KR20110058063A - Optical absorption type paticle measurement apparatus - Google Patents

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KR20110058063A KR1020090114721A KR20090114721A KR20110058063A KR 20110058063 A KR20110058063 A KR 20110058063A KR 1020090114721 A KR1020090114721 A KR 1020090114721A KR 20090114721 A KR20090114721 A KR 20090114721A KR 20110058063 A KR20110058063 A KR 20110058063A
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parallel light
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권용택
최정석
윤진욱
문지훈
김태성
강상우
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(주)에이치시티
김태성
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Abstract

PURPOSE: A light absorption type particle measurement apparatus is provided to measure the size and number of particles in the whole sections along the path of collimated light beams that pass through a measurement chamber. CONSTITUTION: A light absorption type particle measurement apparatus, which measures the distribution of particles moving in a measurement chamber(C) from the amount of light absorbed by the particles, comprises a light generating unit(200) and a light detecting unit(300). The light generating unit generates collimated light beams that pass through the measurement chamber parallely. The light detecting unit receives and detects the light beams passing through the measurement chamber.

Description

광 흡수 방식 입자 측정 장치{Optical Absorption Type Paticle Measurement Apparatus}Optical Absorption Type Paticle Measurement Apparatus

본 발명은 광 흡수 방식 입자 측정 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 광 발생부로부터 평행광을 발생시켜 광 검출부에 수광되도록 함으로써, 측정 챔버 내부를 통과하는 평행광의 경로를 따라 전 구간에서 입자의 크기 및 개수를 측정할 수 있으므로, 측정 챔버 내에서 입자를 측정할 수 있는 영역이 확장되어 더욱 정확한 측정 결과를 제공함과 동시에, 평행광의 경로를 변경할 수 있도록 반사 미러를 장착함으로써, 측정 환경에 따라 가장 최적화된 상태에서 입자의 크기 및 개수를 측정하여 측정 결과에 대한 신뢰성이 더욱 향상되는 광 흡수 방식 입자 측정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a light absorption type particle measuring device. More specifically, by generating parallel light from the light generating unit and receiving the light in the light detecting unit, the size and number of particles can be measured in all sections along the path of parallel light passing through the inside of the measuring chamber. The measurement area is expanded to provide more accurate measurement results and at the same time equipped with a reflecting mirror to change the path of parallel light, the size and number of particles are measured in the most optimized state according to the measurement environment. The present invention relates to a light absorption type particle measurement device further improved reliability.

일반적으로 반도체 공정이나 LCD 공정과 같은 나노 수준의 고도 정밀 공정은 작업 설비 내에 오염 입자가 발생하게 되면, 치명적인 제품 불량으로 이어질 수 있으므로, 고도의 청결 상태가 유지될 수 있도록 클린룸과 같은 청정 설비 내에서 공정이 진행되고 있으며 이러한 설비에서는 오염 입자에 대한 실시간 감시 또한 매우 엄격하게 이루어지고 있다.In general, nano-level high precision processes such as semiconductor processes and LCD processes can lead to fatal product defects if contaminants are generated in the work facility. Therefore, in a clean facility such as a clean room, a high level of cleanliness can be maintained. The process is underway and real-time monitoring of contaminated particles is also very strict at these facilities.

따라서, 이러한 설비에서는 설비 내의 오염 입자 측정을 위한 별도의 입자 측정 장치가 사용되고 있으며, 이러한 입자 측정 장치를 통해 실시간으로 설비 내의 특정 챔버에 대한 입자 분포 상태가 측정되고 있다.Therefore, in such a facility, a separate particle measuring device for measuring polluted particles in the facility is used, and the particle distribution state of a specific chamber in the facility is measured in real time through the particle measuring device.

이러한 입자 측정 장치는 임의의 측정 챔버 내의 입자의 분포 상태, 즉 입자의 크기 및 개수 등을 측정하는 것으로, 클린룸 설비 이외에도 대기 오염 입자의 분포 상태를 측정하거나 실험실 등에서 특정 입자의 분포 상태를 측정하기 위해 사용되는 등 매우 다양한 분야에 널리 사용되고 있다.Such a particle measuring device measures the distribution state of particles in an arbitrary measurement chamber, that is, the size and number of particles, and the like to measure the distribution state of air pollutant particles in addition to the clean room equipment or to measure the distribution state of specific particles in a laboratory or the like. It is widely used in a variety of fields, such as used for.

입자 측정 장치의 종류는 측정 가능한 입자의 크기 또는 측정 방식 등에 따라 다양하게 분류되는데, 통상 나노 수준의 입자를 측정하기 위한 입자 측정 장치로는 빛을 이용한 방식으로 광 산란 방식과 광 흡수 방식으로 크게 대별된다.The type of particle measuring device is classified into various types according to the size of the particle or the measuring method. The particle measuring device for measuring nano-level particles is generally classified into light scattering and light absorption by light. do.

광 산란 방식은 측정 챔버 내에 광을 입사한 후 측정 챔버 내부 공간에서 유동하는 입자와의 충돌에 의해 발생되는 산란광을 검출하여 입자의 크기 및 개수를 파악하는 방식이고, 광 흡수 방식은 측정 챔버 내에 광을 입사한 후 측정 챔버 내부 공간에서 유동하는 입자에 의해 흡수되는 광량을 검출하여 입자의 크기 및 개수를 파악하는 방식이며, 이 두가지 방식의 입자 측정 장치는 사용자의 필요에 따라 선택적으로 널리 사용되고 있다. The light scattering method detects scattered light generated by collision with particles flowing in the space inside the measuring chamber after incident light into the measuring chamber and determines the size and number of particles. It is a method of determining the size and number of particles by detecting the amount of light absorbed by the particles flowing in the measurement chamber after entering the light, the two types of particle measuring device is selectively used widely according to the needs of the user.

