KR20070076326A - Hinge apparatus and semiconductor manufacturing equipment having the same - Google Patents

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KR20070076326A
KR20070076326A KR1020060005552A KR20060005552A KR20070076326A KR 20070076326 A KR20070076326 A KR 20070076326A KR 1020060005552 A KR1020060005552 A KR 1020060005552A KR 20060005552 A KR20060005552 A KR 20060005552A KR 20070076326 A KR20070076326 A KR 20070076326A
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Abstract

A hinge apparatus is provided to induce a lid to move down even when the lid is temporarily lifted up by the inner pressure difference of a chamber by making a turning member and a connection axis coupled to the turning member move vertically by a predetermined interval while the turning member and the connection axis are inserted into a connection hole of a fixing member. A fixing member(130) is composed of first and second bodies that are separated from each other by a predetermined interval. A turning member(110) is interposed between the first and the second bodies. The fixing member is connected to the turning member by a connection axis(150) that continuously penetrates the fixing member and the turning member. A bearing is interposed between the outer circumferential surface of the connection axis and the inner circumferential surface of the turning member into which the connection axis is inserted so that the turning member can turn with respect to the connection axis. The turning angle of the turning member having turned with respect to the connection axis is maintained by a rotation angle maintaining unit. Connection holes are formed in the first and the second bodies so that one and the other ends of the connection axis are inserted into the connection holes. The connection hole has greater thickness and height than those of the connection axis so that the connection axis can move vertically by a predetermined interval while the connection axis is inserted into the first and the second bodies.

Description

힌지장치 및 이를 구비한 반도체 제조설비{Hinge apparatus and semiconductor manufacturing equipment having the same}Hinge apparatus and semiconductor manufacturing equipment having the same

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 일실시예를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view showing an embodiment of a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention.

도 2는 도 1에 도시한 반도체 제조설비의 힌지장치를 도시한 분해사시도이다. FIG. 2 is an exploded perspective view showing the hinge device of the semiconductor manufacturing equipment shown in FIG.

도 3은 도 2에 도시한 힌지장치의 일부절개 단면도이다. 3 is a partial cutaway cross-sectional view of the hinge device shown in FIG.

도 4는 도 2에 도시한 힌지장치의 결합관계를 설명하기 위한 배면 사시도이다. 4 is a rear perspective view for explaining the coupling relationship of the hinge device shown in FIG.

**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**** Description of the symbols for the main parts of the drawings **

80 : 리드80: lead

90 : 챔버90: chamber

100 : 힌지장치100: hinge device

110 : 회동부재110: rotating member

130 : 고정부재130: fixing member

150 : 연결축150: connecting shaft

160 : 회전각도 유지유닛160: rotation angle maintenance unit

190 : 반도체 제조설비190: semiconductor manufacturing equipment

본 발명은 반도체소자를 제조하기 위한 설비에 관한 것으로, 특히, 공정이 진행되는 챔버로부터 리드를 회동가능하게 하는 힌지장치 및 이를 구비한 반도체 제조설비에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for manufacturing a semiconductor device. More particularly, the present invention relates to a hinge device and a semiconductor manufacturing device having the same.

반도체소자를 제조하는 공정에는 포토공정, 박막증착공정, 이온주입공정, 식각공정 등 다수의 단위공정이 포함된다. The semiconductor device manufacturing process includes a plurality of unit processes such as a photo process, a thin film deposition process, an ion implantation process, and an etching process.

그리고, 이들 공정 중 대부분은 특정 반응이 발생되도록 하거나 파티클이 유입되는 것을 방지하는 등 다양한 목적을 위해 대기압과는 다른 압력으로 공정을 진행하고 있다.In addition, most of these processes proceed at a pressure different from atmospheric pressure for various purposes, such as to cause a specific reaction to occur or to prevent particles from being introduced.

특히, 박막증착공정의 경우에는 대부분 대기압 보다는 낮은 압력 즉, 저압 상태에서 공정을 진행하고 있다. 예를 들면, 박막증착공정의 하나인 BPSG(BoroPhospho Silicate Glass)공정의 경우에는 약 150 ∼ 50 Torr 정도의 압력으로 공정을 진행하고 있다. In particular, in the case of the thin film deposition process, most of the processes are performed at a pressure lower than atmospheric pressure, that is, at a low pressure. For example, in the case of the BPSG (BoroPhospho Silicate Glass) process, which is one of the thin film deposition processes, the process is performed at a pressure of about 150 to 50 Torr.

한편, 박막증착공정을 수행하는 박막증착설비의 경우에는 공정진행 중 이와 같은 저압 상태가 잘 유지될 수 있도록 설치되어 있다. 예를 들면, 종래 박막증착설비의 경우에는 공정이 진행되는 챔버와 챔버의 상부를 선택적으로 개폐하도록 힌지장치를 매개로 챔버에 결합된 리드 사이에 오링(O-ring) 등이 설치되어 있어서, 공정진행 중에도 저압 상태를 잘 유지할 수 있도록 되어 있다. On the other hand, in the case of the thin film deposition equipment performing the thin film deposition process is installed so that such a low pressure state is well maintained during the process. For example, in the case of the conventional thin film deposition equipment, an O-ring or the like is installed between the chamber in which the process is performed and the lid coupled to the chamber via a hinge device to selectively open and close the chamber. It is designed to maintain the low pressure state well in progress.

하지만, 종래 박막증착설비의 경우, 이상과 같은 약 150 ∼ 50 Torr 정도의 압력 변화값 내에서는 아무런 문제가 발생되지 않으나, 그 압력 변화값 이상의 차이가 발생될 경우에는 내부 차압에 의해서 여러가지 문제가 발생된다. However, in the case of the conventional thin film deposition equipment, no problem occurs within the pressure change value of about 150 to 50 Torr as described above, but when there is a difference over the pressure change value, various problems occur due to the internal pressure difference. do.

