KR20190101019A - Manufacturing method for metal mesh transparent electrode for touch screen - Google Patents

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KR20190101019A
KR20190101019A KR1020180020895A KR20180020895A KR20190101019A KR 20190101019 A KR20190101019 A KR 20190101019A KR 1020180020895 A KR1020180020895 A KR 1020180020895A KR 20180020895 A KR20180020895 A KR 20180020895A KR 20190101019 A KR20190101019 A KR 20190101019A
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박수돈
강희철
윤신혁
김치우
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(주)아이에스엘
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a metal mesh transparent electrode for a touch screen using a nanomicro composite structure. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a touch panel forming all sensors sensing X and Y axes on one surface of one resin layer, wherein the sensors sensing X and Y axes cross each other, but the sensors are electrically insulated not to interfere each other.

Description

나노마이크로 복합 구조물을 이용한 터치 스크린용 메탈 메쉬 투명 전극 제조 방법{MANUFACTURING METHOD FOR METAL MESH TRANSPARENT ELECTRODE FOR TOUCH SCREEN}Manufacturing method of metal mesh transparent electrode for touch screen using nanomicro composite structure {MANUFACTURING METHOD FOR METAL MESH TRANSPARENT ELECTRODE FOR TOUCH SCREEN}

본 발명은 메탈 메쉬 투명 전극 제조 방법에 관한 것이다. 보다 자세하게는 나노마이크로 복합 구조물을 이용한 터치 스크린용 메탈 메쉬 투명 전극 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing a metal mesh transparent electrode. More specifically, the present invention relates to a method of manufacturing a metal mesh transparent electrode for a touch screen using a nanomicro composite structure.

최근 액정 표시 장치 또는 유기 발광 장치 등과 같은 영상 표시 장치에 직접 손가락이나 펜을 이용하여 직접 정보를 입력할 수 있는 터치 패널이 휴대 단말기를 비롯한 다양한 분야에서 적용되고 있다.Recently, a touch panel capable of directly inputting information using a finger or a pen to an image display device such as a liquid crystal display or an organic light emitting device has been applied in various fields including a portable terminal.

터치 패널은 저항막 방식(resistive type), 정전 용량 방식(capacitive type), 등이 있으나, 저항막 방식은 조작이 불편하고 위치 인식이 정확하지 못한 단점이 있어 정전 용량 방식이 주로 이용되고 있다.The touch panel includes a resistive type, a capacitive type, and the like, but the resistive type has a disadvantage in that it is inconvenient to operate and inaccurate position recognition.

정전 용량방식은 손가락이나 펜이 터치하면 그 터치 영역에서의 정전 용량이 변경되는 것을 감지하여 사용자의 터치를 인식하는 방식이다. 정전 용량 방식은 반응시간이 빠르고 투과성이 우수하여 최근의 터치 패널에 많이 이용되고 있다.In the capacitive method, when a finger or a pen touches, the capacitive method detects a change in capacitance in the touch area and recognizes a user's touch. The capacitive type is widely used in recent touch panels because of the fast response time and excellent permeability.

정전 용량 방식의 터치 패널의 경우 부착형(Add-on), 커버 윈도우 일체형 및 디스플레이 일체형 등의 종류가 사용되고 있다.In the case of a capacitive touch panel, types such as an add-on, a cover window type, and a display type are used.

이 중 필름전극방식의 GFF(Glass - ITO Film - ITO Film) 구조는 글레스(Glass) 1장과 ITO 필름 2장을 사용하며 2장의 ITO 필름에 X축 및 Y축 감지용 미세 전극 패턴을 패터닝(Patterning)하여 글레스에 붙이는 방식이다. GFF 구조는 오랜 기간 동안 검증된 기술로서 안정적이고 최근 ITO 필름 가격의 하락으로 제조 단가가 저렴하게 터치 패널을 생성할 수 있지만, 투명도 등의 광학적 특정은 떨어진다는 문제점이 있다. 또한, ITO 박막의 높은 시트 저항으로 대면적 터치 센서의 제작이 어렵고 무엇보다 2 장의 투명 전도성 필름을 사용하는 결과 두께 구현의 한계가 있다는 단점이 있다.Among these, the film electrode type GFF (Glass-ITO Film-ITO Film) structure uses one glass and two ITO films and patterns the fine electrode pattern for X-axis and Y-axis sensing on two ITO films. Patterning) to attach to the glass. GFF structure is a technology that has been proven for a long time is stable and the touch panel can be produced inexpensively due to the recent drop in the price of ITO film, but there is a problem in that the optical specification such as transparency is inferior. In addition, due to the high sheet resistance of the ITO thin film, it is difficult to manufacture a large-area touch sensor, and above all, there are limitations in implementing a thickness as a result of using two transparent conductive films.

대한민국 공개특허 제10-2012-0101763호는 터치스크린패널 표시장치에 관한 것으로서, GFF 및 GG 타입의 정전 용량 방식을 개선하기 위해 DPW 기술을 응용한 터치스크린패널 표시장치에 관한 것이다. 다만, 선행문헌의 경우 복수의 ITO 필름이 형성되기 때문에 터치 패널의 두께가 두꺼워진다는 문제점이 있다.Republic of Korea Patent Publication No. 10-2012-0101763 relates to a touch screen panel display device, and relates to a touch screen panel display device using the DPW technology to improve the capacitive method of the GFF and GG type. However, in case of the prior document, since a plurality of ITO films are formed, there is a problem that the thickness of the touch panel becomes thick.

