KR20210014807A - 펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치 - Google Patents

펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부, 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부 및 상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하여, 상기 레이저 증폭부에서 출력되는 펄스의 지속시간을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 다이오드 레이저 생성부는, 상기 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 및 상기 다이오드 레이저에 각각 대응되도록 배치되며, 상기 다이오드 레이저에서 생성된 다이오드 레이저 펄스들을 서로 다른 지속시간을 가지는 펄스들로 가변시키는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버를 포함하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.
따라서, 가변된 레이저 펄스를 이용하여 다양한 지속시간을 가지는 레이저 펄스를 출력할 수 있다.

Description

펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치{Laser apparatus for treatment of skin which can adjust the duration of pulse and change the wavelength easily}
본 발명은 펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 펄스의 지속시간 조절이 용이한 레이저 생성부를 포함하는 펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것이다.
최근 산업 및 연구현장에서 레이저를 이용한 분야에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 이러한 레이저는 최근 들어 피부 치료, 분광학, 나노 이미징, 입자가속, 핵융합 등의 연구분야를 비롯하여, 3D 프린팅, 조면, 통신 공연등의 생활현장과 용접, 절단, 표면 개질 등의 산업현장에서 활발하게 개발되고 있다.
이러한 레이저는 사용하는 용도에 따라 레이저의 지속시간, 파장 및 세기 등을 달리하는 것이 요구된다. 하지만 기존의 레이저 장치는 레이저의 지속시간, 파장 및 세기를 가변하기 위해서 고가이거나 복잡한 구조를 갖는 장비를 필요로 하는 문제가 있다.
대한민국등록특허 제10-1898632호
본 발명은 펄스의 지속시간 조절이 용이한 레이저 생성부를 포함하는 펄스의 지속시간 조절이 용이하고, 파장 가변이 가능한 피부 치료용 레이저 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 본 발명은 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부, 상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부 및 상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하여, 상기 레이저 증폭부에서 출력되는 펄스의 지속시간을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 다이오드 레이저 생성부는, 상기 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 및 상기 다이오드 레이저에 각각 대응되도록 배치되며, 상기 다이오드 레이저에서 생성된 다이오드 레이저 펄스들을 서로 다른 지속시간을 가지는 펄스들로 가변시키는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버를 포함하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 피부 치료용 레이저 장치는 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 가변된 레이저 펄스를 이용하여 다양한 지속시간을 가지는 레이저 펄스를 출력할 수 있다.
둘째, 복수의 다이오드 레이저를 이용하여 증폭 매질의 변동 없이 서로 다른 종류의 파장을 가지는 레이저 펄스를 출력할 수 있다.
셋째, 구조가 간단하여 고장의 위험이나, 작동 오류의 위험이 작다.
넷째, 간편하게 가변된 레이저 펄스를 생성할 수 있기 때문에, 피부 치료 대상자에게 다양한 펄스 지속시간을 가지는 펄스를 출력할 수 있다. 특히 레이저 증폭부의 구조가 매우 단순하여 펄스의 증폭이 용이하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 블록도이다.
도 2는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 다이오드 레이저 생성부를 구체적으로 나타낸 모식도이다.
도 3은 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 다이오드 레이저 생성부에서 생성된 펄스를 구체적으로 나타낸 모식도이다.
도 4는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 레이저 증폭부를 구체적으로 나타낸 모식도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 다이오드 레이저 생성부(110), 레이저 증폭부(120) 및 제어부(130)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(110)는 제1레이저 생성부(111) 및 제2레이저 생성부(112)를 포함한다. 상기 제1레이저 생성부(111)는 제1다이오드 레이저 드라이버(111a) 및 제1다이오드 레이저(111b)를 포함하고, 상기 제2레이저 생성부(112)는 제2다이오드 레이저 드라이버(112a) 및 제2다이오드 레이저(112b)를 포함한다. 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(111a)는 각각 시드 레이저(Seed Laser)를 방출한다. 즉, 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(111a)는 상기 레이저 증폭부(120)를 통해서 증폭 되어 출력되는 레이저의 소스가 되는 펄스를 생성하는 광원으로 형성된다. 상기 상기 제1다이오드 레이저(111b)에서 생성되는 레이저 펄스는 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)에 의해 컨트롤 되고, 상기 제2다이오드 레이저(112a)에서 생성되는 레이저 펄스는 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112b)에 의해 컨트롤 된다.
상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)는 서로 다른 파장의 다이오드 레이저 펄스를 생성한다. 상기 레이저 증폭부(120)에서 방출되는 레이저 펄스의 파장은 상기 레이저 생성부(110)로부터 전달되는 레이저 펄스의 파장에 따라 달라질 수 있다. 따라서 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)의 파장을 달리 함으로써 상기 레이저 증폭부(120)에서 방출되는 레이저 펄스의 출력 파장을 변화시킬 수 있다. 그러므로 본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 서로 다른 파장을 갖는 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b) 중 어느 하나를 선택함으로써 출력 파장을 간편하게 조절할 수 있다.