일 예로, 박막증착공정의 하나인 고온-유에스지(HT-USG: High Temperature- Undoped Silicate Glass)공정의 경우에는 그 압력 변화값이 약 600 ∼ 5 Torr 인 바, 이 압력 변화값 내에서 공정을 진행할 경우 종래 박막증착설비의 리드는 챔버의 내부 차압에 의해서 순간적으로 들리게 되는데, 종래 박막증착설비의 리드를 회동가능하게 했던 힌지장치의 경우, 이 순간적으로 들리게 되는 현상에 의해 그 힌지 기능이 파괴되어 리드의 일부분이 챔버 측으로 다운(Down)되는 문제가 발생된다. 따라서, 종래 박막증착설비의 경우, 이 리드의 일부분이 챔버 측으로 다운되지 않는 문제로 인하여 챔버 외부의 가스가 챔버 내부로 유입되어지는 문제가 발생되며, 이는 곧 챔버 내부의 파우더 및 파티클 발생을 초래하여 결과적으로 품질 로스(loss)가 유발된다. For example, in the case of the High Temperature-Undoped Silicate Glass (HT-USG) process, which is one of the thin film deposition processes, the pressure change value is about 600 to 5 Torr. When proceeding, the lead of the conventional thin film deposition equipment is instantaneously heard by the internal pressure difference of the chamber. In the case of the hinge device which makes the lead of the conventional thin film deposition equipment rotatable, the hinge function is destroyed by this instantaneous sound. A problem arises in which part of the lid is down to the chamber side. Therefore, in the case of the conventional thin film deposition equipment, there is a problem that the gas outside the chamber is introduced into the chamber due to the problem that a part of this lead is not down to the chamber side, which leads to the generation of powder and particles in the chamber As a result, a quality loss is caused.

따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안하여 안출한 것으로써, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 챔버의 내부 차압에 의해 리드가 순간적으로 들리게 되는 현상이 발생될 경우에도 힌지 기능이 파괴되지 않는 힌지장치 및 이를 구비한 반도체 제조설비를 제공하는데 있다. Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and the technical problem to be achieved by the present invention is a hinge device in which the hinge function is not destroyed even when a phenomenon in which a lead is momentarily heard by an internal differential pressure of a chamber occurs. And to provide a semiconductor manufacturing equipment having the same.

그리고, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 챔버의 내부 차압에 의해 리드가 순간적으로 들리게 되는 현상이 발생될 경우에도 리드가 다시 다운될 수 있도록 하는 힌지장치 및 이를 구비한 반도체 제조설비를 제공하는데 있다. In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a hinge device and a semiconductor manufacturing apparatus having the same so that the lead can be down again even when a phenomenon in which the lead is temporarily lifted by the internal differential pressure of the chamber occurs. .

이와 같은 기술적 과제를 구현하기 위한 본 발명의 제1양태에 따르면, 힌지장치가 제공된다. 상기 힌지장치는 상호 소정간격 이격된 제1몸체와 제2몸체로 구성된 고정부재와, 상기 제1몸체와 상기 제2몸체의 사이에 개재되는 회동부재와, 상기 고정부재와 상기 회동부재를 연속적으로 관통하여 상기 고정부재와 상기 회동부재를 연결하는 연결축과, 상기 연결축의 외주면과 상기 연결축이 끼워진 상기 회동부재의 내주면 사이에 개재되어 상기 연결축으로부터 상기 회동부재를 회동가능하게 하는 베어링 및, 상기 연결축으로부터 회동된 상기 회동부재의 회동각도를 유지시켜주는 회전각도 유지유닛을 포함한다. According to the first aspect of the present invention for implementing such a technical problem, a hinge device is provided. The hinge device includes a fixing member comprising a first body and a second body spaced apart from each other by a predetermined distance, a rotating member interposed between the first body and the second body, and the fixing member and the rotating member continuously. A bearing for penetrating the connecting member and the rotating member and interposed between an outer circumferential surface of the connecting shaft and an inner circumferential surface of the rotating member in which the connecting shaft is fitted; And a rotation angle maintaining unit for maintaining a rotation angle of the rotation member rotated from the connecting shaft.

이때, 상기 회전각도 유지유닛은 상기 회동부재에 대향되는 상기 제1몸체의 일측면으로부터 상기 제1몸체의 타측면까지 연장형성된 끼움홀과, 상기 끼움홀을 관통하여 그 일부가 상기 제1몸체의 타측면으로 소정길이 돌출되는 회전방지핀과, 상기 회전방지핀을 상기 회동부재 측으로 이동시키도록 상기 회전방지핀을 탄성지지하는 탄성스프링 및, 상기 탄성스프링에 의해 이동된 상기 회전방지핀의 일단이 끼워지도록 상기 회동부재의 일측면에 형성된 걸림홀을 포함할 수 있다. At this time, the rotation angle maintaining unit is a fitting hole extending from one side of the first body facing the rotating member to the other side of the first body, and a portion of the first body through the fitting hole An anti-rotation pin protruding a predetermined length to the other side, an elastic spring for elastically supporting the anti-rotation pin to move the anti-rotation pin to the rotating member, and one end of the anti-rotation pin moved by the elastic spring. It may include a locking hole formed in one side of the rotating member to be fitted.

또한, 상기 제1몸체와 상기 제2몸체에는 각각 상기 연결축의 일측단과 타측단이 끼워지도록 연결홀이 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 연결홀은 상기 연결축이 상기 제1몸체와 상기 제2몸체에 끼워진 상태에서 소정거리 상하 유동될 수 있도록 상기 연결축의 두께와 높이보다 더 크게 형성될 수 있다. In addition, a connection hole may be formed in the first body and the second body so that one end and the other end of the connection shaft are fitted. In this case, the connecting hole may be formed larger than the thickness and height of the connecting shaft so that the connecting shaft can flow up and down a predetermined distance in the state fitted to the first body and the second body.

