KR20210015031A - Device for preventing counterfeit - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 위조 방지용 소자에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 진위 판정용 패턴을 이용하여 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있는 위조 방지용 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an anti-counterfeiting device. In more detail, the present invention relates to an anti-counterfeiting device capable of implementing an image for determining authenticity using a pattern for determining authenticity.
소프트웨어, CD, DVD, 유가증권, 양주, 약품 등과 같은 고가 물품의 위조 행위가 큰 사회적 문제로 대두되고 있다. 위조되어 생산된 물품은 대부분 낮은 품질을 가지기 때문에 위와 같은 위조 행위에 의해서 해당 기업은 많은 노력을 기울여 얻게 된 신뢰를 실추 당하는 등 막대한 피해를 입고 있다. 이러한 위조 문제를 해결하기 위해서 기업들은 위조를 곤란하게 하는 기술 또는 진품과 위조품을 판정하는 기술 등을 제품에 부여함으로써 위조품의 유통방지에 노력을 기울이고 있다.Counterfeiting of expensive items such as software, CDs, DVDs, securities, liquor, and medicines has emerged as a major social problem. Because most of the products produced by counterfeiting have low quality, the company suffers enormous damage, such as undermining the trust gained through great efforts by such counterfeit acts. In order to solve such a forgery problem, companies are making efforts to prevent the distribution of counterfeit products by giving their products a technology that makes it difficult to counterfeit or determine the genuine and counterfeit products.
위조 방지를 위해 제품에 부여되는 대표적인 것으로서는 홀로그램(hologram)을 들 수 있다. 홀로그램을 설계하기 위하여, 빔스플리터를 이용하여 대상물에 조사하는 물체광 및 기준광으로 상기 대상물로부터 반사되는 물체광 및 상기 기준광 사이의 간섭 형상을 이용하여 홀로그램을 설계한다. A hologram is a representative thing given to a product to prevent counterfeiting. In order to design a hologram, a hologram is designed using an interference shape between the reference light and the object light reflected from the object as the reference light and the object light irradiated to the object using a beam splitter.
상기 홀로그램은 입체상을 재현하는 간섭 줄무늬를 기록한 매체로서 홀로그래피의 원리를 이용하여 만들어진다. 이로써, 상기 홀로그램은 기준광과 동일한 진동수, 파장 및 위상을 갖는 재현광을 특정 각도로 간섭 무늬에 조사하여 특정 이미지를 구현할 수 있다. 또한, 보는 각도에 따라 반사되는 빛의 색깔 또는 형태가 변화할 수 있다.The hologram is a medium in which interference fringes that reproduce a three-dimensional image are recorded and is made using the principle of holography. Accordingly, the hologram can implement a specific image by irradiating the reproduced light having the same frequency, wavelength, and phase as the reference light to the interference fringe at a specific angle. Also, the color or shape of the reflected light may change depending on the viewing angle.
그러나, 홀로그램으로 기록될 수 있는 정보에는 한계가 있기 때문에 정교한 홀로그램을 제작하기가 어려운 문제점이 있었다. 나아가, 상기 재현광은 반드시 기준광과 동일한 위상, 파장 및 진동수를 가져야 하는 한계가 있다. 이러한 문제점은 디지털 스캐너와 같은 홀로그램 복제 기구 등에 의해 홀로그램이 복제되기 시작하면서 복제가 용이하다는 문제가 심각하게 되었다. 또한, 상기 홀로그램을 이루는 홀로그램 패턴은 일정한 형상을 가짐에 따라 규칙적이다.However, since there is a limit to the information that can be recorded as a hologram, it is difficult to produce an elaborate hologram. Furthermore, there is a limit that the reproduced light must have the same phase, wavelength, and frequency as the reference light. This problem has become a serious problem that the duplication is easy as the hologram starts to be duplicated by a hologram duplication mechanism such as a digital scanner. In addition, the hologram pattern forming the hologram is regular as it has a certain shape.
