 행 또는 열이 20 마이크로초 내지 50 마이크로초, 20 마이크로초 내지 100 마이크로초, 20 마이크로초 내지 150 마이크로초, 20 마이크로초 내지 200 마이크로초, 20 마이크로초 내지 500 마이크로초, 20 마이크로초 내지 1,000 마이크로초, 20 마이크로초 내지 5,000 마이크로초, 20 마이크로초 내지 10,000 마이크로초, 20 마이크로초 내지 50,000 마이크로초, 50 마이크로초 내지 100 마이크로초, 50 마이크로초 내지 150 마이크로초, 50 마이크로초 내지 200 마이크로초, 50 마이크로초 내지 500 마이크로초, 50 마이크로초 내지 1,000 마이크로초, 50 마이크로초 내지 5,000 마이크로초, 50 마이크로초 내지 10,000 마이크로초, 50 마이크로초 내지 50,000 마이크로초, 100 마이크로초 내지 150 마이크로초, 100 마이크로초 내지 200 마이크로초, 100 마이크로초 내지 500 마이크로초, 100 마이크로초 내지 1,000 마이크로초, 100 마이크로초 내지 5,000 마이크로초, 100 마이크로초 내지 10,000 마이크로초, 100 마이크로초 내지 50,000 마이크로초, 150 마이크로초 내지 200 마이크로초, 150 마이크로초 내지 500 마이크로초, 150 마이크로초 내지 1,000 마이크로초, 150 마이크로초 내지 5,000 마이크로초, 150 마이크로초 내지 10,000 마이크로초, 150 마이크로초 내지 50,000 마이크로초, 200 마이크로초 내지 500 마이크로초, 200 마이크로초 내지 1,000 마이크로초, 200 마이크로초 내지 5,000 마이크로초, 200 마이크로초 내지 10,000 마이크로초, 200 마이크로초 내지 50,000 마이크로초, 500 마이크로초 내지 1,000 마이크로초, 500 마이크로초 내지 5,000 마이크로초, 500 마이크로초 내지 10,000 마이크로초, 500 마이크로초 내지 50,000 마이크로초, 1,000 마이크로초 내지 5,000 마이크로초, 1,000 마이크로초 내지 10,000 마이크로초, 1,000 마이크로초 내지 50,000 마이크로초, 5,000 마이크로초 내지 10,000 마이크로초, 5,000 마이크로초 내지 50,000 마이크로초, 또는 10,000 마이크로초 내지 50,000 마이크로초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 20 마이크로초, 50 마이크로초, 100 마이크로초, 150 마이크로초, 200 마이크로초, 500 마이크로초, 1,000 마이크로초, 5,000 마이크로초, 10,000 마이크로초, 또는 50,000 마이크로초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 적어도 20 마이크로초, 50 마이크로초, 100 마이크로초, 150 마이크로초, 200 마이크로초, 500 마이크로초, 1,000 마이크로초, 5,000 마이크로초, 10,000 마이크로초, 또는 50,000 마이크로초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 최대 20 마이크로초, 50 마이크로초, 100 마이크로초, 150 마이크로초, 200 마이크로초, 500 마이크로초, 1,000 마이크로초, 5,000 마이크로초, 10,000 마이크로초, 또는 50,000 마이크로초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 0.05 초(second) 내지 0.10 초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 0.1 초 내지 100 초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트의 행 또는 열은 0.1 초 내지 0.2 초, 0.1 초 내지 0.5 초, 0.1 초 내지 1 초, 0.1 초 내지 2 초, 0.1 초 내지 3 초, 0.1 초 내지 4 초, 0.1 초 내지 5 초, 0.1 초 내지 10 초, 0.1 초 내지 100 초, 0.2 초 내지 0.5 초, 0.2 초 내지 1 초, 0.2 초 내지 2 초, 0.2 초 내지 3 초, 0.2 초 내지 4 초, 0.2 초 내지 5 초, 0.2 초 내지 10 초, 0.2 초 내지 100 초, 0.5 초 내지 1 초, 0.5 초 내지 2 초, 0.5 초 내지 3 초, 0.5 초 내지 4 초, 0.5 초 내지 5 초, 0.5 초 내지 10 초, 0.5 초 내지 100 초, 1 초 내지 2 초, 1 초 내지 3 초, 1 초 내지 4 초, 1 초 내지 5 초, 1 초 내지 10 초, 1 초 내지 100 초, 2 초 내지 3 초, 2 초 내지 4 초, 2 초 내지 5 초, 2 초 내지 10 초, 2 초 내지 100 초, 3 초 내지 4 초, 3 초 내지 5 초, 3 초 내지 10 초, 3 초 내지 100 초, 4 초 내지 5 초, 4 초 내지 10 초, 4 초 내지 100 초, 5 초 내지 10 초, 5 초 내지 100 초, 또는 10 초 내지 100 초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 0.1 초, 0.2 초, 0.5 초, 1 초, 2 초, 3 초, 4 초, 5 초, 10 초, 또는 100 초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 적어도 0.1 초, 0.2 초, 0.5 초, 1 초, 2 초, 3 초, 4 초, 5 초, 10 초, 또는 100 초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 엘리먼트들의 행 또는 열은 최대 0.1 초, 0.2 초, 0.5 초, 1 초, 2 초, 3 초, 4 초, 5 초, 10 초, 또는 100 초 내에 테스트될 수 있다.Methods and systems for testing ultrasonic devices and portions thereof (e.g., MEMS arrays or portions thereof, ASICs, etc.) include, for example, probes to sequentially provide mechanical signals to individual transducer elements. The time (and cost) of generating and testing ultrasonic device components (e.g., MEMS arrays, portions of MEMS arrays, ASICs, etc.) compared to current generation and testing methods and systems that may require using can be significantly reduced. Advantageously, the methods and systems described herein utilize a bias voltage (e.g., modulated as described herein) to test device components in parallel, without requiring mechanical modulation of the deformable transducer element. You can use it. In some cases, methods and systems can