한편, 상기와 같은 기술적 과제를 구현하기 위한 본 발명의 제2양태에 따르면, 반도체 제조설비가 제공된다. 상기 반도체 제조설비는 공정이 진행되는 챔버와, 상기 챔버로부터 소정각도 회동되어 상기 챔버의 일측을 개폐하는 리드 및, 상기 챔버로부터 상기 리드를 회동가능하게 힌지장치를 포함하되, 상기 힌지장치는 상호 소정간격 이격된 제1몸체와 제2몸체로 구성되고 상기 챔버에 결합되는 고정부재와, 상기 제1몸체와 상기 제2몸체의 사이에 개재되며, 상기 리드에 결합되는 회동부재와, 상기 고정부재와 상기 회동부재를 연속적으로 관통하여 상기 고정부재와 상기 회동부재를 연결하는 연결축과, 상기 연결축의 외주면과 상기 연결축이 끼워진 상기 회동부재의 내주면 사이에 개재되어 상기 연결축으로부터 상기 회동부재를 회동가능하게 하는 베어링 및, 상기 연결축으로부터 회동된 상기 회동부재의 회동각도를 유지시켜주는 회전각도 유지유닛을 포함한다. On the other hand, according to the second aspect of the present invention for implementing the above technical problem, a semiconductor manufacturing apparatus is provided. The semiconductor manufacturing apparatus includes a chamber in which a process is performed, a lid rotated at a predetermined angle from the chamber to open and close one side of the chamber, and a hinge device to pivot the lead from the chamber, wherein the hinge device is mutually predetermined. A fixed member configured to be spaced apart from the first body and the second body and coupled to the chamber, interposed between the first body and the second body, and a rotation member coupled to the lead; A pivot connected between the fixed member and the pivot member through the pivot member continuously and interposed between an outer circumferential surface of the link shaft and an inner circumferential surface of the pivot member in which the link shaft is fitted to pivot the pivot member from the link shaft. And a rotation angle maintaining unit for maintaining a rotation angle of the pivot member pivoted from the connecting shaft. It is.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed subject matter is thorough and complete, and that the scope of the invention to those skilled in the art will fully convey. Like numbers refer to like elements throughout.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 일실시예를 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시한 반도체 제조설비의 힌지장치를 도시한 분해사시도이며, 도 3 은 도 2에 도시한 힌지장치의 일부절개 단면도이다. 그리고, 도 4는 도 2에 도시한 힌지장치의 결합관계를 설명하기 위한 배면 사시도이다. 1 is a perspective view showing an embodiment of a semiconductor manufacturing equipment according to the present invention, Figure 2 is an exploded perspective view showing a hinge device of the semiconductor manufacturing equipment shown in Figure 1, Figure 3 is a hinge shown in FIG. Sectional section view of the device. 4 is a rear perspective view for explaining a coupling relationship of the hinge device shown in FIG.

먼저, 도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조설비(190)는 공정이 진행되는 챔버(90)와, 상기 챔버(90)로부터 소정각도 회동되며 상기 챔버(90)의 상측을 개폐하는 리드(80)와, 상기 챔버(90)로부터 상기 리드(80)를 회동가능하게 하는 힌지장치(100)와, 상기 챔버(90) 내부로 공정가스를 공급해주는 가스공급장치(미도시) 및, 상기 챔버(90) 내부를 공정진행에 필요한 압력으로 변경 및 유지시켜주는 진공유지장치(미도시)를 포함한다. First, referring to FIG. 1, a semiconductor manufacturing apparatus 190 according to an embodiment of the present invention is rotated a predetermined angle from a chamber 90 where a process is performed and the chamber 90, and an upper side of the chamber 90. A lid 80 for opening and closing the lid, a hinge device 100 for rotating the lid 80 from the chamber 90, and a gas supply device for supplying a process gas into the chamber 90. And a vacuum holding device (not shown) for changing and maintaining the inside of the chamber 90 at a pressure required for process progress.

구체적으로, 상기 챔버(90)는 웨이퍼(미도시) 상에 소정 공정이 이루어지는 공간이다. 따라서, 상기 챔버(90)의 일측에는 상기 챔버(90) 내부로 웨이퍼가 왕래하도록 게이트 도어(Gate door,미도시)가 형성되고, 상기 챔버(90)의 내부에는 상기 게이트 도어를 통해 이송된 웨이퍼가 안착되도록 웨이퍼 척(미도시)이 마련된다. 그리고, 상기 챔버(90)의 상부에는 소정 크기의 개구부(미도시)가 마련된다. 이에, 상기 챔버(90) 내부의 크리닝 또는 상기 챔버(90) 내부의 예방정비 등은 상기 개구부를 통해 이루어진다. Specifically, the chamber 90 is a space where a predetermined process is performed on a wafer (not shown). Accordingly, a gate door (not shown) is formed at one side of the chamber 90 to allow the wafer to pass in and out of the chamber 90, and a wafer transferred through the gate door in the chamber 90. A wafer chuck (not shown) is provided to allow the to be seated. In addition, an opening (not shown) of a predetermined size is provided in an upper portion of the chamber 90. Accordingly, cleaning in the chamber 90 or preventive maintenance in the chamber 90 may be performed through the opening.