이에 따라 근래에는 나노 임프린팅 방법으로 위조 방지용 필름에 정보를 기록하는 기술이 소개되었다. 나노 임프린팅 방법은 나노 패턴을 가지는 몰드를 이용하여 위조 방지용 필름 상에 회절 패턴을 형성하는 방법으로서 저비용으로도 많은 정보를 기록할 수 있기 때문에 근래에 들어 널리 이용되고 있다.Accordingly, in recent years, a technology for recording information on an anti-counterfeiting film using a nano-imprinting method has been introduced. The nano-imprinting method is a method of forming a diffraction pattern on an anti-counterfeiting film by using a mold having a nano pattern, and has been widely used in recent years because it can record a lot of information at low cost.
일반적으로 위조 방지 필름은 직진 방향으로 조사되어 내부를 투과된 레이저 광이 일정한 방향으로 회절 되도록 한다. 이에 따라, 위조 방지용 필름을 향하여 직진 방향으로 조사된 레이저 광이 위조 방지용 필름을 투과한 후 회절 패턴에 의하여 회절된 광에 의하여 위조 방지용 이미지가 구현된다. In general, the anti-counterfeiting film is irradiated in a straight direction so that the laser light transmitted through the inside is diffracted in a certain direction. Accordingly, after the laser light irradiated in a straight direction toward the anti-counterfeiting film passes through the anti-counterfeiting film, an image for anti-counterfeiting is realized by light diffracted by the diffraction pattern.
최근에는, 위조 방지용 이미지를 구현하기 위하여 서로 다른 인가 조건에 따라 서로 다른 복수의 이미지를 구현하는 위조 방지용 소자의 개발이 요구되고 있다.In recent years, in order to implement an anti-counterfeiting image, there is a demand for the development of an anti-counterfeiting device that implements a plurality of different images according to different application conditions.
이에 본 발명의 일 목적은 서로 다른 인가 조건을 이용하여 서로 다른 복수의 진위 판정용 이미지들을 구현할 수 있는 위조 방지용 소자를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an anti-counterfeiting device capable of implementing a plurality of different authenticity determination images using different application conditions.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지용 소자는, 베이스 및 상기 베이스 상에 구비되며, 회절 패턴을 가져 가시광선 영역의 광을 이용하여 제1 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있도록 구비된 회절성 광학 소자층을 포함하는 제1 이미지 소자, 상기 회절성 광학 소자층의 하부에 배치되며, 상기 가시광선을 제외한 외부광 또는 인가 조건에 따라 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있도록 구비된 제2 이미지 소자, 및 상기 제1 이미지 소자 및 상기 제2 이미지 소자 사이에 개재되며, 상기 제1 이미지 소자 및 상기 제2 이미지 소자를 상호 본딩시키는 본딩층을 포함한다.In order to achieve the above object, the anti-counterfeiting device according to an embodiment of the present invention is provided on a base and on the base, and has a diffraction pattern to implement a first authenticity determination image using light in the visible region. A first image element including a diffractive optical element layer provided so that it is disposed under the diffractive optical element layer, and can implement a second authenticity determination image according to external light or application conditions excluding the visible light. And a bonding layer interposed between the first image element and the second image element, and bonding the first and second image elements to each other.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 본딩층은 상기 베이스 및 상기 제2 이미지 소자 사이에 개재될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the bonding layer may be interposed between the base and the second image element.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 본딩층은 상기 회절성 광학 소자층 및 상기 제2 이미지 소자 사이에 개재될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the bonding layer may be interposed between the diffractive optical element layer and the second image element.
여기서, 상기 제1 이미지 소자는 상기 회절성 광학 소자층 상에 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 구비되며, 상기 회절성 광학 소자층을 이루는 물질과 적어도 0.1 이상의 굴절율 차이를 갖는 물질로 이루어진 굴절율 조절 박막을 더 포함할 수 있다.Here, the first image element is provided along the profile of the diffraction pattern on the diffractive optical element layer, and a refractive index controlling thin film made of a material having a refractive index difference of at least 0.1 or more from a material constituting the diffractive optical element layer It may contain more.