물론 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)의 파장은 상기 레이저 생성부(120)에 포함되어 있는 증폭매질에서 증폭이 가능한 범위 내에 속하는 정도의 차이를 갖는다. 즉, 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)의 파장 차이는 하나의 증폭매질에서 모두 증폭이 가능한 범위 내에 속한다. 구체적으로 예를 들면, 상기 레이저 생성부(120)에 포함되어 있는 증폭매질이 Nd:YAG 라고 했을 때, 상기 Nd:YAG로 증폭이 가능한 파장 범위에 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 생성되는 레이저 펄스의 파장이 각각 속한다는 의미이다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 동일한 파장의 다이오드 레이저 펄스를 생성하도록 할 수도 있다.
본 실시예에서는 상기 레이저 생성부(110)가 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b) 두 개의 개별 다이오드 레이저를 포함하는 것을 예로 들었으나 상기 레이저 생성부(110)에 포함하는 개별 다이오드 레이저의 수는 얼마든지 변경이 가능하다. 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)는 On/Off 제어를 통해 레이저 펄스를 생성한다.
도 2의 (a)를 참조하면, 상기 제1레이저 생성부(111)는 제1다이오드 레이저 드라이버(111a) 및 제1다이오드 레이저(111b)를 포함하고, 상기 제2레이저 생성부(112)는 제2다이오드 레이저 드라이버(112a) 및 제2다이오드 레이저(112b)를 포함한다. 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)는 상기 제1다이오드 레이저(111b)를 컨트롤하여 가변된 펄스의 지속시간을 가지는 가변 레이저 펄스를 생성한다. 상기 제1다이오드 레이저(111b)로부터 생성된 다이오드 레이저 펄스의 지속시간은 제1지속시간 내지 제2지속시간으로 형성된다. 예를 들면 상기 제1레이저 생성부(111)에서 생성되는 레이저 펄스는 피코초(ps) 내지 나노초(ns)로 형성된다.
그리고 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)는 상기 제2다이오드 레이저(112b)를 컨트롤 하여 가변된 펄스의 지속시간을 가지는 가변 레이저 펄스를 생성한다. 상기 제2다이오드 레이저(112b)로부터 생성된 다이오드 레이저 펄스의 지속시간은 제3지속시간 내지 제4지속시간으로 형성된다. 이 때, 상기 제2레이저 생성부(112)로부터 생성된 레이저 펄스는 상기 제1레이저 생성부(111)로부터 생성된 레이저 펄스보다 지속시간이 길다. 즉, 상기 제3지속시간 및 상기 제4지속시간은 상기 제1지속시간 및 상기 제2지속시간보다 더 길게 형성된다. 예를 들면, 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 레이저 펄스는 나노초(ns) 내지 밀리초(ms)로 형성된다. 이 때, 동일한 나노초(ns) 범위에 해당하더라도, 상기 제1레이저 생성부(111)에서 생성된 나노초(ns) 범위의 레이저 펄스보다 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성된 나노초(ns) 범위의 레이저 펄스의 지속시간이 길다. 물론 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)로부터 생성되는 레이저 펄스의 지속시간은 드라이버 교체를 통해서 얼마든지 변경이 가능하다.
상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)는 상기 제1다이오드 레이저(111b)를 컨트롤 하여 상기 제1다이오드 레이저(111b)에서 생성되는 레이저 펄스를 피코초(ps) 내지 나노초(ns)로 조절하여 시간차를 가지고 순차적으로 방출토록 한다. 그리고 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)는 상기 제2다이오드 레이저(112b)를 컨트롤 하여 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 생성된 레이저 펄스를 나노초(ns) 내지 밀리초(ms)로 조절하여 시간차를 가지고 순차적으로 방출토록 한다. 이 때, 상기 제1다이오드 레이저(111b)와 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 순차적으로 방출된 레이저 펄스는 상기 레이저 증폭부(120)로 전달된다.
도 2의 (b)는 상기 다이오드 레이저 생성부(110)의 다른 구조를 나타낸다. (b)는 (a)의 경우와 거의 유사하지만, 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)에서 방출되는 레이저 펄스가 동일한 경로로 상기 레이저 증폭부(120)에 전달된다는 점에 차이가 있다. 이러한 차이점은 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)에서 방출되는 레이저 펄스의 경로를 조절하는 제9미러(113)에 의해 나타난다. 즉, 상기 제9미러(113)는 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 레이저 펄스가 상기 레이저 증폭부(120)에 동일한 경로로 전달될 수 있도록 경로를 조절한다. 물론 상기 제9미러(113)는 상기 레이저 증폭부(120)에 배치되어 있는 증폭매질의 종류에 따라 증폭이 가능한 파장의 레이저 펄스를 방출하는 레이저 생성부(111, 112)에서 생성되는 레이저 펄스를 상기 레이저 증폭부(120)로 전달한다. 이 때 상기 제9미러(113)는 상기 제1레이저 생성부(111) 또는 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 레이저 펄스를 상기 레이저 증폭부(120)로 전달하기 전후 또는 좌우 방향으로 이동하게 된다. 상기 제9미러(113)는 상기 제어부(130)에 의해 컨트롤 되는 모터에 의해 이동한다. 본 실시예에서는 상기 제9미러(113)가 하나이고, 이동하면서 상기 제1레이저 생성부(111) 및 상기 제2레이저 생성부(112)에서 생성되는 레이저 펄스의 경로를 변경시키는 것을 예로 들었으나, 상기 제9미러(113)는 상기 다이오드 레이저들의 수에 맞게 복수 개가 고정되어 설치될 수도 있다.
