KR20140076292A - Method of fabricating display device using flexible film - Google Patents

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KR20140076292A
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Abstract

The present invention provides a method for manufacturing a display device using a flexible film, wherein the method comprises the steps of: performing plasma treatment on the surface of a flexible film; forming an adhesive layer consisting of a silane coupling agent on one surface of a carrier surface; adhering the adhesive layer and the plasma treated surface of the flexible film; forming a display element on the flexible film; and separating the flexible film by irradiating a laser beam on the back surface of the carrier substrate.

Description

플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법{Method of fabricating　display device using flexible film}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of fabricating a display device using a flexible film,

본 발명은 플렉서블 필름을 기판으로 이용하는 표시장치에 관한 것으로, 특히 플렉서블 필름을 캐리어 기판으로부터 탈착하는 공정에서 플렉서블 상에 형성된 표시소자의 손상을 방지할 수 있는 플레서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a display device using a flexible film as a substrate, and more particularly to a method of manufacturing a display device using a flexible film capable of preventing damage to a display element formed on a flexible substrate in a process of attaching and detaching the flexible film from a carrier substrate .

근래에 들어 사회가 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 여러 가지 다양한 평판표시장치가 개발되어 각광받고 있다. In recent years, as the society has become a full-fledged information age, a display field for processing and displaying a large amount of information has rapidly developed, and various flat panel display devices have been developed in response to this.

이 같은 평판표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device : LCD), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device : PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device : FED), 유기발광다이오드표시장치(organic light emitting diode display device : OELD) 등을 들 수 있는데, 이들 평판표시장치는 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 보여 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 빠르게 대체하고 있다. Specific examples of such a flat panel display include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), an organic light emitting diode (OELD). These flat panel display devices are superior in performance of thinning, light weight, and low power consumption, and are rapidly replacing existing cathode ray tubes (CRTs).

이러한 평판표시장치는 브라운관(CRT)에 비해 경량 박형이고, 대형화에 유리한 장점이 있다. Such a flat panel display device is thin and light compared to a cathode ray tube (CRT), and is advantageous in that it is large in size.

그러나, 이러한 평판표시장치는 제조 공정 중 발생하는 높은 열을 견딜 수 있도록 유리기판을 사용하므로 경량 박형화 및 유연성을 부여하는데 한계가 있다. However, such a flat panel display uses a glass substrate to withstand the high heat generated during the manufacturing process, and thus has a limitation in providing lightweight thinning and flexibility.

따라서 최근 기존의 유연성이 없는 유리기판 대신에 플라스틱 등과 같이 유연성 있는 재료를 사용하여 종이처럼 휘어져도 표시성능을 그대로 유지할 수 있게 제조된 플렉서블(flexible) 표시장치가 차세대 평판표시장치로 급부상중이다. Therefore, a flexible display device which is manufactured so that the display performance can be maintained even if it is bent like paper by using a flexible material such as plastic instead of a conventional glass substrate having no flexibility is rapidly emerging as a next generation flat panel display device.

그러나 이러한 플렉서블 표시장치를 제조하는데 있어, 유연한 특성을 갖도록 하기 위해 이용되는 플라스틱 재질의 필름은 열에 약한 특성 때문에 유리기판을 처리 대상으로 하는 종래의 표시장치용 제조장비에 적용되기 어렵다.However, in manufacturing such a flexible display device, the plastic film used for providing flexible characteristics is difficult to apply to a conventional manufacturing apparatus for a display device, which is a glass substrate to be processed because of its weak heat characteristic.

일례로, 트랙(track) 장비나 로봇(robot)에 의한 반송 시 특히, 로봇 암에 플라스틱 필름을 위치시키게 되면 심하게 휘어져 로봇 암 사이로 빠지게 되거나, 또는 카세트로의 수납 시 기판 각각을 수납시키는 카세트 단의 폭보다 기판의 처짐 폭이 더 커 로봇에 의한 수납이 불가능한 단점이 있다. For example, when the plastic film is placed on the robot arm, particularly when the robot is transported by a track device or a robot, the plastic film is severely bent to fall into the robot arm, or the cassette stage The deflection width of the substrate is larger than that of the width, which makes it impossible to store the robot by the robot.

따라서, 플라스틱 기판을 이용한 표시장치의 제조는 일반적인 유리 기판을 이용한 표시장치의 제조와는 달리 플라스틱 기판 자체만으로 박막트랜지스터를 형성하는 어레이 공정에 문제가 발생한다.Therefore, unlike the manufacture of a display device using a general glass substrate, the manufacture of a display device using a plastic substrate poses a problem in an array process of forming a thin film transistor using only the plastic substrate itself.

이러한 문제를 극복하기 위해 상기 플라스틱 필름을 유리기판과 같은 캐리어 기판(carrier substrate)의 일면에 부착하여 반송 공정이 가능하도록 한 상태를 만든 후, 일반적인 표시장치 제조 공정을 진행하여 플렉서블 표시장치를 완성하고 있다. In order to overcome such a problem, the plastic film is attached to one side of a carrier substrate such as a glass substrate so that a transporting process can be performed. Then, a general display device manufacturing process is performed to complete a flexible display device have.

종래의 플렉서블 표시장치의 제조 방법은 크게 점착공정, 표시소자 형성 공정 및 박리공정으로 나뉘어 진행되고 있다.
The conventional method of manufacturing a flexible display device is divided into an adhesive process, a display element forming process, and a peeling process.

