KR20130020559A - 직접 이미징을 위한 시스템과 방법 - Google Patents

직접 이미징을 위한 시스템과 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20130020559A
KR20130020559A KR1020120082899A KR20120082899A KR20130020559A KR 20130020559 A KR20130020559 A KR 20130020559A KR 1020120082899 A KR1020120082899 A KR 1020120082899A KR 20120082899 A KR20120082899 A KR 20120082899A KR 20130020559 A KR20130020559 A KR 20130020559A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
beams
light sources
scanning
imaging system
direct imaging
Prior art date
Application number
KR1020120082899A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101983857B1 (ko
Inventor
스테판 하이네만
볼프강 레츠쉬케
홀게르 바그너
요나스 부르그호프
아브라함 그로스
Original Assignee
레이저 이미징 시스템즈 게엠베하 ＆ 코. 카게
오르보테크 엘티디.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 레이저 이미징 시스템즈 게엠베하 ＆ 코. 카게, 오르보테크 엘티디. filed Critical 레이저 이미징 시스템즈 게엠베하 ＆ 코. 카게
Publication of KR20130020559A publication Critical patent/KR20130020559A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101983857B1 publication Critical patent/KR101983857B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/11—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on acousto-optical elements, e.g. using variable diffraction by sound or like mechanical waves
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/124—Details of the optical system between the light source and the polygonal mirror
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements
    • G02B27/0955—Lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/30—Collimators
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
    • H04N1/0402—Scanning different formats; Scanning with different densities of dots per unit length, e.g. different numbers of dots per inch (dpi); Conversion of scanning standards
    • H04N1/0408—Different densities of dots per unit length
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
    • H04N1/0402—Scanning different formats; Scanning with different densities of dots per unit length, e.g. different numbers of dots per inch (dpi); Conversion of scanning standards
    • H04N1/042—Details of the method used
    • H04N1/0443—Varying the scanning velocity or position

Abstract

직접 이미징 시스템은 복수의 빔을 발산하도록 구성된 복수의 광원을 포함하는 조명 유닛과, 위치나 각도로 정렬되는 복수의 빔을 형성하기 위한 광학 시스템과, 음향파가 음향 방향으로 전파함에 따라, 위치나 각도로 정렬된 복수의 빔을 수신하고, 복수의 빔의 상이한 부분들을 연속적으로 회절시키도록 위치되는 음향 광학 변조기와, 복수의 빔의 상이한 부분들을 단일 노출 스폿으로 인코히런트하게 통합하도록 선택된 스캐닝 속도로, 음향 광학 변조기에 의해 변조된 복수의 빔을 이용해 노출 평면을 스캔하도록 구성된 스캐닝 요소를 포함한다.

