KR20210128752A - Touch sensor stack structure and method of manufacturing the same - Google Patents

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KR20210128752A
KR20210128752A KR1020200046805A KR20200046805A KR20210128752A KR 20210128752 A KR20210128752 A KR 20210128752A KR 1020200046805 A KR1020200046805 A KR 1020200046805A KR 20200046805 A KR20200046805 A KR 20200046805A KR 20210128752 A KR20210128752 A KR 20210128752A
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권혁환
오기택
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a touch sensor laminate with improved mechanical stability and reliability, and a manufacturing method thereof. In the manufacturing method of the touch sensor laminate, a touch sensor structure including a base layer, sensing electrodes formed on the base layer, and pads connected to the sensing electrodes on the base layer is prepared. A conductive adhesive film is attached to upper portions of the pads and the end of the base layer adjacent to the pads. The ends of the conductive adhesive film and the base layer are cut together. A circuit connection structure is bonded to the conductive adhesive film. After attaching the conductive adhesive film, a part of the conductive adhesive film attached to a margin area is cut together with the base layer so that a bonding structure with a fine line width can be implemented.

Description

터치 센서 적층체 및 이의 제조 방법{TOUCH SENSOR STACK STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}TOUCH SENSOR STACK STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

본 발명은 터치 센서 적층체 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 터치 센서층 및 본딩 구조를 포함하는 터치 센서 적층체 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch sensor laminate and a method for manufacturing the same. More particularly, it relates to a touch sensor laminate including a touch sensor layer and a bonding structure, and a method for manufacturing the same.

최근 정보화 기술이 발전함에 따라 디스플레이 분야에 대한 요구도 다양한 형태로 제시되고 있다. 예를 들면, 박형화, 경량화, 저소비 전력화 등의 특징을 지닌 여러 평판 표시 장치(Flat Panel Display device), 예를 들어, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device), 전계발광표시장치(Electro Luminescent Display device), 유기발광다이오드표시장치(Organic Light-Emitting Diode Display device) 등이 연구되고 있다.With the recent development of information technology, demands for the display field are also presented in various forms. For example, various flat panel display devices with features such as thinness, light weight, and low power consumption, for example, a liquid crystal display device, a plasma display panel device, Electroluminescent display devices, organic light-emitting diode display devices, and the like are being studied.

한편, 상기 표시 장치 상에 부착되어 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치인 터치 패널 또는 터치 센서가 디스플레이 장치와 결합되어 화상 표시 기능 및 정보 입력 기능이 함께 구현된 전자 기기들이 개발되고 있다.On the other hand, a touch panel or a touch sensor, which is an input device attached to the display device to input a user command by selecting instructions displayed on the screen with a human hand or an object, is combined with the display device to provide an image display function and Electronic devices in which an information input function is implemented are being developed.

예를 들면, 상기 터치 패널은 센싱 전극들 및 상기 센싱 전극들에 신호를 인가하는 패드들을 포함한다. 상기 패드들은 구동 신호를 인가하는 회로 부재와 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 터치 패널 상에는 편광판과 같은 디스플레이 장치의 광학 필름이 적층될 수 있다. For example, the touch panel includes sensing electrodes and pads applying a signal to the sensing electrodes. The pads may be electrically connected to a circuit member for applying a driving signal. In addition, an optical film of a display device such as a polarizing plate may be laminated on the touch panel.

최근 디스플레이 장치의 차광부 또는 베젤부의 면적이 감소되고 표시 영역의 면적이 점점 증가함에 따라, 상기 패드 및 회로 부재의 상호 연결 또는 본딩 공정 수행을 위한 공간 역시 감소하고 있다. 제한된 공간 내에서 본딩 공정 수행시 터치 패널 내의 기판, 패드 등의 손상, 패드/회로 부재의 오정렬 등의 불량이 발생할 수 있다.Recently, as the area of the light blocking part or the bezel part of the display device is decreased and the area of the display area is gradually increased, the space for interconnecting the pad and the circuit member or performing the bonding process is also decreasing. When the bonding process is performed in a limited space, defects such as damage to the substrate, pad, etc. in the touch panel, misalignment of the pad/circuit member, etc. may occur.

예를 들면, 한국등록특허 제10-2078385호에서와 같이 최근 터치 스크린이 일체화된 디스플레이 장치가 활발히 개발되고 있다. 그러나, 상술한 본딩 공정 신뢰성 향상을 위한 공정 특성에 대해서는 고려하지 않고 있다.For example, recently, as in Korean Patent Registration No. 10-2078385, a display device with an integrated touch screen has been actively developed. However, the process characteristics for improving the reliability of the above-described bonding process are not considered.

한국등록특허 제10-2078385호Korean Patent No. 10-2078385

본 발명의 일 과제는 향상된 기계적 안정성, 신뢰성을 갖는 터치 센서 적층체 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a touch sensor laminate having improved mechanical stability and reliability, and a method for manufacturing the same.

1. 기재층, 상기 기재층 상에 형성된 센싱 전극들 및 상기 기재층 상에서 상기 센싱 전극들과 연결된 패드들을 포함하는 터치 센서 구조체를 준비하는 단계; 상기 패드들 및 상기 패드들에 인접한 상기 기재층의 단부 상에 도전성 접착 필름을 부착하는 단계; 상기 도전성 접착 필름 및 상기 기재층의 단부들을 함께 절단하는 단계; 및 상기 도전성 접착 필름 상에 회로 연결 구조물을 결합하는 단계를 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.1. Preparing a touch sensor structure including a base layer, sensing electrodes formed on the base layer, and pads connected to the sensing electrodes on the base layer; attaching a conductive adhesive film on the pads and the ends of the base layer adjacent to the pads; cutting the ends of the conductive adhesive film and the base layer together; and bonding a circuit connection structure on the conductive adhesive film.

2. 위 1에 있어서, 상기 기재층은 상기 패드들이 형성된 본딩 영역 및 상기 패드들의 연장 방향으로 상기 본딩 영역과 인접한 마진 영역을 포함하며,2. The method of 1 above, wherein the base layer includes a bonding area in which the pads are formed and a margin area adjacent to the bonding area in an extension direction of the pads,

상기 도전성 접착 필름은 상기 본딩 영역 및 상기 마진 영역 상에 함께 부착되는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.The conductive adhesive film is attached together on the bonding region and the margin region, a method of manufacturing a touch sensor laminate.

3. 위 2에 있어서, 상기 도전성 접착 필름 및 상기 기재층의 단부들을 함께 절단하는 단계는 상기 마진 영역 상에 부착된 상기 도전성 접착 필름의 일부를 상기 기재층과 함께 절단하는 것을 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.3. The method of 2 above, wherein the step of cutting together the ends of the conductive adhesive film and the base layer comprises cutting a part of the conductive adhesive film attached on the margin region together with the base layer, touch sensor A method for manufacturing a laminate.

