KR20130046290A - Aqueous sawing fluid composition - Google Patents

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KR20130046290A
KR20130046290A KR1020110110791A KR20110110791A KR20130046290A KR 20130046290 A KR20130046290 A KR 20130046290A KR 1020110110791 A KR1020110110791 A KR 1020110110791A KR 20110110791 A KR20110110791 A KR 20110110791A KR 20130046290 A KR20130046290 A KR 20130046290A
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최철민
오영남
이경호
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

PURPOSE: An aqueous cutting fluid composite is provided to remarkably reduce machining cost in a process and to improve viscosity stability due to the content of abrasive particles. CONSTITUTION: An aqueous cutting fluid composite includes 0.01 to 10 wt% of polycarboxylic based-modified silicon, 10 to 95 wt% of glycol compound, 1 to 30 wt% of glycol ether compound, 0.01 to 10 wt% of at least one or two kinds of acids selected from a group of an aliphatic carboxylic acid, an aromatic carboxylic acid, and an inorganic acid, 0.01 to 10 wt% of at least one or two kinds selected from a group of an aliphatic amine, an aromatic amine, and an inorganic base, and remnant water. The glycol compound is at least one or two kinds selected from a group of ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethyleneglycol, tetraethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, glycerine, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polyalkylene glycol.

Description

수성 절삭액 조성물{Aqueous sawing fluid composition}Aqueous sawing fluid composition

본 발명은 수성 절삭액 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an aqueous cutting fluid composition.

와이어 쏘우나 밴드 쏘우 등의 절삭공구를 사용하여 피가공물을 절단하는 경우, 절삭공구와 피가공물과의 사이의 윤활 작용, 마찰열의 제거 및 절삭부스러기의 세정을 목적으로 하여 수성 절삭액 조성물이 사용되고 있다.When cutting a workpiece using cutting tools such as wire saws or band saws, an aqueous cutting fluid composition is used for the purpose of lubricating between the cutting tool and the workpiece, removing frictional heat, and cleaning cutting chips. .

종래의 수성 절삭액 조성물은 공정시 슬러리에 포함된 연마재의 응집으로 인해 잉곳의 절삭시에 와이어(wire)의 쏘우 마크(saw mark) 등의 공정 불량이 생기는 문제점이 있었다. 또한 시간 경과에 따라 침강한 연마입자가 하드케이크화 하여 수성 절삭액 슬러리의 재생이 어려웠다.
The conventional aqueous cutting fluid composition has a problem in that process defects such as saw marks of wires are generated during cutting of the ingot due to agglomeration of the abrasive contained in the slurry during the process. In addition, the precipitated abrasive particles hardened over time, making it difficult to regenerate the aqueous cutting fluid slurry.

예를 들어, 대한민국 등록특허 0520714호에는 친수성 다가알콜계 화합물과 친유성 다가알콜계 화합물과, 물을 포함하는 분산매 중에 규산 콜로이드 입자가 분산되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 수성 조성물이 개시되어 있다. 상기 특허에 개시된 조성물은 절삭액 슬러리의 점도가 높으며, 연마입자의 하드케이크화가 생성될 수 있다. 그리고 연마입자의 응집으로 인해 공정시 가공 정밀도에 문제가 생길 수 있다.For example, Korean Patent No. 0520714 discloses an aqueous composition comprising colloidal silicate particles dispersed in a dispersion medium containing a hydrophilic polyhydric alcohol compound, a lipophilic polyhydric alcohol compound, and water. The compositions disclosed in this patent have a high viscosity of the cutting fluid slurry, and hardcake formation of abrasive particles can be produced. In addition, agglomeration of abrasive particles may cause problems in processing precision during the process.

또한, 대한민국 공개특허 2010-0133907호에는 변성 실리콘 0.01 내지 20중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 수성 절삭액이 개시되어 있다. 상기 특허에 개시된 절삭액은 연마입자의 분산성이 떨어지며 연마입자의 하드케이크화를 방지하기에 충분하지 않은 문제점이 있다.In addition, the Republic of Korea Patent Publication No. 2010-0133907 discloses an aqueous cutting fluid, characterized in that it comprises 0.01 to 20% by weight modified silicone. The cutting fluid disclosed in the above patent has a problem in that the dispersibility of the abrasive particles is inferior and not sufficient to prevent hard cake of the abrasive particles.

KRKR 05207140520714 B1B1 KRKR 2010-01339072010-0133907 AA

본 발명의 목적은, 연마입자의 함량에 따른 점도 안정성이 우수하고, 높은 분산성과 침전물의 하드케이크화를 방지할 수 있는 수성 절삭액 조성물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an aqueous cutting liquid composition which is excellent in viscosity stability according to the content of abrasive particles and which can prevent high dispersibility and hard cake formation of precipitates.