Description

직접 이미징을 위한 시스템과 방법{SYSTEM AND METHOD FOR DIRECT IMAGING}
본 발명의 일부 실시예에서, 본 발명은 음향 변조(acoustic modulation)를 이용한 직접 이미징(DI: Direct Imaging)에 관한 것이며, 더 구체적으로 반도체 레이저 다이오드(LD: Laser Diode)를 이용한 직접 이미징에 관한 것(그러나 이에 국한되지는 않음)이다.
직접 이미징(DI: Direct Imaging) 시스템에서, 이미지, 하나 이상의 픽셀을 한 번에 노출 표면(exposure surface)(가령, 포토레지스트)으로 직접 기록하기 위해 스캐닝 빔이 사용된다. 때때로, 브래그 셀(Bragg cell)이라고 불리는 음향 광학 변조기(AOM: Acoustic Optical Modulator)를 이용해 스캐닝 빔을 변조함으로써, 이미지가 획득된다. AOM은, 저장된 이미지 데이터를 기초로, (보통, 무선 주파수의) 음파를 이용해 빛(광)을 회절 및 편향시키기 위해 음향-광학 효과를 이용한다. 변조되면, 노출 표면(또는 스캐닝 빔)이 스캔 방향으로 전진함에 따라, 변조된 빔을 다면 회전 폴리곤(rotating polygon)으로부터 반사시킴으로써, 스캐닝이 래스터 패턴(raster pattern)으로 제공된다.
일부 알려진 시스템에서, a) 변조기에서의 음향파의 유한 속도, b) 레이저 조명기(laser illuminator)의 연속 속성에 의해 야기된 생성 패턴의 공간 블러링(spatial blurring)을 최소화하기 위해, 스코포니(scophony) 스캐닝 효과가 사용된다. 스코포니 스캐닝 효과에 대한 요건은, AOM과 노출 표면 간의 광학 시스템의 배율(magnification ratio)에 의해 증가된 AOM에서의 음파의 음향 속도는, 노출 표면상의 기록 스폿(writing spot)의 스캔 속도와 동일하지만, 반대 방향이라는 것이다. 스코포니 스캐닝 효과는 노출 표면상의 지정 위치의 데이터 정보를 "세우는 것"을 야기한다.
미국 특허 제4,205,348호 "Laser scanning utilizing facet tracking and acousto pulse imaging techniques"은, 다면 회전 폴리곤을 스캐너 장치로서 이용해 레이저 스캐닝 시스템의 효율과 분해능을 개선하기 위한 방법 및 장치를 기재하고 있으며, 상기 미국 특허의 내용은 본원에서 참조로서 포함된다. 음향-광학 브래그 셀이, 입사 레이저 빔을 변조하고 편향시키기 위한 능동 광학 요소로서 사용되어, 변조된 빔은, 1회 완전한 스캔 동안 스캐너의 하나의 면을 추적하고, 다음번 스캔을 위해 이웃하는 면으로 이동하게 될 수 있다. 면 추적을 제공하기 위해, 레코딩 매체의 표면의 스캐닝 동작과 시간 동기(time synchronization)될 때 음향 반송파(acoustic carrier)의 주파수는 달라져야 한다. 레코딩 매체의 표면에서 음향 펄스의 이미지를, 레이저 레코딩 또는 빔 기록의 속도와 동일한 상대적 속도로, 그러나 반대 방향으로 이동시킴으로써, 스코포니 스캐닝 효과를 이용해, 입력 전기 신호를 기록 매체 표면에 이미징하는 것이 블러링 없이 이뤄진다.
미국 특허 제5,309,178호 "Laser marking apparatus including an acoustic modulator"는 레이저 마킹 장치를 기재하고, 상기 미국 특허의 내용은 본원에서 참조로서 포함되며, 상기 레이저 마킹 장치는 적어도 하나의 레이저 빔 소스와, 복수의 적어도 부분적으로 겹치는 변조 영역을 형성하는 다채널 음향 변조기와, 각각의 레이저 빔이 적어도 부분적으로 겹치는 변조 영역들 중 적어도 2개를 가로질러 뻗어 있도록 적어도 하나의 레이저 빔을 적어도 하나의 레이저 빔 소스로부터, 다채널 음향 변조기를 통해 지향시키기 위한 장치와, 광을 변조기로부터 레이저 마킹 이미지 평면으로 지향시키기 위한 이미징 장치를 포함한다.
레이저 빔 소스는 연속파 모드(continuous wave mode)로 동작한다. 레이저 다이오드(LD)는, 높은 감광도(photosensitivity)의 물질을 갖는 레코딩 매체를 스캐닝하기 위한 레이저 빔 소스로 사용된다고 기재되어 있다. 선택사항으로, 한 쌍의 LD(각각의 LD는, 대응하는 드라이버, 지체 판(retardation plate), 및 시준 렌즈를 포함)가 레이저 빔 소스로서 제공된다. LD 쌍을 이용할 때, 지체 판이 LD의 편광 벡터를 회전시켜, 평광기 빔 스플리터에 의한 에너지 손실 없이, 결합될 수 있다.
미국 특허 제6,770,866호 "Direct pattern writer"는 표면을 가로질러 빔을 스캐닝하기 위한 장치를 기재하며, 상기 미국 특허의 내용은 본원에서 참조로서 포함되고, 상기 장치는 펄스 레이저 빔을 표면에 스캐닝하는 스캐너와, 표면의 복수의 위치에서의 펄스 레이저 빔으로부터 입력을 수신하고 상기 표면을 따라 상기 펄스 레이저 빔의 위치를 지시하는 위치 지시자를 출력하는 위치 지시기를 포함한다. 표면에 패턴을 노출시키기 위한 장치(예를 들어, 감광성화된 표면에 전기 회로 패턴을 노출시키는 장치)에서 데이터를 변조하기 위해 위치 지시자가 사용된다. 전기 회로의 제조 시 이러한 장치가 사용된다. 스코포니 스캐닝 효과를 이용함으로써, 변부 고정(edge fixing)이 이뤄진다고 기재되어 있다.
미국 특허 제7,046,266호 "Scanner System"는 표면에 패턴을 기록하기 위한 스캐닝 방법을 기재하며, 상기 미국 특허의 내용은 본원에서 참조로서 포함된다. 상기 방법은 복수의 독립적으로 어드레스 서브-빔을 포함하는 스캐닝 빔(상기 스캐닝 빔의 비변조된 에너지(unmodulated energy)는 전체적으로 가우시안 프로필을 가짐)을 제공하는 단계와, 상기 스캐닝 빔으로 표면을 복수 회 스캐닝하는 단계(상기 서브-빔은 교차-스캔 방향(cross-scan direction)으로 나란히 표면을 스캐닝하고, 각각의 서브-빔은 기록될 정보를 반영하도록 변조됨)와, 표면의 모든 기록된 영역이 적어도 2회 스캔 동안 기록되도록 교차-스캔 방향으로의 일련의 스캔에서 빔들을 겹치는 단계를 포함한다. 음향-광학 변조기(브래그 셀(Bragg cell))에 의해 변조가 제공된다. 비점 스캐너(flying spot scanner)의 스캔 방향에서 생성된 변부의 블러 효과를 감소시키거나 제거하도록 스코포니 효과가 사용된다.
2개의 개별 스펙트럼 라인에서 에너지를 포함하는 빔이 데이터에 의해 변조되는 스캐닝 장치와, 하나 이상의 빔에 의해 패턴이 표면에 기록되고, 두 스펙트럼 라인 모두에서의 에너지가 동일한 위치의 표면으로 포커싱되도록 빔을 수신하고, 빔을 표면으로 포커싱하는 광학 시스템이 또한 기재된다. 입력 면과 출력 면에서의 (상이한 파장의) 두 빔의 회절 차이가 빔의 브래그 각(Bragg angle)의 차이와 정확히 동일하고 반대 방향이도록 AOM의 입구 면과 출구 면을 설계함으로써, 동일한 위치에서 포커싱하는 것이 제공된다. 따라서 함께 들어오는 2개의 빔은 함께 나간다.
미국 공개 특허 제2007/0058149호 "Lighting System and Exposure Apparatus"는, 반도체 LD의 2차원 어레이를 갖는 레코딩 매체를 조명하기 위한 방법 및 장치를 기재하며, 상기 미국 공개 특허는 본원에서 참조로서 포함된다. LD의 2차원 어레이가 낮은 효율의 수은등 또는 엑시머 레이저를 대체하도록 사용된다. LD의 2차원 어레이로부터 출력된 확산된 빔이, 두 종류의 원통형 렌즈에 의해 둘레가 균일화된 확산각을 갖는 높은 지향성 빔으로 변환된다. 빔의 중심의 정렬 불량(misalignment)으로 인한 개별 빔들의 광학 축의 기울어짐이, 2차원 어레이 쐐기형 유리(wedged glass)에 의해 보정된다. 2차원 광 변조기(가령, 마스크, 또는 무마스크 노출(maskless exposure)의 경우 디지털 거울 장치(DMD))에 의해, 빔이 변조된다.
본 발명의 일부 실시예의 하나의 양태에 따르면, 음향 광학 변조기(AOM: Acoustic Optical Modulator)를 이용해 변조되는 광원들의 하나 이상의 어레이를 이용하는 직접 이미징(DI: Direct Imaging) 시스템 및 방법이 제공된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, DI를 위한 시스템 및 방법은 스코포니 원리(Scophony principle)를 이용해, 광원들의 하나 이상의 어레이로부터의 빔들을 단일 노출 스폿을 향해 인코히런트하게 조합한다. 선택사항으로서, 빔 광원들의 하나 이상의 어레이는 저전력 빔 광원, 가령, LD의 어레이이다. 선택사항으로서, 상이한 어레이들로부터의 빔들이 빔의 전력을 스케일링하기 위해 조합된다. 선택사항으로서, 광원의 어레이는 복수의 파장을 포함하는 광원의 어레이이다.
본 발명의 일부 실시예의 하나의 양태에 따르면, 복수의 빔을 발산하도록 구성된 복수의 광원을 포함하는 조명 유닛과, 위치나 각도로 정렬된 복수의 빔을 형성하기 위한 광학 시스템과, 음향파가 음향 방향으로 전파함에 따라, 위치나 각도로 정렬된 복수의 빔을 수신하고, 복수의 빔의 상이한 부분을 연속적으로 회절시키도록 위치하는 음향 광학 변조기와, 복수의 빔의 상이한 부분들을 단일 노출 스폿으로 인코히런트하게 통합하도록 선택된 스캐닝 속도로, 음향 광학 변조기에 의해 변조되는 복수의 빔을 이용해 노출 평면을 스캐닝하도록 구성된 스캐닝 요소를 포함하는 직접 이미징 시스템이 제공된다.
선택사항으로서, 복수의 광원은 복수의 반도체 레이저 다이오드이다.
선택사항으로서, 복수의 광원 중 적어도 하나의 광원은 복수의 광원 중 적어도 하나의 타 광원과 상이한 파장으로 광을 발산하도록 구성된다.
선택사항으로서, 복수의 광원은 370-410㎚로 광을 발산한다.
선택사항으로서, 복수의 광원 중 적어도 하나의 광원은 복수의 광원 중 적어도 하나의 타 광원과 상이한 편광방향을 갖도록 구성된다.
선택사항으로서, 복수의 광원은 하나 이상의 어레이로 배열되며, 각각의 어레이는 직접 이미징 시스템의 스캔 방향과 정렬된다.
선택사항으로서, 각각의 어레이는 2-100개의 광원을 포함한다.
선택사항으로서, 광원들의 일부분만 한 번에 작동한다.
선택사항으로서, 스캐닝 요소는 복수의 단면(facet)을 포함하는 회전 폴리곤이고, 작동되는 광원들의 일부분은, 스캐닝 동안 복수의 단면 중 하나의 각도에 따라 선택된다.
선택사항으로서, 복수의 광원의 각각의 광원은 하나씩의 전용 렌즈와 연계되며, 전용 렌즈는 광원으로부터 발산되는 빔을 성형하도록 구성된다.
선택사항으로서, 전용 렌즈는 빔을 스캔 방향에 수직인 방향으로 기다랗게 성형하도록 구성된다.
선택사항으로서, 전용 렌즈는 빔을 교차-스캔 방향에 수직인 방향으로 기다랗게 성형하도록 구성된다.
선택사항으로서, 음향 광학 변조기는 복수의 빔을 수신하기 위한 구경과 연계되고, 전용 렌즈와 광학 시스템은 스캔 방향에 수직인 방향과 교차-스캔 방향에 수직인 방향 중 적어도 하나로, 구경을 채우도록 빔을 성형한다.
선택사항으로서, 광학 시스템은 복수의 광원으로부터의 빔을 음향 광학 변조기를 향해 시준하도록 구성된 요소를 포함한다.
선택사항으로서, 광학 시스템은 복수의 빔을 음향 광학 변조기의 구경으로 지향시키도록 구성된 텔레센트릭 광학 시스템을 포함한다.
선택사항으로서, 복수의 빔의 상이한 부분들 각각은 음향 광학 변조기로부터 수신된 복수의 빔 각각으로부터의 일부분을 포함한다.
선택사항으로서, 복수의 빔의 상이한 부분들 각각은 복수의 빔으로부터의 하나 이상의 빔을 포함한다.
선택사항으로서, 스캐닝 속도는, 음향 광학 변조기의 음향 속도에 시스템의 배율을 곱한 것과 정합하지만, 방향은 반대이도록 정의된다.
선택사항으로서, 음향 광학 변조기는 다-채널 음향 광학 변조기이다.
선택사항으로서, 시스템은 적어도 두 개의 조명 유닛과, 상기 적어도 두 개의 조명 유닛으로부터의 대응하는 빔들을 조합하기 위한 적어도 하나의 광학 요소를 더 포함한다.
선택사항으로, 둘 이상의 조명 유닛으로부터의 대응하는 빔들은 파장과 편광방향 중 적어도 하나가 상이하다.
본 발명의 일부 실시예의 하나의 양태에 따르면, 직접 이미징을 위한 방법이 제공되고, 상기 방법은 복수의 빔을 발산하도록 구성된 복수의 광원을 포함하는 조명 유닛을 제공하는 단계와, 복수의 빔이 위치나 각도로 정렬되도록, 복수의 빔을 음향 광학 변조기를 향해 지향시키는 단계와, 음향파가 음향 방향으로 전파하는 동안 복수의 빔의 상이한 부분들을 연속적으로 회절시키는 단계와, 음향 광학 변조기로부터의 출력을 이용해 스캔 방향으로 노출 평면을 스캐닝하는 단계를 포함하고, 스캐닝하는 단계는, 복수의 빔의 상이한 부분들을 단일 노출 스폿으로 인코히런트하게 통합하도록 선택된 스캐닝 속도로 수행된다.