대한민국 공개특허 제10-2012-0101763호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2012-0101763

본 발명은 하나의 수지층에 터치 위치의 X축과 Y축을 식별할 수 있는 전극을 모두 형성하는 터치패널 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a touch panel in which both electrodes for identifying the X and Y axes of the touch position are formed in one resin layer.

또한, 본 발명은 수지층의 동일면 상에 X축과 Y축을 식별할 수 있는 전극을 모두 형성하는 터치패널을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a touch panel which forms both electrodes capable of identifying the X and Y axes on the same surface of the resin layer.

더 나아가, 본 발명은 X축 및 Y축의 미세 전극 패턴이 서로 전기적으로 간섭하지 않고 교차할 수 있는 터치패널을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Furthermore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a touch panel in which the fine electrode patterns of the X-axis and the Y-axis can intersect without electrically interfering with each other.

이를 위하여 본 발명은 수지층 상면에 하나 이상의 수직 감지전극 및 수직 감지전극과 전기적으로 절연되는 교차 영역을 가지는 복수의 제 1 및 제 2 수평 감지전극을 형성하는 단계, 마스크를 통해 교차 영역 상면에 제 1 절연부를 형성하고 제 1 에칭 처리하는 단계, 제 1 에칭 처리된 영역에 제 1 전도부를 형성하는 단계, 마스크를 통해 제 1 전도부 상면에 제 2 절연부를 형성하고 제 2 에칭 처리하는 단계 및 제 2 에칭 처리된 영역에 제 2 전도부를 형성하는 단계를 포함한다.To this end, the present invention comprises the steps of forming a plurality of first and second horizontal sensing electrodes having at least one vertical sensing electrode and a cross region electrically insulated from the vertical sensing electrode on the upper surface of the resin layer; Forming an insulator and first etching, forming a first conductor in the first etched region, forming a second insulator on the top of the first conductor through a mask and performing a second etch; Forming a second conductive portion in the etched region.

본 발명에 따르면 하나의 수지층에 X축 및 Y축을 각각 인식하는 수직 감지전극과 제 1 및 제 2 수평 감지전극이 형성되기 때문에 하나의 터치 패널 수지층 상면에 X축과 Y축을 모두 식별할 수 있는 바, 터치 패널의 두께를 얇게 형성할 수 있다.According to the present invention, since the vertical sensing electrode and the first and second horizontal sensing electrodes which recognize the X and Y axes, respectively, are formed in one resin layer, both the X and Y axes can be identified on the upper surface of the one touch panel resin layer. As a result, the thickness of the touch panel can be made thin.

더 나아가, X축 및 Y축이 동일 면 상에 형성되고 서로 교차되도록 구비되지만, 각 감지전극이 서로 전기적으로 절연되어 서로 간섭하지 않기 때문에 효과적으로 정전기 발생을 감지할 수 있다.Furthermore, although the X-axis and the Y-axis are formed on the same surface and provided to cross each other, since the sensing electrodes are electrically insulated from each other and do not interfere with each other, the generation of static electricity can be effectively detected.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법의 수지층의 터치 감지를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법의 수지층을 나타낸 도면이다.
도 4 내지 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
1 is a diagram illustrating a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a view showing the touch sensing of the resin layer of the manufacturing method of the touch panel according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing a resin layer of a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention.
4 to 14 are flowcharts illustrating a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한 도면에서 본 발명을 명확하게 개시하기 위해서 본 발명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 도면에서 동일하거나 유사한 부호들은 동일하거나 유사한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In addition, in order to clearly disclose the present invention, parts not related to the present invention are omitted, and the same or similar reference numerals denote the same or similar elements in the drawings.

본 발명의 목적 및 효과는 하기의 설명에 의해서 자연스럽게 이해되거나 보다 분명해질 수 있으며, 하기의 기재만으로 본 발명의 목적 및 효과가 제한되는 것은 아니다.The objects and effects of the present invention may be naturally understood or more apparent from the following description, and the objects and effects of the present invention are not limited only by the following description.

본 발명의 목적, 특징 및 장점은 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명하기로 한다.The objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description. In addition, in describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the known technology related to the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법은 수지층(11) 상면에 일축 방향으로 하나 이상의 수직 감지전극(110)을 형성하고, 수직 감지전극(110)과 전기적으로 절연되는 교차 영역을 가지는 복수의 제 1 및 제 2 수평 감지전극(130)을 형성하는 단계, 마스크를 통해 교차 영역 상면에 제 1 절연부(210)를 형성하고 제 1 에칭 처리하는 단계, 제 1 에칭 처리된 영역에 제 1 전도부(310)를 형성하는 단계, 마스크를 통해 제 1 전도부(310) 상면에 제 2 절연부(410)를 형성하고 제 2 에칭 처리하는 단계 및 제 2 에칭 처리된 영역에 제 2 전도부(320)를 형성하는 단계를 포함한다.In the method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention, one or more vertical sensing electrodes 110 are formed on the upper surface of the resin layer 11 in one axial direction, and an intersecting region electrically insulated from the vertical sensing electrodes 110. Forming a plurality of first and second horizontal sensing electrodes 130, forming a first insulating portion 210 on the cross region through a mask, and performing a first etching process on the first etched region. Forming the first conductive portion 310, forming a second insulating portion 410 on the upper surface of the first conductive portion 310 through a mask, and performing a second etching process, and forming a second conductive portion in the second etched region. Forming 320).