본 발명의 목적은, 절삭 공정 후에 남아 있는 연마제나 커팅 찌꺼기 등을 쉽게 제거할 수 있는 수성 절삭액 조성물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an aqueous cutting liquid composition which can easily remove abrasives, cutting debris and the like remaining after a cutting process.

본 발명의 목적은, 수성 절삭액 슬러리의 재생을 가능하게 하여 공정상의 가공비를 크게 감소시키고 수성 절삭액 슬러리의 폐기에 따른 환경 문제도 개선시킬 수 있는 수성 절삭액 조성물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an aqueous cutting liquid composition which enables the regeneration of the aqueous cutting liquid slurry to significantly reduce the processing cost in the process and also improve the environmental problems caused by the disposal of the aqueous cutting liquid slurry.

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 폴리카르복실계 변성실리콘; 글리콜류 화합물; 하기 화학식 3으로 표시되는 글리콜 에테르류 화합물; 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산; 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상; 및 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물을 제공한다.
The present invention is a polycarboxy modified silicone represented by the following formula (1); Glycol compounds; Glycol ether compounds represented by the following Formula 3; One or two or more acids selected from the group consisting of aliphatic organic acids, aromatic organic acids and inorganic acids; One or two or more selected from the group consisting of aliphatic amines, aromatic amines, and inorganic bases; And an aqueous cutting fluid composition comprising water.

Figure pat00001
Figure pat00001

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 1 및 화학식 3에서, In Chemical Formula 1 and Chemical Formula 3,

R1은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기이고, R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms,

x, y는 1 내지 1000의 정수이며,x, y are integers from 1 to 1000,

R2는 하기 화학식 2로 표시되는 카르복실계 화합물이고, R 2 is a carboxyl compound represented by the following formula (2),

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식 2에서, R은 탄소수 1 내지 4의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,In Formula 2, R is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,

R3은 수소원자 또는 메틸기이고, R 3 is a hydrogen atom or a methyl group,

R4는 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 알케닐기이고, R 4 is a linear or branched alkyl or alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms,

m은 1 내지 20의 정수이다.m is an integer of 1-20.

본 발명의 수성 절삭액 조성물은 변성실리콘이 슬러리 내의 연마재의 응집을 막아 슬러리 내에 연마재가 고르게 분포하게 되어 잉곳의 절단 시에 가공 정밀도를 향상시키며, 유기산과 아민 또는 무기 염기가 연마 입자의 분산성을 향상시켜 우수한 가공 정밀도를 유지할 수 있으며, 하드케이크화를 방지하여 수성 절삭액 슬러리의 재생을 가능하게 하여 공정상의 가공비를 크게 감소시키고 수성 절삭액 슬러리의 폐기에 따른 환경 문제도 개선시킨다. 또한 수용성이기 때문에 친환경적이며, 물을 이용한 세정작업을 가능하게 한다.In the aqueous cutting fluid composition of the present invention, the modified silicon prevents agglomeration of the abrasive in the slurry so that the abrasive is evenly distributed in the slurry, thereby improving the processing precision when cutting the ingot, and the organic acid and the amine or the inorganic base disperse the abrasive particles. It is possible to maintain excellent processing precision, and to prevent hard cake formation, thereby regenerating the aqueous cutting fluid slurry, which greatly reduces the processing cost in the process and improves the environmental problems caused by the disposal of the aqueous cutting fluid slurry. In addition, it is environmentally friendly because it is water-soluble, and enables washing with water.

이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 폴리카르복실계 변성실리콘; 글리콜류 화합물; 하기 화학식 3으로 표시되는 글리콜 에테르류 화합물; 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산; 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상; 및 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물을 제공한다.
The present invention is a polycarboxy modified silicone represented by the following formula (1); Glycol compounds; Glycol ether compounds represented by the following Formula 3; One or two or more acids selected from the group consisting of aliphatic organic acids, aromatic organic acids and inorganic acids; One or two or more selected from the group consisting of aliphatic amines, aromatic amines, and inorganic bases; And an aqueous cutting fluid composition comprising water.

[화학식 1] [Formula 1]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 1에서, In Formula 1,

R1은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기이고, R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms,

x, y는 1 내지 1000의 정수이며,x, y are integers from 1 to 1000,

R2는 하기 화학식 2로 표시되는 카르복실계 화합물이고,
R 2 is a carboxyl compound represented by the following formula (2),

[화학식 2] [Formula 2]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식 2에서, R은 탄소수 1 내지 4의 치환 또는 비치환된 알킬기이다.In Formula 2, R is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

상기 화학식 1에서 R1의 구체적인 예로서 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기 등의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기; 트리플루오로프로필기, 헵타데카플루오로데실기 등의 불소 치환 알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the group R 1 in the formula (1), an ethyl group, a propyl group, a butyl group, Pen alkyl group such group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group; Cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; Fluorine substituted alkyl groups, such as a trifluoro propyl group and a heptadeca fluorodecyl group, etc. are mentioned.

