KR20110063428A - Polyamide resin, resin composition thereof, flame-retardant adhesive composition and adhesive sheet made of said composition, coverlay film, and printed wiring board - Google Patents

Polyamide resin, resin composition thereof, flame-retardant adhesive composition and adhesive sheet made of said composition, coverlay film, and printed wiring board Download PDF

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Abstract

본 발명은 내열성, 접착성, 절연 신뢰성, 용제 용해성을 동시에 만족하고, 인쇄 배선판 용도의 내열성 접착제용으로 적합한 폴리아미드이미드 수지를 제공한다. 또한, 본 발명은 비할로겐이고, 범용 용제에 모두 가용인 성분을 포함하며 안정된 특성을 나타낼 뿐만 아니라, 연성 인쇄 배선판 등에 이용하여, 우수한 난연성, 땜납 내열성, 접착성, 전기 절연성을 나타낼 수 있는 난연성 접착제 조성물을 제공한다.
본 발명은 하기 (a)∼(c)의 산 성분과 방향환을 갖는 디이소시아네이트 또는 디아민을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드이미드 수지로서, 상기 폴리아미드이미드 수지의 전체 산 성분을 100 몰%로 한 경우에 각 산 성분의 비율이 (a) 3 몰%∼10 몰%, (b) 10 몰%∼80 몰%, (c) 10 몰%∼87 몰%인 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드 수지에 관한 것이다:
(a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무,
(b) 탄소수가 4 내지 12인 지방족 디카르복실산,
(c) 방향환을 갖는 폴리카르복실산의 산무수물.
The present invention simultaneously satisfies heat resistance, adhesiveness, insulation reliability, and solvent solubility, and provides a polyamideimide resin suitable for heat resistant adhesives for printed wiring board applications. In addition, the present invention is a non-halogen, flame-retardant adhesive that contains components that are all soluble in general purpose solvents and exhibits stable characteristics, and can also be used for flexible printed wiring boards and the like, and exhibit excellent flame resistance, solder heat resistance, adhesiveness, and electrical insulation. To provide a composition.
The present invention is a polyamideimide resin obtained by reacting an acid component of the following (a) to (c) with a diisocyanate or diamine having an aromatic ring, wherein the total acid component of the polyamideimide resin is 100 mol%. The ratio of each acid component is (a) 3 mol%-10 mol%, (b) 10 mol%-80 mol%, (c) 10 mol%-87 mol%, It is related with the polyamideimide resin characterized by the above-mentioned. :
(a) acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends,
(b) aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms,
(c) Acid anhydride of polycarboxylic acid which has an aromatic ring.

Description

폴리아미드이미드 수지, 이의 수지 조성물, 난연성 접착제 조성물 및 이 조성물을 포함하는 접착제 시트, 커버레이 필름 및 인쇄 배선판{POLYAMIDE RESIN, RESIN COMPOSITION THEREOF, FLAME-RETARDANT ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE SHEET MADE OF SAID COMPOSITION, COVERLAY FILM, AND PRINTED WIRING BOARD}POLYAMIDE RESIN, RESIN COMPOSITION THEREOF, FLAME-RETARDANT ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE SHEET MADE OF SAID COMPOSITION, COVERLAY FILM , AND PRINTED WIRING BOARD}

본 발명은 폴리아미드이미드 수지 및 이 수지를 이용한 열경화성 수지 조성물에 관한 것으로, 더 상세하게는, 유연성·내열성·용제 용해성·절연성·접착성이 우수하여, 동장 적층판이나 커버레이, 접착제 시트, 수지가 부착된 동박, 오버코트 잉크, 프리프레그 등의 인쇄 배선판에 적합한 접착제 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a polyamideimide resin and a thermosetting resin composition using the resin. More specifically, the present invention relates to a copper clad laminate, a coverlay, an adhesive sheet, and a resin, having excellent flexibility, heat resistance, solvent solubility, insulation, and adhesiveness. The present invention relates to an adhesive resin composition suitable for printed wiring boards such as attached copper foil, overcoat ink, and prepreg.

또한, 본 발명은 인쇄 배선판, 특히 유연성을 필요로 하는 연성 인쇄 배선판 용도에 있어서 우수한 성능을 발휘하고, 난연성, 땜납 내열성, 접착성, 전기 절연성이 우수한 난연성 접착제 조성물, 및 이 조성물을 이용한 동장 적층판, 접착제 시트, 커버레이 필름, 수지가 부착된 동박, 프리프레그, 오버코트 잉크 등의 인쇄 배선판에 관한 것이다.The present invention also provides a flame-retardant adhesive composition which exhibits excellent performance in printed wiring boards, particularly flexible printed wiring boards requiring flexibility, and has excellent flame retardancy, solder heat resistance, adhesion, and electrical insulation, and a copper clad laminate using the composition, It is related with printed wiring boards, such as an adhesive sheet, a coverlay film, copper foil with resin, a prepreg, and overcoat ink.

종래, 폴리아미드이미드 수지는 방향족계의 모노머를 포함하고, 폴리이미드에 필적하는 내열성, 내약품성, 및 내마모성 등의 특성을 나타내며, 또한 폴리이미드보다 우수한 특성으로서 N-메틸-2-피롤리돈 등의 고비점이며 특수한 아미드계의 용제에 용해성을 나타낸다고 하는 점이 있기 때문에, 성형 재료나 내열 절연 도료 등에 응용되고 있다. 그러나, 방향족계의 폴리아미드이미드 수지는 일반적인 폴리이미드계 수지와 마찬가지로, 일반적으로 탄성률이 높고 딱딱하여 부서지기 쉬우며, 또한 저비점 용제에 대한 용해성이 낮기 때문에 접착제 등의 유연성이나 용제의 건조 용이성을 필요로 하는 용도에의 사용은 어려웠다.Conventionally, polyamideimide resins contain aromatic monomers and exhibit properties such as heat resistance, chemical resistance, and abrasion resistance comparable to polyimide, and are superior to polyimide as N-methyl-2-pyrrolidone and the like. Because of its high boiling point and its solubility in a special amide solvent, it is applied to molding materials, heat-resistant insulating paints and the like. However, aromatic polyamideimide resins, like general polyimide resins, generally have high elastic modulus, are hard and brittle, and have low solubility in low boiling point solvents, and thus require flexibility such as adhesives and ease of drying of solvents. Use to use was hard.

그런데, 연성 인쇄 배선판은 유연성이나 공간 절약성이 요구되는 전자 기기 부품, 예컨대 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 등의 표시 장치용 디바이스 기판이나, 휴대 전화, 디지털 카메라, 휴대형 게임기 등의 기판 중계 케이블, 조작 스위치부 기판 등에 널리 사용되고 있으며, 한층 더 용도의 확대가 예상되고 있다.By the way, a flexible printed wiring board is a board | substrate for display device devices, such as a liquid crystal display and a plasma display, such as a liquid crystal display and a plasma display, which require flexibility and space saving, board relay cables, such as a mobile telephone, a digital camera, a portable game machine, and an operation switch part. It is widely used in board | substrates etc., and expansion of a use is anticipated further.

이러한 용도에 이용되는 접착제로서는, 종래에는 에폭시계 수지나 아크릴계 수지가 사용되어 왔으나, 최근의 배선의 고밀도화나 무연 땜납 지향에 대응하기 위해서는 내열성이 불충분하여, 이들을 대신하는 내열성을 가진 접착제로서, 폴리이미드계 수지가 검토되어 왔다. 종래의 폴리이미드계 수지의 탄성률이 높고, 딱딱하여 부서지기 쉬워 접착성 발현이 어렵다는 결점 및 고비점의 용제에밖에 용해되지 않는다는 결점의 해결을 위해서, 장쇄의 모노머나 올리고머를 폴리이미드계 수지에 공중합하는 검토가 이루어져 있다. 예컨대, 특허 문헌 1, 2에는 가요성 부여, 저탄성률화의 방법으로서, 폴리실록산 변성 폴리이미드계 수지가 개시되어 있다.As adhesives used for such applications, epoxy resins and acrylic resins have conventionally been used. However, in order to cope with recent densification of wiring and lead-free solder orientation, heat resistance is insufficient, and as an adhesive having heat resistance to replace them, polyimide System resins have been examined. Copolymerization of long-chain monomers and oligomers with polyimide resins for solving the drawbacks of the high elastic modulus of conventional polyimide resins, that they are hard and brittle, difficult to develop adhesiveness, and that they are soluble in solvents of high boiling point. Review is made. For example, Patent Documents 1 and 2 disclose polysiloxane-modified polyimide resins as a method of providing flexibility and low elastic modulus.

그러나, 폴리실록산 변성 폴리이미드계 수지는 가요성 부여 및 저탄성률화를 위해서 매우 고가의 디메틸실록산 결합을 갖는 출발 원료를 이용할 필요가 있어 경제성이 뒤떨어진다. 또한, 폴리실록산의 공중합량의 증가에 따라, 수지의 접착성, 용해성이 저하되는 문제가 있다.However, polysiloxane-modified polyimide-based resins need to use starting materials having very expensive dimethylsiloxane bonds in order to impart flexibility and lower elastic modulus, resulting in poor economic efficiency. Moreover, there exists a problem that the adhesiveness and solubility of resin fall with the increase of the copolymerization amount of polysiloxane.

이 문제점의 해결법으로서, 특허 문헌 3, 특허 문헌 4에는 폴리카보네이트 변성 폴리이미드계 수지를 이용한 조성물이 개시되어, 낮은 용해성이나 경제성과 같은 결점이 개량되어 있으나, 충분한 가요성과 저탄성률화를 위해서는, 폴리카보네이트 변성량을 많게 할 필요가 있고, 그 경우 내약품성이나 내습열성이 저하되는 경향이 있다.As a solution to this problem, Patent Literature 3 and Patent Literature 4 disclose compositions using polycarbonate-modified polyimide-based resins, and drawbacks such as low solubility and economy are improved. However, in order to achieve sufficient flexibility and low elastic modulus, It is necessary to increase the amount of carbonate modification, in which case the chemical resistance and the moist heat resistance tend to be lowered.

또한, 특허 문헌 5에는 폴리에틸렌글리콜이나 폴리프로필렌글리콜·폴리테트라메틸렌글리콜 등의 폴리올을 폴리아미드이미드 수지에 공중합하는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 이들 변성 폴리아미드이미드는, 장쇄의 폴리올이 내열성이 뒤떨어지는 우레탄 결합으로 공중합되기 때문에, 내열성이 저하되는 문제가 있다.In addition, Patent Document 5 discloses a method of copolymerizing polyols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol polytetramethylene glycol, and the like with a polyamideimide resin. However, these modified polyamideimide has a problem that the heat resistance is lowered because the long-chain polyol is copolymerized with a urethane bond having poor heat resistance.

또한, 특허 문헌 6에서는 다이머산을 폴리아미드이미드에 공중합하는 방법이 개시되어 있다. 이 방법에 있어서도, 가요성 부여는 어느 정도 가능하지만, 다이머산의 분자량이 비교적 낮기 때문에, 충분한 가요성을 발현시키기 위해서는 공중합량을 많게 할 필요가 있고, 그 경우 수지 중의 방향족기의 비율이 현저하게 저하되기 때문에 내열성이 저하된다. 또한, 수지 중에의 도입량을 높게 함으로써 유리 전이 온도가 저하되고, 또한 접착성이나 용해성의 저하를 초래하는 문제가 있다.In addition, Patent Document 6 discloses a method of copolymerizing dimer acid to polyamideimide. Also in this method, although flexibility can be given to some extent, since molecular weight of a dimer acid is comparatively low, in order to express sufficient flexibility, it is necessary to increase a copolymerization amount, and in that case, the ratio of the aromatic group in resin is remarkable. Since it falls, heat resistance falls. In addition, by increasing the amount introduced into the resin, there is a problem that the glass transition temperature is lowered and that the adhesion and the solubility are lowered.

특허 문헌 7 및 8에서는 폴리아미드이미드 수지에 분자 양 말단에 카르복실기를 갖는 아크릴로니트릴 부타디엔을 공중합하는 방법이 개시되어 있다. 이 방법에 의해서도, 가요성 부여와 어느 정도의 접착성의 향상이 가능하지만, 이 방법으로 충분한 접착성을 발현시키기 위해서는, 아크릴로니트릴 부타디엔의 공중합량을 많게 할 필요가 있고, 그 결과로서 절연 신뢰성이 저하되며, 또한 용제 용해성이 저하되어 N-메틸-2-피롤리돈 등의 고비점 용제 이외에 대한 용해가 곤란해진다. 접착제로서 적합하게 이용하기 위해서는, 디메틸아세틸아미드, 톨루엔과 같은 저비점 용제에 용해되는 것이 필요하고, 인쇄 배선판의 용도에서는 내열성, 가요성, 절연 신뢰성, 접착성 및 용제 용해성이 모두 우수한 수지의 출현이 요망되고 있다.Patent Documents 7 and 8 disclose methods for copolymerizing acrylonitrile butadiene having a carboxyl group at both ends of a molecule in a polyamideimide resin. This method also provides flexibility and some degree of adhesiveness improvement, but in order to express sufficient adhesiveness by this method, it is necessary to increase the copolymerization amount of acrylonitrile butadiene, and as a result, insulation reliability is high. Moreover, solvent solubility falls and it becomes difficult to melt | dissolve other than high boiling point solvents, such as N-methyl- 2-pyrrolidone. To be suitably used as an adhesive, it is necessary to dissolve in a low boiling point solvent such as dimethyl acetylamide and toluene, and in the use of printed wiring boards, the appearance of a resin excellent in all of heat resistance, flexibility, insulation reliability, adhesion, and solvent solubility is desired. It is becoming.

현재, 연성 인쇄 배선판은 유연성이나 공간 절약성을 필요로 하는 전자 기기 부품, 예컨대 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 등의 표시 장치용 디바이스 실장 기판이나, 휴대 전화, 디지털 카메라, 휴대형 게임기, 퍼스널 컴퓨터 등의 기판 간 중계 케이블, 조작 스위치부 기판 등에 널리 사용되고 있다. 최근, 이들 전자 기기 부품은 점점 더 소형화, 고밀도화가 진행되어, 연성 인쇄 배선판의 미세 패턴화, 고성능화의 요구가 강해지고 있고, 특히, 난연성, 땜납 내열성, 접착성, 전기 절연성 등의 한층 더한 향상이 필요해지고 있다.Currently, flexible printed wiring boards are used for device-mounting boards for display devices such as electronic device components such as liquid crystal displays and plasma displays that require flexibility and space saving, and substrates such as mobile phones, digital cameras, portable game machines, and personal computers. It is widely used for relay cables, operation switch boards and the like. In recent years, these electronic device components have become smaller and higher in density, and the demand for fine patterning and high performance of flexible printed wiring boards is increasing, and in particular, further improvements such as flame retardancy, solder heat resistance, adhesion, and electrical insulation are It is needed.

이들 전자 기기 부품의 난연성은 화재에 대한 안전성의 확보가 목적이며, 종래에는 난연성 부여제로서 브롬계 난연제가 사용되어 왔다. 그러나, 환경에 대한 영향이 사회 문제로서 중요시되는 가운데, 브롬을 주로 한 할로겐 화합물은 시간의 경과에 따라 부식성을 갖는 할로겐화 수소 가스를 발생할 우려나, 연소 시에는 동일한 가스, 다이옥신, 푸란 등의 인체에 악영향을 미치는 물질을 발생시킬 우려가 있다. 이 때문에, 할로겐 화합물의 사용을 억제하는 움직임이 높아져, 할로겐 프리 난연성 접착제가 요구되고 있다.The flame retardancy of these electronic device parts is for the purpose of ensuring safety against fire, and bromine flame retardants have been used as a flame retardant imparting agent. However, while the environmental impact is important as a social problem, bromine-based halogen compounds may generate corrosive hydrogen halide gas with time, but when burned, the same gas, dioxins, furans, etc. There is a fear of generating a substance that adversely affects. For this reason, the movement which suppresses use of a halogen compound becomes high, and the halogen free flame-retardant adhesive agent is calculated | required.

상기와 같은 배경에 의해, 최근에는 할로겐 화합물을 대신하는 난연제로서, 인 화합물, 금속 수화물 등의 충전재, 질소 함유 화합물 등을 사용하여 난연화하는 방법이 제안되어 있다. 그러나, 비할로겐계 난연제는 유해한 할로겐을 포함하지 않으나, 할로겐계 난연제와 비교하여 난연 효과가 뒤떨어지기 때문에, 다량의 난연제를 필요로 하는 경향이 있다. 다량의 난연제의 첨가는, 난연제의 블리드아웃이나 접착제의 기계 특성의 저하 등을 야기하기 때문에, 난연성과 여러 가지 특성을 양립시키기 어렵다.In view of the above background, recently, as a flame retardant to replace a halogen compound, a method of flame retarding using a filler such as a phosphorus compound, a metal hydrate, a nitrogen-containing compound, or the like has been proposed. However, non-halogen-based flame retardants do not contain harmful halogens, but are inferior to the flame-retardant effect compared to halogen-based flame retardants, and thus tend to require a large amount of flame retardants. The addition of a large amount of flame retardant causes bleeding out of the flame retardant, deterioration of mechanical properties of the adhesive, and the like, and therefore it is difficult to achieve both flame retardancy and various characteristics.

또한, 상술한 금속 수화물 등의 충전재는 접착제 조성물 중에 충전재를 균일하게 분산시키기 위한 공정이 필요해져, 충전재를 포함하지 않는 경우와 비교해서 공정이 증가하여 경제성이 뒤떨어진다. 또한, 충전재가 침강하기 때문에 접착제 조성물 성분의 불균일화가 발생하기 쉽고, 조성물의 니스 사용 가능 기간이 짧아 품질 관리가 곤란하며, 도막을 작성할 때에는 박막화가 곤란하고, 연성 인쇄 배선판의 가공면에서도, 에칭액 등의 약제에 유출하는 등 하여, 성능을 저하시키는 등 여러 가지 문제가 있다.In addition, the filler such as the metal hydrate described above requires a step for uniformly dispersing the filler in the adhesive composition, and the process is increased compared to the case where no filler is included, resulting in inferior economic efficiency. In addition, due to the settling of the filler, non-uniformity of the adhesive composition component is likely to occur, and the varnish usage period of the composition is short, so that quality control is difficult. There are a variety of problems, such as dilution of chemicals, reducing performance.

인 화합물에 있어서도, 난연제로서 종종 이용되는 인산에스테르는 가수 분해를 받기 쉬운 것이 많아, 인산에스테르를 난연제로서 이용하는 경우에는 그 첨가량, 구조에 주의해야 한다. 예컨대, 특허 문헌 9∼11 등에 인산에스테르를 함유한 수지 조성물이 제안되어 있으나, 고온 고습 조건 하에서 인산 이온 성분을 발생시키고, 전기 절연성의 저하, 접착성, 내용제성이 저하되며, 만족스러운 특성은 얻어지지 않는다.Also in the phosphorus compound, phosphate esters often used as flame retardants are often susceptible to hydrolysis, and when phosphate ester is used as a flame retardant, attention should be paid to the addition amount and structure thereof. For example, although the resin compositions containing phosphate ester are proposed in patent documents 9-11 etc., a phosphate ion component is generated under high temperature, high humidity conditions, electrical insulation fall, adhesiveness, and solvent resistance fall, and a satisfactory characteristic is obtained. I do not lose.

이러한 문제에 대하여, 에폭시 수지, 경화제, 포스핀옥사이드를 함유하는 난연성 수지 조성물(특허 문헌 12)이 제안되어 있고, 포스핀옥사이드를 사용함으로써 내약품성의 개량이 이루어져 있다. 그러나, 상기 조성물로 이루어지는 적층판의 난연성 평가에 있어서, 그 시험편은 최외측 표면이 모두 동박을 포함하고, 산소와 조성물의 접촉면이 적어 용이하게 난연성 UL-94V0이 얻어지는 구성으로 되어 있다. 또한, 땜납 내열성도 260℃로 낮아, 연성 인쇄 배선판의 고성능화가 요구되고 있는 오늘날, 여기에 개시되어 있는 조성물은 충분한 내열성, 난연성을 갖고 있다고는 말할 수 없다.With respect to such a problem, a flame-retardant resin composition (Patent Document 12) containing an epoxy resin, a curing agent, and a phosphine oxide has been proposed, and chemical resistance is improved by using phosphine oxide. However, in evaluation of the flame retardance of the laminated board which consists of the said composition, all the outermost surfaces contain copper foil, the contact surface of oxygen and a composition is small, and it is set as the structure by which flame-retardant UL-94V0 is obtained easily. In addition, the solder heat resistance is also low at 260 ° C., and high performance of flexible printed wiring boards is required. Today, the composition disclosed herein cannot be said to have sufficient heat resistance and flame resistance.

또한, 인 함유 에폭시 수지, 경화제를 함유하는 수지 조성물(특허 문헌 13)이 제안되어 있고, 반응형의 인 화합물을 에폭시 수지와 반응시킴으로써, 첨가형의 인 화합물에서 문제였던 적층체로부터의 블리드아웃에 의한 전기 특성의 저하 등의 문제를 해소할 수 있다. 그러나, 연성 인쇄 배선판에 실용적으로 이용되는 인 함유 에폭시 수지의 인 함유율은 3 질량% 전후로 낮기 때문에, 충분한 난연성은 얻어지지 않는다. 상기 조성물(특허 문헌 13)에 있어서도 상술한 바와 같은, 용이하게 난연성이 얻어지는 구성으로 난연성을 평가하고 있기 때문에, 충분한 난연성을 갖고 있다고는 말할 수 없다. 또한, 난연성을 향상시키기 위해서 인 함유율을 올리면, 에폭시기 당량이 감소하여 충분한 가교 구조가 얻어지지 않고, 내열성이 뒤떨어진다는 문제나, 용제에 대한 용해성이 나빠진다는 문제가 발생한다. Moreover, the resin composition (patent document 13) containing a phosphorus containing epoxy resin and a hardening | curing agent is proposed, and by reacting the reactive phosphorus compound with an epoxy resin, by the bleed out from the laminated body which was a problem with the additive phosphorus compound. Problems such as a drop in electrical characteristics can be solved. However, since the phosphorus content rate of the phosphorus containing epoxy resin used practically for a flexible printed wiring board is low around 3 mass%, sufficient flame retardance is not obtained. Also in the said composition (patent document 13), since flame retardance is evaluated by the structure obtained easily flame retardance as mentioned above, it cannot be said that it has sufficient flame retardance. Moreover, when phosphorus content rate is raised in order to improve flame retardance, an epoxy group equivalent will reduce, sufficient crosslinked structure will not be obtained, a problem of inferior heat resistance, and the problem that the solubility to a solvent worsens will arise.

상술한 것 이외에도 반응형 인 화합물, 인 함유 에폭시 수지를 이용하는 난연화의 제안은 많으며, 예컨대 인계 난연제, 열가소성 수지, 열경화성 수지를 함유하는 접착제 조성물(특허 문헌 14), 질소 함유 화합물, 에폭시 수지, 인 원자 함유 비에폭시 화합물, 경화제를 함유하는 접착제 조성물을 포함하는 커버레이(특허 문헌 15) 등이 제안되어 있다. 그러나, 어떠한 실시예에 있어서도 모두 무기계의 충전재가 첨가되어 있고, 충전재가 없으면 난연성, 내열성 등의 여러 가지 특성을 만족할 수 없는 것을 짐작할 수 있다. 충전재의 첨가는 상술한 바와 같은 문제가 있고, 또한 특허 문헌 14에서는 충전재를 첨가하고 있음에도 불구하고, 땜납 내열성이 불충분하며, 특허 문헌 15에서도, 첨가형의 인산에스테르를 첨가하고 있기 때문에, 내가수 분해성이 뒤떨어진다.In addition to the above, there have been many proposals for flame retardants using reactive phosphorus compounds and phosphorus-containing epoxy resins, for example, adhesive compositions containing phosphorus-based flame retardants, thermoplastic resins and thermosetting resins (Patent Document 14), nitrogen-containing compounds, epoxy resins, phosphorus Coverlays (patent document 15) and the like containing an adhesive composition containing an atom-containing non-epoxy compound and a curing agent have been proposed. However, in any of the examples, it is possible to assume that all of the inorganic fillers are added and that various properties such as flame retardancy and heat resistance cannot be satisfied without the filler. The addition of the filler has the same problems as described above, and in Patent Document 14, the solder heat resistance is insufficient despite the addition of the filler, and also in Patent Document 15, since the addition type phosphate ester is added, hydrolysis resistance Falls behind

이상과 같이, 할로겐 프리의 난연성 접착제에 있어서는, 난연성과 여러 가지 특성을 양립시키기 어려운 것이 현상이다.As mentioned above, in halogen-free flame-retardant adhesive agent, it is a phenomenon that it is difficult to make both flame retardance and various characteristics compatible.

