KR20170127961A

KR20170127961A - Flexible touch sensor and method of manufacturing the same

Info

Publication number: KR20170127961A
Application number: KR1020160058905A
Authority: KR
Inventors: 윤호동; 이진구; 최병진
Original assignee: 동우 화인켐 주식회사
Priority date: 2016-05-13
Filing date: 2016-05-13
Publication date: 2017-11-22
Also published as: KR102517375B1

Abstract

The present invention relates to a flexible touch sensor which includes: a base layer; a first sensing pattern formed on a base layer in which a unit pattern is separated in a first direction and a second sensing pattern formed on the base layer in a second direction in which the unit pattern is connected through a joint part; a bridge electrode connecting the separated unit pattern of the first sensing pattern; and an insulating layer which is interposed between the first and second sensing patterns and the bridge electrode and includes a contact hole. The insulating layer includes a first region formed on the upper sides of the first sensing pattern and the second sensing pattern and a second region which is thinner than the first region and is formed on the upper side of the gap of the unit pattern. According to the present invention, a flexible characteristic can be improved while satisfying durability.

Description

TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a flexible touch sensor and a method of manufacturing the flexible touch sensor.

본 발명은 플렉서블 터치 센서 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 내구성을 유지하는 동시에 플렉서블 특성을 향상시킬 수 있는 플렉서블 터치 센서 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible touch sensor and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a flexible touch sensor capable of improving durability and flexible characteristics, and a method of manufacturing the same.

근래에 중량이 가볍고 충격에 강할 뿐만 아니라 플라스틱과 같은 소재로 만들어진 플렉서블(flexible) 기판을 구비한 플렉서블 디스플레이 장치가 개발되고 있다. 이러한 플렉서블 디스플레이 장치는 접거나 두루마리 형태로 말 수 있어 휴대성을 극대화할 수 있으며, 다양한 분야에 활용될 수 있다.2. Description of the Related Art In recent years, a flexible display device having a light weight and strong impact resistance as well as a flexible substrate made of a material such as plastic has been developed. Such a flexible display device can be folded or rolled so as to maximize portability and be utilized in various fields.

플렉서블 디스플레이 장치는 플렉서블 디스플레이 패널을 포함한다. 상기 플렉서블 디스플레이 패널들로는 유기발광디스플레이(organic light emitting diode display) 패널, 액정디스플레이(liquid crystal display) 패널, 및 전기 영동디스플레이(electrophoretic display, EPD) 패널 등이 있다.The flexible display device includes a flexible display panel. The flexible display panels include an organic light emitting diode (OLED) display panel, a liquid crystal display panel, and an electrophoretic display (EPD) panel.

그러나, 플렉서블 디스플레이 장치는 장치 자체가 굽혀지거나(bending), 말아지거나(rolling), 접히게(folding) 되므로, 장치 내에 포함된 디스플레이 패널도 굽힘 응력을 받게 된다. 그리고, 디스플레이 패널이 일정 이상의 굽힘 응력을 받게 되면 크랙이 발생하는 심각한 문제가 발생한다.However, since the flexible display device itself is bending, rolling, and folding, the display panel included in the device is subjected to bending stress. When the display panel receives a bending stress exceeding a predetermined level, a serious problem that a crack occurs occurs.

이에 따라 최근에는 유리 기판을 대체하는 고분자 필름을 이용하여 보다 얇고 가벼우며 구부리거나 접을 수 있는 터치센서 및 디스플레이에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다.Recently, researches on touch sensors and displays that are thinner, lighter, bendable, and foldable using polymer films replacing glass substrates have been actively conducted.

터치 센서의 플렉서블 특성을 높이기 위해서는 내부 구성요소들을 보호하는 절연층 또는 패시베이션층의 두께를 줄여야 하지만, 절연층 또는 패시베이션층의 두께 감소에 비례하여 터치 센서의 내구성이 저하되는 문제점이 있다.In order to improve the flexible characteristic of the touch sensor, the thickness of the insulating layer or the passivation layer for protecting the internal components must be reduced. However, the durability of the touch sensor is reduced in proportion to the reduction in thickness of the insulating layer or the passivation layer.

따라서 터치 센서의 내구성을 유지하는 동시에 플렉서블 특성을 향상시킬 수 있는 기술이 요구된다.Therefore, there is a need for a technique capable of maintaining the durability of the touch sensor and improving the flexible characteristic.

대한민국 공개특허공보 제10-2012-0008153호(공개일자: 2012년 01월 30일, 명칭: 정전용량 방식 터치 센서 및 그 제조방법)Korean Published Patent Application No. 10-2012-0008153 (published on Jan. 30, 2012, titled: Capacitive Touch Sensor and Method of Manufacturing the Same) 대한민국 공개특허공보 제10-2012-0069226호(공개일자: 2012년 06월 28일, 명칭: 터치 센서 및 그의 제조방법)Korean Published Patent Application No. 10-2012-0069226 (date of publication: June 28, 2012, titled: touch sensor and manufacturing method thereof)

본 발명은 종래 기술의 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 내구성을 유지하는 동시에 플렉서블 특성을 향상시킬 수 있는 플렉서블 터치 센서 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a flexible touch sensor capable of maintaining the durability and improving the flexible characteristic, and a method of manufacturing the flexible touch sensor.

본 발명은 기재층; 상기 기재층 상에 제1 방향으로 단위 패턴이 이격되어 형성된 제1 감지 패턴 및 제2 방향으로 형성되며 단위 패턴이 이음부를 통해 연결된 제2 감지 패턴; 상기 감지 제1 패턴의 이격된 단위 패턴을 연결하는 브릿지 전극; 상기 제1 및 제2 감지 패턴과 브릿지 전극 사이에 개재되며 컨택홀을 구비한 절연층; 상기 절연층은 상기 제1 감지 패턴 및 제2 감지 패턴 상부에 형성된 제1 영역과 상기 제1 영역보다 두께가 얇으며 상기 단위 패턴의 간극 상부에 형성된 제2 영역을 포함하는 플렉서블 터치 센서를 제공한다.The present invention relates to a substrate layer; A second sensing pattern formed on the base layer in a first sensing pattern spaced apart from the unit pattern in the first direction and connected to the unit pattern through the seam; A bridge electrode connecting the spaced apart unit patterns of the sensing first pattern; An insulating layer interposed between the first and second sensing patterns and the bridge electrode and having a contact hole; The insulating layer may include a first region formed on the first sensing pattern and a second sensing pattern, and a second region formed on the gap between the first sensing pattern and the second sensing pattern and thinner than the first sensing region, .

본 발명에 따른 플렉서블 터치 센서에 있어서, 상기 절연층의 두께는 0.5㎛ 이상 5㎛ 이하인 것을 특징으로 할 수 있다. In the flexible touch sensor according to the present invention, the thickness of the insulating layer may be 0.5 m or more and 5 m or less.

본 발명에 따른 플렉서블 터치 센서에 있어서, 상기 제1 영역의 최소 두께는 0.5㎛ 이상인 것을 특징으로 할 수 있다.In the flexible touch sensor according to the present invention, the minimum thickness of the first region may be 0.5 탆 or more.

본 발명에 따른 플렉서블 터치 센서에 있어서, 상기 제2 영역의 두께는 1.5㎛ 이상 5㎛ 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.In the flexible touch sensor according to the present invention, the thickness of the second region may be not less than 1.5 탆 and not more than 5 탆.

본 발명에 따른 플렉서블 터치 센서에 있어서, 터치 센서층 상부에 형성되는 패시베이션층을 더 포함할 수 있다.The flexible touch sensor according to the present invention may further include a passivation layer formed on the touch sensor layer.

본 발명에 따른 플렉서블 터치 센서에 있어서, 상기 패시베이션층은 일 방향을 따라 형성된 제3 영역의 두께가 제3 영역 이외의 영역보다 두께가 얇은 것을 특징으로 할 수 있다.In the flexible touch sensor according to the present invention, the thickness of the third region formed along one direction of the passivation layer may be thinner than the region other than the third region.

본 발명에 따른 플렉서블 터치 센서에 있어서, 상기 제3 영역은 폴딩 라인(folding line)에 근접할수록 두께가 얇아지는 패턴경사면 형상을 갖는 것을 특징으로 할 수 있다.In the flexible touch sensor according to the present invention, the third region may have a pattern inclined surface shape in which the thickness of the third region is reduced toward a folding line.

상기 제3 영역은 폴딩 라인(folding line)에 근접할수록 두께가 얇아지는 곡면형상을 갖는 것을 특징으로 할 수 있다.And the third region may have a curved shape in which the thickness of the third region is reduced toward the folding line.

상기 제3 영역의 최소 두께는 0.5㎛ 이상인 것을 특징으로 할 수 있다.And the minimum thickness of the third region is 0.5 mu m or more.