본 실시예에서는 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112)가 상기 다이오드 레이저 생성부(110)에 함께 포함되어 있는 것을 예로 들었지만, 상기 다이오드 레이저 생성부(110)는 상기 제1레이저 생성부(111)만을 포함하거나, 상기 제2레이저 생성부(112)만을 포함할 수도 있다. 즉, 상기 다이오드 레이저 생성부(110)가 상기 제1레이저 생성부(111)만을 포함한 경우에는 상기 제1다이오드 레이저(111b)에서 생성되는 레이저 펄스를 피코초(ps) 내지 나노초(ns)로 조절하여 방출한다. 그리고 상기 다이오드 레이저 생성부(110)가 상기 제2레이저 생성부(112)만을 포함한 경우에는 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 생성되는 레이저 펄스를 나노초(ns) 내지 밀리초(ms)로 조절하여 방출한다.
물론 도 2의 (a) 및 (b)에서와 같이 상기 레이저 생성부(110)가 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112)를 포함하더라도, 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112) 중 어느 하나만을 작동시킴으로써, 피코초(ps) 내지 나노초(ns)의 펄스만을 방출하거나, 나노초(ns) 내지 밀리초(ms)의 펄스만을 방출하는 것이 가능하다. 즉, 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112) 중 어느 하나만을 작동하여 상기 레이저 생성부(110)에 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112) 중 어느 하나만이 설치되어 있는 것과 동일한 효과를 낼 수 있다.
도 3을 참조하면, 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)는 상기 제1다이오드 레이저(111b)를 컨트롤 하고, 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)는 상기 제2다이오드 레이저(112b)를 컨트롤 하여 가변된 펄스 지속시간을 가지는 소정의 가변 레이저 펄스를 형성한다. 상기 제1다이오드 레이저(111b)로부터 생성된 다이오드 레이저 펄스의 지속시간은 제1지속시간 내지 제2지속시간으로 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(112a)에 의해 컨트롤 된다. 그리고 상기 제2다이오드 레이저(112b)로부터 생성된 다이오드 레이저 펄스의 지속시간은 제3지속시간 내지 제4지속시간으로 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)에 의해 컨트롤 된다. 이 때, 상기 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)에 의해 컨트롤 되어 상기 제2다이오드 레이저(112b)로부터 생성되는 가변된 레이저 펄스는 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)에 의해 컨트롤 되어 상기 제2다이오드 레이저(112a)로부터 생성되는 가변된 레이저 펄스보다 지속시간이 길다. 즉, 상기 제3지속시간 및 상기 제4지속시간은 상기 제1지속시간 및 상기 제2지속시간보다 길게 형성된다. 물론 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)로부터 생성되는 레이저 펄스의 지속시간은 사용되는 다이오드 레이저 드라이버들에 의해 얼마든지 변경이 가능하다.
구체적으로, 상기 제1다이오드 레이저 드라이버(111a)는 100피코초(ps) 이상 10나노초(ns) 미만의 파장 범위의 레이저 펄스를 생성하고, 제2다이오드 레이저 드라이버(112a)는 10나노초 이상 10밀리초(ms) 이하의 파장 범위의 레이저 펄스를 생성한다. 즉, 상기 가변 레이저 펄스는 지속시간이 100피코초(ps) 내지 10밀리초(ms)로 형성된다. 본 실시예에서는 상기 가변 레이저 펄스의 지속시간이 100피코초 내지 10밀리초(ms)인 것을 예로 들었으나, 상기 다이오드 레이저 드라이버들(111a, 112a)의 변경을 통해서 상기 가변 레이저 펄스의 지속시간을 얼마든지 변화시킬 수 있다.
또한 상기 가변 레이저 펄스의 지속시간은 피코초 범위에만 속하거나 나노초 범위에만 속할 수도 있고, 상기 피코초 범위 및 상기 나노초 범위에 모두 걸처서 속할 수도 있다. 즉, 상기 가변 레이저 펄스의 지속시간은 어느 하나의 시간 단위에만 속하도록 형성될 수도 있고, 여러 시간 범위를 포함하도록 형성될 수도 있다. 이러한 가변 레이저 펄스는 상기 다이오드 레이저 드라이버들(111a, 112a)을 변화시켜서 상기 제1다이오드 레이저(111b) 및 상기 제2다이오드 레이저(112b)에서 생성되는 레이저 펄스의 지속시간을 다양하게 조절할 수 있다.