be used to test multiple elements in parallel. For example, the testing system or method described herein can be used for testing 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 10 to 20, 20 to 30, 30 to 40, 40 to 50, 50 It can be configured to test between 100, 100 and 200, 200 and 500, 500 and 1000, or more than 1000 MEMS elements in parallel. In some cases, elements of an ultrasonic transducer array can be tested according to the order of their arrangement on a substrate. For example, all or part of the MEMS elements within a row of an array or a column of an array (e.g., as shown in FIG. 2A) can be tested in parallel. In some cases, a row or column of MEMS elements can be tested within 20 microseconds to 50,000 microseconds. In some cases, a row or column of MEMS elements may have a range of 20 microseconds to 50 microseconds, 20 microseconds to 100 microseconds, 20 microseconds to 150 microseconds, 20 microseconds to 200 microseconds, or 20 microseconds to 500 microseconds. seconds, 20 microseconds to 1,000 microseconds, 20 microseconds to 5,000 microseconds, 20 microseconds to 10,000 microseconds, 20 microseconds to 50,000 microseconds, 50 microseconds to 100 microseconds, 50 microseconds to 150 microseconds, 50 microseconds to 200 microseconds, 50 microseconds to 500 microseconds, 50 microseconds to 1,000 microseconds, 50 microseconds to 5,000 microseconds, 50 microseconds to 10,000 microseconds, 50 microseconds to 50,000 microseconds, 100 microseconds seconds to 150 microseconds, 100 microseconds to 200 microseconds, 100 microseconds to 500 microseconds, 100 microseconds to 1,000 microseconds, 100 microseconds to 5,000 microseconds, 100 microseconds to 10,000 microseconds, 100 microseconds to 100 microseconds 50,000 microseconds, 150 microseconds to 200 microseconds, 150 microseconds to 500 microseconds, 150 microseconds to 1,000 microseconds, 150 microseconds to 5,000 microseconds, 150 microseconds to 10,000 microseconds, 150 microseconds to 50,000 microseconds seconds, 200 microseconds to 500 microseconds, 200 microseconds to 1,000 microseconds, 200 microseconds to 5,000 microseconds, 200 microseconds to 10,000 microseconds, 200 microseconds to 50,000 microseconds, 500 microseconds to 1,000 microseconds, 500 microseconds to 5,000 microseconds, 500 microseconds to 10,000 microseconds, 500 microseconds to 50,000 microseconds, 1,000 microseconds to 5,000 microseconds, 1,000 microseconds to 10,000 microseconds, 1,000 microseconds to 50,000 microseconds, 5,000 microseconds seconds to 10,000 microseconds, 5,000 microseconds to 50,000 microseconds, or 10,000 microseconds to 50,000 microseconds. In some cases, a row or column of MEMS elements may have 20 microseconds, 50 microseconds, 100 microseconds, 150 microseconds, 200 microseconds, 500 microseconds, 1,000 microseconds, 5,000 microseconds, 10,000 microseconds, or 50,000 microseconds. It can be tested within microseconds. In some cases, a row or column of MEMS elements can be at least 20 microseconds, 50 microseconds, 100 microseconds, 150 microseconds, 200 microseconds, 500 microseconds, 1,000 microseconds, 5,000 microseconds, 10,000 microseconds, or It can be tested in 50,000 microseconds. In some cases, a row or column of MEMS elements can have up to 20 microseconds, 50 microseconds, 100 microseconds, 150 microseconds, 200 microseconds, 500 microseconds, 1,000 microseconds, 5,000 microseconds, 10,000 microseconds, or It can be tested in 50,000 microseconds. In some cases, a row or column of MEMS elements can be tested in 0.05 to 0.10 seconds. In some cases, a row or column of MEMS elements can be tested in 0.1 to 100 seconds. In some