이 중 광 흡수 방식의 입자 측정 장치의 원리를 좀 더 자세히 살펴보면, 일반적으로 광 발생부에서 측정 챔버 내에 하나의 초점을 형성하도록 빛을 조사하고, 광 검출부에서 초점 영역을 통과한 빛을 수광하여 검출하는 방식으로 진행되는데, 이때 광 발생부에서 발생된 빛은 측정 챔버 내부에서 유동하는 입자에 의해 일부가 흡수 소멸되어 광 검출부로 수광된다. 따라서, 광 발생부에서 발생한 빛의 세기와 광 검출부에서 검출된 빛의 세기를 비교하고 이를 별도의 제어부에서 연산하는 방식으로 입자의 크기를 측정한다. 이때, 측정된 빛의 세기를 이용하여 입자의 크기를 산출해내는 방법은 입자 크기와 빛의 세기와의 관계를 규명하는 Mie 이론을 통해서 가능하다. 또한, 이러한 광 흡수 방식의 입자 측정 장치는 광 검출부에서 수광 검출된 빛의 세기 변화 횟수를 측정하는 방식으로 측정 챔버 내에 존재하는 오염 입자의 개수도 측정한다.In detail, the principle of the light absorption type particle measuring apparatus is generally investigated by irradiating light to form a focal point in the measurement chamber in the light generating unit, and receiving and detecting light passing through the focus area in the light detecting unit. In this case, the light generated by the light generator is absorbed and extinguished by the particles flowing in the measurement chamber and is received by the light detector. Therefore, the particle size is measured by comparing the intensity of the light generated by the light generator with the intensity of the light detected by the light detector and calculating the result by a separate controller. At this time, the method of calculating the particle size by using the measured light intensity is possible through Mie theory which examines the relationship between the particle size and the light intensity. In addition, the light absorption type particle measuring apparatus also measures the number of contaminant particles present in the measurement chamber by measuring the number of changes in the intensity of light detected by the light detection unit.

이와 같이 입자의 크기 및 개수를 측정하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 일반적으로 Mie 이론 상의 가정에 따라 빛의 직경이 측정 대상 입자의 직경보다 더 작게 형성되어야 하며, 이와 같이 형성된 경우에만 정확한 측정값을 얻을 수 있게 된다. 다시 말하면, 측정 챔버로 조사하는 빛의 직경보다 더 큰 크기의 입자에 대해서만 정확한 측정값을 얻을 수 있는 구조이다. 이러한 원리에 따라 종래 기술에 따른 일반적인 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 빛의 직경을 감소시키기 위해 전술한 바와 같이 광 발생부에서 하나의 초점을 갖는 빛을 조사하는 방식으로 구성된다.As described above, in the light absorption type particle measuring apparatus which measures the size and number of particles, the diameter of light should be smaller than the diameter of the particle to be measured according to Mie theory. You can get it. In other words, an accurate measurement value can be obtained only for particles having a size larger than the diameter of light irradiated to the measurement chamber. According to this principle, a general light absorption type particle measuring apparatus according to the prior art is configured by irradiating light having one focal point in the light generating unit as described above in order to reduce the diameter of light.

그러나 이와 같이 광 발생부에서 하나의 초점을 갖는 빛을 조사하는 경우, 실질적으로 나노 수준의 입자의 크기를 측정하기 위해서는 빛의 초점에 인접한 영역에서만 가능하다. 왜냐하면, 빛의 직경이 측정 대상 입자의 직경보다 더 작아지는 범위에서만 정확한 측정값을 얻을 수 있으므로, 빛의 직경이 나노 수준으로 작 아지는 초점 영역 부근에서만 이러한 측정이 가능하다. 따라서, 종래 기술에 의한 일반적인 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 측정 챔버 내의 초점 영역 부근에 존재하는 입자에 대해서만 제한적으로 입자의 크기 및 개수를 측정할 수밖에 없으며, 이는 측정 챔버 내의 좀 더 넓은 범위에서 입자의 크기 및 개수를 측정할 수 없다는 점에서 측정값에 대한 정확도 및 신뢰도가 저하되는 문제가 있었다.However, when irradiating light having one focal point in the light generating unit as described above, in order to substantially measure the size of the nano-level particles, it is possible only in an area adjacent to the focal point of light. Because accurate measurements can be obtained only in the range where the diameter of the light becomes smaller than the diameter of the particle to be measured, such measurement is possible only near the focal region where the diameter of the light is reduced to the nano level. Therefore, the conventional light absorption particle measuring apparatus according to the prior art can only measure the size and number of particles limited to the particles present in the vicinity of the focal region in the measurement chamber. Since the size and number cannot be measured, there is a problem that the accuracy and reliability of the measured values are deteriorated.

본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 발명한 것으로서, 본 발명의 목적은 광 발생부로부터 평행광을 발생시켜 광 검출부에 수광되도록 함으로써, 측정 챔버 내부를 통과하는 평행광의 경로를 따라 전 구간에서 입자의 크기 및 개수를 측정할 수 있으므로, 측정 챔버 내에서 입자를 측정할 수 있는 영역이 확장되어 더욱 정확한 측정 결과를 제공하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치를 제공하는 것이다.The present invention is invented to solve the problems of the prior art, an object of the present invention is to generate parallel light from the light generating unit to be received by the light detection unit, so that in all sections along the path of parallel light passing through the inside of the measurement chamber Since the size and number of particles can be measured, an area for measuring particles in the measurement chamber is expanded to provide a light absorption type particle measuring apparatus that provides more accurate measurement results.

본 발명의 다른 목적은 다수개의 포커싱 렌즈 및 평행광 렌즈를 통해 직경이 작은 평행광을 형성하여 빛의 세기를 강화함으로써, 입자의 의해 흡수 소멸되는 빛의 양을 더욱 정밀하게 측정할 수 있는 광 흡수 방식 입자 측정 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to increase the intensity of light by forming a parallel diameter of a small diameter through a plurality of focusing lens and parallel light lens to enhance the light intensity, the light absorption which can more accurately measure the amount of light absorbed and destroyed by the particles An anticorrosive particle measuring apparatus is provided.

본 발명의 또 다른 목적은 평행광 렌즈 모듈을 통해 형성된 평행광에 대해 빔 익스팬더로 그 직경을 조절하도록 함으로써, 특정 크기 범위의 입자만을 한정하여 측정할 뿐만 아니라, 평행광의 직경을 조절하여 측정을 반복함으로써 측정 챔버 내에 존재하는 입자에 대해 그 크기별로 각각 분류해서 입자의 분포 상태를 파악할 수 있는 광 흡수 방식 입자 측정 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to adjust the diameter of the parallel light formed through the parallel light lens module with a beam expander, not only to measure the particle of a specific size range, but also to adjust the diameter of the parallel light to repeat the measurement Accordingly, the present invention provides a light absorption type particle measuring device capable of grasping the particle distribution state by classifying each particle present in the measurement chamber by its size.