상기 레이저 증폭부(120)는 제1빔스플리터(123), 제1증폭매질(121a), 제1미러(122a), 제1웨이브플레이트(124), 제2미러(122b), 제2증폭매질(121b), 제3미러(122c), 제4미러(122d), 제3증폭매질(121c), 제5미러(122e), 제6미러(122f), 제4증폭매질(121d), 제7미러(122g), 제8미러(122h), 제1렌즈(125a), 제2렌즈(125b), 제1펌핑 램프(126a), 제2펌핑 램프(126b) 및 2차 조화파 발생장치(127)를 포함한다. 상기 제1빔스플리터(123)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 펄스는 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(123)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(123)는 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(123)의 배치는 변경될 수 있다. 제1빔스플리터(123)의 다른 역할은 후술한다.
상기 제1증폭매질(121a)은 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 펄스가 단일 또는 복수 회 통과하면서 증폭되도록 하는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭매질(121a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(121a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭매질(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(121a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(121a)은 Nd:YAG(Neodymium:Yttrium Aluminum Garnet) 또는 Pr:YLF(Paraseodymium : Yttrium Lithium Fluoride)로 형성된다. 예를 들어, 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 946nm, 1064nm 또는 1319nm일 경우에는 상기 제1증폭매질(121a)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 523nm, 607nm 또는 640nm일 경우에는 상기 제1증폭매질(121a)은 Pr:YLF로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제1증폭매질(121a)의 종류, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.
그리고 상기 제1증폭매질(121a)은 상기 제1빔스플리터(123)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제1증폭 된다.
상기 제1미러(122a)는 상기 제1빔스플리터(123) 및 상기 제1증폭매질(121a)과 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(122a)는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a)에 의해 다시 한번 증폭시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다.
이 때 상기 제1증폭매질(121a)과 상기 제1미러(122a) 사이에는 제1웨이브플레이트(124)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(122c)는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하여 상기 제1미러(122a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(122a)에 반사되어 상기 제1증폭매질(121a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(123)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.
상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭매질(121a)로 되돌아가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.
상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123) 상측에 형성된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(122b)에서 반사된다. 상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭매질(121b) 방향으로 반사되도록 배치된다.
상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제1증폭매질(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭매질(121b) 내의 이온들은 상기 제1펌핑 램프(126a)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제2증폭매질(121b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(121b)은 Nd:YAG 또는 Pr:YLF로 형성된다. 예를 들어, 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 946nm, 1064nm 또는 1319nm일 경우에는 상기 제2증폭매질(121b)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 523nm, 607nm 또는 640nm일 경우에는 상기 제2증폭매질(121b)은 Pr:YLF로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 제2증폭매질(121b)의 종류, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.
그리고 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제1증폭매질(121a)의 상측에 배치된다. 또한 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)와 동일 축 상에 배치된다. 즉, 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)의 배치 위치에 따라 상기 제1증폭매질(121a)의 하측에 배치될 수도 있다.
상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 사이에 두고 상기 제2미러(122b)와 대향되도록 배치된다. 그리고 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 통과하면서 상기 제3증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제3미러(122c)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제3미러(122c) 또한 상기 제2미러(122b) 및 상기 제2증폭매질(121b)과 동일 축 상에 배치된다.
상기 제4미러(122d)는 상기 제3미러(122c)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제3증폭매질(121c) 방향으로 반사시킨다. 이 때 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d)로 향하는 레이저 펄스의 진행 경로에는 상기 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절하기 위한 렌즈부(125a, 125b)를 더 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 제1렌즈(125a) 및 제2렌즈(125b)를 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 상기 제1렌즈(125a)와 상기 제2렌즈(125b) 사이의 거리를 조절하여 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 공간 크기를 조절한다.
상기 제3증폭매질(121c)은 상기 제4미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제4증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제3증폭매질(121c)은 상기 제4증폭매질(121d)과 이격되어 배치된다. 상기 제3증폭매질(121c) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제3증폭매질(121c)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제3증폭매질(121c)은 Nd:YAG 또는 Pr:YLF로 형성된다. 예를 들어, 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 946nm, 1064nm 또는 1319nm일 경우에는 상기 제3증폭매질(121c)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 523nm, 607nm 또는 640nm일 경우에는 상기 제3증폭매질(121c)은 Pr:YLF로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 제3증폭매질(121c)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.
상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 사이에 두고 상기 제4미러(125b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 통과하면서 제4증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제5미러(122e)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제4미러(122d) 및 상기 제3증폭매질(121c)과 동일 축 상에 배치된다.