상기 화학식 2에서 R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기이고, 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등을 들 수 있다.In Formula 2, R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and specific examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group.

상기 화학식 1로 표시되는 폴리에테르계 변성 실리콘 화합물은 조성물 총중량에 대하여, 0.01 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 0.01 내지 5중량%로 포함되는 것이 더욱 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자의 응집이 발생하여 가공 정밀도를 저하시키며, 상기 범위를 초과하면 불용해물이 발생할 우려가 있다.
The polyether-based modified silicone compound represented by Formula 1 is preferably included in 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight based on the total weight of the composition. If it is included in the above-described range, agglomeration of the abrasive particles occurs to reduce the processing accuracy, and if it exceeds the above range, insoluble matter may occur.

상기 글리콜류 화합물은 특별히 제한되지는 않으나, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 부틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 글리세린, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 및 폴리알킬렌글리콜으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 프로필렌글리콜 및 디에틸렌글리콜로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종이다. The glycol compound is not particularly limited, but ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, glycerin, 1,3-propanediol, 1,4- It is preferable that it is 1 type, or 2 or more types chosen from the group which consists of butanediol, 1, 6- hexanediol, polyethyleneglycol, polypropylene glycol, and polyalkylene glycol. More preferably, it is 1 type or 2 types selected from the group which consists of propylene glycol and diethylene glycol.

상기 글리콜류 화합물은 수성 절삭액 조성물 총중량에 대하여, 10 내지 95중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자 주위에 충분한 윤활 작용을 일으킬 수 없고, 상술한 범위를 초과하면 연마입자를 포함하는 슬러리의 점도가 높아져 공정 특성이 나빠진다.The glycol compound is preferably contained in 10 to 95% by weight relative to the total weight of the aqueous cutting liquid composition. If it is contained below the above-mentioned range, sufficient lubricating action cannot be caused around the abrasive grains, and if it exceeds the above-mentioned range, the viscosity of the slurry including the abrasive grains becomes high, resulting in poor process characteristics.

본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 글리콜에테르류 화합물은 하기 화학식 3으로 표시된다.The glycol ether compounds contained in the aqueous cutting fluid composition of the present invention are represented by the following general formula (3).

[화학식 3](3)

Figure pat00006
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상기 화학식 3에서 R3은 수소원자 또는 메틸기이고, R4는 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 알케닐기이고, m은 1 내지 20의 정수이다.In Formula 3, R 3 is a hydrogen atom or a methyl group, R 4 is a linear or branched alkyl or alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms, and m is an integer of 1 to 20.

상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물은 하나의 수산화기를 가지고 있어 표면장력이 낮아 연마입자를 고르게 분산시켜 연마입자의 함량에 따른 점도 안정성이 우수하여, 연마입자의 하드케이크화를 방지하는 역할을 한다.The glycol ether compound represented by the formula (3) has one hydroxyl group and has a low surface tension, thus uniformly dispersing the abrasive particles, thereby having excellent viscosity stability according to the content of the abrasive particles, thereby preventing hard cake formation. do.

상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물은 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 에틸렌글리콜모노알릴에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 디에틸렌글리콜모노페닐에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 및 디프로필렌글리콜모노부틸에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. 이 중에서도 인화점이 100℃ 이상인 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노 2-에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노 2-에틸헥실에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르가 보다 바람직하다.The glycol ether compounds represented by the formula (3) include ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Triethylene glycol monoethyl ether, polyethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, polyethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl Ether, tripropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoisobutyl ether, diethylene glycol monoisobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol Mono 2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monoallyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monobutyl ether and dipropylene glycol monobutyl ether It is preferable that it is 1 type, or 2 or more types selected from the group. Among them, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoisobutyl ether having a flash point of 100 ° C. or higher, and ethylene Glycol monohexyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, and propylene glycol monobutyl ether are more preferable.

상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물은 수성 절삭액 조성물 총중량에 대하여 1 내지 30중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자를 포함하는 슬러리의 점도가 높아지며 상술한 범위를 초과하면 슬러리의 연마재를 포함하는 슬러리의 분산성능이 저하된다.Glycol ether compounds represented by the formula (3) is preferably contained in 1 to 30% by weight based on the total weight of the aqueous cutting liquid composition. If it is included in the above-described range, the viscosity of the slurry including the abrasive particles increases, and if it exceeds the above-mentioned range, the dispersion performance of the slurry including the abrasive of the slurry is reduced.