본 발명의 또 다른 목적은 간섭 필터와 흡수 필터를 통해 광 검출부에 수광되는 평행광을 제한함과 동시에 광량을 감소함으로써, 노이즈를 제거할 수 있고 장치의 전체적인 스케일을 줄일 수 있는 광 흡수 방식 입자 측정 장치를 제공하는 것 이다.Another object of the present invention is to measure the light absorption type particle which can remove noise and reduce the overall scale of the device by limiting the parallel light received by the light detector through the interference filter and the absorption filter and reducing the amount of light. To provide a device.

본 발명의 또 다른 목적은 평행광의 경로를 변경할 수 있도록 반사 미러를 장착함으로써, 측정 환경에 따라 가장 최적화된 상태에서 입자의 크기 및 개수를 측정하여 측정 결과에 대한 신뢰성이 더욱 향상되는 광 흡수 방식 입자 측정 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to mount a reflection mirror to change the path of parallel light, by measuring the size and number of particles in the most optimized state according to the measurement environment, the light absorption type particles further improve the reliability of the measurement results It is to provide a measuring device.

본 발명은, 입자에 의해 흡수 소멸된 빛의 양을 검출하여 측정 챔버 내부에서 유동하는 입자의 분포 상태를 측정하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치에 있어서, 상기 측정 챔버를 통과하도록 빛을 발생시키는 광 발생부; 및 상기 측정 챔버를 통과한 빛을 수광하여 검출하는 광 검출부를 포함하고, 상기 광 발생부에 의해 발생된 빛은 상기 측정 챔버를 평행하게 통과하는 평행광인 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치를 제공한다.The present invention provides a light absorption type particle measuring apparatus for detecting an amount of light absorbed and extinguished by particles, and measuring a distribution state of particles flowing in a measurement chamber, wherein the light generation generates light to pass through the measurement chamber. part; And a light detector for receiving and detecting light passing through the measurement chamber, wherein the light generated by the light generator is parallel light passing through the measurement chamber in parallel. to provide.

이때, 상기 광 발생부는 레이저 광을 발생시키는 레이저 다이오드; 및 상기 레이저 다이오드를 통해 발생된 레이저 광을 평행광으로 변환시키는 평행광 렌즈 모듈을 포함하여 구성될 수 있다.In this case, the light generating unit includes a laser diode for generating laser light; And it may be configured to include a parallel light lens module for converting the laser light generated through the laser diode into parallel light.

이때, 상기 평행광 렌즈 모듈은 상기 레이저 광을 하나의 초점으로 포커싱하는 복수개의 포커싱 렌즈; 및 상기 초점을 통과한 레이저 광을 평행광으로 변환시키는 복수개의 평행광 렌즈를 포함하여 구성될 수 있다.In this case, the parallel light lens module comprises a plurality of focusing lenses for focusing the laser light to one focal point; And a plurality of parallel light lenses for converting the laser light passing through the focal point into parallel light.

또한, 상기 광 발생부는 상기 평행광 렌즈 모듈을 통해 변환된 평행광의 직 경을 확장 또는 축소하는 빔 익스팬더를 더 포함하여 구성될 수 있다.The light generating unit may further include a beam expander configured to expand or reduce the diameter of the parallel light converted through the parallel light lens module.

또한, 상기 광 검출부는 특정 파장 영역의 빛을 제거하는 간섭 필터와 광량을 감소시키는 흡수 필터 중 적어도 어느 하나를 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the light detector may include at least one of an interference filter for removing light in a specific wavelength region and an absorption filter for reducing the amount of light.

또한, 상기 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 상기 측정 챔버를 통과하는 평행광의 경로가 변경될 수 있도록 평행광을 반사하는 적어도 하나 이상의 반사 미러를 더 포함하여 구성될 수 있다.The light absorbing particle measuring apparatus may further include at least one reflective mirror reflecting parallel light so that a path of parallel light passing through the measuring chamber may be changed.

또한, 상기 반사 미러의 반사 각도를 조절할 수 있는 액츄에이터를 더 포함하여 구성될 수 있다.In addition, it may be configured to further include an actuator that can adjust the reflection angle of the reflection mirror.

또한, 상기 광 검출부는 상기 상기 반사 미러에 의한 평행광의 경로 변경에 대응하여 평행광을 수광할 수 있도록 상기 측정 챔버에 대해 이동 가능하게 설치될 수 있다.In addition, the light detector may be installed to be movable relative to the measurement chamber to receive the parallel light in response to the path change of the parallel light by the reflection mirror.

본 발명에 의하면, 광 발생부로부터 평행광을 발생시켜 광 검출부에 수광되도록 함으로써, 측정 챔버 내부를 통과하는 평행광의 경로를 따라 전 구간에서 입자의 크기 및 개수를 측정할 수 있으므로, 측정 챔버 내에서 입자를 측정할 수 있는 영역이 확장되어 더욱 정확한 측정 결과를 제공하는 효과가 있다.According to the present invention, since the parallel light is generated from the light generating unit and received by the light detecting unit, the size and number of particles can be measured in all sections along the path of the parallel light passing through the inside of the measuring chamber. The area in which particles can be measured is extended to provide more accurate measurement results.

또한, 다수개의 포커싱 렌즈 및 평행광 렌즈를 통해 직경이 작은 평행광을 형성하여 빛의 세기를 강화함으로써, 입자의 의해 흡수 소멸되는 빛의 양을 더욱 정밀하게 측정할 수 있는 효과가 있다.In addition, by forming a parallel light with a small diameter through a plurality of focusing lenses and parallel light lenses to enhance the light intensity, there is an effect that can more accurately measure the amount of light absorbed and extinguished by the particles.

또한, 평행광 렌즈 모듈을 통해 형성된 평행광에 대해 빔 익스팬더로 그 직경을 조절하도록 함으로써, 특정 크기 범위의 입자만을 한정하여 측정할 뿐만 아니라, 평행광의 직경을 조절하여 측정을 반복함으로써 측정 챔버 내에 존재하는 입자에 대해 그 크기별로 각각 분류해서 입자의 분포 상태를 파악할 수 있는 효과가 있다. In addition, by adjusting the diameter of the parallel light formed through the parallel light lens module with a beam expander, not only the particle of a specific size range is measured, but also the measurement is repeated by adjusting the diameter of the parallel light. Particles can be classified according to their size to determine the distribution of particles.