상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제4증폭매질(121d) 방향으로 반사시킨다. 본 실시예에서 상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)와 별개로 형성되어 있지만, 상기 제5미러(122e)와 상기 제6미러(122f)는 하나의 미러로 형성될 수도 있다.
상기 제4증폭매질(121d)은 상기 제6미러(122f)에서 반사된 레이저 펄스를 제5증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제4증폭매질(121d)은 상기 제3증폭매질(121c)과 이격되어 배치된다. 상기 제4증폭매질(121d) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제4증폭매질(121d)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제4증폭매질(121d)은 Nd:YAG 또는 Pr:YLF로 형성된다. 예를 들어, 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 946nm, 1064nm 또는 1319nm일 경우에는 상기 제4증폭매질(121d)은 Nd:YAG로 형성된다. 그리고 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 파장이 523nm, 607nm 또는 640nm일 경우에는 상기 제4증폭매질(121d)은 Pr:YLF로 형성된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 제4증폭매질(121d)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.
상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭매질(121d)을 사이에 두고 상기 제6미러(122f)와 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭매질(121d)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 상기 제8미러(122h) 방향으로 경로를 조절한다.
상기 제8미러(122h)는 상기 제7미러(122g)의 일측에 배치되고, 상기 제7미러(122g)로부터 공급 받은 레이저 펄스의 경로를 조절한다. 상기 제8미러(122h)에서 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 레이저 증폭부(120)로 출력된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제7미러(122g)에서 직접 상기 레이저 증폭부(120)로 레이저 펄스를 출력할 수도 있다.
상기 2차 조화파 발생장치(SHG, Second Harmonic Generator)(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저 펄스의 파장을 변화시킨다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 레이저 펄스가 진행하는 경로에 배치된다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 공지의 파장 변화 방식과 유사하게 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저 펄스의 파장을 변화시킨다.
상기 제어부(130)는 상기 다이오드 레이저 생성부(110) 및 상기 레이저 증폭부(120)를 제어하는 역할을 한다. 즉, 상기 제어부(130)는 상기 제1레이저 생성부(111)와 상기 제2레이저 생성부(112)에 신호를 가하여 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간을 조절한다. 또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)에 신호를 가하여 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 세기를 조절한다.
또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)의 제1펌핑 램프(126a) 및 제2펌핑 램프(126b)에 신호를 가하여 상기 제1증폭매질(121a), 상기 제2증폭매질(121b), 상기 제3증폭매질(121c) 및 상기 제4증폭매질(121d)의 상태를 조절할 수도 있다. 또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)에서 출력되는 레이저 펄스가 요구되는 에너지 수준을 갖지 못한 경우 상기 레이저 생성부(110)에 신호를 전달하여 생성되는 레이저 펄스를 조절할 수도 있다.
본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 레이저 생성부(110)에서 간편하게 상기 다이오드 레이저(111b, 112b)에서 생성되는 다이오드 레이저 펄스의 지속시간을 가변할 수 있고, 상기 레이저 생성부(110)에서 생성된 레이저 펄스를 여러 번 반복적으로 증폭할 수 있는 구조를 가짐으로써 다양한 형태의 다이오드 레이저 펄스를 생성할 수 있고, 상기 레이저 생성부(110)에서 생성된 작은 에너지의 레이저 펄스를 큰 에너지의 레이저 펄스로 증폭할 수 있는 장점이 있다.
도 4에서는, 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)가 각각 1개 배치되어 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)는 각각 2개의 램프를 포함하는 구조를 가져서, 상기 제1펌핑 램프(126a)의 각 램프가 상기 제1증폭매질(121a) 및 상기 제2증폭매질(121b)에 빛을 조사하고, 상기 제2펌핑 램프(126b)의 각 램프가 상기 제3증폭매질(121c) 및 상기 제4증폭매질(121d)에 빛을 조사하게 할 수도 있다. 이 경우, 상기 레이저 증폭부(120)에 더 많은 펌핑에너지를 가할 수 있게 되어, 더 높은 출력을 용이하게 낼 수 있는 효과가 있다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)는 레이저 생성부(210), 레이저 증폭부(220) 및 제어부(230)를 포함한다. 본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)에서 상기 레이저 생성부(210) 및 상기 제어부(230)는 도 4에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사한바 설명을 생략한다.
상기 레이저 증폭부(220)는 제1빔스플리터(223a), 제1증폭매질(221a), 제1미러(222a), 제1웨이브플레이트(224a), 제2미러(222b), 제2웨이브플레이트(224b), 제2증폭매질(221b), 제1펌핑 램프(226), 제3미러(222c), 제2빔스플리터(223b), 제3웨이브플레이트(224c), 제1렌즈(225a), 제2렌즈(225b) 및 제4미러(222d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 1에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(223a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 4에 따른 레이저 생성부(110) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(223a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(223a)는 상기 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(223a)의 배치는 변경될 수 있다.