cases, a row or column of MEMS elements may be configured to perform a 0.1 sec to 0.2 sec, 0.1 sec to 0.5 sec, 0.1 sec to 1 sec, 0.1 sec to 2 sec, 0.1 sec to 3 sec, 0.1 sec to 4 sec, 0.1 sec to 5 seconds, 0.1 seconds to 10 seconds, 0.1 seconds to 100 seconds, 0.2 seconds to 0.5 seconds, 0.2 seconds to 1 second, 0.2 seconds to 2 seconds, 0.2 seconds to 3 seconds, 0.2 seconds to 4 seconds, 0.2 seconds to 5 seconds seconds, 0.2 seconds to 10 seconds, 0.2 seconds to 100 seconds, 0.5 seconds to 1 second, 0.5 seconds to 2 seconds, 0.5 seconds to 3 seconds, 0.5 seconds to 4 seconds, 0.5 seconds to 5 seconds, 0.5 seconds to 10 seconds, 0.5 seconds to 100 seconds, 1 second to 2 seconds, 1 second to 3 seconds, 1 second to 4 seconds, 1 second to 5 seconds, 1 second to 10 seconds, 1 second to 100 seconds, 2 seconds to 3 seconds, 2 seconds to 4 seconds, 2 seconds to 5 seconds, 2 seconds to 10 seconds, 2 seconds to 100 seconds, 3 seconds to 4 seconds, 3 seconds to 5 seconds, 3 seconds to 10 seconds, 3 seconds to 100 seconds, 4 seconds to 5 seconds seconds, 4 seconds to 10 seconds, 4 seconds to 100 seconds, 5 seconds to 10 seconds, 5 seconds to 100 seconds, or 10 seconds to 100 seconds. In some cases, a row or column of MEMS elements may be tested in 0.1 seconds, 0.2 seconds, 0.5 seconds, 1 second, 2 seconds, 3 seconds, 4 seconds, 5 seconds, 10 seconds, or 100 seconds. In some cases, a row or column of MEMS elements can be tested in at least 0.1 seconds, 0.2 seconds, 0.5 seconds, 1 second, 2 seconds, 3 seconds, 4 seconds, 5 seconds, 10 seconds, or 100 seconds. In some cases, a row or column of MEMS elements may be tested in up to 0.1 seconds, 0.2 seconds, 0.5 seconds, 1 second, 2 seconds, 3 seconds, 4 seconds, 5 seconds, 10 seconds, or 100 seconds.

일부 경우들에는, 초음파 어레이 또는 그 부분의 행 또는 열은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 35 내지 40, 40 내지 50, 50 내지 100, 100 내지 200, 200 내지 500, 또는 500 초과의 MEMS 엘리먼트들을 가질 수 있다.In some cases, the rows or columns of the ultrasound array or portion thereof are 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18. , 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 35 to 40, 40 to 50, 50 to 100, 100 to 200 , may have between 200 and 500, or more than 500 MEMS elements.

일부 경우들에는, MEMS 초음파 어레이는 0.01 밀리초(millisecond) 내지 50 밀리초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 초음파 어레이는 0.01 밀리초 내지 0.1 밀리초, 0.01 밀리초 내지 1 밀리초, 0.01 밀리초 내지 2 밀리초, 0.01 밀리초 내지 3 밀리초, 0.01 밀리초 내지 3.5 밀리초, 0.01 밀리초 내지 4 밀리초, 0.01 밀리초 내지 5 밀리초, 0.01 밀리초 내지 7.5 밀리초, 0.01 밀리초 내지 10 밀리초, 0.01 밀리초 내지 20 밀리초, 0.01 밀리초 내지 50 밀리초, 0.1 밀리초 내지 1 밀리초, 0.1 밀리초 내지 2 밀리초, 0.1 밀리초 내지 3 밀리초, 0.1 밀리초 내지 3.5 밀리초, 0.1 밀리초 내지 4 밀리초, 0.1 밀리초 내지 5 밀리초, 0.1 밀리초 내지 7.5 밀리초, 0.1 밀리초 내지 10 밀리초, 0.1 밀리초 내지 20 밀리초, 0.1 밀리초 내지 50 밀리초, 1 밀리초 내지 2 밀리초, 1 밀리초 내지 3 밀리초, 1 밀리초 내지 3.5 밀리초, 1 밀리초 내지 4 밀리초, 1 밀리초 내지 5 밀리초, 1 밀리초 내지 7.5 밀리초, 1 밀리초 내지 10 밀리초, 1 밀리초 내지 20 밀리초, 1 밀리초 내지 50 밀리초, 2 밀리초 내지 3 밀리초, 2 밀리초 내지 3.5 밀리초, 2 밀리초 내지 4 밀리초, 2 밀리초 내지 5 밀리초, 2 밀리초 내지 7.5 밀리초, 2 밀리초 내지 10 밀리초, 2 밀리초 내지 20 밀리초, 2 밀리초 내지 50 밀리초, 3 밀리초 내지 3.5 밀리초, 3 밀리초 내지 4 밀리초, 3 밀리초 내지 5 밀리초, 3 밀리초 내지 7.5 밀리초, 3 밀리초 내지 10 밀리초, 3 밀리초 내지 20 밀리초, 3 밀리초 내지 50 밀리초, 3.5 밀리초 내지 4 밀리초, 3.5 밀리초 내지 5 밀리초, 3.5 밀리초 내지 7.5 밀리초, 3.5 밀리초 내지 10 밀리초, 3.5 밀리초 내지 20 밀리초, 3.5 밀리초 내지 50 밀리초, 4 밀리초 내지 5 밀리초, 4 밀리초 내지 7.5 밀리초, 4 밀리초 내지 10 밀리초, 4 밀리초 내지 20 밀리초, 4 밀리초 내지 50 밀리초, 5 밀리초 내지 7.5 밀리초, 5 밀리초 내지 10 밀리초, 5 밀리초 내지 20 밀리초, 5 밀리초 내지 50 밀리초, 7.5 밀리초 내지 10 밀리초, 7.5 밀리초 내지 20 밀리초, 7.5 밀리초 내지 50 밀리초, 10 밀리초 내지 20 밀리초, 10 밀리초 내지 50 밀리초, 또는 20 밀리초 내지 50 밀리초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 초음파 어레이는 0.01 밀리초, 0.1 밀리초, 1 밀리초, 2 밀리초, 3 밀리초, 3.5 밀리초, 4 밀리초, 5 밀리초, 7.5 밀리초, 10 밀리초, 20 밀리초, 또는 50 밀리초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 초음파 어레이는 적어도 0.01 밀리초, 0.1 밀리초, 1 밀리초, 2 밀리초, 3 밀리초, 3.5 밀리초, 4 밀리초, 5 밀리초, 7.5 밀리초, 10 밀리초, 20 밀리초, 또는 50 밀리초 내에 테스트될 수 있다. 