본 발명은, 기재층 상에 제1 방향으로 단위 패턴이 이격되어 형성된 제1 감지 패턴 및 제2 방향으로 형성되며 단위 패턴이 이음부를 통해 연결된 제2 감지 패턴을 형성하는 감지 패턴 형성단계; According to another aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a semiconductor device, comprising: forming a first sensing pattern formed on a base layer in a first direction and a second sensing pattern formed in a second direction;

하프톤 마스크(halftone mask)를 이용하여 상기 제1 감지 패턴 및 제2 감지 패턴 상부에 형성된 제1 영역과 상기 제1 영역보다 두께가 얇으며 상기 단위 패턴 간극 상부에 형성된 제2 영역을 포함하고 콘택홀을 구비한 절연층을 형성하는 절연층 형성단계; 및 A first region formed on the first sensing pattern and a second sensing pattern using a halftone mask, and a second region formed on the upper portion of the unit pattern gap, the second region being thinner than the first region, An insulating layer forming step of forming an insulating layer having a hole; And

상기 절연층 상부에 상기 제1 감지 패턴의 이격된 단위 패턴을 연결하는 브릿지 전극 형성단계를 포함하는, 플렉서블 터치 센서 제조방법을 제공한다. And a bridge electrode forming step of connecting a spaced apart unit pattern of the first sensing pattern on the insulating layer.

본 발명에 따른 플렉서블 터치 센서 제조방법에 있어서, 터치 센서층 상부에 패시베이션 형성용 물질 층을 형성하는 패시베이션 형성단계를 더 포함할 수 있다.The flexible touch sensor manufacturing method according to the present invention may further include a passivation forming step of forming a passivation forming material layer on the touch sensor layer.

본 발명에 따른 플렉서블 터치 센서 제조방법에 있어서, 상기 패시베이션 형성단계에서는, 하프톤 마스크(halftone mask, M2)를 이용하여 일 방향을 따라 형성된 제3 영역의 두께가 제3 영역 이외의 영역보다 얇도록 패시베이션을 형성할 수 있다.In the flexible touch sensor manufacturing method according to the present invention, in the passivation forming step, the thickness of the third region formed in one direction using the halftone mask M2 is thinner than the region other than the third region Passivation can be formed.

본 발명은 내구성을 유지하는 동시에 플렉서블 특성을 향상시킬 수 있는 플렉서블 터치 센서 및 이의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a flexible touch sensor capable of maintaining the durability and improving the flexible characteristic, and a method of manufacturing the same.

도 1은 일반적인 플렉서블 터치 센서의 전체적인 평면 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 일반적인 플렉서블 터치 센서의 A 영역에 대응하는 본 발명의 부분을 확대한 도면이다.
도 3은 도 2에서 절연층을 표시한 도면이다.
도 4 및 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 터치 센서들의 단면도들이다.
도 6 내지 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 터치 센서 들의 제조방법의 공정 단면도들이다.1 is a schematic view showing a general plan view of a general flexible touch sensor.
2 is an enlarged view of a part of the present invention corresponding to the area A of a general flexible touch sensor.
FIG. 3 is a view showing an insulating layer in FIG. 2. FIG.
4 and 5 are cross-sectional views of flexible touch sensors according to an embodiment of the present invention.
6-12 are process sectional views of a method of manufacturing flexible touch sensors according to an embodiment of the present invention.

이하에서, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 본 발명은 하기 실시예에 의해 한정되지 않고 다양하게 수정 및 변경될 수 있다. 본 발명을 설명하기에 앞서 관련된 공지기능 및 구성에 대한 구체적 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그에 대한 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following examples are intended to illustrate the present invention, and the present invention is not limited by the following examples, but may be variously modified and changed. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would unnecessarily obscure the gist of the present invention.

아래 설명과 도면은 당업자가 설명되는 장치와 방법을 용이하게 실시할 수 있도록 특정 실시예를 예시한다. 다른 실시예는 구조적, 논리적으로 다른 변형을 포함할 수 있다. 개별 구성 요소와 기능은 명확히 요구되지 않는 한, 일반적으로 선택될 수 있으며, 과정의 순서는 변할 수 있다. 몇몇 실시예의 부분과 특징은 다른 실시예에 포함되거나 다른 실시예로 대체될 수 있다. The following description and drawings illustrate specific embodiments in order that those skilled in the art can readily implement the described apparatus and method. Other embodiments may include other variations, both structurally and logically. Unless explicitly required, individual components and functions may be selected generally, and the order of the processes may vary. Portions and features of some embodiments may be included in other embodiments or may be replaced by other embodiments.

본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.It is to be understood that the specific structural or functional description of embodiments of the present invention disclosed herein is for illustrative purposes only and is not intended to limit the scope of the inventive concept But may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments set forth herein.

본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.The embodiments according to the concept of the present invention can make various changes and can take various forms, so that the embodiments are illustrated in the drawings and described in detail herein. It should be understood, however, that it is not intended to limit the embodiments according to the concepts of the present invention to the particular forms disclosed, but includes all modifications, equivalents, or alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

제1 또는 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만, 예컨대 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 벗어나지 않은 채, 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고 유사하게 제2구성 요소는 제1구성 요소로도 명명될 수 있다.The terms first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The terms may be named for the purpose of distinguishing one element from another, for example, without departing from the scope of the right according to the concept of the present invention, the first element may be referred to as a second element, The component may also be referred to as a first component.

어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between. Other expressions that describe the relationship between components, such as "between" and "between" or "neighboring to" and "directly adjacent to" should be interpreted as well.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there are features, numbers, steps, operations, elements, parts or combinations thereof described herein, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 나타낸다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the meaning of the context in the relevant art and, unless explicitly defined herein, are to be interpreted as ideal or overly formal Do not.

이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 플렉서블 스크린 센서의 전체적인 평면 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view of a general planar shape of a general flexible screen sensor. FIG.

도 1을 참조하면, 일반적인 플렉서블 터치 센서는 시각 정보가 표시되는지 여부를 기준으로 표시 영역과 비표시 영역으로 구분될 수 있다. 도 1에서, 비표시 영역에 구비되는 구성요소들에 대한 시인성 향상을 위해 비표시 영역을 실제보다 크게 표현하였음을 밝혀둔다.Referring to FIG. 1, a general flexible touch sensor can be divided into a display area and a non-display area based on whether or not time information is displayed. 1, the non-display area is shown to be larger than the actual area in order to improve the visibility of the components provided in the non-display area.

표시 영역은 터치 센서에 결합된 장치가 제공하는 화상이 표시되는 영역인 동시에 사용자로부터 입력되는 터치 신호를 정전용량방식으로 감지하기 위한 영역으로서, 이 표시 영역에는 서로 교차하는 방향으로 형성되는 다수의 감지 패턴을 포함하는 구성요소들이 형성되어 있다.The display area is an area in which an image provided by a device coupled to the touch sensor is displayed and an area for sensing a touch signal input from a user in a capacitive manner. In the display area, a plurality of sensing And a pattern is formed.

표시 영역의 외곽에 위치하는 비표시 영역에는 감지 패턴과 전기적으로 연결되는 전극 패드들, 이 전극 패드들에 전기적으로 연결되는 감지 라인들, 이 감지 라인들에 전기적으로 연결되는 본딩 패드들이 형성되어 있다. 본딩 패드에는 표시 영역에서 감지된 터치 신호를 도시하지 않은 구동부로 전달하는 FPC(Flexible Printed Circuit)가 연결된다.In the non-display area located outside the display area, electrode pads electrically connected to the sensing pattern, sensing lines electrically connected to the electrode pads, and bonding pads electrically connected to the sensing lines are formed . The bonding pad is connected to an FPC (Flexible Printed Circuit) for transmitting a touch signal sensed in the display area to a driving unit (not shown).

도 2는 일반적인 플렉서블 터치 센서의 A 영역에 대응하는 본 발명의 부분을 확대한 도면이다.2 is an enlarged view of a part of the present invention corresponding to the area A of a general flexible touch sensor.

도 2는 도 1에 표시된 A 영역을 확대한 도면이다.Fig. 2 is an enlarged view of area A shown in Fig.