본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산은 연마입자의 주위에 배열되어 전기적 반발력을 일으켜 연마입자의 분산성을 향상시키고 연마입자의 하드케이크화를 방지하는 역할을 한다.The one or two or more acids selected from the group consisting of aliphatic organic acids, aromatic organic acids and inorganic acids included in the aqueous cutting fluid composition of the present invention are arranged around the abrasive particles to generate electrical repulsion to improve the dispersibility of the abrasive particles and to polish It serves to prevent hard cake of the particles.

상기 지방족 유기산은 폼산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 팔미트산, 스테아르산, 올레산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 타타르산, 말레산, 글리콜산, 글루타르산, 아디프산, 술포숙신산, 발레르산, 카프로산, 카프릴산, 카프릭산, 로르산, 미리스트산, 젖산, 사과산, 구연산 및 주석산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. The aliphatic organic acid is formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, tartaric acid, maleic acid, glycolic acid, glutaric acid, adipic acid, sulfosuccinic acid, valeric acid And one or two or more selected from the group consisting of caproic acid, caprylic acid, capric acid, loric acid, myristic acid, lactic acid, malic acid, citric acid and tartaric acid.

상기 방향족 유기산은 벤조산, 살리실산, 파라톨루엔술폰산, 나프토산, 니코틴산, 톨루엔산, 아니스산, 쿠민산 및 프탈산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. The aromatic organic acid is preferably one or two or more selected from the group consisting of benzoic acid, salicylic acid, paratoluenesulfonic acid, naphthoic acid, nicotinic acid, toluic acid, aniseic acid, cuminic acid and phthalic acid.

상기 무기산은 염산, 황산, 질산, 인산 및 탄산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. The inorganic acid is preferably one or two or more selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and carbonic acid.

이 중에서 본 발명의 수성 절삭액 조성물에 대한 용해도가 우수한 폼산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 말레산, 글루타르산, 푸마린산, 살리실산, 클리콜산, 벤조산을 이용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 발명의 수성 절삭액 조성물과 반응하지 않는 무기산을 이용하는 것이 보다 바람직하다. Among these, it is preferable to use formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, maleic acid, glutaric acid, fumaric acid, salicylic acid, glycolic acid, and benzoic acid which have excellent solubility in the aqueous cutting fluid composition of the present invention. More preferred. Moreover, it is more preferable to use the inorganic acid which does not react with the aqueous cutting fluid composition of this invention.

상기 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산은 수성 절삭액 조성물 총 중량에 대하여, 0.01 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자 주위에 충분한 전기적 반발력을 일으킬 수 없고, 상술한 범위를 초과하면 연마입자의 분산성이 나빠진다.
The one or two or more acids selected from the group consisting of aliphatic organic acids, aromatic organic acids and inorganic acids are preferably included in an amount of 0.01 to 10% by weight based on the total weight of the aqueous cutting fluid composition. If it is contained below the above-mentioned range, sufficient electrical repulsive force cannot be caused around the abrasive grain, and if it exceeds the above-mentioned range, the dispersibility of the abrasive grain is deteriorated.

본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상은 연마입자의 주위에 배열되어 전기적 반발력을 일으켜 연마입자의 분산성을 향상시키고 연마입자의 하드케이크화를 방지하는 역할을 한다.One or two or more selected from the group consisting of aliphatic amines, aromatic amines, and inorganic bases included in the aqueous cutting fluid composition of the present invention are arranged around the abrasive particles to cause electrical repulsion to improve dispersibility of the abrasive particles. It serves to prevent hard cake of the abrasive particles.

상기 지방족 아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 디메틸에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, 모노메틸에탄올아민, 디글리콜아민과 같은 알칸올아민; 모르폴린과 같은 시클릭 아민; N-아미노에틸피페라진, 디메틸아미노프로필아민, N,N-디메틸시클로헥실아민, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민 및 테트라에틸렌펜타아민으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. The aliphatic amines include alkanolamines such as monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, dimethylethanolamine, N-methyldiethanolamine, monomethylethanolamine, diglycolamine; Cyclic amines such as morpholine; One or two or more selected from the group consisting of N-aminoethylpiperazine, dimethylaminopropylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine and tetraethylenepentaamine It is preferable.

상기 방향족 아민은 아닐린 및 피리딘으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것이 바람직하다. The aromatic amine is preferably one or two selected from the group consisting of aniline and pyridine.

상기 무기염기는 수산화나트륨 및 수산화칼륨으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것이 바람직하다. The inorganic base is preferably one or two selected from the group consisting of sodium hydroxide and potassium hydroxide.