여기서, 제 1 전도부(310)와 제 2 전도부(320)는 제 1 수평 감지전극(120)과 제 2 수평 감지전극(130)을 전기적으로 연결하는 브리지부(300)이다. 또한, 브리지부(300)를 통해 제 1 수평 감지전극(120)과 제 2 수평 감지전극(130)이 서로 전기적으로 연결될 수 있도록 제 2 절연부(410)는 제 1 절연부(210)와 교차하지 않도록 한다.Here, the first conductive part 310 and the second conductive part 320 are a bridge part 300 that electrically connects the first horizontal sensing electrode 120 and the second horizontal sensing electrode 130. In addition, the second insulation portion 410 crosses the first insulation portion 210 so that the first horizontal sensing electrode 120 and the second horizontal sensing electrode 130 are electrically connected to each other through the bridge portion 300. Do not do it.

한편, 수직 감지전극(110)이 하나 구비되는 경우, 제 1 절연부(210)의 길이는 수직 감지전극(110)의 중심에서부터 측벽까지의 거리보다 길게 구비된다.Meanwhile, when one vertical sensing electrode 110 is provided, the length of the first insulating part 210 is longer than the distance from the center of the vertical sensing electrode 110 to the side wall.

한편, 수직 감지전극(110)이 복수개로 구비되는 경우, 제 1 절연부(210)는 복수개의 수직 감지전극(110)의 중심에서부터 가장 먼 거리에 위치하는 측벽까지의 거리보다 길게 구비된다.On the other hand, when a plurality of vertical sensing electrodes 110 are provided, the first insulating portion 210 is provided longer than the distance from the center of the plurality of vertical sensing electrodes 110 to the side wall located at the farthest distance.

또한, 제 2 전도부(320)는 제 1 절연부(210)의 중심에서부터 측벽까지의 거리보다 길게 구비된다.In addition, the second conductive portion 320 is provided longer than the distance from the center of the first insulating portion 210 to the side wall.

따라서, 수직하는 방향으로 구비되는 수직 감지전극(110)과 수직 감지전극(110)을 사이에 두고 수평하는 방향으로 구비되는 제 1 및 제 2 수평 감지전극(130)은 서로 전기적으로 연결되지 않는다. 상세하게, 수직 감지전극(110)을 사이에 위치시키는 제 1 및 제 2 수평 감지전극(130)은 브리지부(300)를 통해 서로 전기적으로 연결되기 때문에 제 1 및 2 수평 감지전극(120, 130)은 수직 감지전극(110)과 동일한 평면 상에 위치하더라도 서로 간섭 없이 전기적으로 연결될 수 있다.Therefore, the vertical sensing electrode 110 provided in the vertical direction and the first and second horizontal sensing electrodes 130 provided in the horizontal direction with the vertical sensing electrode 110 interposed therebetween are not electrically connected to each other. In detail, the first and second horizontal sensing electrodes 130 having the vertical sensing electrode 110 interposed therebetween are electrically connected to each other through the bridge part 300, and thus, the first and second horizontal sensing electrodes 120 and 130. ) May be electrically connected to each other without interference with the vertical sensing electrode 110.

본 발명의 수지층(11)에 형성되는 감지전극(110, 120, 130)은 전도성 물질로 구비될 수 있다. 일례로 ITO(Indium-Tim Oxide, 인-주석 산화물) 등으로 구비될 수 있다. 상세하게, ITO는 투명한 재질로서 PDP, LCD 등의 디스플레이 패널에 주로 사용되고, ITO필름의 경우 투명한 상태로 형성되기 때문에 다양한 형태로 사용될 수 있다. 터치패널은 사용자가 터치패널은 터치함으로써 발생되는 정전기를 감지하여 터치된 위치를 특정할 수 있도록 단일 또는 복수의 ITO 필름의 구조를 가진다. 보다 구체적으로 이러한 ITO 필름은 일축(X축) 또는 타축(Y축) 방향으로 감지전극이 형성되는데, 복수개의 ITO필름을 사용하는 경우 각 ITO 필름에 일축 또는 타축 방향의 감지전극을 각각 형성하여 이를 감지하거나, 하나의 ITO필름을 사용하는 경우는 ITO필름의 전면 및 후면에 각각 일축 및 타축 방향의 감지전극을 형성하여 사용자의 터치를 감지한다. 여기서, ITO필름은 필름의 매수를 줄여 보다 효과적이고 적은 부피를 갖는 필름이 보다 진보적이다. 다만, 상술한 일면 및 후면에 각각 감지전극이 형성되는 구조 외에, 일면에 일축 및 타축 감지전극이 모두 형성되는 경우, 일축 및 타축 감지전극이 서로 전류가 흐르거나, 간섭이 발생할 수 있어 많은 문제점이 발생한다. 본 발명에서는 위와 같은 문제점을 해결하기 위해 ITO 필름의 일면에 일축 및 타축 감지전극을 모두 형성하지만, 감지전극끼리 전류가 흐르지 않아 서로 간섭하지 않는 구조의 ITO 필름 및 제조방법을 제공한다.The sensing electrodes 110, 120, and 130 formed on the resin layer 11 of the present invention may be formed of a conductive material. For example, it may be provided with ITO (Indium-Tim Oxide, phosphorus-tin oxide). In detail, ITO is mainly used in display panels such as PDP and LCD as a transparent material, and ITO film may be used in various forms because it is formed in a transparent state. The touch panel has a structure of a single or a plurality of ITO films so that a user can detect the static electricity generated by touching the touch panel to specify the touched position. More specifically, such an ITO film has a sensing electrode formed in one axis (X axis) or another axis (Y axis). When using a plurality of ITO films, a sensing electrode in one axis or another axis is formed on each ITO film. In the case of using one ITO film, a user's touch is sensed by forming sensing electrodes in one axis and the other axis in the front and rear surfaces of the ITO film, respectively. Here, the ITO film is more effective and the film having a smaller volume is more advanced by reducing the number of films. However, in addition to the structure in which the sensing electrodes are formed on the one side and the rear surface, respectively, when both the uniaxial and the other axis sensing electrodes are formed on one side, the uniaxial and the other axis sensing electrodes may flow current with each other, or interference may occur. Occurs. In the present invention, in order to solve the above problems, both uniaxial and axial sensing electrodes are formed on one surface of the ITO film, but the sensing electrodes provide a structure of the ITO film and a manufacturing method that do not interfere with each other because current does not flow.