특허 문헌 1: 일본 특허 공개 평성 제5-25452호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-25452 특허 문헌 2: 일본 특허 공개 평성 제7-304950호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-304950 특허 문헌 3: 일본 특허 공개 평성 제11-12500호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-12500 특허 문헌 4: 일본 특허 제3928329호 공보Patent Document 4: Japanese Patent No. 3928329 특허 문헌 5: 일본 특허 제3729291호 공보Patent Document 5: Japanese Patent No. 3729291 특허 문헌 6: 일본 특허 공개 평성 제3-54690호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-54690 특허 문헌 7: 일본 특허 공개 제2003-289594호 공보Patent Document 7: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-289594 특허 문헌 8: 일본 특허 제3931387호 공보Patent Document 8: Japanese Patent No. 3931387 특허 문헌 9: 일본 특허 공개 제2000-345035호 공보Patent Document 9: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-345035 특허 문헌 10: 일본 특허 공개 제2001-339131호 공보Patent Document 10: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-339131 특허 문헌 11: 일본 특허 공개 제2001-339132호 공보Patent Document 11: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-339132 특허 문헌 12: 일본 특허 공개 제2001-200140호 공보Patent Document 12: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-200140 특허 문헌 13: 일본 특허 공개 제2001-288247호 공보Patent Document 13: Japanese Patent Laid-Open No. 2001-288247 특허 문헌 14: 일본 특허 공개 제2002-146310호 공보Patent Document 14: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-146310 특허 문헌 15: 일본 특허 공개 제2004-87923호 공보Patent Document 15: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-87923

상기한 바와 같이, 종래의 기술에서는 내열성, 가요성, 접착성, 절연 신뢰성, 용제 용해성을 동시에 만족하는, 인쇄 배선판 등의 용도에 이용할 수 있는 내열성 접착제로서 적합한 폴리이미드계 수지는 얻어지고 있지 않았다. 본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하여, 인쇄 배선판 등의 용도에 적합한 폴리아미드이미드 수지 및 이 수지를 이용한 접착제 수지 조성물을 제공하는 것을 과제로 하는 것이다. As mentioned above, in the prior art, the polyimide resin suitable as a heat resistant adhesive agent which can be used for the use of printed wiring boards which satisfy | fills heat resistance, flexibility, adhesiveness, insulation reliability, and solvent solubility simultaneously is not obtained. This invention solves the problem of said prior art, and makes it a subject to provide the polyamide-imide resin suitable for the use of printed wiring boards, etc., and the adhesive resin composition using this resin.

나아가서는, 비할로겐이며, 충전재 등을 포함하지 않고 범용 용제에 모두 가용인 성분을 포함하며 안정된 특성을 나타낼 뿐만 아니라, 연성 인쇄 배선판 등에 이용하여, 우수한 난연성, 땜납 내열성, 접착성, 전기 절연성을 나타낼 수 있는 난연성 접착제 조성물을 제공하는 것이고, 또한 상기 조성물을 이용한 동장 적층판, 접착제 시트, 커버레이 필름, 프리프레그, 수지가 부착된 동박, 오버코트 잉크 등의 인쇄 배선판을 제공하는 것에 있다.Furthermore, it is non-halogen, contains no fillers, contains all soluble components in general-purpose solvents, and exhibits stable characteristics, and also shows excellent flame resistance, solder heat resistance, adhesiveness, and electrical insulation property in flexible printed wiring boards and the like. It is providing the flame-retardant adhesive composition which can be used, and also providing the printed wiring boards, such as a copper clad laminated board, an adhesive sheet, a coverlay film, a prepreg, the copper foil with resin, and an overcoat ink using the said composition.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서, 예의 연구한 결과, 마침내 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉 본 발명은, 이하의 구성을 포함한다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors came to complete this invention finally as a result of earnestly research in order to solve the said subject. That is, this invention includes the following structures.

(1)(One)

하기 (a)∼(c)의 산 성분과 방향환을 갖는 디이소시아네이트 또는 디아민을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드이미드 수지로서, 상기 폴리아미드이미드 수지의 전체 산 성분을 100 몰%로 한 경우에 각 산 성분의 비율이 (a) 3 몰%∼10 몰%, (b) 10 몰%∼80 몰%, (c) 10 몰%∼87 몰%인 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드 수지:A polyamideimide resin obtained by reacting a diisocyanate or diamine having an aromatic ring with an acid component of the following (a) to (c), each acid component when the total acid component of the polyamideimide resin is 100 mol%. Wherein the ratio of (a) 3 mol% to 10 mol%, (b) 10 mol% to 80 mol%, and (c) 10 mol% to 87 mol%:

(a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무,(a) acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends,

(b) 탄소수가 4 내지 12인 지방족 디카르복실산,(b) aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms,

(c) 방향환을 갖는 폴리카르복실산의 산무수물.(c) Acid anhydride of polycarboxylic acid which has an aromatic ring.

(2)(2)

폴리아미드이미드 수지가 에탄올, 톨루엔, 크실렌 및 메틸에틸케톤으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종류 이상의 용제 60 질량과 디메틸아세트아미드 40 질량을 포함하는 혼합 용제에 25℃에서 10 질량% 이상 용해되는 상기 (1)에 기재된 폴리아미드이미드 수지.The polyamideimide resin is dissolved in a mixed solvent containing 60 mass of at least one solvent selected from the group consisting of ethanol, toluene, xylene and methyl ethyl ketone and 40 mass of dimethylacetamide, at least 10 mass% at 25 ° C. Polyamideimide resin according to the above.

(3)(3)

상기 (2)에 기재된 폴리아미드이미드 수지에 열경화성 성분을 첨가한 폴리아미드이미드 수지 조성물.The polyamideimide resin composition which added the thermosetting component to the polyamideimide resin as described in said (2).

(4)(4)

열경화성 성분이 에폭시 수지인 상기 (3)에 기재된 폴리아미드이미드 수지 조성물. The polyamideimide resin composition as described in said (3) whose thermosetting component is an epoxy resin.

(5)(5)

상기 (3) 또는 (4)에 기재된 폴리아미드이미드 수지 조성물을 접착제로서 이용한 인쇄 배선판.The printed wiring board using the polyamide-imide resin composition as described in said (3) or (4) as an adhesive agent.

(6)(6)

(A) 폴리아미드이미드 수지, (B) 인 함유 에폭시 수지, (C) 인 화합물을 함유하고, (A) 폴리아미드이미드 수지가 하기 (a)∼(c)의 산 성분과 방향환을 갖는 디이소시아네이트 또는 디아민을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드이미드 수지이며, 상기 폴리아미드이미드 수지의 전체 산 성분을 100 몰%로 한 경우에 각 산 성분의 비율이 (a) 3 몰%∼10 몰%, (b) 10 몰%∼80 몰%, (c) 10 몰%∼87 몰%이고, (A)∼(C) 성분의 합계 질량에 대한 인 함유율이 2.0 질량%∼5.0 질량%인 것을 특징으로 하는 난연성 접착제 조성물:(A) polyamideimide resin, (B) phosphorus containing epoxy resin, (C) phosphorus compound, and (A) polyamideimide resin which has the acid component and aromatic ring of following (a)-(c) It is a polyamideimide resin obtained by making isocyanate or diamine react, and when the total acid component of the said polyamideimide resin is 100 mol%, the ratio of each acid component is (a) 3 mol%-10 mol%, (b) It is 10 mol%-80 mol%, (c) 10 mol%-87 mol%, The flame-retardant adhesive characterized by the phosphorus content rate with respect to the total mass of (A)-(C) component 2.0 mass%-5.0 mass%. Composition:

(a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무,(a) acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends,

(b) 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산,(b) aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms,

(c) 방향환을 갖는 폴리카르복실산의 무수물.(c) Anhydrides of polycarboxylic acids having an aromatic ring.

(7)(7)

(C) 인 화합물이 포스파젠 및/또는 포스핀산 유도체인 상기 6에 기재된 난연성 접착제 조성물.(C) The flame-retardant adhesive composition according to 6 above, wherein the phosphorus compound is a phosphazene and / or phosphinic acid derivative.

(8)(8)

(D) 에폭시 수지 경화제를 추가로 함유하는 상기 6 또는 7에 기재된 난연성 접착제 조성물. (D) The flame-retardant adhesive composition according to the above 6 or 7, which further contains an epoxy resin curing agent.

(9)(9)

(E) 인을 포함하지 않는 에폭시 수지를 함유하는 상기 6∼8 중 어느 하나에 기재된 난연성 접착제 조성물.(E) The flame-retardant adhesive composition in any one of said 6-8 containing the epoxy resin which does not contain phosphorus.

(10)10

(F) 실란 커플링제를 추가로 함유하는 상기 6∼9 중 어느 하나에 기재된 난연성 접착제 조성물.(F) The flame-retardant adhesive composition in any one of said 6-9 which further contains a silane coupling agent.

(11)(11)

상기 (A)∼(F) 성분이 모두 디메틸아세트아미드, 에탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤 중 어느 하나의 용제에 25℃, 고형분 농도 25 질량%로 용해되는 상기 6∼10 중 어느 하나에 기재된 난연성 접착제 조성물. All of the said (A)-(F) component in any one of said 6-10 which melt | dissolve in 25 mass% of solid content concentration 25 degreeC in the solvent in any one of dimethyl acetamide, ethanol, toluene, xylene, and methyl ethyl ketone. Flame retardant adhesive composition.

(12)(12)

상기 (A)∼(F) 성분의 합계 질량에 대한 인 함유율이 2.0 질량%∼5.0 질량%인 상기 6∼11 중 어느 하나에 기재된 난연성 접착제 조성물.The flame-retardant adhesive composition in any one of said 6-11 whose phosphorus content rate with respect to the total mass of the said (A)-(F) component is 2.0 mass%-5.0 mass%.

(13)(13)

상기 6∼12 중 어느 하나에 기재된 난연성 접착제 조성물을 접착제층으로 하고, 어느 하나에 기재된 난연성 접착제 조성물을 포함하는 접착제층이 박리 가능한 보호 필름에 적층되어 이루어지는 층을 갖는 접착제 시트.The adhesive sheet which has a layer in which the flame-retardant adhesive composition in any one of said 6-12 is made into an adhesive bond layer, and the adhesive bond layer containing the flame-retardant adhesive composition in any one is laminated | stacked on the peelable protective film.

(14)(14)

상기 6∼12 중 어느 하나에 기재된 난연성 접착제 조성물을 포함하는 접착제층과 절연성 플라스틱 필름이 적층되어 이루어지는 커버레이 필름.The coverlay film in which the adhesive bond layer and insulating plastic film containing the flame-retardant adhesive composition in any one of said 6-12 are laminated | stacked.

(15)(15)

상기 6∼12 중 어느 하나에 기재된 난연성 접착제 조성물을 이용하여 형성된 절연층을 포함하는 연성 인쇄 배선판.The flexible printed wiring board containing the insulating layer formed using the flame-retardant adhesive composition in any one of said 6-12.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지는, 산 성분으로서, 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무와 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산을 특정 범위에서 공중합하고 있기 때문에, 저비점 용제에도 용해 가능할 뿐만 아니라, 폴리아미드이미드 수지 자체의 접착성이 현저하게 향상된다. 이 때문에, 종래 동시에 만족하는 것이 곤란했던 내열성·가요성·접착성·절연 신뢰성·용제 용해성을 동시에 만족할 수 있고, 인쇄 배선판용으로 적합한 내열성 접착제를 제공할 수 있다.Since the polyamideimide resin of this invention copolymerizes the acrylonitrile butadiene rubber which has a carboxyl group in both terminals as an acid component and the aliphatic dicarboxylic acid of 4-12 carbons in a specific range, it melt | dissolves also in a low boiling point solvent. Not only is it possible, the adhesiveness of the polyamideimide resin itself is remarkably improved. For this reason, the heat resistance, flexibility, adhesiveness, insulation reliability, and solvent solubility which were difficult to satisfy simultaneously at the same time can be satisfied simultaneously, and a heat resistant adhesive suitable for a printed wiring board can be provided.

또한, 본 발명의 난연성 접착제 조성물은, 비할로겐이고, 수산화알루미늄과 같은 무기 충전재를 포함하지 않고 UL94 VTM-0의 난연성을 달성할 수 있으며, 또한 범용 용제에 모두 가용인 성분을 포함하기 때문에, 조성물의 분산에 관한 문제의 걱정이 없고 안정성이 우수하며, 안정된 특성의 박막의 제조가 용이하다. 또한, 저비점의 범용 용제에 용해한 조성물이기 때문에, 건조가 용이하고 난연성 접착제로서 적합하다.In addition, since the flame-retardant adhesive composition of the present invention is non-halogen, does not contain an inorganic filler such as aluminum hydroxide, and can achieve the flame retardancy of UL94 VTM-0, and also includes all soluble components in a general purpose solvent, There is no worry about the problem of dispersing, it is excellent in stability, and it is easy to manufacture a thin film with stable characteristics. Moreover, since it is a composition melt | dissolved in the general purpose solvent of the low boiling point, drying is easy and it is suitable as a flame-retardant adhesive agent.

또한, 본 발명의 난연성 접착제 조성물을 인쇄 배선판의 접착제로서 사용하면, 우수한 난연성, 땜납 내열성, 접착성, 전기 절연성을 나타낸다. 또한, 고온 고습 하에서 방치되어 흡습(吸濕)한 상태라도, 종래에 없는 우수한 땜납 내열성을 나타낼 수 있다. 또한, 고온 고습 조건의 PCT 시험 후에 있어서도, 높은 접착성을 유지할 수 있다. 또한, 회로 상에 설치한 커버레이는, 고도의 내마이그레이션성을 나타낼 수 있다.Moreover, when the flame-retardant adhesive composition of this invention is used as an adhesive agent of a printed wiring board, it shows the outstanding flame retardance, solder heat resistance, adhesiveness, and electrical insulation. Moreover, even if it is left under high temperature, high humidity, and moisture-absorbed, the outstanding solder heat resistance which has not existed conventionally can be exhibited. Moreover, even after the PCT test of high temperature, high humidity conditions, high adhesiveness can be maintained. In addition, the coverlay provided on the circuit can exhibit a high degree of migration resistance.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

1. 폴리아미드이미드 수지1. Polyamideimide Resin

본 발명의 폴리아미드이미드 수지는 하기 (a)∼(c)의 산 성분과 방향환을 갖는 디이소시아네이트 또는 디아민을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드이미드 수지로서, 상기 폴리아미드이미드 수지의 전체 산 성분을 100 몰%로 한 경우에 각 산 성분의 비율이 (a) 3 몰%∼10 몰%, (b) 10 몰%∼80 몰%, (c) 10 몰%∼87 몰%이다:The polyamideimide resin of the present invention is a polyamideimide resin obtained by reacting an acid component of the following (a) to (c) with a diisocyanate or diamine having an aromatic ring, and 100 mol of all the acid components of the polyamideimide resin. In the case of%, the ratio of each acid component is (a) 3 mol%-10 mol%, (b) 10 mol%-80 mol%, (c) 10 mol%-87 mol%:

(a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무,(a) acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends,

(b) 탄소수가 4 내지 12인 지방족 디카르복실산,(b) aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms,

(c) 방향환을 갖는 폴리카르복실산의 산무수물.(c) Acid anhydride of polycarboxylic acid which has an aromatic ring.

본 발명에서의 (a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무는 폴리아미드이미드 수지에 가요성이나 접착성을 부여하기 위해서, 전체 산 성분의 3 몰%∼10 몰% 공중합한다. 바람직하게는 3 몰%∼8 몰%이며, 공중합량이 3 몰% 미만이면 가요성이나 접착성을 발현할 수 없고, 10 몰%를 초과하면 절연 신뢰성 및 저비점 용제에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있다.The acrylonitrile-butadiene rubber having a carboxyl group at both ends of the present invention is copolymerized in an amount of 3 mol% to 10 mol% of all acid components in order to provide flexibility and adhesion to the polyamideimide resin. Preferably it is 3 mol%-8 mol%, and when copolymerization amount is less than 3 mol%, flexibility and adhesiveness cannot express, and when it exceeds 10 mol%, there exists a tendency for insulation reliability and solubility to a low boiling point solvent to fall. .

본 발명에서의 (a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무로서는, 아크릴로니트릴 부위와 부타디엔 부위를 갖고, 중량 평균 분자량이 500∼5000인 것이 바람직하다. 이 범위보다 분자량이 작으면, 가요성이나 접착성을 발현할 수 없고, 또한 분자량이 크면, 폴리아미드이미드 수지 중에 공중합하기 어려워진다. 또한, 아크릴로니트릴 부위의 비율은 10 질량%∼50 질량%의 범위인 것이 바람직하다. 10 질량% 미만이면, 저비점 용제에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있고, 50 질량%를 초과하면, 절연 신뢰성이 저하되는 경향이 있다.As acrylonitrile-butadiene rubber which has a (a) carboxyl group in both terminal in this invention, it is preferable that it has an acrylonitrile site | part and a butadiene site | part, and a weight average molecular weight is 500-5000. If molecular weight is smaller than this range, flexibility and adhesiveness cannot be expressed, and if molecular weight is large, it will become difficult to copolymerize in a polyamideimide resin. Moreover, it is preferable that the ratio of an acrylonitrile site | part is the range of 10 mass%-50 mass%. If it is less than 10 mass%, there exists a tendency for the solubility to a low boiling point solvent to fall, and when it exceeds 50 mass%, there exists a tendency for insulation reliability to fall.

이들을 만족하는 시판의 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴 부타디엔 고무로서는, 예컨대 에메랄드 퍼포먼스 머티어리얼스사 Hypro(상표명) CTBN 시리즈 등을 들 수 있다. 그러나, (a) 성분을 공중합하는 것만으로는 가요성이나 접착성 및 용해성이 충분하지 않다.As acrylonitrile butadiene rubber which has a commercially available carboxyl group which satisfy | fills these at both ends, the emerald performance material company Hypro (trade name) CTBN series etc. are mentioned, for example. However, only copolymerizing the component (a) does not have sufficient flexibility, adhesiveness and solubility.

본 발명에서의 (b) 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산은, 폴리아미드이미드 수지에 가요성, 접착성 및 용제 용해성을 향상시키기 위해서 공중합한다. 공중합량은, 전체 산 성분의 10 몰%∼80 몰% 공중합이고, 바람직하게는 20 몰%∼60 몰%이다. 10 몰% 미만인 경우에는, 충분한 접착성과 가요성이 얻어지지 않고, 또한 용해성 향상의 효과도 적다. 80 몰%를 초과하는 경우에는, 폴리아미드이미드 수지 중의 방향족 구조의 비율이 저하됨으로써, 내열성이 저하된다. The aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms (b) in the present invention is copolymerized with polyamideimide resin in order to improve flexibility, adhesiveness and solvent solubility. Copolymerization amount is 10 mol%-80 mol% copolymerization of all the acid components, Preferably it is 20 mol%-60 mol%. When it is less than 10 mol%, sufficient adhesiveness and flexibility are not obtained and the effect of solubility improvement is also small. When it exceeds 80 mol%, heat resistance falls because the ratio of the aromatic structure in polyamideimide resin falls.

이미 서술한 바와 같이, (a) 성분 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무의 도입량에는 제한이 있으며, (a) 성분만으로는 충분한 접착성이나 가요성, 또한 저비점 용제에 대한 용해성을 발현할 수 없다. 그래서, (b) 성분을 공중합할 필요가 있다.As described above, the amount of the acrylonitrile-butadiene rubber having (a) component carboxyl groups at both ends is limited, and the component (a) alone may exhibit sufficient adhesiveness, flexibility, and solubility in a low boiling point solvent. Can't. Therefore, it is necessary to copolymerize (b) component.

여기서, (b) 성분의 디카르복실산의 탄소수는, 카르복실산 부분의 탄소도 포함한 수이며, 따라서, 예컨대 세바신산의 경우에는 10이라고 한다. 또한, 이 탄소수가 12보다 큰 경우에는, 폴리아미드이미드 수지 중에 극성이 낮은 부분이 많아져, 수지의 용해성이나 접착성이 저하된다는 문제가 발생한다.Here, carbon number of the dicarboxylic acid of (b) component is also the number containing carbon of a carboxylic acid part, Therefore, in the case of sebacic acid, for example, it is set to 10. Moreover, when this carbon number is larger than 12, there exists a problem that many parts with low polarity in polyamideimide resin fall, and the solubility and adhesiveness of resin fall.

본 발명에서의 (b) 탄소수가 4 내지 12인 지방족 디카르복실산으로서는, 직쇄의 지방족 디카르복실산이나 분기 구조를 갖는 지방족 디카르복실산을 들 수 있다. 예컨대, 직쇄 구조의 것으로서는, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 헵탄이산, 옥탄이산, 아젤라산, 세바신산, 운데칸이산, 도데칸이산 등을 들 수 있고, 분기 구조를 갖는 것으로서는, 2-메틸숙신산 등 상기 디카르복실산에 탄화수소의 치환기를 갖는 것을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합해서 사용해도 된다.Examples of the aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms (b) in the present invention include linear aliphatic dicarboxylic acids and aliphatic dicarboxylic acids having a branched structure. For example, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, heptane diacid, octanoic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecane diacid, dodecane diacid, etc. are mentioned as a thing of a linear structure, As what has a branched structure, The thing which has a substituent of a hydrocarbon in the said dicarboxylic acid, such as 2-methylsuccinic acid, is mentioned, These may be used independently and may be used in combination of plurality.

본 발명에서 이미드환 형성의 역할을 수행하는 (c) 방향환을 갖는 폴리카르복실산의 산무수물로서는, 예컨대 트리멜리트산 무수물, 피로멜리트산 이무수물, 에틸렌글리콜비스안히드로트리멜리테이트, 프로필렌글리콜비스안히드로트리멜리테이트, 1,4-부탄디올비스안히드로트리멜리테이트, 헥사메틸렌글리콜비스안히드로트리멜리테이트, 폴리에틸렌글리콜비스안히드로트리멜리테이트, 폴리프로필렌글리콜비스안히드로트리멜리테이트 등의 알킬렌글리콜비스안히드로트리멜리테이트, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 1,2,5,6-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 2,3,5,6-피리딘테트라카르복실산 이무수물, 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, m-터페닐-3,3',4,4'-테트라카르복실산 이무수물, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(2,3- 또는 3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3- 또는 3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스[4-(2,3- 또는 3,4-디카르복시페녹시)페닐]프로판 이무수물, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스[4-(2,3- 또는 3,4-디카르복시페녹시)페닐]프로판 이무수물, 1,3-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산 이무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합해서 사용해도 된다.Examples of the acid anhydride of the polycarboxylic acid having an (c) aromatic ring which plays a role of imide ring formation in the present invention include trimellitic anhydride, pyromellitic dianhydride, ethylene glycol bis anhydro trimellitate, and propylene glycol. Alkyl, such as bis-anhydro trimellitate, 1, 4- butanediol bis-an hydro trimellitate, hexamethylene glycol bis-an hydro trimellitate, polyethyleneglycol bis-an hydro trimellitate, polypropylene glycol bis-an hydro trimellitate, etc. Lenglycolbisanhydrotrimellitate, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2 , 5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5,6-pyridinetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9 , 10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 3 , 3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, m-terphenyl-3,3', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride Water, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3 Or 3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis [4- (2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 1,1,1,3 , 3,3-hexafluoro-2,2-bis [4- (2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxy Phenyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane dianhydride etc. are mentioned, These may be used independently and may be used in combination of multiple.

본 발명의 산 성분으로서, 이미 설명한 (a)∼(c) 성분 외에, 본 발명의 효과를 손상시키지 않을 정도로 그 외의 산 성분으로서, 지방족 또는 지환족의 산무수물이나 지환족의 디카르복실산을 이용할 수 있다. 예컨대, 부탄-1,2,3,4-테트라카르복실산 이무수물, 펜탄-1,2,4,5-테트라카르복실산 이무수물, 시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 헥사히드로피로멜리트산 이무수물, 시클로헥사-1-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 3-에틸시클로헥사-1-엔-3-(1,2),5,6-테트라카르복실산 이무수물, 1-메틸-3-에틸시클로헥산-3-(1,2),5,6-테트라카르복실산 이무수물, 1-메틸-3-에틸시클로헥사-1-엔-3-(1,2),5,6-테트라카르복실산 이무수물, 1-에틸시클로헥산-1-(1,2),3,4-테트라카르복실산 이무수물, 1-프로필시클로헥산-1-(2,3),3,4-테트라카르복실산 이무수물, 1,3-디프로필시클로헥산-1-(2,3),3-(2,3)-테트라카르복실산 이무수물, 디시클로헥실-3,4,3',4'-테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 1-프로필시클로헥산-1-(2,3),3,4-테트라카르복실산 이무수물, 1,3-디프로필시클로헥산-1-(2,3),3-(2,3)-테트라카르복실산 이무수물, 디시클로헥실-3,4,3',4'-테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥탄-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥토-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 헥사히드로트리멜리트산 무수물, 시클로헥산디카르복실산 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합해서 사용해도 된다. 이들 성분은, 얻어지는 폴리아미드이미드 수지의 내열성 및 그것을 이용한 접착제 수지 조성물의 난연성의 관점에서, 산 성분 중에서 20 몰% 이하인 것이 바람직하다. As the acid component of the present invention, aliphatic or cycloaliphatic acid anhydrides or cycloaliphatic dicarboxylic acids can be used as other acid components to the extent that the effects of the present invention are not impaired other than the components (a) to (c) described above. It is available. For example, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pentane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, hexahydropyromellitic acid Dianhydrides, cyclohexa-1-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3-ethylcyclohexa-1-ene-3- (1,2), 5,6-tetracarboxyl Acid dianhydride, 1-methyl-3-ethylcyclohexane-3- (1,2), 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-methyl-3-ethylcyclohexa-1-ene-3- ( 1,2), 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-ethylcyclohexane-1- (1,2), 3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1-propylcyclohexane-1- ( 2,3), 3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dipropylcyclohexane-1- (2,3), 3- (2,3) -tetracarboxylic dianhydride, dicyclo Hexyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-propylcyclohexane-1 -(2,3), 3,4-tetracarboxylic dianhydride , 1,3-dipropylcyclohexane-1- (2,3), 3- (2,3) -tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxyl Acid dianhydrides, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride Water, bicyclo [2.2.2] octo-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, hexahydrotrimellitic anhydride, cyclohexanedicarboxylic acid, and the like. It may be used alone or in combination of plural. It is preferable that these components are 20 mol% or less in an acid component from a heat resistant viewpoint of the polyamideimide resin obtained and the flame retardance of the adhesive resin composition using the same.