상기 리드(80)는 상기 챔버(90)의 상부에 마련된 개구부를 개폐한다. 따라서, 공정이 진행될 경우 상기 리드(80)는 상기 개구부를 밀폐하게 되고, 상기 챔버(90) 내부의 크리닝이나 예방정비 등이 이루어질 경우에는 상기 개구부를 개방시키게 된다. 이때, 상기 리드(80)와 상기 챔버(90)가 접촉하는 부분 곧, 상기 리드(80)에 접촉되는 상기 챔버(90) 개구부의 주변에는 오링과 같은 밀폐링(미도시)이 설치될 수 있다. 이 경우, 상기 리드(80)와 상기 챔버(90) 사이의 밀폐는 상기 밀폐링으로 인하여 더욱 견고하게 이루어지기 때문에 상기 진공유지장치는 상기 챔버(90) 내부의 압력을 더욱 잘 유지시킬 수 있게 된다. The lid 80 opens and closes the opening provided in the upper portion of the chamber 90. Therefore, when the process proceeds, the lid 80 seals the opening, and when the cleaning or preventive maintenance is performed in the chamber 90, the opening is opened. In this case, a sealing ring (not shown) such as an O-ring may be installed around a portion where the lid 80 contacts the chamber 90, that is, around the opening of the chamber 90 that contacts the lid 80. . In this case, since the sealing between the lid 80 and the chamber 90 is made more robust due to the sealing ring, the vacuum holding device can maintain the pressure inside the chamber 90 better. .

한편, 상기 힌지장치(100)는 상호 소정간격 이격된 제1몸체(131)와 제2몸체(132)로 구성된 고정부재(130)와, 상기 제1몸체(131)와 상기 제2몸체(132)의 사이에 개재되는 회동부재(110)와, 상기 고정부재(130)와 상기 회동부재(110)를 연결하는 연결축(150)과, 상기 연결축(150)과 상기 회동부재(110)의 사이에 개재되어 상기 연결축(150)으로부터 상기 회동부재(110)를 회동가능하게 하는 베어링(180) 및, 상기 연결축(150)으로부터 회동된 상기 회동부재(110)의 회동각도를 유지시켜주는 회전각도 유지유닛(160)을 포함한다. On the other hand, the hinge device 100 is a fixing member 130 composed of the first body 131 and the second body 132 spaced apart from each other by a predetermined interval, the first body 131 and the second body 132 ) Between the rotating member 110, the connecting shaft 150 for connecting the fixing member 130 and the rotating member 110, and the connecting shaft 150 and the rotating member 110 Interposed between the bearing 180 to rotate the rotating member 110 from the connecting shaft 150 and to maintain the rotation angle of the rotating member 110 rotated from the connecting shaft 150 Rotation angle holding unit 160 is included.

보다 구체적으로 설명하면, 상기 고정부재(130)는 고정볼트(135) 등에 의해 상기 챔버(90)의 일측 곧, 상기 챔버(90)의 상부에 형성된 개구부의 주변에 결합된다. 즉, 상기 고정부재(130)는 상기 제1몸체(131)와 상기 제2몸체(132)로 구성되는 바, 상기 제1몸체(131)와 상기 제2몸체(132)는 상호간 소정간격 이격된 채로 상기 챔버(90)의 상부에 결합된다. 그리고, 상기 제1몸체(131)와 상기 제2몸체(132)에는 각각 전술한 상기 연결축(150)의 일측단과 타측단이 끼워지도록 연결홀(137)이 형성된다. 따라서, 상기 연결축(150)은 이 연결홀(137)들을 관통하여 끼워짐으로써 상기 고정부재(130)와 상기 회동부재(110)를 상호간 연결하게 된다. 이때, 상기 연결홀(137)은 상기 연결축(150)의 두께와 높이보다 더 크게 형성된다. 따라서, 상기 연결홀(137)들을 통해 상기 몸체들(131,132)에 끼워진 연결축(150)은 상기 제1 몸체(131)와 상기 제2몸체(132)에 끼워진 상태에서 소정거리 상하 유동될 수 있게 된다. 그리고, 상기 연결축(150)의 종단면과 상기 연결축(150)이 끼워지는 상기 연결홀(137)의 종단면은 상하방향으로 길이가 긴 직사각형 형상 또는 이와 유사한 형상으로 형성된다. 이에 따라, 상기 연결축(150)과 상기 연결축(150)이 끼워지는 상기 몸체들(131,132) 사이에는 회전운동이 발생되지 않고 다만, 상기와 같은 상호 유동만이 발생된다. In more detail, the fixing member 130 is coupled to one side of the chamber 90 by the fixing bolt 135 or the like, around the opening formed in the upper portion of the chamber 90. That is, the fixing member 130 is composed of the first body 131 and the second body 132, the first body 131 and the second body 132 are spaced apart from each other by a predetermined interval Is coupled to the top of the chamber 90. In addition, connection holes 137 are formed in the first body 131 and the second body 132 such that one end and the other end of the connection shaft 150 are fitted. Therefore, the connecting shaft 150 is inserted through the connecting holes 137 to connect the fixing member 130 and the rotation member 110 to each other. In this case, the connection hole 137 is formed larger than the thickness and height of the connection shaft 150. Therefore, the connecting shaft 150 inserted into the bodies 131 and 132 through the connecting holes 137 may flow up and down a predetermined distance in a state of being fitted into the first body 131 and the second body 132. do. In addition, the longitudinal cross section of the connecting shaft 150 and the longitudinal cross section of the connecting hole 137 into which the connecting shaft 150 is fitted are formed in a rectangular shape having a long length in the vertical direction or the like. Accordingly, a rotational motion is not generated between the connecting shaft 150 and the bodies 131 and 132 to which the connecting shaft 150 is fitted, but only the mutual flow as described above.