일부 경우들에는, MEMS 초음파 어레이는 최대 0.01 밀리초, 0.1 밀리초, 1 밀리초, 2 밀리초, 3 밀리초, 3.5 밀리초, 4 밀리초, 5 밀리초, 7.5 밀리초, 10 밀리초, 20 밀리초, 또는 50 밀리초 내에 테스트될 수 있다.In some cases, a MEMS ultrasonic array can be tested within 0.01 milliseconds to 50 milliseconds. In some cases, the MEMS ultrasound array has a frequency range of 0.01 millisecond to 0.1 millisecond, 0.01 millisecond to 1 millisecond, 0.01 millisecond to 2 millisecond, 0.01 millisecond to 3 millisecond, 0.01 millisecond to 3.5 millisecond, 0.01 millisecond to 3.5 millisecond. Milliseconds to 4 milliseconds, 0.01 milliseconds to 5 milliseconds, 0.01 milliseconds to 7.5 milliseconds, 0.01 milliseconds to 10 milliseconds, 0.01 milliseconds to 20 milliseconds, 0.01 milliseconds to 50 milliseconds, 0.1 milliseconds to 1 millisecond, 0.1 millisecond to 2 milliseconds, 0.1 millisecond to 3 milliseconds, 0.1 millisecond to 3.5 milliseconds, 0.1 millisecond to 4 milliseconds, 0.1 millisecond to 5 milliseconds, 0.1 milliseconds to 7.5 milliseconds Milliseconds, 0.1 milliseconds to 10 milliseconds, 0.1 milliseconds to 20 milliseconds, 0.1 milliseconds to 50 milliseconds, 1 milliseconds to 2 milliseconds, 1 milliseconds to 3 milliseconds, 1 milliseconds to 3.5 milliseconds , 1 millisecond to 4 milliseconds, 1 millisecond to 5 milliseconds, 1 millisecond to 7.5 milliseconds, 1 millisecond to 10 milliseconds, 1 millisecond to 20 milliseconds, 1 millisecond to 50 milliseconds, 2 Milliseconds to 3 milliseconds, 2 milliseconds to 3.5 milliseconds, 2 milliseconds to 4 milliseconds, 2 milliseconds to 5 milliseconds, 2 milliseconds to 7.5 milliseconds, 2 milliseconds to 10 milliseconds, 2 milliseconds to 20 milliseconds, 2 milliseconds to 50 milliseconds, 3 milliseconds to 3.5 milliseconds, 3 milliseconds to 4 milliseconds, 3 milliseconds to 5 milliseconds, 3 milliseconds to 7.5 milliseconds, 3 milliseconds to 10 milliseconds. milliseconds, 3 milliseconds to 20 milliseconds, 3 milliseconds to 50 milliseconds, 3.5 milliseconds to 4 milliseconds, 3.5 milliseconds to 5 milliseconds, 3.5 milliseconds to 7.5 milliseconds, 3.5 milliseconds to 10 milliseconds , 3.5 milliseconds to 20 milliseconds, 3.5 milliseconds to 50 milliseconds, 4 milliseconds to 5 milliseconds, 4 milliseconds to 7.5 milliseconds, 4 milliseconds to 10 milliseconds, 4 milliseconds to 20 milliseconds, 4 Milliseconds to 50 milliseconds, 5 milliseconds to 7.5 milliseconds, 5 milliseconds to 10 milliseconds, 5 milliseconds to 20 milliseconds, 5 milliseconds to 50 milliseconds, 7.5 milliseconds to 10 milliseconds, 7.5 milliseconds It can be tested within 20 milliseconds, 7.5 milliseconds to 50 milliseconds, 10 milliseconds to 20 milliseconds, 10 milliseconds to 50 milliseconds, or 20 milliseconds to 50 milliseconds. In some cases, the MEMS ultrasonic array has 0.01 millisecond, 0.1 millisecond, 1 millisecond, 2 millisecond, 3 millisecond, 3.5 millisecond, 4 millisecond, 5 millisecond, 7.5 millisecond, 10 millisecond, and 20 millisecond frequencies. It can be tested in milliseconds, or 50 milliseconds. In some cases, the MEMS ultrasonic array has a frequency range of at least 0.01 msec, 0.1 msec, 1 msec, 2 msec, 3 msec, 3.5 msec, 4 msec, 5 msec, 7.5 msec, 10 msec, It can be tested in 20 milliseconds, or 50 milliseconds. In some cases, the MEMS ultrasonic array can operate at frequencies up to 0.01 ms, 0.1 ms, 1 ms, 2 ms, 3 ms, 3.5 ms, 4 ms, 5 ms, 7.5 ms, 10 ms, It can be tested in 20 milliseconds, or 50 milliseconds.