이중에서 본 발명의 수성 절삭액 조성물에 대한 용해도가 우수한 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민, 테트라에틸렌펜타아민, 질산, 인산이 보다 바람직하다. 또는 본 발명의 수성 절삭액과 반응하지 않는 무기염기를 사용하는 것아 가장 바람직하다. Of these, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine, tetraethylenepentaamine, nitric acid and phosphoric acid which are excellent in solubility in the aqueous cutting liquid composition of the present invention are more preferable. Or it is most preferable to use the inorganic base which does not react with the aqueous cutting fluid of this invention.

상기 지방족 또는 방향족 아민 또는 무기염기는 수성 절삭액 조성물 총중량에 대하여, 0.01 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 0.01 내지 5중량%로 포함되는 것이 더욱 바람직하다. 상술한 범위 미만으로 포함되면 연마입자 주위에 충분한 전기적 반발력을 일으킬 수 없고, 상술한 범위를 초과하면 연마입자를 포함하는 슬러리의 점도가 증가한다.The aliphatic or aromatic amine or inorganic base is preferably included in an amount of 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight based on the total weight of the aqueous cutting fluid composition. When included below the above-mentioned range, sufficient electrical repulsive force cannot be generated around the abrasive particles, and when above the above-mentioned range, the viscosity of the slurry including the abrasive particles increases.

본 발명의 수성 절삭액 조성물에 포함되는 물은 조성물 총중량이 100중량%가 되도록 잔량 포함된다. 상기 물은 탈이온수가 바람직하다.The water contained in the aqueous cutting fluid composition of the present invention is contained in the remaining amount so that the total weight of the composition is 100% by weight. The water is preferably deionized water.

본 발명의 수성 절삭액 조성물은 pH가 5~8인 것이 바람직하다. 상술한 범위를 만족하면, 산성이나 알칼리성을 사용하여 발생할 수 있는 환경적인 문제와 작업자들의 작업환경을 개선할 수 있다.
It is preferable that pH of the aqueous cutting fluid composition of this invention is 5-8. If the above range is satisfied, it is possible to improve the working environment of workers and environmental problems that can occur using acidic or alkaline.

본 발명은 상술한 수성 절삭액 조성물과 연마제 지립을 포함하는 가공용 수용성 슬러리를 제공한다.The present invention provides a water-soluble slurry for processing comprising the above-described aqueous cutting fluid composition and abrasive grains.

상기 연마제 지립은 특별히 한정하지 않으나, 탄화규소, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 이산화규소, 이산화세슘, 다이아몬드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것이 바람직하다. 상기 연마제 지립의 평균 입경은 0.5~50㎛인 것이 바람직하다. 상기 수성 절삭액 조성물과 연마제 지립은 1:0.5~1:1.2의 중량비로 혼합되는 것이 바람직하다.The abrasive grain is not particularly limited, but is preferably one or two selected from the group consisting of silicon carbide, aluminum oxide, zirconium oxide, silicon dioxide, cesium dioxide, and diamond. It is preferable that the average particle diameter of the said abrasive grain is 0.5-50 micrometers. The aqueous cutting fluid composition and the abrasive grains are preferably mixed in a weight ratio of 1: 0.5 to 1: 1.2.

상기 가공용 수용성 슬러리는 절삭 가공, 연삭 가공, 연마 가공 또는 절단 가공을 수행할 수 있다. 상기 가공용 수용성 슬러리를 이용한 가공시, 피가공재는 단결정 실리콘, 다결정 실리콘, 석영, 수정, 화합물 반도체, 세라믹, 유리, 금속 산화물, 초경합금 및 소결 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.
The water-soluble slurry for processing may be performed by cutting, grinding, polishing or cutting. In the processing using the water-soluble slurry for processing, the workpiece is preferably one or two or more selected from the group consisting of single crystal silicon, polycrystalline silicon, quartz, quartz, compound semiconductor, ceramic, glass, metal oxide, cemented carbide and sintered alloy. Do.

본 발명의 수성 절삭액 조성물 및 이를 이용한 가공용 수성 슬러리의 효과가 특히 현저하게 발휘되는 절단 장치로서는 와이어 쏘우, 밴드 쏘우 및 이들을 다중화한 멀티 와이어 쏘우, 멀티 밴드 쏘우 등을 들 수 있다.
Examples of the cutting device in which the effects of the aqueous cutting liquid composition of the present invention and the aqueous slurry for processing using the same are particularly remarkable include a wire saw, a band saw, a multi-wire saw multiplexed these, a multi-band saw, and the like.