이제부터 각 단계 별로 도 4 내지 도 14를 참고하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.Now, each step will be described in more detail with reference to FIGS. 4 to 14.

도 4를 참고하면, 수지층(11) 상면에 수직 감지전극(110) 및 수직 감지전극(110)과 전기적으로 절연되는 교차 영역을 가지는 제 1 및 2 수평 감지전극(120, 130)을 형성하는 방법은 주형(20)을 가압하여 형성할 수 있다. 상세하게 기재(10) 상면에 수지층(11)을 형성하고, 그 위에 패턴이 형성된 주형(20)을 가압한 뒤 이를 경화시켜 수지층(11)에 패턴을 형성할 수 있다. 도 4의 <a>의 경우 기재(10)와 수지층(11)를 모두 표현했지만, 기판 상면에 수지를 형성하는 것을 일반 적인 기술로서, 보다 직관적인 설명을 위하여 앞으로 설명하는 기재(10) 및 수지층(11)에서는 기재(10)를 생략하여 설명하기로 한다. 다만, 후술하는 수지층(11)은 기재(10)와 함께 설명하지 않지만, 후술하는 수지층(11)은 기재(10) 상면에 형성되는 수지층(11)인 것이다.Referring to FIG. 4, the first and second horizontal sensing electrodes 120 and 130 having cross regions electrically insulated from the vertical sensing electrode 110 and the vertical sensing electrode 110 are formed on the upper surface of the resin layer 11. The method may be formed by pressing the mold 20. In detail, the resin layer 11 may be formed on the upper surface of the substrate 10, and the mold 20 having the pattern formed thereon may be pressed and cured to form a pattern on the resin layer 11. In the case of <a> of FIG. 4, both the substrate 10 and the resin layer 11 are represented, but forming the resin on the upper surface of the substrate is a general technique, and the substrate 10 and the following will be described for more intuitive description. In the resin layer 11, the base material 10 is abbreviate | omitted and demonstrated. However, although the resin layer 11 mentioned later is not demonstrated with the base material 10, the resin layer 11 mentioned later is the resin layer 11 formed in the upper surface of the base material 10. As shown in FIG.

그 다음, 주형(20)으로 인해 패턴된 홈에 전도체(100)를 주입하여 경화시킨다.Then, the conductor 100 is injected into the groove patterned by the mold 20 and cured.

이때, 패턴된 홈에 전도체(100)를 주입하여 경화시키는 방법으로서, 패턴된 홈에 전도체(100)를 도포한 뒤, 이를 블레이드(30)를 통해 밀어내는 방법으로 전도체(100)를 주입할 수 있다, 따라서, 상술한 바와 같이 패턴된 홈에 전도체(100)를 주입하여 경화시키게 되면, 패턴된 홈을 따라 전류가 흐르게 된다.In this case, as a method of injecting and curing the conductor 100 into the patterned groove, the conductor 100 may be injected by applying the conductor 100 to the patterned groove and then pushing it through the blade 30. Therefore, when the conductor 100 is injected into the patterned groove and cured, the current flows along the patterned groove.

도 5 내지 도 7을 참고하면, 그 다음 마스크를 통해 수직 감지전극(110) 및 수평 감지전극이 서로 교차하는 교차 영역의 상면에 제 1 절연부(210)를 형성하고 제 1 에칭 처리한다.5 to 7, a first insulating part 210 is formed on the upper surface of an intersection area where the vertical sensing electrode 110 and the horizontal sensing electrode cross each other through a mask, and a first etching process is performed.