도 2를 추가적으로 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 플렉서블 터치 센서를 구성하는 터치 센서층의 평면 형상이 개시되어 있으며, 터치 센서층은 상기 기재층 상에 제1 방향으로 단위 패턴이 이격되어 형성된 제1 감지 패턴(41) 및 제2 방향으로 형성되며 단위 패턴이 이음부를 통해 연결된 제2 감지 패턴(42); 상기 제1 패턴의 이격된 단위 패턴을 연결하는 브릿지 전극(47); 상기 제1 및 제2 감지 패턴과 브릿지 전극 사이에 개재되며 컨택홀(43a, 43b)을 구비한 절연층(45); 상기 절연층은 상기 제1 감지 패턴 및 제2 감지 패턴 상부에 형성된 제1 영역(도 2에 도시되지 않음)과 상기 제1 영역보다 두께가 얇으며 상기 단위 패턴의 간극 상부에 형성된 제2 영역(44b)을 포함한다2, a planar shape of a touch sensor layer constituting a flexible touch sensor according to an embodiment of the present invention is disclosed, and a touch sensor layer is formed on the base layer in a unit pattern in a first direction A first sensing pattern 41 formed in a first direction and a second sensing pattern 42 formed in a second direction and connected to the unit pattern through a joint; A bridge electrode (47) connecting the spaced apart unit patterns of the first pattern; An insulating layer 45 interposed between the first and second sensing patterns and the bridge electrode and having contact holes 43a and 43b; The insulating layer may include a first region (not shown in FIG. 2) formed on the first sensing pattern and the second sensing pattern, a second region (not shown in FIG. 2) formed on the gap above the first region, 44b

제1 감지 패턴(41)은 서로 전기적으로 분리된 상태로 제1 방향을 따라 형성되어 있고, 제2 감지 패턴(42)은 이음부를 통해 서로 전기적으로 연결된 상태로 제2 방향을 따라 형성되어 있으며, 제2 방향은 제1 방향과 교차하는 방향이다. 예를 들어, 제1 방향이 X 방향인 경우, 제2 방향은 Y 방향일 수 있다. 제1 영역(44a) 및 제2 영역(44b)를 포함하는 절연층(45)은 제1 감지 패턴(41) 및 제2 감지 패턴(42)과 브릿지 전극(47) 사이에 개재되어 있다. 브릿지 전극(47)은 컨택홀(43a, 43b)를 통해 인접하는 제1 감지 패턴(41)을 전기적으로 연결시킨다.The first sensing patterns 41 are formed along the first direction in a state of being electrically separated from each other and the second sensing patterns 42 are formed along the second direction with being electrically connected to each other through the joints, The second direction is a direction intersecting the first direction. For example, when the first direction is the X direction, the second direction may be the Y direction. The insulating layer 45 including the first region 44a and the second region 44b is interposed between the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42 and the bridge electrode 47. [ The bridge electrode 47 electrically connects the adjacent first sensing patterns 41 through the contact holes 43a and 43b.

상기 제1 영역은 제1 감지 패턴(41) 및 제2 감지 패턴(42) 상부에 형성될 수 있다. 상기 제2 영역은 제1 감지 패턴(41) 및 제2 감지 패턴(42)의 단위 패턴들 사이에 형성될 수 있다.The first region may be formed on the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42. The second region may be formed between unit patterns of the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42.

본 발명에서 하부에 감지 전극(패턴)이 없는 제2 영역을 제1 영역보다 얇게 형성함으로써 내구성이 우수하면서 플렉서블 특성이 향상된 터치 센서를 제공할 수 있다.The present invention can provide a touch sensor having excellent durability and improved flexibility by forming a second region without a sensing electrode (pattern) below the first region.

도 2 및 3에서 제2 영역은 제1 감지 패턴(41)과 제2 감지 패턴(42) 사이에서 끊어진 형상으로 표시되어 있으나, 이는 예시일 뿐이며 끊어지지 않는 구조를 가질 수 있다.In FIGS. 2 and 3, the second region is shown as being broken between the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42, but this is only an example, and may have a structure that is not broken.

도 4 및 5에서 제3 영역(64)은 브릿지 전극 형성 후 터치 센서층 상부전면에 형성되는 패시베이션층의 특정 영역, 바람직하게는 폴딩 영역에 두께를 그 이외 영역보다 얇게 함으로써 내구성을 유지하는 동시에 플렉서블 특성을 향상시킬 수 있도록 할 수 있다. 또한, 제1 영역(44a) 및 제2 영역(44b)를 포함하는 절연층의 두께 차이 때문에 터치 센서층 상부에 동일한 두께로 패시베이션층이 형성되는 경우 제2 영역(44b)에 해당하는 부분에서 패시베이션층의 굴곡이 형성될 수 있다.4 and 5, the thickness of the third region 64 is made thinner than the other regions in the specific region, preferably the folding region, of the passivation layer formed on the entire upper surface of the touch sensor layer after the formation of the bridge electrode, So that the characteristics can be improved. If a passivation layer having the same thickness is formed on the touch sensor layer due to the difference in thickness of the insulating layer including the first region 44a and the second region 44b, The curvature of the layer can be formed.

굴곡부는 최종제품 구성에서 Window 혹은, 디스플레이 자체에서 굴곡되는 형태를 의미한다. 휘어진 상태에서 고정되어 있거나, 굴곡이 반복되는 영역을 의미하며, 도 2의 점선과 같이 굴곡부의 접히는 부분을 폴딩 라인(folding line)이라 한다.The bend means the shape that is bent in the window or the display itself in the final product configuration. The bent portion is fixed in the bent state or the bent portion is repeated. The folded portion of the bent portion as shown by the dotted line in FIG. 2 is called a folding line.

도 3은 도 2에서 컨택홀(44a, 44b), 제1 영역(44a) 및 제2 영역(44b)를 포함하는 본 발명의 일 실시예에 따른 절연층을 표시한 도면이다.FIG. 3 is a view illustrating an insulating layer according to an embodiment of the present invention including contact holes 44a and 44b, a first region 44a, and a second region 44b in FIG.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 스크린 센서들의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a flexible screen sensor according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 플렉서블 스크린 센서는 기재층(10), 터치 센서층(40) 및 패시베이션층(60)을 포함한다.Referring to FIG. 4, a flexible screen sensor according to an embodiment of the present invention includes a substrate layer 10, a touch sensor layer 40, and a passivation layer 60.

기재층(10)은 터치 센서의 구성요소들이 형성되는 기지로서, 경성 또는 연성 재질을 갖는 투명 물질일 수 있으며, 예를 들어, 연성 재질인 경우, 투명 광학 필름 또는 편광판일 수 있다.The substrate layer 10 may be a transparent material having a rigid or flexible material, and may be a transparent optical film or a polarizing plate, for example, in the case of a flexible material.

투명 광학 필름은 투명성, 기계적 강도, 열 안정성이 우수한 필름이 사용될 수 있으며, 구체적인 예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 수지; 염화비닐계 수지; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 수지; 이미드계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 술폰계 수지; 폴리에테르에테르케톤계 수지; 황화 폴리페닐렌계 수지; 비닐알코올계 수지; 염화비닐리덴계 수지; 비닐부티랄계 수지; 알릴레이트계 수지; 폴리옥시메틸렌계 수지; 에폭시계 수지 등과 같은 열가소성 수지로 구성된 필름을 들 수 있으며, 상기 열가소성 수지의 블렌드물로 구성된 필름도 사용할 수 있다. 또한, (메타)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지로 된 필름을 이용할 수도 있다. 이와 같은 투명 광학 필름의 두께는 적절히 결정될 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등을 고려하여, 1 ~ 500㎛로 결정될 수 있다. 특히 1 ~ 300㎛가 바람직하고, 5 ~ 200㎛가 보다 바람직하다.As the transparent optical film, a film excellent in transparency, mechanical strength and thermal stability can be used. Specific examples thereof include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene naphthalate and polybutylene terephthalate; Cellulose-based resins such as diacetylcellulose and triacetylcellulose; Polycarbonate resin; Acrylic resins such as polymethyl (meth) acrylate and polyethyl (meth) acrylate; Styrene resins such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer; Polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, cyclo- or norbornene-structured polyolefins, ethylene-propylene copolymers; Vinyl chloride resin; Amide resins such as nylon and aromatic polyamide; Imide resin; Polyether sulfone type resin; Sulfone based resin; Polyether ether ketone resin; A sulfided polyphenylene resin; Vinyl alcohol-based resin; Vinylidene chloride resins; Vinyl butyral resin; Allylate series resin; Polyoxymethylene type resin; Epoxy resin, and the like, and a film composed of the blend of the thermoplastic resin may also be used. Further, a film made of a thermosetting resin such as (meth) acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone or a film made of an ultraviolet curable resin may be used. The thickness of such a transparent optical film can be suitably determined, but in general, it can be determined to be 1 to 500 占 퐉 in consideration of workability such as strength and handling property, thin layer property, and the like. Particularly preferably 1 to 300 mu m, and more preferably 5 to 200 mu m.

이러한 투명 광학 필름은 적절한 1종 이상의 첨가제가 함유된 것일 수도 있다. 첨가제로는, 예컨대 자외선흡수제, 산화방지제, 윤활제, 가소제, 이형제, 착색방지제, 난연제, 핵제, 대전방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 투명 광학 필름은 필름의 일면 또는 양면에 하드코팅층, 반사방지층, 가스배리어층과 같은 다양한 기능성층을 포함하는 구조일 수 있으며, 기능성층은 전술한 것으로 한정되는 것은 아니며, 용도에 따라 다양한 기능성층을 포함할 수 있다.Such a transparent optical film may contain one or more suitable additives. Examples of the additive include an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a plasticizer, a release agent, a coloring inhibitor, a flame retardant, a nucleating agent, an antistatic agent, a pigment and a colorant. The transparent optical film may be a structure including various functional layers such as a hard coating layer, an antireflection layer, and a gas barrier layer on one side or both sides of the film. The functional layer is not limited to the above, and various functional layers .