4. 위 1에 있어서, 상기 도전성 접착 필름 상에 회로 연결 구조물을 결합하는 단계 이후에 상기 터치 센서 구조체 상에 광학필름을 형성하는 단계를 더 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.4. The method of 1 above, further comprising the step of forming an optical film on the touch sensor structure after the step of bonding the circuit connection structure on the conductive adhesive film, the manufacturing method of the touch sensor laminate.

5. 위 4에 있어서, 상기 광학 필름은 상기 회로 연결 구조물의 전단부를 덮도록 형성되는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.5. The method of 4 above, wherein the optical film is formed to cover the front end of the circuit connection structure, the manufacturing method of the touch sensor laminate.

6. 위 4에 있어서, 상기 광학 필름을 형성하는 단계 이후에 상기 회로 연결 구조물 주변의 상기 광학 필름 부분을 상기 기재층과 함꼐 절단하는 단계를 더 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.6. The method of 4 above, further comprising the step of cutting the optical film portion around the circuit connection structure together with the base layer after the step of forming the optical film, the manufacturing method of the touch sensor laminate.

7. 위 4에 있어서, 상기 광학 필름은 편광판을 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.7. The method of 4 above, wherein the optical film comprises a polarizing plate, the manufacturing method of the touch sensor laminate.

8. 위 1에 있어서, 상기 도전성 접착 필름은 이방성 도전 필름(ACF)를 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.8. The method of 1 above, wherein the conductive adhesive film comprises an anisotropic conductive film (ACF), a method of manufacturing a touch sensor laminate.

9. 기재층, 상기 기재층 상에 형성된 센싱 전극들 및 상기 기재층 상에서 상기 센싱 전극들과 연결된 패드들을 포함하는 터치 센서 구조체;9. A touch sensor structure including a base layer, sensing electrodes formed on the base layer, and pads connected to the sensing electrodes on the base layer;

상기 기재층 상에서 상기 패드들 및 상기 패드들에 인접한 상기 기재층의 단부를 함께 덮는 도전성 접착 필름; 및 상기 도전성 접착 필름 상에 결합된 회로 연결 구조물을 포함하고,a conductive adhesive film covering the pads and the ends of the base layer adjacent to the pads on the base layer together; and a circuit connection structure coupled on the conductive adhesive film,

상기 회로 연결 구조물에 인접한 상기 도전성 접착 필름 및 상기 기재층의 코너 영역은 각각 볼록부를 포함하는, 터치 센서 적층체.Corner regions of the conductive adhesive film and the base layer adjacent to the circuit connection structure each include a convex portion, a touch sensor laminate.

10. 위 9에 있어서, 상기 볼록부는 상기 도전성 접착 필름의 상부의 코너 영역에 형성된 제1 볼록부 및 상기 기재층의 저부의 코너 영역에 형성된 제2 볼록부를 포함하는, 터치 센서 적층체.10. The method of 9 above, wherein the convex portion comprises a first convex portion formed in a corner region of an upper portion of the conductive adhesive film and a second convex portion formed in a corner region of the bottom of the base layer, the touch sensor laminate.

11. 위 10에 있어서, 상기 제1 볼록부는 상기 도전성 접착 필름의 상면 위로는 돌출되지 않으며, 상기 제2 볼록부는 상기 기재층의 저면 아래로는 돌출되지 않는, 터치 센서 적층체.11. The above 10, wherein the first convex portion does not protrude above the top surface of the conductive adhesive film, and the second convex portion does not protrude below the bottom surface of the base layer, the touch sensor laminate.

12. 위 9에 있어서, 상기 터치 센서 구조체 상에 적층되며 상기 회로 연결 구조물의 전단부를 덮는 광학 필름을 더 포함하는, 터치 센서 적층체.12. The above 9, further comprising an optical film laminated on the touch sensor structure and covering the front end of the circuit connection structure, the touch sensor laminate.

13. 상술한 실시예들에 따른 터치 센서 적층체; 및 상기 터치 센서 적층체 상에 배치된 윈도우 기판을 포함하는, 윈도우 적층체.13. A touch sensor stack according to the above-described embodiments; and a window substrate disposed on the touch sensor laminate.

14. 위 13에 있어서, 상기 터치 센서 적층체는 상기 터치 센서 구조체 상에 적층된 편광판을 더 포함하며, 상기 편광판은 상기 윈도우 기판 및 상기 터치 센서 구조체 사이에 배치되는, 윈도우 적층체.14. The method of 13 above, wherein the touch sensor laminate further comprises a polarizing plate laminated on the touch sensor structure, wherein the polarizing plate is disposed between the window substrate and the touch sensor structure, the window laminate.

15. 디스플레이 패널; 및 상기 디스플레이 패널 상에 적층된 상술한 실시예들에 따른 터치 센서 적층체를 포함하는, 화상 표시 장치.15. Display panel; and a touch sensor laminate according to the above-described embodiments laminated on the display panel.

본 발명의 실시예들에 따르면, 터치 센서 구조체에 포함되는 복수의 패드들을 덮는 도전성 접착 필름을 기재층 상에 형성하고, 소정의 사이즈에 따라 상기 도전성 접착 필름을 상기 기재층과 함께 절단할 수 있다. 따라서, 도전성 접착 필름 및 기재층이 상호 완충 구조로 작용하여 레진 이탈, 측면 터짐, 크랙 등의 불량을 방지할 수 있다. 이에 따라, 미세 선폭의 도전성 접착 필름을 포함하는 본딩 구조를 고 신뢰성, 고 안정성으로 구현할 수 있다.According to embodiments of the present invention, a conductive adhesive film covering a plurality of pads included in the touch sensor structure may be formed on a base layer, and the conductive adhesive film may be cut together with the base layer according to a predetermined size. . Accordingly, the conductive adhesive film and the substrate layer act as a mutual buffer structure to prevent defects such as resin separation, side cracks, and cracks. Accordingly, a bonding structure including a conductive adhesive film having a fine line width can be implemented with high reliability and high stability.

일부 실시예들에 있어서, 상기 도전성 접착 필름 및 상기 기재층이 서로 접착된 본딩부의 측면은 볼록부를 포함할 수 있다. 상기 볼록부는 예를 들면, 연성 인쇄 회로 기판(FPCB)의 벤딩시 발생하는 스트레스를 완충하는 벤딩 지지부로 기능할 수 있다.In some embodiments, side surfaces of the bonding part to which the conductive adhesive film and the base layer are adhered to each other may include a convex part. The convex part may function as a bending support part that buffers stress generated during bending of the flexible printed circuit board (FPCB).

도 1 내지 7은 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서 적층체의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 평면도 및 단면도들이다.
도 8은 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서 적층체를 나타내는 부분 확대 평면도이다.
도 9는 예시적인 실시예들에 따른 윈도우 적층체 및 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.
1 to 7 are schematic plan and cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a touch sensor laminate according to example embodiments.
8 is a partially enlarged plan view illustrating a touch sensor stack according to example embodiments.
9 is a schematic diagram illustrating a window laminate and an image display device according to example embodiments.

