KR20220089995A - Display apparatus - Google Patents

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KR20220089995A
KR20220089995A KR1020200180726A KR20200180726A KR20220089995A KR 20220089995 A KR20220089995 A KR 20220089995A KR 1020200180726 A KR1020200180726 A KR 1020200180726A KR 20200180726 A KR20200180726 A KR 20200180726A KR 20220089995 A KR20220089995 A KR 20220089995A
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이동현
허승호
윤성욱
이충훈
장동민
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 복수의 서브 화소가 정의된 기판, 복수의 서브 화소에 배치되고, 유기층 및 캐소드를 공유하는 복수의 발광 소자, 복수의 발광 소자 각각의 사이에서 캐소드 아래에 배치된 뱅크, 뱅크와 기판 사이에 배치된 복수의 배선, 및 뱅크에 배치되고, 복수의 배선 중 적어도 하나에 중첩하는 제1 패턴을 포함하고, 캐소드는 제1 패턴에 배치된다. 따라서, 제1 패턴에서 캐소드와 유기층의 길이가 증가하여 누설 전류가 흐르는 경로의 길이가 증가할 수 있고, 누설 전류에 따른 표시 품질 저하를 최소화할 수 있다. A display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate on which a plurality of sub-pixels are defined, a plurality of light-emitting devices disposed on the plurality of sub-pixels and sharing an organic layer and a cathode, and a cathode between each of the plurality of light-emitting devices a bank disposed on , a plurality of wirings disposed between the bank and the substrate, and a first pattern disposed in the bank and overlapping at least one of the plurality of wirings, wherein the cathode is disposed in the first pattern. Accordingly, as the length of the cathode and the organic layer increases in the first pattern, the length of the path through which the leakage current flows may increase, and deterioration of display quality due to the leakage current may be minimized.

Figure P1020200180726
Figure P1020200180726

Description

표시 장치{DISPLAY APPARATUS}display device {DISPLAY APPARATUS}

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 복수의 발광 소자에서 발광된 광이 혼색되는 것을 개선할 수 있는 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device capable of improving color mixing of light emitted from a plurality of light emitting devices.

현재 본격적인 정보화 시대로 접어들면서 전기적 정보신호를 시각적으로 표시하는 표시 장치 분야가 급속도로 발전하고 있으며, 여러 가지 표시 장치에 대해 박형화, 경량화 및 저소비 전력화 등의 성능을 개발시키기 위한 연구가 계속되고 있다.As we enter the information age in earnest, the field of display devices that visually display electrical information signals is rapidly developing, and research to develop performance such as thinness, weight reduction, and low power consumption for various display devices is continuing.

이러한 다양한 표시 장치 중, 유기 표시 장치는 자체 발광형 표시 장치로서, 액정 표시 장치와는 달리 별도의 광원이 필요하지 않아 경량 박형으로 제조 가능하다. 또한, 유기 표시 장치는 저전압 구동에 의해 소비 전력 측면에서 유리할 뿐만 아니라, 색상 구현, 응답 속도, 시야각, 명암 대비비(contrast ratio; CR)도 우수하여, 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다.Among these various display devices, an organic display device is a self-emission type display device, and unlike a liquid crystal display device, it does not require a separate light source, and thus can be manufactured in a lightweight and thin form. In addition, the organic display device is not only advantageous in terms of power consumption due to low voltage driving, but also has excellent color realization, response speed, viewing angle, and contrast ratio (CR), and thus is being studied as a next-generation display.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 표시 장치 구동 시, 누설 전류를 최소화할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a display device capable of minimizing leakage current when the display device is driven.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 공통층을 갖는 복수의 발광 소자 중 일부 발광 소자가 누설 전류에 의해 발광하는 것을 최소화한 표시 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a display device in which emission of light due to leakage current from some light emitting devices among a plurality of light emitting devices having a common layer is minimized.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 저계조에서 영상표시 품질을 향상시킬 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a display device capable of improving image display quality in low grayscale.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 복수의 서브 화소가 정의된 기판, 복수의 서브 화소에 배치되고, 애노드, 유기층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자, 복수의 서브 화소 각각의 사이에 배치되는 적어도 하나의 금속 패턴 및 복수의 서브 화소 각각의 사이에서 금속 패턴과 유기층 사이에 배치된 뱅크를 포함하고, 복수의 발광 소자는 유기층 및 캐소드를 공유하고, 금속 패턴은 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 발광 기간 동안 전압이 인가되도록 구성된다. 따라서, 금속 패턴은 인가되는 전압에 의해 커패시터를 형성하고, 형성된 커패시터에 의해 누설 전류의 캐리어가 트랩(trap)되어 누설 전류에 따른 표시 품질 저하를 최소화할 수 있다.A display device according to an exemplary embodiment includes a substrate on which a plurality of sub-pixels are defined, a plurality of light emitting devices disposed on the plurality of sub-pixels, and a plurality of light emitting devices including an anode, an organic layer and a cathode, and between the plurality of sub-pixels at least one metal pattern disposed and a bank disposed between the metal pattern and the organic layer between each of the plurality of sub-pixels, wherein the plurality of light emitting devices share the organic layer and the cathode, and the metal pattern includes the sub-pixels adjacent to the metal pattern. is configured such that a voltage is applied during the light emission period of Accordingly, the metal pattern forms a capacitor by an applied voltage, and carriers of the leakage current are trapped by the formed capacitor, thereby minimizing display quality degradation due to the leakage current.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 복수의 발광 소자의 공통층을 통해 전류가 누설되는 것을 개선할 수 있다.The present invention can improve current leakage through a common layer of a plurality of light emitting devices.

본 발명은 표시 장치 구동 시, 의도하지 않은 발광 소자의 발광을 최소화하여, 색 재현율을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, color reproducibility can be improved by minimizing unintentional light emission from a light emitting device when driving a display device.

본 발명은 저계조의 영상을 표시할 때, 얼룩이나 색 이상이 시인되는 것을 최소화하여, 표시 품질을 향상시킬 수 있다. According to the present invention, it is possible to improve display quality by minimizing the recognition of spots or color abnormalities when displaying a low grayscale image.

본 발명은 고속 구동 및 고해상도 표시 장치에서 저계조 구동 시 휘도 상승을 최소화할 수 있다.According to the present invention, a luminance increase can be minimized when driving at a low gray level in a high-speed driving and high-resolution display device.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 발명 내에 포함되어 있다.The effect according to the present invention is not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 구성도이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 서브 화소의 회로도이다.
도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치의 서브 화소의 구동 타이밍도이다.
도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다.
도 3b는 도 3a의 IIIb-IIIb'에 따른 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 5a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다.
도 5b는 도 5a의 Vb-Vb'에 따른 단면도이다.
도 6a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다.
도 6b는 도 6a의 VIb-VIb'에 따른 단면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 9a 내지 도 9d는 비교예 및 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치에서의 누설 전류를 설명하기 위한 그래프이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다.
1 is a schematic configuration diagram of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
2A is a circuit diagram of a sub-pixel of a display device according to an exemplary embodiment.
2B is a driving timing diagram of a sub-pixel of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
3A is an enlarged plan view of a display device according to an exemplary embodiment.
3B is a cross-sectional view taken along line IIIb-IIIb' of FIG. 3A.
4 is a schematic cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment.
5A is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment.
5B is a cross-sectional view taken along Vb-Vb' of FIG. 5A.
6A is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment.
6B is a cross-sectional view taken along VIb-VIb' of FIG. 6A.
7 is a schematic cross-sectional view of a display device according to still another exemplary embodiment.
8 is a schematic cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment.
9A to 9D are graphs for explaining a leakage current in a display device according to a comparative example and another exemplary embodiment of the present invention.
10 is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고, 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 제한되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형상으로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different shapes, only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains It is provided to fully inform those who have the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 면적, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 제한되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 발명 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, areas, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are illustrative and the present invention is not limited to the illustrated matters. Like reference numerals refer to like elements throughout. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'includes', 'have', 'consists of', etc. mentioned in the present invention are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the case in which the plural is included is included unless otherwise explicitly stated.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다. In interpreting the components, it is construed as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'beside', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be positioned between two parts unless 'directly' is used.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.Reference to a device or layer “on” another device or layer includes any intervening layer or other device directly on or in the middle of the other device or layer.

또한 제 1, 제 2 등이 다양한 구성 요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성 요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제 1 구성 요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제 2 구성 요소일 수도 있다.Also, although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numerals refer to like elements throughout.

도면에서 나타난 각 구성의 면적 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 면적 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The area and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the area and thickness of the illustrated component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention can be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other or implemented together in a related relationship. may be

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 구성도이다. 도 1에서는 설명의 편의를 위해 표시 장치(100)의 다양한 구성 요소 중 표시 패널(PN), 게이트 드라이버(GD), 데이터 드라이버(DD) 및 타이밍 컨트롤러(TC)만을 도시하였다.1 is a schematic configuration diagram of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. In FIG. 1 , only the display panel PN, the gate driver GD, the data driver DD, and the timing controller TC are illustrated among various components of the display device 100 for convenience of explanation.

도 1을 참조하면, 표시 장치(100)는 복수의 서브 화소(SP)를 포함하는 표시 패널(PN), 표시 패널(PN)에 각종 신호를 공급하는 게이트 드라이버(GD) 및 데이터 드라이버(DD), 게이트 드라이버(GD)와 데이터 드라이버(DD)를 제어하는 타이밍 컨트롤러(TC)를 포함한다. Referring to FIG. 1 , the display device 100 includes a display panel PN including a plurality of sub-pixels SP, a gate driver GD and a data driver DD supplying various signals to the display panel PN. , and a timing controller TC controlling the gate driver GD and the data driver DD.

게이트 드라이버(GD)는 타이밍 컨트롤러(TC)로부터 제공된 복수의 게이트 제어 신호(GCS)에 따라 복수의 스캔 배선(SL)에 복수의 스캔 신호를 공급한다. 복수의 스캔 신호는 제1 스캔 신호(SCAN1) 및 제2 스캔 신호(SCAN2)를 포함할 수 있고, 스캔 신호에는 발광 제어 신호가 포함될 수 있다. 도 1에서는 하나의 게이트 드라이버(GD)가 표시 패널(PN)의 일 측에 이격되어 배치된 것으로 도시하였으나, 게이트 드라이버(GD)는 GIP(Gate In Panel) 방식으로 배치될 수도 있으며, 게이트 드라이버(GD)의 개수 및 배치는 이에 제한되지 않는다. The gate driver GD supplies the plurality of scan signals to the plurality of scan lines SL according to the plurality of gate control signals GCS provided from the timing controller TC. The plurality of scan signals may include a first scan signal SCAN1 and a second scan signal SCAN2, and the scan signal may include an emission control signal. In FIG. 1 , one gate driver GD is illustrated as being spaced apart from one side of the display panel PN, but the gate driver GD may be disposed in a GIP (Gate In Panel) method. The number and arrangement of GD) are not limited thereto.

데이터 드라이버(DD)는 타이밍 컨트롤러(TC)로부터 제공된 복수의 데이터 제어 신호(DCS)에 따라 타이밍 컨트롤러(TC)로부터 입력되는 영상 데이터(RGB)를 기준 감마 전압을 이용하여 데이터 신호로 변환한다. 그리고 데이터 드라이버(DD)는 변환된 데이터 신호를 복수의 데이터 배선(DL)에 공급할 수 있다. The data driver DD converts the image data RGB input from the timing controller TC into a data signal using a reference gamma voltage according to a plurality of data control signals DCS provided from the timing controller TC. In addition, the data driver DD may supply the converted data signal to the plurality of data lines DL.

타이밍 컨트롤러(TC)는 외부로부터 입력된 영상 데이터(RGB)를 정렬하여 데이터 드라이버(DD)에 공급한다. 타이밍 컨트롤러(TC)는 외부로부터 입력되는 동기 신호(SYNC), 예를 들어 도트 클럭 신호, 데이터 인에이블 신호, 수평/수직 동기 신호를 이용해 게이트 제어 신호(GCS) 및 데이터 제어 신호(DCS)를 생성할 수 있다. 그리고 타이밍 컨트롤러(TC)는 생성된 게이트 제어 신호(GCS) 및 데이터 제어 신호(DCS)를 게이트 드라이버(GD) 및 데이터 드라이버(DD)에 각각 공급하여 게이트 드라이버(GD) 및 데이터 드라이버(DD)를 제어할 수 있다. The timing controller TC aligns the image data RGB input from the outside and supplies it to the data driver DD. The timing controller TC generates a gate control signal GCS and a data control signal DCS using an externally input synchronization signal SYNC, for example, a dot clock signal, a data enable signal, and a horizontal/vertical synchronization signal. can do. In addition, the timing controller TC supplies the generated gate control signal GCS and the data control signal DCS to the gate driver GD and the data driver DD, respectively, to control the gate driver GD and the data driver DD. can be controlled

표시 패널(PN)은 사용자에게 영상을 표시하기 위한 구성으로, 복수의 서브 화소(SP)를 포함한다. 표시 패널(PN)에서 복수의 스캔 배선(SL) 및 복수의 데이터 배선(DL)이 서로 교차되고, 복수의 서브 화소(SP) 각각은 스캔 배선(SL) 및 데이터 배선(DL)에 연결된다. 이 외에도 도면에 도시되지는 않았으나 복수의 서브 화소(SP) 각각은 고전위 전원 배선(PL), 저전위 전원 배선, 초기화 신호 배선(IL), 발광 제어 신호 배선(EL) 등에 연결될 수 있다. The display panel PN is configured to display an image to a user and includes a plurality of sub-pixels SP. In the display panel PN, the plurality of scan lines SL and the plurality of data lines DL cross each other, and each of the plurality of sub-pixels SP is connected to the scan line SL and the data line DL. In addition, although not shown in the drawings, each of the plurality of sub-pixels SP may be connected to a high potential power line PL, a low potential power line, an initialization signal line IL, a light emission control signal line EL, and the like.

복수의 서브 화소(SP)는 화면을 구성하는 최소 단위로, 복수의 서브 화소(SP) 각각은 발광 소자 및 이를 구동하기 위한 화소 회로를 포함한다. 복수의 발광 소자는 표시 패널(PN)의 종류에 따라 상이하게 정의될 수 있으며, 예를 들어, 표시 패널(PN)이 유기 발광 표시 패널인 경우, 발광 소자는 애노드, 유기층 및 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자일 수 있다. 이외에도 발광 소자로 퀀텀닷(Quantum dot, QD)이 포함된 퀀텀닷 발광 소자(Quantum dot light-emitting diode, QLED) 등이 더 사용될 수도 있다. 이하에서는 발광 소자가 유기 발광 소자인 것으로 가정하여 설명하기로 하나, 발광 소자의 종류는 이에 제한되지 않는다. The plurality of sub-pixels SP is a minimum unit constituting a screen, and each of the plurality of sub-pixels SP includes a light emitting device and a pixel circuit for driving the plurality of sub-pixels. The plurality of light emitting devices may be defined differently depending on the type of the display panel PN. For example, when the display panel PN is an organic light emitting display panel, the light emitting device includes an organic light emitting device including an anode, an organic layer, and a cathode. It may be a light emitting device. In addition, a quantum dot light-emitting diode (QLED) including a quantum dot (QD) may be further used as the light emitting device. Hereinafter, it is assumed that the light emitting device is an organic light emitting device, but the type of the light emitting device is not limited thereto.

화소 회로는 발광 소자의 구동을 제어하기 위한 회로이다. 화소 회로는 예를 들어, 복수의 트랜지스터 및 커패시터를 포함하여 구성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The pixel circuit is a circuit for controlling the driving of the light emitting element. The pixel circuit may include, for example, a plurality of transistors and capacitors, but is not limited thereto.