상기 제1증폭매질(221a)은 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급되는 레이저 펄스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제1증폭매질(221a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(221a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226a)는 상기 제1증폭매질(221a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(221a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(221a)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.
그리고 상기 제1증폭매질(221a)은 상기 제1빔스플리터(223a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제1증폭 된다.
상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a) 및 상기 제1증폭매질(221a)과 동일 축 상에 배치된다. 또한 상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a)와 상기 제1증폭매질(221a)을 사이에 두고 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(221a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(222a)는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a)에 의해 다시 한번 증폭 시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다.
이 때 상기 제1증폭매질(221a)과 상기 제1미러(222a) 사이에는 제1웨이브플레이트(224a)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)을 통과한 후, 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1웨이브플레이트(224a)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(224a)는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1증폭매질(221a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(223a)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.
상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭매질(221a)로 되돌아 가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.
상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)의 경로가 90도 변경된 일측에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(222b)에서 반사된다. 상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 반사되도록 배치된다.
상기 제2웨이브플레이트(224b) 상기 제2미러(222b)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 위상을 변경한다. 이 때 상기 제2웨이브플레이트(224b)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와는 달리 하프 웨이브플레이트(HWP, Half Wave Plate)로 형성된다. 즉 상기 제2웨이브플레이트(224b)로 공급 되는 레이저 펄스는 S파 이고, 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스는 파의 위상이 1/2파장 변경되어 P파가 된다. 이는 상기 제2미러(224b)에서 반사된 레이저 펄스가 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 사이에 두고 상기 제2미러(224b)와 대향하도록 배치되는 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하도록 하기 위함이다.
상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)와 상기 제2증폭매질(221b) 사이에 배치된다. 상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스가 P파이므로 반사하지 않고 투과시킨다.
상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2빔스플리터(223b)와 상기 제2웨이브플레이트(224b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2미러(222b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.
상기 제2증폭매질(221b)은 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하여 공급되는 레이저 펄스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭매질(221b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭매질(221b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭매질(221b)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭매질(221b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(221b)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제2증폭매질(221b)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.
상기 제3미러(222c)는 상기 제2증폭매질(221b)을 통과하면서 제3등폭된 레이저 펄스를 반사하여 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 되돌아 가도록 하는 역할을 한다. 이 때 상기 제3미러(222c)와 상기 제2증폭매질(221b) 사이에는 제3웨이브플레이트(224c)가 배치된다. 상기 제3웨이브플레이트(224c)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와 같이 쿼터 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제2증폭매질(221b)로부터 상기 제3미러(222c)로 진행하면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경되고, 상기 제3미러(222c)에서 상기 제2증폭매질(221b)로 되돌아 오면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경된다. 그리고 상기 제2증폭매질(221b)을 통과한 후, 상기 제3웨이브플레이트(224c)를 통과하여 상기 제3미러(222c)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제3미러(222c)에 반사되어 상기 제3웨이브플레이트(224c)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제2증폭매질(221b)로 돌아오는 상기 레이저 펄스는 P파에서 S파로 파형이 변경된다.
상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제3미러(222c)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b)을 통과하여 제4증폭되는 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 상기 제2빔스플리터(223b)에서 반사되어 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(223b)의 일측에 배치되는 제4미러(222d)에 반사되어 출력된다.
본 실시예에 따른 장치(200)는 도 4에 따른 장치(100)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 한 번이 적지만 도 1에 따른 장치(100) 보다 구조가 간단한 장점이 있다. 또한 4회의 증폭이 있으므로 상기 레이저 생성부(210)에서 생성된 낮은 에너지의 레이저 펄스를 충분히 큰 에너지를 갖는 레이저 펄스로 증폭이 가능하다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(300)는 레이저 생성부(310), 레이저 증폭부(320) 및 제어부(330)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(310) 및 상기 제어부(330)는 상기 도 4에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사하므로 설명을 생략한다.
상기 레이저 증폭부(320)는 제1빔스플리터(323a), 제1증폭매질(321a), 제1미러(322a), 제2미러(322b), 제1렌즈(325a), 제2렌즈(325b), 제2증폭매질(321b), 제1펌핑 램프(326), 제2빔스플리터(323b), 제1웨이브플레이트(324), 제3미러(322c) 및 제4미러(322d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 1에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(323a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 4에 따른 레이저 생성부(110) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(323a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(323a)는 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 펄스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(323a)의 배치는 변경될 수 있다.
상기 제1증폭매질(321a)은 상기 레이저 생성부(310)로부터 공급되는 레이저 펄스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭매질(321a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(321a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭매질(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(321a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(321a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(321a)의 종류, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.
그리고 상기 제1증폭매질(321a)은 상기 제1빔스플리터(323a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(323a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(321a)을 통과하면서 제1증폭 된다.
상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 사이에 두고 상기 제1빔스플리터(323a)와 대향하도록 배치된다. 상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다.
상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)에 의해 경로가 변경된 레이저 펄스를 반사하여 다시 경로를 변경시킨다. 상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)의 일측에 배치된다.
상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스를 제2증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제1증폭매질(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭매질(321b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭매질(321b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭매질(321b)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(321b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(321b)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(321b)의 종류, 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.
그리고 상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제2미러(322b)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제2미러(322b)에서 반사된 상기 레이저 펄스는 상기 제2증폭매질(321b)을 통과하면서 제2증폭 된다.
상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)와 상기 제2증폭매질(321b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.
상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭매질(321b)을 사이에 두고 상기 제2미러(322b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭된 레이저 펄스가 P파 이므로 투과시킨다.
상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다. 상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 사이에 두고 상기 제2증폭매질(321b)과 대향하도록 배치된다.
상기 제1웨이브플레이트(324)는 상기 제2빔스플리터(323b)와 상기 제3미러(322c) 사이에 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)는 하프 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하는 레이저 펄스는 파형이 P파에서 S파로 변경된다.
상기 제3미러(322c)는 상기 제1웨이브플레이트(324)를 사이에 두고 상기 제2빔스플리터(323b)와 대향하도록 배치된다. 또한 상기 제3미러(322c)는 상기 제1빔스플리터(323a)의 일측에 배치된다. 상기 제3미러(322c)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(323a)로 되돌아가서 반사된다. 상기 제1빔스플리터(323a)에서 반사된 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(321a)로 향한다.
상기 제1증폭매질(321a)을 통과하면서 제3증폭 되는 레이저 펄스는 상기 제1미러(322a)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1미러(322a)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제2미러(322b)에 반사되어 경로가 바뀌면서 상기 제2증폭매질(321b)로 향한다.
상기 제2증폭매질(321b)을 통과하면서 제4증폭되는 레이저 펄스는 제2빔스플리터(323b)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하면서 파형이 S파로 변경되었기 때문에 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과하지 못하고 반사되어 경로가 변경된다.
상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)의 일측에 배치된다. 상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)에서 반사되는 레이저 펄스의 경로를 변경하여 출력한다.
본 실시예에 따른 장치(300)는 도 4에 따른 장치(200)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 동일하면서도 웨이브플레이트의 수가 도 4에 따른 장치(200) 보다 작아 구조가 간단하면서도 증폭 효율이 좋은 장점이 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허 청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
100, 200, 300,: 피부 치료용 레이저 장치
110, 210, 310: 레이저 생성부
111: 제1레이저 생성부
111a: 제1다이오드 레이저 드라이버
111b: 제1다이오드 레이저
112: 제2레이저 생성부
112a: 제2다이오드 레이저 드라이버
112b: 제2다이오드 레이저
120, 220, 320: 레이저 증폭부
121a, 221a, 321a: 제1증폭매질
121b, 221b, 321b: 제2증폭매질
121c: 제3증폭매질
121d: 제4증폭매질
122a, 222a, 322a: 제1미러
122b, 222b, 322b: 제2미러
122c, 222c, 322c: 제3미러
122d, 222d, 322d: 제4미러
122e: 제5미러
122f: 제6미러
122g: 제7미러
122h: 제8미러
123a, 223a, 323a: 제1빔스플리터
223b, 323b: 제2빔스플리터
124a, 224a, 324a: 제1웨이브플레이트
224b: 제2웨이브플레이트
224c: 제3웨이브플레이트
125a, 225a, 325a: 제1렌즈
125b, 225b, 325b: 제2렌즈
126a, 226, 326: 제1펌핑 램프
126b: 제2펌핑 램프
127: 2차 조화파 발생장치
130, 230, 330: 제어부

Claims (9)

  1. 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 다이오드 레이저 생성부;
    상기 다이오드 레이저 생성부로부터 전달되는 상기 다이오드 레이저 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부; 및
    상기 다이오드 레이저 생성부 및 상기 레이저 증폭부를 제어하여, 상기 레이저 증폭부에서 출력되는 펄스의 지속시간을 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 다이오드 레이저 생성부는,
    상기 다이오드 레이저 펄스를 생성하는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저; 및
    상기 다이오드 레이저에 각각 대응되도록 배치되며, 상기 다이오드 레이저에서 생성된 다이오드 레이저 펄스들을 서로 다른 지속시간을 가지는 펄스들로 가변시키는 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버를 포함하는,
    피부 치료용 레이저 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저는,
    복수 개의 다이오드 레이저들이며,
    상기 복수 개의 다이오드 레이저들은 서로 다른 파장의 다이오드 레이저 펄스를 생성하는,
    피부 치료용 레이저 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저는,
    제1다이오드 레이저 및 제2다이오드 레이저를 포함하며,
    상기 한 개 또는 복수 개의 다이오드 레이저 드라이버는,
    상기 제1다이오드 레이저로부터 생성된 다이오드 레이저 펄스의 지속시간을 제1지속시간 내지 제2지속시간으로 가변하는 제1다이오드 레이저 드라이버; 및
    상기 제2다이오드 레이저로부터 생성된 다이오드 레이저 펄스의 지속시간을 제3지속시간 내지 제4지속시간으로 가변하는 제2다이오드 레이저 드라이버를 포함하고,
    상기 제3지속시간 및 상기 제4지속시간은, 상기 제1지속시간 및 상기 제2지속시간보다 큰,
    피부 치료용 레이저 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 레이저 증폭부는,
    상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
    상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러;
    상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
    통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트;