또한, 필요에 따라 투명 광학 필름은 표면 처리된 것일 수 있다. 이러한 표면 처리로는 플라즈마(plasma) 처리, 코로나(corona) 처리, 프라이머(primer) 처리 등의 건식 처리, 검화 처리를 포함하는 알칼리 처리 등의 화학 처리 등을 들 수 있다.Further, if necessary, the transparent optical film may be surface-treated. Examples of the surface treatment include a chemical treatment such as a plasma treatment, a corona treatment, a dry treatment such as a primer treatment, and an alkali treatment including a saponification treatment.

또한, 투명 광학 필름은 등방성 필름, 위상차 필름 또는 보호 필름(Protective Film)일 수 있다.The transparent optical film may be an isotropic film, a retardation film, or a protective film.

등방성 필름인 경우 면내 위상차(Ro, Ro=[(nx-ny)×d], nx, ny는 필름 평면 내의 주굴절률, d는 필름 두께이다.)가 40nm 이하이고, 15nm 이하가 바람직하며, 두께방향 위상차(Rth, Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d, nx, ny는 필름 평면 내의 주굴절률, nz는 필름 두께 방향의 굴절률, d는 필름 두께이다.)가 -90nm ~ +75nm 이며, 바람직하게는 -80nm ~ +60nm, 특히 -70nm ~ +45nm 가 바람직하다.In the case of an isotropic film, the in-plane retardation (Ro, Ro = [(nx-ny) x d, nx and ny is the main refractive index in the plane of the film and d is the film thickness) is 40 nm or less, preferably 15 nm or less, Nz is the main refractive index in the film plane, nz is the refractive index in the film thickness direction, and d is the film thickness) is in the range of -90 nm to < RTI ID = 0.0 & +75 nm, preferably -80 nm to +60 nm, particularly preferably -70 nm to +45 nm.

위상차 필름은 고분자 필름의 일축 연신, 이축 연신, 고분자 코팅, 액정 코팅의 방법으로 제조된 필름이며, 일반적으로 디스플레이의 시야각 보상, 색감 개선, 빛샘 개선, 색미 조절 등의 광학 특성 향상 및 조절을 위하여 사용된다. 위상차 필름의 종류에는 1/2 이나 1/4 등의 파장판, 양의 C플레이트, 음의 C플레이트, 양의 A플레이트, 음의 A플레이트, 이축성 파장판을 포함한다.The retardation film is a film produced by the uniaxial stretching, biaxial stretching, polymer coating and liquid crystal coating method of a polymer film, and is generally used for improving the viewing angle of the display, improving the color feeling, improving the light leakage, do. The types of the retardation film include a wave plate of 1/2 or 1/4, a positive C plate, a negative C plate, a positive A plate, a negative A plate, and a biaxial wave plate.

보호 필름은 고분자 수지로 이루어진 필름의 적어도 일면에 점착층을 포함하는 필름이거나 폴리프로필렌 등의 자가 점착성을 가진 필름일 수 있으며, 터치 센서 표면의 보호, 공정성 개선을 위하여 사용될 수 있다.The protective film may be a film including an adhesive layer on at least one side of a film made of a polymer resin, or a self-adhesive film such as polypropylene, and may be used for protecting the surface of the touch sensor and improving the processability.

편광판은 표시 패널에 사용되는 공지의 것이 사용될 수 있다. 구체적으로는, 폴리비닐알코올 필름을 연신하여 요오드나 이색성 색소를 염색한 편광자의 적어도 일면에 패시베이션을 설치하여 이루어진 것, 액정을 배향하여 편광자의 성능을 갖도록 하여 만든 것, 투명필름에 폴리비닐알코올 등의 배향성 수지를 코팅하고 이것을 연신 및 염색하여 만든 것을 들 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.As the polarizing plate, any known one used in the display panel can be used. Concretely, the film is formed by providing a passivation on at least one surface of a polarizer obtained by stretching a polyvinyl alcohol film to dye iodine or a dichroic dye, a film obtained by orienting a liquid crystal to have a polarizer performance, a film made of polyvinyl alcohol Or the like, and then stretching and dyeing the resultant, and the present invention is not limited thereto.

터치 센서층(40)은 기재층(10) 상에 형성되어 있으며, 사용자가 입력하는 터치 신호를 감지하기 위한 구성요소이다.The touch sensor layer 40 is formed on the base layer 10 and is a component for sensing a touch signal input by the user.

터치 센서층(40)을 구성하는 감지 패턴은 적용되는 전자 기기의 요구에 따라 적절한 모양으로 형성될 수 있으며, 예를 들어, 터치 센서에 적용되는 경우, x 좌표를 감지하는 패턴과 y 좌표를 감지하는 패턴의 2종류 패턴들로 형성될 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.The sensing pattern constituting the touch sensor layer 40 may be formed in an appropriate shape according to the requirements of the electronic device to be applied. For example, when the touch sensor is applied to a touch sensor, a sensing pattern for detecting the x- , But the present invention is not limited thereto.

예를 들어, 터치 센서층(40)은 상기 기재층 상에 제1 방향으로 단위 패턴이 이격되어 형성된 제1 감지 패턴(41) 및 제2 방향으로 형성되며 단위 패턴이 이음부를 통해 연결된 제2 감지 패턴(42); 상기 제1 패턴의 이격된 단위 패턴을 연결하는 브릿지 전극(47); 상기 제1 및 제2 감지 패턴과 브릿지 전극 사이에 개재되며 컨택홀(43a, 43b)을 구비한 절연층(45); 상기 절연층은 상기 제1 감지 패턴 및 제2 감지 패턴 상부에 형성된 제1 영역(도 2에 도시되지 않음)과 상기 제1 영역보다 두께가 얇으며 상기 단위 패턴의 간극 상부에 형성된 제2 영역(44b)을 포함한다.For example, the touch sensor layer 40 may include a first sensing pattern 41 formed on the base layer in a first direction and a second sensing pattern 41 formed in a second direction, Pattern 42; A bridge electrode (47) connecting the spaced apart unit patterns of the first pattern; An insulating layer 45 interposed between the first and second sensing patterns and the bridge electrode and having contact holes 43a and 43b; The insulating layer may include a first region (not shown in FIG. 2) formed on the first sensing pattern and the second sensing pattern, a second region (not shown in FIG. 2) formed on the gap above the first region, 44b.

제1 감지 패턴(41), 제2 감지 패턴(42) 및 브릿지 전극(47)은 투명 도전성 물질이라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 예를 들어, 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 인듐징크틴옥사이드(IZTO), 알루미늄징크옥사이드(AZO), 갈륨징크옥사이드(GZO), 플로린틴옥사이드(FTO), 인듐틴옥사이드-은-인듐틴옥사이드(ITO-Ag-ITO), 인듐징크옥사이드-은-인듐징크옥사이드(IZO-Ag-IZO), 인듐징크틴옥사이드-은-인듐징크틴옥사이드(IZTO-Ag-IZTO) 및 알루미늄징크옥사이드-은-알루미늄징크옥사이드(AZO-Ag-AZO)로 이루어진 군에서 선택된 금속산화물류; 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo) 및 APC(Ag-Pd-Cu)로 이루어진 군에서 선택된 금속류; 금, 은, 구리 및 납으로 이루어진 군에서 선택된 금속의 나노와이어; 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀 (graphene)으로 이루어진 군에서 선택된 탄소계 물질류; 및 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT) 및 폴리아닐린(PANI)으로 이루어진 군에서 선택된 전도성 고분자 물질류에서 선택된 재료로 형성될 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있고, 바람직하게는 인듐틴옥사이드가 사용될 수 있다. 결정성 또는 비결정성 인듐틴옥사이드가 모두 사용 가능하다.The first sensing pattern 41, the second sensing pattern 42 and the bridge electrode 47 are not limited as long as they are transparent conductive materials. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) , Indium zinc oxide (ITO-Ag-ITO), indium zinc oxide (IZTO), aluminum zinc oxide (AZO), gallium zinc oxide (GZO), flintine oxide (FTO), indium zinc oxide (IZO-Ag-IZO), indium zinc tin oxide-silver-indium zinc tin oxide (IZTO-Ag-IZTO) and aluminum zinc oxide-silver-aluminum zinc oxide A metal oxide selected from the group consisting of: Metals selected from the group consisting of gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), molybdenum (Mo) and APC (Ag-Pd-Cu); Nanowires of metals selected from the group consisting of gold, silver, copper and lead; Carbon-based materials selected from the group consisting of carbon nanotubes (CNT) and graphene; And conductive polymer materials selected from the group consisting of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT) and polyaniline (PANI). These materials may be used singly or in combination of two or more. Preferably, indium tin oxide may be used. Both crystalline and amorphous indium tin oxides are available.

터치 센서층(40)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 터치 센서의 유연성을 고려할 때 가급적 박막인 것이 바람직하다. The thickness of the touch sensor layer 40 is not particularly limited, but it is preferable that the thickness of the touch sensor layer 40 is as thin as possible in consideration of the flexibility of the touch sensor.