본 발명에서 이용하는 방향환을 갖는 디이소시아네이트 또는 디아민으로서는, 디이소시아네이트에서는, 예컨대 디페닐메탄-2,4'-디이소시아네이트, 3,2'- 또는 3,3'- 또는 4,2'- 또는 4,3'- 또는 5,2'- 또는 5,3'- 또는 6,2'- 또는 6,3'-디메틸디페닐메탄-2,4'-디이소시아네이트, 3,2'- 또는 3,3'- 또는 4,2'- 또는 4,3'- 또는 5,2'- 또는 5,3'- 또는 6,2'- 또는 6,3'-디에틸디페닐메탄-2,4'-디이소시아네이트, 3,2'- 또는 3,3'- 또는 4,2'- 또는 4,3'- 또는 5,2'- 또는 5,3'- 또는 6,2'- 또는 6,3'-디메톡시디페닐메탄-2,4'-디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐메탄-3,3'-디이소시아네이트, 디페닐메탄-3,4'-디이소시아네이트, 디페닐에테르-4,4'-디이소시아네이트, 벤조페논-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐술폰-4,4'-디이소시아네이트, 톨릴렌-2,4-디이소시아네이트, 톨릴렌-2,6-디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, p-크실릴렌디이소시아네이트, 나프탈렌-2,6-디이소시아네이트, 4,4'-[2,2-비스(4-페녹시페닐)프로판]디이소시아네이트, 3,3' 또는 2,2'-디메틸비페닐-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'- 또는 2,2'-디에틸비페닐-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시비페닐-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디에톡시비페닐-4,4'-디이소시아네이트 등을 들 수 있고, 디아민으로서는 이들 디이소시아네이트에 대응하는 디아민을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합해서 사용해도 된다.As diisocyanate or diamine which has an aromatic ring used by this invention, in diisocyanate, it is diphenylmethane-2,4'- diisocyanate, 3,2'- or 3,3'- or 4,2'- or 4, for example. , 3'- or 5,2'- or 5,3'- or 6,2'- or 6,3'-dimethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3,2'- or 3,3 '-Or 4,2'- or 4,3'- or 5,2'- or 5,3'- or 6,2'- or 6,3'-diethyldiphenylmethane-2,4'-di Isocyanate, 3,2'- or 3,3'- or 4,2'- or 4,3'- or 5,2'- or 5,3'- or 6,2'- or 6,3'-di Methoxydiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, diphenylmethane-3,3'-diisocyanate, diphenylmethane-3,4'-diisocyanate, di Phenylether-4,4'-diisocyanate, benzophenone-4,4'-diisocyanate, diphenylsulfone-4,4'-diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, tolylene-2,6 Dee Cyanate, m-xylylenediisocyanate, p-xylylenediisocyanate, naphthalene-2,6-diisocyanate, 4,4 '-[2,2-bis (4-phenoxyphenyl) propane] diisocyanate, 3 , 3 'or 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate, 3,3'- or 2,2'-diethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate, 3,3'- Dimethoxy biphenyl-4,4'- diisocyanate, 3,3'- diethoxy biphenyl-4,4'- diisocyanate, etc. are mentioned, As diamine, the diamine corresponding to these diisocyanate is mentioned, These may be used independently and may be used in combination of multiple.

본 발명의 효과를 손상시키지 않을 정도로, 이소시아네이트 또는 아민 성분으로서 지방족 또는 지환족 구조를 이용할 수 있다. 예컨대, 전항에서 예를 든 성분 중 어느 하나를 수소 첨가한 디이소시아네이트 또는 디아민을 이용할 수 있다. 또한, 이소포론디이소시아네이트, 1,4-시클로헥산디이소시아네이트, 1,3-시클로헥산디이소시아네이트, 4,4'-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 에틸렌디이소시아네이트, 프로필렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 및 이들에 대응하는 디아민 등도 들 수 있다.An aliphatic or alicyclic structure can be used as the isocyanate or amine component to the extent that the effects of the present invention are not impaired. For example, diisocyanate or diamine which hydrogenated any one of the components mentioned in the preceding claim can be used. Moreover, isophorone diisocyanate, 1, 4- cyclohexane diisocyanate, 1, 3- cyclohexane diisocyanate, 4,4'- dicyclohexyl methane diisocyanate, ethylene diisocyanate, propylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and Diamine corresponding to these etc. are mentioned.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지에는, 내열성 향상을 목적으로 하여 관능기를 3개 이상 갖는 화합물을 공중합하는 것이 가능하다. 예컨대 트리메신산 등의 다관능 카르복실산, 5-히드록시이소프탈산 등의 수산기를 갖는 디카르복실산, 5-아미노이소프탈산 등의 아미노기를 갖는 디카르복실산, 글리세린, 폴리글리세린 등의 수산기를 3개 이상 갖는 것, 트리스(2-아미노에틸)아민 등의 아미노기를 3개 이상 갖는 것을 들 수 있고, 이들 중에서 반응성, 용해성의 점에서 5-히드록시이소프탈산 등의 수산기를 갖는 디카르복실산, 트리스(2-아미노에틸)아민 등의 아미노기를 3개 이상 갖는 것이 바람직하고, 그 양은 산 성분 또는 아민 성분에 대하여 20 몰% 이하가 바람직하다. 20 몰%를 초과하면 가교점이 많아져 폴리아미드 제조 시에 겔화하거나, 불용물을 생성할 우려가 있다.In the polyamideimide resin of the present invention, it is possible to copolymerize a compound having three or more functional groups for the purpose of improving heat resistance. For example, hydroxyl groups, such as dicarboxylic acid, such as polyfunctional carboxylic acid, such as trimesic acid, and hydroxyl groups, such as 5-hydroxyisophthalic acid, and dicarboxylic acid, which has amino groups, such as 5-aminoisophthalic acid, glycerin, polyglycerol, etc. And those having three or more amino groups such as tris (2-aminoethyl) amine. Among these, dicarboxyl having hydroxyl groups such as 5-hydroxyisophthalic acid in terms of reactivity and solubility. It is preferable to have 3 or more amino groups, such as an acid and a tris (2-aminoethyl) amine, and the quantity is 20 mol% or less with respect to an acid component or an amine component. When it exceeds 20 mol%, a crosslinking point may increase, and it may gelatinize at the time of polyamide manufacture, or generate an insoluble matter.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않을 정도로, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무나 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산 이외의 가요성이나 접착성 부여 성분으로서, 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리카보네이트, 다이머산, 폴리실록산 등을 이용할 수 있다. 그 경우, 폴리아미드이미드 수지에의 공중합량이 많으면, 내열성이나 용해성, 접착성과 같은 본 발명의 효과가 손상될 우려가 있기 때문에, 이들 성분은, 전체 산 성분 또는 아민 성분에 대하여 10 몰% 이하인 것이 바람직하다. In the polyamideimide resin of the present invention, polyester is used as a flexible and adhesiveness imparting component other than acrylonitrile-butadiene rubber and aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms to the extent that the effect of the present invention is not impaired. , Polyether, polycarbonate, dimer acid, polysiloxane and the like can be used. In that case, since the effect of this invention, such as heat resistance, solubility, and adhesiveness, may be impaired when there are many copolymerization amounts to polyamideimide resin, these components are preferably 10 mol% or less with respect to all the acid component or the amine component. Do.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 얻는 방법으로서는, 산 성분과 이소시아네이트 성분으로부터 제조하는 방법(이소시아네이트법), 또는, 산 성분과 아민 성분을 반응시켜 아믹산을 형성시킨 후, 폐환(閉環)시키는 방법(직접법), 또는, 산무수물 및 산클로라이드를 갖는 화합물과 디아민을 반응시키는 방법 등의 공지된 방법으로 제조된다. 공업적으로는, 이소시아네이트법이 유리하다.As a method of obtaining the polyamideimide resin of this invention, the method of manufacturing from an acid component and an isocyanate component (isocyanate method), or the method of ring-closing after making an acid component react with an amine component ( Direct method) or a known method such as reacting a compound having an acid anhydride and an acid chloride with a diamine. Industrially, the isocyanate method is advantageous.

폴리아미드이미드 수지의 중합은, 용매 중에서 산 성분과 이소시아네이트 또는 아민 성분을 용해시키고, 가열함으로써 얻어진다. 이때, 산 성분과 이소시아네이트 또는 아민 성분의 비율이 100:91∼100:109인 것이 바람직하다. 이 범위를 벗어나면, 분자량이 충분히 올라가지 않아 기계 강도가 부족하거나 중합 중에 겔화될 우려가 있다. 또한, 본 발명에 의해 얻어지는 폴리아미드이미드 수지의 이미드환 부분은, 수지 및 수지 니스 안정성의 면에서 90% 이상 폐환되어 있는 것이 바람직하다. 그를 위해서는, 폴리아미드이미드 수지의 중합 시에 충분히 반응시킬 필요가 있으며, 반응 온도를 높게 하거나 촉매를 첨가하는 것과 같은 방법이 있다. The polymerization of the polyamideimide resin is obtained by dissolving and heating the acid component and the isocyanate or amine component in a solvent. At this time, it is preferable that the ratio of an acid component and an isocyanate or amine component is 100: 91-100: 109. If it is out of this range, the molecular weight does not increase sufficiently, and there is a possibility that the mechanical strength is insufficient or gelates during polymerization. Moreover, it is preferable that the imide ring part of the polyamide-imide resin obtained by this invention is 90% or more ring-closed in view of resin and resin varnish stability. For that purpose, it is necessary to fully react at the time of superposition | polymerization of polyamideimide resin, and there exists a method of making reaction temperature high or adding a catalyst.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지의 중합에 이용할 수 있는 용제로서는, 예컨대 N-메틸-2-피롤리돈, γ-부티로락톤, 디메틸이미다졸리디논, 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, N-에틸-2-피롤리돈, 디메틸아세트아미드, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 테트라히드로푸란 등을 들 수 있고, 이 중에서는, 비점이 낮고 중합의 효율이 좋기 때문에, 디메틸아세트아미드가 바람직하다. 또한 중합 후에는 중합에 이용한 용제 또는 다른 저비점 용제로 희석하여 비휘발분 농도나 용액 점도를 조정할 수 있다.As a solvent which can be used for superposition | polymerization of the polyamideimide resin of this invention, N-methyl- 2-pyrrolidone, (gamma) -butyrolactone, dimethyl imidazolidinone, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, N-ethyl, for example 2-pyrrolidone, dimethylacetamide, cyclohexanone, cyclopentanone, tetrahydrofuran, etc. are mentioned, Among these, since a boiling point is low and the polymerization efficiency is good, dimethylacetamide is preferable. Moreover, after superposition | polymerization, it can dilute with the solvent used for superposition | polymerization or another low boiling point solvent, and can adjust a non volatile matter concentration and a solution viscosity.

저비점 용제로서는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용제, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족계 용제, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 이소프로판올 등의 알코올계 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논 등의 케톤계 용제, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 에테르계 용제, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산이소부틸 등의 에스테르계 용제 등을 들 수 있다.As the low boiling point solvent, aromatic solvents such as toluene and xylene, aliphatic solvents such as hexane, heptane and octane, alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol and isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Ketone solvents such as cyclohexanone and cyclopentanone, ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran, and ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate.

또한, 반응을 촉진하기 위해서 불화나트륨, 불화칼륨, 나트륨메톡시드 등의 알칼리 금속류, 트리에틸렌디아민, 트리에틸아민, 디에탄올아민, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]-5-노넨 등의 아민류나 디부틸주석디라우레이트 등의 촉매를 이용할 수 있다.Furthermore, alkali metals such as sodium fluoride, potassium fluoride and sodium methoxide, triethylenediamine, triethylamine, diethanolamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7- in order to promote the reaction Amines such as undecene and 1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonene and catalysts such as dibutyltin dilaurate can be used.

2. 폴리아미드이미드 수지 조성물2. Polyamideimide Resin Composition

본 발명에 의해 얻어지는 폴리아미드이미드 수지 용액은, 열경화성 성분을 첨가하여 접착제(열경화성 수지 조성물)로서 사용할 수 있다. 상기 열경화성 수지 조성물을 접착제로서 사용하는 경우, 건조 온도를 낮게 하고, 또한 건조 시에 경화 반응이 진행되지 않도록 하기 위해서, 수지 용액 중에 건조성이 좋은 저비점 용제를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 접착제(열경화성 수지 조성물)에 적합한 저비점 용제로서는, 에탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있고, 건조성에서 우위성을 발견하기 위해서는, 이들로 이루어지는 군에서 선택되는 1종류 이상의 용제를 60 질량과 디메틸아세트아미드를 40 질량 함유하는 혼합 용제에 폴리아미드이미드 수지가 10 질량% 이상 용해되는 것이 바람직하다. 이 용해성을 가짐으로써, 건조성이 우수할 뿐만 아니라, 열경화성 성분을 첨가하여 접착제(열경화성 수지 조성물)로 한 경우, 열경화성 성분의 용제에 의해 불용화되는 일이 없고, 또한 열경화성 수지 조성물로서의 경시 안정성, 저장 안정성이 우수하다.The polyamide-imide resin solution obtained by this invention can add a thermosetting component and can be used as an adhesive agent (thermosetting resin composition). When using the said thermosetting resin composition as an adhesive agent, in order to make drying temperature low and to prevent hardening reaction from advancing at the time of drying, it is preferable that the resin solution contains the low boiling point solvent with good dryability. As a low boiling point solvent suitable for an adhesive agent (thermosetting resin composition), ethanol, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, etc. are mentioned, In order to discover the superiority in drying property, 60 mass of one or more types of solvents chosen from these group are selected. It is preferable that 10 mass% or more of polyamide-imide resins melt | dissolve in the mixed solvent which contains 40 mass of dimethylacetamide. By having this solubility, not only is it excellent in dryness, but when it adds a thermosetting component and it is set as an adhesive agent (thermosetting resin composition), it is not insolubilized by the solvent of a thermosetting component, and also time-lapse stability as a thermosetting resin composition, Excellent storage stability.

여기서, 본 발명에서의 용해란, 25℃ 분위기에서 용액이 투명하고 고형물이 석출하고 있지 않은 상태를 24시간 이상 유지하고 있으며, 또한 그 동안의 용액의 점도 상승이 1.5배 미만인 것을 나타낸다. The dissolution in the present invention means that the solution is kept in a 25 ° C. atmosphere and the solid is not precipitated for 24 hours or more, and the viscosity rise of the solution during that time is less than 1.5 times.

본 발명에 의해 얻어지는 폴리아미드이미드 수지를 인쇄 배선판, 특히 유연성을 필요로 하는 연성 인쇄 배선판에 사용하는 경우, 폴리아미드이미드 수지는, 대수(對數) 점도가 0.2 dl/g 이상, 유리 전이 온도가 80℃ 이상, 인장 탄성률이 2000 ㎫ 미만인 것이 바람직하다. 대수 점도가 0.2 dl/g 미만인 경우에는, 폴리아미드이미드 수지의 분자량이 낮기 때문에 기계 강도가 저하되는 것이 문제가 되는 경우가 있고, 유리 전이 온도가 80℃ 미만인 경우에는 폴리아미드이미드 수지의 내열성이 부족한 것이 문제가 되는 경우가 있으며, 인장 탄성률이 2000 ㎫ 이상인 경우에는 수지가 딱딱하여 부서지기 쉽기 때문에 접착 강도가 낮아지고, 또한 도포나 건조 공정에서의 도막이나 기재에 컬이 발생하는 것이 문제가 되는 경우가 있다.When the polyamideimide resin obtained by the present invention is used in a printed wiring board, particularly a flexible printed wiring board requiring flexibility, the polyamideimide resin has a logarithmic viscosity of 0.2 dl / g or more and a glass transition temperature of 80. It is preferable that tensile modulus is less than 2000 Mpa by more than degreeC. When the logarithmic viscosity is less than 0.2 dl / g, the molecular strength of the polyamideimide resin is low, so that the mechanical strength may be a problem. When the glass transition temperature is less than 80 ° C, the heat resistance of the polyamideimide resin is insufficient. When the tensile modulus is 2000 MPa or more, the resin may be hard and brittle, so that the adhesive strength is low, and when curling occurs in the coating or the substrate in the coating or drying process. There is.

본 발명에 의해 얻어지는 폴리아미드이미드 수지를 사용한 열경화성 수지 조성물에 이용할 수 있는 열경화성 성분으로서는, 에폭시 수지, 이소시아네이트 화합물, 멜라민 수지, 시아네이트 화합물, 페놀 수지, 말레이미드 화합물 등을 들 수 있고, 이 중에서는, 경화 도막의 물성이나 가공 적성으로부터 에폭시 화합물이 바람직하다. 에폭시 수지로서는, 예컨대 재팬 에폭시 레진(주) 제조의 상품명 jER828, 1001 등의 비스페놀 A형 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 ST-2004, 2007 등의 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YDF-170, 2004 등의 비스페놀 F형 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YDB-400, 600 등의 브롬화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 재팬 에폭시 레진(주) 제조의 상품명 jER152, 154, 닛폰 가야쿠(주) 제조의 상품명 EPPN-201, BREN, 다우 케미컬사 제조의 상품명 DEN-438 등의 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YDCN-702, 703, 닛폰 가야쿠(주) 제조의 상품명 EOCN-125S, 103S, 104S 등의 o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YD-171 등의 가요성 에폭시 수지, DIC(주) 제조의 상품명 HP-7200, HP-7200H 등의 시클로펜타디엔 골격을 갖는 에폭시 수지, 유카 셸 에폭시(주) 제조의 상품명 Epon1031S, 치바 스페셜티 케미컬즈(주) 제조의 상품명 아랄다이트 0163, 나가세 켐텍스(주) 제조의 상품명 데나콜 EX-611, EX-614, EX-622, EX-512, EX-521, EX-421, EX-411, EX-321 등의 다관능 에폭시 수지, 유카 셸 에폭시(주) 제조의 상품명 에피코트 604, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YH-434, 미쯔비시 가스 가가쿠(주) 제조의 상품명 TETRAD-X, TETRAD-C, 닛폰 가야쿠(주) 제조의 상품명 GAN, 스미또모 가가쿠(주) 제조의 상품명 ELM-120 등의 아민형 에폭시 수지, 치바 스페셜티 케미컬즈(주) 제조의 상품명 아랄다이트 PT810 등의 복소환 함유 에폭시 수지, 다이셀 가가쿠 고교(주) 제조의 상품명 셀록사이드 2021, EHPE3150, UCC사 제조의 ERL4234 등의 지환식 에폭시 수지, 다이닛폰 잉크 가가쿠 고교(주) 제조의 상품명 에피클론 EXA-1514 등의 비스페놀 S형 에폭시 수지, 닛산 가가쿠 고교(주) 제조의 TEPIC 등의 트리글리시딜이소시아누레이트, 유카 셸 에폭시(주) 제조의 상품명 YX-4000 등의 비크실레놀형 에폭시 수지, 유카 셸 에폭시(주) 제조의 상품명 YL-6056 등의 비스페놀형 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로 또는 2종류 이상 조합해서 이용해도 된다.As a thermosetting component which can be used for the thermosetting resin composition using the polyamideimide resin obtained by this invention, an epoxy resin, an isocyanate compound, a melamine resin, a cyanate compound, a phenol resin, a maleimide compound, etc. are mentioned, Among these, The epoxy compound is preferable from the physical properties and workability of the cured coating film. Examples of the epoxy resin include hydrogenated bisphenol A type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resins such as JER828 and 1001 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., brand names ST-2004 and 2007 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. Bisphenol F-type epoxy resins, such as the brand name YDF-170, 2004, and brand names of brominated bisphenol A type epoxy resins, such as the brand name YDB-400 and 600 of Toto Kasei Co., Ltd., Japan Epoxy Resin Co., Ltd. product name jER152, 154, Nippon Kayaku Co., Ltd. brand name EPPN-201, BREN, Dow Chemical company brand name DEN-438, such as phenol novolak-type epoxy resin, Toto Kasei Co., Ltd. brand name YDCN-702, 703 Flexible epoxy resins, such as o-cresol novolak-type epoxy resins, such as brand name EOCN-125S, 103S, and 104S by Nippon Kayaku Co., Ltd., and brand name YD-171 by Toto Kasei Co., Ltd., DIC Corporation Cyclopenta such as HP-7200, HP-7200H of the production Epoxy resin having a Yen skeleton, trade name Epon1031S manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., trade name Araldite 0163, manufactured by Chiba Specialty Chemicals, Ltd., trade name Denacol EX-611, manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd. Multifunctional epoxy resin, such as 614, EX-622, EX-512, EX-521, EX-421, EX-411, EX-321, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. brand name Epicoat 604, Toto Kasei Co., Ltd. Brand name YH-434 of manufacture, brand name of TETRAD-X, TETRAD-C of Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., brand name GAN of Nippon Kayaku Co., Ltd. brand name ELM-120 of Sumitomo Kagaku Co., Ltd. production Heterocyclic containing epoxy resins, such as amine type epoxy resin, brand name Araldite PT810 of Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd., brand name Celoxide 2021 of Daicel Kagaku Kogyo Co., Ltd., EHPE3150, ERL4234 of UCC company make Alicyclic epoxy resin, Dainippon ink Kagaku Kogyo Co., Ltd. brand name Epiclone E Bixylenol type epoxy resins, such as bisphenol S-type epoxy resins, such as XA-1514, triglycidyl isocyanurate, such as TEPIC by Nissan Chemical Industries, Ltd., and brand name YX-4000 by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. And bisphenol-type epoxy resins such as trade name YL-6056 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. may be used, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