도 1a 내지 도 1c는 종래의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 공정을 보여주는 개략적인 단면도이다. 설명의 편의를 위해 플레서블 필름 상에 형성되는 구성요소는 생략하였다. 1A to 1C are schematic cross-sectional views showing a manufacturing process of a display device using a conventional flexible film. The components formed on the flexible film are omitted for convenience of explanation.

우선, 도 1a 에 도시한 바와 같이, 레이저 빔 투과가 가능한 유리재질의 캐리어 기판(5) 상에 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)을 증착하여 레이저 어블레이션층(ablation layer, 7)을 형성 한다. 1A, hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) is deposited on a carrier substrate 5 made of a glass material capable of transmitting a laser beam to form a laser ablation layer 7 .

이후, 도 1b에 도시한 바와 같이, 상기 레이저 어블레이셔층(7) 위로 고분자 물질, 예를 들어 폴리이미드를 도포하여 플렉서블 필름(10)을 형성하고, 그 상부로 표시소자를 형성한다.Then, as shown in FIG. 1B, a polymer material such as polyimide is applied on the laser ablation layer 7 to form a flexible film 10, and a display element is formed thereon.

예를 들어, 유기발광다이오드 표시장치인 경우, 플렉서블 필름(10) 상에 박막트랜지스터와 발광다이오드를 형성할 수 있다.For example, in the case of an organic light emitting diode display device, a thin film transistor and a light emitting diode can be formed on the flexible film 10.

다음, 도 1c에 도시된 바와 같이, 상기 캐리어 기판(5)의 배면에 대해 레이저 장치(99)를 이용하여 전면에 레이저 빔(LB)을 조사하여 상기 플렉서블 필름(10)을 상기 캐리어 기판(5)으로부터 탈착시킨다. 상기 어블레이션층(7)에 레이저 빔(LB)가 조사되면 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)으로부터 수소 기체가 배출되며 이에 의해 상기 플렉서블 필름(10)과 상기 어블레이션층(7) 간의 접착력이 약하된다. 이후, 진공 흡착 공정을 통해 상기 플렉서블 필름(10)을 분리하게 된다. 1C, a laser beam LB is applied to the front surface of the carrier substrate 5 by using a laser device 99 to transfer the flexible film 10 to the carrier substrate 5 ). When the laser beam LB is irradiated onto the ablation layer 7, hydrogen gas is discharged from the hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H), whereby the gap between the flexible film 10 and the ablation layer 7 The adhesive strength is weakened. Thereafter, the flexible film 10 is separated through a vacuum adsorption process.

그러나, 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)은 PECVE(plasma enhanced chemical vapor deposition) 공정에 의해 증착되어야 하므로 공정이 복잡하고 공정 시간이 증가하게 된다. However, since the hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) must be deposited by a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVE) process, the process is complicated and the process time is increased.

또한, 어블레이션층(7)에 조사되는 레이저 빔(LB)는 532nm의 파장을 갖는데, 이는 플렉서블 필름(10)을 통과하여 그 상부에 형성된 표시소자에 손상을 주게 된다. In addition, the laser beam LB irradiated on the ablation layer 7 has a wavelength of 532 nm, which passes through the flexible film 10 and damages the display element formed thereon.

또한, 상기 플렉서블 필름(10)을 분리하기 위한 진공 흡착 공정에 의해 플렉서블 필름(10) 상에 형성된 표시소자의 물리적 손상 역시 발생하게 된다.
Physical damage of the display element formed on the flexible film 10 also occurs due to the vacuum adsorption process for separating the flexible film 10.

본 발명은 플렉서블 필름을 캐리어 기판에 부착하는 공정에 의한 공정 시간 증가와, 플렉서블 필름을 캐리어 기판으로부터 탈착시키는 고정에 의한 표시소자 손상의 문제를 해결하고자 한다.
An object of the present invention is to solve the problem of display element damage due to an increase in the processing time by the step of adhering the flexible film to the carrier substrate and fixing by which the flexible film is detached from the carrier substrate.

위와 같은 과제의 해결을 위해, 본 발명은 플렉서블 필름의 일면에 플라즈마 처리를 진행하는 단계와; 캐리어 기판의 일면에 실란커플링제로 이루어지는 접착층을 형성하는 단계와; 상기 접착층과 상기 플렉서블 필름의 플라즈마 처리된 일면을 접착시키는 단계와; 상기 플렉서블 필름 상에 표시소자를 형성하는 단계와; 상기 캐리어 기판의 배면에 레이저 빔을 조사하여 상기 플렉서블 필름을 분리시키는 단계를 포함하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention provides a method of manufacturing a flexible film, comprising the steps of: subjecting a surface of a flexible film to a plasma treatment; Forming an adhesive layer comprising a silane coupling agent on one surface of the carrier substrate; Bonding the adhesive layer to the plasma-treated one side of the flexible film; Forming a display element on the flexible film; And irradiating a laser beam onto a back surface of the carrier substrate to separate the flexible film.

본 발명의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 있어서,상기 접착층과 상기 플렉서블 필름의 플라즈마 처리된 일면을 접착시키는 단계 이전에, 중앙에 투과부를 갖고 가장자리에 차단부를 갖는 마스크를 상기 접착층 상부에 위치하는 단계와; 상기 마스크를 이용하여 UV를 조사함으로써 상기 접착층의 중앙 영역 실란커플링제를 변성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a display device using the flexible film of the present invention, a mask having a transmissive portion at the center and a blocking portion at the edge is provided on the upper portion of the adhesive layer before the step of adhering the adhesive layer and the plasma- ; And modifying the central region silane coupling agent of the adhesive layer by irradiating UV with the mask.