이하에서는 도 2를 참조하여 서브 화소(SP)의 화소 회로에 대하여 보다 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the pixel circuit of the sub-pixel SP will be described in more detail with reference to FIG. 2 .

도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 서브 화소의 회로도이다. 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치의 서브 화소의 구동 타이밍도이다.2A is a circuit diagram of a sub-pixel of a display device according to an exemplary embodiment. 2B is a driving timing diagram of a sub-pixel of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2a를 참조하면, 복수의 서브 화소(SP)의 화소 회로는 구동 트랜지스터(DT), 제1 내지 제6 트랜지스터(T1, T2, T3, T4, T5, T6)와 1개의 커패시터(Cst)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2A , the pixel circuit of the plurality of sub-pixels SP includes a driving transistor DT, first to sixth transistors T1, T2, T3, T4, T5, and T6, and one capacitor Cst. may include

발광 소자(ED)는 구동 트랜지스터(DT)로부터 공급되는 구동 전류에 의해 발광한다. 발광 소자(ED)의 애노드는 제4 노드(n4)에 전기적으로 연결되고, 발광 소자(ED)의 캐소드는 저전위 구동전압에 해당하는 기저전압(EVSS)의 입력 단에 전기적으로 연결될 수 있다. The light emitting element ED emits light by a driving current supplied from the driving transistor DT. The anode of the light emitting element ED may be electrically connected to the fourth node n4 , and the cathode of the light emitting element ED may be electrically connected to the input terminal of the base voltage EVSS corresponding to the low potential driving voltage.

구동 트랜지스터(DT)는 게이트-소스 간 전압(Vgs)에 따라 발광 소자(ED)에 인가되는 구동 전류를 제어한다. 구동 트랜지스터(DT)는, 일 예로, P 타입 트랜지스터일 수 있다. 이 경우, 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극은 제1 노드(n1)에 연결되고, 게이트 전극은 제2 노드(n2)에 연결되고, 드레인 전극은 제3 노드(n3)에 연결될수 있다.The driving transistor DT controls the driving current applied to the light emitting device ED according to the gate-source voltage Vgs. The driving transistor DT may be, for example, a P-type transistor. In this case, the source electrode of the driving transistor DT may be connected to the first node n1 , the gate electrode may be connected to the second node n2 , and the drain electrode may be connected to the third node n3 .

제1 트랜지스터(T1)는 제2 노드(n2)와 제3 노드(n3) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 제1 트랜지스터(T1)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극과 드레인 전극 사이에 전기적으로 연결될 수 있다.The first transistor T1 may be electrically connected between the second node n2 and the third node n3 . That is, the first transistor T1 may be electrically connected between the gate electrode and the drain electrode of the driving transistor DT.

제1 트랜지스터(T1)의 드레인 전극 또는 소스 전극은 제2 노드(n2)에 전기적으로 연결되고, 제1 트랜지스터(T1)의 소스 전극 또는 드레인 전극은 제3 노드(n3)에 전기적으로 연결될 수 있다. 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 전극은 제n 스캔라인(SL[N])에 전기적으로 연결될 수 있다.A drain electrode or a source electrode of the first transistor T1 may be electrically connected to the second node n2 , and a source electrode or a drain electrode of the first transistor T1 may be electrically connected to a third node n3 . . The gate electrode of the first transistor T1 may be electrically connected to the n-th scan line SL[N].

제1 트랜지스터(T1)는, 제n 스캔라인(SL[N])을 통해 인가된 제n 스캔신호(SCAN[N])에 응답하여, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극과 드레인 전극을 전기적으로 연결해줄 수 있다. 여기서, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극과 드레인 전극 간의 전기적인 연결을 다이오드 커넥션(Diode Connection) 이라고 할 수 있다.The first transistor T1 electrically connects the gate electrode and the drain electrode of the driving transistor DT in response to the n-th scan signal SCAN[N] applied through the n-th scan line SL[N]. can connect you Here, the electrical connection between the gate electrode and the drain electrode of the driving transistor DT may be referred to as a diode connection.

제2 트랜지스터(T2)는 데이터 라인(DL)과 제1 노드(n1) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 제2 트랜지스터 (T2)는 데이터 라인(DL)과 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극과 전기적으로 연결될 수 있다.The second transistor T2 may be electrically connected between the data line DL and the first node n1 . That is, the second transistor T2 may be electrically connected to the data line DL and the source electrode of the driving transistor DT.

제2 트랜지스터(T2)의 드레인 전극 또는 소스 전극은 제1 노드(n1)에 전기적으로 연결되고, 제2 트랜지스터(T2)의 소스 전극 또는 드레인 전극은 데이터 라인(DL)에 전기적으로 연결될 수 있다. 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 전극은 제n 스캔 라인(SL[N])에 전기적으로 연결될 수 있다.A drain electrode or a source electrode of the second transistor T2 may be electrically connected to the first node n1 , and a source electrode or a drain electrode of the second transistor T2 may be electrically connected to the data line DL. The gate electrode of the second transistor T2 may be electrically connected to the n-th scan line SL[N].

제2 트랜지스터(T2)는, 제n 스캔 라인(SL[N])을 통해 공급된 제n 스캔 신호(SCAN[N])에 응답하여, 데이터 라인(DL)으로부터 공급받는 데이터 전압(Vdata)을 제1 노드(n1)에 전달해줄 수 있다.The second transistor T2 receives the data voltage Vdata supplied from the data line DL in response to the nth scan signal SCAN[N] supplied through the nth scan line SL[N]. It can be transmitted to the first node n1.

제1 트랜지스터(T1)의 게이트 전극과 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 전극은 동일한 제n 스캔 라인(SL[N])에 공통으로 연결될 수 있다. 따라서, 제1 트랜지스터(T1)와 제2 트랜지스터(T2)는 함께 온-오프 될 수 있다.The gate electrode of the first transistor T1 and the gate electrode of the second transistor T2 may be commonly connected to the same n-th scan line SL[N]. Accordingly, the first transistor T1 and the second transistor T2 may be turned on and off together.

제3 트랜지스터(T3)는 구동 전압 라인(DVL)과 제1 노드(n1) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 제3 트랜지스터(T3)는 구동 전압 라인(DVL)과 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극 사이에 전기적으로 연결될 수 있다.The third transistor T3 may be electrically connected between the driving voltage line DVL and the first node n1 . That is, the third transistor T3 may be electrically connected between the driving voltage line DVL and the source electrode of the driving transistor DT.

제3 트랜지스터(T3)의 소스 전극 또는 드레인 전극은 구동 전압 라인(DVL)에 전기적으로 연결되고, 제3 트랜지스터(T3)의 드레인 전극 또는 소스 전극은 제1 노드(n1)에 전기적으로 연결될 수 있다. 제3 트랜지스터(T3)의 게이트 전극은 발광 제어 라인(EML)과 전기적으로 연결될 수 있다.A source electrode or a drain electrode of the third transistor T3 may be electrically connected to the driving voltage line DVL, and a drain electrode or a source electrode of the third transistor T3 may be electrically connected to the first node n1 . . A gate electrode of the third transistor T3 may be electrically connected to the emission control line EML.

제3 트랜지스터(T3)는, 발광 제어 라인(EML)을 통해 공급된 발광 제어 신호(EM)에 응답하여, 고전위 구동 전압(EVDD)을 제1 노드(n1)에 전달해줄 수 있다.The third transistor T3 may transmit the high potential driving voltage EVDD to the first node n1 in response to the emission control signal EM supplied through the emission control line EML.

제4 트랜지스터(T4)는 제3 노드(n3)와 제4 노드(n4) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 제4 트랜지스터(T4)는 구동 트랜지스터(DT)의 드레인 전극과 발광 소자(ED)의 애노드 사이에 전기적으로 연결될 수 있다.The fourth transistor T4 may be electrically connected between the third node n3 and the fourth node n4 . That is, the fourth transistor T4 may be electrically connected between the drain electrode of the driving transistor DT and the anode of the light emitting device ED.

제4 트랜지스터(T4)의 소스 전극 또는 드레인 전극은 제3 노드(n3)에 전기적으로 연결되고, 제4 트랜지스터(T4)의 드레인 전극 또는 소스 전극은 제4 노드(n4)에 전기적으로 연결될 수 있다. 제4 트랜지스터(T4)의 게이트 전극은 발광 제어 라인(EML)과 전기적으로 연결될 수 있다.A source electrode or a drain electrode of the fourth transistor T4 may be electrically connected to the third node n3 , and a drain electrode or a source electrode of the fourth transistor T4 may be electrically connected to the fourth node n4 . . The gate electrode of the fourth transistor T4 may be electrically connected to the emission control line EML.

제4 트랜지스터(T4)는 발광 제어 라인(EML)을 통해 공급된 발광 제어 신호(EM)에 응답하여 제3 노드(n3)와 제4 노드(n4) 간의 전류 패스를 형성한다.The fourth transistor T4 forms a current path between the third node n3 and the fourth node n4 in response to the emission control signal EM supplied through the emission control line EML.

제3 트랜지스터(T3)의 게이트 전극과 제4 트랜지스터(T4)의 게이트 전극은 동일한 발광 제어 라인(EML)에 공통으로 연결될 수 있다. 따라서, 제3 트랜지스터(T3)와 제4 트랜지스터(T4)는 함께 온-오프 될 수 있다.The gate electrode of the third transistor T3 and the gate electrode of the fourth transistor T4 may be commonly connected to the same emission control line EML. Accordingly, the third transistor T3 and the fourth transistor T4 may be turned on and off together.

제5 트랜지스터(T5)는 제2 노드(n2)와 초기화 전압 라인(VIL) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 제5 트랜지스터(T5)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극과 초기화 전압 라인(VIL) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다.The fifth transistor T5 may be electrically connected between the second node n2 and the initialization voltage line VIL. That is, the fifth transistor T5 may be electrically connected between the gate electrode of the driving transistor DT and the initialization voltage line VIL.

제5 트랜지스터(T5)의 소스 전극 또는 드레인 전극은 초기화 전압 라인(VIL)에 전기적으로 연결되고, 제5 트랜지스터(T5)의 드레인 전극 또는 소스 전극은 제2 노드(n2)에 전기적으로 연결될 수 있다. 제5 트랜지스터(T5)의 게이트 전극은 제(n-1) 스캔 라인(SL[N-1])에 전기적으로 연결될 수 있다.A source electrode or a drain electrode of the fifth transistor T5 may be electrically connected to the initialization voltage line VIL, and a drain electrode or a source electrode of the fifth transistor T5 may be electrically connected to the second node n2 . . The gate electrode of the fifth transistor T5 may be electrically connected to the (n−1)th scan line SL[N−1].

제5 트랜지스터(T5)는 제(n-1) 스캔 라인(SL[N-1])을 통해 공급된 제(n-1) 스캔 신호(SCAN[N-1])에 응답하여 초기화 전압(Vini)을 제2 노드(n2)에 전달해줄 수 있다.The fifth transistor T5 responds to the (n−1)th scan signal SCAN[N−1] supplied through the (n−1)th scan line SL[N−1] to the initialization voltage Vini ) to the second node n2.

제6 트랜지스터(T6)는 초기화 전압 라인(VIL)과 제4 노드(n4) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 제6 트랜지스터(T6)는 초기화 전압 라인(VIL)과 발광 소자(ED)의 애노드 전극 사이에 전기적으로 연결될 수 있다.The sixth transistor T6 may be electrically connected between the initialization voltage line VIL and the fourth node n4 . That is, the sixth transistor T6 may be electrically connected between the initialization voltage line VIL and the anode electrode of the light emitting device ED.

제6 트랜지스터(T6)의 소스 전극 또는 드레인 전극은 초기화 전압 라인(VIL)과 전기적으로 연결되고, 제6 트랜지스터(T6)의 드레인 전극 또는 소스 전극은 제4 노드(n4)에 전기적으로 연결될 수 있다. 제6 트랜지스터(T6)의 게이트 전극은 제n 스캔 라인(SL[N])에 전기적으로 연결될 수 있다.A source electrode or a drain electrode of the sixth transistor T6 may be electrically connected to the initialization voltage line VIL, and a drain electrode or a source electrode of the sixth transistor T6 may be electrically connected to the fourth node n4 . . The gate electrode of the sixth transistor T6 may be electrically connected to the n-th scan line SL[N].

제6 트랜지스터(T6)는 제n 스캔 라인(SL[N])을 통해 공급된 제n 스캔 신호(SCAN[N])에 응답하여 초기화 전압(Vini)을 제4 노드(n4)에 전달해줄 수 있다.The sixth transistor T6 may transmit the initialization voltage Vini to the fourth node n4 in response to the n-th scan signal SCAN[N] supplied through the n-th scan line SL[N]. have.

제1 내지 제6 트랜지스터(T1 내지 T6)는 스위칭 트랜지스터의 일종이다. 스토리지 커패시터(Cst)는 제2 노드(n2)에 전기적으로 연결되는 제1 플레이트와, 구동전압 라인(DVL)에 전기적으로 연결되는 제2 플레이트를 포함할 수 있다.The first to sixth transistors T1 to T6 are a type of switching transistor. The storage capacitor Cst may include a first plate electrically connected to the second node n2 and a second plate electrically connected to the driving voltage line DVL.

도 2a의 예시에서는, 7개의 트랜지스터가 P 타입 트랜지스터인 것으로 도시되었으나, 설명의 편의를 위한 것일 뿐, 7개의 트랜지스터가 모두 N 타입 트랜지스터일 수도 있고, 7개의 트랜지스터 중 일부는 P 타입 트랜지스터이고 나머지 일부는 N 타입 트랜지스터일 수도 있다.In the example of FIG. 2A , seven transistors are illustrated as P-type transistors, but for convenience of description, all seven transistors may be N-type transistors, and some of the seven transistors are P-type transistors, and some of the seven transistors are P-type transistors. may be an N-type transistor.

도 2a에 예시된 각 서브 화소 구조는 설명을 위한 예시일 뿐, 2개 이상의 트랜지스터를 포함하고 1개 이상의 커패시터를 포함하여 다양한 형태(예: 4T1C, 4T2C, 6T1C, 6T2C, 8T1C 등)로 변형될 수 있다. 또는, 다수의 서브 화소들 각각이 동일한 구조로 되어 있을 수도 있고, 다수의 서브 화소들 중 일부는 다른 구조로 되어 있을 수도 있다.Each sub-pixel structure illustrated in FIG. 2A is only an example for description, and may be transformed into various forms (eg, 4T1C, 4T2C, 6T1C, 6T2C, 8T1C, etc.) including two or more transistors and one or more capacitors. can Alternatively, each of the plurality of sub-pixels may have the same structure, and some of the plurality of sub-pixels may have a different structure.

도 2b를 참조하면, 각 서브 화소(SP)의 구동 기간은 초기화(Initial) 기간(S10), 쓰기/센싱(Writing/Sensing) 기간(S20) 및 발광(Emission) 기간(S30) 등을 포함할 수 있다. 초기화 기간(S10) 동안, 제n-1 스캔 신호(SCAN[N-1]) 및 제n 스캔 신호(SCAN[N])와 발광 제어 신호(EM) 중에서, 제n-1 스캔 신호(SCAN[N-1]) 만이 턴-온 레벨 전압을 갖는다. 따라서, 초기화 기간(S10) 동안, 제5 트랜지스터(T5)가 턴-온 된다. 나머지 트랜지스터들(DT, T1, T2, T3, T4, T6)은 오프 상태이다.Referring to FIG. 2B , the driving period of each sub-pixel SP may include an initialization period S10, a writing/sensing period S20, and an emission period S30. can During the initialization period S10, among the n-1 th scan signal SCAN[N-1], the n-th scan signal SCAN[N], and the emission control signal EM, the n-1 th scan signal SCAN[ N-1]) only has a turn-on level voltage. Accordingly, during the initialization period S10 , the fifth transistor T5 is turned on. The remaining transistors DT, T1, T2, T3, T4, and T6 are in an off state.