또한, 상기 굴절율 조절 박막은 금, 은 및 알루미늄이 이루는 광반사성 금속물질 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In addition, the refractive index control thin film may include at least one of light reflective metallic materials made of gold, silver, and aluminum.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 이미지 소자는, 기판 및 상기 기판과 상기 본딩층 사이에 개재되며, 상기 외부광 또는 인가 조건에 따라 상기 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있는 기능성 패턴을 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the second image element is a functional pattern that is interposed between a substrate and the substrate and the bonding layer, and can implement the second authenticity determination image according to the external light or application conditions It may include.
여기서, 상기 기능성 패턴은 자외선, 열, 자성, 습도 및 압력 중 어느 하나에 따라 광학적인 특성을 변환시켜 상기 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있는 기능성 물질을 포함할 수 있다.Here, the functional pattern may include a functional material capable of implementing the image for determining the second authenticity by converting optical properties according to any one of ultraviolet rays, heat, magnetism, humidity, and pressure.
본 발명의 실시예들에 따른 위조 방지용 소자에 따르면, 가시광선을 이용하는 회절성 광학 소자층을 포함하는 제1 이미지 소자 및 상기 가시광선을 제외한 나머지 광 또는 인가 조건을 이용하는 제2 이미지 소자를 구비한다. 이로써, 상기 위조 방지용 소자는 서로 다른 인가 조건에 반응하여 제1 진위 판정용 이미지 및 제2 진위 판정용 이미지를 포함하는 복수의 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다.According to the anti-counterfeiting device according to embodiments of the present invention, a first image device including a diffractive optical device layer using visible light and a second image device using light or application conditions other than the visible light are provided. . Accordingly, the anti-counterfeiting device can implement a plurality of authenticity determination images including a first authenticity determination image and a second authenticity determination image in response to different application conditions.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지용 소자를 설명하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 방지용 소자를 설명하는 단면도이다.
도 3은 위조 방지용 소자에 포함된 제1 이미지 소자로부터 반사된 반사광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating an anti-counterfeiting device according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view illustrating an anti-counterfeiting device according to another embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating a phase difference of reflected light reflected from a first image element included in an anti-counterfeiting element.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 첨부된 도면에 있어서, 대상물들의 크기와 양은 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대 또는 축소하여 도시한 것이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the present invention, various modifications can be made and various forms can be obtained, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific form of disclosure, it is to be understood as including all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In the accompanying drawings, the sizes and amounts of objects are shown to be enlarged or reduced from the actual size for clarity of the present invention.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, a first element may be referred to as a second element, and similarly, a second element may be referred to as a first element.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 단계, 기능, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 다른 특징들이나 단계, 기능, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, terms such as "comprise" or "include" are intended to designate the existence of features, steps, functions, components, or combinations thereof described in the specification, and other features, steps, functions, and components It is to be understood that the possibility of addition or presence of or combinations thereof is not preliminarily excluded.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Meanwhile, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the technical field to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this application. Does not.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지용 소자를 설명하는 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating an anti-counterfeiting device according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지용 소자는 제1 이미지 소자(110), 제2 이미지 소자(120) 및 본딩층(130)을 포함한다. 상기 위조 방지용 소자는 외부로부터 인가되는 광, 자성 또는 압력 등과 같은 인가 조건에 따라 서로 다른 제1 진위 판정용 이미지 및 제2 진위 판정용 이미지를 각각 구현할 수 있다.Referring to FIG. 1, an anti-counterfeiting device according to an embodiment of the present invention includes a
상기 제1 이미지 소자(110)는 가시 광선을 이용하여 상기 제1 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다.The
상기 제1 이미지 소자(110)는 베이스(111) 및 회절성 광학 소자층(115)을 포함한다. The
상기 베이스(111)는 고분자 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 베이스(111)는 PET 재질로 이루어질 수 있다. The
상기 베이스(111)의 상면에는 회절성 광학 소자층(115)이 구비된다.A diffractive
상기 회절성 광학 소자층(115)의 상면에는 회절 패턴이 형성된다. 상기 회절 패턴은 다양한 크기 및 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 회절 패턴의 형상은 스트라이프 형상, 모자이크 형상, 피라미드 형상 등을 포함할 수 있다. 상기 회절 패턴은 푸리에 변환 및 푸리에 역변환 과정을 포함하는 설계 알고리즘을 거쳐 특정 이미지를 구현하기 위한 회절 특성을 이용하기 위한 패턴으로 정의될 수 있다.A diffraction pattern is formed on the upper surface of the diffractive
상기 회절 패턴은 핫 엠보싱 공정, 나노 임프린팅 공정 또는 트랜스퍼 프린팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. The diffraction pattern may be formed through a hot embossing process, a nanoimprinting process, or a transfer printing process.