예를 들어, 터치 센서층(40)을 구성하는 제1 감지 패턴(41)과 제2 감지 패턴(42)은 서로 독립적으로 3각형, 4각형, 5각형, 6각형 또는 7각형 이상의 다각형 패턴일 수 있다.For example, the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42 constituting the touch sensor layer 40 may be polygonal patterns having a triangular shape, a tetragonal shape, a pentagonal shape, a hexagonal shape, .

또한, 예를 들어, 터치 센서층(40)은 규칙 패턴을 포함할 수 있다. 규칙 패턴이란, 패턴의 형태가 규칙성을 갖는 것을 의미한다. 예들 들어, 감지 패턴은 서로 독립적으로 직사각형 또는 정사각형과 같은 메쉬 형태나, 육각형과 같은 형태의 패턴을 포함할 수 있다.Also, for example, the touch sensor layer 40 may include a regular pattern. A rule pattern means that the pattern form has regularity. For example, the sensing patterns may independently include a mesh shape such as a rectangle or a square, or a pattern such as a hexagon.

또한, 예를 들어, 터치 센서층(40)은 불규칙 패턴을 포함할 수 있다. 불규칙 패턴이란 패턴의 형태가 규칙성을 갖지 아니한 것을 의미한다.Also, for example, the touch sensor layer 40 may include an irregular pattern. The irregular pattern means that the shape of the pattern does not have regularity.

또한, 예를 들어, 터치 센서층(40)을 구성하는 감지 패턴이 금속 나노와이어, 탄소계 물질류, 고분자 물질류 등의 재료로 형성된 경우, 감지 패턴은 망상 구조를 가질 수 있다. 감지 패턴이 망상 구조를 갖는 경우, 서로 접촉하여 인접하는 패턴들에 순차적으로 신호가 전달되므로, 높은 감도를 갖는 패턴을 실현할 수 있다.For example, when the sensing pattern constituting the touch sensor layer 40 is formed of a material such as a metal nanowire, a carbon-based material, or a polymer material, the sensing pattern may have a network structure. In the case where the sensing pattern has a network structure, since signals are sequentially transmitted to adjacent patterns in contact with each other, a pattern having high sensitivity can be realized.

예를 들어, 터치 센서층(40)을 구성하는 감지 패턴은 단일층 또는 복수의 층으로 형성될 수 있다.For example, the sensing pattern constituting the touch sensor layer 40 may be formed of a single layer or a plurality of layers.

제1 감지 패턴(41)과 제2 감지 패턴(42)을 절연시키는 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 절연층(45)의 소재로는 당 기술분야에 알려진 절연 소재가 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 투명성, 유연성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등에서 우수한 물질이 사용될 수 있다.As the material of the insulating layer 45 including the first region and the second region for insulating the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42, an insulating material known in the art can be used without limitation , Materials excellent in transparency, flexibility, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropy, etc. can be used.

구체적인 예를 들면, 절연층(45)의 소재로는 유기 절연막이 적용될 수 있으며, 그 중에서도 폴리올(polyol) 및 멜라민(melamine) 경화제를 포함하는 경화성 조성물로 형성된 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. For example, as the material of the insulating layer 45, an organic insulating film may be used. Among them, the insulating layer 45 may be formed of a curable composition including a polyol and a melamine curing agent, but the present invention is not limited thereto.

폴리올의 구체적인 종류로는 폴리에테르 글리콜(polyether glycol) 유도체, 폴리에스테르 글리콜(polyester glycol) 유도체, 폴리카프로락톤 글리콜(polycaprolactone glycol) 유도체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of polyols include, but are not limited to, polyether glycol derivatives, polyester glycol derivatives, and polycaprolactone glycol derivatives.

멜라민 경화제의 구체적인 종류로는 메톡시 메틸 멜라민(methoxy methyl melamine) 유도체, 메틸 멜라민(methyl melamine) 유도체, 부틸 멜라민(butyl melamine) 유도체, 이소부톡시 멜라민(isobutoxy melamine) 유도체 및 부톡시 멜라민(butoxy melamine) 유도체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the melamine curing agent include methoxy methyl melamine derivatives, methyl melamine derivatives, butyl melamine derivatives, isobutoxy melamine derivatives and butoxy melamine derivatives, Derivatives, and the like, but the present invention is not limited thereto.

다른 예로, 절연층(45)은 유무기 하이브리드 경화성 조성물로 형성될 수 있으며, 유기 화합물과 무기 화합물을 동시에 사용하는 경우, 박리시 발생하는 크랙(crack)을 저감할 수 있다는 점에서 바람직하다.As another example, the insulating layer 45 can be formed of an organic-inorganic hybrid curable composition, and when an organic compound and an inorganic compound are used at the same time, it is preferable from the viewpoint of reducing a crack generated during peeling.

유기 화합물로는 전술한 성분이 사용될 수 있고, 무기물로는 실리카계 나노 입자, 실리콘계 나노 입자, 유리 나노 섬유 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.As the organic compound, the above-described components can be used. Examples of the inorganic substance include silica-based nanoparticles, silicon-based nanoparticles, glass nanofibers, and the like, but are not limited thereto.

일 실시예에 따르면, 제1 영역의 두께(h₃)는 제2 영역의 두께(h₁+h₂) 보다 두꺼울 수 있다.According to one embodiment, the thickness of the first region (h ₃₎ may be thicker than the thickness of the second region (h ₁ + h _2).

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 터치 센서의 플렉서블 특성 확보를 위하여 절연층(45)의 두께를 전체적으로 줄이지 않고, 제2 영역(44b)의 두께(h₁₊ h₂)만을 일정 수준으로 줄이기 때문에, 터치 센서의 내구성 요구조건을 충족시키는 동시에, 플렉서블 특성을 확보할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, only the thickness h _{1 +} h ₂ of the second region 44b is reduced to a certain level without reducing the overall thickness of the insulating layer 45 in order to secure the flexible characteristics of the touch sensor , It is possible to satisfy the durability requirements of the touch sensor and to secure the flexible characteristic.

예를 들어, 제1 영역(44a) 및 제2 영역(44b)을 포함하는 절연층(45)의 두께는 0.5㎛ 이상 5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 절연층(45)의 두께가 0.5㎛ 미만이면, 절연파괴 및 내구성 저하가 발생할 위험이 높아진다. 절연층(45)의 두께가 5㎛를 초과하면, 터치 센서의 플렉서블 특성이 저하되고 제1 영역(44a) 및 제2 영역(44b)을 포함하는 절연층(45)의 균일성이 크게 저하되어 터치 센서의 성능 품질이 저하된다.For example, the thickness of the insulating layer 45 including the first region 44a and the second region 44b is preferably 0.5 占 퐉 or more and 5 占 퐉 or less. If the thickness of the insulating layer 45 is less than 0.5 mu m, the risk of dielectric breakdown and durability deterioration is increased. If the thickness of the insulating layer 45 exceeds 5 占 퐉, the flexible property of the touch sensor is deteriorated and the uniformity of the insulating layer 45 including the first region 44a and the second region 44b is significantly lowered The performance quality of the touch sensor is deteriorated.

예를 들어, 제2 영역의 최소 두께(h₁+h₂)는 0.5㎛ 이상 1.5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 제2 영역의 두께(h₁+h₂)가 0.5㎛ 미만이면, 사용자가 터치 센서를 접고 펴는 동작을 반복함에 따라, 절연층(45)에 크랙(crack)이 발생하여 터치 센서의 내구성이 저하된다. 제1 영역의 두께(h₁+h₂)가 1.5㎛를 초과하면, 터치 센서의 플렉서블 특성이 저하된다.For example, the minimum thickness (h ₁ + h ₂ ) of the second region is preferably 0.5 μm or more and 1.5 μm or less. If the thickness h ₁ + h ₂ of the second region is less than 0.5 탆, cracks are generated in the insulating layer 45 as the user repeatedly folds and unfolds the touch sensor, do. If the thickness h ₁ + h ₂ of the first region exceeds 1.5 탆, the flexible property of the touch sensor is deteriorated.

예를 들어, 제1 영역의 두께는 1.5㎛ 이상 5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 제1 영역(44a)의 두께(h₃)가 1.5㎛ 미만이면, 제1 영역(44a)을 포함하는 절연층(45)의 내구성이 약해져서 충격 등과 같은 외부적인 요인들로부터 터치 센서층(40)을 구성하는 요소들을 충분히 보호할 수 없고, 제1 영역의 두께(h₃)가 5㎛를 초과하면, 터치 센서의 플렉서블 특성이 저하되고 제1 영역(44a)을 포함하는 절연층(45)의 균일성이 크게 저하되어 터치 센서의 성능 품질이 저하된다.For example, the thickness of the first region is preferably 1.5 占 퐉 or more and 5 占 퐉 or less. If it is less than the thickness (h ₃₎ of the first region (44a) 1.5㎛, the first region (44a) from the touch sensor external factor layer 40, such as a weak shock resistance of the insulating layer 45, including can not sufficiently protect the elements constituting the first of the thickness of the first region (h ₃₎ exceeds 5㎛, the flexible nature of the touch sensor is reduced insulating layer comprises a first region (44a) (45) The uniformity is greatly lowered, and the performance quality of the touch sensor is deteriorated.