일부 경우들에는, 본원에서 설명된 MEMS 어레이들 또는 그 부분을 테스트하기 위한 방법들 및 시스템들은, (예컨대, 테스트 초음파 파를 이용하는) 기계적 테스팅과 비교하여, 초음파 어레이를 테스트하기 위하여 요구된 시간을 예컨대, 적어도 5 %, 적어도 10 %, 적어도 15 %, 적어도 20 %, 적어도 25 %, 적어도 30 %, 적어도 35 %, 적어도 40 %, 적어도 45 %, 적어도 50 %, 1 % 내지 5 %, 5 % 내지 10 %, 10 % 내지 20 %, 20 % 내지 30 %, 30 % 내지 40 %, 40 % 내지 50 %, 또는 50 % 초과만큼 감소시킬 수 있다.In some cases, the methods and systems for testing MEMS arrays or portions thereof described herein reduce the time required to test an ultrasonic array compared to mechanical testing (e.g., using test ultrasonic waves). For example, at least 5%, at least 10%, at least 15%, at least 20%, at least 25%, at least 30%, at least 35%, at least 40%, at least 45%, at least 50%, 1% to 5%, 5% It can be reduced by 10% to 10%, 10% to 20%, 20% to 30%, 30% to 40%, 40% to 50%, or more than 50%.

이와 다르게 정의되지 않으면, 본원에서 이용된 모든 기술적 용어들은 이 요지가 속하는 기술분야에서의 통상의 기술자에 의해 보편적으로 이해된 것과 동일한 의미를 가진다.Unless otherwise defined, all technical terms used herein have the same meaning as commonly understood by a person skilled in the art to which this subject matter belongs.

어떤 실시예들 및 예들은 상기한 설명에서 제공되지만, 발명 요지는 구체적으로 개시된 실시예들을 넘어서서 다른 대안적인 실시예들 및/또는 이용들, 그리고 그 수정들 및 등가물들로 확장된다. 따라서, 본원에 첨부된 청구항들의 범위는 본원에서 설명된 특정한 실시예들 중의 임의의 실시예에 의해 제한되지 않는다. 예를 들어, 본원에서 개시된 임의의 방법 또는 프로세스에서, 방법 또는 프로세스의 액트(act)들 또는 동작들은 임의의 적당한 순서로 수행될 수 있고, 임의의 특정한 개시된 순서로 반드시 제한되지는 않는다. 다양한 동작들은 궁극적으로, 어떤 실시예들을 이해함에 있어서 유용할 수 있는 방식으로 다수의 개별 동작들로서 설명될 수 있지만; 그러나, 설명의 순서는 이 동작들이 순서 종속적인 것을 암시하는 것으로 반드시 해석되지 않아야 한다. 추가적으로, 본원에서 설명된 구조들, 시스템들, 및/또는 디바이스들은 통합된 컴포넌트들로서, 또는 별도의 컴포넌트들로서 구체화될 수 있다.Although certain embodiments and examples are provided in the foregoing description, the subject matter extends beyond the specifically disclosed embodiments to other alternative embodiments and/or uses, and modifications and equivalents thereof. Accordingly, the scope of the claims appended hereto is not limited by any of the specific embodiments described herein. For example, in any method or process disclosed herein, the acts or operations of the method or process may be performed in any suitable order and are not necessarily limited to any particular disclosed order. Although various operations may ultimately be described as multiple individual operations in a manner that may be useful in understanding certain embodiments; However, the order of description should not necessarily be interpreted to imply that these operations are order dependent. Additionally, the structures, systems, and/or devices described herein may be embodied as integrated components or as separate components.

다양한 실시예들을 비교하는 목적들을 위하여, 이 실시예들의 어떤 양태들 및 장점들이 설명된다. 이러한 모든 양태들 또는 장점들은 임의의 특정한 실시예에 의해 반드시 달성되는 것은 아니다. 따라서, 예를 들어, 본원에서 또한 교시되거나 제안될 수 있는 바와 같은 다른 양태들 또는 장점들을 반드시 달성하지 않고도, 다양한 실시예들은 본원에서 교시된 바와 같은 하나의 장점 또는 장점들의 그룹을 달성하거나 최적화하는 방식으로 수행될 수 있다.For the purpose of comparing various embodiments, certain aspects and advantages of these embodiments are described. All of these aspects or advantages are not necessarily achieved by any particular embodiment. Thus, for example, various embodiments may achieve or optimize one advantage or group of advantages as taught herein without necessarily achieving other aspects or advantages as may also be taught or suggested herein. It can be done in this way.

본원에서 이용된 바와 같이, A 및/또는 B는 A 또는 B 중의 하나 이상, 및 A 및 B와 같은 그 조합들을 망라한다. 용어들 "제1", "제2", "제3" 등은 다양한 엘리먼트들, 컴포넌트들, 영역들, 및/또는 섹션들을 설명하기 위하여 본원에서 이용될 수 있지만, 이 엘리먼트들, 컴포넌트들, 영역들, 및/또는 섹션들은 이 용어들에 의해 반드시 제한되지는 않아야 한다는 것이 이해될 것이다. 이 용어들은 하나의 엘리먼트, 컴포넌트, 영역, 또는 섹션을 또 다른 엘리먼트, 컴포넌트, 영역, 또는 섹션과 구별하기 위하여 단지 이용될 수 있다. 따라서, 일부 경우들에는, 본 개시내용의 교시사항들로부터 이탈하지 않으면서, 본원에서 논의된 제1 엘리먼트, 컴포넌트, 영역, 또는 섹션은 제2 엘리먼트, 컴포넌트, 영역, 또는 섹션으로 칭해질 수 있다.As used herein, A and/or B encompasses one or more of A or B, and combinations thereof, such as A and B. The terms “first,” “second,” “third,” and the like may be used herein to describe various elements, components, regions, and/or sections, but these elements, components, It will be understood that regions, and/or sections should not necessarily be limited by these terms. These terms may only be used to distinguish one element, component, area, or section from another element, component, area, or section. Accordingly, in some cases, a first element, component, region, or section discussed herein may be referred to as a second element, component, region, or section, without departing from the teachings of the disclosure. .

본원에서 이용된 바와 같이, 문맥이 이와 다르게 명확하게 지시하지 않으면, 단수 형태들 "a", "an", 및 "the"는 복수의 형태들을 마찬가지로 포함하도록 의도된다. 용어들 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)", 또는 "포함한다(includes)" 및/또는 "포함하는(including)"은, 이 명세서에서 이용될 때, 기재된 특징들, 영역들, 정수들, 단계들, 동작들, 엘리먼트들, 및/또는 컴포넌트들의 존재를 특정하지만, 하나 이상의 다른 특징들, 영역들, 정수들, 단계들, 동작들, 엘리먼트들, 컴포넌트들, 및/또는 그 그룹들의 추가의 존재를 배제하지 않는다는 것이 추가로 이해될 것이다. 본원에서 이용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 연관되는 열거된 항목들 중의 하나 이상의 항목의 임의의 그리고 모든 조합들을 포함한다.As used herein, the singular forms “a,” “an,” and “the” are intended to include the plural forms as well, unless the context clearly dictates otherwise. The terms “comprises” and/or “comprising”, or “includes” and/or “including”, when used in this specification, refer to the features described. , specifies the presence of regions, integers, steps, operations, elements, and/or components, but also includes one or more other features, regions, integers, steps, operations, elements, components, and/or the presence of additional groups thereof. As used herein, the term “and/or” includes any and all combinations of one or more of the associated listed items.

이 개시내용의 전반에 걸쳐, 다양한 실시예들은 범위 포맷으로 제시된다. 범위 포맷에서의 설명은 단지 편의 및 간결함을 위한 것이고, 임의의 실시예들의 범위에 대한 비신축적인 제한으로서 해석되지 않아야 한다는 것이 이해되어야 한다. 따라서, 문맥이 이와 다르게 명확하게 기술하지 않으면, 범위의 설명은 모든 가능한 하위범위들 뿐만 아니라, 그 범위 내의 개별적인 수치 값들을 하부 제한의 단위의 10분의 1까지 구체적으로 개시한 것으로 고려되어야 한다. 예를 들어, 1로부터 6까지와 같은 범위의 설명은 1부터 3까지, 1부터 4까지, 1부터 5까지, 2부터 4까지, 2부터 6까지, 3부터 6까지 등과 같은 하위범위들 뿐만 아니라, 그 범위 내의 개별적인 값들, 예를 들어, 1.1, 2, 2.3, 5, 및 5.9를 구체적으로 개시한 것으로 고려되어야 한다. 이것은 범위의 폭과 관계없이 적용된다. 이 중간 범위들의 상부 및 하부 제한들은 독립적으로 더 작은 범위들 내에 포함될 수 있고, 또한, 기재된 범위 내의 임의의 구체적으로 제외된 제한을 받는 발명 내에서 망라된다. 기재된 범위가 제한들 중의 하나 또는 둘 모두를 포함하는 경우에, 문맥이 이와 다르게 명확하게 기술하지 않으면, 그 포함된 제한들 중의 어느 하나 또는 둘 모두를 제외하는 범위들은 또한, 발명 내에 포함된다.Throughout this disclosure, various embodiments are presented in range format. It should be understood that the description in range format is for convenience and brevity only and should not be construed as an inflexible limitation on the scope of any embodiments. Accordingly, unless the context clearly dictates otherwise, a description of a range should be construed as having specifically disclosed all possible subranges, as well as individual numerical values within the range, down to the tenth of the unit of the lower limit. For example, a description of a range such as 1 to 6 includes subranges such as 1 to 3, 1 to 4, 1 to 5, 2 to 4, 2 to 6, 3 to 6, etc. , individual values within that range, e.g., 1.1, 2, 2.3, 5, and 5.9, should be considered as specifically disclosed. This applies regardless of the width of the range. The upper and lower limits of these intermediate ranges may independently be included within the smaller ranges, and are also encompassed within the invention subject to any specifically excluded limitation within the recited range. Where a stated range includes one or both of the limitations, ranges excluding either or both of the included limitations are also included within the invention, unless the context clearly dictates otherwise.

이 명세서 및 청구항들에서 이용된 바와 같이, 이와 다르게 기재되지 않으면, 용어 "약", 및 "대략" 또는 "실질적으로"는 실시예에 따라, 수치 값의, 그 증분들을 포함하는 +/- 0.1 %, +/- 1 %, +/- 2 %, +/-3 %, +/-4 %, +/-5 %, +/-6 %, +/-7 %, +/-8 %, +/-9 %, +/-10 %, +/-11 %, +/-12 %, +/-14 %, +/-15 %, 또는 +/-20 % 이하인 변동들을 지칭한다. 비-제한적인 예로서, 약 100 미터는 실시예들에 따라, (100 미터의 +/-5 %인) 95 미터 내지 105 미터, (100 미터의 +/- 10 %인) 90 내지 110 미터, 또는 (100 미터의 +/-15 %인) 85 미터 내지 115 미터의 범위를 나타낸다.As used in this specification and claims, unless otherwise indicated, the terms "about" and "approximately" or "substantially" mean, depending on the embodiment, a numerical value of +/- 0.1, including increments thereof. %, +/- 1 %, +/- 2 %, +/-3 %, +/-4 %, +/-5 %, +/-6 %, +/-7 %, +/-8 %, Refers to fluctuations of less than +/-9 %, +/-10 %, +/-11 %, +/-12 %, +/-14 %, +/-15 %, or +/-20 %. By way of non-limiting example, about 100 meters can be, depending on the embodiment, 95 meters to 105 meters (+/-5% of 100 meters), 90 to 110 meters (+/-10% of 100 meters), or ranges from 85 meters to 115 meters (+/-15% of 100 meters).

본 발명의 바람직한 실시예들이 본원에서 도시되고 설명되었지만, 이러한 실시예들이 오직 예로서 제공된다는 것이 본 기술분야에서의 통상의 기술자에게 자명할 것이다. 수많은 변형들, 변화들, 및 치환들은 발명으로부터 이탈하지 않으면서, 본 기술분야에서의 통상의 기술자들에게 지금부터 떠오를 것이다. 본원에서 설명된 발명의 실시예들에 대한 다양한 대안들은 발명을 실시할 시에 채용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 다음의 청구항들은 발명의 범위를 정의하고, 이 청구항들 및 그 등가물들의 범위 내의 방법들 및 구조들이 이에 따라 포괄될 수 있다는 것이 의도된다.While preferred embodiments of the invention have been shown and described herein, it will be apparent to those skilled in the art that such embodiments are provided by way of example only. Numerous modifications, changes, and permutations will now occur to those skilled in the art without departing from the invention. It should be understood that various alternatives to the embodiments of the invention described herein may be employed in practicing the invention. It is intended that the following claims define the scope of the invention, and that methods and structures within the scope of these claims and their equivalents may be covered accordingly.

Claims (20)

트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법으로서,
변조된 바이어스 전압 신호를 생성하기 위하여 테스트 신호를 바이어스 전압 신호에 적용하는 단계;
상기 변조된 바이어스 전압 신호를 초음파 트랜스듀서 어레이에 제공하는 단계;
상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 출력 신호를 측정하는 단계; 및
상기 측정된 출력 신호가 예상된 출력 제한들의 세트 내에 있는지 여부를 결정하는 단계를 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
As a method for testing a transducer array,
applying a test signal to the bias voltage signal to generate a modulated bias voltage signal;
providing the modulated bias voltage signal to an ultrasonic transducer array;
measuring an output signal of the ultrasonic transducer array; and
A method for testing a transducer array, comprising determining whether the measured output signal is within a set of expected output limits.
제1항에 있어서,
상기 출력 신호는 상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 MEMS 트랜스듀서 또는 저잡음 증폭기(LNA : low-noise amplifier)로부터 측정되는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to paragraph 1,
A method for testing a transducer array, wherein the output signal is measured from a MEMS transducer or a low-noise amplifier (LNA) of the ultrasonic transducer array.
제2항에 있어서,
상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 행(row)의 각각의 MEMS 트랜스듀서 또는 LNA에 대한 상기 측정 및 결정을 병렬로 수행하는 단계를 더 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to paragraph 2,
A method for testing a transducer array, further comprising performing the measurements and determinations in parallel for each MEMS transducer or LNA of a row of the ultrasonic transducer array.
제3항에 있어서,
상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 행에 대한 상기 측정 및 결정을 순서대로 수행하는 단계를 더 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to paragraph 3,
A method for testing a transducer array, further comprising performing the measurements and determinations for each row of the ultrasonic transducer array in sequence.
제2항에 있어서,
상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 열(column)의 각각의 MEMS 트랜스듀서 또는 LNA에 대한 상기 측정 및 결정을 병렬로 수행하는 단계를 더 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to paragraph 2,
A method for testing a transducer array, further comprising performing the measurements and determinations in parallel for each MEMS transducer or LNA of a column of the ultrasonic transducer array.