본 발명의 실시예들은 패드 및 도전성 접착 필름을 포함하는 본딩 구조를 포함하는 터치 센서 적층체를 제공한다. 또한, 본 발명의 실시예들은 본딩 공정 및 절단 공정을 포함하는 터치 센서 적층체의 제조 방법을 제공한다. Embodiments of the present invention provide a touch sensor laminate including a bonding structure including a pad and a conductive adhesive film. In addition, embodiments of the present invention provide a method of manufacturing a touch sensor laminate including a bonding process and a cutting process.

이하 도면을 참고하여, 본 발명의 실시예들을 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, with reference to the drawings, embodiments of the present invention will be described in more detail. However, the following drawings attached to the present specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical spirit of the present invention together with the above-described content of the present invention, so the present invention is described in such drawings It should not be construed as being limited only to the matters.

도 1 내지 7은 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서 적층체의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 평면도 및 단면도들이다.1 to 7 are schematic plan and cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a touch sensor laminate according to exemplary embodiments.

도 1을 참조하면, 터치 센서 구조체(100)를 준비할 수 있다. 터치 센서 구조체(100)는 기재층(105) 상에 배열된 센싱 전극들(110, 120)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1 , the touch sensor structure 100 may be prepared. The touch sensor structure 100 may include sensing electrodes 110 and 120 arranged on the base layer 105 .

기재층(105)은 예를 들면, 유연성을 갖는 투명 절연 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 기재층(105)은 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등과 같은 수지 물질을 포함할 수 있다. 기재층(105)은 글래스, 실리콘 산화물 등과 같은 무기 절연 물질을 포함할 수도 있다.The base layer 105 may include, for example, a transparent insulating material having flexibility. For example, the base layer 105 is a cyclic olefin polymer (COP), polyethylene terephthalate (PET), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide ( PPS), polyallylate, polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer ( COC), polymethyl methacrylate (PMMA), and the like. The base layer 105 may include an inorganic insulating material such as glass or silicon oxide.

기재층(105)은 활성 영역(AA), 본딩 영역(BA) 및 마진 영역(MA)을 포함할 수 있다. 활성 영역(AA)은 기재층(105)의 중앙부를 포함하며, 사용자의 터치가 실질적으로 인식되어 신호가 생성되는 영역일 수 있다. 예를 들면, 사용자의 터치가 활성 영역(AA) 상으로 입력되는 경우, 센싱 전극들(110, 120)에 의해 정전 용량 변화가 발생할 수 있다. 이에 따라, 물리적 터치가 전기적 신호로 변환되어 터치 센싱이 구현될 수 있다.The base layer 105 may include an active area AA, a bonding area BA, and a margin area MA. The active area AA may include a central portion of the base layer 105 and may be an area in which a user's touch is substantially recognized and a signal is generated. For example, when a user's touch is input to the active area AA, a change in capacitance may occur by the sensing electrodes 110 and 120 . Accordingly, a physical touch may be converted into an electrical signal to realize touch sensing.

센싱 전극들(110, 120) 제1 센싱 전극들(110) 및 제2 센싱 전극들(120)을 포함할 수 있다.The sensing electrodes 110 and 120 may include first sensing electrodes 110 and second sensing electrodes 120 .

제1 센싱 전극들(110)은 예를 들면, 기재층(105) 또는 터치 센서 적층체의 길이 방향 또는 열 방향(예를 들면, 제1 방향)을 따라 배열될 수 있다. 이에 따라, 복수의 제1 센싱 전극들(110)에 의해 상기 제1 센싱 전극 열이 형성될 수 있다. 또한, 복수의 상기 제1 센싱 전극 열들이 너비 방향 또는 행 방향(예를 들면, 제2 방향)을 따라 배열될 수 있다.The first sensing electrodes 110 may be arranged, for example, in a longitudinal direction or a column direction (eg, first direction) of the base layer 105 or the touch sensor stack. Accordingly, the first sensing electrode column may be formed by the plurality of first sensing electrodes 110 . In addition, the plurality of first sensing electrode columns may be arranged in a width direction or a row direction (eg, a second direction).

일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 방향으로 이웃하는 제1 센싱 전극들(110)은 연결부(115)에 의해 서로 물리적 또는 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들면, 연결부(115)는 제1 센싱 전극들(110)과 동일 레벨에서 일체로 형성될 수 있다.In some embodiments, the first sensing electrodes 110 adjacent in the first direction may be physically or electrically connected to each other by the connection part 115 . For example, the connection part 115 may be integrally formed at the same level as the first sensing electrodes 110 .

제2 센싱 전극들(120)은 상기 제2 방향을 따라 배열될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 제2 센싱 전극들(120)은 각각 섬(island) 타입의 단위 전극들로 물리적으로 이격될 수 있다. 이 경우, 상기 제2 방향으로 이웃하는 제2 센싱 전극들(120)은 브릿지 전극(125)에 의해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.The second sensing electrodes 120 may be arranged along the second direction. In some embodiments, the second sensing electrodes 120 may be physically spaced apart from each other as island-type unit electrodes. In this case, the second sensing electrodes 120 adjacent in the second direction may be electrically connected to each other by the bridge electrode 125 .

복수의 제2 센싱 전극들(120)이 브릿지 전극들(125)에 의해 서로 연결되어 상기 제2 방향을 따라 배열됨에 따라, 제2 센싱 전극 행이 형성될 수 있다. 또한, 복수의 상기 제2 센싱 전극 행들이 상기 제1 방향을 따라 배열될 수 있다.As the plurality of second sensing electrodes 120 are connected to each other by the bridge electrodes 125 and arranged in the second direction, a second sensing electrode row may be formed. In addition, a plurality of rows of the second sensing electrode may be arranged in the first direction.

센싱 전극들(110, 120) 및 브릿지 전극(125)은 각각 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 바나듐(V), 철(Fe), 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 몰리브덴(Mo), 칼슘(Ca) 또는 이들의 합금(예를 들면, 은-팔라듐-구리(APC), 구리-칼슘(CuCa))을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 예를 들면, 센싱 전극들(110, 120)은 상기 금속 또는 합금을 포함하는 메쉬 구조를 가질 수 있다.The sensing electrodes 110 and 120 and the bridge electrode 125 are silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), and chromium (Cr), respectively. , titanium (Ti), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), vanadium (V), iron (Fe), manganese (Mn), cobalt (Co), nickel (Ni), zinc (Zn) , molybdenum (Mo), calcium (Ca), or an alloy thereof (eg, silver-palladium-copper (APC), copper-calcium (CuCa)). These may be used alone or in combination of two or more. For example, the sensing electrodes 110 and 120 may have a mesh structure including the metal or alloy.

센싱 전극들(110, 120) 및 브릿지 전극(125)은 각각 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO) 등과 같은 투명 도전성 산화물, 은나노와이어(AgNW), 카본나노튜브(CNT), 그래핀, 전도성 고분자 등과 같은 투명 도전성 재료를 포함할 수도 있다.The sensing electrodes 110 and 120 and the bridge electrode 125 are, respectively, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), and cadmium tin. A transparent conductive oxide such as oxide (CTO), a transparent conductive material such as silver nanowire (AgNW), carbon nanotube (CNT), graphene, a conductive polymer, or the like may be included.