상기 제2 이미지 소자(120)는 제1 이미지 소자(110)의 하부에 배치된다. 상기 제2 이미지 소자(120)는 상기 회절성 광학 소자층(115)의 하부에 배치된다.The
상기 제2 이미지 소자(120)는 상기 가시광선을 제외한 외부광 또는 인가 조건을 이용하여 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있도록 구비된다.The
상기 외부광의 예로는 자외선을 포함할 수 있다. 즉, 상기 자외선은 제1 이미지 소자(110)를 투과하여 상기 제2 이미지 소자(120)에 도달한다. 이때, 상기 제2 이미지 소자(120)는 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다. Examples of the external light may include ultraviolet rays. That is, the ultraviolet rays pass through the
이와 다르게, 상기 인가 조건은 열, 자성, 습도 또는 압력을 포함할 수 있다. 이 경우 상기 인가 조건에 따라 상기 제2 이미지 소자(120)는 제2 진위 판정용 이미지를 표시할 수 있다.Alternatively, the application condition may include heat, magnetism, humidity, or pressure. In this case, the
상기 제2 이미지 소자(120)는 기판(121) 및 상기 기판(121)과 상기 본딩층(130) 사이에 개재되며, 상기 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있는 기능성 패턴(125)을 포함한다.The
상기 기능성 패턴(125)이 열반응 물질을 포함할 경우, 상기 기능성 패턴(125)은 온도에 따라 변색되는 특성을 가질 수 있다. When the
상기 열반응 물질의 예로는 시온 안료와 합성수지의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 열반응 물질에 포함된 시온 안료는 복수의 종류를 가질 수 있다. 이로써, 상기 기능성 패턴(125)은 온도에 따른 다양한 색 변화를 구현할 수 있다.Examples of the heat-reactive material may include a mixture of a Zion pigment and a synthetic resin. Zion pigments included in the thermally reactive material may have a plurality of types. Accordingly, the
상기 기능성 패턴(125)은 자성 입자 및 용매를 포함할 수 있다. 상기 자성 입자는 제1 자기장의 방향과 평행한 방향으로 정렬되어 입자 사슬을 형성한다. 반면에, 제2 자기장이 상기 입자 사슬에 인가될 경우 입자 사슬이 본딩층(130)과 가까운 방향으로 이동한다. 한편, 제2 자기장의 세기 또는 방향을 변화시키거나, 제2 자기장의 방향과 반대인 제3 자기장을 인가할 경우, 입자 사슬이 본딩층(130)으로 멀어짐으로써 제2 진위 판정용 이미지의 명암 및 컬러를 조절할 수 있다.The
한편, 상기 기능성 패턴(125)은 습도에 반응하여 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다. 이때 상기 기능성 패턴(125)은 염화코발트를 포함할 수 있다. 이와 다르게 상기 기능성 패턴(125)은 안료 및 습도 지시 용액을 포함할 수 있다. 이때, 상기 안료는 예를 들면 VIDHI (Dyestuff Mfg. 사 제조)의 청색 안료를 이용할 수 있다. 이 경우, 상기 기능성 패턴(125)은 건조한 상태에서는 녹색을, 습한 상태에서는 보라색으로 변색되어 습도의 변화를 감지할 수 있다. Meanwhile, the
이와 다르게 상기 기능성 패턴(125)은 액체 매질 및 상기 매질 내에 분포되며 인가되는 압력에 따른 배향을 달리하는 안료를 포함할 수 있다. Alternatively, the
즉, 상기 액체 매질은, 압력에 의해 정렬 가능한 안료가 외부적으로 인가되는 압력이 해제될 경우 재배향되지 않도록 충분히 점성을 가진다. 상기 제2 이미지 소자(120)의 표면에 대해 정방향 또는 접선방향(전단)으로 압력이 인가되면 상기 액체 매질과 안료가 교란(disturb)되어 소자의 외관이 변화될 수 있다. 이때, 안료는 인가된 압력에 의해 평형 상태에서 무질서한 상태로 변화될 수 있다. 한편 압력 제거시, 안료가 정렬된 상태로 되돌아가도록 한다.That is, the liquid medium is sufficiently viscous so that the pigment, which can be aligned by pressure, is not reoriented when externally applied pressure is released. When a pressure is applied to the surface of the