이하에서, 본 발명을 실시예를 이용하여 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 본 발명은 하기 실시예에 의해 한정되지 않고 다양하게 수정 및 변경될 수 있다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples. However, the following examples are provided to illustrate the present invention, and the present invention is not limited to the following examples and may be variously modified and changed.

실시예Example 1 내지 5,  1 to 5, 비교예Comparative example 1 내지 3: 수성 절삭액 조성물의 제조 1 to 3: Preparation of Aqueous Cutting Fluid Composition

본 발명에 따른 수성 절삭액 조성물(실시예 1 내지 5) 및 본 발명에 따르지 않는 수성 절삭액 조성물(비교예 1 내지 3)을 하기 표1의 조성이 되도록 제조하였다. 또한 각각의 수성 절삭액 조성물에 대하여 GC 입자(#1200)를 50중량%가 되도록 투입하여, 교반기로 150rpm, 1시간 교반함으로써 가공용 수성 절삭액 슬러리를 얻었다. 표 1에 기재된 각 성분에 해당하는 수치는, 조성물의 총 중량을 기준으로 한, 각 성분의 중량부이다.
An aqueous cutting liquid composition (Examples 1 to 5) according to the present invention and an aqueous cutting liquid composition (Comparative Examples 1 to 3) not according to the present invention were prepared to have the composition of Table 1 below. Furthermore, GC particle | grains (# 1200) were added to 50 weight% with respect to each aqueous cutting fluid composition, and the aqueous cutting fluid slurry for processing was obtained by stirring at 150 rpm for 1 hour with the stirrer. The numerical value corresponding to each component of Table 1 is a weight part of each component based on the total weight of a composition.

  a1a1 a2a2 a3a3 b1b1 b2b2 c1c1 d1d1 d2d2 e1e1 f1f1 실시예1Example 1 68.268.2 2525 0.50.5 0.30.3 1One 55 실시예2Example 2 78.278.2 1515 0.50.5 0.30.3 1One 55 실시예3Example 3 68.268.2 2020 0.50.5 0.30.3 1One 1010 실시예4Example 4 83.383.3 55 0.50.5 0.20.2 1One 1010 실시예5Example 5 73.373.3 2020 0.50.5 0.20.2 1One 55 비교예1Comparative Example 1 8080 2020 비교예2Comparative Example 2 69.569.5 2020 0.50.5 1010 비교예3Comparative Example 3 79.579.5 1010 0.50.5 1010

주) a1: 프로필렌글리콜A): propylene glycol

a2: 디에틸렌글리콜   a2: diethylene glycol

a3: 폴리에틸렌글리콜300   a3: polyethylene glycol 300

b1: 디에틸렌글리콜모노메틸에테르    b1: diethylene glycol monomethyl ether

b2: 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르    b2: triethylene glycol monomethyl ether

c1: 말론산   c1: malonic acid

d1: 디에틸렌트리아민   d1: diethylenetriamine

d2: 수산화칼륨   d2: potassium hydroxide

e1: 폴리카르복실계 변성실리콘(제품명-(X-22-3701E), 제조사-한국신에츠실리콘)   e1: Polycarboxy-type modified silicone (Product name-(X-22-3701E), a manufacturer-Shin-Etsu Silicone)

f1: 물
f1: water

시험예Test Example : 수성 절삭액 조성물의 특성 평가: Characterization of Aqueous Cutting Fluid Composition

<분산도 측정><Dispersion Measurement>

상기 제조한 각 가공용 수성 절삭액 슬러리 중 50중량%는 제조 후 즉시 200㎖ 비이커에 담아 2, 4, 8, 12, 24, 48, 72시간 단위로 GC 입자의 침강에 따른 분산도를 측정하였으며, 분산도는 %로 나타내었다. 분산도 측정 후 GC 입자의 침강에 따른 하드케이크화의 유무에 대해서 관찰하였다. 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
50% by weight of the prepared aqueous cutting fluid slurry for processing was placed in a 200 ml beaker immediately after preparation to measure the dispersion degree according to sedimentation of GC particles in units of 2, 4, 8, 12, 24, 48 and 72 hours. Dispersion is expressed in%. After measuring the dispersion degree, the presence or absence of hard cake formation by sedimentation of GC particles was observed. The results are shown in Table 2 below.