또한, 간섭 필터와 흡수 필터를 통해 광 검출부에 수광되는 평행광을 제한함과 동시에 광량을 감소함으로써, 노이즈를 제거할 수 있고 장치의 전체적인 스케일을 줄일 수 있는 효과가 있다.In addition, by limiting the parallel light received by the light detector through the interference filter and the absorption filter and reducing the amount of light, noise can be eliminated and the overall scale of the device can be reduced.

또한, 평행광의 경로를 변경할 수 있도록 반사 미러를 장착함으로써, 측정 환경에 따라 가장 최적화된 상태에서 입자의 크기 및 개수를 측정하여 측정 결과에 대한 신뢰성을 더욱 향상할 수 있는 효과가 있다.In addition, by mounting a reflection mirror to change the path of parallel light, there is an effect that can further improve the reliability of the measurement results by measuring the size and number of particles in the most optimized state according to the measurement environment.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First of all, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are used as much as possible even if displayed on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 개략적인 형상을 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 내부 구조를 개념적으로 도시하기 위해 도 1의 "A-A"선을 따라 취한 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 광 발생부의 구조를 개념적으로 확대 도시한 개념도이고, 도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 반사 미러에 따른 동작 상태를 개념적으로 도시한 개념도이다.1 is a perspective view showing a schematic shape of a light absorbing particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 conceptually illustrates the internal structure of the light absorbing particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention 1 is a cross-sectional view taken along the line “AA” of FIG. 1, and FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating an enlarged conceptual view of a structure of a light generating unit of a light absorption type particle measuring apparatus according to an exemplary embodiment. 5 is a conceptual diagram conceptually illustrating an operating state of a reflection mirror of the light absorption type particle measuring apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 측정 챔버(C)의 내부에서 유동하는 입자에 의해 흡수 소멸되는 빛의 양을 측정하여 측정 챔버(C) 내에 존재하는 입자의 분포 상태, 즉 입자의 크기 및 개수 등을 측정하는 장치로서, 측정 챔버(C)에 연통되게 장착되는 광 발생부(200) 및 광 검출부(300)를 포함하여 구성된다. 이때, 측정 챔버(C)는 반도체 공정 또는 LCD 공정의 설비인 클린룸 설비 또는 대기 오염도를 측정하기 위한 별도의 케이스 또는 실험실에서 사용되는 각종 실험 기기 등 매우 다양한 기기가 적용될 수 있을 것이다.The light absorption type particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention measures the amount of light absorbed and extinguished by particles flowing in the measurement chamber C, and thus the distribution state of the particles present in the measurement chamber C, That is, a device for measuring the size and number of particles and the like, and includes a light generating unit 200 and a light detecting unit 300 mounted in communication with the measurement chamber (C). At this time, the measurement chamber (C) may be applied to a wide variety of devices, such as a clean room equipment that is a facility of the semiconductor process or LCD process or a separate case for measuring the air pollution degree or various experimental devices used in the laboratory.

광 발생부(200)는 측정 챔버(C)를 통과하도록 빛을 발생시키는 장치로, 레이저 광을 발생시키는 레이저 다이오드(210)를 통해 빛을 발생시키고, 레이저 다이오드(210)를 통해 발생된 레이저 광을 후술하는 평행광 렌즈 모듈(220)을 통해 평행광으로 변환시키도록 구성된다.The light generator 200 is a device that generates light to pass through the measurement chamber C. The light generator 200 generates light through a laser diode 210 that generates laser light, and generates laser light through the laser diode 210. It is configured to convert to parallel light through a parallel light lens module 220 to be described later.

광 검출부(300)는 광 발생부(200)로부터 발생되어 측정 챔버(C)를 통과한 빛을 수광하여 검출하는 장치로, 빛을 수광하는 수광 센서(310)를 포함하여 구성되 고, 이러한 수광 센서(310)는 별도의 제어부(400)와 연결되어 수광 센서(310)에 의해 수광된 빛은 전기적 신호로 변환되어 제어부(400)로 전송되도록 구성된다.The light detector 300 is an apparatus for receiving and detecting light generated from the light generator 200 and passing through the measurement chamber C. The light detector 300 includes a light receiving sensor 310 for receiving light. The sensor 310 is connected to a separate control unit 400 so that the light received by the light receiving sensor 310 is configured to be converted into an electrical signal and transmitted to the control unit 400.

이때, 광 검출부(300)에 의해 수광 검출된 빛의 세기를 통해 측정 챔버(C) 내부에 존재하는 입자의 크기를 연산한다. 즉, 광 발생부(200)에서 발생된 빛의 세기와 광 검출부(300)에서 수광된 빛의 세기를 비교하고, 이에 따른 빛의 흡수 소멸량을 파악하여 Mie 이론에 따른 연산식을 적용하여 입자의 크기를 측정한다. 또한, 이와 같이 파악된 일정 크기 이상의 빛의 세기 변화에 대한 발생 횟수를 측정하여 입자의 개수를 측정한다. 이러한 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 원리는 공지된 기술이므로 상세한 설명은 생략한다.At this time, the size of the particles present in the measurement chamber (C) is calculated through the intensity of the light received by the light detector 300. That is, the intensity of the light generated by the light generator 200 and the intensity of the light received by the light detector 300 are compared. Measure the size of. In addition, the number of particles is measured by measuring the number of occurrences of changes in intensity of light of a predetermined size or more. Since the principle of the light absorption type particle measuring device is a known technique, detailed description thereof will be omitted.