이들 에폭시 수지 중, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 1분자 중에 에폭시기를 2개보다 많이 갖는 페놀 노볼락형 에폭시 수지, o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 아민형 에폭시 수지는, 비할로겐계이고, 본 발명에 의해 얻어지는 폴리아미드이미드 수지와의 상용성, 내용제성, 내약품성, 내습성의 향상의 점에서 바람직하다.Among these epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins having more than two epoxy groups in one molecule, o-cresol novolac type epoxy resins, and amine type epoxy resins are non- It is halogen type and is preferable at the point of the compatibility with the polyamideimide resin obtained by this invention, solvent resistance, chemical resistance, and moisture resistance improvement.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지와 에폭시 수지와의 용제 용액은, 접착성이 우수하여, 폴리이미드 필름과 동박을 강고하게 접착할 수 있다. 얻어지는 구리 폴리이미드 필름 적층체는, 땜납 내열성이 우수하고, 회로 상에 커버레이로서 사용한 경우에는, 절연 신뢰성(내마이그레이션성)이 우수하다. 이 이유는, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무와 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산을 특정 범위에서 공중합한 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 지방족기의 도입이 용제 용해성을 높임과 아울러, 지방족기의 쇄(鎖) 길이가 짧지도 길지도 않고, 폴리아미드이미드 중에 적절하게 분산되어 있기 때문에, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무에 의한 접착성과 지방족 디카르복실산의 유연성과 극성이 높은 아미드기의 도입에 의해, 상승적(相乘的)으로 접착성이 향상되는 것으로 생각된다. The solvent solution of the polyamideimide resin and the epoxy resin of this invention is excellent in adhesiveness, and can firmly adhere | attach a polyimide film and copper foil. The obtained copper polyimide film laminated body is excellent in solder heat resistance, and when used as a coverlay on a circuit, it is excellent in insulation reliability (migration resistance). This is because in the polyamideimide resin obtained by copolymerizing acrylonitrile-butadiene rubber and aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms in a specific range, introduction of aliphatic groups increases solvent solubility and Since the chain length is neither short nor long, and properly dispersed in the polyamideimide, the adhesion by acrylonitrile-butadiene rubber, the flexibility of aliphatic dicarboxylic acid, and the introduction of a high polar amide group, It is thought that adhesiveness improves synergistically.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 이용한 열경화성 수지 조성물에는, 특성을 손상시키지 않는 범위에서 에폭시 수지의 경화제나 경화 촉진제를 첨가할 수 있다. 경화제로서는 에폭시 수지와 반응하는 화합물이면 특별히 제한은 없으나 예컨대, 아민계 경화제, 페놀성 수산기를 갖는 화합물, 카르복실산을 갖는 화합물, 산무수물을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 경화 촉매로서는 에폭시 수지와 폴리아미드이미드 수지 및 상기 경화제와의 반응을 촉진하는 것이면 특별히 제한은 없으나, 예컨대 시코쿠 가세이 고교(주) 제조, 2MZ, 2E4MZ, C11Z, C17Z, 2PZ, 1B2MZ, 2MZ-CN, 2E4MZ-CN, C11Z-CN, 2PZ-CN, 2PHZ-CN, 2MZ-CNS, 2E4MZ-CNS, 2PZ-CNS, 2MZ-AZINE, 2E4MZ-AZINE, C11Z-AZINE, 2MA-OK, 2P4MHZ, 2PHZ, 2P4BHZ 등의 이미다졸 유도체, 아세토구아나민, 벤조구아나민 등의 구아나민류, 디아미노디페닐메탄, m-페닐렌디아민, m-크실렌디아민, 디아미노디페닐술폰, 디시안디아미드, 요소, 요소 유도체, 멜라민, 다염기 히드라지드 등의 폴리아민류, 이들의 유기산염 및/또는 에폭시 어덕트, 3불화붕소의 아민 착체, 에틸디아미노-S-트리아진, 2,4-디아미노-S-트리아진, 2,4-디아미노-6-크실릴-S-트리아진 등의 트리아진 유도체류, 트리메틸아민, 트리에탄올아민, N,N-디메틸옥틸아민, N-벤질디메틸아민, 피리딘, N-메틸모르폴린, 헥사(N-메틸)멜라민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노페놀), 테트라메틸구아니딘, DBU(1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센), DBN(1,5-디아자비시클로[4,3,0]-5-노넨) 등의 3급 아민류, 이들의 유기산염 및/또는 테트라페닐보로네이트, 폴리비닐페놀, 폴리비닐페놀 브롬화물, 트리부틸포스핀, 트리페닐포스핀, 트리스-2-시아노에틸포스핀 등의 유기 포스핀류, 트리-n-부틸(2,5-디히드록시페닐)포스포늄브로마이드, 헥사데실트리부틸포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄테트라페닐보로네이트 등의 4급 포스포늄염류, 벤질트리메틸암모늄클로라이드, 페닐트리부틸암모늄클로라이드 등의 4급 암모늄염류, 상기 폴리카르복실산 무수물, 디페닐요오도늄테트라플루오로보로네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 2,4,6-트리페닐티오피릴륨헥사플루오로포스페이트, 이르가큐어 261(치바 스페셜티 케미컬즈(주) 제조), 옵토머 SP-170(ADEKA(주) 제조) 등의 광 양이온 중합 촉매, 스티렌-무수 말레산 수지, 페닐이소시아네이트와 디메틸아민의 등몰 반응물이나, 톨릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 유기 폴리이소시아네이트와 디메틸아민의 등몰 반응물 등을 들 수 있다. 이들 경화제 및 경화 촉진제는, 단독으로 이용할 수도 있고, 또는 2종류 이상 조합해서 이용해도 된다.The thermosetting resin composition using the polyamideimide resin of this invention can add the hardening | curing agent and hardening accelerator of an epoxy resin in the range which does not impair a characteristic. Although there will be no restriction | limiting in particular if it is a compound reacting with an epoxy resin, For example, an amine type hardening | curing agent, the compound which has a phenolic hydroxyl group, the compound which has a carboxylic acid, the compound which has an acid anhydride, etc. are mentioned. The curing catalyst is not particularly limited as long as it promotes the reaction between the epoxy resin, the polyamideimide resin and the curing agent. For example, Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., 2MZ, 2E4MZ, C 11 Z, C 17 Z, 2PZ, 1B2MZ, 2MZ-CN, 2E4MZ-CN, C 11 Z-CN, 2PZ-CN, 2PHZ-CN, 2MZ-CNS, 2E4MZ-CNS, 2PZ-CNS, 2MZ-AZINE, 2E4MZ-AZINE, C 11 Z-AZINE, 2MA- Imidazole derivatives such as OK, 2P4MHZ, 2PHZ, 2P4BHZ, guanamines such as acetoguanamine and benzoguanamine, diaminodiphenylmethane, m-phenylenediamine, m-xylenediamine, diaminodiphenylsulfone, dicydi Polyamines such as andamides, urea, urea derivatives, melamine, polybasic hydrazides, organic acid salts and / or epoxy adducts thereof, amine complexes of boron trifluoride, ethyldiamino-S-triazine, 2,4- Triazine derivatives such as diamino-S-triazine, 2,4-diamino-6-xylyl-S-triazine, trimethylamine, triethanolamine, N, N-dimethyl jade Amine, N-benzyldimethylamine, pyridine, N-methylmorpholine, hexa (N-methyl) melamine, 2,4,6-tris (dimethylaminophenol), tetramethylguanidine, DBU (1,8-diazabicyclo Tertiary amines such as [5,4,0] -7-undecene), DBN (1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonene), organic acid salts thereof and / or tetraphenyl Organic phosphines such as boronate, polyvinylphenol, polyvinylphenol bromide, tributylphosphine, triphenylphosphine, tris-2-cyanoethylphosphine, and tri-n-butyl (2,5-di Quaternary phosphonium salts such as hydroxyphenyl) phosphonium bromide, hexadecyltributylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium tetraphenylboronate, quaternary ammonium salts such as benzyltrimethylammonium chloride, phenyltributylammonium chloride, The polycarboxylic anhydride, diphenyl iodonium tetrafluoroboronate, triphenylsulfonium hexafluoro antimony Cationic polymerization, such as ethylene, 2,4,6-triphenylthiopyryllium hexafluorophosphate, Irgacure 261 (manufactured by Chiba Specialty Chemicals), Optomer SP-170 (manufactured by ADEKA) And equimolar reactants of a catalyst, styrene-maleic anhydride resin, phenyl isocyanate and dimethylamine, and an equimolar reactant of organic polyisocyanate such as tolylene diisocyanate and isophorone diisocyanate and dimethylamine. These hardening agents and hardening accelerators may be used independently, or may be used in combination of 2 or more types.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 이용한 열경화성 수지 조성물에는, 특성을 손상시키지 않는 범위에서, 무기 또는 유기 필러를 첨가할 수 있다. 무기 필러로서는, 예컨대 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3), 티타니아(TiO2), 산화탄탈(Ta2O5), 지르코니아(ZrO2), 질화규소(Si3N4), 티탄산바륨(BaO·TiO2), 탄산바륨(BaCO3), 티탄산납(PbO·TiO2), 티탄산지르콘산납(PZT), 티탄산지르콘산란탄납(PLZT), 산화갈륨(Ga2O3), 스피넬(MgO·Al2O3), 멀라이트(3Al2O3·2SiO2), 코디어라이트(2MgO·2Al2O3·5SiO2), 탤크(3MgO·4SiO2·H2O), 티탄산알루미늄(TiO2-Al2O3), 산화이트륨 함유 지르코니아(Y2O3-ZrO2), 규산바륨(BaO·8SiO2), 질화붕소(BN), 탄산칼슘(CaCO3), 황산칼슘(CaSO4), 산화아연(ZnO), 티탄산마그네슘(MgO·TiO2), 황산바륨(BaSO4), 유기 벤토나이트, 카본(C) 등을 사용할 수 있고, 이들은 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합해서 이용해도 된다. 이들 필러를 첨가하는 경우에 있어서는, 분산의 작업 공정이 필요하고, 또한 본 발명의 수지 조성물을 사용하는 용도에 따라서는, 본래 수지 조성물이 갖고 있던 유연성이나 가공성이 손상될 가능성이 있기 때문에, 필러를 첨가하는 경우에는 사용하는 필러의 종류나 첨가하는 양을 조정하는 것이 바람직하다.An inorganic or organic filler can be added to the thermosetting resin composition using the polyamideimide resin of this invention in the range which does not impair a characteristic. Examples of the inorganic fillers include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titania (TiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), zirconia (ZrO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), and barium titanate (BaOTiO 2 ), barium carbonate (BaCO 3 ), lead titanate (PbOTiO 2 ), lead zirconate titanate (PZT), lead lanthanum zirconate titanate (PLZT), gallium oxide (Ga 2 O 3 ), spinel (MgO · Al 2 O 3), mullite (3Al 2 O 3 · 2SiO 2 ), cordierite (2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2), talc (3MgO · 4SiO 2 · H 2 O), aluminum titanate (TiO 2 -Al 2 O 3 ), yttrium-containing zirconia (Y 2 O 3 -ZrO 2 ), barium silicate (BaO · 8SiO 2 ), boron nitride (BN), calcium carbonate (CaCO 3 ), calcium sulfate (CaSO 4 ) Zinc oxide (ZnO), magnesium titanate (MgO-TiO 2 ), barium sulfate (BaSO 4 ), organic bentonite, carbon (C) and the like can be used, and these may be used alone or in combination of two or more thereof. You may also In the case of adding these fillers, since the work process of dispersion | distribution is needed, and the flexibility and workability which the resin composition originally had may be impaired depending on the use using the resin composition of this invention, When adding, it is preferable to adjust the kind of filler to be used and the quantity to add.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 이용한 열경화성 수지 조성물에는, 특성을 손상시키지 않는 범위에서, 난연제를 첨가할 수 있다. 난연제는, 환경면에의 배려로부터 비할로겐계인 것이 바람직하고, 본 발명에서 이용되는 비할로겐계 난연제로서는, 상기한 폴리아미드이미드 수지 조성물 중에 용해되는 것이면 되며, 특별히 제한은 없으나, 내가수 분해성, 내열성이나 도막 표면에의 난연제의 블리드아웃 방지의 점에서, 포스파젠, 포스핀산 유도체가 바람직하다. 이들은 단독으로 또는 2종류 이상 조합해서 이용해도 된다.A flame retardant can be added to the thermosetting resin composition using the polyamideimide resin of this invention in the range which does not impair a characteristic. It is preferable that a flame retardant is non-halogen type from consideration to an environment, and as a non-halogen-type flame retardant used by this invention, what is necessary is just to melt | dissolve in said polyamideimide resin composition, Although there is no restriction | limiting in particular, Hydrolysis resistance and heat resistance In terms of preventing bleeding out of the flame retardant on the surface of the coating film, phosphazenes and phosphinic acid derivatives are preferable. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

포스파젠으로서는, 예컨대 오츠카 가가쿠(주) 제조의 상품명 SPE-100 등의 환상(環狀) 페녹시포스파젠, (주)후시미 세이야쿠쇼 제조의 상품명 FP-300 등의 환상 시아노페녹시포스파젠, 오츠카 가가쿠(주) 제조의 상품명 SPH-100 등의 환상 히드록시페녹시포스파젠, 그 외에, 쇄상(鎖狀) 페녹시포스파젠, 가교 페녹시포스파젠 등을 들 수 있으나, 쇄상 포스파젠은 분자 말단에 치환기를 갖기 때문에, 일반적으로 환상 포스파젠에 비하여 인 함유량이 저하된다. 따라서 본 발명에서는, 환상 포스파젠이 바람직하고, 환상 삼량체 및/또는 사량체 포스파젠이 더 바람직하다. Examples of phosphazenes include cyclic cyanophenoxyphosphates such as cyclic phenoxyphosphazenes such as the brand name SPE-100 manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd. and FP-300 manufactured by Fushimi Seiyakusho Co., Ltd. Cyclic hydroxyphenoxy phosphazenes, such as Zen and the Otsuka Chemical Co., Ltd. brand name SPH-100, A chain phenoxy phosphazene, a crosslinked phenoxy phosphazene, etc. are mentioned, but a chain force Since pazene has a substituent at the terminal of the molecule, phosphorus content generally decreases as compared with cyclic phosphazene. Therefore, in this invention, cyclic phosphazene is preferable and cyclic trimer and / or tetramer phosphazene is more preferable.

또한, 비반응성 포스파젠은 경시적으로, 표면에 블리드를 발생시키거나, 과혹한 사용 조건 하에서 가수 분해 등의 영향을 받아 유리(遊離)의 인을 용출하거나, 분해물에 의해 절연 특성이 저하되는 경우가 있기 때문에, 가장 바람직하게는, 에폭시 수지와 반응하는 관능기를 갖는 반응성 포스파젠을 선택한다. 구체적으로는 히드록실기를 갖는 환상 히드록시페녹시포스파젠 등을 들 수 있다.In the case of non-reactive phosphazene, bleeding occurs on the surface over time, or the phosphorus of glass is eluted due to hydrolysis under excessive use conditions, or the insulating property is degraded by the decomposition product. Most preferably, reactive phosphazene having a functional group reacting with the epoxy resin is selected. Specifically, cyclic hydroxyphenoxy phosphazene etc. which have a hydroxyl group are mentioned.

포스핀산 유도체로서는, 예컨대 산코(주)의 HCA(9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드), HCA-HQ(10-(2,5-디히드록시페닐)-10-히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드), 10-(2,5-디히드록시나프틸)-10-히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, BCA(10-벤질-10-히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드), 페닐포스핀산, 디페닐포스핀산 등을 들 수 있다.Examples of phosphinic acid derivatives include, for example, HCA (9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide) and HCA-HQ (10- (2,5-dihydroxy) manufactured by Sanco Co., Ltd. Phenyl) -10-hydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide), 10- (2,5-dihydroxynaphthyl) -10-hydro-9-oxa-10-phosphaphenan Tren-10-oxide, BCA (10-benzyl-10-hydro-9-oxa-10-phosphazanthrene-10-oxide), phenylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, and the like.

상기한 비할로겐계 난연제 외에, 저 휘어짐성, 내열성, 블리드를 손상시키지 않는 범위에서 필요에 따라, 다른 비할로겐계 난연제를 병용해도 된다. 예컨대, HCA 골격을 공중합한 인 함유 에폭시 수지, 인 함유 폴리에스테르 수지, 레조르실디페닐포스페이트와 같은 축합 인산에스테르 등을 들 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니며, 2종류 이상 조합해서 이용해도 된다.In addition to the non-halogen-based flame retardants described above, other non-halogen-based flame retardants may be used in combination if necessary within a range that does not impair low warpage, heat resistance, and bleed. Examples thereof include phosphorus-containing epoxy resins copolymerized with HCA skeleton, phosphorus-containing polyester resins, and condensed phosphate esters such as resorcil diphenyl phosphate. However, the present invention is not limited thereto, and may be used in combination of two or more thereof.

3. 난연성 접착제 조성물3. Flame Retardant Adhesive Composition

본 발명의 난연성 접착제 조성물은 (A) 폴리아미드이미드 수지, (B) 인 함유 에폭시 수지, (C) 인 화합물을 함유하고, (A)∼(C) 성분의 합계 질량에 대한 인 함유율이 2.0 질량%∼5.0 질량%인 것을 특징으로 한다.The flame-retardant adhesive composition of this invention contains (A) polyamideimide resin, (B) phosphorus containing epoxy resin, and (C) phosphorus compound, and phosphorus content rate with respect to the total mass of (A)-(C) component is 2.0 mass It is characterized by the above-mentioned.

(A) 폴리아미드이미드 수지(A) polyamideimide resin

본 발명에서 이용되는 (A) 폴리아미드이미드 수지는 전술한 폴리아미드이미드 수지로서, 하기 (a)∼(c)의 산 성분과 방향환을 갖는 디이소시아네이트 또는 디아민을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드이미드 수지이며, 상기 폴리아미드이미드 수지의 전체 산 성분을 100 몰%로 한 경우에 각 산 성분의 비율이 (a) 3 몰%∼10 몰%, (b) 10 몰%∼80 몰%, (c) 10 몰%∼87 몰%이다:The polyamideimide resin (A) used in the present invention is the aforementioned polyamideimide resin, which is a polyamideimide resin obtained by reacting an acid component of the following (a) to (c) with a diisocyanate or diamine having an aromatic ring. When the total acid component of the polyamideimide resin is 100 mol%, the proportion of each acid component is (a) 3 mol% to 10 mol%, (b) 10 mol% to 80 mol%, (c) 10 Mole% to 87 mole%:

(a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무,(a) acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends,

(b) 탄소수가 4 내지 12인 지방족 디카르복실산,(b) aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms,

(c) 방향환을 갖는 폴리카르복실산의 산무수물(c) Acid anhydrides of polycarboxylic acids having an aromatic ring

(A) 폴리아미드이미드 수지는 열경화성 성분을 첨가해서 용제 용액으로 하여 접착제(열경화성 수지 조성물)로서 사용할 수 있다. 상기 열경화성 수지 조성물을 접착제로서 사용하는 경우, 건조 온도를 낮게 하여, 건조 시에 경화 반응이 너무 진행되지 않도록 하기 위해서, 수지 용액 중에 건조성이 좋은 저비점 용제를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 접착제(열경화성 수지 조성물)에 적합한 저비점 용제로서는, 에탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있고, 건조성에서 우위성을 발견하기 위해서는, 이들로 이루어지는 군에서 선택되는 1종류 이상의 용제를 60 질량% 이상 함유하는 혼합 용제에 폴리아미드이미드 수지가 10 질량% 이상 용해되는 것이 바람직하다.The polyamide-imide resin (A) can be used as an adhesive (thermosetting resin composition) by adding a thermosetting component to form a solvent solution. When using the said thermosetting resin composition as an adhesive agent, in order to make a drying temperature low and to prevent a hardening reaction from advancing too much at the time of drying, it is preferable that the resin solution contains the low boiling point solvent with good dryability. As a low boiling point solvent suitable for an adhesive agent (thermosetting resin composition), ethanol, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, etc. are mentioned, In order to discover the superiority in drying property, 60 mass of one or more types of solvents chosen from these group are selected. It is preferable that 10 mass% or more of polyamide-imide resins melt | dissolve in the mixed solvent containing% or more.

이 용해성을 가짐으로써, 건조성이 우수할 뿐만 아니라, 하기의 (B) 인 함유 에폭시 수지, (C) 인 화합물, (D) 에폭시 수지 경화제, (E) 인을 포함하지 않는 에폭시 수지, (F) 실란 커플링제 등을 첨가하여 접착제(열경화성 수지 조성물)로 한 경우, 열경화성 수지 조성물로서의 경시 안정성, 저장 안정성이 우수하다. By having this solubility, it is excellent not only in drying property but also the following (B) phosphorus containing epoxy resin, (C) phosphorus compound, (D) epoxy resin hardening | curing agent, and (E) epoxy resin which does not contain phosphorus, (F ) When a silane coupling agent or the like is added to form an adhesive (thermosetting resin composition), the stability over time and the storage stability as the thermosetting resin composition are excellent.

여기서, 본 발명에서의 용해란, 25℃ 분위기에서 용액이 투명하고 고형물이 석출하고 있지 않은 상태를 24시간 이상 유지하고 있으며, 또한 그 동안의 용액의 점도 상승이 1.5배 미만인 것을 나타낸다.The dissolution in the present invention means that the solution is kept in a 25 ° C. atmosphere and the solid is not precipitated for 24 hours or more, and the viscosity rise of the solution during that time is less than 1.5 times.

본 발명에서의 폴리아미드이미드 수지는, 대수 점도가 0.2 dl/g 이상, 유리 전이 온도가 80℃∼200℃, 인장 탄성률이 2000 ㎫ 미만인 것이 바람직하다. 대수 점도가 0.2 dl/g 미만인 경우에는, 폴리아미드이미드 수지의 분자량이 낮기 때문에 기계 강도가 저하되는 것이 문제가 되는 경우가 있고, 유리 전이 온도가 80℃ 미만인 경우에는 폴리아미드이미드 수지의 내열성이 부족한 것이 문제가 되는 경우가 있으며, 인장 탄성률이 2000 ㎫ 이상인 경우에는 수지가 딱딱하여 부서지기 쉽기 때문에 접착 강도가 낮아지고, 또한 도포나 건조 공정에서의 컬이 발생하는 것이 문제가 되는 경우가 있다. 또한, 유리 전이 온도가 200℃보다 커지면, 연성 인쇄 배선판으로서, 피착체를 접합시킬 때, 충분히 접합시키기 위한 열라미네이트(열압착) 온도가 높아져, 생산성, 작업성이 저하되고, 또한 용제 용해성이 뒤떨어진다.As for the polyamide-imide resin in this invention, it is preferable that logarithmic viscosity is 0.2 dl / g or more, glass transition temperature is 80 degreeC-200 degreeC, and tensile modulus is less than 2000 Mpa. When the logarithmic viscosity is less than 0.2 dl / g, the molecular strength of the polyamideimide resin is low, so that the mechanical strength may be a problem. When the glass transition temperature is less than 80 ° C, the heat resistance of the polyamideimide resin is insufficient. When the tensile modulus is 2000 MPa or more, the resin may be hard and brittle, so that the adhesive strength is lowered, and curling in the coating or drying process may be a problem. Moreover, when glass transition temperature becomes larger than 200 degreeC, when joining a to-be-adhered body as a flexible printed wiring board, the heat lamination (thermocompression bonding) temperature for fully bonding will become high, productivity, workability will fall, and solvent solubility will be inferior. Falls.

본 발명에서의 (A) 폴리아미드이미드 수지는, 하기의 (B)∼(F) 성분과 함께 용제에 용해되고, 난연성 접착제 조성물로서, 접착성이 우수하여, 폴리이미드 필름과 동박을 강고하게 접착할 수 있다. 얻어지는 구리 폴리이미드 필름 적층체는, 땜납 내열성이 우수하고, 회로 상에 커버레이로서 사용한 경우에는, 절연 신뢰성(내마이그레이션성)이 우수하다. 이 이유는, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무와 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산을 특정 범위에서 공중합한 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 지방족기의 도입이 용제 용해성을 높임과 아울러, 지방족기의 쇄 길이가 짧지도 길지도 않고, 폴리아미드이미드 중에 적절하게 분산되어 있기 때문에, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무에 의한 접착성과 지방족 디카르복실산의 유연성과 극성이 높은 아미드기의 도입에 의해, 상승적으로 접착성이 향상되는 것으로 생각된다.(A) polyamideimide resin in this invention is melt | dissolved in a solvent with the following (B)-(F) component, is excellent in adhesiveness as a flame-retardant adhesive composition, and adheres a polyimide film and copper foil firmly. can do. The obtained copper polyimide film laminated body is excellent in solder heat resistance, and when used as a coverlay on a circuit, it is excellent in insulation reliability (migration resistance). This is because in the polyamideimide resin obtained by copolymerizing acrylonitrile-butadiene rubber and aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms in a specific range, introduction of aliphatic groups increases solvent solubility and Since the chain length is neither short nor long and properly dispersed in the polyamideimide, the adhesiveness is synergistically due to the adhesion of acrylonitrile-butadiene rubber, the flexibility of aliphatic dicarboxylic acid, and the introduction of a highly polarized amide group. It is thought that sex is improved.

(B) 인 함유 에폭시 수지(B) Phosphorus-containing epoxy resin

본 발명에서 이용되는 (B) 인 함유 에폭시 수지는 반응성 인 화합물을 이용하여 인 원자를 화학 결합으로 받아들인 에폭시 수지이고, 1분자 중에 에폭시기를 2개 이상 갖는 것이면 되며, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형, 또는 이들에 수소 첨가한 것, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등의 글리시딜에테르계 에폭시 수지, 헥사히드로프탈산글리시딜에스테르, 다이머산글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르계 에폭시 수지, 트리글리시딜이소시아누레이트, 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄 등의 글리시딜아민계 에폭시 수지, 에폭시화 폴리부타디엔, 에폭시화 대두유 등의 선형 지방족 에폭시 수지 등을 들 수 있다.The phosphorus-containing epoxy resin (B) used in the present invention is an epoxy resin having a phosphorus atom as a chemical bond by using a reactive phosphorus compound, and may be one having two or more epoxy groups in one molecule, and a bisphenol-A epoxy resin and a bisphenol Hydrogenated F type epoxy resin, bisphenol S type, or these, Glycidyl ether type epoxy resins, such as a phenol novolak-type epoxy resin and a cresol novolak-type epoxy resin, hexahydrophthalic acid glycidyl ester, and dimer acid Glycidyl ester epoxy resins such as glycidyl esters, glycidylamine epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate, tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, epoxidized polybutadiene, epoxidized soybean oil, etc. Linear aliphatic epoxy resins and the like.

또한, 인 함유 에폭시 수지에 이용되는 반응형 인 화합물로서는, 예컨대 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(산코(주) 제조, 상품명: HCA), 10-(2,5-디히드록시페닐)-10-히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(산코(주) 제조, 상품명: HCA-HQ) 등을 들 수 있고, 상술한 에폭시 수지와 반응시킴으로써 인 함유 에폭시 수지가 얻어진다. 이들의 시판품으로서는, 예컨대 에피클론 EXA9710(DIC(주) 제조, 인 함유율: 3 질량%), EXA9748(DIC(주) 제조, 인 함유율: 4.5 질량%), FX305(도토 가세이(주) 제조, 인 함유율: 3 질량%) 등을 들 수 있다.Moreover, as a reactive phosphorus compound used for a phosphorus containing epoxy resin, 9,10- dihydro-9-oxa-10- phosphofanthrene-10-oxide (manufactured by Sanko Co., Ltd., brand name: HCA), 10 -(2,5-dihydroxyphenyl) -10-hydro-9-oxa-10-phosphazphenanthrene-10-oxide (manufactured by Sanko Co., Ltd., trade name: HCA-HQ), and the like, and the like are mentioned above. A phosphorus containing epoxy resin is obtained by reacting with one epoxy resin. As these commercial items, Epiclon EXA9710 (made by DIC Corporation, phosphorus content rate: 3 mass%), EXA9748 (made by DIC Corporation, phosphorus content rate: 4.5 mass%), FX305 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., phosphorus Content rate: 3 mass%) etc. are mentioned.