본 발명의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 있어서,상기 UV가 조사된 상기 접착층의 중앙 영역은 가장자리 영역에 비해 상기 플렉서블 필름과의 접착력이 작은 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a display device using the flexible film of the present invention, the central region of the adhesive layer to which the UV is irradiated is characterized in that the adhesive force to the flexible film is smaller than that of the edge region.

본 발명의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 실란커플링제는 UV에 의해 변성되는 알콕시기를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method for producing a display device using the flexible film of the present invention, the silane coupling agent is characterized by containing an alkoxy group denatured by UV.

본 발명의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 실란커플링제는 하기 화학식으로 표시되는 다수의 물질 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method for manufacturing a display device using the flexible film of the present invention, the silane coupling agent may include at least one of a plurality of materials represented by the following formulas.

Figure pat00001
Figure pat00002
Figure pat00001
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Figure pat00003
Figure pat00004
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Figure pat00005
Figure pat00006
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본 발명의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 UV는 185nm 파장인 것을 특징으로 한다.In the method for manufacturing a display device using the flexible film of the present invention, the UV is characterized by having a wavelength of 185 nm.

본 발명의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 상기 플렉서블 필름 상에 표시소자를 형성하는 단계와, 상기 캐리어 기판의 배면에 레이저를 조사하여 상기 플렉서블 필름을 분리시키는 단계 사이에, 상기 마스크의 차단부에 대응하는 상기 캐리어 기판과, 상기 접착층과 상기 플렉서블 필름을 커팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a display device using the flexible film of the present invention, a step of forming a display element on the flexible film, and a step of irradiating a laser beam onto the back surface of the carrier substrate to separate the flexible film, And cutting the carrier substrate, the adhesive layer and the flexible film corresponding to the shielding portion of the mask.

본 발명의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 플렉서블 필름은 폴리이미드로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a display device using the flexible film of the present invention, the flexible film is characterized by being made of polyimide.

본 발명의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 레이저 빔은 300~400nm의 파장을 갖는 것을 특징으로 한다.
In the method for manufacturing a display device using the flexible film of the present invention, the laser beam has a wavelength of 300 to 400 nm.

본 발명은 실란커플링제를 이용하여 폴리이미드 필름을 캐리어 기판에 부착하고 이에 비교적 낮은 에너지의 레이저 빔를 조사함으로써 폴리이미드 필름을 캐리어 기판으로부터 탈착시킬 수 있다. 이때, 레이저 빔은 폴리이미드 필름에 의해 흡수됨으로써 폴리이미드 필름 상에 형성된 표시소자의 손상을 원천적으로 방지할 수 있다.The present invention can detach the polyimide film from the carrier substrate by attaching the polyimide film to the carrier substrate using a silane coupling agent and irradiating the laser beam with a relatively low energy beam. At this time, since the laser beam is absorbed by the polyimide film, damage to the display element formed on the polyimide film can be prevented originally.

또한, 폴리이미드 필름은 코팅 공정에 의해 도포되므로, 종래 PECVD공정에 의해 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)을 증착하는 공정에 비해 공정 시간을 크게 단축할 수 있다.In addition, since the polyimide film is coated by the coating process, the process time can be significantly shortened compared with the process of depositing hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) by the conventional PECVD process.

또한, 실란커플링제로 이루어지는 접합층의 중앙부에만 1차 레이저 조사 공정을 진행함으로써, 최종 폴리이미드 필름의 탈착 공정을 용이하게 할 수 있다.Further, by conducting the primary laser irradiation step only at the central portion of the bonding layer made of the silane coupling agent, the step of desorbing the final polyimide film can be facilitated.

더욱이, 이와 같은 탈착 공정은 진공 흡착에 의한 필름 분리를 필요로 하지 않기 때문에, 진공 흡착 공정에 의해 표시소자의 손상을 원천적으로 방지할 수 있다.
Moreover, since such a desorption process does not require film separation by vacuum adsorption, the damage of the display device can be fundamentally prevented by the vacuum adsorption process.

도 1a 내지 도 1c는 종래의 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 공정을 보여주는 개략적인 단면도이다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 공정을 보여주는 개략적인 단면도이다.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 공정을 보여주는 개략적인 단면도이다.
도 4는 도 3c의 공정을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 5a 및 도 5b는 UV 조사에 따른 실란커플링제의 접착력 변화를 설명하기 위한 도면이다.1A to 1C are schematic cross-sectional views showing a manufacturing process of a display device using a conventional flexible film.
2A to 2E are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a display device using a flexible film according to a first embodiment of the present invention.
3A to 3F are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a display device using a flexible film according to a second embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view for explaining the process of FIG. 3C.
5A and 5B are views for explaining a change in adhesion of a silane coupling agent according to UV irradiation.

본 발명은 플렉서블 필름을 이용하여 표시장치를 제조함에 있어, 플렉서블 필름을 캐리어 기판에 부착 및 탈착하는 공정에 관한 것이다.The present invention relates to a process for attaching and detaching a flexible film to a carrier substrate in manufacturing a display device using the flexible film.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 공정을 보여주는 개략적인 단면도이다.2A to 2E are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a display device using a flexible film according to a first embodiment of the present invention.

도 2a에 도시된 바와 같이, 플렉서블 필름(110)의 일면에 플라즈마(plasma) 처리를 진행한다. 상기 플렉서블 필름(110)은 폴리이미드로 이루어질 수 있다. 이러한 플라즈마 처리는 폴리이미드로 이루어지는 플렉서블 필름(110)과 후술되는 접착층(130)의 접착을 위한 것이다.As shown in FIG. 2A, a plasma process is performed on one surface of the flexible film 110. The flexible film 110 may be made of polyimide. This plasma treatment is for bonding the flexible film 110 made of polyimide and the adhesive layer 130 described below.

다음, 도 2b에 도시된 바와 같이, 캐리어 기판(120) 상에 실란커플링제를 도포하여 접착층(130)을 형성한다. 상기 캐리어 기판(120)은 유리기판일 수 있다.Next, as shown in FIG. 2B, a silane coupling agent is applied on the carrier substrate 120 to form an adhesive layer 130. Next, as shown in FIG. The carrier substrate 120 may be a glass substrate.

상기 실란커플링제는 유리기판과 결합할 수 있도록 일단에 산소 또는 질소를 포함하는 관능기를 포함하고, 폴리이미드로 이루어지는 플렉서블 필름(110)의 플라즈마 처리된 일면과 결합할 수 있도록 알콕시기를 포함한다. 예를 들어, 상기 실란커플링제는 하기 화학식에 표시된 다수의 물질 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The silane coupling agent includes a functional group containing oxygen or nitrogen at one end so as to be able to bond with the glass substrate and includes an alkoxy group to be bonded to the plasma-treated one side of the flexible film 110 made of polyimide. For example, the silane coupling agent may include at least one of a plurality of materials represented by the following formulas.

Figure pat00007
Figure pat00008
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Figure pat00009
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Figure pat00011
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다음, 도 2c에 도시된 바와 같이, 실란커플링제로 이루어지는 상기 접착층(130)과 상기 플렉서블 필름(110)의 플라즈마 처리된 면을 접착시킨다. 상기 접착층(130)과 상기 플렉서블 필름(110)의 접착은 롤러를 이용한 라미네이팅 공정일 수 있다.Next, as shown in FIG. 2C, the adhesive layer 130 made of a silane coupling agent and the plasma-treated surface of the flexible film 110 are bonded. The adhesion between the adhesive layer 130 and the flexible film 110 may be a laminating process using a roller.

전술한 바와 같이, 폴리이미드로 이루어지는 상기 플렉서블 필름(110)에 대하여 플라즈마 처리가 진행되며 이에 의해 실란커플링제로 이루어지는 상기 접착층(130)과 접착이 이루어진다. As described above, the flexible film 110 made of polyimide is subjected to the plasma treatment, thereby bonding with the adhesive layer 130 made of a silane coupling agent.

상기 접착층(130)과 상기 플렉서블 필름(110)의 접착 특성 향상을 위해 약 200℃의 온도 조건에서 소성(curing) 공정이 더 진행될 수 있다. 이러한 소성 공정은 생략 가능하다.A curing process may be further performed at a temperature of about 200 ° C to improve adhesion between the adhesive layer 130 and the flexible film 110. This firing step can be omitted.

다음, 도 2d에 도시된 바와 같이, 상기 플렉서블 필름(110) 상에 표시소자(140)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 2D, a display device 140 is formed on the flexible film 110.

예를 들어, 상기 플렉서블 필름(110)이 유기발광다이오드표시장치의 일 기판으로 이용되는 경우, 상기 플렉서블 필름(110) 상에 스위칭 박막트랜지스터와 구동 박막트랜지스터를 형성하고, 상기 구동 박막트랜지스터와 연결되는 발광다이오드를 형성할 수 있다.For example, when the flexible film 110 is used as one substrate of an organic light emitting diode display device, a switching thin film transistor and a driving thin film transistor are formed on the flexible film 110, A light emitting diode can be formed.

전술한 바와 같이, 이와 같은 표시소자(140)의 형성 공정은 플레서블 필름(110) 상에 직접 진행될 수 없다. 그러나, 본 발명에서와 같이 플렉서블 필름(110)을 캐리어 기판(120)에 부착시킨 상태에서는 플렉서블 필름(110)이 캐리어 기판(120)에 의해 지지, 고정된 상태이기 때문에, 표시소자(140)의 형성 공정이 가능하게 된다.As described above, such a step of forming the display element 140 can not proceed directly on the flexible film 110. However, since the flexible film 110 is supported and fixed by the carrier substrate 120 in a state where the flexible film 110 is attached to the carrier substrate 120 as in the present invention, Forming process becomes possible.

다음, 도 2e에 도시된 바와 같이, 상기 캐리어 기판(120)의 배면에 레이저 빔(LB)를 조사하여 상기 표시소자(140)가 형성된 플렉서블 필름(110)을 상기 캐리어 기판(120), 더욱 정확히는 상기 접착층(130)으로부터 분리시킨다.2E, a laser beam LB is irradiated to the rear surface of the carrier substrate 120 to expose the flexible film 110 on which the display device 140 is formed to the carrier substrate 120, more precisely, And is separated from the adhesive layer 130.

이때, 상기 레이저 빔(LB)는 300~400nm의 파장을 갖는다. 예를 들어, 상기 레이저 빔(LB)은 355nm 또는 308nm의 파장을 가질 수 있다. 즉, 종래 수소화된 비정질 실리콘을 어블레이션층으로 이용하는 경우에 비해 작은 파장은 레이저 빔(LB)을 이용하여 상기 접착층(130)과 상기 플렉서블 필름(110)의 접착력을 제거할 수 있다.At this time, the laser beam LB has a wavelength of 300 to 400 nm. For example, the laser beam LB may have a wavelength of 355 nm or 308 nm. That is, the bonding strength between the adhesive layer 130 and the flexible film 110 can be reduced by using the laser beam LB in comparison with the case where the hydrogenated amorphous silicon is used as the ablation layer.

특히, 300~400nm의 파장의 레이저 빔(LB)은 폴리이미드로 이루어지는 플렉서블 필름(110)에 의해 흡수되는 특성을 갖는다. 따라서, 상기 플렉서블 필름(110)을 상기 캐리어 기판(120)으로부터 분리하기 위한 상기 레이저 빔(LB)에 의해 상기 플렉서블 필름(110) 상에 형성된 표시소자(140)의 손상이 방지된다.Particularly, the laser beam LB having a wavelength of 300 to 400 nm is absorbed by the flexible film 110 made of polyimide. Therefore, the display element 140 formed on the flexible film 110 is prevented from being damaged by the laser beam LB for separating the flexible film 110 from the carrier substrate 120.

또한, 종래 수소화된 비정질 실리콘을 어블레이션층으로 이용하는 경우, 레이저 조사 후에 플렉서블 필름을 분리하기 위한 진공 흡착 공정이 필요하였다. 그러나, 본 발명에서와 같이 실란커플링제를 이용할 경우 레이저 빔(LB) 조사에 의해 접착층(130)으로 이용되는 실란커플링제와 플렉서블 필름(110)으로 이용되는 폴리이미드의 결합에 파괴되어 자연스럽게 상기 플렉서블 필름(110)이 분리된다. In addition, when conventionally hydrogenated amorphous silicon is used as an ablation layer, a vacuum adsorption process for separating the flexible film after laser irradiation is required. However, when a silane coupling agent is used as in the present invention, the silane coupling agent used as the adhesive layer 130 is broken by the laser beam LB irradiation and the polyimide used as the flexible film 110 is broken, The film 110 is separated.

따라서, 종래 진공 흡착 공정에 의해 표시소자의 물리적 손상 역시 방지된다.
Therefore, the physical damage of the display element is also prevented by the conventional vacuum adsorption process.

도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 공정을 보여주는 개략적인 단면도이다.3A to 3F are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a display device using a flexible film according to a second embodiment of the present invention.

도 3a에 도시된 바와 같이, 플렉서블 필름(210)의 일면에 플라즈마(plasma) 처리를 진행한다. 상기 플렉서블 필름(210)은 폴리이미드로 이루어질 수 있다. 전술한 바와 같이, 이러한 플라즈마 처리는 폴리이미드로 이루어지는 플렉서블 필름(210)과 후술되는 접착층(230)의 접착을 위한 것이다.As shown in FIG. 3A, a plasma process is performed on one surface of the flexible film 210. The flexible film 210 may be made of polyimide. As described above, this plasma treatment is for bonding the flexible film 210 made of polyimide and the adhesive layer 230 described below.

다음, 도 3b에 도시된 바와 같이, 캐리어 기판(220) 상에 실란커플링제를 도포하여 접착층(230)을 형성한다. 상기 캐리어 기판(220)은 유리기판일 수 있다.Next, as shown in FIG. 3B, a silane coupling agent is applied on the carrier substrate 220 to form an adhesive layer 230. The carrier substrate 220 may be a glass substrate.

상기 실란커플링제는 유리기판과 결합할 수 있도록 일단에 산소 또는 질소를 포함하는 관능기를 포함하고, 폴리이미드로 이루어지는 플렉서블 필름(210)의 플라즈마 처리된 일면과 결합할 수 있도록 알콕시기를 포함한다. 예를 들어, 상기 실란커플링제는 상기 화학식에 표시된 다수의 물질 중 하나일 수 있다.The silane coupling agent includes an oxygen or nitrogen-containing functional group at one end so as to be able to bond with the glass substrate and includes an alkoxy group to be bonded to the plasma-treated one side of the flexible film 210 made of polyimide. For example, the silane coupling agent may be one of a plurality of materials represented by the above formula.

다음, 도 3c에 도시된 바와 같이, 실란커플링제로 이루어지는 상기 접착층(230) 상에 마스크(250)을 위치시킨다. 상기 마스크(250)는 중앙에 투과부(TP)를 갖고 가장자리에 차단부(BP)를 갖는다.Next, as shown in FIG. 3C, the mask 250 is placed on the adhesive layer 230 made of a silane coupling agent. The mask 250 has a transmissive portion TP at its center and a blocking portion BP at its edge.

이후, 상기 마스크(250)의 투과부(TP)를 통해 상기 접착층(230)에 UV를 조사하면, 상기 마스크(250)의 투과부(TP)에 대응하여 UV가 조사된 접착층(230)의 중앙 영역은 비접착 영역(230a)로 변환되고 상기 마스크(250)의 차단부(BP)에 대응하여 UV가 조사되지 않은 접착층(230)의 가장자리 영역은 접착 영역(230b)가 된다.When the adhesive layer 230 is irradiated with UV light through the transmissive portion TP of the mask 250, a central region of the adhesive layer 230 irradiated with UV corresponding to the transmissive portion TP of the mask 250 The edge region of the adhesive layer 230 which is converted into the non-adhesive region 230a and is not irradiated with UV corresponding to the blocking portion BP of the mask 250 becomes the adhesive region 230b.

참조하여 보다 자세히 설명하면, 전술한 실란커플링제는 플렉서블 필름(110)의 플라즈마 처리된 일면과 결합할 수 있도록 알콕시기를 포함하는데, 상기 알콕시기는 UV 조사에 의해 변성되어 결합력이 약화된다. 즉, 약 185nm의 UV가 조사되면 실란커플링제의 광능기가 변성되어 플렉서블 필름(110)과의 접착 특성이 약화된다.More specifically, the silane coupling agent described above includes an alkoxy group capable of bonding with the plasma-treated one side of the flexible film 110, and the alkoxy group is denatured by UV irradiation to weaken the bonding force. That is, when the UV of about 185 nm is irradiated, the optical functional group of the silane coupling agent is denatured and the adhesion property with the flexible film 110 is weakened.

UV가 조사되어 변성된 접착층(230)의 중앙 영역을 비접착 영역(230a)으로 칭하였지만, 이는 UV 조사에 의해 접착력이 약하됨을 의미한다.The center region of the adhesive layer 230 irradiated with UV and denatured is referred to as a non-adhesive region 230a, which means that the adhesive force is weakened by UV irradiation.

도 3c의 공정을 설명하기 위한 개략적인 단면도인 도 4를 참조하면, 중앙에 투과부(TP)를 갖고 가장자리에 차단부(BP)를 갖는 마스크(250)을 실란커플링제로 이루어지는 접착층(230) 상에 위치시킨 상태에서 상기 마스크(250)에 UV를 조사하면, 상기 투과부(TP)에 대응하는 접착층(230)의 중앙 영역은 실란커플링제의 관능기가 변성되어 비접착 영역(230)이 된다. 하지만, 접착층(230)의 가장자리는 상기 마스크(250)의 차단부(BP)에 차단되어 UV가 조사되지 않기 때문에, 실란커플링제 관능기가 변성이 발생하지 않고 접착 특성이 유지되는 접착 영역(230)이 된다.Referring to FIG. 4, which is a schematic cross-sectional view for explaining the process of FIG. 3C, a mask 250 having a transparent portion TP at its center and a blocking portion BP at its edge is formed on an adhesive layer 230 made of a silane coupling agent The functional region of the silane coupling agent is denatured in the central region of the adhesive layer 230 corresponding to the transmissive portion TP to become the non-adhesive region 230. However, since the edge of the adhesive layer 230 is blocked by the blocking portion BP of the mask 250 and UV is not irradiated, the adhesive region 230 in which the silane coupling agent functional group does not cause denaturation and maintains the adhesive property, .

다음, 도 3d에 도시된 바와 같이, 도 3c의 UV 조사 공정에 의해 중앙 영역에 비접착 영역(230a)을 갖고 가장자리 영역에 접착 영역(230b)을 갖는 접착층(230)과 상기 플렉서블 필름(210)의 플라즈마 처리된 면을 접착시킨다. 상기 접착층(230)과 상기 플렉서블 필름(210)의 접착은 롤러를 이용한 라미네이팅 공정일 수 있다.3D, an adhesive layer 230 having a non-adhesive region 230a in the central region and an adhesive region 230b in the edge region by the UV irradiation process of FIG. 3C and the adhesive layer 230 having the adhesive region 230b in the edge region, Bonded to the plasma-treated surface. The adhesion between the adhesive layer 230 and the flexible film 210 may be a laminating process using a roller.

전술한 바와 같이, 폴리이미드로 이루어지는 상기 플렉서블 필름(210)에 대하여 플라즈마 처리가 진행되며 이에 의해 실란커플링제로 이루어지는 상기 접착층(230)과 접착이 이루어진다. As described above, the flexible film 210 made of polyimide is subjected to the plasma treatment, thereby bonding with the adhesive layer 230 made of a silane coupling agent.

이때, 상기 접착층(230)에 대하여 부분적으로 UV조사가 진행되어 중앙 영역에 비접착 영역(230a)이 형성되기 때문에, 상기 플렉서블 필름(210)은 상기 접착층(230)의 중앙 영역인 비접착 영역(230a)에서 상기 접착층(230)의 가장자리인 접착 영역(230b)에 비해 작은 접착력으로 접착된 상태를 갖게 된다.At this time, since the UV irradiation is partially performed on the adhesive layer 230 to form the non-adhesive area 230a in the central area, the flexible film 210 is not bonded to the non- 230a of the adhesive layer 230 with a small adhesive strength as compared with the adhesive region 230b which is the edge of the adhesive layer 230. [

도 5a 및 도 5b를 참조하여 UV 조사에 따른 실란커플링제의 접착력 변화를 설명한다.The change in adhesion of the silane coupling agent according to the UV irradiation will be described with reference to Figs. 5A and 5B.

전술한 바와 같이, UV가 조사되지 않은 접착 영역(230b)은 폴리이미드로 이루어지는 플렉서블 필름(210)과 약 3N/cm 이상의 접착력을 갖는다. 그러나, UV가 조사된 비접착 영역(230a)은 실란커플링제의 관능기가 변성되어 폴리이미드로 이루어지는 플렉서블 필름(210)과 약 0.1N/cm 이하의 접착력을 갖게 된다.As described above, the adhesive region 230b not irradiated with UV has an adhesive force of not less than about 3 N / cm with the flexible film 210 made of polyimide. However, the functional group of the silane coupling agent is denatured in the non-adhesive region 230a irradiated with UV, so that it has an adhesive force of about 0.1 N / cm or less with the flexible film 210 made of polyimide.

상기 플렉서블 필름(210)과 상기 접착층(230)의 중앙 영역인 비접착 영역(230a)은 접착력이 매우 약한 상태이지만, 가장자리인 접착 영역(230b)에서 접착된 상태이기 때문에 추후 공정에 문제가 발생하지 않는다.The adhesive force of the flexible film 210 and the non-adhesive area 230a, which is the center area of the adhesive layer 230, is very weak. However, since the flexible film 210 is adhered to the edge of the adhesive area 230b, Do not.

상기 접착층(230)의 접착 영역(230b)과 상기 플렉서블 필름(210)의 접착 특성 향상을 위해 약 200℃의 온도 조건에서 소성(curing) 공정이 더 진행될 수 있다. 이러한 소성 공정은 생략 가능하다.A curing process may be further performed at a temperature of about 200 ° C to improve the adhesion between the adhesive region 230b of the adhesive layer 230 and the flexible film 210. This firing step can be omitted.

다음, 도 3e에 도시된 바와 같이, 상기 플렉서블 필름(210) 상에 표시소자(240)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 3E, the display device 240 is formed on the flexible film 210.

예를 들어, 상기 플렉서블 필름(210)이 유기발광다이오드표시장치의 일 기판으로 이용되는 경우, 상기 플렉서블 필름(210) 상에 스위칭 박막트랜지스터와 구동 박막트랜지스터를 형성하고, 상기 구동 박막트랜지스터와 연결되는 발광다이오드를 형성할 수 있다.For example, when the flexible film 210 is used as one substrate of an organic light emitting diode display, a switching thin film transistor and a driving thin film transistor are formed on the flexible film 210, A light emitting diode can be formed.

전술한 바와 같이, 이와 같은 표시소자(240)의 형성 공정은 플레서블 필름(210) 상에 직접 진행될 수 없다. 그러나, 본 발명에서와 같이 플렉서블 필름(210)을 캐리어 기판(220)에 부착시킨 상태에서는 플렉서블 필름(210)이 캐리어 기판(220)에 의해 지지, 고정된 상태이기 때문에, 표시소자(240)의 형성 공정이 가능하게 된다.As described above, the process of forming such a display element 240 can not proceed directly on the flexible film 210. However, since the flexible film 210 is supported and fixed by the carrier substrate 220 in a state where the flexible film 210 is attached to the carrier substrate 220 as in the present invention, Forming process becomes possible.

다음, 상기 플렉서블 필름(210)과 접착 상태인 상기 접착층(230)의 접착 영역(230b)에 대한 커팅 공정을 진행한다.Next, the cutting process is performed on the adhesive region 230b of the adhesive layer 230 in the state of being adhered to the flexible film 210.

다음, 도 3f에 도시된 바와 같이, 상기 캐리어 기판(220)의 배면에 레이저 빔(LB)를 조사하여 상기 표시소자(240)가 형성된 플렉서블 필름(210)을 상기 캐리어 기판(220), 더욱 정확히는 상기 접착층(230)으로부터 분리시킨다.3F, the flexible film 210 on which the display device 240 is formed is irradiated with laser beam LB on the back surface of the carrier substrate 220 to the carrier substrate 220, more precisely, And is separated from the adhesive layer 230.

이때, 상기 플렉서블 필름(210)과 접촉하고 있는 상기 접착층(230)은 UV가 조사되어 접착력이 약하된 상태를 갖기 때문에, 작은 에너지의 레이저 빔(LB) 조사에 의해 분리가 이루어진다.At this time, since the adhesive layer 230 in contact with the flexible film 210 is irradiated with UV light and the adhesive force is weak, the laser beam LB is irradiated with a small energy.

예를 들어, 제 1 실시예에서와 같이 300~400nm의 파장의 레이저 빔(LB)을 조사하는 경우, 실란커플링제의 접착력이 약화되었기 때문에 플렉서블 필름(210)의 분리 공정 시간이 단축된다.For example, when the laser beam LB having a wavelength of 300 to 400 nm is irradiated as in the first embodiment, the adhesive force of the silane coupling agent is weakened, so that the time for separating the flexible film 210 is shortened.

전술한 바와 같이, 300~400nm의 파장의 레이저 빔(LB)은 폴리이미드로 이루어지는 플렉서블 필름(210)에 의해 흡수되는 특성을 갖는다. 따라서, 상기 플렉서블 필름(210)을 상기 캐리어 기판(220)으로부터 분리하기 위한 상기 레이저 빔(LB)에 의해 상기 플렉서블 필름(210) 상에 형성된 표시소자(240)의 손상이 방지된다.As described above, the laser beam LB having a wavelength of 300 to 400 nm is absorbed by the flexible film 210 made of polyimide. Therefore, damage of the display element 240 formed on the flexible film 210 is prevented by the laser beam LB for separating the flexible film 210 from the carrier substrate 220.

또한, 종래 수소화된 비정질 실리콘을 어블레이션층으로 이용하는 경우, 레이저 조사 후에 플렉서블 필름을 분리하기 위한 진공 흡착 공정이 필요하였다. 그러나, 본 발명에서와 같이 실란커플링제를 이용할 경우 레이저 빔(LB) 조사에 의해 접착층(230)으로 이용되는 실란커플링제와 플렉서블 필름(210)으로 이용되는 폴리이미드의 결합에 파괴되어 자연스럽게 상기 플렉서블 필름(210)이 분리된다. In addition, when conventionally hydrogenated amorphous silicon is used as an ablation layer, a vacuum adsorption process for separating the flexible film after laser irradiation is required. However, when the silane coupling agent is used as in the present invention, the silane coupling agent used as the adhesive layer 230 is broken by the laser beam LB irradiation and the polyimide used as the flexible film 210 is broken, The film 210 is separated.