선택사항으로서, 복수의 광원은 복수의 반도체 레이저 다이오드이다.
선택사항으로서, 복수의 광원 중 적어도 하나의 광원은, 복수의 광원 중 적어도 하나의 타 광원과 상이한 파장으로 광을 발산하도록 구성된다.
선택사항으로서, 광원들의 어레이는 370-410㎚로 광을 발산한다.
선택사항으로서, 복수의 광원 중 적어도 하나의 광원은 복수의 광원 중 적어도 하나의 타 광원과 상이한 편광방향을 갖도록 구성된다.
선택사항으로서, 복수의 광원은 하나 이상의 어레이로 배열되며, 각각의 어레이는 스캐닝의 방향과 정렬된다.
선택사항으로서, 각각의 어레이는 2-100개의 광원을 포함한다.
선택사항으로서, 방법은 한 번에 광원들의 일부분만 작동시키는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 작동되는 광원들의 일부분은 스캐닝을 위해 사용되는 단면의 각도에 따라 선택된다.
선택사항으로서, 상기 방법은 복수의 빔 각각을 스캐닝의 스캔 방향에 수직인 방향으로 기다랗게 성형하는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 상기 방법은 복수의 빔 각각을 스캐닝의 교차-스캔 방향에 수직인 방향으로 기다랗게 성형하는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 상기 방법은 복수의 빔 각각을, 스캐닝의 스캔 방향에 수직인 방향과 스캐닝의 교차-스캔 방향에 수직인 방향 중 적어도 하나에서, 음향 광학 변조기의 구경을 채우도록 성형하는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 복수의 빔의 상이한 부분들 각각은 음향 광학 변조기로부터 수신된 복수의 빔 각각으로부터의 일부분을 포함한다.
선택사항으로서, 복수의 빔의 상이한 부분들 각각은 복수의 빔으로부터의 하나 이상의 빔을 포함한다.
선택사항으로서, 상기 방법은 복수의 광원으로부터의 빔을 음향 광학 변조기를 향해 시준하는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 상기 방법은 음향 광학 변조기의 음향 속도에 시스템의 배율을 곱한 것에, 반대 방향으로, 정합시키는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 상기 방법은 복수의 조명 유닛을 제공하는 단계와, 복수의 조명 유닛으로부터의 대응하는 빔들을 조합하는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 추가적인 복수의 조명 유닛으로부터 대응하는 빔들은 파장과 편광방향 중 적어도 하나가 상이하다.
본 발명의 일부 실시예의 양태에 따르면, 직접 이미징 시스템에서 단면 추적(facet tracking)을 위한 방법이 제공되며, 상기 방법은 빔들의 어레이를 발산하도록 구성된 광원들의 어레이를 제공하는 단계(광원들의 어레이가 직접 이미징 시스템의 스캔 방향과 정렬됨)와, 복수의 광원이 스캐닝을 위해 사용되는 회전 폴리곤의 단일 단면의 길이보다 긴 길이만큼 광을 투사하도록 광원들의 어레이로부터의 빔을 음향 광학 변조기를 향해 지향시키는 단계와, 음향 광학 변조기로부터의 출력을 이용해 스캔 방향에서 노출 평면을 스캐닝하는 단계와, 폴리곤의 회전과 조화하여, 광원의 상이한 부분집합들을 선택적으로 작동시키는 단계를 포함하며, 선택된 광원의 부분집합은 스캐닝을 위해 사용되는 단면에 충돌하는 광원이다.
선택사항으로서, 상기 방법은, 작동되는 복수의 빔이 스캐닝을 위해 사용되는 단면의 길이를 따라 충돌하도록 음향 광학 변조기에서 상이한 입사각을 갖도록 어레이의 각각의 광원을 조절하는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 상기 방법은, 폴리곤의 회전과 조화하여, 스캐닝을 위해 사용되는 단면의 가장자리 근처에 충돌하거나 상기 가장자리를 지나쳐 충돌하는 빔을 발산하는 복수의 광원으로부터의 광원을 끄는 단계를 더 포함한다.
선택사항으로서, 상기 방법은 작동되는 복수의 빔을 단일 노출 스폿으로 인코히런트하게 통합하는 단계를 더 포함한다.
다르게 정의되지 않는 한, 본원에서 사용되는 모든 기술적 및/또는 과학적 용어는 본 발명이 속하는 분야의 통상의 기술자가 일반적으로 이해하는 것과 동일한 의미를 가진다. 본 발명의 실시예의 실시 또는 테스트에서, 본원에 기재된 것과 유사하거나 동등한 방법 및 물질이 사용될 수 있을지라도, 예시적 방법 및/또는 물질이 이하에서 기재된다. 충돌되는 경우, 정의를 포함해 특허 명세서가 우선시될 것이다. 덧붙이자면, 물질, 방법, 및 예시는 설명을 위한 것이며, 이에 반드시 한정될 것을 의도하지 않는다.
본 발명의 일부 실시예가 본원에서 첨부된 도면을 참조하여, 단지 예로서 기재된다. 도면을 구체적으로 참조하면, 도시된 세부사항은 예를 들기 위한 것이며, 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적을 갖는다. 이와 관련해, 도면과 관련해 이뤄진 설명이 본 발명의 실시예가 실시되는 방식을 더 명확하게 한다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예에 따르는 예시적 DI 스캐닝 시스템의 단순화된 블록도이다.
도 2는 본 발명의 일부 실시예에 따르는 광원의 예시적 어레이를 개략적으로 도시한다.
도 3A는 본 발명의 일부 실시예에 따라, AOM의 구경 내부에 있는 어레이의 개별 빔을 배열하기 위한 예시적 광학 설계의 개략적 도시이다.
도 3B는 본 발명의 일부 실시예에 따라, 스캔 방향과 교차-스캔 방향으로 개별 빔을 성형하기 위한 예시적 광학 설계를 개략적으로 도시한다.
도 3C는 본 발명의 일부 실시예에 따라 AOM과 동공 평면에 이미징되는 빔의 개략적 도시이다.
도 4A는 본 발명의 일부 실시예에 따라, AOM의 구경 내부의 어레이의 개별 빔을 배열하기 위한 대안적 예시적 광학 설계를 개략적으로 도시한다.
도 4B는 본 발명의 일부 실시예에 따라 스캔 방향과 교차-스캔 방향에서 개별 빔을 성형하기 위한 대안적 광학 설계를 개략적으로 도시한다.
도 4C는 본 발명의 일부 실시예에 따라 대안적 광학 설계에서 AOM과 동공 평면상에 이미징되는 빔을 개략적으로 도시한다.
도 5는 본 발명의 일부 실시예에 따르는 DI 시스템 내 빔 형성 광학 시스템의 예시적 광학 경로이다.
도 6은 본 발명의 일부 실시예에 따르는 다-채널 AOM에 배열되는 광 빔의 예시적 어레이를 개략적으로 도시한다.
도 7은 본 발명의 일부 실시예에 따라, 3개의 서로 다른 시간 프레임에 걸쳐 스코포니 스캐닝 효과를 이용하는 광 빔 변조의 일례를 개략적으로 도시한다.
도 8은 본 발명의 일부 실시예에 따라, 하나의 기록 빔으로 형성되는 광원의 행렬의 일례를 개략적으로 도시한다.
도 9A, 9B, 9C, 및 9D는 본 발명의 일부 실시예에 따라, AOM 평면 및 이에 대응하는 공동 평면상에 이미징되는 복수의 어레이로 배열되는 빔의 행렬을 개략적으로 도시한다.
도 10A, 10B, 10C, 및 10D는 본 발명의 일부 실시예에 따르는 단면 추적 방법을 도시하는 단순화된 개략적 도면이다.
도 11은 본 발명의 일부 실시예에 따라, 광원들의 2개의 어레이와, 상기 2개의 어레이로부터의 빔들을 조합하기 위한 광소자를 포함하는 예시적 조명 유닛을 단순화하여 개략적으로 도시한다.
도 12는 본 발명의 일부 실시예에 따라 서로 다른 어레이로부터의 빔을 조합하기 위한 예시적 광학 설계의 개략적 도시이다.
도 13은 본 발명의 일부 실시예에 따르는 예시적 DI 시스템이다.
본 발명의 일부 실시예에서, 본 발명은 음향 변조를 이용한 DI(직접 이미징)와 관련되며, 더 구체적으로, 반도체 LD(레이저 다이오드)를 이용한 직접 이미징(그러나 이에 국한되지는 않음)과 관련된다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 레코딩 매체를 스캐닝하기 위한 기록 빔(writing beam)을 형성하기 위해, AOM(음향 광학 변조기)에 의해 변조되는 광원(light source)들의 하나 이상의 어레이를 이용하는 DI 시스템이 제공된다. 일부 예시적 실시예에서, 광원들의 어레이는, 예를 들어, 기록 빔을 형성하도록 성형된 50개의 광원 또는 2-100개의 광원을 포함하는 치밀 어레이(dense array)이다. 일부 예시적 실시예에서, 50×10 광원들을 포함하는 광원들의 복수의 어레이 및/또는 행렬이 기록 빔을 형성하기 위해 사용된다. 선택사항으로서, 어레이는 서로 다른 스펙트럼 속성을 갖는 광원, 예를 들어, 서로 다른 파장(가령, 370-410㎚) 및/또는 서로 다른 편광방향(polarization)을 갖는 광원을 포함한다. 일반적으로, 어레이의 광원은 연속파 모드로 작동한다. 일부 예시적 실시예에서, 어레이는 반도체 LD의 어레이이다.
일반적으로, 시스템은 원하는 배율로 AOM의 평면을 레코딩 매체(가령, 노출될 패널)에 이미징하기 위한 스캐닝 광학 시스템을 포함한다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 스캐닝 광학 시스템은 광원 어레이의 파장 범위에서 무색상적(achromatic)이다. 일반적으로, 래스터 스캐닝(raster scanning)을 제공하도록 폴리곤 미러가 빔을 편향시킨다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, DI 방법은, DI 시스템의 1회 스캐닝 스윕(scanning sweep) 동안 어레이의 서로 다른 광원을 이용해 레코딩 매체에 스폿을 반복적으로 노출하도록 제공된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 1회 스윕 동안의 반복적인 노출은, 스코포니(Scophony) 스캐닝 효과를 적용함으로써, 제공된다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 음향파가 전파될 때 음향파가 하나 이상의 각각의 어레이의 개별 빔들을 연속적으로 스위칭하도록, 하나 이상의 각각의 어레이 내 광원들은 AOM에서 음향 방향을 따라 횡방향으로 배열된다. 일부 예시적 실시예에서, 음향 파가 전파함에 따라, 음향 파가 하나 이상의 어레이의 모든 빔의 일부분을 연속적으로 스위칭하기 위해, 빔은 AOM의 음향 방향에 걸쳐 있도록 성형된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 어레이의 각각의 스위칭된 빔이 레코딩 매체의 동일한 스폿에서 충돌하도록, 스코포니 스캐닝 효과가 사용되어, 음향 파의 속도 및 스캐닝 광학 시스템에 의해 제공되는 배율(magnification)을 스캐닝 속도와 조화시킬 수 있다.
일부 예시적 실시예에서, AOM은 다-채널(multi-channel) AOM(가령, 24 채널 AOM 또는 4-1000 채널 AOM)이며, 스캐닝 동안 복수의 픽셀(또는 스폿)이 동시에 기록되고, 본원에 기재된 바와 같이 스코포니 스캐닝 효과를 적용함으로써, 단일 스윕(sweep) 동안 각각의 픽셀(또는 스폿)이 반복적으로 노출될 수 있다. 일부 예시적 실시예에서, 하나 이상의 어레이 내 개별 광원으로부터의 빔이 교차-스캔 방향(cross-scan direction)으로 기다랗게 성형될 수 있고, 다-채널 AOM의 채널들이 교차-스캔 방향을 따라 배열되어, 각각의 채널이 각각의 기다란 빔(elongated beam)의 서로 다른 부분을 변조할 수 있다. 또 다른 예시적 실시예에서, 개별 광원으로부터의 각각의 빔이 AOM의 구경의 전체 영역을 채우도록 성형된다.