본 발명에서 이용되는 인 함유 에폭시 수지의 배합량은, (A) 폴리아미드이미드 수지 100 질량부에 대하여 1 질량부∼200 질량부이고, 바람직하게는 3 질량부∼160 질량부이며, 보다 바람직하게는 5 질량부∼120 질량부이고, 더 바람직하게는 10 질량부∼80 질량부이다. 인 함유 에폭시 수지가 1 질량부보다 적으면, 난연성이 뒤떨어지고, 200 질량부보다 많아지면, 내열성, 접착성이 뒤떨어지며, 또한 기계적 강도가 저하되어 시트 형상으로 했을 때에 깨짐이 발생하기 쉬워진다.The compounding quantity of the phosphorus containing epoxy resin used by this invention is 1 mass part-200 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) polyamideimide resin, Preferably it is 3 mass parts-160 mass parts, More preferably, It is 5 mass parts-120 mass parts, More preferably, they are 10 mass parts-80 mass parts. When the phosphorus-containing epoxy resin is less than 1 part by mass, the flame retardancy is inferior, and when the phosphorus-containing epoxy resin is more than 200 parts by mass, the heat resistance and the adhesiveness are inferior, and the mechanical strength is lowered, whereby cracking tends to occur when the sheet shape is formed.

(C) 인 화합물(C) phosphorus compounds

본 발명에서 이용되는 (C) 인 화합물은 특별히 한정되지 않으나, 내가수 분해성, 내열성, 블리드아웃과 같은 점에서, 포스파젠, 포스핀산 유도체가 바람직하다. 이들은 단독으로 또는 2종류 이상 조합해서 이용해도 된다.Although the phosphorus compound (C) used by this invention is not specifically limited, A phosphazene and a phosphinic acid derivative are preferable at the point of hydrolysis resistance, heat resistance, and bleed-out. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

포스파젠 화합물은 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시된다(식 중 X는 동일하거나 또는 다르며, 수소, 수산기, 아미노기, 알킬기, 아릴기, 유기기를 나타내고, 유기기로서는, 예컨대 알코올기, 페녹시기, 알릴기, 시아노페녹시기, 히드록시페녹시기 등을 들 수 있으며, n은 3∼25의 정수임).The phosphazene compound is represented by the following general formula (1) or (2) (wherein X is the same or different and represents hydrogen, a hydroxyl group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an organic group, and as the organic group, for example, an alcohol group, a phenoxy group, an allyl) Group, cyanophenoxy group, hydroxyphenoxy group, etc., n is an integer of 3-25.

Figure pct00001
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Figure pct00002
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이들 포스파젠의 시판품으로서는, 예컨대 환상 페녹시포스파젠(오츠카 가가쿠(주) 제조, 상품명: SPB-100, SPE-100), 환상 시아노페녹시포스파젠((주)후시미 세이야쿠쇼 제조, 상품명: FP-300), 환상 히드록시페녹시포스파젠(오츠카 가가쿠(주) 제조, 상품명: SPH-100) 등을 들 수 있다. Examples of commercially available products of these phosphazenes include cyclic phenoxyphosphazene (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., trade name: SPB-100, SPE-100), cyclic cyanophenoxyphosphazene (manufactured by Fushimi Seiyakusho Co., Ltd.). Trade name: FP-300), cyclic hydroxyphenoxy phosphazene (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., brand name: SPH-100), and the like.

또한, 첨가형 포스파젠은 경시적으로 블리드아웃을 발생시키고, 과혹한 사용 조건 하에서 가수 분해 등의 영향을 받아 유리의 인을 용출하며, 전기 절연성이 저하되는 경우가 있다. 따라서, 바람직하게는 에폭시 수지와 반응하는 관능기를 갖는 반응형 포스파젠을 선택한다. 구체적으로는 페놀성 수산기를 갖는 환상 히드록시페녹시포스파젠 등을 들 수 있다.In addition, the addition type phosphazene may cause bleeding out over time, elute the phosphorus of glass under the influence of hydrolysis, etc. under excessive use conditions, and the electrical insulation may fall. Therefore, preferably, reactive phosphazene having a functional group reacting with the epoxy resin is selected. Specifically, cyclic hydroxyphenoxy phosphazene etc. which have phenolic hydroxyl group are mentioned.

포스핀산 유도체로서는, 페난트렌형의 포스핀산 유도체가 바람직하고, 예컨대 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(산코(주) 제조, 상품명: HCA), 10-벤질-10-히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(산코(주) 제조, 상품명: BCA) 등을 들 수 있다.As the phosphinic acid derivative, a phenanthrene type phosphinic acid derivative is preferable, for example, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide (manufactured by Sanco Co., Ltd., brand name: HCA), 10-benzyl-10-hydro-9-oxa-10-phosphazphenanthrene-10-oxide (manufactured by Sanco Co., Ltd., brand name: BCA), and the like.

상술한 포스핀산 유도체 중, HCA는 에폭시 수지와의 반응성을 갖지만, 블리드아웃을 발생시키고, 내고온 고습성이 뒤떨어지는 경우가 있기 때문에, 성능을 고려하여 적절하게 그 배합량을 선택한다.Of the phosphinic acid derivatives described above, HCA has reactivity with an epoxy resin, but may cause bleed-out and inferior high temperature and high humidity resistance, so that the compounding amount is appropriately selected in consideration of performance.

상기한 인 화합물 외에, 난연성, 땜납 내열성, 블리드아웃을 손상시키지 않는 범위에서 필요에 따라, 다른 인 화합물을 단독 또는 2종 이상 조합해서 이용해도 된다.In addition to the above-described phosphorus compounds, other phosphorus compounds may be used alone or in combination of two or more as necessary in a range that does not impair flame retardancy, solder heat resistance and bleed-out.

본 발명의 난연성 접착제 조성물 중의 인 함유율은 2.0 질량%∼5.0 질량%이고, 바람직하게는 2.2 질량%∼4.5 질량%이며, 더 바람직하게는 2.5 질량%∼4.0 질량%이다. 인 함유율이 2.0 질량%보다 적으면, 양호한 난연성이 얻어지지 않고, 5.0 질량%를 초과하면 내열성, 접착성, 전기 절연성이 저하되는 경향이 있다.The phosphorus content rate in the flame-retardant adhesive composition of this invention is 2.0 mass%-5.0 mass%, Preferably it is 2.2 mass%-4.5 mass%, More preferably, it is 2.5 mass%-4.0 mass%. When phosphorus content rate is less than 2.0 mass%, favorable flame retardance is not obtained and when it exceeds 5.0 mass%, heat resistance, adhesiveness, and electrical insulation tend to fall.

(D) 에폭시 수지 경화제(D) epoxy resin curing agent

본 발명에서 이용되는 (D) 에폭시 수지 경화제는 에폭시 수지의 경화제로서 통상 사용되는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 이 (D) 에폭시 수지 경화제로서는, 예컨대 폴리아민계 경화제, 산무수물계 경화제, 3불화붕소아민 착염, 페놀 수지 등을 들 수 있다. 폴리아민계 경화제로서는, 예컨대 디에틸렌트리아민, 테트라에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 이소포론디아민, 디아미노디페닐메탄, m-페닐렌디아민, m-크실렌디아민, 디아미노디페닐술폰, 디시안디아미드, 요소, 요소 유도체, 멜라민, 다염기 히드라지드 등의 폴리아민류, 이들의 유기산염 및/또는 에폭시 어덕트 등을 들 수 있다. 산무수물계 경화제로서는, 예컨대 무수 프탈산, 부탄-1,2,3,4-테트라카르복실산 이무수물, 펜탄-1,2,4,5-테트라카르복실산 이무수물, 시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 헥사히드로피로멜리트산 이무수물, 시클로헥사-1-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 3-에틸시클로헥사-1-엔-3-(1,2),5,6-테트라카르복실산 이무수물, 1-메틸-3-에틸시클로헥산-3-(1,2),5,6-테트라카르복실산 이무수물, 1-메틸-3-에틸시클로헥사-1-엔-3-(1,2),5,6-테트라카르복실산 이무수물, 1-에틸시클로헥산-1-(1,2),3,4-테트라카르복실산 이무수물, 1-프로필시클로헥산-1-(2,3),3,4-테트라카르복실산 이무수물, 1,3-디프로필시클로헥산-1-(2,3),3-(2,3)-테트라카르복실산 이무수물, 디시클로헥실-3,4,3',4'-테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 1-프로필시클로헥산-1-(2,3),3,4-테트라카르복실산 이무수물, 1,3-디프로필시클로헥산-1-(2,3),3-(2,3)-테트라카르복실산 이무수물, 디시클로헥실-3,4,3',4'-테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥탄-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥토-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 헥사히드로트리멜리트산 무수물 등을 들 수 있다. 상기 경화제는, 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The epoxy resin curing agent (D) used in the present invention is not particularly limited as long as it is usually used as a curing agent for epoxy resins. As this (D) epoxy resin hardening | curing agent, a polyamine type hardening | curing agent, an acid anhydride type hardening | curing agent, a boron trifluoride amine complex salt, a phenol resin etc. are mentioned, for example. Examples of the polyamine curing agent include diethylenetriamine, tetraethylenetetramine, tetraethylenepentamine, isophoronediamine, diaminodiphenylmethane, m-phenylenediamine, m-xylenediamine, diaminodiphenylsulfone and dicyandie. Polyamines such as amides, urea, urea derivatives, melamine, polybasic hydrazide, organic acid salts and / or epoxy adducts thereof, and the like. Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pentane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, and cyclobutanetetracarboxylic acid. Dianhydride, hexahydropyromellitic dianhydride, cyclohexa-1-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3-ethylcyclohexa-1-ene-3- (1,2) , 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-methyl-3-ethylcyclohexane-3- (1,2), 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-methyl-3-ethylcyclohexa -1-ene-3- (1,2), 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-ethylcyclohexane-1- (1,2), 3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1 -Propylcyclohexane-1- (2,3), 3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dipropylcyclohexane-1- (2,3), 3- (2,3) -tetra Carboxylic acid dianhydride, dicyclohexyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride , 1-propylcyclo Acid-1- (2,3), 3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dipropylcyclohexane-1- (2,3), 3- (2,3) -tetracarboxylic acid Dianhydrides, dicyclohexyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] octo-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, Hexahydro trimellitic anhydride etc. are mentioned. The said hardening | curing agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

(D) 에폭시 수지 경화제의 배합량은 난연성 접착제 조성물의 비휘발분 전체를 100 질량%로 한 경우, 0 질량%∼5 질량%이고, 바람직하게는 0 질량%∼3 질량%이다. 배합량이 5 질량%를 초과하면 내열성이 저하되는 경향이 있다.(D) The compounding quantity of an epoxy resin hardening | curing agent is 0 mass%-5 mass%, when the whole non volatile matter of a flame-retardant adhesive composition is 100 mass%, Preferably it is 0 mass%-3 mass%. When the compounding quantity exceeds 5 mass%, there exists a tendency for heat resistance to fall.

(E) 인을 포함하지 않는 에폭시 수지(E) Epoxy resin which does not contain phosphorus

본 발명에서 이용되는 (E) 인을 포함하지 않는 에폭시 수지는 그 분자 내에 인 원자를 포함하지 않는 에폭시 수지이면 특별히 한정되지 않는다. 이 에폭시 수지는, 실리콘, 우레탄, 폴리이미드, 폴리아미드 등으로 변성되어 있어도 되고, 또한 분자 골격 내에 유황 원자, 질소 원자 등을 포함하고 있어도 된다.The epoxy resin which does not contain the phosphorus (E) used by this invention will not be specifically limited if it is an epoxy resin which does not contain the phosphorus atom in the molecule | numerator. The epoxy resin may be modified with silicone, urethane, polyimide, polyamide, or the like, and may contain sulfur atoms, nitrogen atoms, and the like in the molecular skeleton.

이러한 에폭시 수지로서는, 예컨대 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형, 또는 이들에 수소 첨가한 것, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등의 글리시딜에테르계 에폭시 수지, 헥사히드로프탈산글리시딜에스테르, 다이머산글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르계 에폭시 수지, 트리글리시딜이소시아누레이트, 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄 등의 글리시딜아민계 에폭시 수지, 에폭시화 폴리부타디엔, 에폭시화 대두유 등의 선형 지방족 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이들의 시판품으로서는, 예컨대 재팬 에폭시 레진(주) 제조의 상품명 jER828, 1001 등의 비스페놀 A형 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 ST-2004, 2007 등의 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YDF-170, 2004 등의 비스페놀 F형 에폭시 수지, 재팬 에폭시 레진(주) 제조의 상품명 jER152, 다우 케미컬사 제조의 상품명 DEN-438 등의 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YDCN-702, 703, 닛폰 가야쿠(주) 제조의 상품명 EOCN-125S, 103S, 104S 등의 o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지, DIC(주) 제조의 상품명 HP-7200, HP-7200H 등의 시클로펜타디엔 골격을 갖는 에폭시 수지, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YD-171 등의 가요성 에폭시 수지, 유카 셸 에폭시(주) 제조의 상품명 Epon1031S, 치바 스페셜티 케미컬즈(주) 제조의 상품명 아랄다이트 0163, 나가세 켐텍스(주) 제조의 상품명 데나콜 EX-611, EX-614, EX-622, EX-512, EX-521, EX-421, EX-411, EX-321 등의 다관능 에폭시 수지, 유카 셸 에폭시(주) 제조의 상품명 에피코트 604, 도토 가세이(주) 제조의 상품명 YH-434, 미쯔비시 가스 가가쿠(주) 제조의 상품명 TETRAD-X, TETRAD-C, 닛폰 가야쿠(주) 제조의 상품명 GAN, 스미또모 가가쿠(주) 제조의 상품명 ELM-120 등의 아민형 에폭시 수지, 치바 스페셜티 케미컬즈(주) 제조의 상품명 아랄다이트 PT810 등의 복소환 함유 에폭시 수지, 다이셀 가가쿠 고교(주) 제조의 상품명 셀록사이드 2021, EHPE3150, UCC사 제조의 ERL4234 등의 지환식 에폭시 수지, DIC(주) 제조의 상품명 에피클론 EXA-1514 등의 비스페놀 S형 에폭시 수지, 닛산 가가쿠 고교(주) 제조의 TEPIC 등의 트리글리시딜이소시아누레이트, 유카 셸 에폭시(주) 제조의 상품명 YX-4000 등의 비크실레놀형 에폭시 수지, 유카 셸 에폭시(주) 제조의 상품명 YL-6056 등의 비스페놀형 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들을 1종 단독으로, 또는 2종류 이상 병용하여 이용해도 된다.Examples of such epoxy resins include glycidyl ethers such as bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type, or hydrogenated compounds thereof, phenol novolak type epoxy resins, and cresol novolak type epoxy resins. Glycidyl amines such as glycidyl ester-based epoxy resins such as epoxy resins, hexahydrophthalic acid glycidyl esters, and dimer acid glycidyl esters, triglycidyl isocyanurate, and tetraglycidyl diaminodiphenylmethane Linear aliphatic epoxy resins, such as an epoxy resin, epoxidized polybutadiene, and epoxidized soybean oil, etc. are mentioned. Examples of such commercially available products include hydrogenated bisphenol A type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resins such as JER828 and 1001 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., and brand names ST-2004 and 2007 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. Phenolic novolac-type epoxy resins, such as bisphenol F-type epoxy resins, such as brand name YDF-170 of 2004, the brand name JER152 of Japan epoxy resin, Ltd. make, brand name DEN-438 by Dow Chemical Co., Ltd. Brand name YDCN-702, 703 of Kasei Co., Ltd. brand name EOCN-125S, 103S, 104S of Nippon Kayaku Co., Ltd. o-cresol novolak-type epoxy resins, such as 104S, brand name HP-7200 of DIC Co., Ltd. product , Epoxy resin having a cyclopentadiene skeleton such as HP-7200H, flexible epoxy resin such as YD-171 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name Epon1031S manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd. Product name Y multifunctional epoxy such as 0163, Nagase Chemtex Co., Ltd. product name Denacol EX-611, EX-614, EX-622, EX-512, EX-521, EX-421, EX-411, EX-321 Resin, brand name Epicoat 604 of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., brand name YH-434 of Toto Kasei Co., Ltd., brand name TETRAD-X, TETRAD-C of Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., Nippon Kayaku Co., Ltd. Heterocyclic containing epoxy resins, such as amine-type epoxy resins, such as ELM-120, the brand name of Sumitomo Chemical Co., Ltd., brand name Araldite PT810 of Chiba Specialty Chemicals, Inc. Bisphenol S type epoxy resins, such as cycloaliphatic epoxy resins, such as Celoxide 2021, EHPE3150, and UCC Co., Ltd. make, and the brand name Epiclolon EXA-1514 by DIC Corporation, Nissan Chemical Co., Ltd. Triglycidyl isocyanurate, such as TEPIC of Kogyo Co., Ltd., brand name YX-40 of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. product Bixphenol-type epoxy resins, such as 00, a bisphenol-type epoxy resin, such as a brand name YL-6056 by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., etc. are mentioned, You may use these individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(E) 인을 포함하지 않는 에폭시 수지의 배합량은 난연성 접착제 조성물의 비휘발분 전체를 100 질량%로 한 경우, 0 질량%∼20 질량%이고, 바람직하게는 0 질량%∼15 질량%이다. 배합량이 20 질량%를 초과하면 충분한 난연성이 얻어지지 않는 경향이 있다.(E) The compounding quantity of the epoxy resin which does not contain phosphorus is 0 mass%-20 mass%, when the whole non volatile matter of a flame-retardant adhesive composition is 100 mass%, Preferably it is 0 mass%-15 mass%. When the compounding quantity exceeds 20 mass%, there exists a tendency for sufficient flame retardance to not be obtained.

(F) 실란 커플링제(F) silane coupling agent

본 발명에서 이용되는 (F) 실란 커플링제는 접착 부여제로서 종래 공지의 실란 커플링제이면 특별히 한정되지 않고, 그 구체예로서는, 아미노실란, 메르캅토실란, 비닐실란, 에폭시실란, 메타크릴실란, 이소시아네이트실란, 케티민실란 또는 이들의 혼합물 또는 반응물, 또는 이들과 폴리이소시아네이트와의 반응에 의해 얻어지는 화합물 등을 들 수 있다.The (F) silane coupling agent used in the present invention is not particularly limited as long as it is a conventionally known silane coupling agent as an adhesion imparting agent, and specific examples thereof include aminosilane, mercaptosilane, vinylsilane, epoxysilane, methacrylsilane and isocyanate. Silane, ketimine silane or a mixture or reactant thereof, or a compound obtained by the reaction of these with a polyisocyanate.

이러한 실란 커플링제로서는, 예컨대 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필에틸디에톡시실란, 비스트리메톡시실릴프로필아민, 비스트리에톡시실릴프로필아민, 비스메톡시디메톡시실릴프로필아민, 비스에톡시디에톡시실릴프로필아민, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필에틸디에톡시실란 등의 아미노실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리에톡시실란, γ-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, γ-메르캅토프로필메틸디에톡시실란, γ-메르캅토프로필에틸디에톡시실란 등의 메르캅토실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 트리스-(2-메톡시에톡시)비닐실란 등의 비닐실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필디메틸에톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸메틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 메타크릴실란, 이소시아네이트프로필트리에톡시실란, 이소시아네이트프로필트리메톡시실란 등의 이소시아네이트실란, 케티민화 프로필트리메톡시실란, 케티민화 프로필트리에톡시실란 등의 케티민실란을 들 수 있고, 이들을 1종 단독으로, 또는 2종류 이상 병용하여 이용해도 된다.Examples of such silane coupling agents include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylethyldiethoxysilane and bistrimethoxysilylpropylamine. , Bistriethoxysilylpropylamine, bismethoxydimethoxysilylpropylamine, bisethoxydiethoxysilylpropylamine, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylethyldiethoxysilane, etc. Aminosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylethyldie Mercaptosilanes such as oxysilane, vinyltrimethoxysilicone Vinylsilanes such as vinyltriethoxysilane and tris- (2-methoxyethoxy) vinylsilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyldimethylethoxysilane and γ-glyci Doxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy Epoxy silanes such as silane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, etc. Isocyanate silanes such as methacryl silane, isocyanate propyl triethoxy silane and isocyanate propyl trimethoxy silane, ketimin silane such as ketiminated propyl trimethoxy silane and ketiminated propyl triethoxy silane, and the like. Species alone, again Two or more kinds may be used in combination.

이들 실란 커플링제 중 에폭시실란은 반응성의 에폭시기를 갖기 때문에, (A) 폴리아미드이미드 수지, (B) 인 함유 에폭시 수지, (D) 에폭시 수지 경화제, (E) 인을 포함하지 않는 에폭시 수지 등과 반응할 수 있으므로, 내열성, 내습열성 향상의 점에서 바람직하다.Among these silane coupling agents, epoxy silanes have reactive epoxy groups, and thus react with (A) polyamideimide resins, (B) phosphorus-containing epoxy resins, (D) epoxy resin curing agents, and (E) epoxy resins that do not contain phosphorus. Since it is possible to do this, it is preferable at the point of heat resistance and moisture-heat resistance improvement.

(F) 실란 커플링제의 배합량은 난연성 수지 조성물의 비휘발분 전체를 100 질량%로 한 경우, 0 질량%∼3 질량%이고, 바람직하게는 0 질량%∼2 질량%이다. 배합량이 3 질량%를 초과하면 내열성이 저하되는 경향이 있다.(F) The compounding quantity of a silane coupling agent is 0 mass%-3 mass%, when the whole non volatile matter of a flame-retardant resin composition is 100 mass%, Preferably it is 0 mass%-2 mass%. When the compounding quantity exceeds 3 mass%, there exists a tendency for heat resistance to fall.

본 발명에 이용되는 (A)∼(F) 성분은 모두 디메틸아세트아미드, 에탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤 중 어느 하나의 용제에 25℃, 고형분 농도 25 질량%로 용해되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 충전재와 같은 균일 분산 공정이 불필요해져, 상술한 문제점인 경제성, 불균일화, 니스 사용 가능 기간의 저하, 내약품성의 저하 등의 문제점을 회피할 수 있다.It is preferable that all of the components (A) to (F) used in the present invention are dissolved in a solvent of any one of dimethylacetamide, ethanol, toluene, xylene, and methyl ethyl ketone at 25 ° C and a solid content concentration of 25% by mass. As a result, a uniform dispersion process such as a filler is not necessary, and problems such as economicality, non-uniformity, reduction in varnish usage period, and decrease in chemical resistance, which are the above-described problems, can be avoided.

또한, 본 발명에서는 필요에 따라 경화 촉진제를 이용할 수 있다. 경화 촉진제는 에폭시 수지와 에폭시 수지와 반응할 수 있는 각종 성분과의 반응을 촉진하기 위해서 이용되고, 할로겐 원자를 포함하지 않는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 경화 촉진제로서는 제3급 아민, 제4급 암모늄염, 포스핀류, 이미다졸류, 옥틸산염 등을 들 수 있고, 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.Moreover, in this invention, a hardening accelerator can be used as needed. A hardening accelerator is used in order to accelerate reaction of an epoxy resin with the various components which can react with an epoxy resin, and if it does not contain a halogen atom, it will not specifically limit. As a hardening accelerator, tertiary amine, quaternary ammonium salt, phosphine, imidazole, octylate, etc. are mentioned, You may use individually by 1 type and may use 2 or more types together.

본 발명의 난연성 수지 조성물에 대하여, 그 특성을 손상시키지 않는 범위에서 유기 필러 및 무기 필러 등의 충전재나 그 분산제를 첨가할 수 있으나, 첨가함으로써 인쇄 배선판의 가공성이나 성능이 저하될 우려는 있기 때문에, 그 용도나 충전재의 종류·양을 충분히 고려할 필요가 있다. Although the fillers, such as an organic filler and an inorganic filler, and its dispersing agent can be added to the flame-retardant resin composition of this invention in the range which does not impair the characteristic, since the processability and performance of a printed wiring board may fall by adding, It is necessary to fully consider the use and the kind and quantity of the filler.

본 발명에 이용되는 (A)∼(F) 성분은, 유기 용제에 용해하여, 상기 조성물을 용액으로서 조정하여 이용된다. 이 유기 용제로서는, 디메틸아세트아미드, 에탄올, 메탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤, 디메틸포름아미드, 시클로헥사논, N-메틸-2-피롤리돈, 이소프로판올, 아세톤 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 디메틸아세트아미드, 에탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤을 들 수 있다. 이들 유기 용제는, 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. (A)-(F) component used for this invention is melt | dissolved in the organic solvent, and is used by adjusting the said composition as a solution. Examples of the organic solvent include dimethylacetamide, ethanol, methanol, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, isopropanol, acetone, and the like. Examples thereof include dimethylacetamide, ethanol, toluene, xylene, and methyl ethyl ketone. These organic solvents may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

상기 조성물을 유기 용제에 용해하여 이용하는 경우, 용제의 건조 시에 경화 반응을 너무 진행시키지 않기 위해서, 건조 온도를 낮게 하는 것이 요망된다. 따라서 수지 용액 중에 건조성이 좋은 저비점 용제를 많이 포함하고 있는 것이 바람직하다. 상기 조성물의 용액에 적합한 저비점 용제로서는, 에탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있고, 건조성에서 우위성을 발견하기 위해서는, 이들로 이루어지는 군에서 선택되는 1종류의 용제를 50 질량% 이상 함유하는 혼합 용제에 상기 조성물이 30 질량% 이상 용해되는 것이 바람직하다.When melt | dissolving and using the said composition in the organic solvent, in order not to advance hardening reaction at the time of drying of a solvent, it is desired to make drying temperature low. Therefore, it is preferable that the resin solution contains many low boiling point solvents with favorable dryness. As a low boiling point solvent suitable for the solution of the said composition, ethanol, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, etc. are mentioned, In order to discover an advantage in drying property, 50 mass% or more of 1 type of solvents chosen from these group are selected. It is preferable that the said composition melt | dissolves 30 mass% or more in the mixed solvent containing.