이에 따라, 초기화 전압(Vini)이 제2 노드(n2)에 인가된다. 즉, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극이 초기화 전압(Vini)으로 초기화된다. 쓰기/센싱 기간(S20) 동안, 제n-1 스캔 신호(SCAN[N-1]) 및 제n 스캔 신호(SCAN[N])와 발광 제어 신호(EM) 중에서, 제n 스캔 신호(SCAN[N])만이 턴-온 레벨 전압을 갖는다. 쓰기/센싱 기간(S20) 동안, 제1 및 제2 트랜지스터(T1, T2) 및 제6 트랜지스터(T6)가 턴-온 된다. 나머지 트랜지스터들(T3, T4, T5)은 오프 상태이다.Accordingly, the initialization voltage Vini is applied to the second node n2. That is, the gate electrode of the driving transistor DT is initialized to the initialization voltage Vini. During the writing/sensing period S20, among the n-1 th scan signal SCAN[N-1], the n-th scan signal SCAN[N], and the emission control signal EM, the n-th scan signal SCAN[ N]) only has a turn-on level voltage. During the write/sensing period S20 , the first and second transistors T1 and T2 and the sixth transistor T6 are turned on. The remaining transistors T3, T4, and T5 are in an off state.

쓰기/센싱 기간(S20) 동안, 제6 트랜지스터(T6)의 턴-온에 따라, 제4 노드(n4)에 해당하는 발광 소자(ED)의 애노드에 초기화 전압(Vini)이 인가될 수 있다. 그리고, 쓰기/센싱 기간(S20) 동안, 제1 트랜지스터(T1)의 턴-온에 따라, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극과 드레인 전극은 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 구동 트랜지스터(DT)의 상태를 다이오드 커넥션(Diode Connection) 상태라고 한다.During the write/sensing period S20 , the initialization voltage Vini may be applied to the anode of the light emitting device ED corresponding to the fourth node n4 according to the turn-on of the sixth transistor T6 . Also, during the write/sensing period S20 , according to the turn-on of the first transistor T1 , the gate electrode and the drain electrode of the driving transistor DT may be electrically connected to each other. This state of the driving transistor DT is referred to as a diode connection state.

쓰기/센싱 기간(S20) 동안, 구동 트랜지스터(DT)는 다이오드 커넥션에 의해 다이오드와 같이 동작하게 된다. 제2 트랜지스터(T2)의 턴-온에 따라, 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극에 인가되어 있던 데이터 전압(Vdata)은, 다이오드 커넥션에 의해, 게이트 전극으로 전달되게 된다. 이에 따라, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극(n2에 대응)의 전압은, 문턱전압(Vth)이 보상된 데이터 전압(Vdata-|Vth|)을 가지게 된다.During the write/sensing period S20 , the driving transistor DT operates like a diode by diode connection. As the second transistor T2 is turned on, the data voltage Vdata applied to the source electrode of the driving transistor DT is transferred to the gate electrode through the diode connection. Accordingly, the voltage of the gate electrode (corresponding to n2 ) of the driving transistor DT has the data voltage Vdata-|Vth| for which the threshold voltage Vth is compensated.

여기서, 구동 트랜지스터(DT)는 P 타입 트랜지스터이므로, 구동 트랜지스터(DT)의 문턱전압(Vth)은 네거티브 값(Negative value)을 가질 수 있다.Here, since the driving transistor DT is a P-type transistor, the threshold voltage Vth of the driving transistor DT may have a negative value.

이에 따라, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극(n2에 대응)의 전압은 Vdata+Vth (=Vdata-|Vth|=Vdata-(-Vth)=Vdata+Vth)가 된다. 이에 따라, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극(n2에 대응)의 전압은 Vdata+Vth (=Vdata-|Vth|=Vdata-(-Vth)=Vdata+Vth)가 된다.Accordingly, the voltage of the gate electrode (corresponding to n2) of the driving transistor DT becomes Vdata+Vth (=Vdata-|Vth|=Vdata-(-Vth)=Vdata+Vth). Accordingly, the voltage of the gate electrode (corresponding to n2) of the driving transistor DT becomes Vdata+Vth (=Vdata-|Vth|=Vdata-(-Vth)=Vdata+Vth).

발광 기간(S30) 동안, 제1 유형의 스캔신호인 제n-1 스캔 신호(SCAN[N-1]) 및 제n 스캔 신호(SCAN[N])와 발광 제어 신호(EM) 중에서, 발광 제어 신호(EM)만이 턴-온 레벨 전압을 갖는다. 따라서, 발광 기간(S30) 동안, 제3 및 제4 트랜지스터(T3, T4)가 턴-온 된다. 그리고, 구동 트랜지스터(DT)도 턴-온 상태이다. 나머지 트랜지스터들(T1, T2, T5, T6)은 오프 상태이다.During the emission period S30, among the n-1 th scan signal SCAN[N-1], the n-th scan signal SCAN[N], and the emission control signal EM, which are the first type of scan signals, emission control is performed. Only the signal EM has a turn-on level voltage. Accordingly, during the light emission period S30 , the third and fourth transistors T3 and T4 are turned on. In addition, the driving transistor DT is also turned on. The remaining transistors T1, T2, T5, and T6 are in an off state.

턴-온 상태인 제3 트랜지스터(T3), 구동 트랜지스터(DT) 및 제4 트랜지스터(T4)에 의해, 구동 전압 라인(DVL)에서 발광 소자(ED) 로 구동 전류 경로가 형성된다. 따라서, 발광 소자(ED)는 발광하게 된다.A driving current path is formed from the driving voltage line DVL to the light emitting device ED by the third transistor T3 , the driving transistor DT and the fourth transistor T4 in the turned-on state. Accordingly, the light emitting element ED emits light.

이하에서는 도 3a 및 도 3b를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)의 서브 화소(SP)를 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the sub-pixel SP of the display device 100 according to an exemplary embodiment will be described in more detail with reference to FIGS. 3A and 3B .

도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다. 도 3b는 도 3a의 IIIb-IIIb'에 따른 단면도이다. 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)는 기판(110), 버퍼층(111), 게이트 절연층(112), 층간 절연층(113), 패시베이션층(114), 평탄화층(115), 뱅크(116), 제4 트랜지스터(T4), 발광 소자(ED), 금속 패턴(140)을 포함한다. 도 3a에서는 설명의 편의를 위해 서브 화소(SP)에 배치된 구성 중 애노드(ANO)만을 도시하였다. 그리고 도 3b에서는 설명의 편의를 위해 화소 회로의 복수의 트랜지스터(T1, T2, T3, T4, T5, T6, DT) 및 커패시터(Cst) 중 제4 트랜지스터(T4)만을 도시하였다.3A is an enlarged plan view of a display device according to an exemplary embodiment. 3B is a cross-sectional view taken along line IIIb-IIIb' of FIG. 3A. 3A and 3B , the display device 100 according to an embodiment of the present invention includes a substrate 110 , a buffer layer 111 , a gate insulating layer 112 , an interlayer insulating layer 113 , and a passivation layer ( 114 ), a planarization layer 115 , a bank 116 , a fourth transistor T4 , a light emitting device ED, and a metal pattern 140 . In FIG. 3A , only the anode ANO among the components disposed in the sub-pixel SP is illustrated for convenience of explanation. In FIG. 3B , only the fourth transistor T4 among the plurality of transistors T1 , T2 , T3 , T4 , T5 , T6 , and DT and the capacitor Cst of the pixel circuit is illustrated for convenience of description.

도 3a를 참조하면, 복수의 서브 화소(SP)는 빛을 발광하는 개별 단위로, 복수의 서브 화소(SP) 각각에는 발광 소자(ED)가 배치된다. 복수의 서브 화소(SP)는 서로 다른 색상의 광을 발광하는 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)를 포함한다. 예를 들어, 제1 서브 화소(SP1)는 청색 서브 화소이고, 제2 서브 화소(SP2)는 녹색 서브 화소이며, 제3 서브 화소(SP3)는 적색 서브 화소일 수 있다. Referring to FIG. 3A , each of the plurality of sub-pixels SP is an individual unit emitting light, and a light emitting device ED is disposed in each of the plurality of sub-pixels SP. The plurality of sub-pixels SP includes a first sub-pixel SP1 , a second sub-pixel SP2 , and a third sub-pixel SP3 that emit light of different colors. For example, the first sub-pixel SP1 may be a blue sub-pixel, the second sub-pixel SP2 may be a green sub-pixel, and the third sub-pixel SP3 may be a red sub-pixel.

복수의 제1 서브 화소(SP1)는 복수의 열을 이루며 배치될 수 있다. 즉, 복수의 제1 서브 화소(SP1)는 동일한 열에 배치될 수 있다. 그리고 복수의 제2 서브 화소(SP2) 및 복수의 제3 서브 화소(SP3)는 복수의 제1 서브 화소(SP1)가 배치된 복수의 열 각각의 사이에 배치될 수 있다. 예를 들어, 하나의 열에 복수의 제1 서브 화소(SP1)가 배치되고, 이웃한 열에 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)가 함께 배치될 수 있다. 그리고 복수의 제2 서브 화소(SP2)와 복수의 제3 서브 화소(SP3)는 동일한 열에서 교대로 배치될 수 있다. 다만, 본 명세서에서는 복수의 서브 화소(SP)가 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)를 포함하는 것으로 설명하였으나, 복수의 서브 화소(SP)의 배치, 개수 및 색상 조합은 설계에 따라 다양하게 변경될 수 있으며, 이에 제한되지 않는다.The plurality of first sub-pixels SP1 may be arranged in a plurality of columns. That is, the plurality of first sub-pixels SP1 may be arranged in the same column. In addition, the plurality of second sub-pixels SP2 and the plurality of third sub-pixels SP3 may be disposed between each of the plurality of columns in which the plurality of first sub-pixels SP1 are disposed. For example, the plurality of first sub-pixels SP1 may be disposed in one column, and the second sub-pixel SP2 and the third sub-pixel SP3 may be disposed together in an adjacent column. In addition, the plurality of second sub-pixels SP2 and the plurality of third sub-pixels SP3 may be alternately disposed in the same column. However, in the present specification, the plurality of sub-pixels SP has been described as including the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 , but the plurality of sub-pixels SP The arrangement, number, and color combination of the elements may be variously changed depending on the design, but is not limited thereto.

복수의 서브 화소(SP) 사이에 적어도 하나의 금속 패턴(140)이 배치된다. 금속 패턴(140)은 금속 패턴(140)에 인접한 서브 화소의 발광 기간(S30) 동안 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. At least one metal pattern 140 is disposed between the plurality of sub-pixels SP. The metal pattern 140 may be configured such that a voltage is applied during the light emission period S30 of the sub-pixel adjacent to the metal pattern 140 .

금속 패턴(140)은 복수의 서브 화소(SP) 사이에서 열 방향으로 연장된 부분이다. 금속 패턴(140)은 제1 서브 화소(SP1)와 제2 서브 화소(SP2) 사이, 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3) 사이에서 열 방향으로 연장된 부분일 수 있다. The metal pattern 140 is a portion extending in the column direction between the plurality of sub-pixels SP. The metal pattern 140 may be a portion extending in the column direction between the first sub-pixel SP1 and the second sub-pixel SP2 and between the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 .

복수의 서브 화소(SP) 사이에서 배치된 적어도 하나의 금속 패턴(140)에 의해 복수의 발광 소자(ED)로부터의 누설 전류를 최소화할 수 있으며, 이에 대하여 도 3b를 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다. The leakage current from the plurality of light emitting devices ED may be minimized by the at least one metal pattern 140 disposed between the plurality of sub-pixels SP, which will be described in more detail with reference to FIG. 3B . do.

도 3b를 참조하면, 기판(110)은 표시 장치(100)의 다른 구성 요소를 지지하기 위한 지지 부재로, 절연 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 기판(110)은 유리 또는 수지 등으로 이루어질 수 있다. 또한, 기판(110)은 고분자 또는 폴리이미드(Polyimide, PI) 등과 같은 플라스틱을 포함하여 이루어질 수도 있고, 플렉서빌리티(flexibility)를 갖는 물질로 이루어질 수도 있다.Referring to FIG. 3B , the substrate 110 is a support member for supporting other components of the display device 100 , and may be made of an insulating material. For example, the substrate 110 may be made of glass or resin. In addition, the substrate 110 may include a polymer or plastic such as polyimide (PI), or may be made of a material having flexibility.

기판(110) 상에 버퍼층(111)이 배치된다. 버퍼층(111)은 기판(110)을 통한 수분 또는 불순물의 침투를 저감할 수 있다. 버퍼층(111)은 예를 들어, 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 다만, 버퍼층(111)은 기판(110)의 종류나 트랜지스터의 종류에 따라 생략될 수도 있으며, 이에 제한되지 않는다.A buffer layer 111 is disposed on the substrate 110 . The buffer layer 111 may reduce penetration of moisture or impurities through the substrate 110 . The buffer layer 111 may be formed of, for example, a single layer or a multilayer of silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), but is not limited thereto. However, the buffer layer 111 may be omitted depending on the type of the substrate 110 or the type of the transistor, but is not limited thereto.

버퍼층(111) 상에 제4 트랜지스터(T4)가 배치된다. 제4 트랜지스터(T4)는 액티브층(ACT), 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한다. A fourth transistor T4 is disposed on the buffer layer 111 . The fourth transistor T4 includes an active layer ACT, a gate electrode GE, a source electrode SE, and a drain electrode DE.

액티브층(ACT)은 산화물 반도체, 비정질 실리콘 또는 폴리 실리콘 등과 같은 반도체 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 액티브층(ACT)이 산화물 반도체로 형성된 경우, 액티브층(ACT)은 채널 영역, 소스 영역 및 드레인 영역으로 이루어지고, 소스 영역 및 드레인 영역은 도체화된 영역일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The active layer ACT may be made of a semiconductor material such as an oxide semiconductor, amorphous silicon, or polysilicon, but is not limited thereto. For example, when the active layer ACT is formed of an oxide semiconductor, the active layer ACT includes a channel region, a source region, and a drain region, and the source region and the drain region may be a conductive region, but is limited thereto. doesn't happen

액티브층(ACT) 상에 게이트 절연층(112)이 배치된다. 게이트 절연층(112)은 액티브층(ACT)과 게이트 전극(GE)을 절연시키기 위한 절연층으로, 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A gate insulating layer 112 is disposed on the active layer ACT. The gate insulating layer 112 is an insulating layer for insulating the active layer ACT and the gate electrode GE, and may be composed of a single layer or a multilayer of silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), but is limited thereto. doesn't happen

게이트 절연층(112) 상에 게이트 전극(GE)이 배치된다. 게이트 전극(GE)은 도전성 물질, 예를 들어, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 크롬(Cr) 또는 이에 대한 합금으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A gate electrode GE is disposed on the gate insulating layer 112 . The gate electrode GE may be formed of a conductive material, for example, copper (Cu), aluminum (Al), molybdenum (Mo), nickel (Ni), titanium (Ti), chromium (Cr), or an alloy thereof. However, it is not limited thereto.

게이트 전극(GE) 상에 층간 절연층(113)이 배치된다. 층간 절연층(113)에는 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE) 각각이 액티브층(ACT)에 접속하기 위한 컨택홀이 형성된다. 층간 절연층(113)은 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.An interlayer insulating layer 113 is disposed on the gate electrode GE. A contact hole for connecting the source electrode SE and the drain electrode DE to the active layer ACT is formed in the interlayer insulating layer 113 . The interlayer insulating layer 113 may be formed of a single layer or a multilayer of silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), but is not limited thereto.