상기 본딩층(130)은 상기 제1 이미지 소자(110) 및 상기 제2 이미지 소자(120) 사이에 개재된다. 상기 본딩층(130)은, 상기 제1 이미지 소자(110) 및 상기 제2 이미지 소자(120)를 상호 본딩한다.The
즉, 상기 본딩층(130)은 상기 베이스(111) 및 상기 제2 이미지 소자(120)에 포함된 기판(1121) 사이에 개재될 수 있다.That is, the
상기 본딩층(130)은 라미네이팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. 상기 본딩층(130)은, 예를 들면 냉각됨으로써 상기 제1 이미지 소자(110) 및 상기 제2 이미지 소자(120)를 상호 본딩할 수 있다.The
본 발명의 실시예에 따른 위조 방지용 소자는 가시 광선 및 상기 가시광선과 다른 인가 조건을 이용하여 각각 제1 및 제2 진위 판정용 이미지들을 개별적으로 구현할 수 있는 제1 및 제2 이미지 소자(110, 120)를 포함한다. 따라서, 상기 진위 판정용 소자는 복수의 이미지를 구현할 수 있다. The anti-counterfeiting device according to an embodiment of the present invention includes first and
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지용 소자를 설명하는 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating an anti-counterfeiting device according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지용 소자는 제1 이미지 소자(110), 제2 이미지 소자(120) 및 본딩층(130)을 포함한다. 상기 위조 방지용 소자(100)는 외부로부터 인가되는 광, 자성 또는 압력 등과 같은 인가 조건에 따라 서로 다른 제1 진위 판정용 이미지 및 제2 진위 판정용 이미지를 각각 구현할 수 있다.Referring to FIG. 2, the anti-counterfeiting device according to an embodiment of the present invention includes a
상기 제1 이미지 소자(110)는 가시 광선을 이용하여 상기 제1 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다. 상기 제1 이미지 소자(110)는 베이스(111), 회절성 광학 소자층(115) 및 굴절율 조절 박막(117)을 포함한다. The
상기 베이스(111)는 고분자 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 베이스(111)는 PET 재질로 이루어질 수 있다. 상기 베이스(111)의 하면에는 회절성 광학 소자층(115)이 구비된다.The base 111 may be made of a polymer material. For example, the
상기 회절성 광학 소자층(115)의 하면에는 회절 패턴이 형성된다. 상기 회절 패턴은 다양한 크기 및 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 회절 패턴의 형상은 스트라이프 형상, 모자이크 형상, 피라미드 형상 등을 포함할 수 있다. 상기 회절 패턴은 푸리에 변환 및 푸리에 역변환 과정을 포함하는 설계 알고리즘을 거쳐 특정 이미지를 구현하기 위한 회절 특성을 이용하기 위한 패턴으로 정의될 수 있다.A diffraction pattern is formed on the lower surface of the diffractive
상기 회절 패턴은 핫 엠보싱 공정, 나노 임프린팅 공정 또는 트랜스퍼 프린팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. The diffraction pattern may be formed through a hot embossing process, a nanoimprinting process, or a transfer printing process.