상기 접착제 용액 중의 (A)∼(F) 성분의 합계 농도(고형분 농도)는 통상 10 질량%∼45 질량%이고, 바람직하게는, 15 질량%∼40 질량%이며, 더 바람직하게는, 20 질량%∼35 질량%이다. 이 농도가 10 질량% 미만이면, 접착제의 두께가 얇아져, 내열성, 접착 강도가 저하되고, 45 질량%보다 커지면, 용액의 점도가 지나치게 높아지기 때문에, 균일하게 도공하는 것이 곤란해진다.The total concentration (solid content concentration) of the components (A) to (F) in the adhesive solution is usually 10% by mass to 45% by mass, preferably 15% by mass to 40% by mass, and more preferably 20% by mass. % To 35% by mass. If this concentration is less than 10 mass%, the thickness of an adhesive will become thin, heat resistance and adhesive strength will fall, and when larger than 45 mass%, since the viscosity of a solution becomes too high, it becomes difficult to coat uniformly.

4. 접착제 시트4. glue sheet

본 발명의 전자 부품용 접착제 시트란, 본 발명의 난연성 접착제 조성물을 접착제층으로 하고, 또한 적어도 1층 이상의 박리 가능한 보호 필름층을 갖는 구성의 것을 말한다. 예컨대, 보호 필름층/접착제층의 2층 구성, 또는 보호 필름층/접착제층/보호 필름층의 3층 구성이 이것에 해당한다. 여기서 말하는 보호 필름층이란, 접착제층의 형태를 손상시키지 않고서 박리할 수 있으면 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 폴리에틸렌, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리불화비닐리덴, 폴리페닐렌술파이드 등의 플라스틱 필름 및 이들을 실리콘 또는 불소 화합물 등으로 코팅 처리를 실시한 필름, 이들을 라미네이트한 종이, 박리성이 있는 수지를 함침 또는 코팅한 종이 등을 들 수 있다. 또한, 금속, 세라믹스 등도 이용하는 것이 가능하고, 표면의 절연성, 내환경성의 목적에서의 보호 뿐만 아니라, 방열, 전자적 실드, 보강, 식별 등의 새로운 기능을 부여할 수 있는 이점이 있다. The adhesive sheet for electronic components of this invention means the thing of the structure which makes the flame-retardant adhesive composition of this invention an adhesive bond layer, and has at least 1 or more peelable protective film layers. For example, the two-layered constitution of the protective film layer / adhesive layer or the three-layered constitution of the protective film layer / adhesive layer / protective film layer corresponds to this. The protective film layer herein is not particularly limited as long as it can be peeled off without damaging the form of the adhesive layer. Examples thereof include polyethylene, polyester, polyolefin, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene fluoride, polyphenylene sulfide, and the like. The plastic film of this invention, the film which carried out the coating process with silicone, a fluorine compound, etc., the paper which laminated these, the paper which impregnated or coated the peelable resin, etc. are mentioned. In addition, it is also possible to use metals, ceramics, and the like, and there is an advantage of providing new functions such as heat dissipation, electronic shielding, reinforcement, identification, as well as protection for the purpose of surface insulation and environmental resistance.

접착제 시트의 제조 방법은, 본 발명의 난연성 접착제 조성물을 용제에 용해한 접착제 용액을, 이형성을 갖는 상술한 필름에 도공하고, 50℃∼200℃의 온도, 바람직하게는 70℃∼160℃, 더 바람직하게는 100℃∼130℃에서 2분간∼10분간 정도 건조시켜, 접착제층을 형성한다. 상기 접착제층의 건조 후의 두께는, 5 ㎛∼40 ㎛이고, 바람직하게는 10 ㎛∼25 ㎛이다. 또, 3층 구성으로 하는 경우에는 또한 이형성 보호 필름을 라미네이트하여 적층한다.The manufacturing method of an adhesive sheet coats the adhesive solution which melt | dissolved the flame-retardant adhesive composition of this invention in the solvent to the above-mentioned film which has mold release property, The temperature of 50 degreeC-200 degreeC, Preferably it is 70 degreeC-160 degreeC, More preferably, Preferably, it dries at 100 to 130 degreeC for 2 to 10 minutes, and forms an adhesive bond layer. The thickness after drying of the said adhesive bond layer is 5 micrometers-40 micrometers, Preferably they are 10 micrometers-25 micrometers. Moreover, when it is set as a three-layered constitution, further, a mold release protective film is laminated and laminated | stacked.

5. 커버레이 필름5. coverlay film

본 발명의 커버레이 필름이란, 본 발명의 난연성 접착제 조성물을 접착제층으로 하고, 절연성 플라스틱 필름층/접착제층의 2층 구성, 또는 절연성 플라스틱 필름층/접착제층/보호 필름층의 3층 구성을 포함한다. 절연성 플라스틱 필름이란, 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르술폰, 폴리에테르에테르케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 플라스틱을 포함하는 두께 5 ㎛∼200 ㎛의 필름이고, 이들에서 선택되는 복수의 필름을 적층해도 된다. 보호 필름은, 상술한 접착제 시트의 보호 필름으로서 설명한 것을 이용할 수 있다.The coverlay film of this invention makes the flame-retardant adhesive composition of this invention an adhesive bond layer, and includes the two-layered constitution of an insulating plastic film layer / adhesive layer, or the three-layered constitution of an insulating plastic film layer / adhesive layer / protective film layer. do. The insulating plastic film is a film having a thickness of 5 μm to 200 μm containing plastics such as polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polyether ether ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, and the like. You may laminate | stack the some film chosen from. What was demonstrated as a protective film of the adhesive sheet mentioned above can be used for a protective film.

커버레이 필름의 제조 방법은 본 발명의 난연성 접착제 조성물을 용제에 용해한 접착제 용액을, 상술한 절연성 플라스틱 필름에 도공하고, 50℃∼200℃의 온도, 바람직하게는 70℃∼160℃, 더 바람직하게는 100℃∼130℃에서 2분간∼10분간 정도 건조시켜, 접착제층을 형성한다. 상기 접착제층의 건조 후의 두께는, 5 ㎛∼40 ㎛이고, 바람직하게는 10 ㎛∼25 ㎛이다. 또, 보관 등을 위해서, 3층 구성으로 하는 경우에는 또한 이형성 보호 필름을 라미네이트하여 적층한다.The manufacturing method of a coverlay film coats the adhesive solution which melt | dissolved the flame-retardant adhesive composition of this invention in the solvent to the above-mentioned insulating plastic film, and is 50 degreeC-200 degreeC, Preferably it is 70 degreeC-160 degreeC, More preferably, Is dried at 100 to 130 ° C. for 2 to 10 minutes to form an adhesive layer. The thickness after drying of the said adhesive bond layer is 5 micrometers-40 micrometers, Preferably they are 10 micrometers-25 micrometers. In addition, when it is set as a three-layer structure for storage etc., further, a mold release protective film is laminated and laminated | stacked.

6. 연성 인쇄 배선판6. Flexible printed wiring board

본 발명의 연성 인쇄 배선판이란, 본 발명의 난연성 접착제 조성물을 접착제층으로 하고, 상기 접착층으로 절연성 플라스틱 필름과 동박을 접합시킨 구성의 것을 말한다. 예컨대, 절연성 필름의 한쪽 면 또는 양면에 위에 형성된 상기 접착제층과, 1층 또는 2층의 상기 접착제층이 접착된 1층 또는 2층의 동박을 갖는 연성 인쇄 배선판을 들 수 있다. 상기 동박에는, 연성 인쇄 배선판에 종래 이용되고 있는 압연 동박, 전해 동박을 사용할 수 있다. 절연성 플라스틱 필름은, 상술한 커버레이 필름의 절연성 플라스틱 필름으로서 설명한 것을 이용할 수 있다.The flexible printed wiring board of this invention makes the flame-retardant adhesive composition of this invention an adhesive bond layer, and says the thing of the structure which bonded the insulating plastic film and copper foil with the said adhesive layer. For example, the flexible printed wiring board which has the said adhesive bond layer formed on one side or both surfaces of an insulating film, and the 1 or 2 layer copper foil to which the said adhesive bond layer of one layer or two layers was adhere | attached is mentioned. The said copper foil can use the rolled copper foil and electrolytic copper foil conventionally used for a flexible printed wiring board. The insulating plastic film can use what was demonstrated as the insulating plastic film of the coverlay film mentioned above.

연성 인쇄 배선판의 제조 방법은 본 발명의 난연성 접착제 조성물을 용제에 용해한 접착제 용액을, 상술한 절연성 플라스틱 필름에 도공하고, 50℃∼200℃의 온도, 바람직하게는 70℃∼160℃, 더 바람직하게는 100℃∼130℃에서 2분간∼10분간 정도 건조시켜, 접착제층을 형성한다. 상기 접착제층의 건조 후의 두께는, 5 ㎛∼40 ㎛이고, 바람직하게는 10 ㎛∼25 ㎛이다. 계속해서, 접착제층 상에 동박을 배치하고, 80℃∼150℃, 바람직하게는 110℃∼130℃의 온도에서 열라미네이트함으로써, 적층체가 얻어진다. 본 발명에서 이용되는 폴리아미드이미드 수지는 내열성의 관점에서 Tg가 높고, 라미네이트 온도가 100℃보다 낮으면 잘 열압착시킬 수 없으나, 150℃보다 커지면 작업성이 저하되는 경향이 있다. 이 적층체를 또한 120℃∼200℃, 바람직하게는 140℃∼170℃에 있어서, 가열 경화시킴으로써, 상기 접착제를 완전히 경화시켜 연성 인쇄 배선판이 얻어진다.The manufacturing method of a flexible printed wiring board coats the adhesive solution which melt | dissolved the flame-retardant adhesive composition of this invention in the solvent to the above-mentioned insulating plastic film, The temperature of 50 degreeC-200 degreeC, Preferably it is 70 degreeC-160 degreeC, More preferably, Is dried at 100 to 130 ° C. for 2 to 10 minutes to form an adhesive layer. The thickness after drying of the said adhesive bond layer is 5 micrometers-40 micrometers, Preferably they are 10 micrometers-25 micrometers. Subsequently, a laminated body is obtained by arrange | positioning copper foil on an adhesive bond layer and heat-laminating at the temperature of 80 degreeC-150 degreeC, Preferably 110 degreeC-130 degreeC. The polyamide-imide resin used in the present invention cannot be thermally compressed well if the Tg is high in terms of heat resistance and the lamination temperature is lower than 100 ° C., but if it is higher than 150 ° C., workability tends to be lowered. The laminate is further cured by heating at 120 ° C to 200 ° C, preferably at 140 ° C to 170 ° C to completely cure the adhesive, thereby obtaining a flexible printed wiring board.

본 발명에서 얻어지는 연성 인쇄 배선판은 330℃의 땜납욕 중에 30초간 침지해도, 박리, 부풀음, 변색 등의 외관 이상이 모두 발생하지 않을 정도로 우수한 땜납 내열성을 나타낼 수 있다. 또한, 40℃, 상대 습도 90%의 분위기 하에 24시간 방치하여, 흡습시킨 후, 신속하게 300℃의 땜납욕 중에 30초간 침지해도, 박리, 부풀음, 변색 등의 외관 이상이 모두 발생하지 않는 땜납 내열성은, 종래 기술에서는 용이하게는 이룰 수 없었던 것이다.Even if the flexible printed wiring board obtained by this invention is immersed for 30 second in the solder bath of 330 degreeC, it can exhibit the solder heat resistance excellent so that neither external abnormality, such as peeling, swelling, and discoloration, may generate | occur | produce. In addition, even after leaving for 24 hours in an atmosphere of 40 ° C and a relative humidity of 90% and absorbing moisture, even after being immersed in a solder bath at 300 ° C for 30 seconds, all of the solder heat resistance such as peeling, swelling, and discoloration do not occur. Was not easily achieved in the prior art.

실시예Example

본 발명을 더 상세히 설명하기 위해서 이하에 실시예를 들지만, 본 발명은 실시예에 조금도 한정되는 것은 아니다.In order to demonstrate this invention further in detail, an Example is given to the following, but this invention is not limited to an Example at all.

1. 폴리아미드이미드 수지 및 이의 수지 조성물에 대해서1. About polyamideimide resin and its resin composition

실시예 중의 수지의 특성은, 이하의 방법으로 측정 및 평가하였다.The characteristic of resin in the Example was measured and evaluated by the following method.

(대수 점도)Logarithmic viscosity

건조한 고형 형상 폴리머 0.5 g을 100 ㎖의 NMP에 용해한 용액을 30℃에서 우베로데 점도관을 이용하여 측정하였다.The solution which melt | dissolved 0.5 g of dry solid polymer in 100 ml of NMP was measured at 30 degreeC using the Uberode viscosity tube.

(인장 탄성률)Tensile Modulus

얻어진 폴리아미드이미드 수지 용액을 동박 상에 건조 후의 막 두께가 20 ㎛가 되도록 도포하고, 열풍 건조기로 150℃에서 10분간 건조시킨 후, 이너트 오븐(inert oven)으로 200℃에서 5시간 건조시키며, 동박을 에칭하여 제거함으로써, 폴리아미드이미드 수지 필름을 작성하고, 이들 필름으로부터 폭 10 ㎜의 단책(短冊; strip)을 만들며, 도요 볼드윈사의 텐실론을 이용하여, 인장 속도 20 ㎜/분으로 측정하였다. The obtained polyamideimide resin solution was applied onto a copper foil so as to have a film thickness of 20 µm after drying, dried at 150 ° C. for 10 minutes with a hot air dryer, and then dried at 200 ° C. for 5 hours with an inert oven. The copper foil was etched and removed to prepare a polyamideimide resin film, to form a strip having a width of 10 mm from these films, and measured at a tensile rate of 20 mm / min using tensilon manufactured by Toyo Baldwin. .

(유리 전이 온도)(Glass transition temperature)

인장 탄성률의 측정에 이용한 것과 동일한 폴리아미드이미드 수지 필름을, 아이티 게이소쿠 세이교사 제조 동적 점탄성 측정 장치 DVA-220을 이용하여, 주파수 110 ㎐에서 동적 점탄성의 측정을 행하고, 그 저장 탄성률의 변곡점으로부터 구하였다.The same polyamide-imide resin film used for the measurement of the tensile modulus of elasticity was measured using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus DVA-220 manufactured by Haiti Keisoku Seiko Co., Ltd. It was.

(용해성)(Soluble)

인장 탄성률의 측정에 이용한 것과 동일한 폴리아미드이미드 수지 필름을, 디메틸아세트아미드 40 질량부와, 톨루엔 60 질량부를 혼합한 용제에, 비휘발분이 10 질량%가 되도록 용해시켰다. 25℃ 분위기에서 용액이 투명하고 고형물이 석출하고 있지 않은 상태를 24시간 유지하며, 완전히 용해한 것을 ○, 그렇지 않은 것을 ×로 하였다.The same polyamide-imide resin film used for measuring the tensile modulus was dissolved in a solvent in which 40 parts by mass of dimethylacetamide and 60 parts by mass of toluene were mixed so that the nonvolatile content was 10% by mass. In the 25 degreeC atmosphere, the solution was transparent and the state which does not precipitate solid was kept for 24 hours, and what melt | dissolved completely was made into (circle) and the thing which was not ×.

(접착제 수지 조성물의 조정)(Adjustment of adhesive resin composition)

얻어진 폴리아미드이미드 수지 용액 100 g에 대하여, 에폭시 수지(jER152, 재팬 에폭시 레진사 제조 페놀 노볼락형 에폭시 수지)의 비휘발분 30 질량%의 톨루엔 용액 50 g 및 4,4'-디아미노디페닐술폰(와카야마 세이카사 제조 SEIKACURE-S)의 비휘발분 15 질량%의 메틸에틸케톤 용액 4 g을 첨가하여, 접착제 수지 조성물을 얻었다. To 100 g of the obtained polyamideimide resin solution, 50 g of a toluene solution having a nonvolatile content of 30% by mass of an epoxy resin (jER152, a phenol novolac epoxy resin manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and 4,4'-diaminodiphenyl sulfone 4 g of methyl ethyl ketone solution of 15 mass% of non volatile matters (SEIKACURE-S by Wakayama Seika Co., Ltd.) was added, and the adhesive resin composition was obtained.

(접착 강도)(Adhesive strength)

접착제 수지 조성물을, 두께가 25 ㎛인 폴리이미드 필름(아피칼 NPI)에, 건조 후의 막 두께가 15 ㎛가 되도록 도포하고, 열풍 건조기로 130℃에서 5분간 용제를 건조시켰다. 그 후, 전해 동박(18 ㎛ 두께 닛폰 덴카이사 제조 USLP)의 처리면과 130℃에서 접합시키고, 또한 170℃에서 3시간 가열함으로써 경화시켰다. The adhesive resin composition was apply | coated to the polyimide film (Apical NPI) whose thickness is 25 micrometers so that the film thickness after drying might be 15 micrometers, and the solvent was dried at 130 degreeC for 5 minutes with the hot air dryer. Then, it bonded together at 130 degreeC and the process surface of the electrolytic copper foil (USLP by Nippon Denkai Co., Ltd. thickness of 18 micrometers), and hardened | cured by heating at 170 degreeC for 3 hours.

계속해서, 얻어진 동장 적층판을 1.0 ㎜ 폭으로 절단하고, 실온에서 도요 볼드윈사 제조 텐실론을 이용해서, 인장 속도 50 ㎜/분으로 90°박리를 행하여, 박리 강도를 측정하였다.Subsequently, the obtained copper clad laminated board was cut | disconnected to 1.0 mm width, 90 degree peeling was carried out at the tensile speed of 50 mm / min using tensilon by Toyo Baldwin Co., Ltd. at room temperature, and peeling strength was measured.

(땜납 내열성)(Solder heat resistance)

접착력을 측정한 동장 적층판을 300℃의 땜납욕에 60초간 플로트시켰을 때의 상태를 관찰하였다. 박리나 부풀음이 없는 것을 ○, 그 이외를 ×로 하였다.The state when the copper clad laminated board which measured the adhesive force was floated in the 300 degreeC solder bath for 60 second was observed. (Circle) and thing other than that which did not have peeling and swelling were made into x.

(절연 신뢰성: 내마이그레이션성)(Insulation Reliability: Migration Resistance)

도요보사 제조 2층 CCL(상품명 바이로플렉스(VYLOFLEX)) 상에 선 간 50 ㎛의 빗형 패턴(회로)을 작성하고, 3% 염산 세정한 후, 수세 건조하였다. 얻어진 회로 상에 접착제 수지 조성물을 건조 후의 막 두께가 20 ㎛가 되도록 전면 도포하고, 접착제층을 170℃, 180분간의 조건으로 가열 경화시켰다. 그 후, 직류 전압 50 V를 인가하고, 500 hr 후의 절연 저항값이 1×108 Ω을 상회한 것을 ○, 하회한 것 또는 배선 사이에 덴드라이트(dendrite)가 보여진 것을 ×로 하였다.A comb pattern (circuit) having a line thickness of 50 µm was prepared on a two-layer CCL (trade name VYLOFLEX) manufactured by Toyobo Co., Ltd., washed with 3% hydrochloric acid, and then washed with water. The adhesive resin composition was apply | coated whole surface on the obtained circuit so that the film thickness after drying might be set to 20 micrometers, and the adhesive bond layer was heat-hardened on 170 degreeC and the conditions for 180 minutes. Thereafter, a DC voltage of 50 V was applied, and the value of the insulation resistance after 500 hr exceeded 1 × 10 8 Ω was lower than that of the lower one, or the dendrite was observed between the wirings.

·실시예 1(폴리아미드이미드 수지 1):Example 1 (polyamideimide resin 1):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크(separable flask)에, 무수 트리멜리트산 105.67 g(0.55 몰), 세바신산 80.09 g(0.40 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13, 수 평균 분자량 3500, 아크릴로니트릴 부위의 비율 26 wt%) 175 g(0.05 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 252.75 g(1.0 몰), 디메틸아세트아미드 526 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 디메틸아세트아미드 117 g을 첨가하고, 또한 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 439 g과 디메틸아세트아미드 146 g을 첨가하여 희석하며, 실온까지 냉각함으로써, 갈색이지만 전혀 탁하지 않은 폴리아미드이미드 수지 용액 1을 얻었다.In a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen inlet tube and a thermometer, 105.67 g (0.55 mol) of trimellitic anhydride, 80.09 g (0.40 mol) of sebacic acid, and acrylics having both ends of the carboxylic acid 175 g (0.05 mol) of ronitrile butadiene rubber (CTBN 1300 x 13, number average molecular weight 3500, acrylonitrile portion ratio 26 wt%), 252.75 g (1.0 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, dimethyl 526 g of acetamide was added, the temperature was raised to 100 ° C under a nitrogen stream, and the mixture was allowed to react for 2 hours. Subsequently, 117 g of dimethylacetamide was added, followed by reaction at 150 ° C for 5 hours, followed by dilution by addition of 439 g of toluene and 146 g of dimethylacetamide, and cooling to room temperature to give a brown but not turbid polyamideimide. Resin solution 1 was obtained.

수지 용액으로부터 얻어진 폴리머에 대해서, 대수 점도, 유리 전이 온도, 인장 탄성률을 측정하여 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the results obtained by measuring the logarithmic viscosity, the glass transition temperature, and the tensile modulus of the polymer obtained from the resin solution.

또한, 상기한 바와 같이, 폴리아미드이미드 수지 용액으로부터 접착제 수지 조성물을 조제하고, 상기 접착제 수지 조성물을 이용하여 동장 적층판을 제조하며, 상기 동장 적층판에 대해서, 접착 강도, 땜납 내열성을 평가하였다. 또한, 전항에 기재된 방법으로 커버레이로서의 필요 특성인 내마이그레이션성을 평가하였다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다. In addition, as mentioned above, the adhesive resin composition was prepared from the polyamide-imide resin solution, the copper clad laminated board was manufactured using the said adhesive resin composition, and the adhesive strength and solder heat resistance were evaluated about the said copper clad laminated board. Moreover, the migration resistance which is a necessary characteristic as a coverlay was evaluated by the method of the preceding paragraph. The obtained results are shown in Table 1.