또한, 상기 제1몸체(131)와 상기 제2몸체(132)의 후면에는 각각 상기 연결홀(137)에 끼워진 상기 연결축(150)을 상기 몸체들(131,132)에 결합시킬 수 있도록 결합홀(139)이 형성된다. 따라서, 상기 연결홀(137)에 끼워진 상기 연결축(150)은 상기 결합홀(139) 측으로 끼워진 고정볼트(133) 등에 의해서 상기 몸체들(131,132)에 결합된다. 이때, 상기 결합홀(139)은 상기 연결홀(137)의 종단면과 같이 상하방향으로 길이가 긴 직사각형 형상 또는 이와 유사한 형상으로 형성된다. 따라서, 상기 연결홀(137)을 따라 상기 연결축(150)이 상하 유동될 때 상기 연결축(150)을 상기 몸체들(131,132)에 결합시켜주는 상기 고정볼트(133) 등도 상기 연결축(150)과 함께 소정거리 상하 유동된다. In addition, the coupling holes 150 may be coupled to the bodies 131 and 132 on the rear surfaces of the first body 131 and the second body 132, respectively. 139) is formed. Therefore, the connection shaft 150 fitted into the connection hole 137 is coupled to the bodies 131 and 132 by a fixing bolt 133 inserted into the coupling hole 139. In this case, the coupling hole 139 is formed in a rectangular shape or a similar shape having a long length in the vertical direction, such as the longitudinal section of the connection hole 137. Therefore, the fixing bolt 133 or the like that couples the connecting shaft 150 to the bodies 131 and 132 when the connecting shaft 150 flows up and down along the connecting hole 137 is also connected to the connecting shaft 150. ) Up and down a predetermined distance.

상기 회동부재(110)는 상기 고정부재(130)의 제1몸체(131)와 제2몸체(132)의 사이에 개재된 채로 고정볼트(113) 등에 의해서 상기 리드(80)에 결합된다. 따라서, 상기 리드(80)는 상기 회동부재(110)에 의해서 상기 챔버(90)로부터 소정각도 회동가능하게 된다. The rotation member 110 is coupled to the lead 80 by a fixing bolt 113 or the like while being interposed between the first body 131 and the second body 132 of the fixing member 130. Therefore, the lid 80 is rotatable by the rotation member 110 at a predetermined angle from the chamber 90.

상기 연결축(150)은 상기 제1몸체(131)와 제2몸체(132)로 구성된 고정부재 (130)와 상기 회동부재(110)를 연속적으로 관통하여 상기 고정부재(130)와 상기 회동부재(110)를 연결한다. 이때, 상기 연결축(150)의 종단면은 상기 고정부재(130)에 끼워지는 부분과 상기 회동부재(110)에 끼워지는 부분이 상호 다르게 형성된다. 일실시예로, 상기 고정부재(130)에 끼워지는 상기 연결축(150)의 종단면 형상은 전술한 바와 같이 상하방향으로 길이가 긴 직사각형 형상 또는 이와 유사한 형상으로 형성된다. 그리고, 상기 회동부재(110)에 끼워지는 상기 연결축(150)의 종단면 형상은 원 형상으로 형성된다. 또한, 상기 연결축(150)의 양단부 후면 즉, 상기 몸체들(131,132)에 끼워지는 상기 연결축(150)의 후면에는 전술한 고정볼트(133) 등이 체결되도록 체결홀(155)이 형성된다. 따라서, 전술한 고정볼트(133) 등은 상기 결합홀(139)을 통해 상기 연결축(150)의 체결홀(155)에 체결됨으로써 상기 연결축(150)을 상기 몸체들(131,132)에 결합시키게 된다. The connecting shaft 150 continuously penetrates the fixing member 130 and the rotating member 110 including the first body 131 and the second body 132 and the rotating member 110 and the rotating member. Connect 110. At this time, the end surface of the connecting shaft 150 is formed to be different from the portion fitted to the fixing member 130 and the portion fitted to the rotation member 110. In one embodiment, the longitudinal cross-sectional shape of the connecting shaft 150 to be fitted to the fixing member 130 is formed in a rectangular shape or a similar shape long in the vertical direction as described above. In addition, the longitudinal cross-sectional shape of the connection shaft 150 fitted to the pivot member 110 is formed in a circular shape. In addition, a fastening hole 155 is formed at both ends of the connection shaft 150, that is, at the rear surface of the connection shaft 150 fitted to the bodies 131 and 132 to fasten the fixing bolt 133 described above. . Therefore, the above-mentioned fixing bolt 133 is coupled to the coupling hole 155 of the connecting shaft 150 through the coupling hole 139 to couple the connecting shaft 150 to the bodies 131 and 132. do.

상기 베어링(180)은 전술한 바와 같이, 상기 연결축(150)으로부터 상기 회동부재(110)를 회동가능하게 하는 역할을 한다. 따라서, 상기 베어링(180)은 상기 연결축(150)의 외주면과 상기 연결축(150)이 끼워진 상기 회동부재(110)의 내주면 사이에 개재된다. 이때, 상기 베어링(180)은 상기 회동부재(110)의 회동을 원활하게 하도록 상기 회동부재(110)의 내측에 적어도 2개이상 개재될 수 있다. 일실시예로, 상기 베어링(180)은 상기 회동부재(110)의 일측과 타측에 각각 개재될 수 있다. As described above, the bearing 180 serves to rotate the pivot member 110 from the connecting shaft 150. Therefore, the bearing 180 is interposed between the outer circumferential surface of the connecting shaft 150 and the inner circumferential surface of the pivot member 110 to which the connecting shaft 150 is fitted. In this case, at least two bearings 180 may be interposed inside the rotating member 110 to facilitate the rotation of the rotating member 110. In one embodiment, the bearing 180 may be interposed on one side and the other side of the rotating member 110, respectively.