이와 같이 구성되어 동작하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 본 발명의 일 실시예에 따라 광 발생부(200)에 의해 발생된 빛이 측정 챔버(C)를 평행하게 통과하는 평행광(L)으로 발생되도록 구성된다. 이러한 평행광(L)은 본 발명의 일 실시예에 따른 평행광 렌즈 모듈(220)을 통해 가능하다. 즉, 일반적으로 레이저 다이오드(210)에서 발생된 레이저 광은 일정 범위의 방출 각도를 가지며 발생되는데, 이와 같이 방출 각도를 갖는 레이저 광은 본 발명의 일 실시예에 따른 평행광 렌즈 모듈(220)을 통과하며 평행광(L)으로 변환된다. 이때, 평행광(L)의 직경은 별도의 빔 익스팬더(230)를 통해 조절되도록 구성되는 것이 바람직하며, 이에 대한 내용은 후술한다.In the light absorption type particle measuring apparatus configured and operated as described above, light generated by the light generator 200 is generated as parallel light L passing through the measurement chamber C in parallel according to an embodiment of the present invention. It is configured to be. This parallel light (L) is possible through the parallel light lens module 220 according to an embodiment of the present invention. That is, in general, the laser light generated by the laser diode 210 is generated having a range of emission angles. Thus, the laser light having the emission angle is configured to operate the parallel light lens module 220 according to an embodiment of the present invention. Passes through and is converted into parallel light (L). At this time, the diameter of the parallel light (L) is preferably configured to be adjusted through a separate beam expander 230, the details thereof will be described later.

이러한 평행광 렌즈 모듈(220)은 평행광(L)으로 변환할 수 있는 다양한 렌즈 조합을 통해 가능한데, 본 발명의 일 실시예에 따른 평행광 렌즈 모듈(220)은 도 3 에 도시된 바와 같이 레이저 광을 하나의 초점(F)으로 포커싱하는 복수개의 포커싱 렌즈(221)와, 초점(F)을 통과한 레이저 광을 평행광(L)으로 변환시키는 복수개의 평행광 렌즈(222)를 포함하여 구성될 수 있다.The parallel light lens module 220 is possible through various lens combinations that can be converted into parallel light (L), the parallel light lens module 220 according to an embodiment of the present invention is a laser as shown in FIG. And a plurality of focusing lenses 221 for focusing light at one focal point F and a plurality of parallel light lenses 222 for converting laser light passing through the focal point F into parallel light L. Can be.

좀 더 자세히 살펴보면, 레이저 다이오드(210)로부터 일정 방출 각도를 가지며 발생된 레이저 광은 레이저 다이오드(210)로부터 빛의 진행 방향을 따라 일정 거리 후방에 배치된 다수개의 포커싱 렌즈(221)를 통과하며 하나의 초점(F) 영역에 집광되도록 포커싱된다. 이후 초점(F) 영역을 통과한 레이저 광은 다시 초점(F) 영역으로 집광될 때의 각도와 동일한 각도로 확장되며 진행하게 된다. 이와 같이 다시 확장되는 레이저 광을 평행광(L)으로 변환하기 위해 초점(F) 영역으로부터 빛의 진행 방향을 따라 일정 거리 후방에 다수개의 평행광 렌즈(222)가 배치된다. 따라서, 초점(F) 영역을 통과한 레이저 광은 초점(F) 영역을 통과한 이후 일정 정도 확장된 이후 평행광 렌즈(222)를 통해 평행광(L)으로 변환된다. 이때, 초점(F) 영역으로부터 평행광 렌즈(222)까지의 거리는 초점(F) 영역으로부터 포커싱 렌즈(221) 까지의 거리보다 더 작게 형성되는 것이 바람직하며, 이에 따라 평행광 렌즈(222)를 통해 변환된 평행광(L)은 포커싱 렌즈(221)를 통해 집광되기 전 상태보다 더 작은 영역으로 집중되어 그 세기가 더욱 강화될 것이다.In more detail, the laser light having a constant emission angle from the laser diode 210 passes through a plurality of focusing lenses 221 disposed a certain distance back along the direction of light travel from the laser diode 210. Focused to focus on the focal point (F) region of. Thereafter, the laser light passing through the focal point F is extended and progressed at the same angle as when the light is focused back to the focal point F. In order to convert the laser light, which is extended in this way, into parallel light L, a plurality of parallel light lenses 222 are disposed at a rear of the predetermined distance along the traveling direction of the light from the focal point F region. Therefore, the laser light passing through the focal point F area is converted into parallel light L through the parallel light lens 222 after being extended to some extent after passing through the focal point F area. In this case, the distance from the focus F area to the parallel light lens 222 is preferably smaller than the distance from the focus F area to the focusing lens 221, and thus, through the parallel light lens 222. The converted parallel light L is concentrated in a smaller area than the state before being focused through the focusing lens 221, and thus the intensity thereof is further enhanced.

이와 같은 평행광 렌즈 모듈(220)의 구성에 따라 레이저 다이오드(210)에 의해 발생된 레이저 광은 더 작은 직경으로 집중되어 평행광(L)으로 변환되고, 이에 따라 평행광(L)의 세기가 강화되어 측정 챔버(C) 내에서 입자에 의해 흡수 소멸되는 빛의 양이 더욱 정밀하게 측정될 수 있다.According to the configuration of the parallel light lens module 220, the laser light generated by the laser diode 210 is concentrated to a smaller diameter and converted into parallel light L, whereby the intensity of the parallel light L is The amount of light that is enhanced and absorbed and dissipated by the particles in the measurement chamber C can be measured more precisely.