제1 영역과 제2 영역의 두께와 관련하여, 제1 영역의 두께(h₃)를 제2 영역의 두께(h₁+h₂)보다 두껍게 구성함으로써, 터치 센서의 내구성을 유지하는 동시에 플렉서블 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.With respect to the thicknesses of the first region and the second region, the thickness (h ₃ ) of the first region is made thicker than the thickness (h ₁ + h ₂ ) of the second region to maintain the durability of the touch sensor, Can be further improved.

제2 영역(44b)의 구체적인 형상의 예들을 설명하면 다음과 같다.Specific examples of the shape of the second region 44b will be described below.

하나의 예로, 도 4에 개시된 바와 같이, 제2 영역(44b)은 평면 형상을 가질 수 있다.As one example, as shown in FIG. 4, the second region 44b may have a planar shape.

이 예들 이외에도 제2 영역(44b)은 절연층(45)의 내구성과 플렉서블 특성을 확보할 수 있는 다양한 형상들을 가질 수 있다.In addition to these examples, the second region 44b may have various shapes that can ensure the durability and flexible characteristics of the insulating layer 45.

도 4에 도시된 패시베이션층(60)은 터치 센서층(40) 상에 형성되어 있다. The passivation layer 60 shown in FIG. 4 is formed on the touch sensor layer 40.

패시베이션층(60)은 절연성 소재로 형성되며, 터치 센서층(40)을 구성하는 제1 감지 패턴(41), 제2 감지 패턴(42), 절연층(45) 및 브릿지 전극(47)을 덮도록 형성되어, 터치 센서층(40)을 외부와 절연시키고, 보호하는 기능을 수행한다. 예를 들어, 패시베이션층(60)은 단층 또는 2층 이상의 복수의 층으로 형성될 수 있다.The passivation layer 60 is formed of an insulating material and covers the first sensing pattern 41, the second sensing pattern 42, the insulating layer 45 and the bridge electrode 47 constituting the touch sensor layer 40 So as to insulate and protect the touch sensor layer 40 from the outside. For example, the passivation layer 60 may be a single layer or a plurality of layers of two or more layers.

예를 들어, 패시베이션층(60)의 두께는 0.5㎛ 이상 5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 패시베이션층(60)의 두께가 0.5㎛ 미만이면, 패시베이션층(60)의 내투습율의 저하로 인해 하부 구성 요소의 부식이 발생할 위험이 증가하고, 충격 등과 같은 외부적인 요인들로부터 터치 센서층(40)을 구성하는 요소들을 충분히 보호할 수 없고, 패시베이션층(60)의 두께가 5㎛를 초과하면, 터치 센서의 플렉서블 특성이 저하되고 패시베이션층(60)의 균일성이 크게 저하되어 터치 센서의 성능 품질이 저하된다.For example, the thickness of the passivation layer 60 is preferably 0.5 탆 or more and 5 탆 or less. If the thickness of the passivation layer 60 is less than 0.5 mu m, there is an increased risk of corrosion of the lower component due to lowering of the moisture permeability of the passivation layer 60, The elements constituting the touch sensor layer 40 can not be sufficiently protected from external factors such as impact and the thickness of the passivation layer 60 exceeds 5 mu m, the flexible characteristic of the touch sensor is deteriorated and the passivation layer The uniformity of the touch sensor 60 is greatly lowered and the performance quality of the touch sensor is deteriorated.

패시베이션층(60)의 소재로는 당 기술분야에 알려진 절연 소재가 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 투명성, 유연성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등에서 우수한 물질이 사용될 수 있다.As the material of the passivation layer 60, an insulating material known in the art can be used without limitation, and for example, a material excellent in transparency, flexibility, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropy and the like can be used.

구체적인 예를 들면, 패시베이션층(60)의 소재로는 유기 절연막이 적용될 수 있으며, 그 중에서도 폴리올(polyol) 및 멜라민(melamine) 경화제를 포함하는 경화성 조성물로 형성된 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. For example, the passivation layer 60 may be formed of an organic insulating layer, and may be formed of a curable composition including a polyol and a melamine curing agent. However, the present invention is not limited thereto.

다른 예로, 패시베이션층(60)은 유무기 하이브리드 경화성 조성물로 형성될 수 있으며, 유기 화합물과 무기 화합물을 동시에 사용하는 경우, 박리시 발생하는 크랙(crack)을 저감할 수 있다는 점에서 바람직하다.As another example, the passivation layer 60 may be formed of an organic-inorganic hybrid curable composition, and when an organic compound and an inorganic compound are used at the same time, the passivation layer 60 is preferable in that cracks generated during peeling can be reduced.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 터치 센서들의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a flexible touch sensor according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 플렉서블 터치 센서는 기재층(10), 터치 센서층(40) 및 패시베이션층(62)을 포함한다.Referring to FIG. 5, the flexible touch sensor includes a substrate layer 10, a touch sensor layer 40, and a passivation layer 62 according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5에 따른 플렉서블 터치 센서는 도 4에 따른 플렉서블 터치 센서와 기재층(10), 터치 센서층(40)은 실질적으로 동일하며, 패시베이션층(62)이 제3 영역 (64)를 포함한다는 점에서 차이가 있다.The flexible touch sensor of FIG. 5 is substantially the same as the flexible touch sensor of FIG. 4, the substrate layer 10 and the touch sensor layer 40, and the passivation layer 62 includes the third region 64 .

도 5에 도시된 제3 영역의 최소 두께(h₄)는 0.5㎛ 이상 1.5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 0.5㎛미만이면 터치센서의 내구성이 저하될 수 있으며, 1.5㎛ 초과하면, 터치 센서의 플렉서블 특성이 저하되고 균일성이 크게 저하되어 터치 센서의 성능 품질이 저하된다.The minimum thickness h ₄ of the third region shown in FIG. 5 is preferably 0.5 μm or more and 1.5 μm or less. If it is less than 0.5 탆, the durability of the touch sensor may deteriorate, and if it exceeds 1.5 탆, the flexible property of the touch sensor may deteriorate and the uniformity may be greatly deteriorated, thereby deteriorating the performance quality of the touch sensor.

예를 들어, 제3 영역 이외 영역의 두께(h₅)는 1.5㎛ 이상 5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 제3 영역 이외 영역의 두께(h₅)가 1.5㎛ 미만이면, 패시베이션층(62)의 내구성이 약해져서 충격 등과 같은 외부적인 요인들로부터 터치 센서층(40)을 구성하는 요소들을 충분히 보호할 수 없고, 5㎛를 초과하면, 터치 센서의 플렉서블 특성이 저하되고 패시베이션층(62)의 균일성이 크게 저하되어 터치 센서의 성능 품질이 저하된다.For example, the thickness (h ₅ ) of the region other than the third region is preferably 1.5 탆 or more and 5 탆 or less. If the thickness h ₅ of the region other than the third region is less than 1.5 탆, the durability of the passivation layer 62 is weakened and the elements constituting the touch sensor layer 40 can not be sufficiently protected from external factors such as impact If it exceeds 5 mu m, the flexible characteristic of the touch sensor is lowered and the uniformity of the passivation layer 62 is greatly lowered, and the performance quality of the touch sensor is deteriorated.

사용자가 터치 센서를 접을 경우 터치 센서가 접히는 라인인 폴딩 라인이 되는 제3 영역의 두께(h₄)를 제3 영역 이외 영역의 두께(h₅)보다 얇게 구성함으로써, 터치 센서의 내구성을 유지하는 동시에 플렉서블 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.The user and by configuring the thickness (h ₄₎ when folding the touch sensor of the which is a folding line touch sensor folding line 3 region thinner than the thickness (h ₅₎ of the third region other than the region, to maintain the durability of the touch sensor At the same time, the flexible characteristics can be further improved.

제3 영역의 구체적인 형상의 예들을 설명하면 다음과 같다.Examples of concrete shapes of the third region are as follows.

하나의 예로, 도 5에 개시된 바와 같이, 제3 영역은 평면 형상을 가질 수 있다.In one example, as illustrated in FIG. 5, the third region may have a planar shape.

다른 예로, 제3 영역은 폴딩 라인(folding ling)에 근접할수록 두께가 얇아지는 경사면 형상을 가질 수 있다.As another example, the third region may have an inclined surface shape in which the thickness becomes thinner toward the folding ling.

또 다른 예로, 제3 영역은 폴딩 라인에 근접할수록 두께가 얇아지는 곡면 형상을 가질 수 있다.As another example, the third region may have a curved shape in which the thickness becomes thinner toward the folding line.

도 6 내지 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 터치 센서 들의 제조방법의 공정 단면도들이다.6-12 are process sectional views of a method of manufacturing flexible touch sensors according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 6에 개시된 바와 같이, 기재층 상에 제1 방향으로 단위 패턴이 이격되어 형성된 제1 감지 패턴(41) 및 제2 방향으로 형성되며 단위 패턴이 이음부를 통해 연결된 제2 감지 패턴(42)을 형성하는 감지 패턴 형성하는 과정이 수행된다. 제1 감지 패턴(41)은 서로 전기적으로 분리된 상태로 제1 방향을 따라 형성되어 있고, 제2 감지 패턴(42)은 이음부를 통해 서로 전기적으로 연결된 상태로 제2 방향을 따라 형성되어 있으며, 제2 방향은 제1 방향과 교차하는 방향이다. 예를 들어, 제1 방향이 X 방향인 경우, 제2 방향은 Y 방향일 수 있다.First, as shown in FIG. 6, Forming a first sensing pattern (41) formed on the base layer with a unit pattern spaced apart in a first direction and a second sensing pattern (42) formed in a second direction and connected to the unit pattern through a joint, Is performed. The first sensing patterns 41 are formed along the first direction in a state of being electrically separated from each other and the second sensing patterns 42 are formed along the second direction with being electrically connected to each other through the joints, The second direction is a direction intersecting the first direction. For example, when the first direction is the X direction, the second direction may be the Y direction.

도 7 및 도 8에 개시된 바와 같이, 하프톤 마스크(halftone mask, M1)를 이용하여 상기 제1 감지 패턴(41) 및 제2 감지 패턴(42) 상부에 형성된 제1 영역(44a)과 상기 제1 영역보다 두께가 얇으며 상기 단위 패턴 간극 상부에 형성된 제2 영역(44b)을 포함하고 콘택홀(43a, 43b)을 구비한 절연층을 형성하는 절연층 형성하는 과정이 수행된다.7 and 8, a first region 44a formed on the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42 using a halftone mask M1, A step of forming an insulating layer which is thinner than the first region and includes the second region 44b formed on the unit pattern gap and has the contact holes 43a and 43b is formed.

구체적으로, 도 7에 개시된 바와 같이, 제1 감지 패턴(41)과 제2 감지 패턴(42) 사이에 절연층 형성용 물질층(50)을 형성하는 과정이 수행된다.7, a process of forming an insulating layer forming material layer 50 between the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42 is performed.

다음으로, 도 7에 개시된 바와 같이, 하프톤 마스크(halftone mask, M1)를 절연층 형성용 물질층(50) 상에 배치한 상태에서, 하프톤 마스크(M)를 이용하여 절연층 형성용 물질층(50)을 차등적으로 노광하고 현상하는 과정이 수행된다. 이를 통해 도 8에 도시한 바와 같이 컨택홀(43a, 43b), 두께가 다른 제1 영역(44a)과 제2 영역(44b)를 포함하는 절연층(45)을 얻을 수 있다. Next, as shown in FIG. 7, a halftone mask (M) is formed by using a halftone mask (M) in a state where a halftone mask (M1) is disposed on the insulating layer forming material layer A process of differently exposing and developing the layer 50 is performed. As a result, the insulating layer 45 including the contact holes 43a and 43b and the first region 44a and the second region 44b having different thicknesses can be obtained as shown in FIG.

하프톤 마스크(M1)는 투광성 기판 및 그 위에 형성되는 반투과부 및 차광부로 구성된다. 반투과부는 MoSiN, MoSi, MoSiO, MoSiON, CrSi 등을 사용할 수 있다. 차광부는 크롬이나 산화크롬 등의 광을 흡수하는 차광 재료를 사용하여 형성할 수 있다. The halftone mask M1 is composed of a translucent substrate and a translucent portion and a light shield portion formed thereon. MoSiN, MoSi, MoSiO, MoSiON, CrSi, or the like can be used for the semi-transmissive portion. The light-shielding portion can be formed using a light-shielding material that absorbs light such as chromium or chromium oxide.

하프톤 마스크(M1)에 노광광을 조사한 경우, 차광부에 있어서는 광 투과율은 0%이며, 차광부 및 반투과부가 형성되지 않은 영역에서는 광 투과율은 100%이다. 또한, 반투과부에 있어서는 10 내지 80%의 범위에서 조정할 수 있다. 반투과부에 있어서의 광의 투과율의 조정은 반투과부의 재료에 의해 조정할 수 있다. When the halftone mask M1 is irradiated with exposure light, the light transmittance in the light shielding portion is 0%, and the light transmittance in the region where the light shielding portion and the transflective portion are not formed is 100%. Further, in the transflective portion, it can be adjusted in the range of 10 to 80%. The adjustment of the transmittance of light in the semi-transmissive portion can be adjusted by the material of the semi-transmissive portion.

하프톤 마스크(M1)는 목표 패턴의 형상에 대응하는 광 투과율 패턴을 갖는다. 즉, 노광기로부터 출사된 광이 하프톤 마스크(M1)에 도달하면, 하프톤 마스크(M)에 도달한 광은 하프톤 마스크(M)가 갖는 광 투과율 패턴에 대응하여 하프톤 마스크(M)를 투과하여 절연층 형성용 물질층(50)에 도달하기 때문에, 절연층 형성용 물질층(50)은 하프톤 마스크(M)의 광 투과율 패턴에 대응하여 노광된다. The halftone mask M1 has a light transmittance pattern corresponding to the shape of the target pattern. That is, when the light emitted from the exposure device reaches the halftone mask M 1, the light reaching the halftone mask M is reflected by the halftone mask M in correspondence with the light transmittance pattern of the halftone mask M And reaches the insulating layer forming material layer 50, the insulating layer forming material layer 50 is exposed corresponding to the light transmittance pattern of the halftone mask M.

예를 들어, 최종적으로 형성되는 절연층(60, 62)의 두께를 고려하여, 절연층 형성용 물질층(50)은 5㎛ 이하의 두께로 형성될 수 있다. For example, in consideration of the thickness of the finally formed insulating layers 60 and 62, the insulating layer forming material layer 50 may be formed to a thickness of 5 탆 or less.

도 7 및 8은 각각 하프톤 마스크(M1)를 이용한 절연층(45) 형성 단계를 통하여 획득할 수 있는 제2 영역(44b)이 평면 형상을 갖는 예를 보여준다.7 and 8 show an example in which the second region 44b obtainable through the step of forming the insulating layer 45 using the halftone mask M1 has a planar shape.

다음으로, 도 9에 개시된 바와 같이, 상기 절연층 상부에 상기 제1 감지 패턴(42)의 이격된 단위 패턴을 연결하는 브릿지 전극 형성하는 과정이 수행된다. 즉, 인접하는 제1 감지 패턴(42)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(47)을 형성하는 과정이 수행된다.Next, as shown in FIG. 9, a bridge electrode is formed to connect the spaced apart unit patterns of the first sensing patterns 42 on the insulating layer. That is, a process of forming a bridge electrode 47 for electrically connecting adjacent first sensing patterns 42 is performed.

제1 감지 패턴(41)과 제2 감지 패턴(42)을 절연시키는 절연층(45)의 소재로는 당 기술분야에 알려진 절연 소재가 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 투명성, 유연성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등에서 우수한 물질이 사용될 수 있다.As the material of the insulating layer 45 for insulating the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42, an insulating material known in the art can be used without limitation. For example, a transparent material, a flexible material, Materials excellent in strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropy, etc. can be used.

다음으로 터치 센서층 상부에 패시베이션 형성용 물질 층을 형성함으로써 패시베이션층(60, 62)을 형성한다.Next, passivation layers 60 and 62 are formed by forming a passivation layer on the touch sensor layer.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따라 절연층에만 두께를 영역별로 두께를 상이하게 형성하는 실시예에 해당하는 패시베이션층 형성 단계를 보여주고, 절연층의 두께 차이로 인해 동일한 두께를 가지는 패시베이션층도 절연층의 굴곡에 따라 평평하지 않고, 굴곡 형상을 갖도록 형성된다. 10 shows a passivation layer forming step corresponding to an embodiment in which the thickness of the insulating layer is different for each region according to an embodiment of the present invention. In the passivation layer forming step, Are formed to have a curved shape instead of being flat according to the curvature of the insulating layer.

도 11 및 12는 본 발명의 일 실시예에 따라 상기 제1 감지 패턴 및 제2 감지 패턴 상부에 형성된 제1 영역과 상기 제1 영역보다 두께가 얇으며 상기 단위 패턴 간극 상부에 형성된 제2 영역을 포함하는 절연층 및 일 방향을 따라 형성된 제3 영역의 두께가 제3 영역이외의 영역보다 두께가 얇은 패시베이션층을 포함하는 실시예에 해당하는 패시베이션층 형성 단계를 보여준다.FIGS. 11 and 12 are views showing a first region formed on the first sensing pattern and a second sensing pattern, and a second region formed on the upper portion of the unit pattern gap according to an embodiment of the present invention, And a passivation layer having a thickness of a third region formed along one direction and having a thickness thinner than a region other than the third region.

도 10을 참조하면, 터치 센서층(40)의 상부에 패시베이션 형성용 물질 층을 이용하여 패시베이션층(62)을 형성한다.Referring to FIG. 10, a passivation layer 62 is formed on the touch sensor layer 40 using a passivation layer.