상기 굴절욜 조절 박막(117)은 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 형성된다. 이로써, 상기 굴절율 조절 박막(117)은 균일한 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 상기 굴절율 조절 박막(117)은 상기 회절성 광학 소자층(115)을 이루는 물질과 적어도 0.1 이상의 굴절율 차이를 갖는 물질로 이루어질 수 있다.The refraction control
즉, 만약 상기 굴절율 조절 박막(117)이 생략된 상태될 경우, 상기 회절성 광학 소자층(115) 및 상기 본딩층(130) 사이의 굴절율 차이가 0.1 미만일 수 있다. 이 경우, 상기 회절성 광학 소자층(115)은 상기 가시광선을 이용하여 제1 진위 판정용 이미지를 구현하는 데 어려움이 있다. 반면에, 상기 굴절율 조절 박막(117)이 상기 회절성 광학 소자층(115) 및 상기 본딩층(130) 사이에 개재될 경우, 상기 굴절율 조절 박막(117) 및 상기 회절성 광학 소자층(115) 간의 굴절율 차이가 0.1 이상으로 조절될 수 있다. 이로써, 상기 회절성 광학 소자층(115)을 포함하는 제1 이미지 소자(110)가 가시 광선을 이용하여 제1 진위 판정용 이미지를 용이하게 구현할 수 있다.That is, if the refractive index adjusting
즉, 상기 회절성 광학 소자층(115)이 갖는 회절 패턴 및 상기 회절 패턴에 접하는 하지막 사이에 굴절율 차이가 적어도 0.1 이상일 경우, 상기 회절성 광학 소자층(115)이 가시광선으로 제1 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다. That is, when the difference in refractive index between the diffraction pattern of the diffractive
상기 굴절율 조절 박막(117)은 금, 은 및 알루미늄과 같은 광반사성 금속 물질을 포함할 수 있다. The refractive index control
상기 굴절율 조절 박막(117)은 요구되는 광투과도에 따라 두께를 조절할 수 있다. 예를 들면, 상기 굴절율 조절 박막(117)은 1 nm 내지 4 nm 의 두께를 가질 수 있다.The thickness of the refractive index adjusting
상기 굴절율 조절 박막(117)이 상기 회절 패턴에 형성된 단차로 인하여 상기 굴절율 조절 박막(117)의 표면에서 반사된 반사광의 위상이 달라지게 된다. 이로써 상기 반사광들이 상호 간섭됨으로써 특정 회절 이미지를 구현할 수 있다. The phase of the reflected light reflected from the surface of the refractive index adjusting
상기 제2 이미지 소자(120)는 제1 이미지 소자(110)의 하부에 배치된다. 즉, 상기 제2 이미지 소자(120)는 상기 회절성 광학 소자층(115)의 하부에 배치된다.The
상기 제2 이미지 소자(120)는 상기 가시광선을 제외한 외부광 또는 인가 조건을 이용하여 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있도록 구비된다.The
도 3은 위조 방지용 소자에 포함된 제1 이미지 소자로부터 반사된 반사광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a phase difference of reflected light reflected from a first image element included in an anti-counterfeiting element.
도 3을 참조하면, 회절 패턴들 사이의 높이차(h)가 존재하고, 회절 패턴이 np(=1+p)를 가질 경우, 서로 다른 위치에서의 위상차(φ1-φ2)는 아래 수학식1과 같습니다.3, when there is a height difference (h) between diffraction patterns and the diffraction pattern has n p (=1+p), the phase difference (φ1-φ2) at different positions is the following equation. Same as 1.
여기서, k0(=2π/λ)이며, p는 공기의 굴절율인 1보다 큰 차이값이며, h는 회절 패턴의 높이차이다. Here, k 0 (=2π/λ), p is a difference value greater than 1, which is the refractive index of air, and h is the difference in height of the diffraction pattern.
상기 위상차를 이용하여 회절패턴으로부터 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다.Using the phase difference, an image for authenticity determination can be implemented from a diffraction pattern.
본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been shown and described with reference to a preferred embodiment as described above, it is not limited to the above embodiment, and within the scope of the spirit of the present invention, various Transformation and change are possible. Such modifications and variations are to be viewed as falling within the scope of the present invention and the appended claims.