이와 같은 구조에 따라 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 광 발생부(200)로부터 발생된 빛이 평행광(L)의 형태로 측정 챔버(C)를 통과하여 광 검출부(300)로 수광되기 때문에, 상대적으로 더욱 넓은 영역에서 입자에 의해 흡수 소멸된 빛의 양을 측정할 수 있으므로 더욱 정확한 측정 결과를 얻을 수 있는 구조이다. 즉, 종래 기술에 의한 일반적인 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 광 발생부로부터 포커싱되는 빛이 발생되기 때문에, 빛의 직경이 입자의 직경 보다 작아지는 초점과 인접한 영역에서만 제한적으로 입자의 분포 상태를 측정할 수 있는 반면에, 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 광 발생부로부터 평행광(L)이 발생되어 측정 챔버(C) 내부를 통과하기 때문에, 평행광(L)이 통과하는 경로를 따라 전 영역에서 입자의 분포 상태를 측정할 수 있다. 따라서, 종래 기술에 비해 더욱 넓은 영역에서 입자의 분포 상태를 측정할 수 있기 때문에, 측정 챔버(C) 내부에 유동하는 입자의 분포 상태(입자의 크기 및 개수 등)에 대해 더욱 정확한 측정 결과를 얻을 수 있다.According to the structure of the light absorption type particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, the light generated from the light generating unit 200 passes through the measuring chamber (C) in the form of parallel light (L) light detection unit ( Since it is received at 300), it is possible to measure the amount of light absorbed and extinguished by the particles in a relatively wider area, thereby obtaining a more accurate measurement result. That is, in the conventional light absorption type particle measuring apparatus according to the prior art, since the light focused from the light generating unit is generated, the distribution state of the particles can be limitedly measured only in the region adjacent to the focal point where the diameter of the light becomes smaller than the diameter of the particle. On the other hand, in the light absorption type particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, since parallel light L is generated from the light generating unit and passes through the inside of the measurement chamber C, parallel light L passes. The distribution of particles in all regions can be measured along the path. Therefore, since the distribution state of the particles can be measured in a wider area than in the prior art, a more accurate measurement result can be obtained for the distribution state (size and number of particles, etc.) of the particles flowing inside the measurement chamber (C). Can be.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광 발생부(200)는 전술한 바와 같이 평행광 렌즈 모듈(220)로부터 빛의 진행 방향을 따라 후방에 빔 익스팬더(230)가 배치되고, 이러한 빔 익스팬더(230)에 의해 평행광(L)의 직경이 확장 또는 축소되도록 조절될 수 있다. 빔 익스팬더(230)는 빛의 직경을 확장 또는 감소하는 장치로서 공지된 기술에 해당하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.In addition, in the light generating unit 200 according to the exemplary embodiment of the present invention, as described above, the beam expander 230 is disposed in the rear of the parallel light lens module 220 along the traveling direction of the light. 230, the diameter of the parallel light L may be adjusted to expand or contract. Since the beam expander 230 corresponds to a known technique as a device for expanding or decreasing the diameter of light, detailed description thereof will be omitted.

이와 같은 빔 익스팬더(230)에 의해 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 평행광(L)의 직경을 사용 조건에 따라 조절함으로써, 측정하 고자 하는 입자 크기 범위에 적합하도록 다양하게 조절될 수 있다. 즉, 측정 챔버(C) 내에 존재하는 상대적으로 큰 입자만을 측정하고자 하는 경우에는 빔 익스팬더(230)를 조절하여 평행광(L)의 직경을 상대적으로 크게 조절하고, 측정 챔버(C) 내에 존재하는 상대적으로 작은 입자만을 측정하고자 하는 경우에는 빔 익스팬더(230)를 조절하여 평행광(L)의 직경을 상대적으로 작게 조절할 수 있다. 따라서, 이러한 빔 익스팬더(230)의 조절해가며 다수회 측정하게 되면, 측정 챔버(C) 내에 존재하는 입자의 크기를 분류별로 파악할 수 있을 것이다.By the beam expander 230 as described above, the light absorption type particle measuring apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention is adjusted to suit the particle size range to be measured by adjusting the diameter of the parallel light L according to the use condition. Can be adjusted. That is, in the case where it is desired to measure only relatively large particles existing in the measurement chamber C, the diameter of the parallel light L is adjusted relatively large by adjusting the beam expander 230, and the particles exist in the measurement chamber C. If only small particles are to be measured, the diameter of the parallel light L may be relatively small by adjusting the beam expander 230. Therefore, if the beam expander 230 is measured a plurality of times while adjusting, the size of particles present in the measurement chamber (C) can be identified by classification.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 전술한 바와 같이 평행광(L)을 이용하여 입자의 분포 상태를 측정하기 때문에, 상대적으로 큰 측정 챔버(C) 내의 입자 분포 상태를 측정하는 것이 용이하다. 따라서, 반도체나 LCD 공정에 사용되는 클린룸(10)의 외벽에 직접 장착되어 클린룸(10)의 내부에 존재하는 입자의 크기 및 개수를 용이하게 측정할 수 있다. 그러나, 이외에도 본 발명의 일 실시예에 따라 클린룸(10)의 배관(11) 상에 연결되어 클린룸(10)의 배관(11)을 따라 유동하는 입자의 크기 및 개수를 측정할 수도 있다.On the other hand, since the light absorption type particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention measures the distribution state of the particles using the parallel light L as described above, the particle distribution state in the relatively large measurement chamber (C) It is easy to measure. Accordingly, the size and number of particles directly mounted on the outer wall of the clean room 10 used in the semiconductor or LCD process may be easily measured. However, in addition to measuring the size and number of particles connected to the pipe 11 of the clean room 10 and flows along the pipe 11 of the clean room 10 according to an embodiment of the present invention.

이 경우 광 흡수 입자 측정 장치는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따라 배관(11)에 연통되는 케이스(100)를 더 포함하고, 이러한 케이스(100)의 외벽에 광 발생부(200) 및 광 검출부(300)가 위치하도록 구성될 수 있다. 클린룸(10)과 같은 설비에서는 설비의 특성에 따라 일정한 방향으로 유체의 흐름이 발생하여 측정 챔버(C) 내의 입자가 유체 흐름에 따라 일정한 방향으로 유 동하게 되는데, 케이스(100)는 이러한 입자의 유동 방향을 따라 일정 길이를 가지며 측정 챔버(C)와 연통되어 동일한 측정 챔버(C)를 이루도록 중공 형태로 형성되는 것이 바람직하며, 이러한 케이스(100)의 외벽에 광 발생부(200) 및 광 검출부(300)가 동일 직선 상에 위치하도록 장착될 수 있다. 이때, 광 검출부(300)는 후술하는 바와 같이 케이스(100)의 외벽에 이동 가능한 형태로 장착될 수 있다. In this case, the light absorbing particle measuring apparatus further includes a case 100 communicating with the pipe 11 according to one embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 1 and 2, and on the outer wall of the case 100. The light generator 200 and the light detector 300 may be positioned. In a facility such as the clean room 10, a flow of fluid occurs in a certain direction according to the characteristics of the facility, so that particles in the measurement chamber C flow in a constant direction according to the flow of the fluid. It is preferably formed in a hollow shape to have a predetermined length along the flow direction of the communication chamber (C) to form the same measurement chamber (C), the light generating unit 200 and the light on the outer wall of the case 100 The detector 300 may be mounted to be positioned on the same straight line. In this case, the light detector 300 may be mounted on the outer wall of the case 100 in a movable form as described below.