시간
(hr)
time
(hr)
22 44 88 1212 2424 4848 7272 하드케이크화Hard cake
실시예1Example 1 96.1196.11 90.9990.99 81.3581.35 76.1976.19 69.2269.22 64.3764.37 64.2264.22 없음none 실시예2Example 2 92.2592.25 86.3786.37 76.9476.94 71.2571.25 66.4866.48 64.6864.68 63.3063.30 없음none 실시예3Example 3 95.6695.66 92.2092.20 82.1182.11 75.3875.38 68.2368.23 65.5365.53 63.9663.96 없음none 실시예4Example 4 93.7293.72 87.4287.42 77.1577.15 73.8973.89 65.2565.25 64.0564.05 63.5663.56 없음none 실시예5Example 5 96.7496.74 92.0092.00 84.5684.56 76.2276.22 68.8568.85 66.0266.02 65.3365.33 없음none 비교예1Comparative Example 1 91.2591.25 82.4282.42 73.4273.42 65.8365.83 58.6758.67 57.7557.75 57.7557.75 있음has exist 비교예2Comparative Example 2 90.8390.83 81.4281.42 72.0072.00 64.7564.75 57.2557.25 56.5056.50 56.5056.50 있음has exist 비교예3Comparative Example 3 90.8390.83 82.4282.42 74.7574.75 66.6766.67 59.4259.42 56.6756.67 56.6756.67 있음has exist

상기 표 2에서 보는 바와 같이, 비교예의 가공용 수성 절삭액 슬러리의 분산도가 낮은 것에 비하여, 본 발명의 가공용 수성 절삭액 슬러리의 분산도는 각각의 시간에 대하여 높게 나타났다. 또한 본 발명의 가공용 수성 절삭액 슬러리는 하드케이크화도 일어나지 않고 분산 안정성도 우수하였다.
As shown in Table 2, the dispersion degree of the aqueous cutting fluid slurry for processing of the present invention was high for each time, compared to the low dispersion of the aqueous cutting fluid slurry for processing of the comparative example. Further, the aqueous cutting fluid slurry for processing of the present invention was excellent in dispersion stability without hard cake formation.

<연마제 입자크기 측정><Measurement of abrasive particle size>

상기 가공용 수성 절삭액 슬러리를 Sysmex사의 입도분석기 FPIA-3000을 사용하여 슬러리 내의 연마재의 입자 크기를 측정하였다. 결과를 표3에 나타내었다.
The particle size of the abrasive in the slurry was measured for the processing aqueous cutting fluid slurry using a particle size analyzer FPIA-3000 manufactured by Sysmex. The results are shown in Table 3.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 평균 입경(㎛) Average particle size (㎛) 11.911.9 12.412.4 12.512.5 12.312.3 11.911.9 19.219.2 17.217.2 16.916.9

Claims (12)

하기 화학식 1로 표시되는 폴리카르복실계 변성실리콘;
글리콜류 화합물;
하기 화학식 3으로 표시되는 글리콜 에테르류 화합물;
지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산;
지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상; 및 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00007

[화학식 3]
Figure pat00008

상기 화학식 1 및 화학식 3에서,
R1은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기이고,
x, y는 1 내지 1000의 정수이며,
R2는 하기 화학식 2로 표시되는 카르복실계 화합물이고,
[화학식 2]
Figure pat00009

상기 화학식 2에서, R은 탄소수 1 내지 4의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
R3은 수소원자 또는 메틸기이고,
R4는 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 알케닐기이고,
m은 1 내지 20의 정수이다.
Polycarboxylic-based modified silicone represented by the formula (1);
Glycol compounds;
Glycol ether compounds represented by the following Formula 3;
One or two or more acids selected from the group consisting of aliphatic organic acids, aromatic organic acids and inorganic acids;
One or two or more selected from the group consisting of aliphatic amines, aromatic amines, and inorganic bases; And an aqueous cutting fluid composition comprising water:
[Formula 1]
Figure pat00007

(3)
Figure pat00008

In Chemical Formula 1 and Chemical Formula 3,
R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms,
x, y are integers from 1 to 1000,
R 2 is a carboxyl compound represented by the following formula (2),
(2)
Figure pat00009