일부 실시예들에 있어서, 센싱 전극들(110, 120)은 투명 도전성 산화물 및 금속의 적층 구조를 포함할 수 있다. 예를 들면, 센싱 전극들(110, 120)은 투명 도전성 산화물 층-금속층-투명 도전성 산화물 층의 3층 구조를 가질 수도 있다. 이 경우, 상기 금속층에 의해 플렉시블 특성이 향상되면서, 저항을 낮추어 신호 전달 속도가 향상될 수 있으며, 상기 투명 도전성 산화물 층에 의해 내부식성, 투명성이 향상될 수 있다.In some embodiments, the sensing electrodes 110 and 120 may include a stacked structure of a transparent conductive oxide and a metal. For example, the sensing electrodes 110 and 120 may have a three-layer structure of a transparent conductive oxide layer, a metal layer, and a transparent conductive oxide layer. In this case, while the flexible characteristic is improved by the metal layer, the signal transmission speed may be improved by lowering the resistance, and corrosion resistance and transparency may be improved by the transparent conductive oxide layer.

일부 실시예들에 있어서, 브릿지 전극(125)은 절연층(도시되지 않음) 상에 형성될 수 있다. 상기 절연층은 제1 센싱 전극(110)에 포함된 연결부(115)를 적어도 부분적으로 덮으며, 연결부(115) 주변의 제2 센싱 전극들(120)을 적어도 부분적으로 덮을 수 있다. 브릿지 전극(125)은 상기 절연층을 관통하며, 연결부(115)를 사이에 두고 서로 이웃하는 제2 센싱 전극들(120)과 전기적으로 연결될 수 있다.In some embodiments, the bridge electrode 125 may be formed on an insulating layer (not shown). The insulating layer may at least partially cover the connection part 115 included in the first sensing electrode 110 , and may at least partially cover the second sensing electrodes 120 around the connection part 115 . The bridge electrode 125 may pass through the insulating layer and may be electrically connected to the second sensing electrodes 120 adjacent to each other with the connection part 115 interposed therebetween.

상기 절연층은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 등과 같은 무기 절연 물질, 또는 아크릴계 수지, 실록산계 수지와 같은 유기 절연 물질을 포함할 수 있다.The insulating layer may include an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride, or an organic insulating material such as an acrylic resin or a siloxane-based resin.

상기 제1 센싱 전극 열들 및 상기 제2 센싱 전극 행들 각각으로부터는 트레이스들(130)이 분기되어 연장될 수 있다. 트레이스들(130)은 각 제1 센싱 전극 열 및 제2 센싱 전극 행의 말단으로부터 분기되며, 활성 영역(AA)의 주변 영역 상에서 연장할 수 있다.Traces 130 may branch and extend from each of the first sensing electrode columns and the second sensing electrode rows. The traces 130 may branch from the ends of each of the first sensing electrode column and the second sensing electrode row, and may extend on the peripheral area of the active area AA.

트레이스들(130)은 예를 들면, 터치 센서 구조체(100) 또는 기재층(105)의 상기 길이 방향으로의 일 단부의 일부에 할당된 본딩 영역(BA)을 향해 연장될 수 있다. 트레이스들(130)의 말단부들은 기재층(105)의 본딩 영역(BA) 상에서 집합될 수 있다. 본딩 영역(BA) 상에는 패드들(140)이 형성되고, 트레이스들(130)과 각각 연결될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 트레이스들(130)의 상기 말단부들이 패드들(140)로 제공될 수도 있다.The traces 130 may extend toward the bonding area BA allocated to a part of one end of the touch sensor structure 100 or the base layer 105 in the longitudinal direction, for example. Distal ends of the traces 130 may be assembled on the bonding area BA of the base layer 105 . Pads 140 are formed on the bonding area BA, and may be respectively connected to the traces 130 . In one embodiment, the distal ends of traces 130 may be provided as pads 140 .

설명의 편의를 위해, 도 1에서는 트레이스들(130) 및 패드들(140)의 연결 형태의 도시는 생략되었다.For convenience of description, a connection form of the traces 130 and the pads 140 is omitted in FIG. 1 .

일부 실시예들에 있어서, 터치 센서 구조체(100)는 전사 공정을 통해 형성될 수 있다. 예를 들면, 캐리어 기판 상에 상술한 센싱 전극들(110, 120), 브릿지 전극(125) 및 트레이스들(130)을 포함하는 센싱 전극층이 형성될 수 있다. 이후, 상기 센싱 전극층을 기재층(105)에 전사시키고 상기 캐리어 기판을 박리, 제거하여 터치 센서 구조체(100)를 수득할 수 있다.In some embodiments, the touch sensor structure 100 may be formed through a transfer process. For example, the sensing electrode layer including the above-described sensing electrodes 110 and 120 , the bridge electrode 125 and the traces 130 may be formed on the carrier substrate. Thereafter, the sensing electrode layer is transferred to the base layer 105 and the carrier substrate is peeled off and removed to obtain the touch sensor structure 100 .

일 실시예에 있어서, 상기 센싱 전극층 및 상기 캐리어 기판 사이에 박리 공정을 촉진하기 위한 유기 물질을 포함하는 분리층이 형성될 수 있다. 상기 센싱 전극층 및 기재층(105)은 점접착층을 통해 서로 접합될 수도 있다.In an embodiment, a separation layer including an organic material for promoting a peeling process may be formed between the sensing electrode layer and the carrier substrate. The sensing electrode layer and the base layer 105 may be bonded to each other through an adhesive layer.

일부 실시예들에 있어서, 복수의 터치 센서 구조체들(100)이 함께 집합된 예비 터치 센서 구조체가 먼저 제조될 수 있다. 이후, 상기 예비 터치 센서 구조체를 제품 단위에 따라 절단하여, 복수의 터치 센서 구조체들(100)이 분리될 수 있다.In some embodiments, a preliminary touch sensor structure in which a plurality of touch sensor structures 100 are assembled together may be manufactured first. Thereafter, the preliminary touch sensor structures may be cut according to product units, and the plurality of touch sensor structures 100 may be separated.

도 1에 도시된 바와 같이, 기재층(105) 혹은 터치 센서 구조체(100)의 상기 길이 방향으로 일 단부에는 본딩 영역(BA)과 인접하여 마진 영역(MA)이 포함될 수 있다. 예를 들면, 마진 영역(MA)은 패드들(140)이 배치된 본딩 영역(BA)으로부터 기재층(105)의 일 변까지 연장된 영역일 수 있다.As shown in FIG. 1 , one end of the base layer 105 or the touch sensor structure 100 in the longitudinal direction may include a margin area MA adjacent to the bonding area BA. For example, the margin area MA may be an area extending from the bonding area BA where the pads 140 are disposed to one side of the base layer 105 .

도 2 및 도 3을 참조하면, 패드들(140) 상에 도전성 접착 필름(150)을 부착시킬 수 있다. 2 and 3 , the conductive adhesive film 150 may be attached on the pads 140 .