본 발명의 발명자는, 본원에 기재된 바와 같은 스코포니 스캐닝 효과를 이용하는 복수의 반도체 LD를 이용한 반복적인 노출이 복수의 이점을 제공할 수 있음을 발견했다. 선택사항으로서, 이점들 중 일부는, DI용으로 일반적으로 사용되는 레이저 유닛을 저비용의 광원(가령, 반도체 LD) 어레이(각각의 광원은 낮은 전력으로 동작하는 광원, 가령, 5-50W 레이저 광원, 또는 0.1-2W 반도체 LD이다)로 대체함으로써, DI 시스템의 재료의 비용을 감소시키는 것과 관련된다. 구체적으로, 기존 시스템의 펄스 고체 레이저에 비교할 때, 반도체 LD는 저 비용이며, 비교적 수리가 필요없으며(service free), 비교적 긴 수명을 가진다. 일부 예시적 실시예에서, 본원에 기재된 DI 시스템 및 방법을 이용한 저 전력 광원에 의한 반복적인 노출은 저 감광도(photosensitivity)의 재료를 스캐닝하기 위해 제공된다. 본 발명의 발명자는 복수의 저전력 LD에 의한 동일한 스폿의 반복적인 노출이, 저감광도를 갖는 재료에 기록하기 위해 필요한 누적되는 에너지를 제공한다. 일부 예시적 실시예에서, 광원의 평균 속성에 의해 최종 공간 프로파일 및 스펙트럼이 정의될 수 있기 때문에, 복수의 광원에 의한 반복적인 노출에 의해, 저비용 광원과 연계된 더 높은 허용오차를 갖는 광원을 이용할 수 있다. 본 발명의 발명자는 복수의 광원에 의한 반복적인 노출이, 전체 노출 품질을 개선하는 평활 효과(smoothing effect)를 제공함을 발견했다. 일부 예시적 실시예에서, 광원의 어레이는, 어레이의 다른 광원이 오작동할 때 동작할 수 있는 하나 이상의 보조 광원을 포함한다. 본 발명의 발명자는, 어레이의 보조 광원을 포함함으로써, 광원 유닛의 수명 및/또는 신뢰도를 위태롭게 하지 않고, 일반적으로 낮은 신뢰도의 저비용 광원이 사용될 수 있다. 선택사항으로서, 보조 광원에 의해 제공되는 용장성(redundancy)에 의해, 일부 광원이 고장나는 경우에도, 조명 유닛은 계속 작동할 수 있다. 선택사항으로서, 원하는 스펙트럼을 성형하기 위해 복수의 광원이 조합된다. LD의 또 다른 이점은, 종래의 가스 레이저 및 종래의 다이오드-펌프식 고체(DPSS: Dioded-Pumped Solid State) 레이저에 비교할 때, 비교적 높은 벽-플러그 효율(wall-plug efficiency)을 가진다는 것이다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 본원에 기재된 DI 시스템 및 방법이, 종래의 DI 시스템에 비해 개선된 다용성(versatility)을 제공한다. 일부 예시적 실시예에서, 광원 어레이는 서로 다른 스펙트럼 특성을 갖는 광원을 포함한다. 선택사항으로서, 어레이는 서로 다른 파장을 갖는 광원을 포함한다. 일반적으로, 짧은 파장이 사용되어 레코딩 매체의 표면에 강성이 제공되고, 반면에 긴 파장은 레코딩 매체를 관통하기 위해 사용될 수 있다. 일부 예시적 실시예에서, 노출 패널상의 동일한 스폿을 노출하도록 서로 다른 파장이 사용된다. 선택사항으로서, 특정 적용예 및/또는 특정 스윕에 대해, 어레이의 특정 광원(및 요구되는 파장)이 선택되고, 선택된 광원만 작동된다. 선택사항으로서, 광원들의 둘 이상의 어레이가 사용되어, 조명 유닛이 제공할 수 있는 출력을 스케일링할 수 있다. 선택사항으로서, 서로 다른 어레이의 광원으로부터의 빔이 조합되어, 하나의 단일 빔을 형성할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 노출 표면상의 각각의 픽셀 또는 스폿을 기록하기 위해 광원의 일부분만 이용하고, 스캐닝을 위해 사용되는 액티브 단면(active facet)의 배향과 동기화되어 사용되는 광원의 일부분을 변경시킴으로써, 단면 추적(facet tracking)이 제공된다. 단면 추적 동안, 각각의 빔, 또는 빔의 적어도 일부분이 상이한 위치에서의 폴리곤에 영향을 주도록 형성된다.
본 발명의 적어도 하나의 실시예를 상세히 설명하기 전에, 본 발명의 적용이, 이하의 기재에서 제공되거나 도면에 도시된 구성요소 및/또는 방법의 구성 및 배열에 대한 상세 사항에 국한되어야 하는 것은 아니다. 본 발명은 다양한 방식으로 실시 또는 수행될 수 있다.
지금부터 도면을 참조하면, 도 1은 본 발명의 일부 실시예에 따르는 예시적 DI 스캐닝 시스템의 단순화된 블록도를 도시한다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 조명 유닛(100)은, 빔 형성 광학 시스템(60)에 의해, AOM(70)의 구경(71)으로 꼭 들어맞도록 성형된 복수의 빔(65)을 제공하는 광원(501, 502, …50N)들의 어레이(50)를 포함한다. 일반적으로, 광원은 LD이다. 본 발명의 일부 실시예에 따라, 복수의 빔(65)이 구경(71)을 통해 AOM(70)의 음향 방향을 따라 횡방향으로 배열되고, 1차원 어레이로 시준된다. 또는, 복수의 빔(65) 각각은 (가령, 구경(71)의 크기에 걸쳐 있는) 큰 빔 직경을 가지며, 빔들이 AOM의 하나의 위치에서 겹친다. 일반적으로, 빔이 회전 폴리곤(80)으로부터 편향될 때, AOM(70)은 데이터 제어 유닛(700)으로부터 수신된 이미지 데이터를 기초로 인입 빔(65)을 변조하고, 스캐닝 광학 시스템(90)이 변조된 데이터를 포함하는 AOM의 평면을 노출 평면(95)으로 이미징한다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, AOM(70)은 구경(71), 가령, 선택사항으로서, 장방형이며, 시준된 빔 어레이(65)를 수신하기 충분할 만큼 (음향 방향(75)을 따라) 넓은 큰 구경을 가진다. 선택사항으로서, 구경(71)은 10-40㎜의 폭을 가진다. 일부 예시적 실시예에서, AOM(70)은 다-채널 AOM이고, 구경(71)은, AOM(70)의 모든 채널에 걸치도록 음향 방향(75)에 수직인 방향을 따라 충분히 넓다. 선택사항으로서, AOM(70)은 24 내지 48개의 채널을 포함한다. 일부 예시적 실시예에서, AOM(70)은, 낮은 음향 곡률 인자(acoustic curvature factor)를 보이는 음향-광학 재료(acousto-optical material)로 형성된다. 선택사항으로서, AOM(70)이 수정(quartz crystal)으로 형성된다. 선택사항으로서, AOM은 TeO2 결정으로 형성된다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 어레이(50)는 LD들의 1차원 어레이이다. 선택사항으로서, 어레이는, 복수의 광원으로부터의 조명이 빔 형성 광학 시스템(60) 쪽으로 지향될 수 있도록 초승달 형태로 배열된 광원들의 치밀한(dense) 어레이이다. 일부 예시적 실시예에서, 어레이의 각각의 LD는, LD(55)로부터 빔(65)을 빔 형성 광학 시스템(60)으로 포커싱하고 정렬하는 렌즈 어레이(55)의 전용 렌즈(55n)(n=1, 2, …N)와 연계된다. 일반적으로, 렌즈 어레이(55)는 조명 유닛(100)에 포함되고, 하나의 공통 하우징에 하우징된다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 어레이(50)는, 선택사항으로서, 370-410㎚의 서로 다른 파장을 갖는 LD를 포함한다. 선택사항으로서, 어레이(50)는 동일한 파장을 갖는 둘 이상의 LD를 포함한다. 일부 예시적 실시예에서, 어레이(50)는 스캔 방향에 평행 또는 수직으로 배향된 편광을 갖는 LD를 포함한다. 일부 예시적 실시예에서, LD가 연속 모드(continuous mode)로 동작한다. 일반적으로, 광원 유닛은 2 내지 100개의 LD, 가령, 50개의 LD를 포함한다. 일부 예시적 실시예에서, 어레이(50)는 특정한 정도의 용장성을 포함하고, 한 번에 어레이(50)의 LD의 일부분만 동작한다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 빔 형성 광학 시스템이 개별 빔을 성형하고, AOM(70)의 구경(71) 내에 개별 LD 빔을 배열하도록 사용된다. 일부 예시적 실시예에서, 빔 형성 광학 시스템(60)은, 빔을 AOM(70)의 음향 방향을 따르는 하나의 평면으로 시준하기 위한 단일 결합 광소자(coupling optics)를 포함한다.
일부 예시적 실시예에서, 폴리곤(80)은 미국 특허 제6,770,866호에 기재된 폴리곤과 유사하고, 예를 들어, 미국 특허 제4,205,348호에 기재된 것과 같은 빔 단면 추적 능력을 가진다. 선택사항으로서, 각각의 노출 동안 어레이의 부분집합만 작동시키고, 단면이 회전함에 따라, 작동하는 부분집합을 연속적으로 이동시킴으로써, 단면 추적이 이뤄지고, 이하에서 더 상세히 기재될 것이다. 일부 예시적 실시예에서, 동작 중에, 1000 내지 4000RPM(가령, 3000RPM)의 속도로 폴리곤(80)이 회전한다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 스캐닝 광학 시스템(90)은 LD의 파장 범위에 걸쳐 무색상적(achromatic)이다.
본 발명의 일부 실시예에 따르며, 이하에서 더 상세히 기재될 바와 같이, 음향파가 음향 방향(75)으로 전파함에 따라, 음향파는 각각의 빔(65)을 노출 평면(95) 상으로 이미징하도록 빔을 폴리곤(80) 쪽으로 회절시킴으로써, 상기 빔을 차례로 연속적으로 스위칭한다. 선택사항으로서, 음향파가 음향 방향(75)으로 전파함에 따라 한 번에 둘 이상의 빔(65)을 회절시킨다. 일반적으로, 회절되지 않은 빔이 광학 스탑(optical stop, 10) 쪽으로 지향된다. 또는, 반대의 경우도 가능할 수 있으며, AOM(70)으로부터의 회절되지 않은 광이 레코딩 매체에 이미징되고, 반면에 회절된 광이 스탑에 도달할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예에 따르는 도 2을 참조하면, 광원들로의 예시적 어레이의 단순화된 개략적 도면이 도시되어 있다. 본 발명의 일부 실시예에 따라, 조명 유닛(100)은 플랫폼(57)상에 장착된 광원(501, 502, … 50N)의 치밀한 어레이를 포함한다. 선택사항으로서, 어레이는 2 내지 100개의 LD(가령, 50개의 LD)를 포함한다. 일반적으로, 조명 유닛(100)은, 각각의 빔을 포커싱하고 정렬하기 위해, 플랫폼(57) 상에 장착된 각각의 LD에 대한 전용 렌즈(55)를 포함한다. 선택사항으로서, LD는 초승달 형태로 플래폼(57)에 장착된다. 선택사항으로서, 둘 이상의 어레이, 가령, 2개의 광원 어레이가 사용된다.
본 발명의 일부 실시예에 따르는 도 3A를 참조하면, 어레이의 개별 빔을 AOM의 구경 내로 배열하기 위한 예시적 광학 설계가 개략적으로 도시되어 있다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 빔 형상 광학 시스템은, 초승달 형태의 어레이(50)의 개별 LD로부터의 빔(65)을 음향 방향(75)을 따라 시준하기 위한 원통형 렌즈(11)를 포함한다. 일반적으로, 음향 방향(75)은 스캔 방향에 평행하다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 광학 설계는, 음향 방향(75)을 따라 AOM(70)의 구경(71)으로 빔을 연쇄 전달(relay)하기 위해, 텔레센트릭 망원 렌즈 시스템(62)을 포함하고, 모든 빔들은 그들의 브래그 각(Bragg angle)으로 AOM에 입사한다. 통상적으로, 빔들이 구경(71)에 꼭 들어맞고, 병렬 빔들의 어레이로서 구경(71)으로 들어오도록, 텔레센트릭 망원 렌즈가 빔의 크기를 정한다. 선택사항으로서, 빔 조정 렌즈(63)들 간 거리를 조정함으로써, 교차-스캔 방향에 대한 가변 빔 확장이 제공된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 원통형 렌즈(83)가 AOM으로부터 회절되는 개별 빔들을 휘어서, 빔들이 동공 평면의 동일한 스폿에, 그러나 상이한 각도로, 충돌하도록 한다. 이하에서 더 상세히 기재될 본 발명의 일부 실시예에 따라, 음향파가 음향 방향(75)으로 전파함에 따라, AOM에 의해, 개별 빔들이 연속적으로 회절되지만, 스코포니 원리를 이용함으로써, 노출 평면상의 동일한 스폿에 노출된다.