상세게는 빛에 의해 성질이 변화하는 감광물질을 도포하여 제 1 감광층(200)을 형성한다. 그 다음, 제 1 강괌층 상면에 미리 패턴된 제 1 마스크(M1)를 노광시켜 제 1 마스크(M1)의 패턴에 대응되는 위치의 제 1 감광층(200)을 경화시킨다. 그리고 경화되지 않은 제 1 감광층(200)에 제 1 에칭 처리를 하여 경화된 제 1 감광층(200) 만을 남겨둔 채 현상한다. 따라서, 제 1 에칭 처리를 하는 부분은 제 1 감강층(200) 중 제 1 마스크(M1)에 노광 되지 않아 경화되지 않은 제 1 감광층(200)을 일컫는다.In detail, the first photosensitive layer 200 is formed by coating a photosensitive material whose properties are changed by light. Next, the first mask M1 patterned in advance on the upper surface of the first steel Guam layer is exposed to cure the first photosensitive layer 200 at a position corresponding to the pattern of the first mask M1. In addition, the first etching process is performed on the uncured first photosensitive layer 200 to develop while leaving only the hardened first photosensitive layer 200. Accordingly, the portion to be subjected to the first etching treatment refers to the first photosensitive layer 200 which is not exposed to the first mask M1 and is not cured in the first photosensitive layer 200.

이때, 경화된 제 1 감광층(200)은 전류가 흐르지 않는 절연체로 구비되고, 이를 제 1 절연부(210)라 정의한다.In this case, the cured first photosensitive layer 200 is provided as an insulator through which no current flows, and this is defined as a first insulator 210.

또한, 제 1 절연부(210)는, 수직 감지전극(110)의 중심에서부터 가장 먼 거리에 위치하는 수직 감지전극(110)의 측벽까지의 거리보다 길게 구비된다.In addition, the first insulation unit 210 is provided longer than the distance from the center of the vertical sensing electrode 110 to the side wall of the vertical sensing electrode 110 located at the longest distance.

구체적으로, 제 1 절연부(210)는 수직 감지전극(110)의 상면에 형성되어 또 다른 수직 감지전극(110), 수평 감지전극 및 제 1 전도부(310)와 전기적으로 연결되거나, 간섭하지 않도록 구비하는 것이 바람직하다. 보다 구체적으로, 제 1 절연부(210)는 수직 감지전극(110)의 상면에 형성되어 수직 감지전극(110)의 상면이 노출되지 않도록 밀폐시켜 차폐되도록 형성한다.Specifically, the first insulation unit 210 is formed on the upper surface of the vertical sensing electrode 110 so as not to be electrically connected to or interfere with another vertical sensing electrode 110, the horizontal sensing electrode, and the first conducting unit 310. It is preferable to provide. More specifically, the first insulation unit 210 is formed on the upper surface of the vertical sensing electrode 110 to be sealed to shield the upper surface of the vertical sensing electrode 110 from being exposed.

이때, 도 3을 참고하면, 수직 감지전극(110)이 하나 구비되는 경우, 제 1 절연부(210)의 길이 값(L2)은 수직 감지전극(110)의 중심(T)을 기준으로 양 측벽까지의 거리 값(L1) 보다 길게 구비된다.In this case, referring to FIG. 3, when one vertical sensing electrode 110 is provided, the length value L2 of the first insulation unit 210 may be defined by both sidewalls of the center T of the vertical sensing electrode 110. It is provided longer than the distance value L1.

또한, 수직 감지전극(110)이 복수개 구비되는 경우, 제 1 절연부(210)의 길이 값(L2)은 복수개의 수직감지 전극의 중심(T)을 기준으로, 중심(T)으로부터 가장 먼 거리에 위치하는 양 측벽까지의 거리 값(L1) 보다 더 길게 구비된다.In addition, when a plurality of vertical sensing electrodes 110 are provided, the length value L2 of the first insulation unit 210 is the distance farthest from the center T based on the centers T of the plurality of vertical sensing electrodes. It is provided longer than the distance value (L1) to both side walls located in.

그 다음, 도 8을 참고하면, 제 1 에칭 처리된 영역에 제 1 전도부(310)를 형성한다.Next, referring to FIG. 8, a first conductive portion 310 is formed in the first etched region.

제 1 에칭 처리는 제 1 마스크(M1)를 통해 경화된 제 1 절연부(210)를 제외한 영역에서 이루어졌기 때문에, 제 1 에칭 처리된 영역의 제 1 감광층(200)은 제거된다. 따라서, 제거된 감광층의 영역만큼 홈이 형성되고, 여기에 제 1 전도부(310)를 형성한다.Since the first etching process is performed in a region other than the first insulating portion 210 cured through the first mask M1, the first photosensitive layer 200 in the first etched region is removed. Accordingly, grooves are formed as much as the region of the removed photosensitive layer, and the first conductive portion 310 is formed therein.

여기서, 제 1 전도부(310)를 형성하는 방법은 수직 감지전극(110) 및 수평 감지전극을 형성할 때 사용했던 블레이드(30)를 이용한 도포 및 경화 방법과 동일한 방법이 사용될 수 있다.Here, the method of forming the first conductive portion 310 may be the same method as the coating and curing method using the blade 30 used to form the vertical sensing electrode 110 and the horizontal sensing electrode.

도 9 내지 도 11을 참고하면, 그 다음 마스크를 통해 제 1 전도부(310) 상면에 제 2 절연부(410)를 형성하고 제 2 에칭 처리한다.9 to 11, a second insulating portion 410 is formed on the upper surface of the first conductive portion 310 through a mask and then subjected to a second etching process.