따라서, 종래 진공 흡착 공정에 의해 표시소자의 물리적 손상 역시 방지된다.
Therefore, the physical damage of the display element is also prevented by the conventional vacuum adsorption process.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 통상의 기술자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It can be understood that

110, 210: 플렉서블 필름　 120, 220: 캐리어 기판
130, 230: 접착층 140, 240: 표시소자
230a: 비접착 영역 230b: 접착 영역
250: 마스크110, 210: Flexible film 120, 220: Carrier substrate
130, 230: adhesive layer 140, 240: display element
230a: non-adhesion area 230b: adhesion area
250: mask

Claims (9)

플렉서블 필름의 일면에 플라즈마 처리를 진행하는 단계와;
캐리어 기판의 일면에 실란커플링제로 이루어지는 접착층을 형성하는 단계와;
상기 접착층과 상기 플렉서블 필름의 플라즈마 처리된 일면을 접착시키는 단계와;
상기 플렉서블 필름 상에 표시소자를 형성하는 단계와;
상기 캐리어 기판의 배면에 레이저 빔을 조사하여 상기 플렉서블 필름을 분리시키는 단계
를 포함하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.
A step of performing a plasma treatment on one surface of the flexible film;
Forming an adhesive layer comprising a silane coupling agent on one surface of the carrier substrate;
Bonding the adhesive layer to the plasma-treated one side of the flexible film;
Forming a display element on the flexible film;
Irradiating a laser beam onto the back surface of the carrier substrate to separate the flexible film
Wherein the flexible film is a transparent film.
제 1 항에 있어서,
상기 접착층과 상기 플렉서블 필름의 플라즈마 처리된 일면을 접착시키는 단계 이전에,
중앙에 투과부를 갖고 가장자리에 차단부를 갖는 마스크를 상기 접착층 상부에 위치하는 단계와;
상기 마스크를 이용하여 UV를 조사함으로써 상기 접착층의 중앙 영역 실란커플링제를 변성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Before the step of bonding the plasma treated one side of the flexible film to the adhesive layer,
Positioning a mask having a transmissive portion at the center and a blocking portion at an edge thereof over the adhesive layer;
And modifying the silane coupling agent in the central region of the adhesive layer by irradiating UV light using the mask. ≪ RTI ID = 0.0 > 21. < / RTI >
제 2 항에 있어서,
상기 UV가 조사된 상기 접착층의 중앙 영역은 가장자리 영역에 비해 상기 플렉서블 필름과의 접착력이 작은 것을 특징으로 하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
Wherein a central region of the adhesive layer to which the UV is irradiated has a smaller adhesive force with the flexible film than an edge region.
제 1 항에 있어서,
상기 실란커플링제는 UV에 의해 변성되는 알콕시기를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the silane coupling agent comprises an alkoxy group modified by UV.
제 4 항에 있어서,
상기 실란커플링제는 하기 화학식으로 표시되는 다수의 물질 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.
Figure pat00013
Figure pat00014

Figure pat00015
Figure pat00016

Figure pat00017
Figure pat00018

5. The method of claim 4,
Wherein the silane coupling agent comprises at least one of a plurality of materials represented by the following chemical formulas.
Figure pat00013
Figure pat00014

Figure pat00015
Figure pat00016

Figure pat00017
Figure pat00018

 제 2 항에 있어서,
상기 UV는 185nm 파장인 것을 특징으로 하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
Wherein the UV is a wavelength of 185 nm.
제 2 항에 있어서,
상기 상기 플렉서블 필름 상에 표시소자를 형성하는 단계와, 상기 캐리어 기판의 배면에 레이저를 조사하여 상기 플렉서블 필름을 분리시키는 단계 사이에,
상기 마스크의 차단부에 대응하는 상기 캐리어 기판과, 상기 접착층과 상기 플렉서블 필름을 커팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.
3. The method of claim 2,
Forming a display element on the flexible film; and separating the flexible film by irradiating a laser beam onto a back surface of the carrier substrate,
And cutting the carrier substrate, the adhesive layer, and the flexible film corresponding to the shielding portion of the mask.
제 1 항에 있어서,
상기 플렉서블 필름은 폴리이미드로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the flexible film is made of polyimide.
제 1 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 300~400nm의 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 플렉서블 필름을 이용한 표시장치의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the laser beam has a wavelength of 300 to 400 nm.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140129775A (en) * 2013-04-30 2014-11-07 삼성디스플레이 주식회사 A flexible display device manufacturing method
US20170053824A1 (en) * 2015-08-21 2017-02-23 Innolux Corporation Electronic device and method for manufacturing the same
US10224289B2 (en) 2016-03-14 2019-03-05 Samsung Display Co., Ltd. Display device having an alignment mark
KR20190077903A (en) * 2017-12-26 2019-07-04 엘지디스플레이 주식회사 Flexible display device and method of manufacturing the same
KR20200059586A (en) * 2018-11-21 2020-05-29 엘지디스플레이 주식회사 Foldable display device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009074001A (en) * 2007-09-21 2009-04-09 Seiko Epson Corp Adhesion sheet, joining method and joined body

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009074001A (en) * 2007-09-21 2009-04-09 Seiko Epson Corp Adhesion sheet, joining method and joined body

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140129775A (en) * 2013-04-30 2014-11-07 삼성디스플레이 주식회사 A flexible display device manufacturing method
US20170053824A1 (en) * 2015-08-21 2017-02-23 Innolux Corporation Electronic device and method for manufacturing the same
CN106469738A (en) * 2015-08-21 2017-03-01 群创光电股份有限公司 Electronic installation and preparation method thereof
US10115696B2 (en) * 2015-08-21 2018-10-30 Innolux Corporation Electronic device and method for manufacturing the same
CN106469738B (en) * 2015-08-21 2020-02-14 群创光电股份有限公司 Electronic device and manufacturing method thereof
US10224289B2 (en) 2016-03-14 2019-03-05 Samsung Display Co., Ltd. Display device having an alignment mark
KR20190077903A (en) * 2017-12-26 2019-07-04 엘지디스플레이 주식회사 Flexible display device and method of manufacturing the same
KR20200059586A (en) * 2018-11-21 2020-05-29 엘지디스플레이 주식회사 Foldable display device

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