상기 회전각도 유지유닛(160)은 상기 회동부재(110)에 대향되는 상기 제1몸체(131)의 일측면으로부터 상기 제1몸체(131)의 타측면까지 연장형성된 끼움홀(134)과, 상기 끼움홀(134)을 관통하여 그 일부가 상기 제1몸체(131)의 타측면으로 소정길이 돌출되는 회전방지핀(162)과, 상기 회전방지핀(162)을 상기 회동부재(110) 측으로 이동시키도록 상기 회전방지핀(162)을 탄성지지하는 탄성스프링(164) 및, 상기 탄성스프링(164)에 의해 이동된 상기 회전방지핀(162)의 일단이 끼워지도록 상기 회동부재(110)의 일측면에 형성된 걸림홀(169)을 포함한다. The rotation angle maintaining unit 160 is a fitting hole 134 extending from one side of the first body 131 facing the rotating member 110 to the other side of the first body 131, and the The anti-rotation pin 162 and a part of the anti-rotation pin 162 protruding a predetermined length to the other side surface of the first body 131 through the fitting hole 134, and moves the anti-rotation pin 162 toward the rotation member 110 side. One of the rotating member 110 so that one end of the elastic spring 164 to elastically support the anti-rotation pin 162 and one end of the anti-rotation pin 162 moved by the elastic spring 164 is fitted. It includes a locking hole 169 formed on the side.

구체적으로, 상기 끼움홀(134)은 전체적으로 동일한 직경으로 형성된 것이 아니라 상기 회동부재(110)에 대향되는 상기 제1몸체(131)의 일측면 측과 상기 제1몸체(131)의 타측면 측이 상호 다르게 형성된다. 일실시예로, 상기 끼움홀(134)은 상기 제1몸체(131)의 일측면 측이 상기 제1몸체(131)의 타측면 측 보다 더 크게 형성된다. 따라서, 전술한 탄성스프링(164)은 이 직경이 적어지는 부분을 지지점으로 하여 상기 회전방지핀(162)을 탄성지지하게 된다. Specifically, the fitting hole 134 is not formed with the same diameter as a whole, but is formed on one side of the first body 131 facing the pivot member 110 and the other side of the first body 131. They are formed differently. In one embodiment, the fitting hole 134 has one side surface of the first body 131 is formed larger than the other side surface of the first body 131. Therefore, the above-described elastic spring 164 elastically supports the anti-rotation pin 162 using a portion having a smaller diameter as a supporting point.

상기 회전방지핀(162)은 상기 끼움홀(134)에 끼워지는 로드 타입의 몸체(161)와, 상기 몸체(161)의 일단에 탈착가능하게 결합되되 상기 끼움홀(134)의 직경보다 다소 큰 크기로 형성된 캡(Cap,163) 및, 상기 몸체(161)의 타단 측에 일체로 형성되되 상기 끼움홀(134)의 직경보다 다소 작은 크기로 형성된 스프링 지지부(165)로 구성된다. 따라서, 상기 회전방지핀(162)은 상기 캡(163)이 분리된 상태로 상기 끼움홀(134)의 일측면으로부터 상기 끼움홀(134)의 타측면 방향으로 끼워지게 되고, 끼워진 후에는 상기 캡(163)이 결합되어지게 된다. The anti-rotation pin 162 may be detachably coupled to one end of the rod-type body 161 fitted to the fitting hole 134 and one end of the body 161, but somewhat larger than the diameter of the fitting hole 134. Cap (163) formed in the size, and is formed integrally with the other end side of the body 161 is composed of a spring support 165 formed to a size smaller than the diameter of the fitting hole 134. Therefore, the anti-rotation pin 162 is fitted in the direction of the other side of the fitting hole 134 from one side of the fitting hole 134 in a state where the cap 163 is separated, and after the cap 163 is to be combined.

상기 탄성스프링(164)은 상기 회전방지핀(162)의 몸체(161)에 끼워지는 코일 스프링으로 구현된다. 따라서, 상기 회전방지핀(162)이 상기 끼움홀(134)에 끼워질 때 상기 탄성스프링(164)은 상기 회전방지핀(162)의 몸체(161)에 끼워진 채로 상기 끼움홀(134)에 끼워지게 된다. The elastic spring 164 is implemented as a coil spring that is fitted to the body 161 of the anti-rotation pin 162. Therefore, when the anti-rotation pin 162 is fitted into the fitting hole 134, the elastic spring 164 is fitted into the fitting hole 134 while being fitted to the body 161 of the anti-rotation pin 162. You lose.

상기 걸림홀(169)은 상기 제1몸체(131)에 대향되는 상기 회동부재(110)의 일측면에 형성되되, 다수개 형성된다. 구체적으로, 상기 걸림홀(169)이 형성되는 위치는 상기 회동부재(110)가 상기 제1몸체(131)에 대하여 약 45°및 90°로 회동되었을 때 상기 끼움홀(134)에 대향되는 부분임이 바람직하다. 따라서, 상기 회전방지핀(162)은 상기 회동부재(110)가 상기 제1몸체(131)에 대하여 약 45°및 90°로 회동되었을 때 상기 탄성스프링(164)의 탄성지지에 의하여 상기 끼움홀(134)에 대향되는 상기 걸림홀(169) 측으로 그 일단이 끼워짐으로써 상기 회동부재(110)의 회전각도를 유지시키게 되는 것이다. The locking hole 169 is formed on one side of the pivot member 110 opposite to the first body 131, and is formed in plural numbers. Specifically, the position where the locking hole 169 is formed is a portion facing the fitting hole 134 when the rotation member 110 is rotated by about 45 ° and 90 ° with respect to the first body 131. Is preferred. Therefore, the anti-rotation pin 162 is the fitting hole by the elastic support of the elastic spring 164 when the rotating member 110 is rotated about 45 ° and 90 ° with respect to the first body 131 One end is inserted into the engaging hole 169 opposite to the 134 to maintain the rotation angle of the rotation member 110.

이하, 이상과 같이 구성된 반도체 제조설비(190)의 조립방법 및 그 효과를 구체적으로 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the assembly method and the effect of the semiconductor manufacturing equipment 190 configured as described above will be described in detail.

먼저, 유저는 상기 연결축(150)과 상기 베어링(180) 등을 이용하여 상기 고정부재(130)와 상기 회동부재(110)를 상호 결합시킴으로 상기 힌지장치(100)를 조립하게 된다. First, the user assembles the hinge device 100 by coupling the fixing member 130 and the rotation member 110 to each other by using the connection shaft 150 and the bearing 180.

이후, 조립이 완료되면, 유저는 고정볼트(135) 등을 이용하여 상기 힌지장치(100)의 고정부재(130)를 상기 챔버(90)에 고정시키게 된다. Then, when the assembly is completed, the user is to fix the fixing member 130 of the hinge device 100 to the chamber 90 using a fixing bolt 135 or the like.

이후, 상기 힌지장치(100)의 고정부재(130)가 고정되면, 유저는 또다른 고정볼트(115) 등을 이용하여 상기 힌지장치(100)의 회동부재(110)를 상기 리드(80)에 고정시키게 되며, 이로써 반도체 제조설비(190)의 조립을 완료하게 된다. Thereafter, when the fixing member 130 of the hinge apparatus 100 is fixed, the user uses another fixing bolt 115 or the like to rotate the rotating member 110 of the hinge apparatus 100 to the lead 80. It is fixed, thereby completing the assembly of the semiconductor manufacturing equipment 190.

한편, 본 발명 반도체 제조설비(190)에 따르면, 회동부재(110)와 이에 결합된 연결축(150) 등이 상기 고정부재(130)의 연결홀(137)에 끼워진 상태에서도 소정거리 상하 유동가능하기 때문에 상기 리드(80)를 개방시킬 경우 상기 챔버(90) 상에 설치된 밀폐링을 훼손시키지 않고도 상기 리드(80)를 개방시킬 수 있는 효과가 있을 뿐만 아니라 상기 챔버(90)의 내부 차압에 의해 상기 리드(80)가 순간적으로 들리게 되는 현상이 발생될 경우에도 그 힌지 기능의 파괴 없이 상기 리드(80)의 다운을 유도할 수 있는 효과가 있다. On the other hand, according to the semiconductor manufacturing equipment 190 of the present invention, it is possible to move up and down a predetermined distance even when the rotating member 110 and the coupling shaft 150 coupled thereto are fitted in the connection hole 137 of the fixing member 130. Therefore, when opening the lid 80, there is an effect that can open the lid 80 without damaging the sealing ring installed on the chamber 90 as well as by the internal differential pressure of the chamber 90 Even when a phenomenon in which the lead 80 is heard momentarily occurs, there is an effect of inducing down of the lead 80 without destroying the hinge function.

이상, 본 발명은 도시된 실시예를 참고로 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 그러므로 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구의 범위와 이와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.As mentioned above, although the present invention has been described with reference to the illustrated embodiments, it is only an example, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the scope of the present invention should be defined by the appended claims and their equivalents.

상술한 바와 같이, 본 발명 반도체 제조설비에 따르면, 회동부재와 이에 결합된 연결축 등이 상기 고정부재의 연결홀에 끼워진 상태에서도 소정거리 상하 유동가능하기 때문에 상기 리드를 하고자 할 경우 상기 챔버 상에 설치된 밀폐링을 훼손시키지 않고도 상기 리드를 개방시킬 수 있을 뿐만 아니라 상기 챔버의 내부 차압에 의해 상기 리드가 순간적으로 들리게 되는 현상이 발생될 경우에도 그 힌지 기능의 파괴 없이 상기 리드의 다운을 유도할 수 있게 된다. As described above, according to the semiconductor manufacturing equipment of the present invention, since the rotation member and the connecting shaft coupled thereto are movable up and down a predetermined distance even when they are fitted in the connection hole of the fixing member, the lead is placed on the chamber. Not only can the lid be opened without damaging the installed sealing ring, but the lead can be pulled down without destroying the hinge function even when the lead is temporarily lifted by the internal differential pressure of the chamber. Will be.

Claims (6)

상호 소정간격 이격된 제1몸체와 제2몸체를 구성된 고정부재;A fixing member comprising a first body and a second body spaced apart from each other by a predetermined distance; 상기 제1몸체와 상기 제2몸체의 사이에 개재되는 회동부재;A rotation member interposed between the first body and the second body; 상기 고정부재와 상기 회동부재를 연속적으로 관통하여 상기 고정부재와 상기 회동부재를 연결하는 연결축;A connecting shaft connecting the fixing member and the rotating member through the fixing member and the rotating member continuously; 상기 연결축의 외주면과 상기 연결축이 끼워진 상기 회동부재의 내주면 사이에 개재되어 상기 연결축으로부터 상기 회동부재를 회동가능하게 하는 베어링; 및, A bearing interposed between an outer circumferential surface of the connecting shaft and an inner circumferential surface of the rotating member in which the connecting shaft is fitted to enable the rotating member to be rotatable from the connecting shaft; And, 상기 연결축으로부터 회동된 상기 회동부재의 회동각도를 유지시켜주는 회전각도 유지유닛을 포함한 것을 특징으로 하는 힌지장치. And a rotation angle maintaining unit for maintaining a rotation angle of the rotation member rotated from the connecting shaft. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 회전각도 유지유닛은 The rotation angle maintaining unit 상기 회동부재에 대향되는 상기 제1몸체의 일측면으로부터 상기 제1몸체의 타측면까지 연장형성된 끼움홀과, 상기 끼움홀을 관통하여 그 일부가 상기 제1몸체의 타측면으로 소정길이 돌출되는 회전방지핀과, 상기 회전방지핀을 상기 회동부재 측으로 이동시키도록 상기 회전방지핀을 탄성지지하는 탄성스프링 및, 상기 탄성스프링에 의해 이동된 상기 회전방지핀의 일단이 끼워지도록 상기 회동부재의 일측면에 형성된 걸림홀을 포함한 것을 특징으로 하는 힌지장치. A fitting hole extending from one side of the first body opposite to the rotating member to the other side of the first body, and a portion of the fitting hole extending through the fitting hole to a predetermined length toward the other side of the first body; One side of the pivot member such that the prevention pin, an elastic spring elastically supporting the rotation prevention pin to move the rotation prevention pin to the rotation member side, and one end of the rotation prevention pin moved by the elastic spring are fitted. Hinge device comprising a locking hole formed in the. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1몸체와 상기 제2몸체에는 각각 상기 연결축의 일측단과 타측단이 끼워지도록 연결홀이 형성되되, Connection holes are formed in the first body and the second body so that one end and the other end of the connection shaft are fitted, respectively. 상기 연결홀은 상기 연결축이 상기 제1몸체와 상기 제2몸체에 끼워진 상태에서 소정거리 상하 유동될 수 있도록 상기 연결축의 두께와 높이보다 더 크게 형성된 것을 특징으로 하는 힌지장치. The connecting hole is a hinge device, characterized in that formed larger than the thickness and height of the connecting shaft so that the connecting shaft can flow up and down a predetermined distance in the state fitted to the first body and the second body. 공정이 진행되는 챔버;A chamber in which the process proceeds; 상기 챔버로부터 소정각도 회동되어 상기 챔버의 일측을 개폐하는 리드; 및, A lid rotated by a predetermined angle from the chamber to open and close one side of the chamber; And, 상기 챔버로부터 상기 리드를 회동가능하게 힌지장치를 포함하되, A hinge device pivotally rotatable from the chamber, 상기 힌지장치는 The hinge device 상호 소정간격 이격된 제1몸체와 제2몸체로 구성되고 상기 챔버에 결합되는 고정부재;A fixing member having a first body and a second body spaced apart from each other by a predetermined distance and coupled to the chamber; 상기 제1몸체와 상기 제2몸체의 사이에 개재되며, 상기 리드에 결합되는 회동부재;A rotation member interposed between the first body and the second body and coupled to the lead; 상기 고정부재와 상기 회동부재를 연속적으로 관통하여 상기 고정부재와 상기 회동부재를 연결하는 연결축;A connecting shaft connecting the fixing member and the rotating member through the fixing member and the rotating member continuously; 상기 연결축의 외주면과 상기 연결축이 끼워진 상기 회동부재의 내주면 사이에 개재되어 상기 연결축으로부터 상기 회동부재를 회동가능하게 하는 베어링; 및, A bearing interposed between an outer circumferential surface of the connecting shaft and an inner circumferential surface of the rotating member in which the connecting shaft is fitted to enable the rotating member to be rotatable from the connecting shaft; And, 상기 연결축으로부터 회동된 상기 회동부재의 회동각도를 유지시켜주는 회전 각도 유지유닛을 포함한 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비. And a rotation angle maintaining unit for maintaining a rotation angle of the rotation member rotated from the connecting shaft. 제 4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 회전각도 유지유닛은 The rotation angle maintaining unit 상기 회동부재에 대향되는 상기 제1몸체의 일측면으로부터 상기 제1몸체의 타측면까지 연장형성된 끼움홀과, 상기 끼움홀을 관통하여 그 일부가 상기 제1몸체의 타측면으로 소정길이 돌출되는 회전방지핀과, 상기 회전방지핀을 상기 회동부재 측으로 이동시키도록 상기 회전방지핀을 탄성지지하는 탄성스프링 및, 상기 탄성스프링에 의해 이동된 상기 회전방지핀의 일단이 끼워지도록 상기 회동부재의 일측면에 형성된 걸림홀을 포함한 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비. A fitting hole extending from one side of the first body opposite to the rotating member to the other side of the first body, and a portion of the fitting hole extending through the fitting hole to a predetermined length toward the other side of the first body; One side of the pivot member such that the prevention pin, an elastic spring elastically supporting the rotation prevention pin to move the rotation prevention pin to the rotation member side, and one end of the rotation prevention pin moved by the elastic spring are fitted. Semiconductor manufacturing equipment comprising a locking hole formed in the. 제 4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 제1몸체와 상기 제2몸체에는 각각 상기 연결축의 일측단과 타측단이 끼워지도록 연결홀이 형성되되, Connection holes are formed in the first body and the second body so that one end and the other end of the connection shaft are fitted, respectively. 상기 연결홀은 상기 연결축이 상기 제1몸체와 상기 제2몸체에 끼워진 상태에서 소정거리 상하 유동될 수 있도록 상기 연결축의 두께와 높이보다 더 크게 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비. The connecting hole is a semiconductor manufacturing equipment, characterized in that formed larger than the thickness and height of the connecting shaft so that the connecting shaft can flow up and down a predetermined distance in the state fitted to the first body and the second body.
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KR101037064B1 (en) * 2008-12-30 2011-05-26 에이펫(주) Substrate processing apparatus
CN102873178A (en) * 2012-09-25 2013-01-16 昆山腾宇鑫金属制品有限公司 Punching scrap jumping prevention device
KR101269858B1 (en) * 2009-05-11 2013-06-07 엘아이지에이디피 주식회사 Hinge structure for opening and closing lid of semiconductor manufacturing device

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