또한, 광 발생부(200) 및 광 검출부(300)가 케이스(100)와 연결되는 부분에는 광 발생부(200) 및 광 검출부(300)가 보호될 수 있도록 별도의 진공 윈도우(500)가 장착되어 측정 챔버(C)로부터 광 발생부(200) 및 광 검출부(300)가 분리 구획되도록 형성되는 것이 바람직하며, 광 검출부(300)에는 간섭 필터(320) 및 흡수 필터(330) 중 적어도 어느 하나 이상이 장착되는 것이 바람직하다.In addition, a separate vacuum window 500 is mounted at a portion where the light generator 200 and the light detector 300 are connected to the case 100 so that the light generator 200 and the light detector 300 may be protected. And the light generator 200 and the light detector 300 are separated from the measurement chamber C. The light detector 300 includes at least one of an interference filter 320 and an absorption filter 330. It is preferable that the above is mounted.

간섭 필터(320)는 특정 파장 영역의 빛을 제거하는 것으로 수광 센서(310)의 전방에 장착되어 광 발생부(200)로부터 발생된 평행광(L) 이외의 빛이 광 검출부(300)에 수광되지 않도록 한다. 흡수 필터(330)는 전체적으로 입사되는 빛의 양을 감소시켜주는 것으로 수광 센서(310)의 전방에 장착되어 수광 센서(310)로 수광되는 빛의 양을 전체적으로 감소시켜 장치에 대한 전체적인 스케일을 작게 할 수 있다. 이러한 간섭 필터(320)와 흡수 필터(330)는 수광 센서(310)의 전방에 순차적으로 배치되는 것이 바람직하다.The interference filter 320 removes light in a specific wavelength region and is mounted in front of the light receiving sensor 310 so that light other than the parallel light L generated from the light generator 200 receives the light detector 300. Do not Absorption filter 330 is to reduce the amount of incident light as a whole to reduce the overall scale of the device by mounting the front of the light receiving sensor 310 to reduce the amount of light received by the light receiving sensor 310 as a whole. Can be. Preferably, the interference filter 320 and the absorption filter 330 are sequentially disposed in front of the light receiving sensor 310.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 측정 챔버(C)를 통과하는 평행광(L)의 경로가 변경될 수 있도록 평행광(L)을 반사하는 적어도 하나 이상의 반사 미러(600)를 더 포함하여 구성될 수 있다. 이러한 반사 미러(600)는 광 발생부(200)와 광 검출부(300)가 클린룸(10)과 같은 설비에 직접 장착되는 경우 클린룸(10) 내부에 직접 설치될 수 있으며, 이와 달리 광 발생부(200)와 광 검출부(300)가 클린룸(10)의 배관(11)에 연통된 케이스(100)에 장착되는 경우 케이스(100)의 내부에 설치될 수 있다.On the other hand, the light absorption type particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, as shown in Figure 4 and 5 parallel light (L) passing through the measurement chamber (C) can be changed so that the parallel light ( It may be configured to further include at least one reflective mirror 600 reflecting L). The reflective mirror 600 may be directly installed in the clean room 10 when the light generator 200 and the light detector 300 are directly mounted in a facility such as the clean room 10. When the unit 200 and the light detector 300 are mounted to the case 100 communicated with the pipe 11 of the clean room 10, the unit 200 and the light detector 300 may be installed inside the case 100.

이러한 반사 미러(600)는 예를 들어 도 4에 도시된 바와 같이 2개 장착될 수 있으며, 광 발생부(200)의 빔 익스팬더(230)를 통과한 평행광(L)의 경로를 2개의 반사 미러(600)를 통해 변경할 수 있다. 이때, 평행광(L)의 최종 경로는 고정 배치된 광 검출부(300)에 도달할 수 있도록 반사 미러(600)가 배치되어야 할 것이다.For example, two reflective mirrors 600 may be mounted as shown in FIG. 4, and two reflective mirrors 600 reflect two paths of parallel light L passing through the beam expander 230 of the light generator 200. This can be changed through the mirror 600. In this case, the reflective mirror 600 should be disposed so that the final path of the parallel light L can reach the fixedly arranged light detector 300.

이와 같이 반사 미러(600)를 통해 평행광(L)의 경로가 변화하게 되면, 좀 더 최적 상태로 입자의 분포 상태를 측정할 수 있다. 좀 더 자세히 살펴보면, 측정 챔버(C) 내부에 존재하는 입자는 전술한 바와 같이 클린룸(10) 설비에서 유체의 흐름에 따라 일정한 방향으로 유동하게 되는데, 이때 입자가 유동하는 흐름 경로는 일반적으로 유체의 흐름을 따라 측정 챔버(C)의 중심 부분을 따라 형성된다. 이러한 특성에 따라 평행광(L)의 경로는 측정 챔버(C)의 중앙 부분을 통과하도록 형성되는 것이 바람직하며, 이러한 평행광(L)을 입자가 통과할 때마다 광 검출부(300)에 수광되는 빛의 세기가 감소하고, 이를 통해 전술한 바와 같이 입자의 크기 및 개수를 파악하게 된다. 그러나, 측정 챔버(C) 내에서 입자의 유동 흐름은 그 설비 구조 및 사용 조건에 따라 달라질 수 있으므로, 평행광(L)의 경로는 그 사용 환경에 따라 각각 입자의 유동 흐름에 가장 적합한 상태로 조절되는 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 측정 장치는 이러한 평행광(L)의 경로를 조절할 수 있는 반사 미러(600)를 통해 사용 환경에 따라 최적화된 상태로 평행광(L)의 경로를 조절할 수 있고, 이에 따라 더욱 정확한 측정 결과를 얻을 수 있다.As such, when the path of the parallel light L changes through the reflective mirror 600, the distribution state of the particles may be measured in a more optimal state. In more detail, the particles present in the measurement chamber (C) flow in a constant direction according to the flow of the fluid in the clean room 10 equipment as described above, wherein the flow path through which the particles flow is generally a fluid It is formed along the central part of the measuring chamber C along the flow of the. According to this characteristic, the path of the parallel light L is preferably formed to pass through the central portion of the measurement chamber C, and is received by the light detector 300 whenever the particle passes through the parallel light L. The intensity of light is reduced, thereby determining the size and number of particles as described above. However, since the flow of particles in the measurement chamber C may vary depending on the equipment structure and conditions of use, the path of parallel light L is adjusted to the state most suitable for the flow of particles, respectively, depending on the environment of use. It is preferable to be. Therefore, the particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention adjusts the path of the parallel light L in an optimized state according to the use environment through the reflection mirror 600 capable of adjusting the path of the parallel light L. Thus, more accurate measurement results can be obtained.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 이러한 반사 미러(600)의 평행광(L)에 대한 반사 각도를 조절할 수 있도록 반사 미러(600)의 장착 각도를 조절하는 액츄에이터(610)를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 액츄에이터(610)를 통해 사용 환경에 따라 최적화된 다양한 평행광(L)의 경로를 형성할 수 있을 것이다.In addition, the light absorption type particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 4 and 5, the reflection mirror (100) to adjust the reflection angle with respect to the parallel light (L) of the reflection mirror 600 It is preferable to further include an actuator 610 for adjusting the mounting angle of the 600. The actuator 610 may form a path of various parallel lights L optimized according to the use environment.