예시적인 실시예들에 따르면, 도전성 접착 필름(150)은 본딩 영역(BA) 및 마진 영역(MA) 각각을 적어도 부분적으로 덮을 수 있다. 예를 들면, 도전성 접착 필름(150)은 본딩 영역(BA) 상에 형성된 복수의 패드들(140)을 함께 공통적으로 덮으며 추가적으로 상기 제1 방향(패드(140)의 연장 방향) 으로의 연장하여 패드들(140)이 미 형성된 기재층(105) 상면의 단부를 함께 덮을 수 있다.In example embodiments, the conductive adhesive film 150 may at least partially cover each of the bonding area BA and the margin area MA. For example, the conductive adhesive film 150 commonly covers the plurality of pads 140 formed on the bonding area BA and additionally extends in the first direction (the extension direction of the pad 140 ). The pads 140 may cover the unformed end of the upper surface of the base layer 105 together.

예를 들면, 도전성 접착 필름(150)은 수지층 및 상기 수지층 내에 분산된 도전성 입자를 포함하는 이방성 도전 필름(ACF)을 포함할 수 있다.For example, the conductive adhesive film 150 may include a resin layer and an anisotropic conductive film (ACF) including conductive particles dispersed in the resin layer.

도 4를 참조하면, 예를 들면 도 3에 도시된 절단선(CL)을 따라 기재층(105) 및 도전성 접착 필름(150)의 단부를 함께 절단할 수 있다(예를 들면, 제1 절단 공정). 이에 따라, 마진 영역(MA)의 일부에 해당하는 너비의 기재층(105) 및 도전성 접착 필름(150) 부분들이 함께 절단되어 제거될 수 있다. Referring to FIG. 4 , for example, the ends of the base layer 105 and the conductive adhesive film 150 may be cut along the cutting line CL shown in FIG. 3 (eg, the first cutting process). ). Accordingly, portions of the base layer 105 and the conductive adhesive film 150 having a width corresponding to a portion of the margin area MA may be cut together and removed.

상기 절단 공정에 의해 기재층(105) 및 도전성 접착 필름(150)은 실질적으로 동일한 절단면을 공유할 수 있다. 도전성 접착 필름(150)을 원하는 소정의 너비를 갖도록 기재층(105)과 함께 절단하므로, 기재층(105)에 의해 절단 스트레스가 완충 혹은 흡수될 수 있다.By the cutting process, the base layer 105 and the conductive adhesive film 150 may share substantially the same cut surface. Since the conductive adhesive film 150 is cut together with the base layer 105 to have a desired predetermined width, the cutting stress may be buffered or absorbed by the base layer 105 .

따라서, 도전성 접착 필름(150)을 미세 선폭(예를 들면, 약 1mm이하, 약 0.5mm 이하 또는 약 0.4mm 이하)으로 절단하는 경우 발생하는 수지 누출, 절단면 손상 등의 불량을 방지할 수 있다.Therefore, it is possible to prevent defects such as resin leakage and damage to the cut surface that occur when the conductive adhesive film 150 is cut to a fine line width (eg, about 1 mm or less, about 0.5 mm or less, or about 0.4 mm or less).

또한, 기재층(105) 역시 도전성 접착 필름(150)과 함께 절단되므로, 기재층(105)으로 전달되는 스트레스 역시 완충 혹은 감소될 수 있다. 따라서, 기재층(105)의 절단부에서의 크랙, 기재층(105)에 포함된 수지 물질의 흐름 등의 불량을 억제할 수 있다. In addition, since the base layer 105 is also cut together with the conductive adhesive film 150 , the stress transferred to the base layer 105 may also be buffered or reduced. Accordingly, defects such as cracks in the cut portion of the base layer 105 and the flow of the resin material included in the base layer 105 can be suppressed.

설명의 편의를 위해 도 4에서는 절단면의 형상을 수직하게 도시하였으나, 도 8을 참조로 후술하는 바와 같이 기재층(105) 및 도전성 접착 필름(150)은 절단부에서 각각 볼록부를 포함할 수 있다.For convenience of explanation, although the shape of the cut surface is shown vertically in FIG. 4 , as will be described later with reference to FIG. 8 , the base layer 105 and the conductive adhesive film 150 may each include a convex part in the cut part.

도 5를 참조하면, 도전성 접착 필름(150) 상에 회로 연결 구조물(160)을 접합시킬 수 있다.Referring to FIG. 5 , the circuit connection structure 160 may be bonded on the conductive adhesive film 150 .

예시적인 실시예들에 따르면, 회로 연결 구조물(160)은 연성 인쇄 회로 기판(FPCB)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 회로 연결 구조물(160)은 코어층 및 상기 코어층 상에 형성된 회로 배선을 포함할 수 있다. In example embodiments, the circuit connection structure 160 may include a flexible printed circuit board (FPCB). For example, the circuit connection structure 160 may include a core layer and circuit wiring formed on the core layer.

예를 들면, 회로 연결 구조물(160)을 도전성 접착 필름(150) 상에 정렬시키고, 본딩 팁(bonding tip)과 같은 가압 기구를 통한 가열 압착 공정을 통해 회로 연결 구조물(160)의 상기 회로 배선 및 본딩 영역(BA)에 포함된 패드들(140)을 서로 전기적으로 연결시킬 수 있다.For example, the circuit connection structure 160 is aligned on the conductive adhesive film 150, and the circuit wiring of the circuit connection structure 160 and The pads 140 included in the bonding area BA may be electrically connected to each other.

도 6을 참조하면, 터치 센서 구조체(100) 상에 광학 필름(170)을 적층할 수 있다.Referring to FIG. 6 , an optical film 170 may be laminated on the touch sensor structure 100 .

예시적인 실시예들에 따르면, 광학 필름(170)은 화상 표시 장치의 이미지 시인성을 향상시키기 위한 당해 기술 분야에 공지된 필름 또는 층 구조물을 포함할 수 있다. 광학 필름(170)의 비제한적인 예로서 편광판, 편광자, 위상차 필름, 반사 시트, 휘도 향상 필름, 굴절률 정합 필름 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상의 복층 구조로 포함될 수 있다.According to exemplary embodiments, the optical film 170 may include a film or layer structure known in the art for improving image visibility of an image display device. Non-limiting examples of the optical film 170 may include a polarizing plate, a polarizer, a retardation film, a reflective sheet, a brightness enhancing film, a refractive index matching film, and the like. These may be included alone or as two or more multilayer structures.

일 실시예에 있어서, 광학 필름(170)은 편광판일 수 있다. 이 경우, 광학 필름(170)은 예를 들면, 폴리비닐알코올계 편광자 및 상기 편광자의 적어도 일면에 형성된 보호 필름을 포함할 수 있다. 상기 보호 필름은 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 환형올레핀 폴리머(COP) 등과 같은 수지 물질을 포함할 수 있다.In one embodiment, the optical film 170 may be a polarizing plate. In this case, the optical film 170 may include, for example, a polyvinyl alcohol-based polarizer and a protective film formed on at least one surface of the polarizer. The protective film may include, for example, a resin material such as triacetyl cellulose (TAC) or cyclic olefin polymer (COP).