·실시예 2(폴리아미드이미드 수지 2):Example 2 (polyamideimide resin 2):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 2리터 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 142.18 g(0.74 몰), 세바신산 40.45 g(0.20 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 210.0 g(0.06 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 125.13 g(0.5 몰), 톨릴렌디이소시아네이트 87.08 g(0.5 몰), 디메틸아세트아미드 517 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 431 g과 디메틸아세트아미드 258 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각함으로써, 갈색이지만 전혀 탁하지 않은 폴리아미드이미드 수지 용액 2를 얻었다.In a four-necked two-liter flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introduction tube, and a thermometer, 142.18 g (0.74 mol) of trimellitic anhydride, 40.45 g (0.20 mol) of sebacic acid, and acrylonitrile having carboxylic acid at both ends Add 210.0 g (0.06 mol) of butadiene rubber (CTBN 1300 × 13), 125.13 g (0.5 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 87.08 g (0.5 mol) of tolylene diisocyanate, 517 g of dimethylacetamide, It heated up to 100 degreeC under nitrogen stream, and made it react for 2 hours. Subsequently, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 431 g of toluene and 258 g of dimethylacetamide were added and diluted, and it cooled to room temperature, and obtained the brown but not turbid polyamide-imide resin solution 2.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·실시예 3(폴리아미드이미드 수지 3):Example 3 (polyamideimide resin 3):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 2리터 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 105.67 g(0.55 몰), 도데칸이산 92.12 g(0.4 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 175 g(0.05 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 250.25 g(1.0 몰), 디메틸아세트아미드 535 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 594 g과 디메틸아세트아미드 119 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각함으로써, 갈색이지만 전혀 탁하지 않은 폴리아미드이미드 수지 용액 3을 얻었다.In a four-necked 2-liter flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introducing tube and a thermometer, 105.67 g (0.55 mol) of trimellitic anhydride, 92.12 g (0.4 mol) of dodecane diacid, and acryl with carboxylic acid at both ends 175 g (0.05 mol) of nitrile butadiene rubbers (CTBN 1300 × 13), 250.25 g (1.0 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and 535 g of dimethylacetamide were added thereto, and the temperature was raised to 100 ° C. under a nitrogen stream. The reaction was carried out for 2 hours. Subsequently, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 594 g of toluene and 119 g of dimethylacetamide were added and diluted, and it cooled to room temperature, and obtained the brown but not turbid polyamide-imide resin solution 3.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·실시예 4(폴리아미드이미드 수지 4):Example 4 (polyamideimide resin 4):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 2리터 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 105.67 g(0.55 몰), 아디프산 58.46 g(0.4 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 175 g(0.05 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 250.25 g(1.0 몰), 디메틸아세트아미드 501 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 418 g과 디메틸아세트아미드 251 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각함으로써, 갈색이지만 전혀 탁하지 않은 폴리아미드이미드 수지 용액 4를 얻었다.In a four-necked two-liter flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introduction tube and a thermometer, 105.67 g (0.55 mol) of trimellitic anhydride, 58.46 g (0.4 mol) of adipic acid, and acrylo with both ends of the carboxylic acid 175 g (0.05 mol) of nitrile butadiene rubbers (CTBN 1300 × 13), 250.25 g (1.0 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and 501 g of dimethylacetamide were added thereto, and the temperature was raised to 100 ° C. under a nitrogen stream. The reaction was carried out for 2 hours. Subsequently, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 418 g of toluene and 251 g of dimethylacetamide were added and diluted, and it cooled to room temperature, and obtained the brown but not turbid polyamide-imide resin solution 4.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·실시예 5(폴리아미드이미드 수지 5):Example 5 (polyamideimide resin 5):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 67.25 g(0.35 몰), 세바신산 121.34 g(0.60 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 175 g(0.05 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 252.75 g(1.0 몰), 디메틸아세트아미드 526 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 또한 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 438 g과 디메틸아세트아미드 263 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각함으로써, 갈색이지만 전혀 탁하지 않은 폴리아미드이미드 수지 용액 5를 얻었다.In a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introducing tube and a thermometer, 67.25 g (0.35 mol) of trimellitic anhydride, 121.34 g (0.60 mol) of sebacic acid, and acrylonitrile butadiene rubber having both ends of carboxylic acid (CTBN 1300 × 13) 175 g (0.05 mol), 252.75 g (1.0 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 526 g of dimethylacetamide were added thereto, and the temperature was raised to 100 ° C under a nitrogen stream, followed by reaction for 2 hours. I was. Furthermore, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 438 g of toluene and 263 g of dimethylacetamides were added and diluted, and it cooled to room temperature, and obtained the brown but not turbid polyamideimide resin solution 5.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 1에 나타낸다. Table 1 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·비교예 1(폴리아미드이미드 수지 6):Comparative Example 1 (Polyamideimide Resin 6):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 89.15 g(0.58 몰), 세바신산 64.72 g(0.40 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 56 g(0.02 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 201.2 g(1 몰), 디메틸아세트아미드 423.31 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 353 g과 디메틸아세트아미드 212 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각함으로써, 갈색이지만 전혀 탁하지 않은 폴리아미드이미드 수지 용액 6을 얻었다.In a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introducing tube and a thermometer, 89.15 g (0.58 mol) of trimellitic anhydride, 64.72 g (0.40 mol) of sebacic acid, and acrylonitrile butadiene rubber having both ends of carboxylic acid (CTBN 1300 × 13) 56 g (0.02 mol), 201.2 g (1 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 423.31 g of dimethylacetamide were added thereto, and the temperature was raised to 100 ° C under a nitrogen stream, followed by reaction for 2 hours. I was. Subsequently, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 353 g of toluene and 212 g of dimethylacetamides were added and diluted, and it cooled to room temperature, and obtained the brown but not turbid polyamideimide resin solution 6.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·비교예 2(폴리아미드이미드 수지 7):Comparative Example 2 (Polyamideimide Resin 7):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 172.92 g(0.90 몰), 세바신산 10.11 g(0.05 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 175 g(0.05 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 247.75 g(0.99 몰), 디메틸아세트아미드 518 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 431 g과 디메틸아세트아미드 259 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각함으로써, 갈색의 폴리아미드이미드 수지 용액 7을 얻었으나 탁하였다.In a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introducing tube and a thermometer, 172.92 g (0.90 mol) of trimellitic anhydride, 10.11 g (0.05 mol) of sebacic acid, and acrylonitrile butadiene rubber having both ends of carboxylic acid (CTBN 1300 × 13) 175 g (0.05 mol), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate 247.75 g (0.99 mol) and 518 g of dimethylacetamide were added thereto, and the temperature was raised to 100 ° C under a nitrogen stream to react for 2 hours. I was. Subsequently, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 431 g of toluene and 259 g of dimethylacetamide were added and diluted, and it cooled to room temperature, and obtained the brown polyamide-imide resin solution 7, but was turbid.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·비교예 3(폴리아미드이미드 수지 8):Comparative Example 3 (Polyamideimide Resin 8):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 9.61 g(0.05 몰), 세바신산 182.02 g(0.90 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 175 g(0.05 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 252.75 g(1.0 몰), 디메틸아세트아미드 529 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 또한 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 441 g과 디메틸아세트아미드 264 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각함으로써, 갈색이지만 탁하지 않은 폴리아미드이미드 수지 용액 8을 얻었다.In a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introduction tube, and a thermometer, 9.61 g (0.05 mol) of trimellitic anhydride, 182.02 g (0.90 mol) of sebacic acid, and acrylonitrile butadiene rubber having both ends of carboxylic acid (CTBN 1300 × 13) 175 g (0.05 mol), 252.75 g (1.0 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 529 g of dimethylacetamide were added thereto, and the temperature was raised to 100 ° C under a nitrogen stream, followed by reaction for 2 hours. I was. Furthermore, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 441 g of toluene and 264 g of dimethylacetamide were added and diluted, and it cooled to room temperature, and obtained the brown but not turbid polyamideimide resin solution 8.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Table 2 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·비교예 4(폴리아미드이미드 수지 9):Comparative Example 4 (Polyamideimide Resin 9):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 105.67 g(0.55 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 175 g(0.05 몰), 에이사코이산(오카무라 유시사 제조) 137 g(40 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 125.13 g(0.5 몰), 톨릴렌디이소시아네이트 87.08 g(0.5 몰), 디메틸아세트아미드 542 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 452 g과 디메틸아세트아미드 271 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각하였으나, 폴리아미드이미드 수지의 용해성이 부족하고, 수지 용액은 현저하게 탁했기 때문에, 그 후의 측정 결과 및 평가는 중지하였다.In a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introducing tube and a thermometer, 105.67 g (0.55 mol) of trimellitic anhydride and 175 g of acrylonitrile butadiene rubber (CTBN 1300 × 13) having carboxylic acid at both ends ( 0.05 mol), Eisakoic acid (manufactured by Okamura Yushi Co., Ltd.) 137 g (40 mol), 125.13 g (0.5 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 87.08 g (0.5 mol) tolylene diisocyanate, dimethylacetamide 542g was put, it heated up to 100 degreeC under nitrogen stream, and made it react for 2 hours. Subsequently, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 452 g of toluene and 271 g of dimethylacetamide were added and diluted, and it cooled to room temperature, but since the solubility of the polyamideimide resin was insufficient and the resin solution was remarkably turbid, Subsequent measurement results and evaluation were stopped.

·비교예 5(폴리아미드이미드 수지 10):Comparative Example 5 (polyamideimide resin 10):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 86.4 g(0.45 몰), 세바신산 80.09 g(0.40 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 525 g(0.15 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 252.75 g(1.0 몰), 디메틸아세트아미드 854 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 디메틸아세트아미드 190 g을 첨가하고, 또한 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 712 g과 디메틸아세트아미드 237 g을 첨가하여 희석하며, 실온까지 냉각함으로써, 갈색이며 약간 뿌연 폴리아미드이미드 수지 용액 10을 얻었다. In a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introducing tube and a thermometer, acrylonitrile butadiene rubber having 86.4 g (0.45 mol) of trimellitic anhydride, 80.09 g (0.40 mol) of sebacic acid, and carboxylic acid at both ends (CTBN 1300 × 13) 525 g (0.15 mol), 252.75 g (1.0 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 854 g of dimethylacetamide were added thereto, and the temperature was raised to 100 ° C under a nitrogen stream to react for 2 hours. I was. Subsequently, 190 g of dimethylacetamide was added, followed by reaction at 150 ° C for 5 hours, followed by dilution by addition of 712 g of toluene and 237 g of dimethylacetamide, followed by cooling to room temperature to give a brown, slightly cloudy polyamideimide resin solution. 10 was obtained.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Table 2 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·비교예 6(폴리아미드이미드 수지 11):Comparative Example 6 (Polyamideimide Resin 11):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 182.4 g(0.95 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 175 g(0.05 몰), 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 252.75 g(1.0 몰), 디메틸아세트아미드 519 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 계속해서 디메틸아세트아미드 115 g을 첨가하고, 또한 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 톨루엔 433 g과 디메틸아세트아미드 144 g을 첨가하여 희석하며, 실온까지 냉각함으로써, 갈색의 폴리아미드이미드 수지 용액 11을 얻었다. 용액은 약간 뿌옇게 보였다. In a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introducing tube and a thermometer, 175 g of acrylonitrile butadiene rubber (CTBN 1300 × 13) having 182.4 g (0.95 mol) of trimellitic anhydride and carboxylic acid at both ends ( 0.05 mol), 252.75 g (1.0 mol) of 4,4'- diphenylmethane diisocyanate, and 519 g of dimethylacetamides were put, it heated up to 100 degreeC under nitrogen stream, and made it react for 2 hours. Subsequently, 115 g of dimethylacetamide was added and the mixture was reacted at 150 ° C for 5 hours. Then, 433 g of toluene and 144 g of dimethylacetamide were added and diluted, and the mixture was cooled to room temperature to give a brown polyamideimide resin solution 11. Got it. The solution looked slightly cloudy.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Table 2 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

·비교예 7(폴리아미드이미드 수지 12):Comparative Example 7 (polyamideimide resin 12):

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 4구의 분리형 플라스크에, 무수 트리멜리트산 91.2 g(0.475 몰), 양 말단이 카르복실산인 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(CTBN 1300×13) 175 g(0.05 몰), 1,4-시클로헥산디카르복실산 81.7 g(0.475 몰), 이소포론디이소시아네이트 222 g(1.0 몰), 1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센 1.52 g(0.01 몰), 디메틸아세트아미드 482 g을 넣고, 질소 기류하 100℃까지 승온하여, 2시간 반응시켰다. 또한 150℃에서 5시간 반응시킨 후, 디메틸아세트아미드 241 g과 톨루엔 402 g을 첨가하여 희석하고, 실온까지 냉각하여, 황색이며 탁하지 않은 폴리아미드이미드 수지 용액 12를 얻었다.175 g of acrylonitrile butadiene rubber (CTBN 1300 × 13) having 91.2 g (0.475 mol) of trimellitic anhydride and carboxylic acid at both ends in a four-necked separate flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen introducing tube and a thermometer ( 0.05 mole), 81.7 g (0.475 mole) of 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 222 g (1.0 mole) of isophorone diisocyanate, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-unde 1.52 g (0.01 mol) of sen and 482 g of dimethylacetamide were put, it heated up to 100 degreeC under nitrogen stream, and made it react for 2 hours. Furthermore, after making it react at 150 degreeC for 5 hours, 241 g of dimethylacetamides and 402 g of toluene were added and diluted, and it cooled to room temperature, and obtained the yellow and non-turbid polyamide-imide resin solution 12.

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 측정 결과 및 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Table 2 shows the measurement results and evaluation results obtained in the same manner as in Example 1.

Figure pct00003
Figure pct00003

Figure pct00004
Figure pct00004

이상과 같이, 탄소수가 4∼12인 지방족 성분과 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 성분을 특정한 범위에서 도입한 폴리아미드이미드는, 폴리아미드이미드의 저비점 용제에 대한 용해성이 향상될 뿐만 아니라, 접착성이 현저하게 향상되고, 본 발명의 접착제 조성물은, 땜납 내열성이나 내마이그레이션성이 우수하며, 인쇄 배선판의 용도에 적합한 것을 알 수 있다.As mentioned above, the polyamideimide which introduce | transduced the C4-C12 aliphatic component and acrylonitrile butadiene rubber component in the specific range not only improves the solubility to the low boiling point solvent of a polyamideimide, but also has remarkable adhesiveness. It turns out that the adhesive composition of this invention is excellent in solder heat resistance and migration resistance, and is suitable for the use of a printed wiring board.

한편, 비교예 1에서는, 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 성분이 적기 때문에, 접착성, 땜납 내열성이 나쁘고, 비교예 2에서는, 지방족 성분이 적기 때문에 용해성, 접착성이 나쁘며, 수지 성능이 발휘되지 않는다. 비교예 3에서는, 지방족 성분이 많음과 아울러 아미드 성분도 많아지기 때문에, 수지의 흡수성(吸水性)이 높아져 버려, 내마이그레이션성이 나쁘고, 비교예 4에서는, 지방족 쇄 길이가 지나치게 길기 때문에, 비교예 5에서는, 아크릴로니트릴 부타디엔 고무 성분이 지나치게 많기 때문에, 비교예 6에서는, 탄소수가 4∼12인 지방족 성분을 갖지 않기 때문에, 각각 용해성이 현저하게 나쁘다. 비교예 7에서는, 반응성이 낮다는 결점이 있고, 지환족 성분을 도입할 수 있으면 용해성은 좋아지지만, 접착성이 뒤떨어지고 내마이그레이션성이 나쁘다.On the other hand, in the comparative example 1, since there are few acrylonitrile butadiene rubber components, adhesiveness and solder heat resistance are bad, in comparative example 2, since there are few aliphatic components, solubility and adhesiveness are bad and resin performance is not exhibited. In the comparative example 3, since there are many aliphatic components and also an amide component, the water absorption of resin becomes high, migration resistance is bad, and in comparative example 4, since the aliphatic chain length is too long, comparative example 5 In, since there are too many acrylonitrile butadiene rubber components, in Comparative Example 6, since it does not have a C4-C12 aliphatic component, solubility is remarkably bad, respectively. In Comparative Example 7, there is a disadvantage in that the reactivity is low, and solubility is improved when the alicyclic component can be introduced, but the adhesion is inferior and migration resistance is poor.

2. 난연성 수지 조성물, 접착제 시트, 커버레이 필름 및 연성 인쇄 배선판에 대해서2. About flame retardant resin composition, adhesive sheet, coverlay film and flexible printed wiring board

실시예에 기재된 측정값은 이하의 방법에 의해 측정한 것이다. 또, 실시예 중 단순히 부라고 있는 것은 질량부를 나타낸다.The measured value described in the Example is measured by the following method. In addition, what is simply part in an Example shows a mass part.

<대수 점도>Logarithmic viscosity

건조한 고형 형상 폴리머 0.5 g을 100 ㎖의 NMP에 용해한 용액을 30℃에서 우베로데 점도관을 이용하여 측정하였다.The solution which melt | dissolved 0.5 g of dry solid polymer in 100 ml of NMP was measured at 30 degreeC using the Uberode viscosity tube.

<인장 탄성률> Tensile Modulus

얻어진 폴리아미드이미드 수지 용액을 동박 상에 건조 후의 막 두께가 20 ㎛가 되도록 도포하고, 열풍 건조기로 150℃에서 10분간 건조시킨 후, 이너트 오븐으로 200℃에서 5시간 건조시키며, 동박을 에칭하여 제거함으로써, 폴리아미드이미드 수지 필름을 작성하고, 이들 필름으로부터 폭 10 ㎜의 단책(短冊; strip)을 만들며, 도요 볼드윈사의 텐실론을 이용하여, 인장 속도 20 ㎜/분으로 측정하였다. The obtained polyamideimide resin solution was applied onto the copper foil so that the film thickness after drying was 20 µm, dried at 150 ° C. for 10 minutes with a hot air drier, and then dried at 200 ° C. for 5 hours in an inert oven to etch the copper foil. By removing, the polyamide-imide resin film was created, the strip of 10 mm width was made from these films, and it measured by 20 mm / min of tensile velocity using tensilon of Toyo Baldwin.

<유리 전이 온도><Glass transition temperature>

인장 탄성률의 측정에 이용한 것과 동일한 폴리아미드이미드 수지 필름을, 아이티 게이소쿠 세이교사 제조 동적 점탄성 측정 장치 DVA-220을 이용하여, 주파수 110 ㎐에서 동적 점탄성의 측정을 행하고, 그 저장 탄성률의 변곡점으로부터 구하였다.The same polyamide-imide resin film used for the measurement of the tensile modulus of elasticity was measured using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus DVA-220 manufactured by Haiti Keisoku Seiko Co., Ltd. It was.

<용해성>Solubility

인장 탄성률의 측정에 이용한 것과 동일한 폴리아미드이미드 수지 필름을, 디메틸아세트아미드 40 질량부와, 에탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종류의 용제 60 질량부를 혼합한 용제에, 비휘발분이 10 질량%가 되도록 용해시켰다. 25℃ 분위기에서 24시간 방치하여, 용액이 투명한지, 고형물이 석출하고 있지 않은지를 조사하였다.In the solvent which mixed 40 mass parts of dimethylacetamides, and 60 mass parts of 1 type of solvents chosen from the group which consists of ethanol, toluene, xylene, and methyl ethyl ketone, the same polyamide-imide resin film used for the measurement of a tensile elasticity modulus, It dissolves so that a non volatile matter may be 10 mass%. It was left to stand in a 25 degreeC atmosphere for 24 hours, and it investigated whether the solution was transparent and whether the solid substance precipitated.

(판정) ○: 용액이 투명하고, 고형물의 석출도 없이 완전히 용해된 것(Judgment) (circle): The solution is transparent and melt | dissolved completely without precipitation of a solid.

×: 용해되지 않은 것, 또는, 고형물의 석출이 보여진 것       X: The thing which did not melt | dissolve, or the precipitation of solid thing was seen

<폴리아미드이미드 수지의 합성예 1∼5, 비교 합성예 1∼6><Synthesis Examples 1-5 of Polyamide-imide Resin, Comparative Synthesis Examples 1-6>

실시예 1과 동일하게 하여, 폴리아미드이미드 수지의 합성예 1∼5, 비교 합성예 1∼6을 작성하였다. 이렇게 하여 얻어진 폴리아미드이미드 수지의 물성값, 특성 평가 결과를 표 3에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, Synthesis Examples 1 to 5 and Comparative Synthesis Examples 1 to 6 of the polyamide-imide resin were prepared. Table 3 shows physical property values and characteristic evaluation results of the polyamide-imide resin thus obtained.

Figure pct00005
Figure pct00005

<접착제 조성물의 각종 성분><Various components of adhesive composition>

(B) 인 함유 에폭시 수지(B) Phosphorus-containing epoxy resin

(1) EXA-9710: Dic(주) 제조 인 함유 에폭시 수지(에폭시 당량: 490, 인 함유량: 3.0 질량%)의 메틸에틸케톤 용해품(비휘발분 농도 70 질량%)  (1) EXA-9710: A methyl ethyl ketone melted product (non-volatile content concentration 70 mass%) of Dic Corporation's phosphorus-containing epoxy resin (epoxy equivalent: 490, phosphorus content: 3.0 mass%)

(C) 인 화합물(C) phosphorus compounds

(1) HCA: 산코(주) 제조 페난트렌형 유기 인산 화합물, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(인 함유량: 14.3 질량%)  (1) HCA: Sanco Co., Ltd. phenanthrene type organic phosphate compound, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphafaphenanthrene-10-oxide (phosphorus content: 14.3 mass%)

(2) BCA: 산코(주) 제조 페난트렌형 유기 인산 화합물, 10-벤질-10-히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(인 함유량: 10.1 질량%)  (2) BCA: Sanco Co., Ltd. phenanthrene type organic phosphate compound, 10-benzyl-10-hydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide (phosphorus content: 10.1 mass%)

(3) SPH-100: 오츠카 가가쿠(주) 제조 환상 히드록시페녹시포스파젠(인 함유량: 12.5 질량%)  (3) SPH-100: Otsuka Chemical Co., Ltd. cyclic hydroxyphenoxy phosphazene (phosphorus content: 12.5 mass%)

(D) 에폭시 수지 경화제(D) epoxy resin curing agent

DDS: 4,4'-디아미노디페닐술폰  DDS: 4,4'-diaminodiphenylsulfone

(E) 인을 포함하지 않는 에폭시 수지(E) Epoxy resin which does not contain phosphorus

jER152: 재팬 에폭시 레진(주) 제조 페놀 노볼락형 에폭시 수지(에폭시 당량 175)  jer152: Japan epoxy resin Co., Ltd. phenol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 175)

(F) 실란 커플링제(F) silane coupling agent

KBM-403: 신에츠 가가쿠 고교(주) 제조 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(에폭시 당량 283)  KBM-403: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 3-glycidoxypropyl trimethoxysilane (epoxy equivalent 283)

<실시예 6> <Example 6>

합성예 1에서 얻어진 (A) 폴리아미드이미드 수지의 용액에, 상기한 각종 성분을 첨가하여 실시예 6의 접착제 조성물 1의 용액을 얻었다. Said various components were added to the solution of (A) polyamide-imide resin obtained by the synthesis example 1, and the solution of the adhesive composition 1 of Example 6 was obtained.

즉, 유리병에, 합성예 1에서 얻어진 (A) 폴리아미드이미드 수지의 용액을 173.3부, EXA-9710을 22.9부, BCA의 비휘발분 농도 25 질량%의 디메틸아세트아미드 용액을 64.0부, SPH-100의 비휘발분 농도 30 질량%의 메틸에틸케톤 용액을 20.0부, jER152의 비휘발분 50 질량%의 톨루엔 용액을 12.0부, DDS의 비휘발분 농도 15 질량%의 메틸에틸케톤 용액을 20.0부, KBM-403의 비휘발분 농도 20 질량%의 톨루엔 용액 5.0부, 희석 용제(디메틸아세트아미드/톨루엔=20/80)를 16.1부 넣고, 비휘발분 농도 30 질량%의 실시예 6의 접착제 조성물 용액을 얻었다. 표 4에 고형분 합계를 100 질량%로 한 고형분의 배합비를 나타낸다. That is, in a glass bottle, 173.3 parts of the solution of the polyamideimide resin (A) obtained by the synthesis example 1, 22.9 parts of EXA-9710, 64.0 parts of the dimethylacetamide solution of 25 mass% of non volatile matter concentrations of BCA, and SPH- 20.0 parts of methyl ethyl ketone solution of 100 mass% of non volatile matter concentrations, 12.0 parts of toluene solution of 50 mass% of non volatile matter contents of jER152, 20.0 parts of methyl ethyl ketone solution of 15 mass% of non volatile matter concentrations of DDS, KBM- 5.0 parts of toluene solutions of 20 mass% of non-volatile matter concentrations of 403, and 16.1 parts of dilution solvents (dimethylacetamide / toluene = 20/80) were put, and the adhesive composition solution of Example 6 of 30 mass% of non volatile matter concentrations was obtained. In Table 4, the compounding ratio of solid content which made the total solid content 100 mass% is shown.

실시예 6에서 얻어진 접착제 용액을 사용하여, 접착제 시트, 커버레이 필름, 연성 인쇄 배선판을 제조하였다. 이하에 이들의 제조 방법을 나타낸다.Using the adhesive solution obtained in Example 6, an adhesive sheet, a coverlay film, and a flexible printed wiring board were manufactured. These manufacturing methods are shown below.

<접착제 시트><Adhesive sheet>

실시예 6에서 얻어진 접착제 조성물 용액을 이용하여 이형 처리를 실시한 폴리에스테르 필름 상에 건조 후의 두께가 25 ㎛가 되도록 도포하고, 130℃에서 3분간, 송풍 오븐 안에서 건조하여 미경화 또는 반경화 상태의 접착제 시트를 제조하였다.The adhesive composition obtained in Example 6 was applied onto a polyester film subjected to a release treatment so as to have a thickness of 25 占 퐉 after drying, and dried in a blowing oven at 130 ° C. for 3 minutes to give an uncured or semi-cured adhesive. Sheets were prepared.

<커버레이 필름><Coverlay film>

실시예 6에서 얻어진 접착제 조성물의 용액을 25 ㎛의 폴리이미드 필름((주)가네카 제조, 아피칼 25 NPI) 상에 건조 후의 두께가 25 ㎛가 되도록 도포하고, 130℃에서 3분간, 송풍 오븐 안에서 건조하여 미경화 또는 반경화 상태의 커버레이 필름을 작성하였다.The solution of the adhesive composition obtained in Example 6 was applied onto a 25 μm polyimide film (manufactured by Kaneka Co., Apical 25 NPI) so as to have a thickness of 25 μm after drying, followed by a blowing oven at 130 ° C. for 3 minutes. It dried inside and produced the coverlay film of the uncured or semi-hardened state.