제5항에 있어서,
상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 열에 대한 상기 측정 및 결정을 순서대로 수행하는 단계를 더 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to clause 5,
A method for testing a transducer array, further comprising sequentially performing the measurements and determinations for each row of the ultrasonic transducer array.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
예상된 출력 제한들의 세트 내에 있지 않는 것으로 결정되는 측정된 출력 신호들의 총 수에 기초하여 총 에러 수를 결정하는 단계를 더 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to any one of claims 1 to 6,
A method for testing a transducer array, further comprising determining a total number of errors based on the total number of measured output signals that are determined to be not within a set of expected output limits.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 총 에러 수가 에러 카운트 제한을 초과하는 경우에, 상기 초음파 트랜스듀서 어레이를 거절된 것으로서 식별하는 단계를 더 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to any one of claims 1 to 7,
If the total number of errors exceeds an error count limit, identifying the ultrasonic transducer array as rejected.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
예상된 출력 제한들의 세트는 예상된 출력 전압 진폭 값의 30 % 내의 출력 전압 진폭을 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to any one of claims 1 to 8,
A method for testing a transducer array, wherein the set of expected output limits includes an output voltage amplitude within 30% of the expected output voltage amplitude value.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
예상된 출력 제한들의 세트는 예상된 신호 주파수 값의 5 % 내의 신호 주파수를 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 방법.
According to any one of claims 1 to 9,
A method for testing a transducer array, wherein the set of expected output limits includes a signal frequency within 5% of the expected signal frequency value.
트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템으로서,
복수의 MEMS 트랜스듀서들을 포함하는 초음파 트랜스듀서 어레이;
바이어스 전압 신호 소스;
상기 바이어스 전압 신호 소스 및 상기 초음파 트랜스듀서 어레이에 직렬로 접속되는 테스트 전압 신호 소스;
상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 출력 신호를 측정하는 단계; 및
상기 측정된 출력 신호가 예상된 출력 제한들의 세트 내에 있는지 여부를 결정하는 단계를
수행하도록 구성되는 하나 이상의 제어기들;
상기 초음파 트랜스듀서 어레이 및 상기 하나 이상의 제어기들과 직렬로 접속되는 복수의 저잡음 증폭기(LNA)들을 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
A system for testing a transducer array, comprising:
An ultrasonic transducer array including a plurality of MEMS transducers;
bias voltage signal source;
a test voltage signal source connected in series to the bias voltage signal source and the ultrasonic transducer array;
measuring an output signal of the ultrasonic transducer array; and
determining whether the measured output signal is within a set of expected output limits.
one or more controllers configured to perform;
A system for testing a transducer array, comprising a plurality of low noise amplifiers (LNAs) connected in series with the ultrasonic transducer array and the one or more controllers.
제11항에 있어서,
상기 출력 신호는 상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 MEMS 트랜스듀서 또는 LNA 중의 하나 이상으로부터 측정되는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to clause 11,
A system for testing a transducer array, wherein the output signal is measured from one or more of a MEMS transducer or LNA of the ultrasonic transducer array.
제12항에 있어서,
상기 제어기는 상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 행의 각각의 MEMS 및 LNA에 대한 상기 측정 및 결정을 병렬로 수행하도록 구성되는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to clause 12,
wherein the controller is configured to perform the measurements and determinations in parallel for each MEMS and LNA of a row of the ultrasonic transducer array.
제13항에 있어서,
상기 제어기는 상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 행에 대한 상기 측정 및 결정을 순서대로 수행하도록 구성되는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to clause 13,
The system for testing a transducer array, wherein the controller is configured to sequentially perform the measurements and determinations for each row of the ultrasonic transducer array.
제12항에 있어서,
상기 제어기는 상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 열의 각각의 MEMS 및 LNA에 대한 상기 측정 및 결정을 병렬로 수행하도록 구성되는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to clause 12,
The system for testing a transducer array, wherein the controller is configured to perform the measurements and determinations in parallel for each MEMS and LNA of the row of ultrasonic transducer arrays.
제15항에 있어서,
상기 제어기는 상기 초음파 트랜스듀서 어레이의 각각의 열에 대한 상기 측정 및 결정을 순서대로 수행하도록 구성되는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to clause 15,
The system for testing a transducer array, wherein the controller is configured to sequentially perform the measurements and determinations for each row of the ultrasonic transducer array.
제11항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제어기는 또한, 예상된 출력 제한들의 세트 내에 있지 않는 것으로 결정되는 측정된 출력 신호들의 총 수에 기초하여 총 에러 수를 결정하도록 구성되는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to any one of claims 11 to 16,
The system for testing a transducer array, wherein the controller is further configured to determine a total number of errors based on the total number of measured output signals that are determined to be not within the set of expected output limits.
제11항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제어기는 또한, 상기 총 에러 수가 에러 카운트 제한을 초과하는 경우에, 상기 초음파 트랜스듀서 어레이를 거절된 것으로서 식별하도록 구성되는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to any one of claims 11 to 17,
The system for testing a transducer array, wherein the controller is further configured to identify the ultrasonic transducer array as rejected if the total number of errors exceeds an error count limit.
제11항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
예상된 출력 제한들의 세트는 예상된 출력 전압 진폭 값의 30 % 내의 출력 전압 진폭을 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to any one of claims 11 to 18,
A system for testing a transducer array, wherein the set of expected output limits includes an output voltage amplitude within 30% of the expected output voltage amplitude value.
제11항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
예상된 출력 제한들의 세트는 예상된 신호 주파수 값의 5 % 내의 신호 주파수를 포함하는, 트랜스듀서 어레이를 테스트하기 위한 시스템.
According to any one of claims 11 to 19,
A system for testing a transducer array, wherein the set of expected output limits includes a signal frequency within 5% of the expected signal frequency value.
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