일부 실시예들에 있어서, 광학 필름(170)은 본딩 영역(BA)을 부분적으로 덮으며, 회로 연결 구조물(160)의 전단부를 부분적으로 덮을 수 있다. 또한, 광학 필름(170)은 도전성 접착 필름(150)과도 접촉할 수 있다.In some embodiments, the optical film 170 may partially cover the bonding area BA, and may partially cover the front end of the circuit connection structure 160 . In addition, the optical film 170 may also contact the conductive adhesive film 150 .

광학 필름(170)을 도전성 접착 필름(150) 및 회로 연결 구조물(160)을 포함하는 본딩 구조를 부분적으로 덮도록 형성하여, 본딩 안정성을 추가적으로 향상시킬 수 있다.By forming the optical film 170 to partially cover the bonding structure including the conductive adhesive film 150 and the circuit connection structure 160 , bonding stability may be further improved.

도 7을 참조하면, 광학 필름(170) 및 터치 센서 구조체(100)의 주변부를 적어도 부분적으로 절단할 수 있다(예를 들면, 제2 절단 공정). Referring to FIG. 7 , the optical film 170 and the periphery of the touch sensor structure 100 may be at least partially cut (eg, a second cutting process).

예를 들면, 소정의 제품 사이즈에 따라 광학 필름(170) 및 터치 센서 구조체(100)(기재층(105))의 주변부를 절단할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 본딩 구조 주변의 광학 필름(170) 및 기재층(105)이 부분적으로 절단되어 제거될 수 있다.For example, the periphery of the optical film 170 and the touch sensor structure 100 (base layer 105) may be cut according to a predetermined product size. In some embodiments, as shown in FIG. 7 , the optical film 170 and the base layer 105 around the bonding structure may be partially cut and removed.

이 경우, 광학 필름(170)은 회로 연결 구조물(160)의 상기 전단부를 덮는 돌출부(172)를 포함할 수 있다. 예를 들면, 돌출부(172)는 광학 필름(170)의 더미 영역에 해당될 수 있다.In this case, the optical film 170 may include a protrusion 172 covering the front end of the circuit connection structure 160 . For example, the protrusion 172 may correspond to a dummy area of the optical film 170 .

도 8은 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서 적층체를 나타내는 부분 확대 단면도이다. 예를 들면, 도 8은 상술한 본딩 구조 주변의 기재층(105) 및 도전성 접착 필름(150)의 측부 혹은 절단부의 형상을 보다 상세히 도시한 단면도이다.8 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a touch sensor laminate according to example embodiments. For example, FIG. 8 is a cross-sectional view showing in more detail the shape of the side or cut portion of the base layer 105 and the conductive adhesive film 150 around the above-described bonding structure.

도 8을 참조하면, 도 4를 참조로 설명한 바와 같이, 도전성 접착 필름(150) 및 기재층(105)의 단부들은 함께 절단될 수 있다. 절삭 공구가 도전성 접착 필름(150)과 접촉하면서, 상술한 본딩 구조 내부로 진입할 때 절단 스트레스가 분산될 수 있다. Referring to FIG. 8 , as described with reference to FIG. 4 , ends of the conductive adhesive film 150 and the base layer 105 may be cut together. Cutting stress may be dispersed when the cutting tool comes into contact with the conductive adhesive film 150 and enters the above-described bonding structure.

이에 따라, 상기 터치 센서 구조체(100)의 상기 본딩 구조와 인접한 일 변에서의 도전성 접착 필름(150) 및 기재층(100)의 단부들(또는, 코너 영역)은 각각 볼록부들(107, 152)을 포함할 수 있다.Accordingly, the ends (or corner regions) of the conductive adhesive film 150 and the base layer 100 on one side adjacent to the bonding structure of the touch sensor structure 100 are convex portions 107 and 152 , respectively. may include.

예시적인 실시예들에 따르면, 도전성 접착 필름(150) 상부의 코너 영역은 제1 볼록부(152)를 포함하며, 기재층(105)의 저부의 코너 영역은 제2 볼록부(107)를 포함할 수 있다.According to exemplary embodiments, the corner region of the upper portion of the conductive adhesive film 150 includes the first convex portion 152 , and the corner region of the bottom of the base layer 105 includes the second convex portion 107 . can do.

회로 연결 구조물(160)은 터치 센서 구조체(100)의 아래 방향으로 굴곡되어 예를 들면, 화상 표시 장치의 배면부에 배치되는 구동 집적 회로(IC) 칩과 전기적으로 연결될 수 있다. 제1 볼록부(152) 및 제2 볼록부(107)는 각각 회로 연결 구조물(160)의 급격한 벤딩을 방지하는 완충 구조로서 기능할 수 있다. 따라서, 회로 연결 구조물(160)에 포함된 코어층 및 회로 배선들의 벤딩 스트레스로 인한 크랙, 파단 등의 불량을 억제 또는 감소시킬 수 있다.The circuit connection structure 160 may be bent downward of the touch sensor structure 100 to be electrically connected to, for example, a driving integrated circuit (IC) chip disposed on the rear surface of the image display device. Each of the first convex portion 152 and the second convex portion 107 may function as a buffer structure to prevent abrupt bending of the circuit connection structure 160 . Accordingly, it is possible to suppress or reduce defects such as cracks and fractures due to bending stress of the core layer and circuit wires included in the circuit connection structure 160 .

제1 및 제2 볼록부(152, 107)은 회로 연결 구조물(160)의 굴곡을 위한 벤딩 지지부 혹은 벤딩 가이드부로 기능할 수도 있다.The first and second convex portions 152 and 107 may function as a bending support portion or a bending guide portion for bending the circuit connection structure 160 .

일부 실시예들에 있어서, 제1 볼록부(152)는 도전성 접착 필름(150)의 상면 위로는 돌출되지 않을 수 있다. 제2 볼록부(107)는 기재층(105)의 저면 아래로는 돌출되지 않을 수 있다. 이에 따라, 터치 센서 구조체(100)의 전체적인 평탄도를 열화시키기 않고 단차를 방지하며 회로 연결 구조물(160)의 벤딩 안정성을 증진할 수 있다.In some embodiments, the first convex portion 152 may not protrude above the top surface of the conductive adhesive film 150 . The second convex portion 107 may not protrude below the bottom surface of the base layer 105 . Accordingly, it is possible to prevent a step difference without deteriorating the overall flatness of the touch sensor structure 100 and to improve the bending stability of the circuit connection structure 160 .

도 9는 예시적인 실시예들에 따른 윈도우 적층체 및 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.9 is a schematic diagram illustrating a window laminate and an image display apparatus according to exemplary embodiments.

도 9를 참조하면, 윈도우 적층체(200)는 윈도우 기판(250) 및 상술한 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서 적층체(220)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 9 , the window stack 200 may include the window substrate 250 and the touch sensor stack 220 according to the above-described exemplary embodiments.