<연성 인쇄 배선판><Flexible Printed Wiring Boards>

실시예 6에서 얻어진 접착제 조성물의 용액을 25 ㎛의 폴리이미드 필름((주)가네카 제조, 아피칼 25 NPI) 상에 건조 후의 두께가 16 ㎛가 되도록 도포하고, 130℃에서 3분간, 송풍 오븐 안에서 건조하여 미경화 또는 반경화 상태의 접착제가 부착된 필름을 작성하였다. 이렇게 하여 얻어진 접착제가 부착된 필름의 접착제 도포면과 전해 동박(두께 18 ㎛, 닛폰 덴카이사 제조 USLP) 또는 압연 동박(두께 18 ㎛, 닛코 긴조쿠 제조 BHY)의 조화(粗化) 처리면을 (주)나섹사 제조 진공 프레스 라미네이트기를 이용하여, 라미네이트 온도 130℃, 압력 3 ㎫, 시간 20초간의 조건으로 열압착시켰다. 이것을, 또한 170℃에서 3시간 가열 경화시킴으로써, 연성 인쇄 배선판을 작성하였다.The solution of the adhesive composition obtained in Example 6 was applied onto a 25 μm polyimide film (manufactured by Kaneka Co., Ltd., Apical 25 NPI) so as to have a thickness of 16 μm after drying, followed by a blowing oven at 130 ° C. for 3 minutes. It dried inside to produce a film with an adhesive in an uncured or semi-cured state. The roughened surface of the adhesive coating surface and the electrolytic copper foil (18 micrometers in thickness, USLP by Nippon Denkai Co., Ltd.) or the rolled copper foil (18 micrometers in thickness, BHY manufactured by Nikko-Kinjoku Co., Ltd.) of the film in which the adhesive agent was obtained in this way was carried out (note ) A thermocompression bonding was performed under conditions of a lamination temperature of 130 ° C., a pressure of 3 MPa and a time of 20 seconds using a Nasec Corporation vacuum press laminate machine. By further heat-hardening this at 170 degreeC for 3 hours, the flexible printed wiring board was created.

이상과 같이 하여 얻어진 접착제 시트, 커버레이 필름, 연성 인쇄 배선판을, 이하에 나타내는 바와 같은 평가 항목에 따라 평가하였다.The adhesive sheet, coverlay film, and flexible printed wiring board obtained as mentioned above were evaluated in accordance with the evaluation items as shown below.

<박리 강도><Peel strength>

JIS C6471에 준거하여, 상기 연성 인쇄 배선판에 패턴 폭 1 ㎜의 회로를 형성하고, 도요 볼드윈사 제조 RTM100을 이용해서, 25℃ 분위기 하에서, 동박을 상기 배선판의 90°의 방향으로 50 ㎜/min의 인장 속도로 인장 시험을 행하여, 90°박리 강도를 측정하였다.In accordance with JIS C6471, a circuit having a pattern width of 1 mm was formed on the flexible printed wiring board, and the copper foil was placed in the 90 ° direction of the wiring board in a 50 mm / min direction at 25 ° C using RTM100 manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. The tensile test was done at the tensile speed, and 90 degree peeling strength was measured.

(판정) ◎: 15 N/㎝ 이상(Decision) ◎: 15 N / cm or more

○: 11 N/㎝ 이상 15 N/㎝ 미만       ○: 11 N / cm or more less than 15 N / cm

△: 6 N/㎝ 이상 11 N/㎝ 미만       Δ: 6 N / cm or more but less than 11 N / cm

×: 6 N/㎝ 미만       ×: less than 6 N / cm

<땜납 내열성>Solder Heat Resistance

(1) 정상적인 상태: JIS C6471에 준거하여, 상기 연성 인쇄 배선판을 1변이 25 ㎜인 정사각형으로 절단함으로써 시험편을 작성하고, 그 시험편을 300℃ 이상의 땜납욕 중에 30초간 침지하였다. 그 시험편에 박리, 부풀음, 변색 등의 외관 이상이 모두 발생하지 않는 온도를 측정하였다.(1) Normal state: According to JIS C6471, a test piece was created by cutting the said flexible printed wiring board into the square of 25 mm on one side, and the test piece was immersed for 30 second in the solder bath of 300 degreeC or more. The temperature at which no external appearance abnormalities such as peeling, swelling, and discoloration occurred in the test piece occurred.

(판정) ◎: 330℃ 이상(Judgment) (double-circle): 330 degreeC or more

○: 300℃ 이상 330℃ 미만       ○: 300 ° C or more and less than 330 ° C

×: 300℃ 미만       ×: less than 300 ° C

(2) 흡습: 상기한 정상적인 상태에서의 측정과 동일하게 작성한 시험편을 40℃, 상대 습도 90%의 분위기 하에 24시간 방치한 후, 신속하게 그 시험편을 280℃ 이상의 땜납욕 중에 30초간 침지하였다. 그 시험편에 박리, 부풀음, 변색 등의 외관 이상이 모두 발생하지 않는 온도를 측정하였다.(2) Hygroscopicity: The test piece prepared in the same manner as in the above-described normal state was left for 24 hours in an atmosphere of 40 ° C and 90% relative humidity, and then the test piece was quickly immersed in a solder bath of 280 ° C or higher for 30 seconds. The temperature at which no external appearance abnormalities such as peeling, swelling, and discoloration occurred in the test piece occurred.

(판정) ◎: 300℃ 이상(Decision) (double-circle): 300 degreeC or more

○: 280℃ 이상 300℃ 미만       ○: 280 ° C or more and less than 300 ° C

×: 280℃ 미만       X: less than 280 degreeC

<난연성><Flammability>

실시예 6에서 얻어진 접착제 조성물의 용액을 12.5 ㎛의 폴리이미드 필름((주)가네카 제조, 아피칼 12.5 NPI)의 양면에 각각 건조 후의 두께가 16 ㎛가 되도록 도포하고, 130℃에서 3분간, 송풍 오븐 안에서 건조한 후, 170℃에서 3시간, 가열 경화시킴으로써 샘플을 작성하였다. UL-94VTM 난연성 규격에 준거하여, 난연성을 평가하였다.The solution of the adhesive composition obtained in Example 6 was applied to both surfaces of a 12.5 μm polyimide film (manufactured by Kaneka Co., Apical 12.5 NPI) so as to have a thickness of 16 μm after drying, respectively, at 130 ° C. for 3 minutes, After drying in a ventilation oven, the sample was created by heat-hardening at 170 degreeC for 3 hours. Flame retardance was evaluated based on the UL-94VTM flame retardance standard.

(판정) ◎: UL94 VTM-0 상당이고, 샘플편의 연소가 절반보다 적었던 것(Judgment) (double-circle): It is equivalent to UL94 VTM-0, and the combustion of the sample piece was less than half.

○: UL94 VTM-0 상당이고, 샘플편의 연소가 절반 이상이었던 것        (Circle): It was UL94 VTM-0, and the combustion of the sample piece was more than half.

×: UL94 VTM-0을 만족하지 않는 것       ×: Do not satisfy UL94 VTM-0

<절연 신뢰성: 내마이그레이션성> <Insulation Reliability: Migration Resistance>

도요보사 제조 2층 CCL(상품명 바이로플렉스) 상에 선 간 70 ㎛의 빗형 패턴을 작성하였다. 이 회로 상에 실시예 6에서 얻어진 접착제 조성물의 용액을 건조 후의 두께가 25 ㎛가 되도록 도포하고, 130℃에서 3분간, 송풍 오븐 안에서 건조한 후, 170℃에서 3시간, 가열 경화시킴으로써 커버레이를 설치한 샘플을 작성하였다. 그 후, 온도 85℃, 상대 습도 85%의 조건 하에서, 직류 전압 50 V를 인가하여, 내마이그레이션성을 측정하였다.On the two-layer CCL (brand name Viroflex) by Toyobo Corporation, a comb pattern of 70 µm between lines was prepared. Apply the solution of the adhesive composition obtained in Example 6 to 25 micrometers on this circuit so that the thickness after drying may be set to 25 micrometers, and it is made to dry at 130 degreeC for 3 minutes, and then heat-cured at 170 degreeC for 3 hours, and a coverlay is installed. One sample was prepared. Thereafter, a direct current voltage of 50 V was applied under conditions of a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% to measure migration resistance.

(판정) ○: 500 hr 후의 절연 저항값이 1×108 Ω을 상회하고 또한 덴드라이트의 성장이 보여지지 않은 것(Judgment) (circle): The insulation resistance value after 500 hr exceeds 1x10 <8> ohms, and the growth of dendrites is not seen.

×: 500 hr 후의 절연 저항값이 1×108 Ω을 하회한 경우, 또는 덴드라이트의 성장이 보여진 것X: When insulation resistance value after 500 hr was less than 1x10 <8> ohms, or growth of dendrites was seen

<PCT 처리 후의 박리 강도>Peel Strength after PCT Treatment

상기 연성 인쇄 배선판을 샘플 폭이 5 ㎜가 되도록 절단하여 샘플을 작성한 후, 도미 세이코사 제조 오토클레이브를 이용하여, 온도 121℃, 습도 100%, 기압 2 atm 조건 하에서 40시간 PCT 시험을 행하였다. 이것을 JIS C6471에 준거하여, 도요 볼드윈사 제조 RTM100을 이용해서, 25℃ 분위기 하에서, 동박을 상기 배선판의 90°의 방향으로 50 ㎜/min의 인장 속도로 인장 시험을 행하여, 90°박리 강도를 측정하였다.After the said flexible printed wiring board was cut | disconnected so that the sample width might be set to 5 mm, the sample was produced, and the PCT test was performed for 40 hours under the conditions of temperature 121 degreeC, 100% of humidity, and 2 atmospheres of atmospheric pressure using the autoclave by a Tomi Seiko company. In accordance with JIS C6471, using a Toyo Baldwin Corporation RTM100, a copper foil was subjected to a tensile test at a tensile rate of 50 mm / min in a direction of 90 ° of the wiring board in a 25 ° C atmosphere, and the 90 ° peeling strength was measured. It was.

(판정) ◎: 10 N/㎝ 이상(Decision) ◎: 10 N / cm or more

○: 6 N/㎝ 이상 10 N/㎝ 미만       ○: 6 N / cm or more less than 10 N / cm

△: 4 N/㎝ 이상 6 N/㎝ 미만       (Triangle | delta): 4 N / cm or more and less than 6 N / cm

×: 4 N/㎝ 미만       ×: less than 4 N / cm

이상의 각 평가 방법으로 얻어진 결과를 표 4, 표 5에 나타낸다. Table 4 and Table 5 show the results obtained by the respective evaluation methods described above.

<실시예 7∼13, 비교예 8∼16><Examples 7-13, Comparative Examples 8-16>

실시예 6의 난연성 접착제 조성물과 마찬가지로, (A) 폴리아미드이미드 수지의 합성예 1∼5, 비교 합성예 1∼6에서 얻어진 용액을 이용하여, 각종 성분 (B)∼(F)를 배합하고, 희석 용제(디메틸아세트아미드/톨루엔=20/80)로 비휘발분 농도 30%로 조정된 실시예 7∼13, 비교예 8∼16의 난연성 접착제 조성물을 얻었다. 얻어진 각 접착제 조성물에 대해서 고형분 합계를 100 질량%로 한 고형분의 배합비를 표 4 및 표 5에 나타낸다. 또한, 각종 성분 (B)∼(F)는 미리 용제에 용해하여 용액으로서 이용하였다. 각종 성분 (B)∼(F)의 비휘발분 농도와 용제 조성을 이하에 나타낸다. Similarly to the flame-retardant adhesive composition of Example 6, various components (B) to (F) were blended using the solutions obtained in Synthesis Examples 1 to 5 and Comparative Synthesis Examples 1 to 6 of the (A) polyamideimide resin, The flame-retardant adhesive composition of Examples 7-13 and Comparative Examples 8-16 which adjusted to the non volatile matter concentration 30% with the dilution solvent (dimethylacetamide / toluene = 20/80) was obtained. The compounding ratio of solid content which made the total solid content 100 mass% about each obtained adhesive composition is shown in Table 4 and Table 5. In addition, various components (B)-(F) were previously melt | dissolved in the solvent and used as a solution. The non-volatile content concentration and solvent composition of various components (B) to (F) are shown below.

HCA: 비휘발분 농도 25 질량%, 디메틸아세트아미드 용액HCA: 25% by mass of nonvolatile matter, dimethylacetamide solution

BCA: 비휘발분 농도 25 질량%, 디메틸아세트아미드 용액BCA: Non-volatile matter concentration of 25% by mass, dimethylacetamide solution

SPH-100: 비휘발분 농도 30 질량%, 메틸에틸케톤 용액SPH-100: Non-volatile matter concentration 30% by mass, methyl ethyl ketone solution

DDS: 비휘발분 농도 15 질량%, 메틸에틸케톤 용액DDS: 15% by mass of nonvolatile matter, methyl ethyl ketone solution

jER152: 비휘발분 농도 50 질량%, 톨루엔 용액jER152: Non-volatile matter concentration 50% by mass, toluene solution

KBM-403: 비휘발분 농도 20 질량%, 톨루엔 용액KBM-403: Non-Volatile Concentration 20% by Mass, Toluene Solution

실시예 6과 마찬가지로 실시예 7∼13, 비교예 8∼16의 접착제 조성물에 대해서도 접착제 시트, 커버레이 필름, 연성 인쇄 배선판을 제조하고, 실시예 6과 마찬가지로 평가를 행하였다. 그 결과를 표 4, 표 5에 나타낸다.In the same manner as in Example 6, the adhesive compositions of Examples 7 to 13 and Comparative Examples 8 to 16 were prepared, and an adhesive sheet, a coverlay film, and a flexible printed wiring board were produced and evaluated in the same manner as in Example 6. The results are shown in Tables 4 and 5.

Figure pct00006
Figure pct00006

Figure pct00007
Figure pct00007

상기한 바와 같이 본 발명의 커버레이 필름, 연성 인쇄 배선판은 박리 강도, 땜납 내열성, 난연성 및 내마이그레이션성이 우수하고, 고온 고습 조건에서 처리한 후에도, 상기 특성이 우수하다. 특히, 땜납 내열성은 330℃에 견딜 수 있고, 또한 실시예 6∼8 및 13에 나타나는 바와 같이, 흡습 후에도 300℃에 견딜 수 있는 종래에 없는 매우 우수한 특성을 나타낸다.As described above, the coverlay film and the flexible printed wiring board of the present invention are excellent in peel strength, solder heat resistance, flame retardancy and migration resistance, and excellent in the above characteristics even after treatment under high temperature and high humidity conditions. In particular, the solder heat resistance exhibits a very good characteristic that has not been conventionally able to withstand 330 ° C and can withstand 300 ° C even after moisture absorption, as shown in Examples 6 to 8 and 13.

비교예 8의 인 함유율은 2.0 질량% 미만으로 특허청구의 범위 외이고, 난연성이 뒤떨어진다.The phosphorus content rate of the comparative example 8 is less than 2.0 mass%, out of the claim, and inferior to flame retardance.

비교예 9의 인 함유율은 5.0 질량%보다 커서, 특허청구의 범위 외이고, 땜납 내열성, 내마이그레이션성이 뒤떨어진다.The phosphorus content of the comparative example 9 is larger than 5.0 mass%, it is outside the claim, and it is inferior to solder heat resistance and migration resistance.

비교예 10은 (B) 인 함유 에폭시 수지가 포함되어 있지 않아, 특허청구의 범위 외이고, 땜납 내열성, 난연성, 내마이그레이션성이 뒤떨어진다.The comparative example 10 does not contain (B) phosphorus containing epoxy resin, it is outside the claim, and it is inferior to solder heat resistance, flame retardance, and migration resistance.

비교예 11은 (b) 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산의 비율이 10 몰% 미만인 특허청구의 범위 외의 폴리아미드이미드 수지를 사용하고 있으며, 박리 강도가 뒤떨어진다.In Comparative Example 11, a polyamideimide resin outside the range of the claims of (b) aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms is less than 10 mol%, and the peel strength is inferior.

비교예 12는 (b) 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산의 비율이 80 몰%보다 많은 특허청구의 범위 외의 폴리아미드이미드 수지를 사용하고 있으며, 흡습 후의 땜납 내열성이 뒤떨어진다. In Comparative Example 12, a polyamideimide resin having a ratio of (b) aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms outside the range of the claims of more than 80 mol% is used, and the solder heat resistance after moisture absorption is inferior.

비교예 13은 (b) 탄소수가 12보다 큰 지방족 디카르복실산을 사용하고 있는 특허청구의 범위 외의 폴리아미드이미드 수지를 사용하고 있으며, 박리 강도가 뒤떨어진다. In Comparative Example 13, (b) a polyamideimide resin outside the scope of claims using aliphatic dicarboxylic acid having more than 12 carbon atoms was used, and the peel strength was inferior.

비교예 14는 (a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무의 비율이 3 몰% 미만인 폴리아미드이미드 수지를 사용하고 있으며, 박리 강도가 뒤떨어진다.Comparative Example 14 uses a polyamideimide resin having a ratio of (a) acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends of less than 3 mol%, and is inferior in peel strength.

비교예 15는 접착성이 현저하게 뒤떨어지는 것이며, 연성 인쇄 배선판 작성의 라미네이트 조건(온도 130℃, 압력 3 ㎫, 시간 20초)에서는 열압착시킬 수 없어, 평가할 수 없었다.In Comparative Example 15, the adhesiveness was remarkably inferior, and thermal bonding was not possible under the laminating conditions (temperature 130 ° C., pressure 3 MPa, time 20 seconds) of the flexible printed wiring board, and could not be evaluated.

비교예 16은 (b) 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산을 공중합하고 있지 않은 특허청구의 범위 외의 폴리아미드이미드 수지를 사용하고 있으며, 박리 강도가 뒤떨어진다. In Comparative Example 16, (b) a polyamideimide resin outside the scope of claims not copolymerizing an aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms was used, and the peel strength was inferior.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지, 또한 열경화제를 첨가한 접착제 수지 조성물은, 동장 적층판이나 커버레이, 접착제 시트, 수지가 부착된 동박, 오버코트 잉크, 프리프레그 등의 인쇄 배선판에 유용한 것 외에, 도료, 코팅제 등으로서 전자 기기의 폭넓은 분야에서 사용 가능하다.The polyamideimide resin of the present invention and the adhesive resin composition to which the thermosetting agent is added are useful for printed wiring boards such as copper clad laminates, coverlays, adhesive sheets, copper foils with resins, overcoat inks, prepregs, paints, As a coating agent etc., it can be used in the wide field of an electronic device.

또한, 본 발명의 난연성 접착제 조성물은 비할로겐이고, 환경에 친화적이며, 작업성이 우수하고, 연성 인쇄 배선판의 제조에 적합하다. 또한, 본 발명의 난연성 접착제 조성물은 접착제 시트, 커버레이 필름, 연성 인쇄 배선판의 절연층 등으로서 이용 가능하다.In addition, the flame-retardant adhesive composition of the present invention is non-halogen, environmentally friendly, excellent in workability, and suitable for the production of flexible printed wiring boards. Moreover, the flame-retardant adhesive composition of this invention can be used as an insulating layer of an adhesive sheet, a coverlay film, a flexible printed wiring board, etc.

Claims (15)

하기 (a)∼(c)의 산 성분과 방향환을 갖는 디이소시아네이트 또는 디아민을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드이미드 수지로서, 상기 폴리아미드이미드 수지의 전체 산 성분을 100 몰%로 한 경우에 각 산 성분의 비율이 (a) 3 몰%∼10 몰%, (b) 10 몰%∼80 몰%, (c) 10 몰%∼87 몰%인 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드 수지:
(a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무,
(b) 탄소수가 4 내지 12인 지방족 디카르복실산,
(c) 방향환을 갖는 폴리카르복실산의 산무수물.
A polyamideimide resin obtained by reacting a diisocyanate or diamine having an aromatic ring with an acid component of the following (a) to (c), each acid component when the total acid component of the polyamideimide resin is 100 mol%. Wherein the ratio of (a) 3 mol% to 10 mol%, (b) 10 mol% to 80 mol%, and (c) 10 mol% to 87 mol%:
(a) acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends,
(b) aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms,
(c) Acid anhydride of polycarboxylic acid which has an aromatic ring.
제1항에 있어서, 폴리아미드이미드 수지가 에탄올, 톨루엔, 크실렌 및 메틸에틸케톤으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종류 이상의 용제 60 질량과 디메틸아세트아미드 40 질량을 포함하는 혼합 용제에 25℃에서 10 질량% 이상 용해되는 폴리아미드이미드 수지. 10 mass% at 25 degreeC in the mixed solvent containing 60 mass of 1 or more types of solvents chosen from the group which consists of ethanol, toluene, xylene, and methyl ethyl ketone, and 40 mass of dimethylacetamides of Claim 1, Comprising: Polyamideimide resin which dissolves abnormally. 제2항에 기재된 폴리아미드이미드 수지에 열경화성 성분을 첨가한 폴리아미드이미드 수지 조성물.The polyamideimide resin composition which added the thermosetting component to the polyamideimide resin of Claim 2. 제3항에 있어서, 열경화성 성분이 에폭시 수지인 폴리아미드이미드 수지 조성물.The polyamideimide resin composition according to claim 3, wherein the thermosetting component is an epoxy resin. 제3항 또는 제4항에 기재된 폴리아미드이미드 수지 조성물을 접착제로서 이용한 인쇄 배선판.The printed wiring board which used the polyamide-imide resin composition of Claim 3 or 4 as an adhesive agent. (A) 폴리아미드이미드 수지, (B) 인 함유 에폭시 수지, (C) 인 화합물을 함유하고, (A) 폴리아미드이미드 수지가 하기 (a)∼(c)의 산 성분과 방향환을 갖는 디이소시아네이트 또는 디아민을 반응시켜 얻어지는 폴리아미드이미드 수지이며, 상기 폴리아미드이미드 수지의 전체 산 성분을 100 몰%로 한 경우에 각 산 성분의 비율이 (a) 3 몰%∼10 몰%, (b) 10 몰%∼80 몰%, (c) 10 몰%∼87 몰%이고, (A)∼(C) 성분의 합계 질량에 대한 인 함유율이 2.0 질량%∼5.0 질량%인 것을 특징으로 하는 난연성 접착제 조성물:
(a) 카르복실기를 양 말단에 갖는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무,
(b) 탄소수가 4∼12인 지방족 디카르복실산,
(c) 방향환을 갖는 폴리카르복실산의 무수물.
(A) polyamideimide resin, (B) phosphorus containing epoxy resin, (C) phosphorus compound, and (A) polyamideimide resin which has the acid component and aromatic ring of following (a)-(c) It is a polyamideimide resin obtained by making isocyanate or diamine react, and when the total acid component of the said polyamideimide resin is 100 mol%, the ratio of each acid component is (a) 3 mol%-10 mol%, (b) It is 10 mol%-80 mol%, (c) 10 mol%-87 mol%, The flame-retardant adhesive characterized by the phosphorus content rate with respect to the total mass of (A)-(C) component 2.0 mass%-5.0 mass%. Composition:
(a) acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups at both ends,
(b) aliphatic dicarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms,
(c) Anhydrides of polycarboxylic acids having an aromatic ring.
제6항에 있어서, (C) 인 화합물이 포스파젠 및/또는 포스핀산 유도체인 난연성 접착제 조성물. The flame retardant adhesive composition of claim 6, wherein the compound (C) is a phosphazene and / or phosphinic acid derivative. 제6항 또는 제7항에 있어서, (D) 에폭시 수지 경화제를 추가로 함유하는 난연성 접착제 조성물. The flame-retardant adhesive composition according to claim 6 or 7, further comprising (D) an epoxy resin curing agent. 제6항 내지 제8항 중 어느 하나의 항에 있어서, (E) 인을 포함하지 않는 에폭시 수지를 추가로 함유하는 난연성 접착제 조성물. The flame-retardant adhesive composition of any one of Claims 6-8 which further contains the epoxy resin which does not contain (E) phosphorus. 제6항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서, (F) 실란 커플링제를 추가로 함유하는 난연성 접착제 조성물. The flame-retardant adhesive composition according to any one of claims 6 to 9, further comprising (F) a silane coupling agent. 제6항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 (A)∼(F) 성분이 모두 디메틸아세트아미드, 에탄올, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤 중 어느 하나의 용제에 25℃, 고형분 농도 25 질량%로 용해되는 난연성 접착제 조성물. The solid content concentration according to any one of claims 6 to 10, wherein all of the components (A) to (F) are 25 ° C in a solvent of any one of dimethylacetamide, ethanol, toluene, xylene, and methyl ethyl ketone. A flame retardant adhesive composition that dissolves at 25% by mass. 제6항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 (A)∼(F) 성분의 합계 질량에 대한 인 함유율이 2.0 질량%∼5.0 질량%인 난연성 접착제 조성물. The flame-retardant adhesive composition of any one of Claims 6-11 whose phosphorus content rate with respect to the total mass of the said (A)-(F) component is 2.0 mass%-5.0 mass%. 제6항 내지 제12항 중 어느 하나의 항에 기재된 난연성 접착제 조성물을 포함하는 접착제층과 박리 가능한 보호 필름층이 적층되어 이루어지는 접착제 시트로서, 접착제층의 한쪽 면 또는 양면에 박리 가능한 보호 필름층을 갖는 접착제 시트.An adhesive sheet comprising an adhesive layer and a peelable protective film layer laminated with the flame-retardant adhesive composition according to any one of claims 6 to 12, wherein the protective film layer is peelable on one or both sides of the adhesive layer. Having adhesive sheet. 제6항 내지 제12항 중 어느 하나의 항에 기재된 난연성 접착제 조성물을 포함하는 접착제층과 절연성 플라스틱 필름층이 적층되어 이루어지는 커버레이 필름. The coverlay film formed by laminating | stacking the adhesive bond layer and insulating plastic film layer containing the flame-retardant adhesive composition in any one of Claims 6-12. 제6항 내지 제12항 중 어느 하나의 항에 기재된 난연성 접착제 조성물을 이용하여 형성된 절연층을 포함하는 연성 인쇄 배선판.The flexible printed wiring board containing the insulating layer formed using the flame-retardant adhesive composition of any one of Claims 6-12.
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