상세하게는 빛에 의해 성질이 변화하는 감광물질을 도포하여 제 2 감광층(400)을 형성한다. 그 다음, 제 2 감광층(400) 상면에 미리 패턴된 제 2 마스크(M2)를 노광시켜 제 2 마스크(M2)의 패턴에 대응되는 위치의 제 2 감광층(400)을 경화시킨다. 그리고 경화되지 않은 제 2 감광층(400)에 제 2 에칭 처리를 하여 경화된 제 2 감광층(400) 만을 남겨두고 현상한다.In detail, the second photosensitive layer 400 is formed by coating a photosensitive material whose properties are changed by light. Next, the second mask M2 patterned in advance on the upper surface of the second photosensitive layer 400 is exposed to cure the second photosensitive layer 400 at a position corresponding to the pattern of the second mask M2. Then, a second etching treatment is performed on the uncured second photosensitive layer 400 to develop, leaving only the hardened second photosensitive layer 400.

따라서, 제 1 에칭 처리되는 부위는 제 2 감광층(400) 중 에서 제 2 마스크(M2)에 의해 노광되어 경화되지 않은 제 2 감광층(400)을 일컫는다.Therefore, the portion to be etched first refers to the second photosensitive layer 400 that is not cured by being exposed by the second mask M2 in the second photosensitive layer 400.

또한, 경화된 제 2 감광층(400)은 전류가 흐르지 않는 절연체로 구비되고, 이를 제 2 절연부(410)라 정의한다.In addition, the cured second photosensitive layer 400 is provided with an insulator through which no current flows, which is defined as a second insulator 410.

그 다음, 도 12를 참고하면, 제 2 에칭 처리된 영역에 제 2 전도부(320)를 형성한다.Next, referring to FIG. 12, a second conductive portion 320 is formed in the second etched region.

제 2 에칭 처리는 제 2 마스크(M2)를 통해 경화된 제 2 절연부(410)를 제외한 영역에서 이루어졌기 때문에, 제 2 에칭 처리된 영역의 제 2 감광층(400)은 제거된다. 따라서, 제거된 감광층의 영역만큼 홈이 형성되고, 여기에 제 2 전도부(320)를 형성한다.Since the second etching treatment is performed in a region except for the second insulating portion 410 cured through the second mask M2, the second photosensitive layer 400 of the second etching treatment region is removed. Accordingly, grooves are formed as much as the region of the removed photosensitive layer, and the second conductive portion 320 is formed therein.

여기서, 제 2 전도부(320)를 형성하는 방법은 수직 감지전극(110) 및 수평 감지전극을 형성할 때 사용했던 블레이드(30)를 이용한 도포 및 경화 방법과 동일한 방법이 사용될 수 있다.Here, the method of forming the second conductive part 320 may be the same method as the coating and curing method using the blade 30 used when forming the vertical sensing electrode 110 and the horizontal sensing electrode.

또한, 도 3을 참고하면, 제 2 전도부(320)의 길이 값(L3)은 제 1 절연부(210)의 중심(T)에서부터 측벽까지의 거리 값(L2) 보다 더 긴 길이로 구비된다.In addition, referring to FIG. 3, the length value L3 of the second conductive part 320 is provided with a length longer than the distance value L2 from the center T of the first insulating part 210 to the side wall.

구체적으로, 제 2 전도부(320)는 제 1 절연부(210) 상면에 위치하고, 그 길이 값(L3)이 제 1 절연부(210)의 길이 값(L2) 보다 더 긴 길이로 구비된다. 따라서, 제 2 전도부(320)의 일단은 제 1 전도부(310)와 전기적으로 연결되고, 타단은 또 다른 제 1 전도부(310)와 전기적으로 연결된다. 보다 상세하게는 제 1 전도 전도부와 또 다른 제 1 전도부(310)를 상면에 형성된 제 2 전도부(320)를 통해 서로 전기적으로 연결할 수 있도록 제 2 전도부(320)의 길이 값(L3)은 제 1 절연부(210)의 중심(T)에서부터 양 측벽까지의 길이 값(L2) 보다 더 긴 길이로 구비하는 것이 바람직하다.In detail, the second conductive part 320 is positioned on the upper surface of the first insulating part 210, and has a length value L3 longer than the length value L2 of the first insulating part 210. Accordingly, one end of the second conductive portion 320 is electrically connected to the first conductive portion 310, and the other end is electrically connected to another first conductive portion 310. More specifically, the length value L3 of the second conductive portion 320 is the first value so that the first conductive conductive portion and another first conductive portion 310 may be electrically connected to each other through the second conductive portion 320 formed on the upper surface thereof. It is preferable to have the length longer than the length value L2 from the center T of the insulation part 210 to both side walls.

따라서, 제 1 전도부(310)와 제 2 전도부(320)는 서로 갖는 길이의 차이 값 만큼 면 접촉 한다. 즉, 제 2 전도부(320)의 길이 값(L3)에서 제 1 전도부(310)의 길이 값(L2)을 뺀 길이 값 만큼 서로 면 접촉 하게된다.Therefore, the first conductive part 310 and the second conductive part 320 are in surface contact with each other by a difference value of the length. That is, the length value L3 of the second conductive part 320 is in contact with each other by the length value obtained by subtracting the length value L2 of the first conductive part 310.

그 다음 도 13 및 도 14와 같이 제 2 전도부(320) 및 제 2 절연부(410) 상면에 또 다른 수지층(G) 또는 유리층(G)을 비롯한 박막층(G)이 더 형성될 수 있다.Then, as shown in FIGS. 13 and 14, a thin film layer G including another resin layer G or a glass layer G may be further formed on the second conductive part 320 and the second insulating part 410. .