    상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
    상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질;
    상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
    상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제2미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러;
    상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 제3증폭매질 방향으로 보내는 제4미러;
    상기 제4미러에서 공급 받은 펄스를 제4증폭하는 제3증폭매질;
    상기 제3증폭매질을 사이에 두고 상기 제4미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3증폭매질을 통과하면서 제4증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제5미러;
    상기 제5미러에서 경로가 조절된 펄스를 제4증폭매질 방향으로 보내는 제6미러;
    상기 제6미러에서 공급 받은 펄스를 제5증폭하는 제4증폭매질;
    상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질에 빛을 비추는 제2펌핑 램프; 및
    상기 제4증폭매질을 사이에 두고 상기 제6미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제4증폭매질을 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제7미러를 포함하며,
    상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
    피부 치료용 레이저 장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 제3미러와 상기 제4미러 사이에 배치되고, 상기 제3미러에서 반사된 펄스의 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
    피부 치료용 레이저 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 레이저 증폭부는,
    상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
    상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러;
    상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
    통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트;
    상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
    상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질;
    상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
    상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스가 반사되어 상기 제2증폭매질 방향으로 되돌아 가도록 배치되는 제3미러;
    상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제3미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제4증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제2빔스플리터;
    통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되는 제3웨이브플레이트; 및
    상기 제2미러에서 반사된 펄스는 상기 제2빔스플리터를 통하여 상기 제2증폭매질로 공급되고, 상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2미러에서 반사되어 상기 제2빔스플리터로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제2웨이브플레이트를 포함하며,
    상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
    피부 치료용 레이저 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 제2빔스플리터와 상기 제2웨이브플레이트 사이에 배치되고, 상기 제2웨이브플레이트에서 편광 또는 위상이 변경된 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
    피부 치료용 레이저 장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 레이저 증폭부는,
    상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
    상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스의 경로를 조절하는 제1미러;
    상기 제1미러에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
    상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러에서 공급 받은 펄스를 제2증폭하는 상기 제2증폭매질;
    상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
    상기 제2증폭매질에서 제2증폭된 펄스를 통과시키는 제2빔스플리터;
    상기 제2빔스플리터를 사이에 두고 상기 제2증폭매질과 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제2증폭되어 상기 제2빔스플리터를 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러;
    상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2빔스플리터를 통과하여 상기 제3미러로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제1웨이브플레이트;
    상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
    상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스는 제1증폭매질을 통과하여 제3증폭되고, 상기 제3증폭된 펄스는 상기 제1미러에서 경로가 조절되어 상기 제2미러 방향으로 향하며, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스는 상기 제2증폭매질 방향으로 향하고, 상기 제2증폭매질을 통과하여 제4증폭된 펄스는 상기 제2빔스플리터에서 경로가 조절되어 송출되며,
    상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
    피부 치료용 레이저 장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되고, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
    피부 치료용 레이저 장치.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150245870A1 (en) * 2006-08-02 2015-09-03 Cynosure, Inc. Picosecond Laser Apparatus And Methods For Its Operation and Use
KR101576870B1 (ko) * 2014-06-25 2015-12-21 주식회사 루트로닉 피부용 레이저 장치
KR101861286B1 (ko) * 2016-12-12 2018-05-25 주식회사 에이에이치티 파장선택이 가능한 발광소자 모듈을 포함하는 피부치료시스템
KR101898632B1 (ko) 2017-04-19 2018-09-13 주식회사 이오테크닉스 레이저 증폭 장치
KR101915757B1 (ko) * 2016-12-28 2018-11-06 주식회사 라이콤 저반복 광펄스 레이저 및 그 구동방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150245870A1 (en) * 2006-08-02 2015-09-03 Cynosure, Inc. Picosecond Laser Apparatus And Methods For Its Operation and Use
KR101576870B1 (ko) * 2014-06-25 2015-12-21 주식회사 루트로닉 피부용 레이저 장치
KR101861286B1 (ko) * 2016-12-12 2018-05-25 주식회사 에이에이치티 파장선택이 가능한 발광소자 모듈을 포함하는 피부치료시스템
KR101915757B1 (ko) * 2016-12-28 2018-11-06 주식회사 라이콤 저반복 광펄스 레이저 및 그 구동방법
KR101898632B1 (ko) 2017-04-19 2018-09-13 주식회사 이오테크닉스 레이저 증폭 장치

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