본 발명의 일부 실시예에 따르는 도 3B를 참조하면, 개별 빔을 스캔 방향과 교차-스캔 방향으로 각각 성형하기 위한 예시적 광학 설계를 개략적으로 도시하며, 도 3C는 본 발명의 일부 실시예에 따라, AOM과 동공 평면 모두에 이미징되는 빔의 단순화된 개략적 도면을 도시한다. 도시된 바와 같이, 실선(651n)이 스캔 방향(85)과 정렬되는 고속 축(fast axis)에서의 개별 빔(65n)의 광선을 나타내고, 점선(652n)은 교차-스캔 방향(86)과 일반적으로 정렬되는 저속 축(slow axis)에서의 빔(65)의 광선을 나타낸다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, AOM 평면 및/또는 객체 평면(73), 가령, 노출 평면에서, 각각의 LD 빔(651, 652, 653, …65n, …65N)은, 스캔 방향(85)을 따라 좁은 빔 웨이스트(beam waist)를 갖도록 형성되며, 교차-스캔 방향(86)을 따라 기다랗게 형성된다. 선택사항으로서, 빔은 빔의 고속 축을 따라 준 가우시안 빔 프로파일, 가령 M2~1.5를 갖고, 빔의 저속 축을 따라 더 높은 수준의 빔 프로파일, 가령, M2~7을 가진다. 일부 예시적 실시예에서, 시준 렌즈(61)는 스캔 방향에서 빔 웨이스트를 원하는 폭으로 조절한다. 일반적으로, 노출 평면에서의 빔은 AMO 평면에서의 빔의 이미지이며, 반면에 동공 평면은 AOM 평면과 노출 평면 모두와의 공액 평면(conjugated plane)이다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 동공 평면(89)에서(도 3C), LD(501, 502, 503, … 50N)로부터의 모든 빔(651, 652, 653, … 65N)이 서로 다른 각도로, 그러나 동일한 스폿에 충돌한다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 각각의 빔(651, 652, 653, … 65N)이 스캔 방향(85)을 따라 (스캔 동공 평면(87)에서) 넓은 빔 웨이스트를 갖고, 교차-스캔 방향(86)을 따라 (교차-스캔 동공 평면(84)에서) 좁은 빔 웨이스트를 갖도록 형성된다. 통상적으로, 동공 평면(89)(도 3C)은, 폴리곤(80)의 단면 평면(facet plane)과 일반적으로 일치하는 물리적 스캔 동공 평면(87)과, AOM(70)과 폴리곤(80)의 단면 평면 사이에 위치하는 교차-스캔 동공 평면(3B)으로 구성된 가상 평면이다.
도 4A를 참조하면, 본 발명의 일부 실시예에 따라, 어레이의 개별 빔을 AOM의 구경의 내부에 배열하기 위한 대안적 광학 설계의 일례에 대한 개략적 다이어그램이 도시된다. 본 발명의 일부 대안적 실시예에 따르면, 빔 형성 광학 시스템은, 스캔 방향과 교차-스캔 방향 모두에서 빔이 큰 빔 직경을 갖도록 빔을 성형한다. 일반적으로, 빔 어레이(65)의 각각의 빔은 구경(71)을 채우도록 성형된다. 일반적으로, 원통형 렌즈(61)가 어레이(50)의 개별 LD로부터의 빔을 음향 방향(75)을 따라 시준하고, 렌즈 시스템(72)은 빔을 AOM(70)의 구경(71)으로 연쇄 전달하여, 개별 빔들이 AOM(70)의 하나의 위치에서 겹치도록 한다. 개별 빔들이 겹침에도, 개별 빔 각각은 AOM 결정에 상이한 각도들(가령, 다소 상이하지만, 브래그 각에 가까운 각도들)로 충돌한다.
본 발명의 이들 대안적 실시예에 따르면, AOM으로부터 회절되는 개별 빔들은 동공 평면의 서로 다른 스폿에, 그러나 동일한 각도로 충돌하며, 노출 평면(95)(도 1)의 동일한 스폿에, 그러나 서로 다른 각도로 충돌한다. 이들 실시예에서, 모든 큰 직경 빔, 가령, 액티브 빔의 부분이 동시에 회절된다. 이하에서 더 상세히 설명되겠지만, 음향파가 음향 방향(75)으로 전파할 때 모든 큰 직경 빔의 뒤 이은 부분들이 연속적으로 회절되지만, 스코포니 원리를 이용함으로써, 노출 평면 상의 동일한 스폿에서 노출된다.
본 발명의 일부 실시예에 따라, 도 4B에 스캔 방향과 교차-스캔 방향으로 개별 빔을 성형하기 위한 대안적 예시적 광학 설계가 개략적으로 도시되어 있고, 도 4C에 대안적 광학 설계에서의 AOM과 동공 평면에 이미징되는 빔의 단순화된 개략도가 도시되어 있다. 도시된 실선(651n)이 스캔 방향(85)과 정렬되는 고속 축(fast axis)에서의 개별 빔(65n)의 광선을 나타내며, 점선(652n)은 교차-스캔 방향(86)과 일반적으로 정렬되는 저속 축(slow axis)에서의 빔(65n)의 광선을 나타낸다. 본 발명의 일부 실시예에 따르며, AOM 및/또는 대물 평면(73)에서, 각각의 LD 빔(651, 652, 653, … 65n, … 65N)이 스캔 방향(85)과 교차-스캔 방향(86) 모두에서 구경(71)을 채우는, 스캔 방향과 교차-스캔 방향 모두에서 큰 빔 웨이스트를 갖도록 형성된다. 선택사항으로서, 빔은 고속 축(fast axis)을 따라 준 가우시안 빔 프로파일, 가령, M2~1.5을 갖고, 빔의 저속 축(slow axis)을 따라 더 높은 차수의 빔 프로파일, 가령, M2~7을 가진다. 일부 예시적 실시예에서, 시준 렌즈(61)는 빔 웨이스트를 스캔 방향에서 원하는 폭으로 조절한다. 선택사항으로서, 빔 조절 렌즈(간결함을 위해 도시되지 않음)들 간의 거리를 조절함으로써, 교차-스캔 방향으로 가변 빔 확장이 제공된다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 동공 평면(89)에서, LD(501, 502, 503, …50N)로부터의 모든 빔(651, 652, 653, … 65N)이 서로 다른 스폿에, 그러나 동일한 각도로 충돌한다. 본 발명의 일부 실시예에 따라, 각각의 빔(651, 652, 653, … 65N)이 (스캔 동공 평면(87)에서) 스캔 방향(85)과 (교차-스캔 동공 평면(84)에서) 교차-스캔 방향(86) 모두를 따라 좁은 빔 웨이스트를 갖도록 형성된다. 통상적으로, 동공 평면(89)(도 4C)은, 폴리곤(80)의 단면 평면과 일반적으로 일치하는 물리적인 스캔 동공 평면(87) 및 AOM(70)과 폴리곤(80)의 단면 평면 사이에 일반적으로 위치하는 교차-스캔 동공 평면(도 4B)으로 구성된 가상 평면이다.
도 5에, 본 발명의 일부 실시예에 따르는, DI 시스템에서 빔 형성 광학 시스템의 예시적 광학 경로가 도시된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, LD(50)의 치밀한 어레이로부터의 조명이 시준 렌즈(61)를 이용해 시준되며, 빔 변조를 위해, 복수의 반사 표면(66)을 통해 AOM(70) 쪽으로 지향된다. 일반적으로, 빔을 시준 렌즈(61)로 포커싱하기 위해, 어레이 내 각각의 LD는, 가령, 렌즈 어레이(55) 중 전용 렌즈와 연계된다. 선택사항으로서, 어레이 내 LD는 서로 다른 파장 및/또는 편광방향(polarization)의 LD를 포함한다. 일부 예시적 실시예에서, 스캐닝 동안 어레이(50)의 LD의 일부분만 작동한다. 일부 예시적 실시예에서, 어레이로부터의 각각의 빔은, 교차-스캔 방향에서 렌즈(63)를 이용해 성형되고, 한 쌍의 망원 렌즈(62)를 이용해 AOM 상으로 연쇄 전달된다. 선택사항으로서, 렌즈(63)들 간 거리를 조절함으로써, 교차-스캔 방향에서의 빔 확장이 조절될 수 있다.
이제, 도 6을 참조하며, 본 발명의 일부 실시예에 따라 다-채널 AOM으로 배열되는 광 빔의 예시적 어레이가 개략적으로 도시된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 시준되는 조명 빔(65)의 어레이가 스캔 방향(85)을 따라 배열되고, 및/또는 음향 방향(75)이 AOM(70)의 구경(71)으로 들어간다. 선택사항으로서, 2-100개의 조명 빔이 음향 방향(75)을 따라 배열된다. 일반적으로 각각의 빔(65)은 음향 방향에 수직인 방향을 따라 기다랗도록 성형된다. 일반적으로, 각각의 빔은 전극 어레이(79)를 포함하는 복수의 음향 채널에 걸쳐 변조된다. 일반적으로, 전극 어레이(79)는, 선택사항으로서 교차-스캔 방향(86)과 정렬되는 음향 방향(75)에 수직인 축을 따라 배열된다. 일반적으로, 복수의 채널은 한 번에 둘 이상의 픽셀을 기록하도록 제공된다.
동작 중에, RF 신호는, 변조 패턴을 기초로 전극(79)으로 송신되며, 상기 변조 패턴은 음향파가 전극(79)의 위치에서 음향 방향(75)으로 전파되기 시작하도록 한다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 음향파가 음향 채널을 따라 전파될 때, 음향파는 트리거된 음향 채널과 연계된 어레이(65)의 각각의 빔의 일부분을 연속적으로 회절시킨다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 동일한 채널의 모든 빔이 동일한 신호에 의해 변조되기 때문에, 채널 내 모든 빔이 동일한 방식으로 변조된다. 일부 예시적 실시예에서, 음향파 패킷은 어레이(65)로부터의 복수의 빔을 한 번에 변조한다.
도 7에, 본 발명의 일부 실시예에 따르는, 음향파 패킷 전파의 3개의 서로 다른 시간 프레임(t1, t2, t3)에 걸친 AOM 윈도의 예시적 이미지가 개략적으로 도시된다. 통상적으로, 회전 폴리곤(80)에 의해, AOM(70)의 이미지(88)는 속도(vscan)로 노출 평면(95)을 횡단한다(도 1). 전체 이미지가 스캔 방향(85)으로 이동하지만, 음향파 패킷의 위치와 일치하는 이미지(88)의 일부분(110)만 노출 패널(95) 쪽으로 회절된다. 상기 음향파 패킷의 위치와 일치하는 이미지(88)의 상기 부분(110)은, 음향파 패킷의 속도와 스캐닝 광학 시스템(90)의 배율(magnification)에 의해 결정되는 속도로 (스캔 방향(85)에 반대인) 음향 방향(75)으로 이동한다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 스캐닝 속도(vscan)는, 음향 속도(vacoust)와 크기는 동일하지만 방향은 반대이게(vscan = - vacoust) 조절되어, 움직이는 AOM 윈도(88)에서 전진하는 음향파 패킷이 이미지(88)의 일부분(110)을 노출 패널(95) 상의 동일한 스폿(951) 쪽으로 항상 회절시킬 수 있다. 따라서 스폿(951)은 레코딩 매체의 노출 평면에서 정지 상태이며, 모든 개별 레이저 다이오드 빔에 의해 연속적으로 조명될 수 있다. 이러한 방식으로 빔이 인코히런트(incoherent)하게 조합된다. 선택사항으로서, 매끄러운 에너지 프로파일을 위해, 교차-스캔 방향에서 스캔 라인들이 겹친다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 일부 실시예에 따라, 기록 빔(writing beam)으로 형성되는 광원의 예시적 행렬의 단순화된 개략도가 도시된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 조명 유닛(101)이 광원(5011, 5012, … 5021, 5022, … 50NM)의 행렬(555) 및/또는 광원의 둘 이상의 어레이를 포함하여, (가령, 도 1의 렌즈(55)와 유사한) 전용 렌즈와 빔 형성 광학 시스템(666)에 의해 AOM(70)의 구경(71)에 꼭 들어맞도록 성형된 복수의 빔(665)을 제공한다. 본 발명의 일부 실시예에 따라서, 행렬(555)는 오목형 평면에 배열되어, 복수의 광원으로부터의 조명이 빔 형성 광학 시스템(666)으로 지향되도록 할 수 있다. 일부 예시적 실시예에서, (간결함을 위해 도시되지 않음) 행렬(555)의 각각의 LD는, LD(555)로부터의 빔(665)을 빔 형성 광학 시스템(666) 상으로 포커싱하고 정렬하는 전용 렌즈와 연계된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 행렬(555)는 2-100개의 광원들로 구성된 1-20개의 어레이를 포함한다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 시스템으로 연결될 수 있는 빔(665)의 개수는 스캔 광소자(90)의 각 수용범위(angular acceptance range)와 구경(71)의 크기에 의해 제한된다. 일반적으로, 스캔 방향(85)과 교차-스캔 방향(86)에 대한 각 수용범위는 상이하며, 이미지 평면(95)에서의 스캔 광소자(90)의 개구수(numerical aperture)와, AOM(70)과 이미지 평면(95) 간의 시스템의 배율에 의해 결정된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 특정 각 수용범위에 대해, 단일 LD에서 AOM(70)의 구경(71)에서의 빔의 크기가 계산될 수 있는데, 가령, 획득가능한 가장 작은 빔 크기가 계산될 수 있다. 통상적으로, 획득가능한 가장 작은 빔은, 지정된 스폿 크기에 대한 빔의 각분산도(angular divergence)의 측정치인 LD의 빔 파라미터 곱(beam parameter product)(M2)에 따라 달라진다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 구경(71)에서의 단일 빔의 크기가 계산되면, 구경(71)의 크기가 구경(71)에 꼭 들어맞는 LD 빔의 개수를 정의하며, 각각의 빔은 스캔 광소자(90)의 각 수용범위에 들어 맞는 각분산도를 가진다. 일반적으로, 행렬(555)의 열의 수에 대한 행의 수는 구경(71)의 치수에 따라 달라진다. 일반적으로, AOM(70)은 데이터 제어 유닛(700)으로부터 수신된 이미지 데이터를 기초로 인입 빔(665)을 변조하고, 빔이 회전 폴리곤(80)으로부터 편향됨에 따라, 스캐닝 광학 시스템(90)은 노출 평면(95) 상에 변조된 데이터를 포함하는 AOM의 평면을 이미징한다.