110 : 제1 이미지 소자
111 : 베이스
115 : 회절성 광학 소자층
117 : 굴절율 조절 박막
120 : 제2 이미지 소자
121 : 기판
135 : 기능성 패턴
130 : 본딩층110: first image element 111: base
115: diffractive optical element layer 117: refractive index control thin film
120: second image element 121: substrate
135: functional pattern 130: bonding layer
Claims (7)
상기 회절성 광학 소자층의 하부에 배치되며, 상기 가시광선을 제외한 외부광 또는 인가 조건에 따라 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있도록 구비된 제2 이미지 소자; 및
상기 제1 이미지 소자 및 상기 제2 이미지 소자 사이에 개재되며, 상기 제1 이미지 소자 및 상기 제2 이미지 소자를 상호 본딩시키는 본딩층을 포함하는 위조 방지용 소자. A first image element including a base and a diffractive optical element layer provided on the base and having a diffraction pattern to implement a first authenticity determination image using light in a visible light region;
A second image element disposed under the diffractive optical element layer and provided to implement a second authenticity determination image according to external light or application conditions excluding the visible light; And
An anti-counterfeiting device comprising a bonding layer interposed between the first image device and the second image device, and bonding the first image device and the second image device to each other.
기판; 및
상기 기판과 상기 본딩층 사이에 개재되며, 상기 외부광 또는 인가 조건에 따라 상기 제2 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있는 기능성 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 위조 방지용 소자.The method of claim 1, wherein the second image element,
Board; And
An anti-counterfeiting device comprising a functional pattern interposed between the substrate and the bonding layer and capable of implementing the second authenticity determination image according to the external light or an application condition.
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980082905A (en) * | 1997-05-09 | 1998-12-05 | 이경식 | Narrow-band transmission filter using serially connected Bragg diffraction grating and wavelength division demultiplexer using the filter |
WO2007060648A2 (en) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Dublin Institute Of Technology | A holographic sensor |
JP2008281912A (en) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Dainippon Printing Co Ltd | Label |
JP2011033935A (en) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Toppan Printing Co Ltd | Optical article and method of manufacturing the same |
JP2011081165A (en) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Toppan Printing Co Ltd | Method for producing image-formed body, image-formed body, method for producing personal identification medium and personal identification medium |
JP2012226260A (en) * | 2011-04-22 | 2012-11-15 | Toppan Printing Co Ltd | Forgery prevention medium |
KR20180109066A (en) * | 2016-02-09 | 2018-10-05 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | Optical device for preventing forgery and information recording medium |
KR20180109472A (en) * | 2017-03-28 | 2018-10-08 | 고려대학교 산학협력단 | Apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing the same |
KR20180111267A (en) * | 2017-03-31 | 2018-10-11 | 고려대학교 산학협력단 | Apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing the same |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101075718B1 (en) * | 2009-01-30 | 2011-10-21 | 한국조폐공사 | Security card with optical diffractive pattern |
-
2019
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-
2020
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980082905A (en) * | 1997-05-09 | 1998-12-05 | 이경식 | Narrow-band transmission filter using serially connected Bragg diffraction grating and wavelength division demultiplexer using the filter |
WO2007060648A2 (en) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Dublin Institute Of Technology | A holographic sensor |
JP2008281912A (en) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Dainippon Printing Co Ltd | Label |
JP2011033935A (en) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Toppan Printing Co Ltd | Optical article and method of manufacturing the same |
JP2011081165A (en) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Toppan Printing Co Ltd | Method for producing image-formed body, image-formed body, method for producing personal identification medium and personal identification medium |
JP2012226260A (en) * | 2011-04-22 | 2012-11-15 | Toppan Printing Co Ltd | Forgery prevention medium |
KR20180109066A (en) * | 2016-02-09 | 2018-10-05 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | Optical device for preventing forgery and information recording medium |
KR20180109472A (en) * | 2017-03-28 | 2018-10-08 | 고려대학교 산학협력단 | Apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing the same |
KR20180111267A (en) * | 2017-03-31 | 2018-10-11 | 고려대학교 산학협력단 | Apparatus for determining authenticity of an object and method of manufacturing the same |
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