도 11을 참조하면, 터치 센서층(40)의 상부에 패시베이션 형성용 물질 층(61)을 형성하고, 하프톤 마스크(halftone mask, M2)를 패시베이션 형성용 물질 층(61) 상에 배치한 상태에서, 하프톤 마스크(M)를 이용하여 패시베이션 형성용 물질 층(61)을 차등적으로 노광하고 현상하는 과정이 수행된다. 이를 통해 도 12에 도시한 바와 같이 일 방향을 따라 형성된 제3 영역과 상기 제3 영역 이외 영역의 높이가 각각 다른 패시베이션층(62)을 얻을 수 있다. 11, a passivation material layer 61 is formed on the touch sensor layer 40 and a halftone mask M2 is disposed on the passivation layer 61 A process of differentially exposing and developing the passivation-forming material layer 61 using the halftone mask M is performed. 12, a passivation layer 62 having different heights of a third region formed along one direction and a region other than the third region can be obtained.

하프톤 마스크(M2)는 투광성 기판 및 그 위에 형성되는 반투과부 및 차광부로 구성된다. 반투과부는 MoSiN, MoSi, MoSiO, MoSiON, CrSi 등을 사용할 수 있다. 차광부는 크롬이나 산화크롬 등의 광을 흡수하는 차광 재료를 사용하여 형성할 수 있다. The halftone mask M2 is composed of a translucent substrate and a translucent portion and a light shield portion formed thereon. MoSiN, MoSi, MoSiO, MoSiON, CrSi, or the like can be used for the semi-transmissive portion. The light-shielding portion can be formed using a light-shielding material that absorbs light such as chromium or chromium oxide.

하프톤 마스크(M2)에 노광광을 조사한 경우, 차광부에 있어서는 광 투과율은 0%이며, 차광부 및 반투과부가 형성되지 않은 영역에서는 광 투과율은 100%이다. 또한, 반투과부에 있어서는 10 내지 80%의 범위에서 조정할 수 있다. 반투과부에 있어서의 광의 투과율의 조정은 반투과부의 재료에 의해 조정할 수 있다.When the halftone mask M2 is irradiated with exposure light, the light transmittance in the light shielding portion is 0%, and the light transmittance in the region where the light shielding portion and the transflective portion are not formed is 100%. Further, in the transflective portion, it can be adjusted in the range of 10 to 80%. The adjustment of the transmittance of light in the semi-transmissive portion can be adjusted by the material of the semi-transmissive portion.

하프톤 마스크(M2)는 목표 패턴의 형상에 대응하는 광 투과율 패턴을 갖는다. 즉, 노광기로부터 출사된 광이 하프톤 마스크(M)에 도달하면, 하프톤 마스크(M)에 도달한 광은 하프톤 마스크(M)가 갖는 광 투과율 패턴에 대응하여 하프톤 마스크(M)를 투과하여 패시베이션 형성용 물질 층(61)에 도달하기 때문에, 패시베이션 형성용 물질 층(61)은 하프톤 마스크(M)의 광 투과율 패턴에 대응하여 노광된다.The halftone mask M2 has a light transmittance pattern corresponding to the shape of the target pattern. That is, when the light emitted from the exposure device reaches the halftone mask M, the light reaching the halftone mask M passes through the halftone mask M in correspondence with the light transmittance pattern of the halftone mask M The passivation material layer 61 is exposed in correspondence with the light transmittance pattern of the halftone mask M. In this case,

예를 들어, 최종적으로 형성되는 패시베이션의 두께를 고려하여, 패시베이션 형성용 물질 층(61)은 5㎛ 이하의 두께로 형성될 수 있다.For example, in consideration of the thickness of the finally formed passivation, the passivation-forming material layer 61 may be formed to a thickness of 5 占 퐉 or less.

도 11 및 12는 각각 하프톤 마스크(M2)를 이용한 패시베이션층(60, 62) 형성 단계를 통하여 획득할 수 있는 제3 영역이 평면 형상을 갖는 예를 보여준다.11 and 12 show an example in which the third region that can be obtained through the passivation layers 60 and 62 using the halftone mask M2 has a planar shape.

도면을 통해 나타내지 않았으나, 제3 영역은 폴딩 라인(folding line)에 근접할수록 두께가 얇아지는 경사면 형상을 가질 수 있다.Although not shown in the drawings, the third region may have an inclined surface shape in which the thickness becomes thinner toward the folding line.

도면을 통해 나타내지 않았으나, 제3 영역은 폴딩 라인에 근접할수록 두께가 얇아지는 곡면 형상을 가질 수 있다.Though not shown in the drawings, the third region may have a curved shape in which the thickness becomes thinner toward the folding line.

도 11 및 도 12는 패시베이션층(60, 62)의 제1 영역의 형상의 예들을 개시할 뿐이며, 이 예들 이외에도 제3 영역은 패시베이션층(60, 62)의 내구성과 플렉서블 특성을 확보할 수 있는 다양한 형상들을 가질 수 있다.11 and 12 only illustrate examples of the shapes of the first regions of the passivation layers 60 and 62. In addition to these examples, the third region is a region in which the durability and flexible characteristics of the passivation layers 60 and 62 can be secured It can have various shapes.

도 6 내지 12는 먼저 제1 감지 패턴(41) 및 제2 감지 패턴(42)을 형성한 후 브릿지 전극(47)을 형성하는 실시예들에 대하여 예시적으로 설명한 것이며, 브릿지 전극을 형성한 후 제1 감지 패턴 및 제2 감지 패턴을 형성하는 실시예들에도 본 발명이 적용될 수 있다.6 to 12 illustrate embodiments in which the first sensing pattern 41 and the second sensing pattern 42 are formed and then the bridge electrode 47 is formed. After forming the bridge electrode The present invention is also applicable to the embodiments in which the first sensing pattern and the second sensing pattern are formed.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 내구성을 유지하는 동시에 플렉서블 특성을 향상시킬 수 있는 플렉서블 터치 센서 및 이의 제조방법이 제공되는 효과가 있다.As described above in detail, according to the present invention, there is provided the flexible touch sensor capable of maintaining the durability and improving the flexible characteristic and the manufacturing method thereof.

10: 기재층
40: 터치 센서층
41: 제1 감지 패턴
42: 제2 감지 패턴
43a, 43b: 컨택홀
44a: 제1 영역
44b: 제2 영역
45: 절연층
46: 굴곡부
47: 브릿지 전극
61: 패시베이션 형성용 물질 층
60, 62: 패시베이션층
64: 제3 영역
M: 하프톤 마스크10: substrate layer
40: touch sensor layer
41: first detection pattern
42: 2nd detection pattern
43a, 43b: contact holes
44a: first region
44b: the second region
45: Insulating layer
46:
47: Bridge electrode
61: Passivation forming material layer
60, 62: Passivation layer
64: third region
M: Halftone mask

Claims

A base layer;
A second sensing pattern formed on the base layer in a first sensing pattern spaced apart from the unit pattern in the first direction and connected to the unit pattern through the seam;
A bridge electrode connecting the spaced apart unit patterns of the first sensing pattern;
An insulating layer interposed between the first and second sensing patterns and the bridge electrode and having a contact hole;
Wherein the insulating layer includes a first region formed on the first sensing pattern and a second sensing pattern, and a second region formed on the gap between the first sensing pattern and the second sensing pattern.

The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the insulating layer is 0.5 占 퐉 or more and 5 占 퐉 or less.

The method according to claim 1,
And the minimum thickness of the second region is 0.5 占 퐉 or more.

The flexible touch sensor according to claim 1, wherein the thickness of the first region is 1.5 占 퐉 or more and 5 占 퐉 or less.

The method according to claim 1,
And a passivation layer formed on the touch sensor layer.

6. The method of claim 5,
Wherein a thickness of the third region formed along one direction of the passivation layer is thinner than an area other than the third region.

The method according to claim 6,
Wherein the third region has a pattern inclined surface shape in which the thickness becomes thinner toward the folding line.

The method according to claim 6,
Wherein the third region has a curved shape in which the thickness of the third region is thinner toward the folding line.

The method according to claim 6,
And the minimum thickness of the third region is 0.5 占 퐉 or more.

A sensing pattern forming step of forming a first sensing pattern formed in a first direction and a second sensing pattern formed in a second direction on the base layer, the unit patterns being connected to each other through a joint;
A first region formed on the first sensing pattern and a second sensing pattern using a halftone mask M1 and a second region formed thinner than the first region and formed on the unit pattern gap, And forming an insulating layer having a contact hole; And
And a bridge electrode forming step of connecting a spaced apart unit pattern of the first sensing pattern to an upper portion of the insulating layer.

11. The method of claim 10,
Further comprising a passivation forming step of forming a passivation forming material layer on the touch sensor layer.

12. The method of claim 11,
In the passivation forming step,
Wherein a passivation is formed by using a halftone mask (M2) so that the thickness of the third region formed along one direction is thinner than the region other than the third region.