In Formula 2, R is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
R 3 is a hydrogen atom or a methyl group,
R 4 is a linear or branched alkyl or alkenyl group having 1 to 18 carbon atoms,
m is an integer of 1-20.
청구항 1에 있어서,
상기 수성 절삭액 조성물 총 중량에 대하여,
상기 화학식 1로 표시되는 폴리카르복실계 변성실리콘 0.01~10중량%;
상기 글리콜류 화합물 10~95중량%;
상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜 에테르류 화합물 1~30중량%;
상기 지방족 유기산, 방향족 유기산 및 무기산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산 0.01~10중량%;
상기 지방족 아민, 방향족 아민 및 무기염기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상 0.01~10중량%; 및
잔량의 물을 포함하는 수성 절삭액 조성물.
The method according to claim 1,
With respect to the total weight of the aqueous cutting fluid composition,
0.01 to 10% by weight of polycarboxylic acid-modified silicone represented by Formula 1;
10 to 95% by weight of the glycol compounds;
1 to 30% by weight of a glycol ether compound represented by Formula 3;
0.01 to 10% by weight of one or two or more acids selected from the group consisting of aliphatic organic acids, aromatic organic acids and inorganic acids;
0.01 to 10% by weight of one or two or more selected from the group consisting of aliphatic amines, aromatic amines, and inorganic bases; And
An aqueous cutting fluid composition comprising a residual amount of water.
청구항 1에 있어서,
상기 글리콜류 화합물은 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 부틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 글리세린, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 및 폴리알킬렌글리콜으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
The method according to claim 1,
The glycol compounds include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, glycerin, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6- Aqueous cutting fluid composition, characterized in that one or two or more selected from the group consisting of hexanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol and polyalkylene glycol.
청구항 1에 있어서,
상기 화학식 3으로 표시되는 글리콜에테르류 화합물은 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르, 에틸렌글리콜모노알릴에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 디에틸렌글리콜모노페닐에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 및 디프로필렌글리콜모노부틸에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
The method according to claim 1,
The glycol ether compounds represented by the formula (3) include ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Triethylene glycol monoethyl ether, polyethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, polyethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl Ether, tripropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoisobutyl ether, diethylene glycol monoisobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol Mono 2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monoallyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monobutyl ether and dipropylene glycol monobutyl ether An aqueous cutting liquid composition, characterized in that one or two or more selected from the group.
청구항 1에 있어서,
상기 지방족 유기산은 폼산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 팔미트산, 스테아르산, 올레산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 타타르산, 말레산, 글리콜산, 글루타르산, 아디프산, 술포숙신산, 발레르산, 카프로산, 카프릴산, 카프릭산, 로르산, 미리스트산, 젖산, 사과산, 구연산 및 주석산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
The method according to claim 1,
The aliphatic organic acid is formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, tartaric acid, maleic acid, glycolic acid, glutaric acid, adipic acid, sulfosuccinic acid, valeric acid Aqueous cutting fluid composition, characterized in that one or two or more selected from the group consisting of caproic acid, caprylic acid, capric acid, loric acid, myristic acid, lactic acid, malic acid, citric acid and tartaric acid.
청구항 1에 있어서,
상기 방향족 유기산은 벤조산, 살리실산, 파라톨루엔술폰산, 나프토산, 니코틴산, 톨루엔산, 아니스산, 쿠민산 및 프탈산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.
The method according to claim 1,
The aromatic organic acid is preferably one or two or more selected from the group consisting of benzoic acid, salicylic acid, paratoluenesulfonic acid, naphthoic acid, nicotinic acid, toluic acid, aniseic acid, cuminic acid and phthalic acid.
청구항 1에 있어서,
상기 무기산은 염산, 황산, 질산, 인산 및 탄산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.
The method according to claim 1,
The inorganic acid is preferably one or two or more selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and carbonic acid.
청구항 1에 있어서,
상기 지방족 아민은 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 디메틸에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, 모노메틸에탄올아민, 디글리콜아민, 모르폴린, N-아미노에틸피페라진, 디메틸아미노프로필아민, N,N-디메틸시클로헥실아민, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민 및 테트라에틸렌펜타아민으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
The method according to claim 1,
The aliphatic amines are monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, dimethylethanolamine, N-methyldiethanolamine, monomethylethanolamine, diglycolamine, morpholine, N-aminoethylpiperazine, dimethylaminopropylamine, An aqueous cutting liquid composition, characterized in that one or two or more selected from the group consisting of N, N-dimethylcyclohexylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine, and tetraethylenepentaamine.
청구항 1에 있어서,
상기 방향족 아민은 아닐린 및 피리딘으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
The method according to claim 1,
The aromatic amine is an aqueous cutting liquid composition, characterized in that one or two selected from the group consisting of aniline and pyridine.
청구항 1에 있어서,
상기 무기염기는 수산화나트륨 및 수산화칼륨으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종인 것을 특징으로 하는 수성 절삭액 조성물.
The method according to claim 1,
The inorganic base is an aqueous cutting fluid composition, characterized in that one or two selected from the group consisting of sodium hydroxide and potassium hydroxide.
청구항 1에 기재된 수용성 절삭액 조성물과 연마제 지립을 포함하는 것을 특징으로 하는 가공용 수용성 슬러리.A water-soluble slurry for processing, comprising the water-soluble cutting liquid composition according to claim 1 and abrasive grains. 청구항 11 기재의 가공용 수용성 슬러리를 사용하여 절삭 가공, 연삭 가공, 연마 가공 또는 절단 가공을 행하는 것을 특징으로 하는 가공방법.A processing method comprising cutting, grinding, polishing or cutting using a water-soluble slurry for processing according to claim 11.
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