아울러, 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 이러한 반사 미러(600)에 의한 평행광(L)의 경로 변경에 대응하여 광 검출부(300)가 측정 챔버(C) 또는 케이스(100)에 이동 가능하게 장착될 수 있다. 즉, 도 5에 도시된 바와 같이 측정 환경에 따라 최적화된 평행광(L)의 경로가 굴절된 형태로 형성되는 경우, 이에 대응하여 광 검출부(300)가 이동하도록 장착될 수 있으며, 이러한 경우에는 광 발생부(200)와 광 검출부(300)는 일직선 상에 위치하지 않게 된다. 이와 같은 구조에 따라 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치는 더욱 정확한 측정 결과를 얻을 수 있을 것이다.In addition, in the light absorption type particle measuring apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention, in response to the path change of the parallel light L by the reflective mirror 600, the light detector 300 may measure the measurement chamber C or the case ( 100) to be movable. That is, when the path of the parallel light (L) optimized according to the measurement environment is formed in a refracted shape as shown in FIG. 5, the light detector 300 may be mounted to move correspondingly. The light generator 200 and the light detector 300 are not positioned in a straight line. According to such a structure, the light absorption type particle measuring apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention may obtain more accurate measurement results.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따 라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 개략적인 형상을 도시한 사시도,1 is a perspective view showing a schematic shape of a light absorption type particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 내부 구조를 개념적으로 도시하기 위해 도 1의 "A-A"선을 따라 취한 단면도,FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line “A-A” of FIG. 1 to conceptually show an internal structure of a light absorption type particle measuring apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 광 발생부의 구조를 개념적으로 확대 도시한 개념도,3 is a conceptual diagram illustrating a conceptual enlarged view of a structure of a light generating unit of a light absorption type particle measuring apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention;

도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 광 흡수 방식 입자 측정 장치의 반사 미러에 따른 동작 상태를 개념적으로 도시한 개념도이다.4 and 5 are conceptual views conceptually illustrating an operating state of a reflection mirror of the light absorption type particle measuring apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100: 케이스 200: 광 발생부100: case 200: light generating unit

210: 레이저 다이오드 220: 평행광 렌즈 모듈210: laser diode 220: parallel light lens module

230: 빔 익스팬더 300: 광 검출부230: beam expander 300: light detector

320: 간섭 필터 330: 흡수 필터320: interference filter 330: absorption filter

Claims (8)

입자에 의해 흡수 소멸된 빛의 양을 검출하여 측정 챔버 내부에서 유동하는 입자의 분포 상태를 측정하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치에 있어서,In the light absorption type particle measuring device for detecting the amount of light absorbed and extinguished by the particles to measure the distribution of the particles flowing in the measurement chamber, 상기 측정 챔버를 통과하도록 빛을 발생시키는 광 발생부; 및A light generator for generating light to pass through the measurement chamber; And 상기 측정 챔버를 통과한 빛을 수광하여 검출하는 광 검출부An optical detector which receives and detects light passing through the measurement chamber 를 포함하고, 상기 광 발생부에 의해 발생된 빛은 상기 측정 챔버를 평행하게 통과하는 평행광인 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치.And light generated by the light generating unit is parallel light passing through the measurement chamber in parallel. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광 발생부는The light generating unit 레이저 광을 발생시키는 레이저 다이오드; 및A laser diode for generating laser light; And 상기 레이저 다이오드를 통해 발생된 레이저 광을 평행광으로 변환시키는 평행광 렌즈 모듈Parallel light lens module for converting the laser light generated by the laser diode into parallel light 을 포함하는 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치.Light absorption type particle measurement device comprising a. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 평행광 렌즈 모듈은The parallel light lens module 상기 레이저 광을 하나의 초점으로 포커싱하는 복수개의 포커싱 렌즈; 및A plurality of focusing lenses for focusing the laser light into one focal point; And 상기 초점을 통과한 레이저 광을 평행광으로 변환시키는 복수개의 평행광 렌즈A plurality of parallel light lens for converting the laser light passing through the focus into parallel light 를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치.Light absorption type particle measuring apparatus comprising a. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 광 발생부는The light generating unit 상기 평행광 렌즈 모듈을 통해 변환된 평행광의 직경을 확장 또는 축소하는 빔 익스팬더를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치.And a beam expander for expanding or reducing the diameter of the parallel light converted through the parallel light lens module. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 광 검출부는The light detector 특정 파장 영역의 빛을 제거하는 간섭 필터와 광량을 감소시키는 흡수 필터 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치.And at least one of an interference filter for removing light in a specific wavelength region and an absorption filter for reducing the amount of light. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,6. The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 측정 챔버를 통과하는 평행광의 경로가 변경될 수 있도록 평행광을 반사하는 적어도 하나 이상의 반사 미러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치.And at least one reflecting mirror reflecting the parallel light so that the path of the parallel light passing through the measuring chamber can be changed. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 반사 미러의 반사 각도를 조절할 수 있는 액츄에이터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치.Light absorbing particle measurement device further comprises an actuator that can adjust the reflection angle of the reflection mirror. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 광 검출부는 상기 상기 반사 미러에 의한 평행광의 경로 변경에 대응하여 평행광을 수광할 수 있도록 상기 측정 챔버에 대해 이동 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 광 흡수 방식 입자 측정 장치.And the light detector is movable to the measuring chamber so as to receive the parallel light in response to the path change of the parallel light by the reflection mirror.
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