도 9A, 9B, 9C 및 9D에, 본 발명의 일부 실시예에 따라, AOM 평면 및 이에 대응하는 동공 평면 상에 이미징되는 복수의 어레이로 배열되는 빔의 예시적 개략도가 도시되어 있다. 예를 들어, 교차-스캔 방향(86)을 따라 단 5개의 LD를 포함하고, 스캔 방향(85)을 따라 12개의 LD를 포함하는 행렬(555)로부터의 빔을 빔 형성하는 것이 도시된다. 일반적으로, 동공 평면에서의 구경은 구경각(angular aperture)이다. 일반적으로, 조명 유닛(101)의 행렬(555)은, 광학 시스템(666)에 의해 구경(71)으로 들어맞도록 형성되는 50×10 LD를 포함한다. 본 발명의 일부 실시예에 따라, 행렬(555)의 빔이 복수의 서로 다른 구성으로 형성되어, 기록 빔을 형성할 수 있다.
도 9A에, 일부 예시적 실시예에서, 빔(665)은, 교차-스캔 방향과 스캔 방향 모두에서 좁게 형성되고, AOM 평면에서 엇갈린 행렬(staggered matrix) 형상으로 배열되어, 이미지(701)를 형성할 수 있다. 일부 예시적 실시예에서, 이미지(701)에서, 각각의 빔(665)은 동일한 각도로, 그러나 서로 다른 위치로, AOM 평면(733)에 충돌한다. 이들 실시예에서, 대응하는 동공 평면(899)에서 각각의 빔이 동일한 위치에서 충돌하고, 전체 구경을 채운다.
도 9B를 참조하면, 일부 예시적 실시예에서, 빔(665)은 교차-스캔 방향(86)에서 넓고, 스캔 방향(85)에서 좁게 형성되고, AOM 평면에서 열이 엇갈린 어레이로 배열되어, 이미지(702)를 형성할 수 있다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 각각의 열의 상이한 행들, 가령 5개의 행 각각은, 동일한 위치에서, 그러나 상이한 각도로 AOM 평면(733)에 충돌하도록 형성되고, 반면에 각각의 상이한 열들로부터의 빔(665)은 서로 다른 위치에서, 그러나 동일한 각도로 AOM 평면(733)에 충돌하도록 형성된다. 이들 실시예에서, AOM 평면(733)에서의 최종 이미지(702)는 복수의 열, 가령 스캔 방향(85)으로 엇갈린 12개의 열에 대응하는 복수의 넓은 스폿을 포함하는 단일 어레이인 것이 일반적이다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 대응하는 공동 평면(899)에서, 최종 이미지(802)는, 복수의 행, 가령 5개의 행에 대응하는 교차-방향으로 엇갈린 넓은 스폿의 단일 어레이를 포함하는 이미지(802)이다. 일반적으로, 이들 실시예에서, 공동 평면(899)에서, 상이한 열, 그러나 동일한 행으로부터의 빔(655)이 동일한 스폿에서 충돌한다.
도 9C를 참조하면, 일부 예시적 실시예에서, 빔(665)이 스캔 방향(85)에서 넓고, 교차-스캔 방향(86)에서 좁게 형성되어, 이미지(703)를 형성할 수 있다. 이들 실시예에서, 각각의 행의 상이한 열들(가령, 12개의 열) 각각으로부터의 빔(665)이, 동일한 위치에서, 그리고 상이한 각도로 AOM 평면(733)을 충돌하도록 형성되고, 상이한 행 각각으로부터의 빔(665)은 상이한 위치에서, 그러나 동일한 각도로 AOM 평면(733)을 충돌하도록 형성된다. 일반적으로, AOM 평면(733)에서의 최종 이미지(703)는 교차-스캔 방향(86)을 따라 엇갈린 복수의 행(가령, 5개의 행)에 대응하는 복수의 넓은 스폿을 포함하는 단일 어레이이다. 이들 실시예에서, 대응하는 동공 평면(899)에서, 빔(655)이, 스캔 방향(85)을 따라 엇갈린 복수의 열(가령, 12개의 열)에 대응하는 복수의 넓은 스폿을 포함하는 단일 어레이의 이미지(803)를 형성한다. 동공 평면(899)의 이미지(803)에서, 동일한 열의 상이한 행들로부터의 빔(655)이 동일한 스폿에 충돌하는 것이 일반적이다.
도 9D를 참조하면, 일부 예시적 실시예에서, 광학 시스템(666)에 의해 빔(665)이 동일한 위치에서 충돌하도록 형성되고, 스캔 방향(85)과 교차-스캔 방향(86) 모두에서 구경(71)을 채우도록 형성되며, 이들 각각은 서로 다른 각에서 이미지(704)를 형성한다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 대응하는 동공 평면(899)에서, 각각의 빔(665)은 상이한 위치에서 충돌하며, 이미지(804)에서 스캔 방향과 교차-스캔 방향 모두에서의 행렬 형상으로부터 형성된다. 이들 실시예에서, 동공 평면(899)에서 각각의 빔(665)은 스캔 방향(85)과 교차-스캔 방향(86) 모두에서 좁은 것이 일반적이다.
본 발명의 일부 실시예에 따르면, 교차-스캔 방향에서 연속하는 스캔 라인들이 겹치기 때문에, 빔은, 구경(71)에서의 평균적인 교차-스캔 빔 프로파일이 매끄럽도록 형성된다. 일반적으로, 이미지(702)는 이미지(703)에 비교할 때 교차-스캔 방향에서 더 매끄러운 프로파일을 제공한다. 선택사항으로서, 이미지(701)에서 빔(655)의 엇갈린 행렬 형상이 교차-스캔 방향(86)에서의 겹침을 제공하며, 이는 프로파일의 매끄러움을 개선할 수 있다.
도 10A-10D를 참조하면, 본 발명의 일부 실시예에 따르는 단면 추적 방법이 개략적으로 도시된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 폴리곤(80)의 회전 및/또는 폴리곤(80)의 스캐닝을 위해 사용되는 단면(가령, 단면(81))의 각도와 조화되어, 어레이(50) 내 상이한 LD들을 순차적으로 켜고, 끔으로써, 단면 추적이 이뤄진다.
본 발명의 일부 실시예에 따라, 어레이(50)로부터의 각각의 광원이 단면(81)의 길이방향 부분(L)을 따르는 상이한 위치에서 단면(81)에 충돌하는 빔을 투사하도록, 광원(50)은 배열되고, 및/또는 광원(50) 각자의 빔이 형성된다. 선택사항으로서, AOM(70)에서 서로 다른 입사각을 갖도록 각각의 광원을 조절함으로써, 단면(81)의 길이방향 부분을 따르는 충돌 빔의 분포가 얻어진다. 선택사항으로서, 단면(81)의 길이방향을 따르는 바람직한 분포가 원통형 렌즈(83)에 의해 얻어진다. 일부 예시적 실시예에서, 어레이(50)의 광원으로부터의 빔이, 단일 단면의 길이방향 부분(L)보다 긴 길이방향 부분을 따라 광을 투사하도록 형성된다.
본 발명의 일부 실시예에 따라, 폴리곤(80)이 회전할 때, 상이한 광원 세트가 단면(81)에 충돌하는 빔을 제공하며, 반면에, 단면(81)의 가장자리 근처에 충돌하거나 상기 가장자리를 지나쳐 충돌하는 빔을 발산하는 다른 광원은 꺼지고, 및/또는 기록을 위해 사용되지 않는다. 일반적으로 기록된 각각의 스폿 또는 픽셀에 대해, 서로 다른 광원 세트가 사용된다. 또는, 하나 걸러 하나의 스폿 또는 픽셀마다, 및/또는 복수의 스폿이 기록된 후, 사용되는 광원 세트가 변경된다.
예를 들어, 도 10A에서, 스캔 라인의 시작 부분에서 LD(504, 505, 506 및 507)가 작동되고, 반면에 광을 단면(81)의 가장자리 근방이나 가장자리 너머에 투사하는 LD(501, 502, 및 503)는 사용되지 않는 제 1 스테이지가 도시된다. 선택사항으로, 노출 패널 상의 각각의 스폿 및/또는 픽셀을 기록하기 위해 절반의 광원을 동작시키도록 시스템이 구성된다. 도 10B를 참조하면, 폴리곤(80)이 회전함에 따라, LD(502, 503, 504, 505 및 506)가 작동하고, LD(501 및 507)는 꺼져서, 단면(81) 쪽으로 지향되는 빔만 작동하도록 한다. 도 10C를 참조하면, 폴리곤(80)이 더 회전함에 따라, LD(501, 502, 503, 및 504)가 작동하고, LD(505, 506 및 507)가 꺼진다. 도 10D에서, 광원, LD(504, 505, 506 및 507)의 제 1 부분의 작동으로 다시 돌아감으로써, 단면(82)에 의한 추가적인 스캔 라인이 시작된다. 이러한 방식으로, AOM(70)이 단일 RF 주파수에서 작동하는 동안 단면 추적이 이뤄질 수 있다. 일반적으로, 한 번에 광원의 일부분만 작동될 때, 획득가능한 출력이 타협된다. 선택사항으로서, 출력을 상향 스케일링하기 위해 더 큰 어레이 및/또는 둘 이상의 어레이가 사용될 수 있다.
도 11을 참조하면, 본 발명의 일부 실시예에 따라 2개의 어레이로부터의 빔을 조합하기 위한 2개의 치밀한 광원 어레이와 광소자를 개략적으로 도시한다. 일반적으로 AOM의 구경에 들어맞을 수 있는 개별 빔의 개수가 제한된다. 본 발명의 일부 실시예에 다르면, 둘 이상의 광원으로부터의 빔을 하나의 단일 빔으로 조합함으로써, 출력이 더 증가할 수 있다. 본 발명의 일부 실시예에 따라, 둘 이상의 어레이(가령, 어레이(51) 및 어레이(52))를 포함하는 조명 유닛(101)을 이용하고, 서로 다른 어레이로부터의 빔들을 조합함으로써, 조명의 개선된 확장성(scalability)이 얻어진다. 일반적으로, 낮은 전력 손실로, 및/또는 전력 손실이 없이, 어레이 각각으로부터의 빔이 조합될 수 있도록, 어레이(51)는 어레이(52)와 상이한 대응하는 파장 및/또는 편광방향을 가진다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 편광 스플리터(94) 및/또는 파장 선택 요소(92)를 이용해, 빔 어레이(6501 및 6502)가 하나의 빔 어레이(67)로 조합된다. 선택 사항으로서, 어레이(51 및 52) 각각은, 조합되어 단일 스케일링된 빔 행렬을 형성하는 LD의 행렬로 대체될 수 있다.
도 12에, 본 발명의 일부 실시예에 따르는, 서로 다른 어레이로부터의 빔들을 조합하기 위한 예시적 광학 설계가 개략적으로 도시된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 파장 선택 요소(92)가 상이한 파장의 빔들을 조합하고, 편광 스플리터(94)가 상이한 편광방향의 빔들을 조합한다. 예를 들어, 2개의 서로 다른 어레이로부터의 LD(511 및 512)가 동일한 파장, 그러나 상이한 편광방향을 가지며, LD(511 및 521)는 상이한 파장, 그러나 동일한 편광방향을 가진다. 마찬가지로, LD(512 및 522)는 상이한 파장, 그러나 동일한 편광방향을 가진다. 선택사항으로서, LD(511, 512, 521 및 522)로부터의 빔 각각은, 파장과 편광방향 중 적어도 한 가지가 상이하기 때문에, 모두 조합될 수 있다.
도 13을 참조하면, 본 발명의 일부 실시예에 따라 예시적 DI 시스템이 도시된다. 본 발명의 일부 실시예에 따라, DI 시스템(100)에서, 시준 광학 렌즈(61)에 의해 LD의 어레이(50)로부터의 조명이 시준되고, 변조를 위해 AOM(70) 쪽으로 지향된다. 레코딩 매체가 스캐닝 방향(85)으로 스캐닝됨에 따라, AOM(70)에 의해 제공되는 변조된 빔이 레코딩 매체(95) 상으로의 스캐닝을 위해 회전 폴리곤(80) 쪽으로 지향된다. 일반적으로, 레코딩 매체(95)를 노출시키기 전에 스캐닝 광소자(90)에 의해 회전 폴리곤(80)에 의해 우회되는 조명이 확대된다. 본 발명의 일부 실시예에 따라, 스코포니 스캐닝 효과를 이용해 어레이(50)의 복수의 LD에 의해 스폿 및/또는 픽셀을 반복적으로 노출하기 위해, AOM(70)의 음향 속도에, 스캐닝 광소자(90)에 의해 제공되는 배율을 곱한 것과 동일하도록 스캐닝 속도가 조절된다. 일부 예시적 실시예에서, 폴리곤은 3000RPM의 속도로 회전한다.
용어 "포함하다(comprises, includes)", "포함하는(comprising, including)", "갖는(having)" 및 이들의 활용은 "~를 포함하지만, ~에 국한되는 것은 아님"을 의미한다.
용어 "~로 구성된(consisting of)"은 "~를 포함하고, ~에 국한됨"을 의미한다.
용어 "~로 실질적으로 구성된(consisting essentially of)"은 조성물, 방법, 또든 구조물이 추가적인 재료, 단계, 및/또는 부분을 포함할 수 있지만, 상기 추가적인 재료, 단계, 및/또는 부분이 청구되는 조성물, 방법, 또는 구조물의 기본적이고 신규한 특성을 실질적으로 변경시키지 않음을 의미한다.
개별 실시예의 맥락에서 기재되는 본 발명의 특정 특징은, 명확성을 위해, 단일 실시예에서 조합되어 제공될 수도 있다. 반대로, 단일 실시예의 맥락에서 본 발명의 다양한 특징들은, 간결성을 위해 따로 따로 제공되거나, 임의의 적합한 하위 조합으로, 또는 본 발명의 그 밖의 다른 임의의 실시예에서 적합한 방식으로 제공될 수 있다. 다양한 실시예의 맥락에서 기재되는 특정 특징은, 이들 요소 없이는 실시예가 동작하지 않는 것이 아니라면, 이들 실시예의 필수적인 특징으로 간주되지 않는다.