본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에 의해 제조된 터치패널은 수지층(11) 상면에 일축을 따라 하나 이상 배열되는 수직 감지전극(110) 및 타축을 따라 제 1 및 제 2 수평 감지전극(130)이 복수개 배열되어 서로 교차되지만, 제 1 수평 감지전극(120)과 제 2 수평 감지전극(130)은 제 1 전도부(310) 및 제 2 전도부(320)로 이루어진 브리지부(300)를 통해 전기적으로 연결된다.The touch panel manufactured by the method for manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention has a vertical sensing electrode 110 and one or more horizontal horizontal lines that are arranged on one or more axes along one axis on an upper surface of the resin layer 11. Although a plurality of sensing electrodes 130 are arranged to intersect with each other, the first horizontal sensing electrode 120 and the second horizontal sensing electrode 130 are formed of a first conductive part 310 and a second conductive part 320. Is electrically connected).

이때, 제 1 전도부(310) 및 제 2 전도부(320)는 동일한 층 선상에 제 1 절연부(210) 및 제 2 절연부(410)를 통해 수직 감지전극(110)과 전기적으로 절연되기 때문에 서로 전기적으로 간섭하지 않는다.In this case, the first conductive part 310 and the second conductive part 320 are electrically insulated from the vertical sensing electrode 110 through the first insulating part 210 and the second insulating part 410 on the same layer line. No electrical interference

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에 의해 제조된 터치패널은 수직 감지전극(110)과 제 1 및 2 수평 감지전극(120, 130)이 하나의 수지층(11)의 일면 상에 형성되기 때문에 터치패널을 보다 얇게 제조할 수 있다. 또한, 동일 면 상에서 모든 제조공정이 이루어지기 때문에 제조 시간을 단축할 수 있고, 제조에 발생하는 비용도 저렴하다는 특징이 있다.Therefore, in the touch panel manufactured by the method for manufacturing the touch panel according to the embodiment of the present invention, the vertical sensing electrode 110 and the first and second horizontal sensing electrodes 120 and 130 are formed of one resin layer 11. Since it is formed on one surface, the touch panel can be manufactured thinner. In addition, since all manufacturing processes are performed on the same surface, manufacturing time can be shortened, and the cost incurred in manufacturing is also low.

더 나아가, 본 발명은 각 층(Layer)이 면 접촉을 하도록 구비되고, 차례대로 층을 형성하기 때문에 내구성이 뛰어나고, 불필요한 위치에 전류가 흐르지 않아, 전류에 간섭영향을 받지 않는다는 특징이 있다.Furthermore, the present invention is characterized in that each layer is provided for surface contact, and in order to form layers in turn, it is excellent in durability, and current does not flow in unnecessary positions, so that the current is not affected by interference.

구체적으로, 제 1 수평 감지전극(120)과 제 2 수평 감지전극(130)은 상면에 접하도록 제 1 전도부(310)가 형성되고, 제 1 전도부(310)는 제 1 수평 감지전극(120) 및 제 2 수평 감지전극(130)과 면 접촉을 하기 때문에 내구성이 뛰어나다. 또한, 제 1 전도부(310)는 제 2 전도부(320)와 면접촉을 하기 때문에 내구성이 뛰어나다. 특히, 플랙시블 디스플레이 패널에 적용되는 ITO필름의 경우 플랙시블 특정 상, 전류가 흐르도록 접하는 부위가 손쉽게 파손될 수 있는데, 본 발명의 경우 제 1 수평 감지전극(120) 및 제 2 수평 감지전극(130)이 층으로 이루어져 서로 면접촉으로 부착되어 형성되는 브리지부(300)로 인하여 내구성이 뛰어나다는 특징이 있다.Specifically, the first horizontal sensing electrode 120 and the second horizontal sensing electrode 130 are formed in contact with the upper surface of the first conductive portion 310, the first conductive portion 310 is the first horizontal sensing electrode 120 And because the surface contact with the second horizontal sensing electrode 130 is excellent in durability. In addition, since the first conductive portion 310 is in surface contact with the second conductive portion 320, the durability is excellent. In particular, in the case of the ITO film applied to the flexible display panel, a flexible specific phase and a portion in contact with the current may easily be damaged. In the present invention, the first horizontal sensing electrode 120 and the second horizontal sensing electrode 130 ) Is made of a layer is characterized by excellent durability due to the bridge portion 300 is formed by being attached to the surface contact with each other.

또한, 제 1 수평 감지전극(120) 및 제 2 수평 감지전극(130)을 서로 전기적으로 연결하는 브리지부(300)는 수직 감지전극(110)을 통과하는데, 브리지부(300)와 수직 감지전극(110)은 제 1 절연부(210) 및 제 2 절연부(410)로 인해 서로 전류가 흐르지 않도록 구비되어 간섭현상이 발생하지 않게 된다. 더 나아가, 제 1 절연부(210) 및 제 2 절연부(410)는 상술한 제 1 전도부(310) 및 제 2 전도부(320)와 같이 면 접촉 하도록 순서대로 층 단위로 이루어져 구비되기 때문에 보다 내구성이 뛰어나다는 특징이 있다. 즉, 본 발명은 각 층(Layer) 단위로 순서대로 형성되고, 각 층은 면 접촉 하도록 구비되며, 빈 공간이 형성되지 않기 때문에 내구성이 뛰어나다.In addition, the bridge portion 300 electrically connecting the first horizontal sensing electrode 120 and the second horizontal sensing electrode 130 to each other passes through the vertical sensing electrode 110. The bridge portion 300 and the vertical sensing electrode are connected to each other. 110 is provided so that the current does not flow with each other due to the first insulating portion 210 and the second insulating portion 410 so that interference does not occur. Furthermore, since the first insulating part 210 and the second insulating part 410 are provided in layer units in order to make surface contact with the first conductive part 310 and the second conductive part 320 as described above, they are more durable. This is characterized by excellentness. That is, the present invention is formed in order in each layer (Layer) unit, each layer is provided to the surface contact, and because the empty space is not formed is excellent in durability.

상기한 본 발명의 바람직한 실시 예는 예시의 목적으로 개시된 것이고, 본 발명에 대해 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 상기의 특허청구 범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다. Preferred embodiments of the present invention described above are disclosed for purposes of illustration, and those skilled in the art will be able to make various modifications, changes, and additions within the spirit and scope of the present invention. Should be regarded as falling within the scope of the above claims.

본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서, 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로, 본 발명은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다.As those skilled in the art to which the present invention pertains, various permutations, modifications, and changes are possible without departing from the technical spirit of the present invention. It is not limited by.

10 : 기재 11 : 수지층
20 : 주형 30 : 블레이드
100 : 전도체 110 : 수직 감지전극
120 : 제 1 수평 감지전극 130 : 제 2 수평 감지전극
200 : 제 1 감광층 210 : 제 1 절연부
300 : 브리지부 310 : 제 1 전도부
320 : 제 2 전도부 400 : 제 2 감광층
410 : 제 2 절연부 M1 : 제 1 마스크
M2 : 제 2 마스크 G : 유리 또는 수지층
10: base material 11: resin layer
20: mold 30: blade
100 conductor 110 vertical sensing electrode
120: first horizontal sensing electrode 130: second horizontal sensing electrode
200: first photosensitive layer 210: first insulating portion
300: bridge portion 310: first conductive portion
320: second conductive portion 400: second photosensitive layer
410: second insulation portion M1: first mask
M2: second mask G: glass or resin layer

Claims (6)

수지층(11) 상면에 하나 이상의 수직 감지전극(110) 및 상기 수직 감지전극(110)과 전기적으로 절연되는 교차 영역을 가지는 복수의 제 1 수평 감지전극(120) 및 제 2 수평 감지전극(130)을 형성하는 단계;
마스크를 통해 상기 교차 영역 상면에 제 1 절연부(210)를 형성하고 제 1 에칭 처리하는 단계;
상기 제 1 에칭 처리된 영역에 제 1 전도부(310)를 형성하는 단계;
마스크를 통해 상기 제 1 전도부(310) 상면에 제 2 절연부(410)를 형성하고 제 2 에칭 처리하는 단계; 및
상기 제 2 에칭 처리된 영역에 제 2 전도부(320)를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
A plurality of first horizontal sensing electrodes 120 and second horizontal sensing electrodes 130 having at least one vertical sensing electrode 110 and an intersection area electrically insulated from the vertical sensing electrode 110 on an upper surface of the resin layer 11. Forming);
Forming a first insulating portion (210) on the upper surface of the crossing area through a mask and performing a first etching process;
Forming a first conductive portion 310 in the first etched region;
Forming a second insulating portion 410 on the top surface of the first conductive portion 310 through a mask and performing a second etching process; And
And forming a second conductive portion (320) in the second etched area.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 전도부(310)와 상기 제 2 전도부(320)는,
제 1 수평 감지전극(120)과 상기 제 2 수평 감지전극(130)을 전기적으로 연결하는 브리지부(300)인 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
The method of claim 1,
The first conductive portion 310 and the second conductive portion 320,
Method for manufacturing a touch panel, characterized in that the bridge portion 300 for electrically connecting the first horizontal sensing electrode 120 and the second horizontal sensing electrode (130).
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 절연부(410)는 상기 제 1 절연부(210)와 교차하지 않는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
The method of claim 1,
The second insulating portion 410 does not intersect the first insulating portion 210 manufacturing method of the touch panel.
제 1 항에 있어서,
상기 수직 감지전극(110)이 하나인 경우, 상기 제 1 절연부(210)는 상기 수직 감지전극(110)의 중심에서부터 측벽까지의 거리보다 길게 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
The method of claim 1,
When the vertical sensing electrode (110) is one, the first insulating portion 210 is a manufacturing method of the touch panel, characterized in that provided longer than the distance from the center of the vertical sensing electrode (110) to the side wall.
제 1 항에 있어서,
상기 수직 감지전극(110)이 복수개인 경우, 상기 제 1 절연부(210)는 상기 복수개의 수직 감지전극(110)의 중심에서부터 가장 먼 거리에 위치하는 측벽까지의 거리보다 길게 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
The method of claim 1,
When there are a plurality of vertical sensing electrodes 110, the first insulating part 210 is longer than a distance from a center of the plurality of vertical sensing electrodes 110 to a side wall located at a longest distance. Method of manufacturing a touch panel.
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
상기 제 2 전도부(320)는 상기 제 1 절연부(210)의 중심에서부터 측벽까지의 거리보다 길게 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.

The method according to claim 4 or 5,
The second conductive part 320 is a manufacturing method of the touch panel, characterized in that provided longer than the distance from the center of the first insulating portion 210 to the side wall.

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