윈도우 기판(250)은 예를 들면 하드 코팅 필름, 박형 글래스(예를 들면, 초박형 글래스(Ultra-thin Glass: UTG) 등을 포함하며, 일 실시예에 있어서, 윈도우 기판(250)의 일면의 주변부 상에 차광 패턴(240)이 형성될 수 있다. 차광 패턴(240)은 예를 들면 컬러 인쇄 패턴을 포함할 수 있으며, 단층 또는 복층 구조를 가질 수 있다. The window substrate 250 includes, for example, a hard coating film, a thin glass (eg, ultra-thin glass (UTG)), and the like, and in one embodiment, a periphery of one surface of the window substrate 250 . A light blocking pattern 240 may be formed on the light blocking pattern 240. The light blocking pattern 240 may include, for example, a color printing pattern, and may have a single-layer or multi-layer structure.

차광 패턴(240)에 의해 화상 표시 장치의 베젤부 혹은 비표시 영역이 정의될 수 있다. 차광 패턴(240)은 데코(deco) 필름 또는 데코 패턴으로 제공될 수도 있다.A bezel part or a non-display area of the image display device may be defined by the light blocking pattern 240 . The light blocking pattern 240 may be provided as a deco film or a deco pattern.

상술한 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서 적층체(220)는 필름 또는 패널 형태로 윈도우 기판(250)에 결합될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 터치 센서 적층체(220)는 제1 점접착층(230)을 통해 윈도우 기판(250)과 결합될 수 있다.The touch sensor laminate 220 according to the above-described exemplary embodiments may be coupled to the window substrate 250 in the form of a film or a panel. In an embodiment, the touch sensor stack 220 may be coupled to the window substrate 250 through the first adhesive layer 230 .

예를 들면, 사용자의 시인측으로부터 윈도우 기판(250), 터치 센서 적층체(220)의 광학 필름(170) 및 터치 센서 적층체(220)의 터치 센서 구조체(100) 순으로 배치될 수 있다. 이 경우, 터치 센서 적층체(220)의 센싱 전극들이 편광자 또는 편광판을 포함하는 광학 필름(170) 아래에 배치되므로 패턴 시인 현상을 보다 효과적으로 방지할 수 있다. For example, the window substrate 250 , the optical film 170 of the touch sensor stack 220 , and the touch sensor structure 100 of the touch sensor stack 220 may be disposed in order from the user's viewing side. In this case, since the sensing electrodes of the touch sensor stack 220 are disposed under the optical film 170 including a polarizer or a polarizing plate, it is possible to more effectively prevent a pattern recognition phenomenon.

상기 화상 표시 장치는 디스플레이 패널(300) 및 디스플레이 패널(300) 상에 결합되며, 예시적인 실시예들에 따른 터치 센서 적층체(220)를 포함하는 상술한 윈도우 적층체(200)를 포함할 수 있다.The image display device may include the above-described window stack 200 including the display panel 300 and the display panel 300 and coupled on the display panel 300, including the touch sensor stack 220 according to exemplary embodiments. have.

디스플레이 패널(300)은 패널 기판(305) 상에 배치된 화소 전극(310), 화소 정의막(320), 표시층(330), 대향 전극(340) 및 인캡슐레이션 층(350)을 포함할 수 있다.The display panel 300 may include a pixel electrode 310 , a pixel defining layer 320 , a display layer 330 , a counter electrode 340 , and an encapsulation layer 350 disposed on a panel substrate 305 . can

패널 기판(305)은 유연성 수지 물질을 포함할 수 있으며, 이 경우 상기 화상 표시 장치는 플렉시블 디스플레이로 제공될 수 있다.The panel substrate 305 may include a flexible resin material, and in this case, the image display device may be provided as a flexible display.

패널 기판(305) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)를 포함하는 화소 회로가 형성되며, 상기 화소 회로를 덮는 절연막이 형성될 수 있다. 화소 전극(310)은 상기 절연막 상에서 예를 들면 TFT의 드레인 전극과 전기적으로 연결될 수 있다.A pixel circuit including a thin film transistor (TFT) may be formed on the panel substrate 305 , and an insulating layer covering the pixel circuit may be formed. The pixel electrode 310 may be electrically connected to, for example, a drain electrode of a TFT on the insulating layer.

화소 정의막(320)은 상기 절연막 상에 형성되어 화소 전극(310)을 노출시켜 화소 영역을 정의할 수 있다. 화소 전극(310) 상에는 표시층(330)이 형성되며, 표시층(330)은 예를 들면, 액정층 또는 유기 발광층을 포함할 수 있다.The pixel defining layer 320 may be formed on the insulating layer to expose the pixel electrode 310 to define a pixel area. A display layer 330 is formed on the pixel electrode 310 , and the display layer 330 may include, for example, a liquid crystal layer or an organic light emitting layer.

화소 정의막(320) 및 표시층(330) 상에는 대향 전극(340)이 배치될 수 있다. 대향 전극(340)은 예를 들면, 화상 표시 장치의 공통 전극 또는 캐소드(cathode)로 제공될 수 있다. 대향 전극(340) 상에 디스플레이 패널(300) 보호를 위한 인캡슐레이션 층(350)이 적층될 수 있다.A counter electrode 340 may be disposed on the pixel defining layer 320 and the display layer 330 . The opposite electrode 340 may be provided, for example, as a common electrode or a cathode of the image display device. An encapsulation layer 350 for protecting the display panel 300 may be stacked on the opposite electrode 340 .

디스플레이 패널(300)은 제2 점접착층(210)을 통해 터치 센서 적층체(220)와 결합될 수 있다. 예를 들면, 제2 점접착층(210)의 두께는 제1 점접착층(230)의 두께보다 클 수 있으며, -20 내지 80℃에서의 점탄성이 약 0.2MPa 이하일 수 있다. 이 경우, 디스플레이 패널(300)로부터의 노이즈를 차폐할 수 있고, 굴곡 시에 계면 응력을 완화하여 윈도우 적층체(200)의 손상을 억제할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 점탄성은 약 0.01 내지 0.15MPa일 수 있다.The display panel 300 may be coupled to the touch sensor stack 220 through the second adhesive layer 210 . For example, the thickness of the second adhesive layer 210 may be greater than the thickness of the first adhesive layer 230 , and the viscoelasticity at -20 to 80° C. may be about 0.2 MPa or less. In this case, noise from the display panel 300 may be shielded, and interfacial stress may be relieved during bending to suppress damage to the window laminate 200 . In one embodiment, the viscoelasticity may be about 0.01 to 0.15 MPa.

100: 터치 센서 구조체 105: 기재층
110: 제1 센싱 전극 115: 연결부
120: 제2 센싱 전극 125: 브릿지 전극
130: 트레이스 140: 패드
150: 도전성 접착 필름 160: 회로 연결 구조물
170: 광학 필름
100: touch sensor structure 105: base layer
110: first sensing electrode 115: connection part
120: second sensing electrode 125: bridge electrode
130: trace 140: pad
150: conductive adhesive film 160: circuit connection structure
170: optical film

Claims (15)

기재층, 상기 기재층 상에 형성된 센싱 전극들 및 상기 기재층 상에서 상기 센싱 전극들과 연결된 패드들을 포함하는 터치 센서 구조체를 준비하는 단계;
상기 패드들 및 상기 패드들에 인접한 상기 기재층의 단부 상에 도전성 접착 필름을 부착하는 단계;
상기 도전성 접착 필름 및 상기 기재층의 단부들을 함께 절단하는 단계; 및
상기 도전성 접착 필름 상에 회로 연결 구조물을 결합하는 단계를 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.
preparing a touch sensor structure including a base layer, sensing electrodes formed on the base layer, and pads connected to the sensing electrodes on the base layer;
attaching a conductive adhesive film on the pads and the ends of the base layer adjacent to the pads;
cutting the ends of the conductive adhesive film and the base layer together; and
Comprising the step of bonding a circuit connection structure on the conductive adhesive film, the manufacturing method of the touch sensor laminate.
청구항 1에 있어서, 상기 기재층은 상기 패드들이 형성된 본딩 영역 및 상기 패드들의 연장 방향으로 상기 본딩 영역과 인접한 마진 영역을 포함하며,
상기 도전성 접착 필름은 상기 본딩 영역 및 상기 마진 영역 상에 함께 부착되는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.
The method according to claim 1, wherein the base layer comprises a bonding area in which the pads are formed and a margin area adjacent to the bonding area in an extension direction of the pads,
The conductive adhesive film is attached together on the bonding region and the margin region, a method of manufacturing a touch sensor laminate.
청구항 2에 있어서, 상기 도전성 접착 필름 및 상기 기재층의 단부들을 함께 절단하는 단계는 상기 마진 영역 상에 부착된 상기 도전성 접착 필름의 일부를 상기 기재층과 함께 절단하는 것을 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.The method according to claim 2, wherein the step of cutting together the ends of the conductive adhesive film and the base layer comprises cutting a part of the conductive adhesive film attached on the margin region together with the base layer, the touch sensor laminate manufacturing method. 청구항 1에 있어서, 상기 도전성 접착 필름 상에 회로 연결 구조물을 결합하는 단계 이후에 상기 터치 센서 구조체 상에 광학필름을 형성하는 단계를 더 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.The method according to claim 1, further comprising the step of forming an optical film on the touch sensor structure after bonding the circuit connection structure on the conductive adhesive film, the manufacturing method of the touch sensor laminate. 청구항 4에 있어서, 상기 광학 필름은 상기 회로 연결 구조물의 전단부를 덮도록 형성되는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.The method of claim 4, wherein the optical film is formed to cover the front end of the circuit connection structure. 청구항 4에 있어서, 상기 광학 필름을 형성하는 단계 이후에 상기 회로 연결 구조물 주변의 상기 광학 필름 부분을 상기 기재층과 함꼐 절단하는 단계를 더 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.The method according to claim 4, further comprising the step of cutting the optical film portion around the circuit connection structure with the base layer after the step of forming the optical film, the manufacturing method of the touch sensor laminate. 청구항 4에 있어서, 상기 광학 필름은 편광판을 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.The method according to claim 4, wherein the optical film comprises a polarizing plate, the manufacturing method of the touch sensor laminate. 청구항 1에 있어서, 상기 도전성 접착 필름은 이방성 도전 필름(ACF)를 포함하는, 터치 센서 적층체의 제조 방법.The method according to claim 1, wherein the conductive adhesive film comprises an anisotropic conductive film (ACF), the manufacturing method of the touch sensor laminate. 기재층, 상기 기재층 상에 형성된 센싱 전극들 및 상기 기재층 상에서 상기 센싱 전극들과 연결된 패드들을 포함하는 터치 센서 구조체;
상기 기재층 상에서 상기 패드들 및 상기 패드들에 인접한 상기 기재층의 단부를 함께 덮는 도전성 접착 필름; 및
상기 도전성 접착 필름 상에 결합된 회로 연결 구조물을 포함하고,
상기 회로 연결 구조물에 인접한 상기 도전성 접착 필름 및 상기 기재층의 코너 영역은 각각 볼록부를 포함하는, 터치 센서 적층체.
a touch sensor structure including a base layer, sensing electrodes formed on the base layer, and pads connected to the sensing electrodes on the base layer;
a conductive adhesive film covering the pads and the ends of the base layer adjacent to the pads on the base layer together; and
A circuit connection structure coupled on the conductive adhesive film,
Corner regions of the conductive adhesive film and the base layer adjacent to the circuit connection structure each include a convex portion, a touch sensor laminate.
청구항 9에 있어서, 상기 볼록부는 상기 도전성 접착 필름의 상부 코너 영역에 형성된 제1 볼록부 및 상기 기재층의 저부의 코너 영역에 형성된 제2 볼록부를 포함하는, 터치 센서 적층체.The method according to claim 9, wherein the convex portion comprises a first convex portion formed in an upper corner region of the conductive adhesive film and a second convex portion formed in a corner region of the bottom of the base layer, the touch sensor laminate. 청구항 10에 있어서, 상기 제1 볼록부는 상기 도전성 접착 필름의 상면 위로는 돌출되지 않으며, 상기 제2 볼록부는 상기 기재층의 저면 아래로는 돌출되지 않는, 터치 센서 적층체.The method according to claim 10, The first convex portion does not protrude above the upper surface of the conductive adhesive film, the second convex portion does not protrude below the bottom surface of the base layer, the touch sensor laminate. 청구항 9에 있어서, 상기 터치 센서 구조체 상에 적층되며 상기 회로 연결 구조물의 전단부를 덮는 광학 필름을 더 포함하는, 터치 센서 적층체.The method according to claim 9, laminated on the touch sensor structure and further comprising an optical film covering the front end of the circuit connection structure, the touch sensor laminate. 청구항 9의 터치 센서 적층체; 및
상기 터치 센서 적층체 상에 배치된 윈도우 기판을 포함하는, 윈도우 적층체.
The touch sensor laminate of claim 9; and
A window laminate comprising a window substrate disposed on the touch sensor laminate.
청구항 13에 있어서, 상기 터치 센서 적층체는 상기 터치 센서 구조체 상에 적층된 편광판을 더 포함하며,
상기 편광판은 상기 윈도우 기판 및 상기 터치 센서 구조체 사이에 배치되는, 윈도우 적층체.
The method according to claim 13, wherein the touch sensor laminate further comprises a polarizing plate laminated on the touch sensor structure,
The polarizing plate is disposed between the window substrate and the touch sensor structure, a window laminate.
디스플레이 패널; 및
상기 디스플레이 패널 상에 적층된 청구항 9의 터치 센서 적층체를 포함하는, 화상 표시 장치.
display panel; and
An image display device comprising the touch sensor laminate of claim 9 laminated on the display panel.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102078385B1 (en) 2013-05-24 2020-02-18 삼성디스플레이 주식회사 Touch Screen Display Device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023102953A1 (en) * 2021-12-07 2023-06-15 惠州华星光电显示有限公司 Display screen tiling method and tiled display screen

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