Claims (43)

  1. 직접 이미징 시스템에 있어서, 상기 시스템은
    복수의 광원을 포함하는 조명 유닛으로서, 상기 복수의 광원은 복수의 빔을 발산하도록 구성되는 특징의, 상기 조명 유닛,
    위치 또는 각도가 정렬되도록 복수의 빔을 형성하기 위한 광학 시스템,
    음향파가 음향 방향(acoustic direction)으로 전파함에 따라, 위치 또는 각도가 정렬된 복수의 빔을 수신하고, 복수의 빔의 상이한 부분들을 연속적으로 회절시키도록 위치하는 음향 광학 변조기,
    복수의 빔의 상이한 부분들이 단일 노출 스폿으로 인코히런트(incoherent)하게 통합되도록 선택된 스캐닝 속도로, 음향 광학 변조기에 의해 변조된 복수의 빔으로 노출 평면을 스캐닝하기 위한 스캐닝 요소
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 복수의 광원은 복수의 반도체 레이저 다이오드인 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서, 복수의 광원 중 적어도 하나의 광원이, 복수의 광원 중 적어도 하나의 타 광원과 상이한 파장으로 광을 발산하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서, 복수의 광원은 370-410㎚의 광을 발산하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서, 복수의 광원 중 적어도 하나의 광원이, 복수의 광원 중 적어도 하나의 타 광원과 상이한 편광방향을 갖도록 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  6. 제 1 항에 있어서, 복수의 광원은 하나 이상의 어레이로 배열되며, 각각의 어레이는 직접 이미징 시스템의 스캔 방향과 정렬되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서, 어레이 각각은 2-100개의 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  8. 제 1 항에 있어서, 광원들의 일부만 동시에 작동하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  9. 제 8 항에 있어서, 스캐닝 요소는 복수의 단면(facet)을 포함하는 회전 폴리곤(rotating polygon)이며, 작동하는 광원들의 일부는 스캐닝 동안 복수의 단면 중 하나의 각도에 따라 선택되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  10. 제 1 항에 있어서, 복수의 광원의 각각의 광원은 하나씩의 전용 렌즈와 연계되고, 상기 전용 렌즈는 광원으로부터 발산되는 빔을 성형하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 전용 렌즈는, 빔을 스캔 방향에 수직인 방향으로 기다랗게(elongated) 성형하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  12. 제 10 항에 있어서, 상기 전용 렌즈는, 빔을 교차-스캔 방향에 수직인 방향으로 기다랗게 성형하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  13. 제 10 항에 있어서, 음향 광학 변조기는 복수의 빔을 수신하기 위한 구경(aperture)과 연계되고, 전용 렌즈 및 광학 시스템은, 스캔 방향에 수직인 방향 및 교차-스캔 방향에 수직인 방향 중 적어도 하나의 방향으로 구경을 채우도록 빔을 성형하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  14. 제 11 항에 있어서, 광학 시스템은, 복수의 광원으로부터 빔을 음향 광학 변조기를 향해 시준하도록 구성된 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  15. 제 11 항에 있어서, 광학 시스템은, 복수의 빔을 음향 광학 변조기의 구경 쪽으로 지향시키도록 구성된 텔레센트릭 광학 시스템(telecentric optical system)을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  16. 제 11 항에 있어서, 복수의 빔의 상이한 부분들은 음향 광학 변조기로부터 수신된 복수의 빔 각각으로부터의 일부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  17. 제 11 항에 있어서, 복수의 빔의 상이한 부분들 각각은, 복수의 빔으로부터의 하나 이상의 빔을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  18. 제 1 항에 있어서, 스캐닝 속도는, 음향 광학 변조기의 음향 속도에 시스템의 배율을 곱한 것에 정합되지만, 방향은 반대이게 정의되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  19. 제 1 항에 있어서, 음향 광학 변조기는 다-채널 음향 광학 변조기인 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  20. 제 1 항에 있어서, 상기 시스템은
    적어도 두 개의 조명 유닛과,
    상기 적어도 두 개의 조명 유닛으로부터의 대응하는 빔들을 조합하기 위한 적어도 하나의 광학 요소
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  21. 제 20 항에 있어서, 둘 이상의 조명 유닛으로부터의 대응하는 빔들은, 파장과 편광방향 중 적어도 한 가지가 상이한 것을 특징으로 하는 직접 이미징 시스템.
  22. 직접 이미징을 위한 방법에 있어서, 상기 방법은
    복수의 빔을 발산하도록 구성된 복수의 광원을 포함하는 조명 유닛을 제공하는 단계와,
    복수의 빔이 위치 또는 각도로 정렬되도록, 상기 복수의 빔을 음향 광학 변조기로 지향시키는 단계와,
    음향파가 음향 방향으로 전파하는 동안 복수의 빔의 상이한 부분들을 연속적으로 회절시키는 단계와,
    음향 광학 변조기로부터의 출력을 이용해 스캔 방향으로 노출 평면을 스캐닝하는 단계
    를 포함하며, 상기 스캐닝하는 단계는, 복수의 빔의 상이한 부분들이 단일 노출 스폿으로 인코히런트(incoherent)하게 통합되도록 선택된 스캐닝 속도로 수행되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  23. 제 22 항에 있어서,
    복수의 광원은 복수의 반도체 레이저 다이오드인 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  24. 제 22 항에 있어서, 복수의 광원 중 적어도 하나의 광원은, 복수의 광원 중 적어도 하나의 타 광원과 상이한 파장으로 광을 발산하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  25. 제 24 항에 있어서, 광원들의 어레이가 370-410㎚의 광을 발산하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  26. 제 22 항에 있어서, 복수의 광원 중 적어도 하나의 광원은, 복수의 광원 중 적어도 하나의 타 광원과 상이한 편광방향을 갖도록 구성되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  27. 제 22 항에 있어서, 복수의 광원은 하나 이상의 어레이로 배열되고, 각각의 어레이는 스캐닝 방향과 정렬되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  28. 제 27 항에 있어서, 어레이 각각이 2-100개의 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  29. 제 22 항에 있어서, 한 번에 광원들의 일부분만 작동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  30. 제 29 항에 있어서, 작동하는 광원들의 일부분이 스캐닝을 위해 사용되는 단면(facet)의 각도에 따라 선택되는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  31. 제 22 항에 있어서, 스캐닝의 스캔 방향에 수직인 방향으로 기다랗게 복수의 빔 각각을 성형하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  32. 제 22 항에 있어서, 스캐닝의 교차-스캔 방향에 수직인 방향으로 기다랗게 복수의 빔 각각을 성형하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  33. 제 22 항에 있어서, 스캐닝의 스캔 방향에 수직인 방향과, 스캐닝의 교차-스캔 방향에 수직인 방향 중 적어도 하나에서, 음향 광학 변조기의 구경(aperture)을 채우도록 복수의 빔 각각을 성형하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  34. 제 22 항에 있어서, 복수의 빔의 상이한 부분들 각각은 음향 광학 변조기로부터 수신된 복수의 빔 각각으로부터의 일부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  35. 제 22 항에 있어서, 복수의 빔의 상이한 부분들 각각은 복수의 빔으로부터의 하나 이상의 빔을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  36. 제 22 항에 있어서, 복수의 광원으로부터의 빔을 음향 광학 변조기를 향해 시준하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  37. 제 22 항에 있어서, 음향 광학 변조기의 음향 속도에 시스템의 배율을 곱한 것에, 방향은 반대로, 정합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  38. 제 22 항에 있어서, 복수의 조명 유닛을 제공하고 복수의 조명 유닛으로부터의 대응하는 빔들을 조합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  39. 제 38 항에 있어서, 추가적인 복수의 조명 유닛으로부터의 대응하는 빔들은, 파장과 편광방향 중 적어도 하나가 상이한 것을 특징으로 하는 직접 이미징을 위한 방법.
  40. 직접 이미징 시스템에서 단면 추적(facet tracking)을 하기 위한 방법에 있어서, 상기 방법은
    빔들의 어레이를 발산하도록 구성된 광원들의 어레이를 제공하는 단계로서, 광원들의 어레이는 직접 이미징 시스템의 스캔 방향과 정렬되는 특징의 단계,
    복수의 광원이 스캐닝을 위해 사용되는 회전 폴리곤(rotating polygon)의 단일 단면(facet)의 길이보다 긴 길이만큼 광을 투사하도록 광원들의 어레이로부터의 빔을 음향 광학 변조기를 향해 지향시키는 단계,
    음향 광학 변조기로부터의 출력을 이용해 스캔 방향으로 노출 평면을 스캐닝하는 단계,
    폴리곤의 회전에 조화롭게 광원들의 상이한 부분집합을 선택적으로 작동시키는 단계로서, 선택된 광원들의 부분집합은 스캐닝을 위해 사용되는 단면에 충돌하는 광원들인 특징의 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 단면 추적을 하기 위한 방법.
  41. 제 40 항에 있어서, 작동하는 복수의 빔이 스캐닝을 위해 사용되는 단면의 길이를 따라 충돌하도록, 음향 광학 변조기에서 상이한 입사각을 갖도록 어레이의 각각의 광원을 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 단면 추적을 하기 위한 방법.
  42. 제 40 항에 있어서, 폴리곤의 회전에 조화롭게, 복수의 광원 중에서, 스캐닝을 위해 사용되는 단면의 가장자리 근처 또는 상기 가장자리 너머로 충돌하는 빔을 발산하는 광원을 끄는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 단면 추적을 하기 위한 방법.
  43. 제 40 항에 있어서, 작동하는 복수의 빔을 단일 노출 스폿으로 인코히런트(incoherent)하게 통합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 단면 추적을 하기 위한 방법.