층간 절연층(113) 상에 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 배치된다. 서로 이격되어 배치된 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)은 액티브층(ACT)과 전기적으로 연결될 수 있다. 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)은 도전성 물질, 예를 들어, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 크롬(Cr) 또는 이에 대한 합금으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. A source electrode SE and a drain electrode DE are disposed on the interlayer insulating layer 113 . The source electrode SE and the drain electrode DE disposed to be spaced apart from each other may be electrically connected to the active layer ACT. The source electrode SE and the drain electrode DE may be formed of a conductive material, for example, copper (Cu), aluminum (Al), molybdenum (Mo), nickel (Ni), titanium (Ti), chromium (Cr), or the like. It may be composed of an alloy for, but is not limited thereto.

소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE) 상에 패시베이션층(114)이 배치된다. 패시베이션층(114)은 패시베이션층(114) 하부의 구성을 보호하기 위한 절연층이다. 예를 들어, 패시베이션층(114)은 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 또한, 패시베이션층(114)은 실시예에 따라 생략될 수도 있다.A passivation layer 114 is disposed on the source electrode SE and the drain electrode DE. The passivation layer 114 is an insulating layer for protecting the structure under the passivation layer 114 . For example, the passivation layer 114 may be formed of a single layer or a multilayer of silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), but is not limited thereto. Also, the passivation layer 114 may be omitted according to embodiments.

패시베이션층(114) 상에 평탄화층(115)이 배치된다. 평탄화층(115)은 기판(110)의 상부를 평탄화하는 절연층이다. 평탄화층(115)은 유기 물질로 이루어질 수 있고, 예를 들어, 폴리이미드(Polyimide) 또는 포토아크릴(Photo Acryl)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A planarization layer 115 is disposed on the passivation layer 114 . The planarization layer 115 is an insulating layer that planarizes an upper portion of the substrate 110 . The planarization layer 115 may be made of an organic material, for example, may be formed of a single layer or a multilayer of polyimide or photo acryl, but is not limited thereto.

평탄화층(115) 상에서 복수의 서브 화소(SP) 각각에 복수의 발광 소자(ED)가 배치된다. 발광 소자(ED)는 애노드(ANO), 유기층(120) 및 캐소드(CAT)를 포함한다.A plurality of light emitting devices ED are disposed in each of the plurality of sub-pixels SP on the planarization layer 115 . The light emitting device ED includes an anode ANO, an organic layer 120 and a cathode CAT.

평탄화층(115) 상에 애노드(ANO)가 배치된다. 애노드(ANO)는 화소 회로의 트랜지스터, 예를 들어, 제2 트랜지스터(T2) 및 제5 트랜지스터(T5)와 전기적으로 연결되어, 구동 전류를 공급받을 수 있다. 애노드(ANO)는 유기층(120)에 정공을 공급하므로, 일함수가 높은 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 애노드(ANO)는 예를 들어, 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zin Oxide, IZO) 등과 같은 투명 도전성 물질로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.An anode ANO is disposed on the planarization layer 115 . The anode ANO may be electrically connected to a transistor of the pixel circuit, for example, the second transistor T2 and the fifth transistor T5 to receive a driving current. Since the anode ANO supplies holes to the organic layer 120 , it may be made of a conductive material having a high work function. The anode ANO may be formed of, for example, a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), but is not limited thereto.

한편, 표시 장치(100)는 탑 에미션(Top Emission) 또는 바텀 에미션(Bottom Emission) 방식으로 구현될 수 있다. 탑 에미션 방식인 경우, 유기층(120)으로부터 발광된 광이 애노드(ANO)에 반사되어 상부 방향, 즉, 캐소드(CAT) 측을 향하도록, 애노드(ANO)의 하부에 반사 효율이 우수한 금속 물질, 예를 들어, 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)과 같은 물질로 이루어진 반사층이 추가될 수 있다. 반대로, 표시 장치(100)가 바텀 에미션 방식인 경우, 애노드(ANO)는 투명 도전성 물질로만 이루어질 수 있다. 이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)가 탑 에미션 방식인 것으로 가정하여 설명하기로 한다.Meanwhile, the display device 100 may be implemented in a top emission method or a bottom emission method. In the case of the top emission method, a metal material having excellent reflection efficiency is provided under the anode ANO so that light emitted from the organic layer 120 is reflected by the anode ANO and is directed upward, that is, toward the cathode CAT side. , for example, a reflective layer made of a material such as aluminum (Al) or silver (Ag) may be added. Conversely, when the display device 100 is a bottom emission type, the anode ANO may be formed of only a transparent conductive material. Hereinafter, it is assumed that the display device 100 according to an embodiment of the present invention is a top emission type.

애노드(ANO) 및 평탄화층(115) 상에 뱅크(116)가 배치된다. 뱅크(116)는 복수의 서브 화소(SP)를 구분하기 위해, 복수의 서브 화소(SP) 사이에 배치된 절연층이다. 뱅크(116)는 애노드(ANO)의 일부를 노출시키는 개구부를 포함한다. 뱅크(116)는 애노드(ANO)의 엣지 또는 가장자리 부분을 덮도록 배치된 유기 절연 물질일 수 있다. 뱅크(116)는 예를 들어, 폴리이미드(polyimide), 아크릴(acryl) 또는 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene, BCB)계 수지로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.A bank 116 is disposed on the anode ANO and the planarization layer 115 . The bank 116 is an insulating layer disposed between the plurality of sub-pixels SP to separate the plurality of sub-pixels SP. The bank 116 includes an opening exposing a portion of the anode ANO. The bank 116 may be formed of an organic insulating material disposed to cover an edge or an edge portion of the anode ANO. The bank 116 may be made of, for example, polyimide, acryl, or benzocyclobutene (BCB)-based resin, but is not limited thereto.

애노드(ANO) 및 뱅크(116) 상에 유기층(120)이 배치된다. 유기층(120)은 발광층(123) 및 공통층(121, 122, 124)을 포함한다. 발광층(123)은 특정 색상의 광을 발광하기 위한 유기층으로, 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 각각에 서로 다른 발광층(123)이 배치될 수도 있다. 예를 들어, 제1 서브 화소(SP1)에 청색 발광층이 배치되고, 제2 서브 화소(SP2)에 녹색 발광층이 배치되며, 제3 서브 화소(SP3)에는 적색 발광층이 배치될 수 있다. The organic layer 120 is disposed on the anode ANO and the bank 116 . The organic layer 120 includes an emission layer 123 and common layers 121 , 122 , and 124 . The emission layer 123 is an organic layer for emitting light of a specific color, in which different emission layers 123 are disposed in each of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . may be For example, a blue emission layer may be disposed on the first sub-pixel SP1 , a green emission layer may be disposed on the second sub-pixel SP2 , and a red emission layer may be disposed on the third sub-pixel SP3 .

또한, 하나의 서브 화소에 동일한 색상의 광을 발광하는 발광층이 복수 개 적층될 수 있다. 예를 들어, 제1 서브 화소(SP1)에 2개의 청색 발광층이 적층되고, 제2 서브 화소(SP2)에 2개의 녹색 발광층이 적층되며, 제3 서브 화소(SP3)에는 2개의 적색 발광층이 배치될 수 있다. 이 경우, 복수의 발광층 각각의 사이에 전하 생성층(Charge Generation Layer, CGL)이 배치되어, 복수의 발광층 각각으로 전자 또는 정공을 원활하게 공급할 수 있다. 즉, 2개의 청색 발광층 사이, 2개의 녹색 발광층 사이, 2개의 적색 발광층 사이에 전하 생성층이 배치될 수 있다.In addition, a plurality of light-emitting layers emitting light of the same color may be stacked on one sub-pixel. For example, two blue light-emitting layers are stacked on the first sub-pixel SP1 , two green light-emitting layers are stacked on the second sub-pixel SP2 , and two red light-emitting layers are disposed on the third sub-pixel SP3 . can be In this case, a charge generation layer (CGL) may be disposed between each of the plurality of light emitting layers to smoothly supply electrons or holes to each of the plurality of light emitting layers. That is, the charge generation layer may be disposed between the two blue light emitting layers, between the two green light emitting layers, and between the two red light emitting layers.

공통층(121, 122, 124)은 발광층(123)의 발광 효율을 개선하기 위해 배치되는 층이다. 공통층(121, 122, 124)은 복수의 서브 화소(SP)에 걸쳐 하나의 층으로 형성되어, 복수의 발광 소자(ED)가 서로 공유할 수 있다. 즉, 복수의 서브 화소(SP) 각각의 공통층(121, 122, 124)은 서로 연결되어 일체로 이루어질 수 있다. 공통층(121, 122, 124)은 정공 주입층(121), 정공 수송층(122), 전자 수송층(124) 등을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The common layers 121 , 122 , and 124 are layers disposed to improve the luminous efficiency of the light emitting layer 123 . The common layers 121 , 122 , and 124 may be formed as one layer over the plurality of sub-pixels SP, so that the plurality of light emitting devices ED may be shared with each other. That is, the common layers 121 , 122 , and 124 of each of the plurality of sub-pixels SP may be connected to each other and formed integrally. The common layers 121 , 122 , and 124 may include, but are not limited to, a hole injection layer 121 , a hole transport layer 122 , an electron transport layer 124 , and the like.

유기층(120) 상에 캐소드(CAT)가 배치된다. 캐소드(CAT)는 유기층(120)에 전자를 공급하므로, 일함수가 낮은 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 캐소드(CAT)는 복수의 서브 화소(SP)에 걸쳐 하나의 층으로 형성될 수 있다. 즉, 복수의 서브 화소(SP) 각각의 캐소드(CAT)는 서로 연결되어 일체로 이루어질 수 있다. 캐소드(CAT)는 예를 들어, 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zin Oxide, IZO) 등과 같은 투명 도전성 물질 또는 MgAg와 같은 금속 합금이나 이테르븀(Yb) 합금 등으로 형성될 수 있고, 금속 도핑층이 더 포함될 수도 있으며, 이에 제한되지 않는다. 한편, 도면에 도시되지는 않았으나, 캐소드(CAT)는 저전위 전원 배선과 전기적으로 연결되어 저전위 전원 신호(EVSS)를 공급받을 수 있다. A cathode CAT is disposed on the organic layer 120 . Since the cathode CAT supplies electrons to the organic layer 120 , it may be formed of a conductive material having a low work function. The cathode CAT may be formed as one layer across the plurality of sub-pixels SP. That is, the cathodes CAT of each of the plurality of sub-pixels SP may be connected to each other and formed integrally. The cathode (CAT) is formed of, for example, a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), or a metal alloy such as MgAg or a ytterbium (Yb) alloy. and may further include a metal doped layer, but is not limited thereto. Meanwhile, although not shown in the drawings, the cathode CAT may be electrically connected to the low potential power wiring to receive the low potential power signal EVSS.

뱅크(116) 하부에 금속 패턴(140)이 배치된다. 금속 패턴(140)은 복수의 서브 화소(SP)에 배치된 복수의 발광 소자(ED) 사이에 복수의 애노드(ANO)와 동일층에 배치될 수 있다. 금속 패턴(140)은 독립된 배선 형태로 구성될 수 있다. A metal pattern 140 is disposed under the bank 116 . The metal pattern 140 may be disposed on the same layer as the plurality of anodes ANO between the plurality of light emitting devices ED disposed in the plurality of sub-pixels SP. The metal pattern 140 may be configured in the form of an independent wiring.

금속 패턴(140)은 금속 패턴(140)에 인접한 서브 화소의 발광 기간(S30) 동안 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(140)은 금속 패턴(140)에 인접한 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30) 동안 직류 전압이 인가되도록 구성되고, 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30)을 제외한 기간인 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안에는 플로팅될 수 있다.The metal pattern 140 may be configured such that a voltage is applied during the light emission period S30 of the sub-pixel adjacent to the metal pattern 140 . For example, the metal pattern 140 is configured such that a DC voltage is applied during the emission period S30 of the first sub-pixel SP1 adjacent to the metal pattern 140 , and during the emission period ( S30 ) of the first sub-pixel SP1 . During the initialization period ( S10 ) and the writing/sensing period ( S20 ), which are periods excluding S30 ), it may be floated.

한편, 복수의 발광 소자(ED)의 공통층(121, 122, 124)은 복수의 서브 화소(SP) 전체에 걸쳐 하나의 층으로 형성된다. 이때, 복수의 서브 화소(SP)의 발광 소자(ED)가 공통층(121, 122, 124)을 공유하는 구조로 형성됨에 따라, 특정 서브 화소(SP)의 발광 소자(ED)를 발광시킬 때 이웃한 서브 화소(SP)의 발광 소자(ED)로 전류가 흐르는 현상, 즉 전류 누설 현상이 발생할 수 있다. 전류 누설 현상은 의도치 않은 다른 서브 화소(SP)의 발광 소자(ED)가 발광하게 되어, 복수의 서브 화소(SP) 간의 혼색을 유발하고 소비 전력을 증가시킬 수 있다. 또한, 누설 전류에 의해 색 이상 및 얼룩 등이 시인되어 표시 품질이 저하될 수 있다. 예를 들어, 복수의 서브 화소(SP) 중 제1 서브 화소(SP1)만 발광하는 경우, 제1 서브 화소(SP1)의 발광 소자(ED)를 구동하기 위해 공급된 전류 중 일부가 공통층(121, 122, 124)을 통해 인접한 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)로 누설될 수 있다. Meanwhile, the common layers 121 , 122 , and 124 of the plurality of light emitting devices ED are formed as a single layer over the entire plurality of sub-pixels SP. In this case, since the light emitting device ED of the plurality of sub-pixels SP is formed in a structure that shares the common layers 121 , 122 , and 124 , when the light emitting device ED of a specific sub-pixel SP emits light A phenomenon in which current flows to the light emitting element ED of the adjacent sub-pixel SP, that is, a current leakage phenomenon may occur. The current leakage phenomenon may cause the light emitting device ED of another sub-pixel SP to emit light, which may cause color mixing between the plurality of sub-pixels SP and increase power consumption. In addition, color abnormality and unevenness may be visually recognized due to leakage current, and thus display quality may be deteriorated. For example, when only the first sub-pixel SP1 among the plurality of sub-pixels SP emits light, some of the current supplied to drive the light-emitting device ED of the first sub-pixel SP1 is transferred to the common layer ( The second sub-pixel SP2 and the third sub-pixel SP3 may leak through 121 , 122 , and 124 .

그리고 복수의 서브 화소(SP) 별로 분리되어 배치된 발광층(123)은 서로 상이한 턴-온 전압을 갖는다. 예를 들어, 청색 발광층이 배치된 제1 서브 화소(SP1)를 구동하기 위한 턴-온 전압이 가장 크고, 적색 발광층이 배치된 제3 서브 화소(SP3)를 구동하기 위한 턴-온 전압은 가장 작을 수 있다. 그리고 턴-온 전압이 가장 큰 제1 서브 화소(SP1)보다 턴-온 전압이 작은 제2 서브 화소(SP2) 또는 제3 서브 화소(SP3)에서 전류가 흐를 수 있는 장벽이 낮으므로, 공통층(121, 122, 124)을 통해 누설된 전류는 턴-온 전압이 큰 제1 서브 화소(SP1)에서 턴-온 전압이 작은 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)로 쉽게 흐를 수 있고, 제1 서브 화소(SP1) 구동 시 턴-온 전압이 작은 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)가 함께 발광할 수 있다. In addition, the light-emitting layers 123 arranged separately for each of the plurality of sub-pixels SP have different turn-on voltages. For example, the turn-on voltage for driving the first sub-pixel SP1 on which the blue emission layer is disposed is the largest, and the turn-on voltage for driving the third sub-pixel SP3 on which the red emission layer is disposed is the highest. can be small In addition, since the barrier through which a current can flow is lower in the second sub-pixel SP2 or the third sub-pixel SP3 having a smaller turn-on voltage than the first sub-pixel SP1 having the largest turn-on voltage, the common layer The current leaked through 121 , 122 , and 124 easily flows from the first sub-pixel SP1 having a large turn-on voltage to the second sub-pixel SP2 and the third sub-pixel SP3 having a low turn-on voltage. flow, and when the first sub-pixel SP1 is driven, the second sub-pixel SP2 and the third sub-pixel SP3 having a small turn-on voltage may emit light together.

특히, 저계조 구동 시, 구동되는 서브 화소(SP)에서 발광된 광의 휘도가 낮아, 이웃한 서브 화소(SP)에서 발광된 광이 보다 쉽게 인지될 수 있다. 즉, 저계조 구동 시, 누설 전류로 인한 색 이상 및 얼룩 불량이 더욱 쉽게 인지될 수 있어 표시 품질 저하가 심각하게 발생할 수 있다. 또한, 저계조의 백색광을 표시할 때, 공통층(121, 122, 124)을 통해 가장 낮은 턴-온 전압을 갖는 제3 서브 화소(SP3)에서 가장 먼저 광을 발광하므로, 순수한 백색이 아닌 붉은 빛을 갖는 백색이 표시되는 레디쉬(redish) 현상이 발생할 수도 있다. In particular, during low grayscale driving, the luminance of light emitted from the driven sub-pixel SP is low, so that the light emitted from the neighboring sub-pixel SP can be more easily recognized. That is, when the low gray level is driven, color abnormalities and unevenness due to leakage current may be more easily recognized, and thus display quality may be seriously deteriorated. In addition, when displaying low grayscale white light, the third sub-pixel SP3 having the lowest turn-on voltage through the common layers 121 , 122 , and 124 emits light first, so that the light is first emitted from a red color instead of a pure white light. A redish phenomenon in which white with light is displayed may occur.

이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서는 금속 패턴(140)을 배치하여 발광 소자(ED)의 공통층(121, 122, 124)을 통한 누설 전류가 최소화될 수 있다. 도 2b 및 도 3b를 참조하면, 금속 패턴(140)에는 발광 제어 신호(EM)가 인가되어 애노드(ANO)에 전압이 인가되어 발광 소자(ED)가 발광하는 발광 기간(S30) 동안 애노드(ANO)와 인접한 금속 패턴(140)에 직류 전압이 인가될 수 있다. 이에, 발광 기간(S30) 동안 금속 패턴(140)과 캐소드(CAT)가 이루는 커패시터에 의해 누설 전류의 캐리어가 트랩될 수 있다. 구체적으로, 발광 기간(S30) 동안 직류 전압이 인가되는 금속 패턴(140)은 캐소드(CAT)와 커패시터를 이룰 수 있다. 그리고 이웃한 서브 화소(SP)로 흐르는 누설 전류의 캐리어는 캐소드(CAT)와 금속 패턴(140)이 이루는 커패시터에 의해 트랩되어 이웃한 서브 화소(SP)로 흐르는 누설 전류가 최소화될 수 있다. Accordingly, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the metal pattern 140 is disposed to minimize leakage current through the common layers 121 , 122 , and 124 of the light emitting device ED. 2B and 3B , a light emission control signal EM is applied to the metal pattern 140 and a voltage is applied to the anode ANO during the light emission period S30 in which the light emitting element ED emits light. ) and a DC voltage may be applied to the adjacent metal pattern 140 . Accordingly, carriers of leakage current may be trapped by the capacitor formed between the metal pattern 140 and the cathode CAT during the light emission period S30 . Specifically, the metal pattern 140 to which the DC voltage is applied during the light emission period S30 may form a capacitor with the cathode CAT. In addition, carriers of leakage current flowing to the neighboring sub-pixels SP are trapped by the capacitor formed between the cathode CAT and the metal pattern 140 , so that the leakage current flowing to the neighboring sub-pixels SP can be minimized.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안 금속 패턴(140)을 플로팅시켜 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도 들뜸 현상을 해결할 수 있다. 예를 들어, 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안에도 금속 패턴(140)에 전압이 인가되는 경우, 금속 패턴(140)과 금속 패턴(140) 하부의 다양한 트랜지스터들, 예를 들어, 구동 트랜지스터, 제1 내지 제 6 트랜지스터 간에 기생 커패시턴스가 발생할 수 있다. 이와 같이, 기생 커패시턴스가 발생하는 경우 트랜지스터들의 전압 충전량이 줄어들 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(140)과 구동 트랜지스터의 게이트 전극 간에 기생 커패시턴스가 증가하는 경우, 구동 트랜지스터의 게이트 전극의 전압 충전량이 감소하게 된다. 이 경우, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하게 되어 휘도 들뜸 현상이 발생할 수 있다. 특히, 전압 충전 시간이 제한적인 고속 구동 또는 고해상도의 표시 장치의 경우 휘도 들뜸 현상이 더 심화될 수 있다. 이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안 금속 패턴(140)을 플로팅시켜 금속 패턴(140)과 트랜지스터들 간의 기생 커패시턴스를 감소시킬 수 있고, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하게 되어 발생하는 휘도 들뜸 현상을 억제할 수 있다. Meanwhile, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the metal pattern 140 is floated during the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 to solve the luminance lift phenomenon during black driving or low gray scale driving. can For example, when a voltage is applied to the metal pattern 140 even during the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 , the metal pattern 140 and various transistors under the metal pattern 140 , for example For example, a parasitic capacitance may be generated between the driving transistor and the first to sixth transistors. As such, when the parasitic capacitance is generated, the voltage charge amount of the transistors may be reduced. For example, when the parasitic capacitance between the metal pattern 140 and the gate electrode of the driving transistor increases, the voltage charge of the gate electrode of the driving transistor decreases. In this case, the luminance increases during black driving or low gray scale driving, and thus a luminance lift phenomenon may occur. In particular, in the case of a high-speed driving or high-resolution display device in which a voltage charging time is limited, the luminance excitation phenomenon may be further exacerbated. Accordingly, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the metal pattern 140 is floated during the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 to reduce parasitic capacitance between the metal pattern 140 and the transistors. It is possible to reduce the luminance, and it is possible to suppress a luminance lift phenomenon that occurs due to an increase in luminance during black driving or low grayscale driving.

한편, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하는 휘도 들뜸 현상과 관련된 효과를 설명하기 위해 하기 [표 1]을 참조한다.Meanwhile, refer to [Table 1] below in order to explain the effect related to the luminance lift phenomenon in which the luminance increases during black driving or low gray scale driving.

Ioled I oled 비교예comparative example 33.12 pA33.12 pA 실시예Example 21.26 pA21.26 pA

실시예는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치이고, 발광 기간(S30) 동안 금속 패턴에 고전위 구동 전압(EVDD)에 해당하는 전압을 인가하였다. 비교예는 금속 패턴에 발광 기간(S30)뿐만 아니라 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안에도 고전위 구동 전압(EVDD)에 해당하는 전압을 인가하였다. 상기 [표 1]은 저계조 구동 시에 제1 서브 화소의 발광 소자에 흐르는 구동 전류(Ioled)를 측정한 것이다.The embodiment is a display device according to an embodiment of the present invention, and a voltage corresponding to the high potential driving voltage EVDD is applied to the metal pattern during the light emission period S30 . In the comparative example, a voltage corresponding to the high potential driving voltage EVDD was applied to the metal pattern not only during the light emission period S30 but also during the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 . [Table 1] shows the measurement of the driving current Ioled flowing through the light emitting device of the first sub-pixel during low grayscale driving.

[표 1]을 참조하면, 비교예는 실시예에 비해 11.86 pA 만큼 구동 전류(Ioled)가 증가한다. 일반적으로, 1 nit 당 요구되는 구동 전류(Ioled)의 크기가 약 16.578 pA라는 점에서 비교예는 실시예보다 약 1nit 정도 휘도가 증가하는 휘도 들뜸 현상이 발생한다. 그러나, 실시예에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안에는 금속 패턴을 플로팅하여 저계조 구동 시 휘도가 증가하는 휘도 들뜸 현상을 방지할 수 있다.Referring to [Table 1], the driving current (I oled ) is increased by 11.86 pA in the comparative example compared to the embodiment. In general, since the size of the driving current I oled required per 1 nit is about 16.578 pA, the luminance excitation phenomenon occurs in the comparative example, in which the luminance is increased by about 1 nit than in the embodiment. However, in the embodiment, the metal pattern may be floated during the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 to prevent the luminance lifting phenomenon in which the luminance increases during low grayscale driving.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다. 도 4의 표시 장치(200)는 도 1 내지 도 3b의 표시 장치(100)와 비교하여 금속 패턴(240)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략한다. 4 is a cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment. Compared to the display device 100 of FIGS. 1 to 3B , the display device 200 of FIG. 4 has only a metal pattern 240 different from that of the display device 100 of FIGS. 1 to 3B , and other configurations are substantially the same, so a redundant description will be omitted.

도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(200)에서는 뱅크(116) 하부에 금속 패턴(240)이 배치된다. 금속 패턴(240)은 복수의 서브 화소(SP)에 배치된 복수의 발광 소자(ED) 사이에 복수의 애노드(ANO)와 동일층에 배치될 수 있다. 금속 패턴(240)은 독립된 배선 형태로 구성될 수 있다. Referring to FIG. 4 , in the display device 200 according to another embodiment of the present invention, a metal pattern 240 is disposed under the bank 116 . The metal pattern 240 may be disposed on the same layer as the plurality of anodes ANO between the plurality of light emitting devices ED disposed in the plurality of sub-pixels SP. The metal pattern 240 may be configured in the form of an independent wiring.

금속 패턴(240)은 애노드(ANO)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 금속 패턴(240)은 애노드(ANO)와 상이한 물질로 상이한 공정으로 형성될 수 있고, 이에 따라 금속 패턴(240)은 애노드(ANO)의 두께보다 두껍게 형성될 수 있다. 이때, 금속 패턴(240) 상에 배치되는 뱅크(116)는 유기 절연 물질로 형성되므로, 금속 패턴(240)이 배치된 영역과 금속 패턴(240) 주변 영역에서의 뱅크(116) 상면은 평탄할 수 있다.The metal pattern 240 may be thicker than the thickness of the anode ANO. The metal pattern 240 may be formed of a material different from that of the anode ANO by a different process, and thus the metal pattern 240 may be formed to be thicker than the thickness of the anode ANO. In this case, since the bank 116 disposed on the metal pattern 240 is formed of an organic insulating material, the top surface of the bank 116 in the area where the metal pattern 240 is disposed and the area around the metal pattern 240 may be flat. can

금속 패턴(240)은 금속 패턴(240)에 인접한 서브 화소의 발광 기간(S30) 동안 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(240)은 금속 패턴(240)에 인접한 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30) 동안 직류 전압이 인가되도록 구성되고, 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30)을 제외한 기간인 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안에는 플로팅될 수 있다.The metal pattern 240 may be configured such that a voltage is applied during the light emission period S30 of the sub-pixel adjacent to the metal pattern 240 . For example, the metal pattern 240 is configured such that a DC voltage is applied during the emission period S30 of the first sub-pixel SP1 adjacent to the metal pattern 240 , and during the emission period ( S30 ) of the first sub-pixel SP1 . During the initialization period ( S10 ) and the writing/sensing period ( S20 ), which are periods excluding S30 ), it may be floated.

이에, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(200)에서는 금속 패턴(240)을 배치하여 발광 소자(ED)의 공통층(121, 122, 124)을 통한 누설 전류가 최소화될 수 있다. 발광 기간(S30) 동안 애노드(ANO)와 인접한 금속 패턴(240)에 직류 전압이 인가될 수 있다. 이에, 발광 기간(S30) 동안 금속 패턴(240)과 캐소드(CAT)가 이루는 커패시터에 의해 누설 전류의 캐리어가 트랩될 수 있다. 금속 패턴(240)의 두께를 애노드(ANO)보다 두껍게하여 금속 패턴(240)과 캐소드(CAT) 사이의 거리가 줄어들면 금속 패턴(240)과 캐소드(CAT) 간의 커패시턴스가 증가하여 보다 많은 누설 전류의 캐리어가 금속 패턴(240)과 캐소드(CAT) 사이에 트랩될 수 있다. 이에, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(200)에서는 캐소드(CAT)와 금속 패턴(240)이 이루는 커패시터에 의해 이웃한 서브 화소(SP)로 흐르는 누설 전류가 최소화될 수 있다. Accordingly, in the display device 200 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 240 is disposed to minimize leakage current through the common layers 121 , 122 , and 124 of the light emitting device ED. A DC voltage may be applied to the metal pattern 240 adjacent to the anode ANO during the light emission period S30 . Accordingly, carriers of leakage current may be trapped by the capacitor formed between the metal pattern 240 and the cathode CAT during the light emission period S30 . When the distance between the metal pattern 240 and the cathode CAT is reduced by making the thickness of the metal pattern 240 thicker than the anode ANO, the capacitance between the metal pattern 240 and the cathode CAT increases, resulting in more leakage current may be trapped between the metal pattern 240 and the cathode CAT. Accordingly, in the display device 200 according to another embodiment of the present invention, the leakage current flowing to the adjacent sub-pixel SP by the capacitor formed between the cathode CAT and the metal pattern 240 may be minimized.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(200)에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안 금속 패턴(240)을 플로팅시켜 금속 패턴(240)과 트랜지스터들 간의 기생 커패시턴스를 감소시킬 수 있고, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하게 되어 발생하는 휘도 들뜸 현상을 억제할 수 있다. In addition, in the display device 200 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 240 is floated during the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 to reduce parasitic capacitance between the metal pattern 240 and the transistors. It is possible to reduce the luminance, and it is possible to suppress a luminance lift phenomenon that occurs due to an increase in luminance during black driving or low grayscale driving.

도 5a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다. 도 5b는 도 5a의 Vb-Vb'에 따른 단면도이다. 도 5a 및 도 5b의 표시 장치(300)는 도 1 내지 도 3b의 표시 장치(100)와 비교하여 금속 패턴(340)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략한다. 5A is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment. 5B is a cross-sectional view taken along Vb-Vb' of FIG. 5A. The display device 300 of FIGS. 5A and 5B has only a metal pattern 340 different from that of the display device 100 of FIGS. 1 to 3B , and other configurations are substantially the same, so a redundant description will be omitted.

도 5a 및 도 5b를 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 뱅크(116) 하부에 금속 패턴(340)이 배치된다. 금속 패턴(340)은 복수의 서브 화소(SP)에 배치된 복수의 발광 소자(ED) 사이에 복수의 애노드(ANO)와 동일층에 배치될 수 있다. 이때, 금속 패턴(340)은 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. 즉, 금속 패턴(340)은 애노드(ANO)와 동시에 동일한 물질로 형성되며, 애노드(ANO)가 연장된 형태일 수 있다. 금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)와 제2 서브 화소(SP2) 사이, 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3) 사이에 배치될 수 있다. 5A and 5B , in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, a metal pattern 340 is disposed under the bank 116 . The metal pattern 340 may be disposed on the same layer as the plurality of anodes ANO between the plurality of light emitting devices ED disposed in the plurality of sub-pixels SP. In this case, the metal pattern 340 may be connected to the anode ANO. That is, the metal pattern 340 may be formed of the same material as the anode ANO at the same time, and the anode ANO may have an extended shape. The metal pattern 340 may be disposed between the first sub-pixel SP1 and the second sub-pixel SP2 , and between the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 .

금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. 즉, 금속 패턴(340)은 복수의 서브 화소 중 턴-온 전압이 가장 큰 서브 화소인 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. The metal pattern 340 may be connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 . That is, the metal pattern 340 may be connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 which is a sub-pixel having the largest turn-on voltage among the plurality of sub-pixels.

이에, 금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30) 동안 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30) 동안 애노드(ANO)에 인가되는 직류 전압과 동일한 직류 전압이 인가되도록 구성되고, 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30)을 제외한 기간인 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안에는 애노드(ANO)와 동일하게 플로팅될 수 있다.Accordingly, the metal pattern 340 may be configured such that the same voltage as that of the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is applied. Specifically, the metal pattern 340 may be configured such that the same voltage as that of the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is applied during the emission period S30 of the first sub-pixel SP1 . For example, the metal pattern 340 is configured such that a DC voltage equal to the DC voltage applied to the anode ANO is applied during the light emission period S30 of the first sub-pixel SP1, and the first sub-pixel SP1 During the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 , which are periods excluding the light emission period S30 of , the anode may be floated in the same manner as the anode ANO.

이에, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 턴-온 전압이 가장 큰 제1 서브 화소(SP1)의 애노드와 연결된 금속 패턴(340)을 배치하여 발광 소자(ED)의 공통층(121, 122, 124)을 통한 누설 전류가 최소화될 수 있다. 일반적으로, 턴-온 전압이 상대적으로 큰 서브 화소에서 턴-온 전압이 상대적으로 작은 서브 화소로 누설 전류가 흐르게 되어, 턴-온 전압이 상대적으로 작은 서브 화소가 발광하는 문제가 발생한다. 예를 들어, 턴-온 전압이 상대적으로 큰 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간 동안, 제1 서브 화소(SP1)로부터의 누설 전류에 의해 턴-온 전압이 상대적으로 작은 제2 서브 화소(SP2) 또는 제3 서브 화소(SP3)가 발광하는 문제가 발생할 수 있다. 이에, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 발광 기간(S30) 동안 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 연결된 금속 패턴(340)에 직류 전압이 인가될 수 있다. 이에, 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30) 동안 금속 패턴(340)과 캐소드(CAT)가 이루는 커패시터에 의해 제1 서브 화소(SP1)로부터의 누설 전류의 캐리어가 트랩될 수 있다. 따라서, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 상대적으로 턴-온 전압이 큰 제1 서브 화소(SP1)로부터 상대적으로 턴-온 전압이 작은 제2 서브 화소(SP2) 또는 제3 서브 화소(SP3)로 흐르는 누설 전류가 최소화될 수 있다.Accordingly, in the display device 300 according to another exemplary embodiment of the present invention, the metal pattern 340 connected to the anode of the first sub-pixel SP1 having the largest turn-on voltage is disposed to provide a common feature of the light emitting device ED. Leakage current through layers 121 , 122 , 124 may be minimized. In general, a leakage current flows from a sub-pixel having a relatively high turn-on voltage to a sub-pixel having a relatively low turn-on voltage, so that the sub-pixel having a relatively low turn-on voltage emits light. For example, during the light emission period of the first sub-pixel SP1 having a relatively high turn-on voltage, the second sub-pixel (SP1) having a relatively low turn-on voltage due to leakage current from the first sub-pixel SP1 SP2) or the third sub-pixel SP3 may emit light. Accordingly, in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, a DC voltage may be applied to the metal pattern 340 connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 during the light emission period S30 . . Accordingly, carriers of the leakage current from the first sub-pixel SP1 may be trapped by the capacitor formed between the metal pattern 340 and the cathode CAT during the emission period S30 of the first sub-pixel SP1 . Accordingly, in the display device 300 according to another exemplary embodiment of the present invention, from the first sub-pixel SP1 having a relatively high turn-on voltage to the second sub-pixel SP2 or the second sub-pixel SP2 having a relatively low turn-on voltage A leakage current flowing to the third sub-pixel SP3 may be minimized.

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안 금속 패턴(340)을 플로팅시켜 금속 패턴(340)과 트랜지스터들 간의 기생 커패시턴스를 감소시킬 수 있고, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하게 되어 발생하는 휘도 들뜸 현상을 억제할 수 있다. In addition, in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 340 is floated during the initialization period S10 and the write/sensing period S20 to generate parasitic capacitance between the metal pattern 340 and transistors. can be reduced, and it is possible to suppress a luminance lifting phenomenon that occurs due to an increase in luminance during black driving or low grayscale driving.

한편, 도 5a 및 도 5b에서는 금속 패턴(340)이 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 연결된 것으로 도시되었으나, 금속 패턴(340)은 복수로 구비되어, 일부 금속 패턴(340)은 제2 서브 화소(SP2)의 애노드(ANO)와 연결되도록 배치될 수 있고, 다른 일부 금속 패턴(340)은 제3 서브 화소(SP3)의 애노드(ANO)와 연결되도록 배치될 수 있다. 이에, 금속 패턴(340)을 통해 모든 서브 화소로부터의 누설 전류를 최소화할 수 있다. Meanwhile, although the metal pattern 340 is illustrated as being connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 in FIGS. 5A and 5B , a plurality of metal patterns 340 are provided, and some metal patterns 340 are It may be disposed to be connected to the anode ANO of the second sub-pixel SP2 , and some other metal patterns 340 may be disposed to be connected to the anode ANO of the third sub-pixel SP3 . Accordingly, leakage currents from all sub-pixels may be minimized through the metal pattern 340 .

도 6a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다. 도 6b는 도 6a의 VIb-VIb'에 따른 단면도이다. 도 6a 및 도 6b의 표시 장치(400)는 도 5a 및 도 5b의 표시 장치(300)와 비교하여 금속 패턴(440)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략한다. 6A is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment. 6B is a cross-sectional view taken along VIb-VIb' of FIG. 6A. Compared to the display device 300 of FIGS. 5A and 5B , the display device 400 of FIGS. 6A and 6B only has a different metal pattern 440 , and other configurations are substantially the same, so a redundant description will be omitted.

도 5a 및 도 5b를 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 뱅크(116) 하부에 금속 패턴(340)이 배치된다. 금속 패턴(340)은 복수의 서브 화소(SP)에 배치된 복수의 발광 소자(ED) 사이에 복수의 애노드(ANO)와 동일층에 배치될 수 있다. 이때, 금속 패턴(340)은 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. 즉, 금속 패턴(340)은 애노드(ANO)와 동시에 동일한 물질로 형성되며, 애노드(ANO)가 연장된 형태일 수 있다. 5A and 5B , in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, a metal pattern 340 is disposed under the bank 116 . The metal pattern 340 may be disposed on the same layer as the plurality of anodes ANO between the plurality of light emitting devices ED disposed in the plurality of sub-pixels SP. In this case, the metal pattern 340 may be connected to the anode ANO. That is, the metal pattern 340 may be formed of the same material as the anode ANO at the same time, and the anode ANO may have an extended shape.

금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)와 제2 서브 화소(SP2) 사이, 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3) 사이에 배치될 수 있다. 이때, 금속 패턴(340)은 서로 인접하는 2개의 서브 화소 사이에 2개로 배치될 수 있다. 즉, 도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이 제1 서브 화소(SP1)와 제2 서브 화소(SP2) 사이, 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3) 사이에 단면 상으로 각각 2개의 금속 패턴(340)이 배치될 수 있다. 다만, 금속 패턴(340)의 개수는 이에 제한되지 않고, 3개 이상일 수도 있다.The metal pattern 340 may be disposed between the first sub-pixel SP1 and the second sub-pixel SP2 , and between the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 . In this case, two metal patterns 340 may be disposed between two sub-pixels adjacent to each other. That is, as shown in FIGS. 6A and 6B , between the first sub-pixel SP1 and the second sub-pixel SP2 and between the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 in cross-section, respectively, as shown in FIGS. 6A and 6B , respectively. Two metal patterns 340 may be disposed. However, the number of the metal patterns 340 is not limited thereto, and may be three or more.

금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. 즉, 금속 패턴(340)은 복수의 서브 화소 중 턴-온 전압이 가장 큰 서브 화소인 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. 이에, 금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 금속 패턴(340)은 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30) 동안 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. The metal pattern 340 may be connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 . That is, the metal pattern 340 may be connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 which is a sub-pixel having the largest turn-on voltage among the plurality of sub-pixels. Accordingly, the metal pattern 340 may be configured such that the same voltage as that of the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is applied. Specifically, the metal pattern 340 may be configured such that the same voltage as that of the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is applied during the emission period S30 of the first sub-pixel SP1 .

이에, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 턴-온 전압이 가장 큰 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 연결된 복수의 금속 패턴(340)을 서로 인접하는 서브 화소 사이에 배치하여 발광 소자(ED)의 공통층(121, 122, 124)을 통한 누설 전류가 최소화될 수 있다. 즉, 발광 기간(S30) 동안 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 동일한 직류 전압이 인가되는 복수의 금속 패턴(340)이 서로 인접하는 서브 화소 사이에 배치될 수 있다. 따라서, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 캐소드(CAT)와 금속 패턴(340) 간의 커패시턴스를 증가시켜, 상대적으로 턴-온 전압이 큰 제1 서브 화소(SP1)로부터 상대적으로 턴-온 전압이 작은 제2 서브 화소(SP2) 또는 제3 서브 화소(SP3)로 흐르는 누설 전류가 최소화될 수 있다.Accordingly, in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, the plurality of metal patterns 340 connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 having the largest turn-on voltage are formed to be adjacent to each other. By disposing between the pixels, leakage current through the common layers 121 , 122 , and 124 of the light emitting device ED may be minimized. That is, during the emission period S30 , a plurality of metal patterns 340 to which the same DC voltage as that of the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is applied may be disposed between adjacent sub-pixels. Accordingly, in the display device 300 according to another exemplary embodiment of the present invention, the capacitance between the cathode CAT and the metal pattern 340 is increased, so that the first sub-pixel SP1 having a relatively large turn-on voltage is increased. Therefore, a leakage current flowing into the second sub-pixel SP2 or the third sub-pixel SP3 having a low turn-on voltage may be minimized.

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안 금속 패턴(340)을 플로팅시켜 금속 패턴(340)과 트랜지스터들 간의 기생 커패시턴스를 감소시킬 수 있고, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하게 되어 발생하는 휘도 들뜸 현상을 억제할 수 있다. In addition, in the display device 300 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 340 is floated during the initialization period S10 and the write/sensing period S20 to generate parasitic capacitance between the metal pattern 340 and transistors. can be reduced, and it is possible to suppress a luminance lifting phenomenon that occurs due to an increase in luminance during black driving or low grayscale driving.

도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다. 도 7의 표시 장치(500)는 도 6a 및 도 6b의 표시 장치(400)와 비교하여 뱅크(116) 및 금속 패턴(540)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략한다. 7 is a schematic cross-sectional view of a display device according to still another exemplary embodiment. The display device 500 of FIG. 7 is different from the display device 400 of FIGS. 6A and 6B only in the bank 116 and the metal pattern 540 , and other configurations are substantially the same, so a redundant description will be omitted. .

도 7을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(500)에서는 뱅크(116) 하부에 금속 패턴(540)이 배치된다. 금속 패턴(540)은 복수의 서브 화소(SP)에 배치된 복수의 발광 소자(ED) 사이에 복수의 애노드(ANO)와 동일층에 배치될 수 있다. 이때, 금속 패턴(540)은 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. 즉, 금속 패턴(540)은 애노드(ANO)가 연장된 형태일 수 있다. Referring to FIG. 7 , in the display device 500 according to another embodiment of the present invention, a metal pattern 540 is disposed under the bank 116 . The metal pattern 540 may be disposed on the same layer as the plurality of anodes ANO between the plurality of light emitting devices ED disposed in the plurality of sub-pixels SP. In this case, the metal pattern 540 may be connected to the anode ANO. That is, the metal pattern 540 may have an extended anode ANO.

금속 패턴(540)은 제1 서브 화소(SP1)와 제2 서브 화소(SP2) 사이, 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3) 사이에 배치될 수 있다. 이때, 금속 패턴(540)은 서로 인접하는 2개의 서브 화소 사이에 2개로 배치될 수 있다. The metal pattern 540 may be disposed between the first sub-pixel SP1 and the second sub-pixel SP2 , and between the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 . In this case, two metal patterns 540 may be disposed between two sub-pixels adjacent to each other.

금속 패턴(540)은 애노드(ANO)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(540)은 복수의 층으로 이루어질 수 있고, 이중 일부 층은 애노드(ANO)와 동일한 공정에서 동일한 물질로 형성되고, 다른 일부 층은 별도 증착 등의 공정을 통해 형성될 수 있다. 또는, 애노드(ANO)와 금속 패턴(540)은 동일 공정에서 형성되나, 하프톤 마스크 등을 사용하여 애노드(ANO)와 금속 패턴(540)의 두께 편차를 발생시킬 수도 있다. 이때, 금속 패턴(540) 상에 배치되는 뱅크(116)는 유기 절연 물질로 형성되므로, 금속 패턴(540)이 배치된 영역과 금속 패턴(540) 주변 영역에서의 뱅크(116) 상면은 평탄할 수 있다.The metal pattern 540 may be thicker than the thickness of the anode ANO. For example, the metal pattern 540 may be formed of a plurality of layers, of which some layers are formed of the same material in the same process as the anode (ANO), and other partial layers may be formed through a process such as separate deposition. have. Alternatively, although the anode ANO and the metal pattern 540 are formed in the same process, a thickness deviation between the anode ANO and the metal pattern 540 may be generated by using a halftone mask or the like. At this time, since the bank 116 disposed on the metal pattern 540 is formed of an organic insulating material, the top surface of the bank 116 in the area where the metal pattern 540 is disposed and the area around the metal pattern 540 may be flat. can

금속 패턴(540)은 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. 즉, 금속 패턴(540)은 복수의 서브 화소 중 턴-온 전압이 가장 큰 서브 화소인 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 연결될 수 있다. 이에, 금속 패턴(540)은 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 금속 패턴(540)은 제1 서브 화소(SP1)의 발광 기간(S30) 동안 제1 서브 화소의 애노드(ANO)와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. The metal pattern 540 may be connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 . That is, the metal pattern 540 may be connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 which is a sub-pixel having the largest turn-on voltage among the plurality of sub-pixels. Accordingly, the metal pattern 540 may be configured such that the same voltage as that of the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is applied. Specifically, the metal pattern 540 may be configured such that the same voltage as that of the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is applied during the emission period S30 of the first sub-pixel SP1 .

이에, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(500)에서는 턴-온 전압이 가장 큰 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 연결된 복수의 금속 패턴(540)을 두꺼운 두께로 서로 인접하는 서브 화소 사이에 배치하여 발광 소자(ED)의 공통층(121, 122, 124)을 통한 누설 전류가 최소화될 수 있다. 즉, 발광 기간(S30) 동안 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)와 동일한 직류 전압이 인가되는 복수의 금속 패턴(540)이 서로 인접하는 서브 화소 사이에 배치될 수 있고, 금속 패턴(540)과 캐소드(CAT) 간의 거리를 감소시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(500)에서는 캐소드(CAT)와 금속 패턴(540) 간의 커패시턴스를 증가시켜, 상대적으로 턴-온 전압이 큰 제1 서브 화소(SP1)로부터 상대적으로 턴-온 전압이 작은 제2 서브 화소(SP2) 또는 제3 서브 화소(SP3)로 흐르는 누설 전류가 최소화될 수 있다.Accordingly, in the display device 500 according to another embodiment of the present invention, the plurality of metal patterns 540 connected to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 having the largest turn-on voltage are formed to be thick with each other. It is disposed between adjacent sub-pixels to minimize leakage current through the common layers 121 , 122 , and 124 of the light emitting device ED. That is, during the light emission period S30 , a plurality of metal patterns 540 to which the same DC voltage as that of the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is applied may be disposed between the sub-pixels adjacent to each other, and the metal pattern ( The distance between the 540 and the cathode CAT may be reduced. Accordingly, in the display device 500 according to another embodiment of the present invention, the capacitance between the cathode CAT and the metal pattern 540 is increased, so that the first sub-pixel SP1 has a relatively large turn-on voltage. Therefore, a leakage current flowing into the second sub-pixel SP2 or the third sub-pixel SP3 having a low turn-on voltage may be minimized.

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(500)에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안 금속 패턴(540)을 플로팅시켜 금속 패턴(540)과 트랜지스터들 간의 기생 커패시턴스를 감소시킬 수 있고, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하게 되어 발생하는 휘도 들뜸 현상을 억제할 수 있다. In addition, in the display device 500 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 540 is floated during the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 to generate parasitic capacitance between the metal pattern 540 and transistors. can be reduced, and it is possible to suppress a luminance lifting phenomenon that occurs due to an increase in luminance during black driving or low grayscale driving.

도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다. 도 8의 표시 장치(600)는 도 7의 표시 장치(500)와 비교하여 뱅크(616), 공통층(621, 622, 624) 및 캐소드(CAT)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략한다. 8 is a schematic cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment. Compared to the display device 500 of FIG. 7 , the display device 600 of FIG. 8 differs only in the bank 616 , the common layers 621 , 622 , 624 , and the cathode CAT, and other configurations are substantially the same. Therefore, redundant description is omitted.

도 8을 참조하면, 2 개의 금속 패턴(540) 사이에 배치된 뱅크(616)에는 트렌치(trench)가 형성될 수 있다. 즉, 2개의 금속 패턴(540) 사이에 배치되는 뱅크(616)의 두께가 금속 패턴(540)과 애노드(ANO) 사이에 배치되는 뱅크(616)의 두께보다 작도록 뱅크(616)가 형성될 수 있다. Referring to FIG. 8 , a trench may be formed in the bank 616 disposed between the two metal patterns 540 . That is, the bank 616 will be formed such that the thickness of the bank 616 disposed between the two metal patterns 540 is smaller than the thickness of the bank 616 disposed between the metal pattern 540 and the anode ANO. can

뱅크(616) 상에 배치되는 공통층(621, 622, 624)과 캐소드(CAT)는 뱅크(616)의 상면의 형상을 따라 배치될 수 있다. 이에, 공통층(621, 622, 624)은 뱅크(616)의 트렌치 형상을 따라 배치되어, 뱅크(616)의 상면이 평탄화된 경우와 비교하여 공통층(621, 622, 624)의 길이가 증가할 수 있다. 또한, 캐소드(CAT)는 공통층(621, 622, 624)의 상면을 따라 배치되어, 뱅크(616)의 상면이 평탄화된 경우보다 캐소드(CAT)와의 거리가 감소할 수 있다.The common layers 621 , 622 , and 624 and the cathode CAT disposed on the bank 616 may be disposed along the shape of the top surface of the bank 616 . Accordingly, the common layers 621 , 622 , and 624 are disposed along the trench shape of the bank 616 , and the length of the common layers 621 , 622 , and 624 is increased compared to the case where the top surface of the bank 616 is planarized. can do. In addition, the cathode CAT is disposed along the top surfaces of the common layers 621 , 622 , and 624 , so that the distance from the cathode CAT may be reduced compared to the case where the top surface of the bank 616 is planarized.

이에, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(600)에서는 2개의 금속 패턴(540) 사이에 트렌치 형상을 갖는 뱅크(616)를 배치하여 발광 소자(ED)의 공통층(621, 622, 624)을 통한 누설 전류가 최소화될 수 있다. 발광 기간(S30) 동안 애노드(ANO)와 인접한 금속 패턴(540)에 직류 전압이 인가될 수 있다. 이에, 발광 기간(S30) 동안 금속 패턴(540)과 캐소드(CAT)가 이루는 커패시터에 의해 누설 전류의 캐리어가 트랩될 수 있다. 이때, 뱅크(616)의 트렌치 구조에 의해, 금속 패턴(540)과 캐소드(CAT)의 간격을 줄여 금속 패턴(540)과 캐소드(CAT) 간의 커패시턴스를 증가시키고, 공통층(621, 622, 624)의 길이를 늘여 공통층(621, 622, 624)의 저항을 증가시켜 공통층(621, 622, 624)을 통해 흐르는 누설 전류 저감 효과를 더욱 증대시킬 수 있다. Accordingly, in the display device 600 according to another embodiment of the present invention, a bank 616 having a trench shape is disposed between the two metal patterns 540 to form the common layers 621 , 622 , and the light emitting device ED. 624) can be minimized. A DC voltage may be applied to the metal pattern 540 adjacent to the anode ANO during the light emission period S30 . Accordingly, carriers of the leakage current may be trapped by the capacitor formed between the metal pattern 540 and the cathode CAT during the light emission period S30 . At this time, by the trench structure of the bank 616 , the gap between the metal pattern 540 and the cathode CAT is reduced to increase the capacitance between the metal pattern 540 and the cathode CAT, and the common layers 621 , 622 , and 624 . ) to increase the resistance of the common layers 621 , 622 , and 624 , the effect of reducing leakage current flowing through the common layers 621 , 622 , and 624 may be further increased.

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(600)에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안 금속 패턴(540)을 플로팅시켜 금속 패턴(540)과 트랜지스터들 간의 기생 커패시턴스를 감소시킬 수 있고, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하게 되어 발생하는 휘도 들뜸 현상을 억제할 수 있다. In addition, in the display device 600 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 540 is floated during the initialization period S10 and the writing/sensing period S20 to generate parasitic capacitance between the metal pattern 540 and transistors. can be reduced, and it is possible to suppress a luminance lifting phenomenon that occurs due to an increase in luminance during black driving or low grayscale driving.

도 9a 내지 도 9d는 비교예 및 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치에서의 누설 전류를 설명하기 위한 그래프이다. 도 9a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서 금속 패턴(140)이 제외된 표시 장치인 비교예에서의 누설 전류를 설명하기 위한 그래프이다. 도 9b는 도 6a 및 도 6b에 도시된 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(400)에서의 누설 전류를 설명하기 위한 그래프이다. 도 9c는 도 7에 도시된 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(500)에서의 누설 전류를 설명하기 위한 그래프이다. 도 9d는 도 8에 도시된 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(600)에서의 누설 전류를 설명하기 위한 그래프이다. 도 9a 내지 도 9는 제3 서브 화소(SP3)를 턴-오프한 상태에서 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압의 크기를 증가시키면서 제1 서브 화소(SP1)로부터 제3 서브 화소(SP3)로 흐르는 누설 전류를 측정한 그래프이다. 도 9a 내지 도 9d에서 X축은 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압이고, Y축은 인접하는 제3 서브 화소(SP3)로 흐르는 누설 전류이다. 9A to 9D are graphs for explaining a leakage current in a display device according to a comparative example and another exemplary embodiment of the present invention. 9A is a graph for explaining a leakage current in a comparative example in which a metal pattern 140 is excluded from the display device 100 according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 9B is a graph for explaining a leakage current in the display device 400 according to another exemplary embodiment illustrated in FIGS. 6A and 6B . FIG. 9C is a graph for explaining a leakage current in the display device 500 according to another embodiment of the present invention shown in FIG. 7 . FIG. 9D is a graph for explaining a leakage current in the display device 600 according to another embodiment of the present invention shown in FIG. 8 . 9A to 9 show the third sub-pixel SP1 from the first sub-pixel SP1 while increasing the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 in a state in which the third sub-pixel SP3 is turned off. 3 is a graph in which leakage current flowing to the sub-pixel SP3 is measured. 9A to 9D , the X-axis is the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 and the Y-axis is the leakage current flowing into the adjacent third sub-pixel SP3.

도 9a를 참조하면, 비교예에서는 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압이 약 1V인 시점에서 누설 전류가 급증하기 시작한다. 이에, 약 1V와 같이 매우 낮은 전압이 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되더라도 제3 서브 화소(SP3)에 누설 전류가 흐르게 되어 제3 서브 화소(SP3)가 발광될 수 있다. Referring to FIG. 9A , in the comparative example, the leakage current starts to rapidly increase when the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is about 1V. Accordingly, even when a very low voltage, such as about 1V, is applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 , a leakage current flows in the third sub-pixel SP3 so that the third sub-pixel SP3 may emit light. .

도 9b를 참조하면, 도 6a 및 도 6b에 도시된 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(400)에서는 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압이 약 3V인 시점에서 누설 전류가 급증하기 시작한다. 이에 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압이 낮은 경우, 즉, 저계조 구동 시에 제1 서브 화소(SP1)에서 제3 서브 화소(SP3)로의 누설 전류가 발생하지 않음을 확인할 수 있다. Referring to FIG. 9B , in the display device 400 according to another exemplary embodiment illustrated in FIGS. 6A and 6B , the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is about 3V. leakage current begins to surge. Accordingly, when the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is low, that is, leakage current from the first sub-pixel SP1 to the third sub-pixel SP3 does not occur during low grayscale driving. can confirm.

도 9c를 참조하면, 도 7에 도시된 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(500)에서는 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압이 약 3.3V인 시점에서 누설 전류가 급증하기 시작한다. 이에 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압이 낮은 경우, 즉, 저계조 구동 시에 제1 서브 화소(SP1)에서 제3 서브 화소(SP3)로의 누설 전류가 발생하지 않음을 확인할 수 있다. Referring to FIG. 9C , in the display device 500 according to another embodiment of the present invention shown in FIG. 7 , leakage occurs when the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is about 3.3V. The current starts to surge. Accordingly, when the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is low, that is, leakage current from the first sub-pixel SP1 to the third sub-pixel SP3 does not occur during low grayscale driving. can confirm.

도 9d를 참조하면, 도 8에 도시된 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(600)에서는 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압이 약 3.6V인 시점에서 누설 전류가 급증하기 시작한다. 이에 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)에 인가되는 전압이 낮은 경우, 즉, 저계조 구동 시에 제1 서브 화소(SP1)에서 제3 서브 화소(SP3)로의 누설 전류가 발생하지 않음을 확인할 수 있다. Referring to FIG. 9D , in the display device 600 according to another embodiment of the present invention shown in FIG. 8 , leakage occurs when the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is about 3.6V. The current starts to surge. Accordingly, when the voltage applied to the anode ANO of the first sub-pixel SP1 is low, that is, leakage current from the first sub-pixel SP1 to the third sub-pixel SP3 does not occur during low grayscale driving. can confirm.

도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다. 도 10의 표시 장치(700)는 도 5a 및 도 5b의 표시 장치(300)와 비교하여 복수의 서브 화소(SP), 금속 패턴(740)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략한다.10 is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment. The display device 700 of FIG. 10 differs from the display device 300 of FIGS. 5A and 5B only in the plurality of sub-pixels SP and the metal pattern 740 , but other configurations are substantially the same. is omitted.

도 10을 참조하면, 복수의 서브 화소(SP)는 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)를 포함한다.Referring to FIG. 10 , the plurality of sub-pixels SP includes a first sub-pixel SP1 , a second sub-pixel SP2 , and a third sub-pixel SP3 .

복수의 제1 서브 화소(SP1)와 복수의 제3 서브 화소(SP3)는 동일한 열 또는 동일한 행에서 교대로 배치될 수 있다. 예를 들어, 동일한 열에서 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3)는 교대로 배치되고, 동일한 행에서 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3)는 교대로 배치될 수 있다. The plurality of first sub-pixels SP1 and the plurality of third sub-pixels SP3 may be alternately disposed in the same column or in the same row. For example, the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 are alternately arranged in the same column, and the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 are alternately arranged in the same row can be

복수의 제2 서브 화소(SP2)는 복수의 제1 서브 화소(SP1) 및 복수의 제3 서브 화소(SP3)와 서로 다른 열 및 서로 다른 행에 배치된다. 예를 들어, 하나의 행에 복수의 제2 서브 화소(SP2)가 배치되고, 하나의 행에 이웃한 행에 복수의 제1 서브 화소(SP1)와 복수의 제3 서브 화소(SP3)가 교대로 배치될 수 있다. 하나의 열에 복수의 제2 서브 화소(SP2)가 배치되고, 하나의 열에 이웃한 열에 복수의 제1 서브 화소(SP1)와 복수의 제3 서브 화소(SP3)가 교대로 배치될 수 있다. 복수의 제1 서브 화소(SP1)와 제2 서브 화소(SP2)는 대각선 방향으로 마주하고, 복수의 제3 서브 화소(SP3)와 제2 서브 화소(SP2) 또한 대각선 방향으로 마주할 수 있다. 따라서, 복수의 서브 화소(SP)는 격자 형상으로 배치될 수 있다. The plurality of second sub-pixels SP2 are disposed in different columns and different rows from the plurality of first sub-pixels SP1 and the plurality of third sub-pixels SP3 . For example, a plurality of second sub-pixels SP2 are arranged in one row, and a plurality of first sub-pixels SP1 and a plurality of third sub-pixels SP3 are alternately arranged in a row adjacent to one row. can be placed as A plurality of second sub-pixels SP2 may be disposed in one column, and a plurality of first sub-pixels SP1 and a plurality of third sub-pixels SP3 may be alternately disposed in a column adjacent to one column. The plurality of first sub-pixels SP1 and the second sub-pixels SP2 may face each other in a diagonal direction, and the plurality of third sub-pixels SP3 and the second sub-pixels SP2 may also face each other in a diagonal direction. Accordingly, the plurality of sub-pixels SP may be arranged in a grid shape.

다만, 도 10에서는 복수의 제1 서브 화소(SP1) 및 복수의 제3 서브 화소(SP3)가 동일 열 및 동일 행에 배치되고, 복수의 제2 서브 화소(SP2)는 복수의 제1 서브 화소(SP1) 및 복수의 제3 서브 화소(SP3)와는 다른 열 및 다른 행에 배치된 것으로 도시하였으나, 복수의 서브 화소(SP)의 배치는 이에 제한되지 않는다.However, in FIG. 10 , the plurality of first sub-pixels SP1 and the plurality of third sub-pixels SP3 are arranged in the same column and in the same row, and the plurality of second sub-pixels SP2 are the plurality of first sub-pixels. Although it is illustrated that the plurality of sub-pixels SP are disposed in different columns and different rows from those of SP1 and the plurality of third sub-pixels SP3, the arrangement of the plurality of sub-pixels SP is not limited thereto.

도 10을 참조하면, 복수의 금속 패턴(740)은 복수의 서브 화소(SP)를 둘러싸는 폐곡선 형태로 배치될 수 있다. 구체적으로, 복수의 금속 패턴(740)은 턴-온 전압이 가장 높은 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(ANO)로부터 연장되어, 제1 서브 화소를 둘러싸는 폐곡선 형태로 배치될 수 있다. 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(700)에서는 금속 패턴(740)을 배치하여 발광 소자(ED)의 공통층(121, 122, 124)을 통한 누설 전류가 최소화될 수 있다. 발광 기간(S30) 동안 제1 서브 화소의 애노드(ANO)와 연결된 금속 패턴(740)에 직류 전압이 인가될 수 있다. 이에, 발광 기간(S30) 동안 금속 패턴(740)과 캐소드(CAT)가 이루는 커패시터에 의해 누설 전류의 캐리어가 트랩될 수 있다. Referring to FIG. 10 , the plurality of metal patterns 740 may be disposed in a closed curve shape surrounding the plurality of sub-pixels SP. In detail, the plurality of metal patterns 740 may extend from the anode ANO of the first sub-pixel SP1 having the highest turn-on voltage and may be disposed in a closed curve shape surrounding the first sub-pixel. In the display device 700 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 740 may be disposed to minimize leakage current through the common layers 121 , 122 , and 124 of the light emitting device ED. A DC voltage may be applied to the metal pattern 740 connected to the anode ANO of the first sub-pixel during the light emission period S30 . Accordingly, carriers of the leakage current may be trapped by the capacitor formed between the metal pattern 740 and the cathode CAT during the light emission period S30 .

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(700)에서는 초기화 기간(S10) 및 쓰기/센싱 기간(S20) 동안 금속 패턴(740)을 플로팅시켜 금속 패턴(740)과 트랜지스터들 간의 기생 커패시턴스를 감소시킬 수 있고, 블랙 구동 또는 저계조 구동 시 휘도가 증가하게 되어 발생하는 휘도 들뜸 현상을 억제할 수 있다. In addition, in the display device 700 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 740 is floated during the initialization period S10 and the write/sensing period S20 to generate parasitic capacitance between the metal pattern 740 and transistors. can be reduced, and it is possible to suppress a luminance lifting phenomenon that occurs due to an increase in luminance during black driving or low grayscale driving.

본 발명의 다양한 실시예들에 따른 표시 장치는 다음과 같이 설명될 수 있다.A display device according to various embodiments of the present disclosure may be described as follows.

본 발명의 일 실시예에 따른 복수의 서브 화소가 정의된 기판, 복수의 서브 화소에 배치되고, 애노드, 유기층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자, 복수의 서브 화소 각각의 사이에 배치되는 적어도 하나의 금속 패턴, 및 복수의 서브 화소 각각의 사이에서 금속 패턴과 유기층 사이에 배치된 뱅크를 포함하고, 복수의 발광 소자는 유기층 및 캐소드를 공유하고, 금속 패턴은 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 발광 기간 동안 전압이 인가되도록 구성된다.According to an embodiment of the present invention, a plurality of light emitting devices disposed on a substrate on which a plurality of sub-pixels are defined, a plurality of sub-pixels, and a plurality of light emitting devices including an anode, an organic layer and a cathode, and at least one disposed between each of the plurality of sub-pixels and a bank disposed between the metal pattern and the organic layer between each of the plurality of sub-pixels, wherein the plurality of light-emitting devices share the organic layer and a cathode, and the metal pattern includes a light-emitting period of the sub-pixel adjacent to the metal pattern. is configured to be applied while the voltage is applied.

본 발명의 다른 특징은, 금속 패턴은 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 발광 기간 동안 직류 전압이 인가되도록 구성될 수 있다.Another feature of the present invention is that the metal pattern may be configured such that a DC voltage is applied during an emission period of a sub-pixel adjacent to the metal pattern.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 발광 기간을 제외한 기간 동안 플로팅될(floated) 수 있다.Another feature of the present invention is that the metal pattern may be floated for a period excluding the light emission period of the sub-pixel adjacent to the metal pattern.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 애노드와 연결되어 애노드와 동일한 전압이 인가될 수 있다.Another feature of the present invention is that the metal pattern may be connected to the anode of the sub-pixel adjacent to the metal pattern so that the same voltage as the anode may be applied.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 애노드와 동일 층에 배치되고, 애노드와 동일 물질로 이루어질 수 있다.Another feature of the present invention is that the metal pattern is disposed on the same layer as the anode, and may be made of the same material as the anode.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 애노드보다 두꺼울 수 있다.Another feature of the present invention is that the metal pattern may be thicker than the anode.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 애노드와 동일 층에 배치되고, 애노드와 동일 물질로 이루어지는 제1 층 및 제1 층 상에 배치되는 제2 층을 포함할 수 있다.Another feature of the present invention is that the metal pattern is disposed on the same layer as the anode, and may include a first layer made of the same material as the anode and a second layer disposed on the first layer.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 서로 인접하는 서브 화소 사이에서 복수 개 배치될 수 있다.Another feature of the present invention is that a plurality of metal patterns may be disposed between sub-pixels adjacent to each other.

본 발명의 또 다른 특징은, 뱅크는 복수의 금속 패턴 사이에 배치되는 트렌치(trench) 구조를 가질 수 있다.Another feature of the present invention is that the bank may have a trench structure disposed between a plurality of metal patterns.

본 발명의 또 다른 특징은, 복수의 서브 화소는 서로 다른 색상의 광을 발광하는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소를 포함하고, 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소의 순서로 턴-온 전압이 감소하고, 금속 패턴은 제1 서브 화소와 제3 서브 화소 사이에 배치될 수 있다.Another feature of the present invention is that the plurality of sub-pixels include a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel that emit light of different colors, and the first sub-pixel, the second sub-pixel and the second sub-pixel A turn-on voltage may decrease in the order of the three sub-pixels, and the metal pattern may be disposed between the first sub-pixel and the third sub-pixel.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 제1 서브 화소에 배치된 애노드와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다.Another feature of the present invention is that the metal pattern may be configured such that the same voltage as that of the anode disposed in the first sub-pixel is applied.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 제1 서브 화소와 제3 서브 화소 사이에 복수 개 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, a plurality of metal patterns may be disposed between the first sub-pixel and the third sub-pixel.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 제1 서브 화소와 제2 서브 화소 사이, 제2 서브 화소와 제3 서브 화소에 더 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the metal pattern may be further disposed between the first sub-pixel and the second sub-pixel and between the second sub-pixel and the third sub-pixel.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 인접하는 2개의 서브 화소 중 턴-온 전압이 더 높은 서브 화소에 배치된 애노드와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다.Another feature of the present invention is that the metal pattern may be configured such that the same voltage as an anode disposed in a sub-pixel having a higher turn-on voltage among two adjacent sub-pixels is applied.

본 발명의 또 다른 특징은, 금속 패턴은 서로 인접하는 서브 화소 사이에 복수 개 배치되고, 금속 패턴은 서로 인접하는 서브 화소 중 더 가까운 서브 화소에 배치된 애노드와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다.Another feature of the present invention is that a plurality of metal patterns are disposed between sub-pixels adjacent to each other, and the metal patterns may be configured such that the same voltage as an anode disposed in a closer sub-pixel among adjacent sub-pixels is applied. .

본 발명의 또 다른 특징은, 제1 서브 화소는 청색 서브 화소이고, 제2 서브 화소는 녹색 서브 화소이며, 제3 서브 화소는 적색 서브 화소일 수 있다.Another feature of the present invention is that the first sub-pixel may be a blue sub-pixel, the second sub-pixel may be a green sub-pixel, and the third sub-pixel may be a red sub-pixel.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 제한하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 제한되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 제한적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. . Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to illustrate, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

100, 200, 300, 400, 500, 600, 700: 표시 장치
110: 기판
111: 버퍼층
112: 게이트 절연층
113: 층간 절연층
114: 패시베이션층
115: 평탄화층
116, 616: 뱅크
ANO: 애노드
120, 620, 720: 유기층
121, 621: 정공 주입층
122, 622: 정공 수송층
123: 발광층
124, 624: 전자 수송층
140, 240, 340, 440, 540, 740: 금속 패턴
CAT: 캐소드
ED: 발광 소자
PN: 표시 패널
GD: 게이트 드라이버
DD: 데이터 드라이버
TC: 타이밍 컨트롤러
SP: 서브 화소
SP1: 제1 서브 화소
SP2: 제2 서브 화소
SP3: 제3 서브 화소
SL: 스캔 배선
SL1: 제1 스캔 배선
SL2: 제2 스캔 배선
DL: 데이터 배선
PL: 고전위 전원 배선
EL: 발광 제어 신호 배선
IL: 초기화 신호 배선
Cst: 커패시터
T1: 제1 트랜지스터
T2: 제2 트랜지스터
T3: 제3 트랜지스터
T4: 제4 트랜지스터
T5: 제5 트랜지스터
T6: 제6 트랜지스터
DT: 구동 트랜지스터
ACT: 액티브층
GE: 게이트 전극
DE: 드레인 전극
SE: 소스 전극
RGB: 영상 데이터
GCS: 게이트 제어 신호
DCS: 데이터 제어 신호
SYNC: 동기 신호
EVDD: 고전위 전원 신호
SCAN1: 제1 스캔 신호
SCAN2: 제2 스캔 신호
Vdata: 데이터 신호
EM: 발광 제어 신호
Vini: 초기화 신호
VIL: 초기화 전압 라인
EML: 발광 제어 라인
DVL: 구동 전압 라인
100, 200, 300, 400, 500, 600, 700: display device
110: substrate
111: buffer layer
112: gate insulating layer
113: interlayer insulating layer
114: passivation layer
115: planarization layer
116, 616: bank
ANO: anode
120, 620, 720: organic layer
121, 621: hole injection layer
122, 622: hole transport layer
123: light emitting layer
124, 624: electron transport layer
140, 240, 340, 440, 540, 740: metal pattern
CAT: cathode
ED: light emitting element
PN: display panel
GD: gate driver
DD: data driver
TC: Timing Controller
SP: sub pixel
SP1: first sub-pixel
SP2: second sub-pixel
SP3: third sub-pixel
SL: scan wiring
SL1: first scan wiring
SL2: second scan wiring
DL: data wiring
PL: high potential power wiring
EL: Light emission control signal wiring
IL: Initialization signal wiring
Cst: capacitor
T1: first transistor
T2: second transistor
T3: third transistor
T4: fourth transistor
T5: fifth transistor
T6: sixth transistor
DT: driving transistor
ACT: active layer
GE: gate electrode
DE: drain electrode
SE: source electrode
RGB: image data
GCS: gate control signal
DCS: data control signal
SYNC: Sync signal
EVDD: high potential power signal
SCAN1: first scan signal
SCAN2: second scan signal
Vdata: data signal
EM: light emission control signal
Vini: initialization signal
VIL: Initialization voltage line
EML: Emission Control Line
DVL: drive voltage line

Claims (16)

복수의 서브 화소가 정의된 기판;
상기 복수의 서브 화소에 배치되고, 애노드, 유기층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자;
상기 복수의 서브 화소 각각의 사이에 배치되는 적어도 하나의 금속 패턴; 및
상기 복수의 서브 화소 각각의 사이에서 상기 금속 패턴과 상기 유기층 사이에 배치된 뱅크를 포함하고,
상기 복수의 발광 소자는 상기 유기층 및 상기 캐소드를 공유하고,
상기 금속 패턴은 상기 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 발광 기간 동안 전압이 인가되도록 구성되는, 표시 장치.
a substrate on which a plurality of sub-pixels are defined;
a plurality of light emitting devices disposed on the plurality of sub-pixels and including an anode, an organic layer, and a cathode;
at least one metal pattern disposed between each of the plurality of sub-pixels; and
a bank disposed between the metal pattern and the organic layer between each of the plurality of sub-pixels;
The plurality of light emitting devices share the organic layer and the cathode,
The metal pattern is configured such that a voltage is applied during an emission period of a sub-pixel adjacent to the metal pattern.
제1항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 발광 기간 동안 직류 전압이 인가되도록 구성되는, 표시 장치.
According to claim 1,
The metal pattern is configured such that a DC voltage is applied during an emission period of a sub-pixel adjacent to the metal pattern.
제1항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 발광 기간을 제외한 기간 동안 플로팅되는(floated), 표시 장치.
According to claim 1,
The metal pattern is floated for a period excluding an emission period of a sub-pixel adjacent to the metal pattern.
제1항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 금속 패턴에 인접한 서브 화소의 상기 애노드와 연결되어 상기 애노드와 동일한 전압이 인가되는, 표시 장치.
According to claim 1,
The metal pattern is connected to the anode of a sub-pixel adjacent to the metal pattern, and the same voltage as that of the anode is applied thereto.
제4항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 애노드와 동일 층에 배치되고, 상기 애노드와 동일 물질로 이루어지는, 표시 장치.
5. The method of claim 4,
The metal pattern is disposed on the same layer as the anode and made of the same material as the anode.
제4항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 애노드보다 두꺼운, 표시 장치.
5. The method of claim 4,
and the metal pattern is thicker than the anode.
제6항에 있어서,
상기 금속 패턴은,
상기 애노드와 동일 층에 배치되고, 상기 애노드와 동일 물질로 이루어지는 제1 층; 및
상기 제1 층 상에 배치되는 제2 층을 포함하는, 표시 장치.
7. The method of claim 6,
The metal pattern is
a first layer disposed on the same layer as the anode and made of the same material as the anode; and
and a second layer disposed on the first layer.
제1항에 있어서,
상기 금속 패턴은 서로 인접하는 서브 화소 사이에서 복수 개 배치되는, 표시 장치.
According to claim 1,
A plurality of the metal patterns are disposed between sub-pixels adjacent to each other.
제8항에 있어서,
상기 뱅크는 상기 복수의 금속 패턴 사이에 배치되는 트렌치(trench) 구조를 갖는, 표시 장치.
9. The method of claim 8,
and the bank has a trench structure disposed between the plurality of metal patterns.
제1항에 있어서,
상기 복수의 서브 화소는 서로 다른 색상의 광을 발광하는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소를 포함하고,
상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소의 순서로 턴-온 전압이 감소하고,
상기 금속 패턴은 상기 제1 서브 화소와 상기 제3 서브 화소 사이에 배치되는, 표시 장치.
According to claim 1,
The plurality of sub-pixels include a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel that emit light of different colors;
a turn-on voltage decreases in the order of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel;
The metal pattern is disposed between the first sub-pixel and the third sub-pixel.
제10항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 제1 서브 화소에 배치된 상기 애노드와 동일한 전압이 인가되도록 구성되는, 표시 장치.
11. The method of claim 10,
The metal pattern is configured such that the same voltage as that of the anode disposed in the first sub-pixel is applied.
제11항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 제1 서브 화소와 상기 제3 서브 화소 사이에 복수 개 배치되는, 표시 장치.
12. The method of claim 11,
A plurality of the metal patterns are disposed between the first sub-pixel and the third sub-pixel.
제10항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 제1 서브 화소와 상기 제2 서브 화소 사이, 상기 제2 서브 화소와 상기 제3 서브 화소에 더 배치되는, 표시 장치.
11. The method of claim 10,
The metal pattern is further disposed between the first sub-pixel and the second sub-pixel and between the second sub-pixel and the third sub-pixel.
제13항에 있어서,
상기 금속 패턴은 인접하는 2개의 서브 화소 중 턴-온 전압이 더 높은 서브 화소에 배치된 상기 애노드와 동일한 전압이 인가되도록 구성되는, 표시 장치.
14. The method of claim 13,
The metal pattern is configured to apply the same voltage as the anode disposed in a sub-pixel having a higher turn-on voltage among two adjacent sub-pixels.
제13항에 있어서,
상기 금속 패턴은 서로 인접하는 서브 화소 사이에 복수 개 배치되고,
상기 금속 패턴은 서로 인접하는 서브 화소 중 더 가까운 서브 화소에 배치된 상기 애노드와 동일한 전압이 인가되도록 구성되는, 표시 장치.
14. The method of claim 13,
A plurality of the metal patterns are disposed between the sub-pixels adjacent to each other,
The metal pattern is configured such that the same voltage as that of the anode disposed in a closer sub-pixel among adjacent sub-pixels is applied.
제10항에 있어서,
상기 제1 서브 화소는 청색 서브 화소이고,
상기 제2 서브 화소는 녹색 서브 화소이며,
상기 제3 서브 화소는 적색 서브 화소인, 표시 장치.
11. The method of claim 10,
the first sub-pixel is a blue sub-pixel;
the second sub-pixel is a green sub-pixel;
and the third sub-pixel is a red sub-pixel.
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