KR1020120082899A 2011-08-19 2012-07-30 직접 이미징을 위한 시스템과 방법 KR101983857B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/213,360 2011-08-19
US13/213,360 US8531751B2 (en) 2011-08-19 2011-08-19 System and method for direct imaging

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130020559A true KR20130020559A (ko) 2013-02-27
KR101983857B1 KR101983857B1 (ko) 2019-05-29

Family

ID=47044743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120082899A KR101983857B1 (ko) 2011-08-19 2012-07-30 직접 이미징을 위한 시스템과 방법

Country Status (6)

Country Link
US (3) US8531751B2 (ko)
EP (2) EP2560362B1 (ko)
JP (2) JP6129493B2 (ko)
KR (1) KR101983857B1 (ko)
CN (2) CN106886097B (ko)
TW (2) TWI655512B (ko)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3080663B1 (en) 2013-12-10 2018-03-21 Dolby Laboratories Licensing Corp. Acousto-optic beam steering modulator for a projection system
CN106537224B (zh) * 2014-04-15 2019-11-26 荷兰应用科学研究会(Tno) 曝光头、曝光装置及用于操作曝光头的方法
KR102060289B1 (ko) * 2014-04-28 2019-12-27 가부시키가이샤 니콘 패턴 묘화 장치
US9269149B2 (en) 2014-05-08 2016-02-23 Orbotech Ltd. Calibration of a direct-imaging system
CN107430269B (zh) * 2015-03-06 2020-10-02 英特尔公司 用于激光束操纵的声光学偏转器和反射镜
WO2016187345A1 (en) * 2015-05-18 2016-11-24 Lasermotive, Inc. Light curtain safety system
JP7111108B2 (ja) * 2017-10-25 2022-08-02 株式会社ニコン パターン描画装置
TWI648604B (zh) 2017-12-27 2019-01-21 財團法人工業技術研究院 數位直接成像方法與系統、影像產生方法與電子裝置
CN108680060A (zh) * 2018-04-03 2018-10-19 北京环境特性研究所 一种激光红外复合目标模拟器、设备及系统
CN109142267B (zh) * 2018-09-07 2021-11-16 北京华航无线电测量研究所 一种实时太赫兹成像装置及方法
TWI809201B (zh) 2018-10-23 2023-07-21 以色列商奧寶科技有限公司 用於校正晶粒放置錯誤之適應性路由
CN112970337B (zh) 2019-02-14 2022-05-24 奥宝科技有限公司 用于制备具有高度密集导体的pcb产品的方法及设备
CN113031257B (zh) * 2019-12-09 2023-08-15 深圳光峰科技股份有限公司 一种显示系统
JP7416090B2 (ja) 2020-01-10 2024-01-17 株式会社ニコン 光学装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP6870755B2 (ja) * 2020-01-21 2021-05-12 株式会社ニコン パターン描画方法
JPWO2022092320A1 (ko) * 2020-11-02 2022-05-05
CN113985708B (zh) * 2021-10-26 2024-02-13 之江实验室 可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000310740A (ja) * 1999-02-22 2000-11-07 Fuji Photo Film Co Ltd 走査光学系
JP2001255661A (ja) * 2000-01-05 2001-09-21 Orbotech Ltd パルス光パターン書込み装置
US6621609B1 (en) * 1994-02-02 2003-09-16 Advanced Laser Technologies, Inc. Light beam display

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4205348A (en) 1978-07-05 1980-05-27 Xerox Corporation Laser scanning utilizing facet tracking and acousto pulse imaging techniques
US5196949A (en) 1990-10-10 1993-03-23 Xerox Corporation Vestigial sideband scophony imaging modulator
US5309178A (en) 1992-05-12 1994-05-03 Optrotech Ltd. Laser marking apparatus including an acoustic modulator
US5543825A (en) * 1993-11-17 1996-08-06 Xerox Corporation High efficiency multispot facet tracked raster output scanning system
US5521748A (en) * 1994-06-16 1996-05-28 Eastman Kodak Company Light modulator with a laser or laser array for exposing image data
USRE38297E1 (en) 1996-03-22 2003-11-04 Océ-Canada, Inc. Internal drum scophony raster recording device
US5923359A (en) * 1997-03-14 1999-07-13 Cymbolic Sciences International Inc. Internal drum scophony raster recording device
US5808657A (en) * 1996-06-17 1998-09-15 Eastman Kodak Company Laser printer with low fill modulator array and high pixel fill at a media plane
US6072518A (en) 1997-05-21 2000-06-06 Creo Products Inc. Method for rapid imaging of thermographic materials by extending exposure time in a single beam laser scanner
US5923475A (en) 1996-11-27 1999-07-13 Eastman Kodak Company Laser printer using a fly's eye integrator
DE19829986C1 (de) * 1998-07-04 2000-03-30 Lis Laser Imaging Systems Gmbh Verfahren zur Direktbelichtung von Leiterplattensubstraten
US6204875B1 (en) 1998-10-07 2001-03-20 Barco Graphics, Nv Method and apparatus for light modulation and exposure at high exposure levels with high resolution
DE10006652A1 (de) * 1999-02-22 2000-08-24 Fuji Photo Film Co Ltd Optische Abtasteinheit
JP4324644B2 (ja) * 1999-09-29 2009-09-02 株式会社オーク製作所 多波長レーザー光学系
JP2001147397A (ja) * 1999-11-11 2001-05-29 Cleo Srl レーザスキャナにおいて露光時間を延長するための方法及び装置
JP4330762B2 (ja) * 2000-04-21 2009-09-16 富士フイルム株式会社 マルチビーム露光装置
JP2001324792A (ja) * 2000-05-16 2001-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置
US6560248B1 (en) * 2000-06-08 2003-05-06 Mania Barco Nv System, method and article of manufacture for improved laser direct imaging a printed circuit board utilizing a mode locked laser and scophony operation
US6396616B1 (en) * 2000-10-10 2002-05-28 3M Innovative Properties Company Direct laser imaging system
AU2002219478A1 (en) 2001-01-04 2002-07-16 Laser Imaging Systems Gmbh And Co. Kg Direct pattern writer
DE10109041A1 (de) 2001-02-24 2002-09-05 Heidelberger Druckmasch Ag Verfahren und Mehrstrahl-Abtastvorrichtung zur Ablation von Flexo-Druckplatten durch Lasergravur
TW535005B (en) * 2001-04-11 2003-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical scanning device, image reading device provided with this, image forming device, and photographing device
CN1230125C (zh) * 2002-12-31 2005-12-07 华南师范大学 聚焦超声调制反射式光学层析成像方法及其装置
JP2005017341A (ja) * 2003-06-23 2005-01-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 光照射装置
GB2414127A (en) * 2004-05-12 2005-11-16 Sharp Kk Time sequential colour projection
JP4410134B2 (ja) 2005-03-24 2010-02-03 日立ビアメカニクス株式会社 パターン露光方法及び装置
JP2007080953A (ja) 2005-09-12 2007-03-29 Hitachi Via Mechanics Ltd 照明装置及び露光装置
JP2007094122A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Hitachi Via Mechanics Ltd レーザ直接描画装置
EP2023379A4 (en) * 2006-05-31 2009-07-08 Nikon Corp EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
WO2008064361A2 (en) * 2006-11-22 2008-05-29 Real, D Illumination systems for visual displays
KR100867950B1 (ko) * 2007-04-25 2008-11-11 삼성전기주식회사 조명 광학 장치
JP5274085B2 (ja) * 2008-04-09 2013-08-28 株式会社アルバック レーザー加工装置、レーザービームのピッチ可変方法、及びレーザー加工方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6621609B1 (en) * 1994-02-02 2003-09-16 Advanced Laser Technologies, Inc. Light beam display
JP2000310740A (ja) * 1999-02-22 2000-11-07 Fuji Photo Film Co Ltd 走査光学系
JP2001255661A (ja) * 2000-01-05 2001-09-21 Orbotech Ltd パルス光パターン書込み装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP2560362A2 (en) 2013-02-20
TWI655512B (zh) 2019-04-01
TWI567504B (zh) 2017-01-21
EP3226530A1 (en) 2017-10-04
EP2560362B1 (en) 2017-05-17
CN106886097A (zh) 2017-06-23
JP6484661B2 (ja) 2019-03-13
US20130321898A1 (en) 2013-12-05
US20130044360A1 (en) 2013-02-21
US8531751B2 (en) 2013-09-10
US9523873B2 (en) 2016-12-20
CN106886097B (zh) 2021-02-19
JP2013045110A (ja) 2013-03-04
KR101983857B1 (ko) 2019-05-29
EP3226530B1 (en) 2022-07-06
EP2560362A3 (en) 2013-08-28
TW201716882A (zh) 2017-05-16
CN102955252A (zh) 2013-03-06
CN102955252B (zh) 2016-12-21
JP2017142526A (ja) 2017-08-17
US8964274B2 (en) 2015-02-24
JP6129493B2 (ja) 2017-05-17
US20150168749A1 (en) 2015-06-18
TW201316130A (zh) 2013-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101983857B1 (ko) 직접 이미징을 위한 시스템과 방법
JP4731787B2 (ja) 露光ヘッド及び露光装置
US5309178A (en) Laser marking apparatus including an acoustic modulator
US7616379B2 (en) One-dimensional illumination apparatus and image generating apparatus
CN1880004B (zh) 激光加工装置
US20030184835A1 (en) Multi-beam polygon scanning system
JP2001305449A (ja) マルチビーム露光装置
JP2008197246A (ja) ホログラム作成方法及びホログラム作成装置
CN101722364B (zh) 激光加工方法和装置
US20040223229A1 (en) Projecting exposure apparatus
JP2010518415A (ja) 光パワーの高周波変調
US6473443B1 (en) System and method for generating a grating image
JP4828735B2 (ja) マルチビーム生成装置および光走査型画像表示装置
JP2002072360A (ja) 画像表示装置
JP2001208998A (ja) レーザ描画装置
WO2022124210A1 (ja) パターン露光装置及びパターン露光方法
US6417953B1 (en) Laser optical system
USRE38297E1 (en) Internal drum scophony raster recording device
KR100632540B1 (ko) 온오프 동작하는 광원을 이용한 스캐닝 장치
JP2005217338A (ja) 画像露光方法および装置
CN117908339A (zh) 宽带飞秒激光高轴向分辨率直写装置及方法

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant